JPH11349558A - １，４−ビス（有機スルホニルオキシ）−２，３−ブタンジオールの製造方法 - Google Patents
１，４−ビス（有機スルホニルオキシ）−２，３−ブタンジオールの製造方法Info
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- JPH11349558A JPH11349558A JP10161947A JP16194798A JPH11349558A JP H11349558 A JPH11349558 A JP H11349558A JP 10161947 A JP10161947 A JP 10161947A JP 16194798 A JP16194798 A JP 16194798A JP H11349558 A JPH11349558 A JP H11349558A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 １級水酸基選択性の高い有機スルホニルオキ
シ化反応を提供する。 【解決手段】 下記式（１） 【化１】 で表される1,2,3,4-ブタンテトラオールを、溶媒中、ス
ルホニル化剤で処理して１級水酸基のみをスルホニル化
させる反応において、炭素数７以上の塩基を共存させる
ことを特徴とする下記一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒは置換基を有していてもよい炭化水素基を示
す。）で表される1,4-ビス（有機スルホニルオキシ）-
2,3−ブタンジオールの製造方法。
シ化反応を提供する。 【解決手段】 下記式（１） 【化１】 で表される1,2,3,4-ブタンテトラオールを、溶媒中、ス
ルホニル化剤で処理して１級水酸基のみをスルホニル化
させる反応において、炭素数７以上の塩基を共存させる
ことを特徴とする下記一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒは置換基を有していてもよい炭化水素基を示
す。）で表される1,4-ビス（有機スルホニルオキシ）-
2,3−ブタンジオールの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、1,4-ビス（有機ス
ルホニルオキシ）-2,3−ブタンジオールの製造に関する
ものである。この化合物は、医薬、農薬などの合成原料
として有用である。例えば、下記式
ルホニルオキシ）-2,3−ブタンジオールの製造に関する
ものである。この化合物は、医薬、農薬などの合成原料
として有用である。例えば、下記式
【０００２】
【化７】
【０００３】で表される1,4-ジ−Ｏ−メタンスルホニル
-D−スレイトールは、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６２
巻、８５４６頁、１９９７年」、「ＵＳ５７０５６４
７」に記載されている式（７）
-D−スレイトールは、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６２
巻、８５４６頁、１９９７年」、「ＵＳ５７０５６４
７」に記載されている式（７）
【０００４】
【化８】
【０００５】で表されるエイズ薬の製造中間体として有
用であることが知られている。
用であることが知られている。
【０００６】
【従来の技術】複数の水酸基を分子中に同時に有する化
合物において、１級水酸基を選択的にメタンスルホニル
化する例は幾つも報告されており、通常、ピリジン中、
１級水酸基と等モルあるいは小過剰量のメタンスルホニ
ル化剤と反応させる。この方法では、収率も７０％以上
と高い。具体的には、「Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，３５
巻、２２号、４２０５頁、１９９２年」には、式（８）
合物において、１級水酸基を選択的にメタンスルホニル
化する例は幾つも報告されており、通常、ピリジン中、
１級水酸基と等モルあるいは小過剰量のメタンスルホニ
ル化剤と反応させる。この方法では、収率も７０％以上
と高い。具体的には、「Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，３５
巻、２２号、４２０５頁、１９９２年」には、式（８）
【０００７】
【化９】
【０００８】で表される反応が、「Ｔｅｔｒａｈｅｇｒ
ｏｎ Ｌｅｔｔ．，２７巻、２７号、３２０５頁、１９
８６年」には、式（９）
ｏｎ Ｌｅｔｔ．，２７巻、２７号、３２０５頁、１９
８６年」には、式（９）
【０００９】
【化１０】
【００１０】で表される反応が報告されており、いずれ
も高い収率で１級水酸基のみがメタンスルホニル化され
た化合物が得られている。
も高い収率で１級水酸基のみがメタンスルホニル化され
た化合物が得られている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記Ｕ
Ｓ５７０５６４７号明細書に記載の中間体を製造するべ
く、D-スレイトールに該反応を適用すると、下記式（１
０）
Ｓ５７０５６４７号明細書に記載の中間体を製造するべ
く、D-スレイトールに該反応を適用すると、下記式（１
０）
【００１２】
【化１１】
【００１３】で表されるように、目的物の収率は６２％
と低いものであることが判明した。さらに、本発明者ら
がこの反応の詳細について検討した結果、トリメタンス
ルホニル化体が１４％、モノメタンスルホニル化体が２
２％の収率で生成しており、１級および２級水酸基の選
択性が高くなく、メタンスルホニル化剤の量比の増減も
検討したが、メタンスルホニル化剤の量比削減ではモノ
メタンスルホニル化体の比が増加し、一方、量比増加で
はトリメタンスルホニル化体の比が増加するため、収率
の改善はできなかった。このように、上記方法は、1,2,
3,4-ブタンテトラオールから高収率で1,4-ビス（メタン
スルホニルオキシ）-2,3−ブタンジオールを得る方法と
しては実用的ではない。本発明は、1,4-ビス（有機スル
ホニルオキシ）-2,3−ブタンジオールを簡便にかつ高収
率で製造する方法を提供することを目的とする。
と低いものであることが判明した。さらに、本発明者ら
がこの反応の詳細について検討した結果、トリメタンス
ルホニル化体が１４％、モノメタンスルホニル化体が２
２％の収率で生成しており、１級および２級水酸基の選
択性が高くなく、メタンスルホニル化剤の量比の増減も
検討したが、メタンスルホニル化剤の量比削減ではモノ
メタンスルホニル化体の比が増加し、一方、量比増加で
はトリメタンスルホニル化体の比が増加するため、収率
の改善はできなかった。このように、上記方法は、1,2,
3,4-ブタンテトラオールから高収率で1,4-ビス（メタン
スルホニルオキシ）-2,3−ブタンジオールを得る方法と
しては実用的ではない。本発明は、1,4-ビス（有機スル
ホニルオキシ）-2,3−ブタンジオールを簡便にかつ高収
率で製造する方法を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
を解決するため、1,2,3,4-ブタンテトラオールのスルホ
ニル化反応に際して使用する塩基の種類と選択性につい
て詳細に検討した結果、ある特定の塩基を使用する場
合、１級水酸基が非常に高い選択性でスルホニル化され
ることを見い出し、本発明を完成させるに至った。すな
わち、本発明の要旨は、下記式（１）
を解決するため、1,2,3,4-ブタンテトラオールのスルホ
ニル化反応に際して使用する塩基の種類と選択性につい
て詳細に検討した結果、ある特定の塩基を使用する場
合、１級水酸基が非常に高い選択性でスルホニル化され
ることを見い出し、本発明を完成させるに至った。すな
わち、本発明の要旨は、下記式（１）
【００１５】
【化１２】
【００１６】で表される1,2,3,4-ブタンテトラオール
を、溶媒中、スルホニル化剤で処理して１級水酸基のみ
をスルホニル化させる反応において、炭素数７以上の塩
基を共存させることを特徴とする下記一般式（２）
を、溶媒中、スルホニル化剤で処理して１級水酸基のみ
をスルホニル化させる反応において、炭素数７以上の塩
基を共存させることを特徴とする下記一般式（２）
【００１７】
【化１３】
【００１８】（式中、Ｒは置換基を有していてもよい炭
化水素基を示す。）で表される1,4-ビス（有機スルホニ
ルオキシ）-2,3−ブタンジオールの製造方法に存する。
化水素基を示す。）で表される1,4-ビス（有機スルホニ
ルオキシ）-2,3−ブタンジオールの製造方法に存する。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の製造方法は、1,2,3,4-ブタンテトラオールとス
ルホニル化剤を溶媒および特定構造の塩基の存在下、反
応を行うものである。
本発明の製造方法は、1,2,3,4-ブタンテトラオールとス
ルホニル化剤を溶媒および特定構造の塩基の存在下、反
応を行うものである。
【００２０】（原料）本発明に使用される1,2,3,4-ブタ
ンテトラオールは、化合物名としては、スレイトール、
エリスリトールである。これらは、特に立体構造を制限
するものではなく、それぞれ単体でも、両者の混合物で
もかまわない。また、スレイトールについては、Ｄ体あ
るいはＬ体の光学活性体を単体もしくは任意の比で混合
して使用してもよい。
ンテトラオールは、化合物名としては、スレイトール、
エリスリトールである。これらは、特に立体構造を制限
するものではなく、それぞれ単体でも、両者の混合物で
もかまわない。また、スレイトールについては、Ｄ体あ
るいはＬ体の光学活性体を単体もしくは任意の比で混合
して使用してもよい。
【００２１】（塩基種）本発明において、塩基は炭素数
７以上、好ましくは８以上のものが使用される。具体例
としては、ジ-n−ブチルアミン、ジ-tert-ブチルアミ
ン、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン等の鎖状または環
状の２級アミン、あるいは、トリ-n−プロピルアミン、
トリ-n−ブチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミ
ン、N,N-ジシクロヘキシルエチルアミン、ジメチルフェ
ニルアミン、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデセン
（ＤＢＵ）等の鎖状または環状の３級アミンが挙げられ
る。中でも、下記一般式（３）
７以上、好ましくは８以上のものが使用される。具体例
としては、ジ-n−ブチルアミン、ジ-tert-ブチルアミ
ン、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン等の鎖状または環
状の２級アミン、あるいは、トリ-n−プロピルアミン、
トリ-n−ブチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミ
ン、N,N-ジシクロヘキシルエチルアミン、ジメチルフェ
ニルアミン、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデセン
（ＤＢＵ）等の鎖状または環状の３級アミンが挙げられ
る。中でも、下記一般式（３）
【００２２】
【化１４】
【００２３】（式中、Ｒ1 およびＲ2 は、それぞれ独立
して、窒素原子に結合している炭素上が分枝構造を有し
ているアルキル基（置換基を有していても良い）を示
す。但し、Ｒ1 およびＲ2 は任意に結合していてもよ
い。Ｒ3 は水素原子または窒素に結合している炭素上に
分枝構造を有しないアルキル基（置換基を有していても
良い）を示す。））で表されるアミンが好ましい。
して、窒素原子に結合している炭素上が分枝構造を有し
ているアルキル基（置換基を有していても良い）を示
す。但し、Ｒ1 およびＲ2 は任意に結合していてもよ
い。Ｒ3 は水素原子または窒素に結合している炭素上に
分枝構造を有しないアルキル基（置換基を有していても
良い）を示す。））で表されるアミンが好ましい。
【００２４】上記Ｒ1 〜Ｒ3 としては、置換基を有して
いても良いが、好ましくは無置換である。Ｒ1 およびＲ
2 として具体的には、イソプロピル基、2-ブチル基、te
rt−ブチル基、2-ペンチル基、3-ペンチル基、またはシ
クロヘキシル基等の炭素数３以上のアルキル基が好まし
い。
いても良いが、好ましくは無置換である。Ｒ1 およびＲ
2 として具体的には、イソプロピル基、2-ブチル基、te
rt−ブチル基、2-ペンチル基、3-ペンチル基、またはシ
クロヘキシル基等の炭素数３以上のアルキル基が好まし
い。
【００２５】また、これらは炭素同士の結合により、ま
たは窒素原子あるいは酸素原子等を介した結合により、
Ｒ1 とＲ2 が結合していてもよい。Ｒ3 としては、炭素
数１乃至５のものが好ましく、特にメチル基、エチル基
が好ましい。上記化合物として、特に好ましくは、N,N-
ジイソプロピルエチルアミン、N,N-ジシクロヘキシルエ
チルアミンである。これらの塩基は、通常単独で使用す
るが、２種以上を併用してもかまわない。
たは窒素原子あるいは酸素原子等を介した結合により、
Ｒ1 とＲ2 が結合していてもよい。Ｒ3 としては、炭素
数１乃至５のものが好ましく、特にメチル基、エチル基
が好ましい。上記化合物として、特に好ましくは、N,N-
ジイソプロピルエチルアミン、N,N-ジシクロヘキシルエ
チルアミンである。これらの塩基は、通常単独で使用す
るが、２種以上を併用してもかまわない。
【００２６】（塩基量）塩基の使用量は、通常スルホニ
ル化剤に対して、０．５〜３モル倍量、好ましくは０．
５〜１．５モル倍量、さらに好ましくは０．８〜１．２
モル倍量の範囲である。
ル化剤に対して、０．５〜３モル倍量、好ましくは０．
５〜１．５モル倍量、さらに好ましくは０．８〜１．２
モル倍量の範囲である。
【００２７】（溶媒種）本発明に使用される溶媒は、原
料である1,2,3,4-ブタンテトラオールを溶解するもの
で、スルホニル化反応に不活性なものであればよい。通
常、分子中にアミド基、イミド基、スルホキシド基ある
いはシアノ基等を有する非プロトン性の極性溶媒が用い
られる。具体的には、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メ
チル-2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、1,3-ジメ
チル-2−イミダゾリジノン、アセトニトリル等が挙げら
れる。尚、工業的に好ましくは、N,N-ジメチルホルムア
ミド、N-メチル-2−ピロリドンが安全性および価格の面
で好ましい。
料である1,2,3,4-ブタンテトラオールを溶解するもの
で、スルホニル化反応に不活性なものであればよい。通
常、分子中にアミド基、イミド基、スルホキシド基ある
いはシアノ基等を有する非プロトン性の極性溶媒が用い
られる。具体的には、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メ
チル-2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、1,3-ジメ
チル-2−イミダゾリジノン、アセトニトリル等が挙げら
れる。尚、工業的に好ましくは、N,N-ジメチルホルムア
ミド、N-メチル-2−ピロリドンが安全性および価格の面
で好ましい。
【００２８】（溶媒量）使用される溶媒の量は、原料で
ある1,2,3,4-ブタンテトラオールの少なくとも一部分が
溶解し、かつ攪拌可能な量があればよく、原料を完全に
溶解させる必要はない。通常は、1,2,3,4-ブタンテトラ
オールに対して２〜５０重量倍量用いられ、好ましくは
２．５〜１５重量倍量である。
ある1,2,3,4-ブタンテトラオールの少なくとも一部分が
溶解し、かつ攪拌可能な量があればよく、原料を完全に
溶解させる必要はない。通常は、1,2,3,4-ブタンテトラ
オールに対して２〜５０重量倍量用いられ、好ましくは
２．５〜１５重量倍量である。
【００２９】（スルホニル化剤の種類）本発明に使用さ
れるスルホニル化剤は、式（６）
れるスルホニル化剤は、式（６）
【００３０】
【化１５】
【００３１】（Ｒは置換基を有していても良い炭化水素
基を、Ｘはハロゲン原子を示す。）で表されるスルホン
酸ハロゲン化物、あるいはスルホン酸無水物である。Ｒ
としては、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハロゲン原子、シア
ノ基及びフェニル基，ナフチル基等の芳香族炭化水素基
から選ばれる置換基で置換されていてもよいアルキル基
またはアルケニル基；あるいはＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等の
ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基，ナフチル基等の
芳香族炭化水素基、メチル基，エチル基，プロピル基等
のアルキル基及びエチレン基，プロピレン基等のアルケ
ニル基から選ばれる置換基で置換されていてもよい芳香
族炭化水素基であり、好ましくは両者とも無置換であ
る。
基を、Ｘはハロゲン原子を示す。）で表されるスルホン
酸ハロゲン化物、あるいはスルホン酸無水物である。Ｒ
としては、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハロゲン原子、シア
ノ基及びフェニル基，ナフチル基等の芳香族炭化水素基
から選ばれる置換基で置換されていてもよいアルキル基
またはアルケニル基；あるいはＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等の
ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基，ナフチル基等の
芳香族炭化水素基、メチル基，エチル基，プロピル基等
のアルキル基及びエチレン基，プロピレン基等のアルケ
ニル基から選ばれる置換基で置換されていてもよい芳香
族炭化水素基であり、好ましくは両者とも無置換であ
る。
【００３２】アルキル基またはアルケニル基の炭素数と
しては１乃至３、芳香族炭化水素の炭素数としては６乃
至８が好ましく、特には、メチル基、エチル基、p-トリ
ル基等が好ましい。また、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのハ
ロゲン原子を示し、好ましくは塩化物である。通常は、
安価で入手容易なメタンスルホニルクロリドが使用され
る。
しては１乃至３、芳香族炭化水素の炭素数としては６乃
至８が好ましく、特には、メチル基、エチル基、p-トリ
ル基等が好ましい。また、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのハ
ロゲン原子を示し、好ましくは塩化物である。通常は、
安価で入手容易なメタンスルホニルクロリドが使用され
る。
【００３３】（スルホニル化剤の量）スルホニル化剤の
使用量は、スルホニル化剤の種類、溶媒および塩基の種
類の組み合わせで最適値が異なるが、通常、1,2,3,4-ブ
タンテトラオールに対して１．５〜３モル倍量、好まし
くは２．０〜２．５モル倍量の範囲である。尚、スルホ
ニル化剤の量は、1,2,3,4-ブタンテトラオールの１級水
酸基に対して０．７５〜１．５モル倍量、好ましくは
１．０〜１．２５モル倍量に減らして用いることも可能
である。
使用量は、スルホニル化剤の種類、溶媒および塩基の種
類の組み合わせで最適値が異なるが、通常、1,2,3,4-ブ
タンテトラオールに対して１．５〜３モル倍量、好まし
くは２．０〜２．５モル倍量の範囲である。尚、スルホ
ニル化剤の量は、1,2,3,4-ブタンテトラオールの１級水
酸基に対して０．７５〜１．５モル倍量、好ましくは
１．０〜１．２５モル倍量に減らして用いることも可能
である。
【００３４】（反応温度）反応温度は、通常−７０℃〜
１００℃の範囲で行われ、好ましくは−３０〜３０℃で
ある。
１００℃の範囲で行われ、好ましくは−３０〜３０℃で
ある。
【００３５】（反応時間）本発明の反応に要する時間
は、使用するスルホニル化剤と塩基の種類、反応温度に
より異なるが、通常、３０分から５時間の範囲で反応は
完結する。
は、使用するスルホニル化剤と塩基の種類、反応温度に
より異なるが、通常、３０分から５時間の範囲で反応は
完結する。
【００３６】（圧力）圧力は通常常圧で行われるが、必
要であれば加圧下もしくは減圧下で実施しても何ら問題
はない。
要であれば加圧下もしくは減圧下で実施しても何ら問題
はない。
【００３７】（反応方式）本発明における原料の添加方
式としては、１）1,2,3,4-ブタンテトラオール、溶媒お
よび塩基をあらかじめ混合して所定の反応温度まで冷却
あるいは加熱した後、内温を制御しながらスルホニル化
剤を混合液中に滴下しても良いし、 ２）溶媒および塩基を混合し、反応温度に設定する。こ
れに、1,2,3,4-ブタンテトラオールを溶媒に溶解あるい
は懸濁させた液、およびスルホニル化剤を同時に滴下し
ても良い。
式としては、１）1,2,3,4-ブタンテトラオール、溶媒お
よび塩基をあらかじめ混合して所定の反応温度まで冷却
あるいは加熱した後、内温を制御しながらスルホニル化
剤を混合液中に滴下しても良いし、 ２）溶媒および塩基を混合し、反応温度に設定する。こ
れに、1,2,3,4-ブタンテトラオールを溶媒に溶解あるい
は懸濁させた液、およびスルホニル化剤を同時に滴下し
ても良い。
【００３８】１）の場合には、添加時間は少なくとも１
０分以上、好ましくは３０分から５時間かけてゆっくり
添加し、２）の場合には、反応系中は常に1,2,3,4-ブタ
ンテトラオールが小過剰存在する状態を維持し、各成分
を３０分以上かけて滴下する。反応終了後の生成物の単
離・精製法としては、特に限定されない。また、工程に
よっては、単離・精製することなく、引き続き次工程の
反応を行うことも可能である。
０分以上、好ましくは３０分から５時間かけてゆっくり
添加し、２）の場合には、反応系中は常に1,2,3,4-ブタ
ンテトラオールが小過剰存在する状態を維持し、各成分
を３０分以上かけて滴下する。反応終了後の生成物の単
離・精製法としては、特に限定されない。また、工程に
よっては、単離・精製することなく、引き続き次工程の
反応を行うことも可能である。
【００３９】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。
する。
【００４０】（実施例１）D-スレイトール ０．５０
ｇ、N,N-ジイソプロピルエチルアミン １．３２３ｇお
よびN,N-ジメチルホルムアミド ５．０ｍｌを３０ｍｌ
フラスコに仕込み、０℃に冷却した。反応液の温度を０
〜５℃に維持しながらメタンスルホニルクロリド １．
１７３ｇを１時間かけて滴下した。０〜５℃にて２．５
時間撹拌した後、反応液をHPLCにて定量分析したとこ
ろ、1,4-ジ−Ｏ−メタンスルホニル-D−スレイトールの
反応収率は８２．５％であった。
ｇ、N,N-ジイソプロピルエチルアミン １．３２３ｇお
よびN,N-ジメチルホルムアミド ５．０ｍｌを３０ｍｌ
フラスコに仕込み、０℃に冷却した。反応液の温度を０
〜５℃に維持しながらメタンスルホニルクロリド １．
１７３ｇを１時間かけて滴下した。０〜５℃にて２．５
時間撹拌した後、反応液をHPLCにて定量分析したとこ
ろ、1,4-ジ−Ｏ−メタンスルホニル-D−スレイトールの
反応収率は８２．５％であった。
【００４１】（実施例２）D-スレイトール ０．５０
ｇ、N,N-ジシクロヘキシルエチルアミン ２．１４３ｇ
およびN,N-ジメチルホルムアミド ５ｍｌを３０ｍｌナ
スフラスコに仕込み、０℃に冷却した。反応液の温度を
０〜５℃に維持しながらメタンスルホニルクロリド
１．１７３ｇを１時間かけて滴下した。０〜５℃にて２
時間撹拌した後、反応液をHPLCにて定量分析したところ
1,4-ジ−Ｏ−メタンスルホニル-DL-スレイトールの反応
収率は ７０．８％であった。
ｇ、N,N-ジシクロヘキシルエチルアミン ２．１４３ｇ
およびN,N-ジメチルホルムアミド ５ｍｌを３０ｍｌナ
スフラスコに仕込み、０℃に冷却した。反応液の温度を
０〜５℃に維持しながらメタンスルホニルクロリド
１．１７３ｇを１時間かけて滴下した。０〜５℃にて２
時間撹拌した後、反応液をHPLCにて定量分析したところ
1,4-ジ−Ｏ−メタンスルホニル-DL-スレイトールの反応
収率は ７０．８％であった。
【００４２】（比較例１）DL−スレイトール ０．５０
ｇ、ピリジン ５ｍｌを３０ｍｌナスフラスコに仕込ん
だ。液温が５℃以下になるまで冷却した後、内温を０〜
５℃に維持しながらメタンスルホニルクロリド ０．９
３８ｇを１０分で滴下し、２時間保持した。1,4-ジ−Ｏ
−メタンスルホニル-DL-スレイトールの反応収率は６
２．１％であった。
ｇ、ピリジン ５ｍｌを３０ｍｌナスフラスコに仕込ん
だ。液温が５℃以下になるまで冷却した後、内温を０〜
５℃に維持しながらメタンスルホニルクロリド ０．９
３８ｇを１０分で滴下し、２時間保持した。1,4-ジ−Ｏ
−メタンスルホニル-DL-スレイトールの反応収率は６
２．１％であった。
【００４３】
【発明の効果】本発明により、医薬や農薬中間体として
有用な1,4-ビス（有機スルホニルオキシ）-2,3−ブタン
ジオールを簡便に製造することが可能となった。
有用な1,4-ビス（有機スルホニルオキシ）-2,3−ブタン
ジオールを簡便に製造することが可能となった。
Claims (8)
- 【請求項１】 下記式（１） 【化１】 で表される1,2,3,4-ブタンテトラオールを、溶媒中、ス
ルホニル化剤で処理して１級水酸基のみをスルホニル化
させる反応において、炭素数７以上の塩基を共存させる
ことを特徴とする下記一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒは置換基を有していてもよい炭化水素基を示
す。）で表される1,4-ビス（有機スルホニルオキシ）-
2,3−ブタンジオールの製造方法。 - 【請求項２】 塩基が２級あるいは３級アミンであるこ
とを特徴とする請求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 塩基が、下記一般式（３） 【化３】 （式中、Ｒ1 およびＲ2 は、それぞれ独立して、窒素原
子に結合している炭素上が分枝構造を有しているアルキ
ル基（置換基を有していても良い）を示す。但し、Ｒ1
およびＲ2 は任意に結合していてもよい。Ｒ3 は水素原
子または窒素に結合している炭素上に分枝構造を有しな
いアルキル基（置換基を有していても良い）を示す。）
で表されるアミンであることを特徴とする請求項２記載
の製造方法。 - 【請求項４】 Ｒ1 およびＲ2 が、それぞれイソプロピ
ル基、2-ブチル基、tert−ブチル基、2-ペンチル基、3-
ペンチル基、シクロヘキシル基、またはこれらが環を形
成しているアルキル基からなる群から選ばれるものであ
ることを特徴とする請求項３記載の製造方法。 - 【請求項５】 塩基がN,N-ジイソプロピルエチルアミン
またはN,N-ジシクロヘキシルエチルアミンであることを
特徴とする請求項４記載の製造方法。 - 【請求項６】1,2,3,4-ブタンテトラオールが、下記式
（４） 【化４】 で表されるD-スレイトールであり、生成物が下記一般式
（５） 【化５】 （式中、置換基Ｒは前記一般式（２）におけると同意義
である）で表される1,4-ジ−Ｏ−有機スルホニル-D−ス
レイトールであることを特徴とする請求項１乃至５記載
の製造方法。 - 【請求項７】 スルホニル化剤が、式（６） 【化６】 （式中、Ｒは置換基を有していてもよい炭化水素基を、
Ｘはハロゲン原子を示す。）で表されるスルホン酸ハロ
ゲン化物、あるいはスルホン酸無水物であることを特徴
とする請求項１乃至６記載の製造方法。 - 【請求項８】 Ｒがメチル基であることを特徴とする請
求項１乃至７記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16194798A JP3937586B2 (ja) | 1998-06-10 | 1998-06-10 | １，４−ビス（有機スルホニルオキシ）−２，３−ブタンジオールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16194798A JP3937586B2 (ja) | 1998-06-10 | 1998-06-10 | １，４−ビス（有機スルホニルオキシ）−２，３−ブタンジオールの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11349558A true JPH11349558A (ja) | 1999-12-21 |
| JP3937586B2 JP3937586B2 (ja) | 2007-06-27 |
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ID=15745079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16194798A Expired - Fee Related JP3937586B2 (ja) | 1998-06-10 | 1998-06-10 | １，４−ビス（有機スルホニルオキシ）−２，３−ブタンジオールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3937586B2 (ja) |
-
1998
- 1998-06-10 JP JP16194798A patent/JP3937586B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3937586B2 (ja) | 2007-06-27 |
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