JPH11352173A - 回路パターンの検査装置とその検査方法 - Google Patents
回路パターンの検査装置とその検査方法Info
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- JPH11352173A JPH11352173A JP10159380A JP15938098A JPH11352173A JP H11352173 A JPH11352173 A JP H11352173A JP 10159380 A JP10159380 A JP 10159380A JP 15938098 A JP15938098 A JP 15938098A JP H11352173 A JPH11352173 A JP H11352173A
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- Testing Of Short-Circuits, Discontinuities, Leakage, Or Incorrect Line Connections (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】液晶表示パネル等の電極を構成する回路パター
ンのショートあるいはオープン検査において、未検査領
域や誤判定を無くし、かつショートまたオープン位置を
高精度で検出できるようにする。 【解決手段】絶縁基板上に形成された電極パターン5お
よび外周電極パターン6からなる回路パターンの内側の
任意の2箇所に接触可能な一対の第1接触手段8,9
と、第1接触手段が接触する電極パターン間の抵抗値を
検出する第1抵抗検出手段10と、前記外周電極パター
ン6の内側の任意の2箇所に接触可能な一対の第2接触
手段8,7と、第1と第2接触手段が接触する電極パタ
ーン間の抵抗値を検出する第1と第2抵抗検出手段1
0,11と、第1と第2抵抗検出手段で検出された各抵
抗値について所定の演算式に基づいて演算する制御/演
算手段4とを有し、演算手段4に、第1と第2抵抗検出
手段10,11で検出した各抵抗値および平均抵抗値の
差からショートまたはオープンを判定するための閾値を
前記各抵抗値の絶対値に応じて任意の割合で変動させて
前記演算を実行する演算機能を具備した。
ンのショートあるいはオープン検査において、未検査領
域や誤判定を無くし、かつショートまたオープン位置を
高精度で検出できるようにする。 【解決手段】絶縁基板上に形成された電極パターン5お
よび外周電極パターン6からなる回路パターンの内側の
任意の2箇所に接触可能な一対の第1接触手段8,9
と、第1接触手段が接触する電極パターン間の抵抗値を
検出する第1抵抗検出手段10と、前記外周電極パター
ン6の内側の任意の2箇所に接触可能な一対の第2接触
手段8,7と、第1と第2接触手段が接触する電極パタ
ーン間の抵抗値を検出する第1と第2抵抗検出手段1
0,11と、第1と第2抵抗検出手段で検出された各抵
抗値について所定の演算式に基づいて演算する制御/演
算手段4とを有し、演算手段4に、第1と第2抵抗検出
手段10,11で検出した各抵抗値および平均抵抗値の
差からショートまたはオープンを判定するための閾値を
前記各抵抗値の絶対値に応じて任意の割合で変動させて
前記演算を実行する演算機能を具備した。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル等
の電子機器を構成する絶縁基板上に形成した微細な電極
からなる回路パターンのショートやオープンを検出する
ための回路パターンの検査装置とその方法に関する。
の電子機器を構成する絶縁基板上に形成した微細な電極
からなる回路パターンのショートやオープンを検出する
ための回路パターンの検査装置とその方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、液晶表示パネルは、ガラス等の
絶縁基板の表面に画素選択用の回路パターンを構成する
電極のショートやオープンの有無およびショートやオー
プンの位置を検知し、その結果に基づいて修復可能なも
のは修復し、不可能なものは不良品と判定することが行
われる。
絶縁基板の表面に画素選択用の回路パターンを構成する
電極のショートやオープンの有無およびショートやオー
プンの位置を検知し、その結果に基づいて修復可能なも
のは修復し、不可能なものは不良品と判定することが行
われる。
【0003】このような回路パターンの検査に関する従
来技術として、特開平6−148253号公報が知られ
ている。この公報では、同一または異なる回路パターン
の任意の2箇所に接触可能な2対の接触手段(ニード
ル、またはニードルピン)を用い、2対の接触手段に流
れる電流値と各接触手段の電位差に基づいて当該回路パ
ターンの断線や短絡の有無を判定し、ショートやオープ
ンが検出されたときには、その位置を検出するものであ
る。
来技術として、特開平6−148253号公報が知られ
ている。この公報では、同一または異なる回路パターン
の任意の2箇所に接触可能な2対の接触手段(ニード
ル、またはニードルピン)を用い、2対の接触手段に流
れる電流値と各接触手段の電位差に基づいて当該回路パ
ターンの断線や短絡の有無を判定し、ショートやオープ
ンが検出されたときには、その位置を検出するものであ
る。
【0004】しかし、この従来技術では、上記回路パタ
ーンのショートおよびオープンの有無を判定するための
基準値である閾値の処理に関しては何ら考慮がなされて
いない。
ーンのショートおよびオープンの有無を判定するための
基準値である閾値の処理に関しては何ら考慮がなされて
いない。
【0005】回路パターンの抵抗値は、検査すべき回路
パターンごと、あるいは基板ごとに異なるものであるた
め、閾値の設定が不適切であると、未検査領域(実質的
な判定ができない領域:判定不能領域)の発生や誤判定
を招き、検査装置の役目を果たせなくなる。
パターンごと、あるいは基板ごとに異なるものであるた
め、閾値の設定が不適切であると、未検査領域(実質的
な判定ができない領域:判定不能領域)の発生や誤判定
を招き、検査装置の役目を果たせなくなる。
【0006】また、上記公報に記載の従来技術では、回
路パターンの抵抗値が小さかったり、基板内あるいは基
板間で抵抗値がばらついていたりすると、必ず未検査領
域や誤判定が発生する。さらに、上記公知技術では、シ
ョート部の抵抗値にも言及しておらず、閾値が一定であ
ると必ず未検査領域や誤判定が発生する。
路パターンの抵抗値が小さかったり、基板内あるいは基
板間で抵抗値がばらついていたりすると、必ず未検査領
域や誤判定が発生する。さらに、上記公知技術では、シ
ョート部の抵抗値にも言及しておらず、閾値が一定であ
ると必ず未検査領域や誤判定が発生する。
【0007】ショート位置の検査方法には、ショートし
ていない正常な抵抗値が必要であるが、上記従来技術で
は、その正常な抵抗値を算出する方法は開示されておら
ず、精度の高いショート位置の検出が不可能である。通
常、液晶表示パネルでは、ショートした箇所をレーザ等
で切断修正して良品化するが、その作業を行う位置デー
タの精度が低いため、その位置探しに多くの時間を要
し、効率のよい検査はできない。
ていない正常な抵抗値が必要であるが、上記従来技術で
は、その正常な抵抗値を算出する方法は開示されておら
ず、精度の高いショート位置の検出が不可能である。通
常、液晶表示パネルでは、ショートした箇所をレーザ等
で切断修正して良品化するが、その作業を行う位置デー
タの精度が低いため、その位置探しに多くの時間を要
し、効率のよい検査はできない。
【0008】一般に、液晶表示パネルでは、電極パター
ンの抵抗の絶対値が大きくなったり、基板内で大きな変
動があると、明るさのむらやシャドーイング等が発生
し、画質の劣化をもたらすが、上記従来の技術では、こ
のことを考慮した検査方法については何ら言及していな
い。
ンの抵抗の絶対値が大きくなったり、基板内で大きな変
動があると、明るさのむらやシャドーイング等が発生
し、画質の劣化をもたらすが、上記従来の技術では、こ
のことを考慮した検査方法については何ら言及していな
い。
【0009】また、画面部電極パターンと短絡線である
外周パターンを接続する端子部電極パターンの検査は、
画面部電極パターンのように2つの抵抗値の一方のみの
検査(OR検査)ではなく、1つの抵抗値による検査の
ため、必ず未検査領域や誤判定が発生する。
外周パターンを接続する端子部電極パターンの検査は、
画面部電極パターンのように2つの抵抗値の一方のみの
検査(OR検査)ではなく、1つの抵抗値による検査の
ため、必ず未検査領域や誤判定が発生する。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
の技術では、操作者が設定する閾値が不適正であった
り、閾値の基準となる抵抗平均値が不適正であると、シ
ョート/オープンの有無とその位置の検査において、未
検査領域や誤判定が発生するという問題がある。
の技術では、操作者が設定する閾値が不適正であった
り、閾値の基準となる抵抗平均値が不適正であると、シ
ョート/オープンの有無とその位置の検査において、未
検査領域や誤判定が発生するという問題がある。
【0011】また、測定する抵抗値の絶対値の大きさ、
あるいは基板内、基板間の抵抗値変動、ショート部の抵
抗値の大きさで未検査領域や誤判定が発生するという問
題がある。特に、端子部電極パターンは、画面部電極パ
ターンが2つの抵抗値でOR判定するのに対し、1つの
抵抗値で判定するものであるため、検査感度の向上が期
待できなかった。
あるいは基板内、基板間の抵抗値変動、ショート部の抵
抗値の大きさで未検査領域や誤判定が発生するという問
題がある。特に、端子部電極パターンは、画面部電極パ
ターンが2つの抵抗値でOR判定するのに対し、1つの
抵抗値で判定するものであるため、検査感度の向上が期
待できなかった。
【0012】また、ショート位置を検出するに当たり、
正常な抵抗値を求める方法が無いため、位置の検出精度
が悪く、探索に時間を要するという問題があった。
正常な抵抗値を求める方法が無いため、位置の検出精度
が悪く、探索に時間を要するという問題があった。
【0013】さらに、通常、液晶表示パネルは、電極パ
ターンの抵抗値が大き過ぎたり、面内でばらつきがある
と表示不良となるが、従来の技術では、この点を考慮し
ていない。
ターンの抵抗値が大き過ぎたり、面内でばらつきがある
と表示不良となるが、従来の技術では、この点を考慮し
ていない。
【0014】本発明の目的は、上記従来技術の諸問題を
解消して、液晶表示パネル等の電極を構成する回路パタ
ーンのショートあるいはオープン検査において、未検査
領域や誤判定を無くし、かつショートまたオープン位置
を高精度で検出できるようにした回路パターンの検査装
置とその検査方法を提供することにある。
解消して、液晶表示パネル等の電極を構成する回路パタ
ーンのショートあるいはオープン検査において、未検査
領域や誤判定を無くし、かつショートまたオープン位置
を高精度で検出できるようにした回路パターンの検査装
置とその検査方法を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、2対の検出手段で検出した抵抗値と平均
抵抗値の差から回路パターンのショートまたはオープン
を判定する。この判定のための閾値を抵抗値の絶対値に
応じて任意の割合で変動させることにより、未検査領域
の発生や誤判定の発生を防止するようにした。
に、本発明は、2対の検出手段で検出した抵抗値と平均
抵抗値の差から回路パターンのショートまたはオープン
を判定する。この判定のための閾値を抵抗値の絶対値に
応じて任意の割合で変動させることにより、未検査領域
の発生や誤判定の発生を防止するようにした。
【0016】回路パターンのショートまたはオープンを
判定するための閾値は、所定の抵抗平均値を基準として
設定する。指定された回路パターン部の抵抗平均値を演
算する機能を設けることで、未検査領域の発生や誤判定
の発生を防止し、かつショート位置の検出精度を向上で
きる。
判定するための閾値は、所定の抵抗平均値を基準として
設定する。指定された回路パターン部の抵抗平均値を演
算する機能を設けることで、未検査領域の発生や誤判定
の発生を防止し、かつショート位置の検出精度を向上で
きる。
【0017】すなわち、基板内の回路パターンの抵抗値
が変動していたり、ショート部の抵抗値が高いと、未検
査領域や誤判定が発生し、ショート位置の検出精度が低
下するため、回路パターンを少なくとも2ブロック以上
に分割し、分割したブロック内での抵抗の平均値を演算
し、ブロック内でその平均値に対する閾値を任意の割合
で演算する。
が変動していたり、ショート部の抵抗値が高いと、未検
査領域や誤判定が発生し、ショート位置の検出精度が低
下するため、回路パターンを少なくとも2ブロック以上
に分割し、分割したブロック内での抵抗の平均値を演算
し、ブロック内でその平均値に対する閾値を任意の割合
で演算する。
【0018】そして、抵抗値が大きすぎたり、抵抗値が
基板面内で変動することによる液晶表示パネルの画質の
劣化を防ぐために、上限閾値と変動閾値を演算し、これ
を比較判定する機能を持たせた。
基板面内で変動することによる液晶表示パネルの画質の
劣化を防ぐために、上限閾値と変動閾値を演算し、これ
を比較判定する機能を持たせた。
【0019】すなわち、本発明は、下記(1)〜(4)
に記載の構成とした点に特徴を有する。
に記載の構成とした点に特徴を有する。
【0020】(1)絶縁基板上に形成された同一又は異
なる電極パターンを構成し、前記電極パターンの端部を
前記絶縁基板の外周で共通に接続する短絡電極パターン
を有する回路パターンのショートまたはオープンを検査
するための回路パターンの検査装置であって、前記短絡
電極パターンの内側の任意の2箇所に接触可能な一対の
第1接触手段と、前記第1接触手段に接続する第1定電
流源と、前記第1接触手段に接続する第1電圧計と、前
記第1接触手段が接触する電極パターン間の抵抗値を検
出する第1抵抗検出手段と前記短絡電極パターンの内側
の任意の2箇所に接触可能な一対の第2接触手段と、前
記第2接触手段に接続する第2定電流源と、前記第2接
触手段に接続する第2電圧計と、前記第1と第2接触手
段が接触する電極パターン間の抵抗値を検出する第2抵
抗検出手段と、前記第1と第2抵抗検出手段で検出され
た各抵抗値について所定の演算式に基づいて演算する制
御/演算手段とを有し、前記制御/演算手段が、前記第
1と第2抵抗検出手段で検出した各抵抗値および平均抵
抗値の差からショートまたはオープンを判定するための
閾値を、前記各抵抗値の絶対値に応じて任意の割合で変
動させて前記演算を実行する演算機能を具備したことを
特徴とする。
なる電極パターンを構成し、前記電極パターンの端部を
前記絶縁基板の外周で共通に接続する短絡電極パターン
を有する回路パターンのショートまたはオープンを検査
するための回路パターンの検査装置であって、前記短絡
電極パターンの内側の任意の2箇所に接触可能な一対の
第1接触手段と、前記第1接触手段に接続する第1定電
流源と、前記第1接触手段に接続する第1電圧計と、前
記第1接触手段が接触する電極パターン間の抵抗値を検
出する第1抵抗検出手段と前記短絡電極パターンの内側
の任意の2箇所に接触可能な一対の第2接触手段と、前
記第2接触手段に接続する第2定電流源と、前記第2接
触手段に接続する第2電圧計と、前記第1と第2接触手
段が接触する電極パターン間の抵抗値を検出する第2抵
抗検出手段と、前記第1と第2抵抗検出手段で検出され
た各抵抗値について所定の演算式に基づいて演算する制
御/演算手段とを有し、前記制御/演算手段が、前記第
1と第2抵抗検出手段で検出した各抵抗値および平均抵
抗値の差からショートまたはオープンを判定するための
閾値を、前記各抵抗値の絶対値に応じて任意の割合で変
動させて前記演算を実行する演算機能を具備したことを
特徴とする。
【0021】(2)(1)における前記制御/演算手段
が、前記第1と第2抵抗検出手段で検出した前記電極パ
ターンの複数位置の抵抗値に基づいて短絡位置と断線位
置を検知する演算機能を具備したことを特徴とする。
が、前記第1と第2抵抗検出手段で検出した前記電極パ
ターンの複数位置の抵抗値に基づいて短絡位置と断線位
置を検知する演算機能を具備したことを特徴とする。
【0022】(3)絶縁基板上に形成された同一又は異
なる電極パターンと、この電極パターンの端部を前記絶
縁基板の外周で共通に接続する短絡電極パターンを有す
る回路パターンのショートまたはオープンを検査するた
めの回路パターンの検査方法であって、 前記電極パタ
ーンの内側の任意の2箇所の間の抵抗値を検出し、前記
短絡電極パターンと前記電極パターンと隣接する電極パ
ターンの間の抵抗値を検出し、検出した前記各抵抗値の
平均抵抗値の差からショートまたはオープンを判定する
ための閾値を演算し、演算して得た前記閾値に基づい
て、前記電極パターンのショートまたはオープンの有無
とその位置を検出することを特徴とする。
なる電極パターンと、この電極パターンの端部を前記絶
縁基板の外周で共通に接続する短絡電極パターンを有す
る回路パターンのショートまたはオープンを検査するた
めの回路パターンの検査方法であって、 前記電極パタ
ーンの内側の任意の2箇所の間の抵抗値を検出し、前記
短絡電極パターンと前記電極パターンと隣接する電極パ
ターンの間の抵抗値を検出し、検出した前記各抵抗値の
平均抵抗値の差からショートまたはオープンを判定する
ための閾値を演算し、演算して得た前記閾値に基づい
て、前記電極パターンのショートまたはオープンの有無
とその位置を検出することを特徴とする。
【0023】(4)(3)における前記平均抵抗を、基
板内の少なくとも2以上のブロック別に指定された割合
で自動的に変化させるようにしたことを特徴とする。
板内の少なくとも2以上のブロック別に指定された割合
で自動的に変化させるようにしたことを特徴とする。
【0024】上記の各構成により、液晶表示パネル等の
電極を構成する回路パターンのショートあるいはオープ
ン検査における未検査領域や誤判定が無くなり、かつシ
ョートまたはオープン位置を高精度で検出できる。
電極を構成する回路パターンのショートあるいはオープ
ン検査における未検査領域や誤判定が無くなり、かつシ
ョートまたはオープン位置を高精度で検出できる。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。
て、図面を参照して詳細に説明する。
【0026】図1は本発明の1実施例の構成を説明する
回路パターンの検査装置の概略ブロック図である。画面
部電極パターン5および外周パターン(短絡電極パター
ン6)からなる所定の回路パターンを有する液晶表示パ
ネル等の基板1を載せたステージ2は、ステージ駆動系
3を介して制御/演算装置4により駆動される。このス
テージ2の位置はステージ駆動系3に組み込まれたエン
コーダ等の位置検出手段によって制御/演算装置4に伝
達され、ニードル8と9および8と7の2対のニードル
(接触手段)との相対位置が制御される。
回路パターンの検査装置の概略ブロック図である。画面
部電極パターン5および外周パターン(短絡電極パター
ン6)からなる所定の回路パターンを有する液晶表示パ
ネル等の基板1を載せたステージ2は、ステージ駆動系
3を介して制御/演算装置4により駆動される。このス
テージ2の位置はステージ駆動系3に組み込まれたエン
コーダ等の位置検出手段によって制御/演算装置4に伝
達され、ニードル8と9および8と7の2対のニードル
(接触手段)との相対位置が制御される。
【0027】ステージ2またはニードル7,8,9は、
図中矢印A方向(画面部電極パターン5と直交する方
向)に相対移動する(同図では、ステージ2が移動する
ように示してある)。すなわち、電極パターン5の方向
がニードル7,8,9のなぞり方向と直交するように配
置されている。
図中矢印A方向(画面部電極パターン5と直交する方
向)に相対移動する(同図では、ステージ2が移動する
ように示してある)。すなわち、電極パターン5の方向
がニードル7,8,9のなぞり方向と直交するように配
置されている。
【0028】また、基板1には、電極パターン5と接続
された外周パターン(短絡電極パターン)6が形成され
ている。なお、ニードル7,8,9は、縦方向、横方向
に位置を帰ることが可能で、電極パターンと接触してな
ぞることで抵抗検出のためのデータを第1の抵抗検出器
10と第2の抵抗検出器11に伝達する。
された外周パターン(短絡電極パターン)6が形成され
ている。なお、ニードル7,8,9は、縦方向、横方向
に位置を帰ることが可能で、電極パターンと接触してな
ぞることで抵抗検出のためのデータを第1の抵抗検出器
10と第2の抵抗検出器11に伝達する。
【0029】第1の抵抗検出器10と第2の抵抗検出器
11で検出されたデータは制御/演算装置4に伝達さ
れ、指定された演算を施されて、その結果を表示部12
に表示し、外部記憶装置13に格納する。また、この演
算結果で回路パターンのショートが検出された場合、シ
ョートしている旨のデータをショート修正制御装置14
に供給する。
11で検出されたデータは制御/演算装置4に伝達さ
れ、指定された演算を施されて、その結果を表示部12
に表示し、外部記憶装置13に格納する。また、この演
算結果で回路パターンのショートが検出された場合、シ
ョートしている旨のデータをショート修正制御装置14
に供給する。
【0030】上記演算プログラムの指定や閾値の設定
は、制御スイッチ15で操作者が行う。演算プログラム
は外部記憶装置13に格納されるが、制御/演算装置4
に格納しておくこともできる。
は、制御スイッチ15で操作者が行う。演算プログラム
は外部記憶装置13に格納されるが、制御/演算装置4
に格納しておくこともできる。
【0031】図2は本実施例における抵抗検出のための
回路パターンとニードルの配置例の説明図である。回路
パターンを構成する電極パターン5は画面部電極パター
ン5aと端子部電極パターン5bとからなる。短絡電極
パターンである外周パターン6は端子部電極パターン5
bを介して画面部電極パターン5aと接続されている。
回路パターンとニードルの配置例の説明図である。回路
パターンを構成する電極パターン5は画面部電極パター
ン5aと端子部電極パターン5bとからなる。短絡電極
パターンである外周パターン6は端子部電極パターン5
bを介して画面部電極パターン5aと接続されている。
【0032】ニードル8とニードル9が第1のニードル
対を構成し、ニードル8とニードル7で第2のニードル
対を構成する。ニードル8とニードル9の間には第1の
定電流源16が接続され、ニードル8とニードル7には
第2の定電流源17が接続されている。そして、ニード
ル8とニードル9の間には第1の電圧計18が接続さ
れ、ニードル8とニードル7には第2の電圧計19が接
続されている。
対を構成し、ニードル8とニードル7で第2のニードル
対を構成する。ニードル8とニードル9の間には第1の
定電流源16が接続され、ニードル8とニードル7には
第2の定電流源17が接続されている。そして、ニード
ル8とニードル9の間には第1の電圧計18が接続さ
れ、ニードル8とニードル7には第2の電圧計19が接
続されている。
【0033】第1の定電流源16と第1の電圧計18の
データは図1の第1の抵抗検出器10に伝達され、第2
の定電流源17と第2の電圧計19のデータは図1の第
2の抵抗検出器11に伝達されてそれぞれの抵抗値が検
出される。この抵抗値に基づいて制御/演算装置4で所
定の演算が行われ、画面部データパターン5aのショー
トまたはオープンの判定とその位置の検出が行われる。
データは図1の第1の抵抗検出器10に伝達され、第2
の定電流源17と第2の電圧計19のデータは図1の第
2の抵抗検出器11に伝達されてそれぞれの抵抗値が検
出される。この抵抗値に基づいて制御/演算装置4で所
定の演算が行われ、画面部データパターン5aのショー
トまたはオープンの判定とその位置の検出が行われる。
【0034】図3は電極パターンにショートがあった場
合の等価回路図である。ショートのない正常時の画面部
電極パターン5aの抵抗値をRa 、端子部電極パターン
5bの抵抗値をRb 、ショート部の抵抗をRsa、ニード
ル7の接触点からショート位置までの配線長(パターン
長)をLc 、その抵抗値をra とする。また、ニードル
7の接触点からニードル9の接触点までの配線長をLと
する。
合の等価回路図である。ショートのない正常時の画面部
電極パターン5aの抵抗値をRa 、端子部電極パターン
5bの抵抗値をRb 、ショート部の抵抗をRsa、ニード
ル7の接触点からショート位置までの配線長(パターン
長)をLc 、その抵抗値をra とする。また、ニードル
7の接触点からニードル9の接触点までの配線長をLと
する。
【0035】図3に示したように、ショートが発生した
ときのニードル8とニードル9の接触点間の抵抗を
Ra ’(=Va ’/I)、ニードル7とニードル8の接
触点間の抵抗をRb ’(=Vb ’/I)とする。このと
き、次の式1、式2、式3が成立する。
ときのニードル8とニードル9の接触点間の抵抗を
Ra ’(=Va ’/I)、ニードル7とニードル8の接
触点間の抵抗をRb ’(=Vb ’/I)とする。このと
き、次の式1、式2、式3が成立する。
【0036】 Ra −Ra ’={ra (ra +2Rb )}/(Rsa+2ra +2Rb ) ・・・・・式1 2Rb −Rb ’={2Rb (ra +2Rb )}/(Rsa+2ra +2Rb ) ・・・・・式2 ra =Ra ×Lc/Lである。 ・・・・・式3 図4はショート発生個所の抵抗値の低下を示す電極パタ
ーンの位置に対する画面部電極パターン5aの抵抗値R
a と端子部電極パターン5bの抵抗値Rb の関係の説明
図である。横軸は基板上の電極パターンの本数でショー
ト発生位置を示す。
ーンの位置に対する画面部電極パターン5aの抵抗値R
a と端子部電極パターン5bの抵抗値Rb の関係の説明
図である。横軸は基板上の電極パターンの本数でショー
ト発生位置を示す。
【0037】通常、ショートが発生すると、図4に示し
たように、抵抗値が低下し、ショート発生部(図ではタ
ッチ!で示す)での画面部電極パターン5aの抵抗値R
a と端子部電極パターン5bの抵抗値Rb は共に低下
し、それぞれRa ’、Rb ’となる。ショートの有無は
正常な抵抗値Ra 、Rb を基準とした。
たように、抵抗値が低下し、ショート発生部(図ではタ
ッチ!で示す)での画面部電極パターン5aの抵抗値R
a と端子部電極パターン5bの抵抗値Rb は共に低下
し、それぞれRa ’、Rb ’となる。ショートの有無は
正常な抵抗値Ra 、Rb を基準とした。
【0038】この抵抗値Ra ’、Rb ’が閾値ΔRa 、
ΔRb より小さい場合にショートと判定する。この判定
はOR判定で、抵抗値Ra ’、Rb ’の何れか一方が閾
値ΔRa 、ΔRb より小さい時にショートと判定する。
この判定は、後述する演算手順により実行される。
ΔRb より小さい場合にショートと判定する。この判定
はOR判定で、抵抗値Ra ’、Rb ’の何れか一方が閾
値ΔRa 、ΔRb より小さい時にショートと判定する。
この判定は、後述する演算手順により実行される。
【0039】なお、閾値は操作者が設定し、正常な抵抗
値Ra 、Rb は全端子抵抗の平均値Ra-AVE 、Rb-AVE
を採用する(なお、本明細書で平均値をこのように記述
するのは、電子化における記号/符号の使用制限による
ものであり、図中では、平均値の表示を記号の上部に横
線を付した通常の表示としている)。つまり、式1と式
2は、下記の式3と式4のようになる。
値Ra 、Rb は全端子抵抗の平均値Ra-AVE 、Rb-AVE
を採用する(なお、本明細書で平均値をこのように記述
するのは、電子化における記号/符号の使用制限による
ものであり、図中では、平均値の表示を記号の上部に横
線を付した通常の表示としている)。つまり、式1と式
2は、下記の式3と式4のようになる。
【0040】 Ra-AVE −Ra ’={ra (ra +2Rb )}/(Rsa+2ra +2Rb ) ・・・・・式4 2Rb-AVE −Rb ’={2Rb (ra +2Rb )}/(Rsa+2ra +2Rb ) ・・・・・式5 ここで、注意しなければならないことは、ショートした
ときの検出感度がショートした電極パターンの位置で異
なることである。
ときの検出感度がショートした電極パターンの位置で異
なることである。
【0041】図5は電極パターンのショート位置での全
端子抵抗の平均値Ra-AVE −Ra ’とRb-AVE −Rb ’
の関係の説明図、また、図6は誤判定の説明図である。
図5において、閾値をΔRa2、ΔRb2に設定すると、R
a-AVE −Ra ’はP点から右側の領域しか検査されず、
P点から左側つまり端子部電極パターン側は未検査領域
となる。また、Rb-AVE −Rb ’はQ点から左側はつま
り端子部電極パターン側は検査されるが、右側つまり画
面部電極パターン側は未検査領域となる。
端子抵抗の平均値Ra-AVE −Ra ’とRb-AVE −Rb ’
の関係の説明図、また、図6は誤判定の説明図である。
図5において、閾値をΔRa2、ΔRb2に設定すると、R
a-AVE −Ra ’はP点から右側の領域しか検査されず、
P点から左側つまり端子部電極パターン側は未検査領域
となる。また、Rb-AVE −Rb ’はQ点から左側はつま
り端子部電極パターン側は検査されるが、右側つまり画
面部電極パターン側は未検査領域となる。
【0042】閾値をΔRa1、ΔRb1とすれば、未検査領
域の発生はないが、現実には図6に示したように基板
間、基板内で抵抗が変動し、良品をショートと誤判定す
る可能性がある。そのため、閾値ΔRa 、ΔRb には裕
度を持たせなくてはならない。図7は閾値の不適性によ
る未検査領域発生の説明図、図8は電極パターンのシー
ト抵抗による未検査領域発生の説明図である。図7に示
したように、閾値の設定が不適性であると、未検査領域
が発生してしまう。また、図8に示したように、電極パ
ターンのシート抵抗が小さい程、未検査領域が発生す
る。
域の発生はないが、現実には図6に示したように基板
間、基板内で抵抗が変動し、良品をショートと誤判定す
る可能性がある。そのため、閾値ΔRa 、ΔRb には裕
度を持たせなくてはならない。図7は閾値の不適性によ
る未検査領域発生の説明図、図8は電極パターンのシー
ト抵抗による未検査領域発生の説明図である。図7に示
したように、閾値の設定が不適性であると、未検査領域
が発生してしまう。また、図8に示したように、電極パ
ターンのシート抵抗が小さい程、未検査領域が発生す
る。
【0043】図9は電極パターンのシート抵抗の違いに
対するRa-AVE −Ra ’とRb-AVE−Rb ’をシュミレ
ーションした結果の説明図、図10と図11は基板内で
電極パターンの抵抗に変動している場合の未検査領域発
生の説明図、図12は基板内で電極パターンの抵抗が変
動している場合の未検査領域の発生状態をシュミレーシ
ョンした結果の説明図、図13はショート部の抵抗値が
大きい場合の未検査領域発生の説明図、14はショート
部の抵抗値が大きい場合の未検査領域発生をシュミレー
ションした結果の説明図である。
対するRa-AVE −Ra ’とRb-AVE−Rb ’をシュミレ
ーションした結果の説明図、図10と図11は基板内で
電極パターンの抵抗に変動している場合の未検査領域発
生の説明図、図12は基板内で電極パターンの抵抗が変
動している場合の未検査領域の発生状態をシュミレーシ
ョンした結果の説明図、図13はショート部の抵抗値が
大きい場合の未検査領域発生の説明図、14はショート
部の抵抗値が大きい場合の未検査領域発生をシュミレー
ションした結果の説明図である。
【0044】すなわち、電極パターンのシート抵抗が小
さく抵抗値が小さい程、未検査領域が発生し、基板内で
電極パターンの抵抗が変動した場合、図10では端子部
電極パターン側の抵抗値が大きく、画面部電極パターン
側(液晶封入穴側)に向かって抵抗が小さくなるような
抵抗傾斜を持っている場合、図11では端子部電極パタ
ーン側の抵抗値が小さく、画面部電極パターン側(液晶
封入穴側)に向かって抵抗が大きくなるような抵抗傾斜
を持っている場合、未検査領域が発生する。さらに、図
13、図14に示したように、ショート部の抵抗Rsaが
大きくても未検査領域が発生し易くなる。
さく抵抗値が小さい程、未検査領域が発生し、基板内で
電極パターンの抵抗が変動した場合、図10では端子部
電極パターン側の抵抗値が大きく、画面部電極パターン
側(液晶封入穴側)に向かって抵抗が小さくなるような
抵抗傾斜を持っている場合、図11では端子部電極パタ
ーン側の抵抗値が小さく、画面部電極パターン側(液晶
封入穴側)に向かって抵抗が大きくなるような抵抗傾斜
を持っている場合、未検査領域が発生する。さらに、図
13、図14に示したように、ショート部の抵抗Rsaが
大きくても未検査領域が発生し易くなる。
【0045】以上のような事実に鑑み、本発明は制御.
演算装置で演算した抵抗の平均値Ra-AVE とRb-AVE の
値に応じて閾値ΔRa とΔRb を指定した割合で変化さ
せることにより、上記したような未検査領域の発生を回
避したものである。
演算装置で演算した抵抗の平均値Ra-AVE とRb-AVE の
値に応じて閾値ΔRa とΔRb を指定した割合で変化さ
せることにより、上記したような未検査領域の発生を回
避したものである。
【0046】すなわち、図15は本発明の回路パターン
検査方法の1実施例を説明するショート発生個所の抵抗
値の低下を示す電極パターンの位置に対する画面部電極
パターン5aの抵抗値Ra と端子部電極パターン5bの
抵抗値Rb の関係の説明図である。図16は本発明の回
路パターン検査方法の1実施例を説明する電極パターン
のショート位置での全端子抵抗の平均値Ra-AVE −
Ra ’とRb-AVE −Rb ’の関係の説明図である。
検査方法の1実施例を説明するショート発生個所の抵抗
値の低下を示す電極パターンの位置に対する画面部電極
パターン5aの抵抗値Ra と端子部電極パターン5bの
抵抗値Rb の関係の説明図である。図16は本発明の回
路パターン検査方法の1実施例を説明する電極パターン
のショート位置での全端子抵抗の平均値Ra-AVE −
Ra ’とRb-AVE −Rb ’の関係の説明図である。
【0047】図15と図16に示したように、抵抗の平
均値Ra-AVE とRb-AVE の値に応じて閾値ΔRa とΔR
b を自動的にシフトする。これにより、未検査領域の発
生が解消される。
均値Ra-AVE とRb-AVE の値に応じて閾値ΔRa とΔR
b を自動的にシフトする。これにより、未検査領域の発
生が解消される。
【0048】なお、本実施例では、基板内、基板間での
抵抗値の変動や、その変動によって抵抗値が小さい場合
や、ショート部の抵抗値が高いと誤判定、未検査領域が
発生し易い。図17と図18は基板内や基板間での抵抗
値の変動とその変動によって抵抗値が小さい場合やショ
ート部の抵抗値が高いときの誤判定と未検査領域の発生
の説明図である。
抵抗値の変動や、その変動によって抵抗値が小さい場合
や、ショート部の抵抗値が高いと誤判定、未検査領域が
発生し易い。図17と図18は基板内や基板間での抵抗
値の変動とその変動によって抵抗値が小さい場合やショ
ート部の抵抗値が高いときの誤判定と未検査領域の発生
の説明図である。
【0049】このような誤判定や未検査領域の発生を回
避するために、本発明は基板上の電極パターンを2以上
のブロックに分割して測定する。
避するために、本発明は基板上の電極パターンを2以上
のブロックに分割して測定する。
【0050】図19は本発明による回路パターンの検査
方法を説明する電極パターンのブロック化の説明図、図
20は電極パターンのブロック化による検査結果の説明
図である。平均値Ra-AVE とRb-AVE は、ブロック内で
演算され、閾値ΔRa とΔRb もブロック内で、かつ指
定した割合で平均値Ra-AVE とRb-AVE に連動して変化
させる演算を行う。
方法を説明する電極パターンのブロック化の説明図、図
20は電極パターンのブロック化による検査結果の説明
図である。平均値Ra-AVE とRb-AVE は、ブロック内で
演算され、閾値ΔRa とΔRb もブロック内で、かつ指
定した割合で平均値Ra-AVE とRb-AVE に連動して変化
させる演算を行う。
【0051】このようにすることで、抵抗値Ra-AVE −
Ra ’とRb-AVE −Rb ’は必ず閾値より大きくなるた
め、全領域が検査可能となるり、未検査領域は発生しな
い。次に、本発明により、ショート位置の検出精度が向
上することについて説明する。
Ra ’とRb-AVE −Rb ’は必ず閾値より大きくなるた
め、全領域が検査可能となるり、未検査領域は発生しな
い。次に、本発明により、ショート位置の検出精度が向
上することについて説明する。
【0052】式4と式5とから、 ra =2Rb-AVE ×{(Va ’−Ra-AVE ・I)/(Vb ’ −2Rb-AVE ・I)} ・・・・・式6 式3と式6とから、 Lc=L×(2Rb-AVE /Ra-AVE )× {(Va ’−Ra-AVE ・I)/ (Vb ’−2Rb-AVE ・I)} ・・・・・式7 となる。
【0053】従来技術では、平均値Ra-AVE 、Rb-AVE
が不適性であったため、例えば平均抵抗値の誤差が1%
ならばショート位置は3%ばらついてしまい、ショート
修正のための位置探索に時間がかかった。
が不適性であったため、例えば平均抵抗値の誤差が1%
ならばショート位置は3%ばらついてしまい、ショート
修正のための位置探索に時間がかかった。
【0054】本実施例では、ブロック別に平均抵抗を求
めているため、必然的に平均抵抗値の誤差は小さく、シ
ョート位置Lcの演算結果も実際のショート位置に極め
て近づくことになる。
めているため、必然的に平均抵抗値の誤差は小さく、シ
ョート位置Lcの演算結果も実際のショート位置に極め
て近づくことになる。
【0055】電極パターンの抵抗値が大きいと、液晶を
駆動する印加電圧が低下し、透過率が低下する。また、
画面内で抵抗値がばらつくと、印加電圧もばらつき、画
面内で透過率がばらつき、画質が低下する。
駆動する印加電圧が低下し、透過率が低下する。また、
画面内で抵抗値がばらつくと、印加電圧もばらつき、画
面内で透過率がばらつき、画質が低下する。
【0056】本実施例によれば、抵抗値大や基板内抵抗
値分布の変動によって液晶表示パネルの画質が低下する
ことを防ぐため、画面部電極パターン5aの正常時の抵
抗値Raの上限値Ramax 、端子部電極パターン5bの
抵抗値をRbの上限値Rbmax 、および下限値R
amin 、Rbmin と、(Ramax −Ramin )/R
a-AVE 、(Rbmax −Rbmin )/Rb-AVE を演算す
る。これにより、抵抗値大や基板内抵抗値分布の変動に
よって液晶表示パネルの画質低下が防止できる。
値分布の変動によって液晶表示パネルの画質が低下する
ことを防ぐため、画面部電極パターン5aの正常時の抵
抗値Raの上限値Ramax 、端子部電極パターン5bの
抵抗値をRbの上限値Rbmax 、および下限値R
amin 、Rbmin と、(Ramax −Ramin )/R
a-AVE 、(Rbmax −Rbmin )/Rb-AVE を演算す
る。これにより、抵抗値大や基板内抵抗値分布の変動に
よって液晶表示パネルの画質低下が防止できる。
【0057】図21は端子部電極パターンにショートが
ある場合の本発明による検査方法の説明図である。ま
た、図22は従来技術による検査で発生する未検査領域
の説明図である。
ある場合の本発明による検査方法の説明図である。ま
た、図22は従来技術による検査で発生する未検査領域
の説明図である。
【0058】従来は、図22に示したように、端子部電
極パターン側に未検査領域が発生する。図22は下記の
式8を表したものである。
極パターン側に未検査領域が発生する。図22は下記の
式8を表したものである。
【0059】 2Rb-AVE −Rb”=4rb 2 /(2rb +Rsb)・・・式8 Rb-AVE は平均抵抗値、Rb”はショートしたときの抵
抗値、Rb は外周パターンからショート位置までの抵抗
値、Rsbはショート部の抵抗値である。
抗値、Rb は外周パターンからショート位置までの抵抗
値、Rsbはショート部の抵抗値である。
【0060】本実施例では、端子部電極パターンも前記
した画面部電極パターンと同様に、少なくとも2ブロッ
ク以上に分割して測定する。これにより、Rb-AVE −R
b”は閾値ΔRbより必ず大きくなるため、全領域の検
査が可能となり、未検査領域は発生しない。
した画面部電極パターンと同様に、少なくとも2ブロッ
ク以上に分割して測定する。これにより、Rb-AVE −R
b”は閾値ΔRbより必ず大きくなるため、全領域の検
査が可能となり、未検査領域は発生しない。
【0061】図23および図24は本発明による回路パ
ターンのオープン検査方法の説明図である。図23で
は、画面部電極パターン5aに断線(オープン)がある
場合で、図1の制御/演算装置4にRa’≒∞、Rb’
≒∞なる抵抗値データが伝達されるため、オープンが容
易に判定できる。
ターンのオープン検査方法の説明図である。図23で
は、画面部電極パターン5aに断線(オープン)がある
場合で、図1の制御/演算装置4にRa’≒∞、Rb’
≒∞なる抵抗値データが伝達されるため、オープンが容
易に判定できる。
【0062】また、図24では、端子部電極パターン5
bに断線(オープン)がある場合で、図23と同様に図
1の制御/演算装置4にRa’≒∞、Rb’≒∞なる抵
抗値データが伝達されるため、オープンが容易に判定で
きる。
bに断線(オープン)がある場合で、図23と同様に図
1の制御/演算装置4にRa’≒∞、Rb’≒∞なる抵
抗値データが伝達されるため、オープンが容易に判定で
きる。
【0063】ただし、高抵抗による画質の劣化を防止す
るため、適性な閾値を設定することが望ましい。
るため、適性な閾値を設定することが望ましい。
【0064】また、従来の技術では、画面部電極パター
ンの抵抗と端子部電極パターンの抵抗の割合が考慮され
ておらず、画面部電極パターンの抵抗に対する端子部電
極パターンの抵抗の割合が小さいと、ショート検査で未
検査領域が発生するという問題があった。
ンの抵抗と端子部電極パターンの抵抗の割合が考慮され
ておらず、画面部電極パターンの抵抗に対する端子部電
極パターンの抵抗の割合が小さいと、ショート検査で未
検査領域が発生するという問題があった。
【0065】図25は画面部電極パターンにショートが
発生したときの等価回路である。画面部電極パターン5
aにショート(図では、タッチ!で示す)が発生したと
きの画面部電極パターン5aの抵抗をRa’、端子部電
極パターンの抵抗をRb’とする。全端子の画面部抵抗
の平均値をRa-AVE、端子部電極パターンの平均値をR
b-AVEとし、ショート判定の閾値をΔRとする。なお、
図25では、平均値の表示を通常の表示形態、すなわ
ち、記号の上部に横線を付して示してある。
発生したときの等価回路である。画面部電極パターン5
aにショート(図では、タッチ!で示す)が発生したと
きの画面部電極パターン5aの抵抗をRa’、端子部電
極パターンの抵抗をRb’とする。全端子の画面部抵抗
の平均値をRa-AVE、端子部電極パターンの平均値をR
b-AVEとし、ショート判定の閾値をΔRとする。なお、
図25では、平均値の表示を通常の表示形態、すなわ
ち、記号の上部に横線を付して示してある。
【0066】図26は図25に示したショート位置(タ
ッチ位置)Lc(mm)と(Ra-AVE−Ra’)、(R
b-AVE−Rb’)の関係を示す説明図である。画面部電
極パターンの抵抗と端子部電極パターンの抵抗の割合
(Rb/Ra)が10%のときは画面部電極パターンの
抵抗Ra’と端子部電極パターンの抵抗Rb’の何れか
が閾値ΔRの線より上にくるため、全領域の検査が可能
である。
ッチ位置)Lc(mm)と(Ra-AVE−Ra’)、(R
b-AVE−Rb’)の関係を示す説明図である。画面部電
極パターンの抵抗と端子部電極パターンの抵抗の割合
(Rb/Ra)が10%のときは画面部電極パターンの
抵抗Ra’と端子部電極パターンの抵抗Rb’の何れか
が閾値ΔRの線より上にくるため、全領域の検査が可能
である。
【0067】しかし、(Rb/Ra)が3%になると、
閾値ΔRの線より下にくる領域があり、そこが未検査領
域となる。つまり、画面部電極パターンの抵抗と端子部
電極パターンの抵抗の割合(Rb/Ra)を、閾値ΔR
の線および(Ra-AVE−Ra’)と(Rb-AVE−R
b’)の2つの線がクロスする6%以上とすることによ
り、未検査領域の発生を防止できる。
閾値ΔRの線より下にくる領域があり、そこが未検査領
域となる。つまり、画面部電極パターンの抵抗と端子部
電極パターンの抵抗の割合(Rb/Ra)を、閾値ΔR
の線および(Ra-AVE−Ra’)と(Rb-AVE−R
b’)の2つの線がクロスする6%以上とすることによ
り、未検査領域の発生を防止できる。
【0068】画面部電極パターンの抵抗と端子部電極パ
ターンの抵抗の割合(Rb/Ra)は、外周の短絡電極
パターン6を細くしたり、あるいはその引回し配線を細
くすることで大きくすることが可能である。
ターンの抵抗の割合(Rb/Ra)は、外周の短絡電極
パターン6を細くしたり、あるいはその引回し配線を細
くすることで大きくすることが可能である。
【0069】次に、本発明において実行される演算手順
について説明する。
について説明する。
【0070】図27と図28は本発明による回路パター
ンの検査方法を実行する演算手順を説明するフローチャ
ートである。
ンの検査方法を実行する演算手順を説明するフローチャ
ートである。
【0071】検査の開始に先立ち、まず、初期閾値ΔR
を設定する(ステップ−1:以下S−1のように記
す)。次に、基板の画面内を分割する分割数rを設定す
る(S−2)。ここで、n=N/r=整数とする。な
お、Nは全電極パターン数、nは画面内電極パターン数
である。
を設定する(ステップ−1:以下S−1のように記
す)。次に、基板の画面内を分割する分割数rを設定す
る(S−2)。ここで、n=N/r=整数とする。な
お、Nは全電極パターン数、nは画面内電極パターン数
である。
【0072】分割した電極パターンの各ブロック1〜r
について、図1に示した構成により抵抗値R11, R12,
・・・・R1n、R21, R22, ・・・・R2n、・・R21,
・・・・R2n、・・・Rr1, Rr2, ・・・・Rrnを測定
する(S−3)。
について、図1に示した構成により抵抗値R11, R12,
・・・・R1n、R21, R22, ・・・・R2n、・・R21,
・・・・R2n、・・・Rr1, Rr2, ・・・・Rrnを測定
する(S−3)。
【0073】次に、分割したブロック1の平均抵抗値R
1-AVE =(R11+・・・+R1n)/nを演算し(S−
4)、閾値ΔR1 を演算する(S−5)。
1-AVE =(R11+・・・+R1n)/nを演算し(S−
4)、閾値ΔR1 を演算する(S−5)。
【0074】演算結果に基づき、R1-AVE −R1nの絶対
値と閾値ΔR1 を比較し(S−6)、(R1-AVE −R1n
の絶対値)<閾値ΔR1 ならショートはなく、検査はO
Kとなり、(R1-AVE −R1nの絶対値)≧閾値ΔR1 の
場合はショートしていると判定し、次の検査基板の検査
に移る(NEXT)。
値と閾値ΔR1 を比較し(S−6)、(R1-AVE −R1n
の絶対値)<閾値ΔR1 ならショートはなく、検査はO
Kとなり、(R1-AVE −R1nの絶対値)≧閾値ΔR1 の
場合はショートしていると判定し、次の検査基板の検査
に移る(NEXT)。
【0075】検査がOKであれば、分割したブロック2
の平均抵抗値R2-AVE =(R21+・・・+R2n)/nを
演算し(S−7)、閾値ΔR2 を演算する(S−8)。
の平均抵抗値R2-AVE =(R21+・・・+R2n)/nを
演算し(S−7)、閾値ΔR2 を演算する(S−8)。
【0076】演算結果に基づき、R2-AVE −R2nの絶対
値と閾値ΔR2 を比較し(S−9)、(R2-AVE −R2n
の絶対値)<閾値ΔR2 ならショートはなく、検査はO
Kとなり、(R2-AVE −R2nの絶対値)≧閾値ΔR2 の
場合はショートしていると判定し、次の検査基板の検査
に移る(NEXT)。
値と閾値ΔR2 を比較し(S−9)、(R2-AVE −R2n
の絶対値)<閾値ΔR2 ならショートはなく、検査はO
Kとなり、(R2-AVE −R2nの絶対値)≧閾値ΔR2 の
場合はショートしていると判定し、次の検査基板の検査
に移る(NEXT)。
【0077】以下、順にブロック3〜r−1について同
様の検査を行い、最終のブロックrの平均抵抗値R
r-AVE =(Rr1+・・・+Rrn)/nを演算し(S−1
0)、閾値ΔRr を演算する(S−11)。
様の検査を行い、最終のブロックrの平均抵抗値R
r-AVE =(Rr1+・・・+Rrn)/nを演算し(S−1
0)、閾値ΔRr を演算する(S−11)。
【0078】演算結果に基づき、Rr-AVE −Rrnの絶対
値と閾値ΔRr を比較し(S−12)、(Rr-AVE −R
rnの絶対値)<閾値ΔRr ならショートはなく、検査は
OKとなり、この基板の回路パターンにショートはな
く、最終的に合格品と判定される。
値と閾値ΔRr を比較し(S−12)、(Rr-AVE −R
rnの絶対値)<閾値ΔRr ならショートはなく、検査は
OKとなり、この基板の回路パターンにショートはな
く、最終的に合格品と判定される。
【0079】(Rr-AVE −Rrnの絶対値)≧閾値ΔRr
の場合はショートしていると判定し、次の検査基板の検
査に移る。
の場合はショートしていると判定し、次の検査基板の検
査に移る。
【0080】なお、上記でNGとなった基板は、ショー
ト修正に回す。
ト修正に回す。
【0081】図29は対比のために説明する従来技術に
おける回路パターンの検査方法を実行する演算手順を説
明するフローチャートである。
おける回路パターンの検査方法を実行する演算手順を説
明するフローチャートである。
【0082】図29において、検査の開始に先立って、
閾値ΔRを設定する(S−31)。次に、図1に示した
構成と同様の構成を用いて各電極パターンの抵抗値R1,
R2,・・・・・RN の測定を行う(S−32)。そし
て、その平均抵抗値RAVE =(R1 +R2 +・・・+R
N )/Nを演算する(S−33)。
閾値ΔRを設定する(S−31)。次に、図1に示した
構成と同様の構成を用いて各電極パターンの抵抗値R1,
R2,・・・・・RN の測定を行う(S−32)。そし
て、その平均抵抗値RAVE =(R1 +R2 +・・・+R
N )/Nを演算する(S−33)。
【0083】この演算結果について、S−31で設定し
た閾値ΔRとの比較を行い(S−34)、RAVE −RN
の絶対値が閾値ΔRより小さい場合((RAVE −RN の
絶対値)<ΔR)は合格とし、((RAVE −RN の絶対
値)≧ΔR)の場合はショートがあるものとしてショー
ト修正に回す。
た閾値ΔRとの比較を行い(S−34)、RAVE −RN
の絶対値が閾値ΔRより小さい場合((RAVE −RN の
絶対値)<ΔR)は合格とし、((RAVE −RN の絶対
値)≧ΔR)の場合はショートがあるものとしてショー
ト修正に回す。
【0084】なお、オープン検査も抵抗値の比較判定ス
テップを変えることで同様の手順で実行できる。
テップを変えることで同様の手順で実行できる。
【0085】この従来技術では、前記したような未検査
領域が発生するが、上記の本実施例によれば、このよう
な未検査領域は無くなり、液晶表示パネル等の電極を構
成する回路パターンのショートあるいはオープン検査に
おいて、未検査領域や誤判定を無くし、かつショートま
たオープン位置を高精度で検出できるようにした回路パ
ターンの検査装置とその検査方法を提供することができ
る。
領域が発生するが、上記の本実施例によれば、このよう
な未検査領域は無くなり、液晶表示パネル等の電極を構
成する回路パターンのショートあるいはオープン検査に
おいて、未検査領域や誤判定を無くし、かつショートま
たオープン位置を高精度で検出できるようにした回路パ
ターンの検査装置とその検査方法を提供することができ
る。
【0086】なお、本発明は液晶表示パネルの回路パタ
ーンに限るものではなく、他の同様の微細電極パターン
のショートあるいはオープン検査に適用できる。
ーンに限るものではなく、他の同様の微細電極パターン
のショートあるいはオープン検査に適用できる。
【0087】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板内、あるいは基板間の抵抗変動やショート部の抵抗
値が大きくても、全領域の電極パターンのショートある
いはオープンを検査することができ、未検査領域が発生
することはない。
基板内、あるいは基板間の抵抗変動やショート部の抵抗
値が大きくても、全領域の電極パターンのショートある
いはオープンを検査することができ、未検査領域が発生
することはない。
【0088】そのため、不良品を後段の工程に流した
り、良品を不合格と判定する誤判定が起こらない。
り、良品を不合格と判定する誤判定が起こらない。
【0089】また、ショート位置の検出精度が向上する
ため、レーザ等による修正作業における位置探索に時間
を要せず、作業性が向上する。
ため、レーザ等による修正作業における位置探索に時間
を要せず、作業性が向上する。
【0090】さらに、画質に影響を与える抵抗の上限値
や変動値の検査を組み込んだことによって、後段工程で
の歩留りの向上を図ることができる。
や変動値の検査を組み込んだことによって、後段工程で
の歩留りの向上を図ることができる。
【図1】本発明の1実施例の構成を説明する回路パター
ンの検査装置の概略ブロック図である。
ンの検査装置の概略ブロック図である。
【図2】本発明の実施例における抵抗検出のための回路
パターンとニードルの配置例の説明図である。
パターンとニードルの配置例の説明図である。
【図3】電極パターンにショートがあった場合の等価回
路図である。
路図である。
【図4】ショート発生個所の抵抗値の低下を示す電極パ
ターンの位置に対する画面部電極パターンの抵抗値と端
子部電極パターンの抵抗値の関係の説明図である。
ターンの位置に対する画面部電極パターンの抵抗値と端
子部電極パターンの抵抗値の関係の説明図である。
【図5】電極パターンのショート位置での全端子抵抗の
平均値との関係の説明図である。
平均値との関係の説明図である。
【図6】誤判定の説明図である。
【図7】閾値の不適性による未検査領域発生の説明図で
ある。
ある。
【図8】電極パターンのシート抵抗による未検査領域発
生の説明図である。
生の説明図である。
【図9】電極パターンのシート抵抗の違いに対するR
a-AVE −Ra ’とRb-AVE −Rb’をシュミレーション
した結果の説明図である。
a-AVE −Ra ’とRb-AVE −Rb’をシュミレーション
した結果の説明図である。
【図10】基板内で電極パターンの抵抗が変動している
場合の未検査領域発生の説明図である。
場合の未検査領域発生の説明図である。
【図11】基板内で電極パターンの抵抗が変動している
場合の未検査領域発生の説明図である。
場合の未検査領域発生の説明図である。
【図12】基板内で電極パターンの抵抗が変動している
場合の未検査領域の発生状態をシュミレーションした結
果の説明図である。
場合の未検査領域の発生状態をシュミレーションした結
果の説明図である。
【図13】ショート部の抵抗値が大きい場合の未検査領
域発生の説明図である。
域発生の説明図である。
【図14】ショート部の抵抗値が大きい場合の未検査領
域発生をシュミレーションした結果の説明図である。
域発生をシュミレーションした結果の説明図である。
【図15】本発明の回路パターン検査方法の1実施例を
説明するショート発生個所の抵抗値の低下を示す電極パ
ターンの位置に対する画面部電極パターンの抵抗値と端
子部電極パターンの抵抗値の関係の説明図である。
説明するショート発生個所の抵抗値の低下を示す電極パ
ターンの位置に対する画面部電極パターンの抵抗値と端
子部電極パターンの抵抗値の関係の説明図である。
【図16】本発明の回路パターン検査方法の1実施例を
説明する電極パターンのショート位置での全端子抵抗の
平均値Ra-AVE −Ra ’とRb-AVE −Rb ’の関係の説
明図である。
説明する電極パターンのショート位置での全端子抵抗の
平均値Ra-AVE −Ra ’とRb-AVE −Rb ’の関係の説
明図である。
【図17】基板内や基板間での抵抗値の変動とその変動
によって抵抗値が小さい場合やショート部の抵抗値が高
いときの誤判定と未検査領域の発生の説明図である。
によって抵抗値が小さい場合やショート部の抵抗値が高
いときの誤判定と未検査領域の発生の説明図である。
【図18】基板内や基板間での抵抗値の変動とその変動
によって抵抗値が小さい場合やショート部の抵抗値が高
いときの誤判定と未検査領域の発生の説明図である。
によって抵抗値が小さい場合やショート部の抵抗値が高
いときの誤判定と未検査領域の発生の説明図である。
【図19】本発明による回路パターンの検査方法を説明
する電極パターンのブロック化の説明図である。
する電極パターンのブロック化の説明図である。
【図20】電極パターンのブロック化による検査結果の
説明図である。
説明図である。
【図21】端子部電極パターンにショートがある場合の
本発明による検査方法の説明図である。
本発明による検査方法の説明図である。
【図22】従来技術による検査で発生する未検査領域の
説明図である。
説明図である。
【図23】本発明による回路パターンのオープン検査方
法の説明図である。
法の説明図である。
【図24】本発明による回路パターンのオープン検査方
法の説明図である。
法の説明図である。
【図25】画面部電極パターンにショートが発生したと
きの等価回路である。
きの等価回路である。
【図26】図25に示したショート位置(タッチ位置)
Lc(mm)と(Ra-AVE−Ra’)、(Rb-AVE−R
b’)の関係を示す説明図である。
Lc(mm)と(Ra-AVE−Ra’)、(Rb-AVE−R
b’)の関係を示す説明図である。
【図27】本発明による回路パターンの検査方法を実行
する演算手順を説明するフローチャートである。
する演算手順を説明するフローチャートである。
【図28】本発明による回路パターンの検査方法を実行
する演算手順を説明する図25に続くフローチャートで
ある。
する演算手順を説明する図25に続くフローチャートで
ある。
【図29】対比のために説明する従来技術における回路
パターンの検査方法を実行する演算手順を説明するフロ
ーチャートである。
パターンの検査方法を実行する演算手順を説明するフロ
ーチャートである。
1 基板 2 ステージ 3 ステージ駆動系 4 制御/演算装置 5 画面部電極パターン 5a 画面部電極パターン 5b 端子部電極パターン 6 外周パターン(短絡電極パターン) 7,8,9 ニードル 10 第1の抵抗検出器 11 第2の抵抗検出器 12 表示部 13 外部記憶装置 14 ショート修正制御装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松田 茂樹 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内
Claims (4)
- 【請求項1】絶縁基板上に形成された同一又は異なる電
極パターンを構成し、前記電極パターンの端部を前記絶
縁基板の外周で共通に接続する短絡電極パターンを有す
る回路パターンのショートまたはオープンを検査するた
めの回路パターンの検査装置において、 前記短絡電極パターンの内側の任意の2箇所に接触可能
な一対の第1接触手段と、前記第1接触手段に接続する
第1定電流源と、前記第1接触手段に接続する第1電圧
計と、前記第1接触手段が接触する電極パターン間の抵
抗値を検出する第1抵抗検出手段と 前記短絡電極パターンの内側の任意の2箇所に接触可能
な一対の第2接触手段と、前記第2接触手段に接続する
第2定電流源と、前記第2接触手段に接続する第2電圧
計と、前記第1と第2接触手段が接触する電極パターン
間の抵抗値を検出する第2抵抗検出手段と、 前記第1と第2抵抗検出手段で検出された各抵抗値につ
いて所定の演算式に基づいて演算する制御/演算手段と
を有し、 前記制御/演算手段が、前記第1と第2抵抗検出手段で
検出した各抵抗値および平均抵抗値の差からショートま
たはオープンを判定するための閾値を、前記各抵抗値の
絶対値に応じて任意の割合で変動させて前記演算を実行
する演算機能を具備したことを特徴とする回路パターン
の検査装置。 - 【請求項2】前記制御/演算手段が、前記第1と第2抵
抗検出手段で検出した前記電極パターンの複数位置の抵
抗値に基づいてショート位置とオープン位置を検知する
演算機能を具備したことを特徴とする請求項1に記載の
回路パターンの検査装置。 - 【請求項3】絶縁基板上に形成された同一又は異なる電
極パターンと、この電極パターンの端部を前記絶縁基板
の外周で共通に接続する短絡電極パターンを有する回路
パターンのショートまたはオープンを検査するための回
路パターンの検査方法において、 前記電極パターンの内側の任意の2箇所の間の抵抗値を
検出し、 前記短絡電極パターンと前記電極パターンと隣接する電
極パターンの間の抵抗値を検出し、 検出した前記各抵抗値の平均抵抗値の差からショートま
たはオープンを判定するための閾値を演算し、 演算して得た前記閾値に基づいて、前記電極パターンの
ショートまたはオープンの有無とその位置を検出するこ
とを特徴とする回路パターンの検査方法。 - 【請求項4】前記画面部電極パターンの抵抗値に対する
端子部電極パターンの抵抗値の割合いを6%以上とした
ことを特徴とする請求項1に記載の回路パターンの検査
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10159380A JPH11352173A (ja) | 1998-06-08 | 1998-06-08 | 回路パターンの検査装置とその検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10159380A JPH11352173A (ja) | 1998-06-08 | 1998-06-08 | 回路パターンの検査装置とその検査方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11352173A true JPH11352173A (ja) | 1999-12-24 |
Family
ID=15692555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10159380A Pending JPH11352173A (ja) | 1998-06-08 | 1998-06-08 | 回路パターンの検査装置とその検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11352173A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106548737A (zh) * | 2016-12-09 | 2017-03-29 | 曾周 | 一种防止lcd产品缺段和短路的检测方法 |
-
1998
- 1998-06-08 JP JP10159380A patent/JPH11352173A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106548737A (zh) * | 2016-12-09 | 2017-03-29 | 曾周 | 一种防止lcd产品缺段和短路的检测方法 |
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