JPH1135372A - プラズマディスプレイパネル - Google Patents
プラズマディスプレイパネルInfo
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- JPH1135372A JPH1135372A JP9192854A JP19285497A JPH1135372A JP H1135372 A JPH1135372 A JP H1135372A JP 9192854 A JP9192854 A JP 9192854A JP 19285497 A JP19285497 A JP 19285497A JP H1135372 A JPH1135372 A JP H1135372A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- inorganic particles
- phosphor
- particle size
- average particle
- Prior art date
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- Granted
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- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 輝度むらが抑制された蛍光体層を備えたプラ
ズマディスプレイパネルを提供することを課題とする。 【解決手段】 蛍光体層を備えたプラズマディスプレイ
パネルにおいて、該蛍光体層が蛍光体粒子と無機物粒子
を含むペーストを焼成することにより形成され、無機物
粒子が蛍光体粒子の半分以下の平均粒径を有し、かつ蛍
光体粒子に対して０．００２〜５重量％含まれてなるこ
とを特徴とするプラズマディスプレイパネルにより上記
課題を解決する。
ズマディスプレイパネルを提供することを課題とする。 【解決手段】 蛍光体層を備えたプラズマディスプレイ
パネルにおいて、該蛍光体層が蛍光体粒子と無機物粒子
を含むペーストを焼成することにより形成され、無機物
粒子が蛍光体粒子の半分以下の平均粒径を有し、かつ蛍
光体粒子に対して０．００２〜５重量％含まれてなるこ
とを特徴とするプラズマディスプレイパネルにより上記
課題を解決する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルに関する。更に詳しくは、本発明は、輝度む
ら、又はＡＣ型に関して、アドレス放電電圧むらが抑制
された蛍光体層を備えたプラズマディスプレイパネルに
関する。
レイパネルに関する。更に詳しくは、本発明は、輝度む
ら、又はＡＣ型に関して、アドレス放電電圧むらが抑制
された蛍光体層を備えたプラズマディスプレイパネルに
関する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（以下、Ｐ
ＤＰと称する）は、表面輝度の高い自己発光型の表示装
置である。このＰＤＰは、表示画面の大型化及び表示速
度の高速化が可能であることから、ブラウン管（以下、
ＣＲＴと称する）に代わる表示装置として注目されてい
る。特に、蛍光体によりカラー表示を実現した面放電型
ＰＤＰは、ハイビジョンを含むテレビ映像の分野にその
用途が拡大しつつある。
ＤＰと称する）は、表面輝度の高い自己発光型の表示装
置である。このＰＤＰは、表示画面の大型化及び表示速
度の高速化が可能であることから、ブラウン管（以下、
ＣＲＴと称する）に代わる表示装置として注目されてい
る。特に、蛍光体によりカラー表示を実現した面放電型
ＰＤＰは、ハイビジョンを含むテレビ映像の分野にその
用途が拡大しつつある。
【０００３】ＰＤＰは、一般的には、誘電体層で覆われ
た電極を有する一対の基板を複数の隔壁を介して対向さ
せ、隔壁間に蛍光体層が形成され、更に隔壁により区切
られた放電空間には適当な放電ガスが封入されてなる構
成を有している。このＰＤＰは、電極に印加された電圧
により放電空間内の放電ガスにより発生した紫外線で蛍
光体層を発光させることにより表示が行われている。
た電極を有する一対の基板を複数の隔壁を介して対向さ
せ、隔壁間に蛍光体層が形成され、更に隔壁により区切
られた放電空間には適当な放電ガスが封入されてなる構
成を有している。このＰＤＰは、電極に印加された電圧
により放電空間内の放電ガスにより発生した紫外線で蛍
光体層を発光させることにより表示が行われている。
【０００４】ここで、蛍光体層は、一般的に次の方法に
より形成されている。即ち、蛍光体粒子と、結着剤、溶
剤等の他の成分からなる蛍光体ペーストを、スクリーン
印刷法等により塗布し、塗布膜を乾燥させた後、酸素を
含む雰囲気下で焼成して、他の成分を除去することによ
り蛍光体層が形成される。
より形成されている。即ち、蛍光体粒子と、結着剤、溶
剤等の他の成分からなる蛍光体ペーストを、スクリーン
印刷法等により塗布し、塗布膜を乾燥させた後、酸素を
含む雰囲気下で焼成して、他の成分を除去することによ
り蛍光体層が形成される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】発光効率及び輝度を重
視した場合、使用される蛍光体粒子は良好な結晶性を有
することが要求される。しかしながら、良好な結晶性を
重視すると、蛍光体粒子の粒径を大きくする必要があっ
た。蛍光体粒子の粒径を大きくすると、製造工程におい
てペースト中での蛍光体粒子の分散性が悪くなるので、
塗布場所により厚さにむらが生じていた。このむらは、
放電空間の幅を不均一にするため、安定な発光を阻害し
たり、輝度にむらを生じさせたりしていた。
視した場合、使用される蛍光体粒子は良好な結晶性を有
することが要求される。しかしながら、良好な結晶性を
重視すると、蛍光体粒子の粒径を大きくする必要があっ
た。蛍光体粒子の粒径を大きくすると、製造工程におい
てペースト中での蛍光体粒子の分散性が悪くなるので、
塗布場所により厚さにむらが生じていた。このむらは、
放電空間の幅を不均一にするため、安定な発光を阻害し
たり、輝度にむらを生じさせたりしていた。
【０００６】塗布場所による厚さむらを防ぐ方法とし
て、蛍光体粒子の粒径を小さくすることが考えられる
が、結晶性及び輝度を低下させないで、粒径を制御する
ことは困難であった。
て、蛍光体粒子の粒径を小さくすることが考えられる
が、結晶性及び輝度を低下させないで、粒径を制御する
ことは困難であった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かくして本発明によれ
ば、蛍光体層を備えたプラズマディスプレイパネルにお
いて、該蛍光体層が蛍光体粒子と無機物粒子を含むペー
ストを焼成することにより形成され、無機物粒子が蛍光
体粒子の半分以下の平均粒径を有し、かつ蛍光体粒子に
対して０．００２〜５重量％含まれてなることを特徴と
するプラズマディスプレイパネルが提供される。
ば、蛍光体層を備えたプラズマディスプレイパネルにお
いて、該蛍光体層が蛍光体粒子と無機物粒子を含むペー
ストを焼成することにより形成され、無機物粒子が蛍光
体粒子の半分以下の平均粒径を有し、かつ蛍光体粒子に
対して０．００２〜５重量％含まれてなることを特徴と
するプラズマディスプレイパネルが提供される。
【０００８】
【発明の実施の形態】まず、本発明の蛍光体層は、蛍光
体粒子と無機物粒子を含む。ここで、蛍光体粒子として
は、当該分野で使用されるものをいずれも使用すること
ができる。例えば、Ｙ2 Ｏ3 ：Ｅｕ、ＹＶＯ4 ：Ｅｕ、
（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ、Ｙ2 Ｏ3 Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚ
ｎ3 （ＰＯ4 ）2 ：Ｍｎ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ａｇ（以上
赤色）、Ｚｎ2 ＧｅＯ2 ：Ｍｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍ
ｎ、Ｚｎ2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎ、ＬａＰＯ4 ：Ｔｂ、Ｚｎ
Ｓ：（Ｃｕ，Ａｌ）、ＺｎＳ：（Ａｕ，Ｃｕ，Ａｌ）、
（ＺｎＣｄ）Ｓ：（Ｃｕ，Ａｌ）、Ｚｎ2 ＳｉＯ4 ：
（Ｍｎ，Ａｓ）、Ｙ3 Ａｌ5 Ｏ12：Ｃｅ、Ｇｄ2 Ｏ
2 Ｓ：Ｔｂ、Ｙ3 Ａｌ5 Ｏ12：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ（以
上緑色）、Ｓｒ5 （ＰＯ4 ）3 Ｃｌ：Ｅｕ、ＢａＭｇＡ
ｌ14Ｏ23：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ16Ｏ27：Ｅｕ、ＢａＭｇ
Ａｌ10Ｏ17：Ｅｕ、ＺｎＳ：Ａｇ、Ｙ2 ＳｉＯ3 ：Ｃｅ
（以上青色）等が挙げられる。
体粒子と無機物粒子を含む。ここで、蛍光体粒子として
は、当該分野で使用されるものをいずれも使用すること
ができる。例えば、Ｙ2 Ｏ3 ：Ｅｕ、ＹＶＯ4 ：Ｅｕ、
（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ、Ｙ2 Ｏ3 Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚ
ｎ3 （ＰＯ4 ）2 ：Ｍｎ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ａｇ（以上
赤色）、Ｚｎ2 ＧｅＯ2 ：Ｍｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍ
ｎ、Ｚｎ2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎ、ＬａＰＯ4 ：Ｔｂ、Ｚｎ
Ｓ：（Ｃｕ，Ａｌ）、ＺｎＳ：（Ａｕ，Ｃｕ，Ａｌ）、
（ＺｎＣｄ）Ｓ：（Ｃｕ，Ａｌ）、Ｚｎ2 ＳｉＯ4 ：
（Ｍｎ，Ａｓ）、Ｙ3 Ａｌ5 Ｏ12：Ｃｅ、Ｇｄ2 Ｏ
2 Ｓ：Ｔｂ、Ｙ3 Ａｌ5 Ｏ12：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ（以
上緑色）、Ｓｒ5 （ＰＯ4 ）3 Ｃｌ：Ｅｕ、ＢａＭｇＡ
ｌ14Ｏ23：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ16Ｏ27：Ｅｕ、ＢａＭｇ
Ａｌ10Ｏ17：Ｅｕ、ＺｎＳ：Ａｇ、Ｙ2 ＳｉＯ3 ：Ｃｅ
（以上青色）等が挙げられる。
【０００９】蛍光体粒子の平均粒径は、組成によって違
いはあるが、０．５〜５μｍであることが好ましい。
０．５μｍより小さい場合、著しく結晶性が低下し、輝
度が低下するので好ましくない。５μｍより大きい場
合、分散不良が生じ、蛍光体層に厚さむらが生じるので
好ましくない。なお、蛍光体粒子は、分散性を向上させ
る観点から、粒子の形状が球により近いことが好まし
い。
いはあるが、０．５〜５μｍであることが好ましい。
０．５μｍより小さい場合、著しく結晶性が低下し、輝
度が低下するので好ましくない。５μｍより大きい場
合、分散不良が生じ、蛍光体層に厚さむらが生じるので
好ましくない。なお、蛍光体粒子は、分散性を向上させ
る観点から、粒子の形状が球により近いことが好まし
い。
【００１０】一方、無機物粒子としては、特に限定され
ないが、無機酸化物を使用することが好ましい。具体的
には、例えば、Ｙ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｔａ2 Ｏ5 、Ｍ
ｇＯ又はＳｉＯ2 等が挙げられる。より具体的には、日
本アエロジル社製のアエロジルシリーズ等を好適に使用
することができる。また、無機物粒子は、白色であるこ
とが好ましい。白色であることにより、使用時に、発光
した光の無機物粒子への吸収がより少なくなるので輝度
の低下を防ぐことができる。
ないが、無機酸化物を使用することが好ましい。具体的
には、例えば、Ｙ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｔａ2 Ｏ5 、Ｍ
ｇＯ又はＳｉＯ2 等が挙げられる。より具体的には、日
本アエロジル社製のアエロジルシリーズ等を好適に使用
することができる。また、無機物粒子は、白色であるこ
とが好ましい。白色であることにより、使用時に、発光
した光の無機物粒子への吸収がより少なくなるので輝度
の低下を防ぐことができる。
【００１１】無機物粒子は、蛍光体粒子の半分以下の平
均粒径を有する。平均粒径が半分以下であることによ
り、蛍光体粒子の分散性を向上させることができる。ま
た、蛍光体層の表面において蛍光体粒子により形成され
る間隙を無機物粒子で埋めることができるので、蛍光体
層の表面の平滑性及び緻密性を向上させることができ
る。よって、反射率が上がり、発光効率（外部取出効
率）を向上させることが可能となる。より具体的には、
通常ＰＤＰ用蛍光体は、平均粒径４μｍ程度であるた
め、無機物粒子の平均粒径は、その半分の２μｍ以下で
あり、より好ましい平均粒径は７ｎｍ〜２μｍ、特に好
ましくは０．２〜１μｍである。２μｍより大きい場
合、無機粒子を添加した効果がなく、分散性も向上せ
ず、蛍光体層の厚さむらを軽減できないので好ましくな
い。なお、無機物粒子も、分散性を向上させる観点か
ら、粒子の形状が球により近いことが好ましい。
均粒径を有する。平均粒径が半分以下であることによ
り、蛍光体粒子の分散性を向上させることができる。ま
た、蛍光体層の表面において蛍光体粒子により形成され
る間隙を無機物粒子で埋めることができるので、蛍光体
層の表面の平滑性及び緻密性を向上させることができ
る。よって、反射率が上がり、発光効率（外部取出効
率）を向上させることが可能となる。より具体的には、
通常ＰＤＰ用蛍光体は、平均粒径４μｍ程度であるた
め、無機物粒子の平均粒径は、その半分の２μｍ以下で
あり、より好ましい平均粒径は７ｎｍ〜２μｍ、特に好
ましくは０．２〜１μｍである。２μｍより大きい場
合、無機粒子を添加した効果がなく、分散性も向上せ
ず、蛍光体層の厚さむらを軽減できないので好ましくな
い。なお、無機物粒子も、分散性を向上させる観点か
ら、粒子の形状が球により近いことが好ましい。
【００１２】また、蛍光体粒子と無機物粒子の分散性が
良好であれば、例えば基板上にアドレス電極が形成され
た隔壁間に蛍光体層を形成しても、アドレス電極により
形成される段差の被覆性を向上させることができる。よ
って、アドレス電極上の放電空間の間隔を一定にするこ
とが可能となる。上記の無機物粒子は、表面が疎水処理
されていることがより好ましい。疎水処理を行うことに
より蛍光体粒子の分散性を更に向上させることができ
る。疎水処理の方法としては、無機物粒子の表面に存在
する水酸基のような親水性基をシリル基のような疎水性
基と置換することにより行うことができる。例えば、無
機物粒子を所定の温度に加熱し、ジメチルジクロルシラ
ン等のシリル化剤で処理することにより、表面の親水性
基がシリル基で置換された無機物粒子を得ることができ
る。疎水処理された無機物粒子としては、アエロジルＲ
８１２（日本アエロジル社製）等が挙げられる。
良好であれば、例えば基板上にアドレス電極が形成され
た隔壁間に蛍光体層を形成しても、アドレス電極により
形成される段差の被覆性を向上させることができる。よ
って、アドレス電極上の放電空間の間隔を一定にするこ
とが可能となる。上記の無機物粒子は、表面が疎水処理
されていることがより好ましい。疎水処理を行うことに
より蛍光体粒子の分散性を更に向上させることができ
る。疎水処理の方法としては、無機物粒子の表面に存在
する水酸基のような親水性基をシリル基のような疎水性
基と置換することにより行うことができる。例えば、無
機物粒子を所定の温度に加熱し、ジメチルジクロルシラ
ン等のシリル化剤で処理することにより、表面の親水性
基がシリル基で置換された無機物粒子を得ることができ
る。疎水処理された無機物粒子としては、アエロジルＲ
８１２（日本アエロジル社製）等が挙げられる。
【００１３】蛍光体層中の無機物粒子は、蛍光体層全量
に対して０．００２〜５重量％含まれている。０．００
２重量％より少ない場合、蛍光体粒子の分散が不十分
で、厚さむらのある蛍光体層となるため好ましくない。
また、５重量％より多い場合には、蛍光体層中の蛍光体
粒子の割合が減り、発光効率が大きく低下するので好ま
しくない。なお、無機物粒子は、０．５〜２重量％の範
囲で存在することがより好ましい。
に対して０．００２〜５重量％含まれている。０．００
２重量％より少ない場合、蛍光体粒子の分散が不十分
で、厚さむらのある蛍光体層となるため好ましくない。
また、５重量％より多い場合には、蛍光体層中の蛍光体
粒子の割合が減り、発光効率が大きく低下するので好ま
しくない。なお、無機物粒子は、０．５〜２重量％の範
囲で存在することがより好ましい。
【００１４】更に、無機物粒子は６００℃以上の融点又
はガラス転移点を有することが好ましい。これは、以下
で説明するように、蛍光体層の形成のために使用される
蛍光体粒子と無機物粒子を含むペースト中に存在する粘
度調節のための樹脂を完全に分解するための焼成は、５
５０℃以下の温度で行われている。このとき、無機物粒
子が溶融又は蛍光体等と反応しないためである。
はガラス転移点を有することが好ましい。これは、以下
で説明するように、蛍光体層の形成のために使用される
蛍光体粒子と無機物粒子を含むペースト中に存在する粘
度調節のための樹脂を完全に分解するための焼成は、５
５０℃以下の温度で行われている。このとき、無機物粒
子が溶融又は蛍光体等と反応しないためである。
【００１５】本発明の蛍光体層は、蛍光体粒子と無機物
粒子を含むペーストを焼成することにより形成すること
ができる。ここで、ペーストには、上記で説明した蛍光
体粒子と無機物粒子の他に、粘度調節のための樹脂、溶
剤等が含まれている。使用できる樹脂としては、当該分
野で公知の樹脂をいずれも使用することができる。具体
的には、エチルセルロース、ニトロセルロース、アクリ
ル樹脂、ポリビニルアルコール等が挙げられ、更に感光
性樹脂等を含んでいてもよい。一方、溶剤としては、ア
ルコール類、テルピネオール、ブチルカルビトールアセ
テート（ＢＣＡ）、ブチルカルビトール、トルエン、酢
酸ブチル等が挙げられる。
粒子を含むペーストを焼成することにより形成すること
ができる。ここで、ペーストには、上記で説明した蛍光
体粒子と無機物粒子の他に、粘度調節のための樹脂、溶
剤等が含まれている。使用できる樹脂としては、当該分
野で公知の樹脂をいずれも使用することができる。具体
的には、エチルセルロース、ニトロセルロース、アクリ
ル樹脂、ポリビニルアルコール等が挙げられ、更に感光
性樹脂等を含んでいてもよい。一方、溶剤としては、ア
ルコール類、テルピネオール、ブチルカルビトールアセ
テート（ＢＣＡ）、ブチルカルビトール、トルエン、酢
酸ブチル等が挙げられる。
【００１６】上記のペーストは、スクリーン印刷法、ド
クターブレード法、スロットコーター法、カーテンコー
ター法、バーコーター法等の公知の方法により蛍光体層
形成面上に塗布される。この後、塗布されたペーストを
焼成することにより蛍光体層を形成することができる。
なお、感光性樹脂を含むペーストを使用した場合には、
塗布・露光・現像・焼成することにより所望領域に蛍光
体層を形成することも可能である。
クターブレード法、スロットコーター法、カーテンコー
ター法、バーコーター法等の公知の方法により蛍光体層
形成面上に塗布される。この後、塗布されたペーストを
焼成することにより蛍光体層を形成することができる。
なお、感光性樹脂を含むペーストを使用した場合には、
塗布・露光・現像・焼成することにより所望領域に蛍光
体層を形成することも可能である。
【００１７】次に、本発明の蛍光体層を有するＰＤＰの
一例を図１を参照しながら説明する。なお、下記の構成
は一例であり、本発明はこれに限定されることなく、蛍
光体層を有するＰＤＰであれば、ＡＣ型、ＤＣ型等、ど
のような形式のＰＤＰにも本発明を適用することができ
る。図１は、一般的な間接放電形式（ＡＣ型）の面放電
型ＰＤＰの一画素に対応する概略斜視図であり、蛍光体
の配置形態による分類では、反射型に属し、かつ３電極
構造のＰＤＰ１を示している。
一例を図１を参照しながら説明する。なお、下記の構成
は一例であり、本発明はこれに限定されることなく、蛍
光体層を有するＰＤＰであれば、ＡＣ型、ＤＣ型等、ど
のような形式のＰＤＰにも本発明を適用することができ
る。図１は、一般的な間接放電形式（ＡＣ型）の面放電
型ＰＤＰの一画素に対応する概略斜視図であり、蛍光体
の配置形態による分類では、反射型に属し、かつ３電極
構造のＰＤＰ１を示している。
【００１８】図１のＰＤＰ１は、一対の基板２と５が対
向して配置されている。基板としては、ガラス基板、石
英基板、シリコン基板等を使用することができる。基板
２には、一対の表示電極ＸとＹが平行に形成され、表示
電極ＸとＹを覆うように基板２上に壁電荷によって放電
を維持する交流（ＡＣ）駆動用の誘電体層３が形成さ
れ、更に誘電体層３上に保護膜４が形成されている。誘
電体層は、一般に低融点ガラスペーストを塗布・焼成す
ることにより形成することができる。また、保護膜は、
一般にＭｇＯ等からなる。
向して配置されている。基板としては、ガラス基板、石
英基板、シリコン基板等を使用することができる。基板
２には、一対の表示電極ＸとＹが平行に形成され、表示
電極ＸとＹを覆うように基板２上に壁電荷によって放電
を維持する交流（ＡＣ）駆動用の誘電体層３が形成さ
れ、更に誘電体層３上に保護膜４が形成されている。誘
電体層は、一般に低融点ガラスペーストを塗布・焼成す
ることにより形成することができる。また、保護膜は、
一般にＭｇＯ等からなる。
【００１９】一方、基板５には、平面的に見て表示電極
ＸとＹに直交する位置に複数のストライプ状のアドレス
電極Ａが形成され、該アドレス電極Ａを覆うように基板
５上に誘電体層６が積層されている。ここでアドレス電
極は、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒ及びそれらの積層
体（例えばＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ）等から構成され、スパッ
タ法、蒸着法等の成膜法とエッチング法を組み合わせる
ことにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成する
ことができる。
ＸとＹに直交する位置に複数のストライプ状のアドレス
電極Ａが形成され、該アドレス電極Ａを覆うように基板
５上に誘電体層６が積層されている。ここでアドレス電
極は、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒ及びそれらの積層
体（例えばＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ）等から構成され、スパッ
タ法、蒸着法等の成膜法とエッチング法を組み合わせる
ことにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成する
ことができる。
【００２０】更に、隣接するアドレス電極Ａ間かつ該ア
ドレス電極Ａと平行になるように複数のストライプ状の
隔壁７が形成されている。隔壁は、サンドブラスト法、
印刷法、フォトエッチング法等により形成することがで
きる。次いで、隣接する隔壁７の側面及びアドレス電極
Ａ上には蛍光体層８が形成されている。次に、９は放電
空間を示し、表示電極ＸとＹの延伸方向に単位発光領域
（以下、ＥＵと称する）毎に区画され、かつその間隙寸
法が規定されている。なお、放電空間９には適当な放電
ガスが封入されている。
ドレス電極Ａと平行になるように複数のストライプ状の
隔壁７が形成されている。隔壁は、サンドブラスト法、
印刷法、フォトエッチング法等により形成することがで
きる。次いで、隣接する隔壁７の側面及びアドレス電極
Ａ上には蛍光体層８が形成されている。次に、９は放電
空間を示し、表示電極ＸとＹの延伸方向に単位発光領域
（以下、ＥＵと称する）毎に区画され、かつその間隙寸
法が規定されている。なお、放電空間９には適当な放電
ガスが封入されている。
【００２１】ＰＤＰ１は、図１のように１つの画素に対
応する３つのＥＵのそれぞれにおいて、表示電極Ｙとア
ドレス電極Ａとの交差部に表示又は非表示を選択するた
めの選択放電セルが画定されている。また、表示電極Ｘ
とＹの間に主放電セルが画定されている。ここで、蛍光
体層８は、面放電により生じるイオンによる衝撃を避け
るために、表示電極ＸとＹと反対側の基板５上の隔壁７
間に設けられている。この蛍光体層８は、主放電セルの
面放電により生じる紫外線によって励起され発光する。
蛍光体層８の表面層（放電空間９と接する側）で発生し
た光は、誘電体層３及び基板２を透過して外部へ射出さ
れる。つまり、ＰＤＰ１では、基板２の外面が表示面Ｄ
となる。
応する３つのＥＵのそれぞれにおいて、表示電極Ｙとア
ドレス電極Ａとの交差部に表示又は非表示を選択するた
めの選択放電セルが画定されている。また、表示電極Ｘ
とＹの間に主放電セルが画定されている。ここで、蛍光
体層８は、面放電により生じるイオンによる衝撃を避け
るために、表示電極ＸとＹと反対側の基板５上の隔壁７
間に設けられている。この蛍光体層８は、主放電セルの
面放電により生じる紫外線によって励起され発光する。
蛍光体層８の表面層（放電空間９と接する側）で発生し
た光は、誘電体層３及び基板２を透過して外部へ射出さ
れる。つまり、ＰＤＰ１では、基板２の外面が表示面Ｄ
となる。
【００２２】表示電極ＸとＹは、蛍光体層８に対して表
示面Ｄ側に配置されるので、面放電を広範囲とし、かつ
表示光の遮光を最小限とするために、幅の広い透明導電
膜（サスティン電極）１０とその導電性を補うための幅
の狭い金属膜（バス電極）１１とから構成されている。
サスティン電極は、例えばＩＴＯ（酸化インジウム＋酸
化スズ）やネサ（酸化スズ）等の酸化金属から構成さ
れ、蒸着等の成膜法とエッチング法を組み合わせること
により、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成すること
ができる。一方、バス電極は、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃ
ｕ、Ｃｒ及びそれらの積層体（例えばＣｒ／Ｃｕ／Ｃ
ｒ）等から構成され、スパッタ法、蒸着法等の成膜法と
エッチング法を組み合わせることにより、所望の本数、
厚さ、幅及び間隔で形成することができる。
示面Ｄ側に配置されるので、面放電を広範囲とし、かつ
表示光の遮光を最小限とするために、幅の広い透明導電
膜（サスティン電極）１０とその導電性を補うための幅
の狭い金属膜（バス電極）１１とから構成されている。
サスティン電極は、例えばＩＴＯ（酸化インジウム＋酸
化スズ）やネサ（酸化スズ）等の酸化金属から構成さ
れ、蒸着等の成膜法とエッチング法を組み合わせること
により、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成すること
ができる。一方、バス電極は、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃ
ｕ、Ｃｒ及びそれらの積層体（例えばＣｒ／Ｃｕ／Ｃ
ｒ）等から構成され、スパッタ法、蒸着法等の成膜法と
エッチング法を組み合わせることにより、所望の本数、
厚さ、幅及び間隔で形成することができる。
【００２３】上記のようにＰＤＰ１は表示電極ＸとＹを
覆い、放電を維持するための誘電体層３をもつ基板２
（前面基板）と、放電空間９を区画するための隔壁７を
もつ基板５（背面基板）の２枚の基板を貼り合わせるこ
とにより構成されている。
覆い、放電を維持するための誘電体層３をもつ基板２
（前面基板）と、放電空間９を区画するための隔壁７を
もつ基板５（背面基板）の２枚の基板を貼り合わせるこ
とにより構成されている。
【００２４】
実施例１ 平均粒径４．３μｍの緑色を発光する蛍光体粒子（Ｚｎ
2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎ，商品名ＰＩ−ＧＩＳ：化成オプトニ
クス社製）を３０重量％及び平均粒径２．０μｍの無機
物粒子（Ｙ2 Ｏ3 ）０．３重量％を含むペーストを作成
した。なお、ペーストには、スクリーン印刷法により塗
布できるようにエチルセルロース、ＢＣＡ及びブチルカ
ルビトールにより粘度を調節した。また、無機物粒子
は、焼成後の蛍光体層に１重量％含まれるように添加量
を調節した。このペーストを用いて、公知の方法により
図１に示す如きＰＤＰを製造した。得られたＰＤＰの初
期輝度と、初期輝度を１００とした場合の２０００時間
後の輝度維持率を測定し、その結果を表１に示した。
2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎ，商品名ＰＩ−ＧＩＳ：化成オプトニ
クス社製）を３０重量％及び平均粒径２．０μｍの無機
物粒子（Ｙ2 Ｏ3 ）０．３重量％を含むペーストを作成
した。なお、ペーストには、スクリーン印刷法により塗
布できるようにエチルセルロース、ＢＣＡ及びブチルカ
ルビトールにより粘度を調節した。また、無機物粒子
は、焼成後の蛍光体層に１重量％含まれるように添加量
を調節した。このペーストを用いて、公知の方法により
図１に示す如きＰＤＰを製造した。得られたＰＤＰの初
期輝度と、初期輝度を１００とした場合の２０００時間
後の輝度維持率を測定し、その結果を表１に示した。
【００２５】なお、輝度は、輝度計ＳＲ−１（トプコン
社製）を使用して測定した。 比較例１ 無機物粒子を添加しないこと以外は実施例１と同様にし
てＰＤＰを製造した。得られたＰＤＰの初期輝度と、初
期輝度を１００とした場合の２０００時間後の輝度維持
率を測定し、その結果を表１に示した。
社製）を使用して測定した。 比較例１ 無機物粒子を添加しないこと以外は実施例１と同様にし
てＰＤＰを製造した。得られたＰＤＰの初期輝度と、初
期輝度を１００とした場合の２０００時間後の輝度維持
率を測定し、その結果を表１に示した。
【００２６】比較例２ 蛍光体粒子を軽く粉砕し、その平均粒径を２．５μｍに
したこと以外は実施例１と同様にしてＰＤＰを製造し
た。得られたＰＤＰの初期輝度と、初期輝度を１００と
した場合の２０００時間後の輝度維持率を測定し、その
結果を表１に示した。
したこと以外は実施例１と同様にしてＰＤＰを製造し
た。得られたＰＤＰの初期輝度と、初期輝度を１００と
した場合の２０００時間後の輝度維持率を測定し、その
結果を表１に示した。
【００２７】比較例３ 蛍光体粒子を粉砕し、その平均粒径を１．４μｍにした
こと以外は実施例１と同様にしてＰＤＰを製造した。得
られたＰＤＰの初期輝度と、初期輝度を１００とした場
合の２０００時間後の輝度維持率を測定し、その結果を
表１に示した。
こと以外は実施例１と同様にしてＰＤＰを製造した。得
られたＰＤＰの初期輝度と、初期輝度を１００とした場
合の２０００時間後の輝度維持率を測定し、その結果を
表１に示した。
【００２８】実施例２ 無機物粒子の平均粒径が、０．５μｍであること以外は
実施例１と同様にしてＰＤＰを製造した。得られたＰＤ
Ｐの初期輝度と、初期輝度を１００とした場合の２００
０時間後の輝度維持率を測定し、その結果を表１に示し
た。
実施例１と同様にしてＰＤＰを製造した。得られたＰＤ
Ｐの初期輝度と、初期輝度を１００とした場合の２００
０時間後の輝度維持率を測定し、その結果を表１に示し
た。
【００２９】比較例４及び５ 無機物粒子の平均粒径が、６．１μｍ（比較例４）及び
４．２μｍ（比較例５）であること以外は実施例１と同
様にしてＰＤＰを製造した。得られたＰＤＰの初期輝度
と、初期輝度を１００とした場合の２０００時間後の輝
度維持率を測定し、その結果を表１に示した。
４．２μｍ（比較例５）であること以外は実施例１と同
様にしてＰＤＰを製造した。得られたＰＤＰの初期輝度
と、初期輝度を１００とした場合の２０００時間後の輝
度維持率を測定し、その結果を表１に示した。
【００３０】実施例３〜５、比較例６ 焼成後の蛍光体層に含まれる無機物粒子の量を、１０重
量％（比較例６）、５重量％（実施例３）、３重量％
（実施例４）及び０．３重量％（実施例５）に調節する
こと以外は実施例２と同様にしてＰＤＰを製造した。得
られたＰＤＰの初期輝度と、初期輝度を１００とした場
合の２０００時間後の輝度維持率を測定し、その結果を
表１に示した。
量％（比較例６）、５重量％（実施例３）、３重量％
（実施例４）及び０．３重量％（実施例５）に調節する
こと以外は実施例２と同様にしてＰＤＰを製造した。得
られたＰＤＰの初期輝度と、初期輝度を１００とした場
合の２０００時間後の輝度維持率を測定し、その結果を
表１に示した。
【００３１】実施例６〜８ 無機物粒子としてＹ2 Ｏ3 の代わりに平均粒径７ｎｍの
ＳｉＯ2 （商品名３００ＣＦ：日本アエロジル社製）を
使用し、焼成後の蛍光体層に含まれる無機物粒子の量
を、０．０５重量％（実施例６）、０．０１重量％（実
施例７）及び０．００２重量％（実施例８）に調節する
こと以外は実施例１と同様にしてＰＤＰを製造した。得
られたＰＤＰの初期輝度と、初期輝度を１００とした場
合の２０００時間後の輝度維持率を測定し、その結果を
表１に示した。
ＳｉＯ2 （商品名３００ＣＦ：日本アエロジル社製）を
使用し、焼成後の蛍光体層に含まれる無機物粒子の量
を、０．０５重量％（実施例６）、０．０１重量％（実
施例７）及び０．００２重量％（実施例８）に調節する
こと以外は実施例１と同様にしてＰＤＰを製造した。得
られたＰＤＰの初期輝度と、初期輝度を１００とした場
合の２０００時間後の輝度維持率を測定し、その結果を
表１に示した。
【００３２】実施例９ 無機物粒子として、表面に疎水処理を施したＳｉＯ
2 （商品名Ｒ８１２：日本アエロジル社製）を使用する
こと以外は実施例６と同様にしてＰＤＰを製造した。得
られたＰＤＰの初期輝度と、初期輝度を１００とした場
合の２０００時間後の輝度維持率を測定し、その結果を
表１に示した。
2 （商品名Ｒ８１２：日本アエロジル社製）を使用する
こと以外は実施例６と同様にしてＰＤＰを製造した。得
られたＰＤＰの初期輝度と、初期輝度を１００とした場
合の２０００時間後の輝度維持率を測定し、その結果を
表１に示した。
【００３３】
【表１】
【００３４】上記表１から以下のことが判った。まず、
実施例１〜９と比較例１〜３から、無機物粒子を含むこ
とで、初期輝度と２０００時間後の輝度維持率が向上す
ることが判った。なお、蛍光体粒子を単純に粉砕しただ
けでは、初期輝度は低下した。この低下は、蛍光体粒子
が粉砕されることにより結晶性が低下したため、ＰＤＰ
の製造工程中の熱処理等で形成された蛍光体層も劣化す
るためであると考えられる。
実施例１〜９と比較例１〜３から、無機物粒子を含むこ
とで、初期輝度と２０００時間後の輝度維持率が向上す
ることが判った。なお、蛍光体粒子を単純に粉砕しただ
けでは、初期輝度は低下した。この低下は、蛍光体粒子
が粉砕されることにより結晶性が低下したため、ＰＤＰ
の製造工程中の熱処理等で形成された蛍光体層も劣化す
るためであると考えられる。
【００３５】次に、実施例１〜９と比較例４及び５か
ら、無機物粒子の平均粒径を蛍光体粒子の半分以下とす
ることで、初期輝度と２０００時間後の輝度維持率が向
上することが判った。次いで、実施例３及び９と比較例
１及び６から、焼成後の蛍光体層に含まれる無機物粒子
の量を０．００２〜５重量％とすることで、初期輝度と
２０００時間後の輝度維持率が向上することが判った。
なお、無機物粒子を添加しない場合は、初期輝度は向上
せず、１０重量％含む場合は、蛍光体粒子の絶対量が減
るため、初期輝度が低下した。
ら、無機物粒子の平均粒径を蛍光体粒子の半分以下とす
ることで、初期輝度と２０００時間後の輝度維持率が向
上することが判った。次いで、実施例３及び９と比較例
１及び６から、焼成後の蛍光体層に含まれる無機物粒子
の量を０．００２〜５重量％とすることで、初期輝度と
２０００時間後の輝度維持率が向上することが判った。
なお、無機物粒子を添加しない場合は、初期輝度は向上
せず、１０重量％含む場合は、蛍光体粒子の絶対量が減
るため、初期輝度が低下した。
【００３６】更に、実施例７及び９から、無機物粒子の
表面に疎水処理を施すことにより、初期輝度が向上する
ことが判った。上記の初期輝度と２０００時間後の輝度
維持率の向上は、以下の理由によるものと考えられる。
即ち、無機物粒子により蛍光体粒子の分散性が向上して
いると共に緻密化（蛍光体粒子間の間隙に無機物粒子が
入ることにより間隙を埋め、蛍光体層の表面が平滑化す
ることを意味する）しているためであると考えられる。
そのため、蛍光体層の厚さむらが少なくなり、表示の際
のプラズマ中で、スパッタリングされることにより劣化
する蛍光体粒子が減少するためであると考えられる。更
に、蛍光体層自体の反射率も向上するため、発光効率が
向上することも理由の一つであると考えられる。
表面に疎水処理を施すことにより、初期輝度が向上する
ことが判った。上記の初期輝度と２０００時間後の輝度
維持率の向上は、以下の理由によるものと考えられる。
即ち、無機物粒子により蛍光体粒子の分散性が向上して
いると共に緻密化（蛍光体粒子間の間隙に無機物粒子が
入ることにより間隙を埋め、蛍光体層の表面が平滑化す
ることを意味する）しているためであると考えられる。
そのため、蛍光体層の厚さむらが少なくなり、表示の際
のプラズマ中で、スパッタリングされることにより劣化
する蛍光体粒子が減少するためであると考えられる。更
に、蛍光体層自体の反射率も向上するため、発光効率が
向上することも理由の一つであると考えられる。
【００３７】無機物粒子としてＹ2 Ｏ3 の代わりにＡｌ
2 Ｏ3 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＭｇＯを使用すること以外は実施
例１と同様にしてＰＤＰを製造した。得られたＰＤＰの
初期輝度と、初期輝度を１００とした場合の２０００時
間後の輝度維持率を測定したところ、実施例１と同様
に、初期輝度と２０００時間後の輝度維持率を向上させ
ることができた。
2 Ｏ3 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＭｇＯを使用すること以外は実施
例１と同様にしてＰＤＰを製造した。得られたＰＤＰの
初期輝度と、初期輝度を１００とした場合の２０００時
間後の輝度維持率を測定したところ、実施例１と同様
に、初期輝度と２０００時間後の輝度維持率を向上させ
ることができた。
【００３８】
【発明の効果】本発明のＰＤＰによれば、蛍光体層の表
面の厚さむらが減少する。そのためアドレス時の放電空
間の幅が不均一になることにより、安定な放電が阻害さ
れたり、場所による輝度むらを生じたりすることのない
ＰＤＰを提供することができる。
面の厚さむらが減少する。そのためアドレス時の放電空
間の幅が不均一になることにより、安定な放電が阻害さ
れたり、場所による輝度むらを生じたりすることのない
ＰＤＰを提供することができる。
【図１】本発明のＰＤＰの概略斜視図である。
１ ＰＤＰ ２、５ 基板 ３、６ 誘電体層 ４ 保護膜 ７ 隔壁 ８ 蛍光体層 ９ 放電空間 １０ 透明導電膜 １１ 金属膜 Ａ アドレス電極 Ｄ 表示面 Ｘ、Ｙ 表示電極
Claims (6)
- 【請求項１】 蛍光体層を備えたプラズマディスプレイ
パネルにおいて、該蛍光体層が蛍光体粒子と無機物粒子
を含むペーストを焼成することにより形成され、無機物
粒子が蛍光体粒子の半分以下の平均粒径を有し、かつ蛍
光体粒子に対して０．００２〜５重量％含まれてなるこ
とを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項２】 無機物粒子が、白色の酸化物である請求
項１のプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項３】 酸化物が、Ｙ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｔａ
2 Ｏ5 、ＭｇＯ又はＳｉ2 Ｏである請求項２のプラズマ
ディスプレイパネル。 - 【請求項４】 無機物粒子が、その表面を疎水処理され
てなる請求項１〜３いずれかのプラズマディスプレイパ
ネル。 - 【請求項５】 蛍光体粒子が、０．５〜５μｍの平均粒
径を有し、無機物粒子が、７ｎｍ〜２μｍの平均粒径を
有する請求項１〜４いずれかのプラズマディスプレイパ
ネル。 - 【請求項６】 無機物粒子が、６００℃以上の融点又は
ガラス転移点を有する請求項１〜５いずれかのプラズマ
ディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19285497A JP3985852B2 (ja) | 1997-07-17 | 1997-07-17 | プラズマディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19285497A JP3985852B2 (ja) | 1997-07-17 | 1997-07-17 | プラズマディスプレイパネル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1135372A true JPH1135372A (ja) | 1999-02-09 |
| JP3985852B2 JP3985852B2 (ja) | 2007-10-03 |
Family
ID=16298084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19285497A Expired - Fee Related JP3985852B2 (ja) | 1997-07-17 | 1997-07-17 | プラズマディスプレイパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3985852B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000268728A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-29 | Hitachi Ltd | プラズマディスプレイパネルおよびそれを用いた画像表示装置 |
| JP2001043800A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-02-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 吐出手段 |
| JP2003092086A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Nec Lighting Ltd | 希ガス放電灯及びその製造方法並びに蛍光体膜形成材料 |
| JP2007161904A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Daiden Co Ltd | 蛍光体材料、蛍光体ペースト、蛍光体膜及びプラズマディスプレイパネル |
| JP2007177086A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kasei Optonix Co Ltd | 発光組成物、それを用いた蛍光体ペースト組成物およびプラズマディスプレイパネル |
| CN1329938C (zh) * | 2003-10-16 | 2007-08-01 | 三星Sdi株式会社 | 等离子体显示板用荧光粉和使用荧光粉的等离子体显示板 |
| JP2009021613A (ja) * | 2001-09-03 | 2009-01-29 | Panasonic Corp | 蛍光体層、半導体発光装置および半導体発光デバイスの製造方法 |
| US7511428B2 (en) | 2002-10-22 | 2009-03-31 | Panasonic Corporation | Plasma display panel |
| US8031138B2 (en) * | 2007-07-05 | 2011-10-04 | Lg Electronics Inc. | Plasma display panel and plasma display apparatus |
| US8098013B2 (en) | 2008-07-15 | 2012-01-17 | Hitachi Consumer Electronics Co., Ltd. | Plasma display panel and display device using the same |
-
1997
- 1997-07-17 JP JP19285497A patent/JP3985852B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000268728A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-29 | Hitachi Ltd | プラズマディスプレイパネルおよびそれを用いた画像表示装置 |
| JP4508315B2 (ja) * | 1999-08-02 | 2010-07-21 | 大日本印刷株式会社 | 吐出手段 |
| JP2001043800A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-02-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 吐出手段 |
| US7772769B2 (en) | 2001-09-03 | 2010-08-10 | Panasonic Corporation | Light-emitting semiconductor device, light-emitting system and method for fabricating light-emitting semiconductor device |
| JP4676519B2 (ja) * | 2001-09-03 | 2011-04-27 | パナソニック株式会社 | 半導体発光装置および半導体発光デバイスの製造方法 |
| USRE47453E1 (en) | 2001-09-03 | 2019-06-25 | Panasonic Corporation | Luminescent layer and light-emitting semiconductor device |
| JP2009021613A (ja) * | 2001-09-03 | 2009-01-29 | Panasonic Corp | 蛍光体層、半導体発光装置および半導体発光デバイスの製造方法 |
| JP2010050490A (ja) * | 2001-09-03 | 2010-03-04 | Panasonic Corp | 半導体発光装置、半導体発光デバイスの製造方法 |
| US7592639B2 (en) | 2001-09-03 | 2009-09-22 | Panasonic Corporation | Light-emitting semiconductor device, light-emitting system and method for fabricating light-emitting semiconductor device |
| US7629620B2 (en) | 2001-09-03 | 2009-12-08 | Panasonic Corporation | Light-emitting semiconductor device, light-emitting system and method for fabricating light-emitting semiconductor device |
| JP2003092086A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Nec Lighting Ltd | 希ガス放電灯及びその製造方法並びに蛍光体膜形成材料 |
| US7511428B2 (en) | 2002-10-22 | 2009-03-31 | Panasonic Corporation | Plasma display panel |
| CN1329938C (zh) * | 2003-10-16 | 2007-08-01 | 三星Sdi株式会社 | 等离子体显示板用荧光粉和使用荧光粉的等离子体显示板 |
| JP2007161904A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Daiden Co Ltd | 蛍光体材料、蛍光体ペースト、蛍光体膜及びプラズマディスプレイパネル |
| JP2007177086A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kasei Optonix Co Ltd | 発光組成物、それを用いた蛍光体ペースト組成物およびプラズマディスプレイパネル |
| US8031138B2 (en) * | 2007-07-05 | 2011-10-04 | Lg Electronics Inc. | Plasma display panel and plasma display apparatus |
| US8098013B2 (en) | 2008-07-15 | 2012-01-17 | Hitachi Consumer Electronics Co., Ltd. | Plasma display panel and display device using the same |
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