JPH11347941A

JPH11347941A - Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の表面処理被膜剥離方法

Info

Publication number: JPH11347941A
Application number: JP17411698A
Authority: JP
Inventors: Kiyoshi Matsubayashi; 潔松林; Shunzo Matsushima; 俊藏松島; Satoru Ueda; 覚上田; Atsushi Tajima; 淳田嶋
Original assignee: ASAKO KK; KANSAI IND; KANSAI KOGYO KK; SGS KK
Current assignee: ASAKO KK; KANSAI IND; KANSAI KOGYO KK; SGS KK
Priority date: 1998-06-05
Filing date: 1998-06-05
Publication date: 1999-12-21

Abstract

(57)【要約】【課題】特殊な溶剤や廃液処理が不要で、製品同士が
密着した部分の完全剥離が可能であり、さらに、リサイ
クルによる製品の質を低下させることなく、短時間でか
つ安価にしてＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の表面処理被膜を
剥離することができる方法の提供。【解決手段】タンブリングブラスト機またはエプロン
ブラスト機を用いて、表面処理されたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永
久磁石をブラスト機内のドラム部内に挿入し、該ドラム
部を回転させながらスチールショットを噴射することに
よって、特殊な溶剤などを使用することなく、Ｒ−Ｆｅ
−Ｂ系永久磁石の表面処理被膜を完全に剥離することが
可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系
永久磁石表面に被覆された各種めっき、塗装などの表面
処理被膜を、短時間でかつ完全に剥離する方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石は、ＮｄやＰｒ
を中心とする資源的に豊富な軽希土類を用いてＢ、Ｆｅ
を主成分とし、高価なＳｍやＣｏを必須とせず、従来の
希土類コバルト磁石の磁気特性を大幅に超える新規な高
性能永久磁石として提案され、現在、家電用機器、ＯＡ
機器、電装品等に広く活用されている。

【０００３】近年、環境問題あるいは製造のコストダウ
ン化に対応するために、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の再利
用化が強く要望されている。

【０００４】ところで、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石は、大
気中で安定な酸化物を生成し易い希土類元素及び鉄を主
成分とする組織を有するため、そのまま使用すると、磁
石表面が次第に酸化して酸化物を生成し、その酸化物の
脱落によって周辺機器を汚染したり、また、磁気特性が
劣化するなどの問題を有する。そのため、通常は、Ｒ−
Ｆｅ−Ｂ系磁石表面にめっきや塗装などの表面処理を被
覆した状態で用いられている。従って、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系
磁石のリサイクルに際しては、それら表面処理被膜を剥
離する必要がある。

【０００５】従来、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石からめっき
や塗装などの表面処理被膜を剥離する方法として、特殊
な剥離液に浸漬する方法や電解法などが知られている。

【発明が解決しようとする課題】

【０００６】しかし、従来の方法によれば、表面処理被
膜を含んだ剥離後の廃液処理に多大なコストがかかる
上、例えば、酸処理を行なった場合は、処理後のＲ−Ｆ
ｅ−Ｂ系永久磁石表面が著しく酸化するため、新たに酸
化物を除去する工程が必要となる。また、製品同士が密
着した部分を剥離することが困難であるなどの問題があ
る。

【０００７】この発明は、特殊な溶剤や廃液処理が不要
で、製品同士が密着した部分の完全剥離が可能であり、
さらに、リサイクルによる製品の質を低下させることな
く、短時間でかつ安価にしてＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の
表面処理被膜を剥離することができる方法の提供を目的
とする。

【課題を解決するための手段】

【０００８】発明者らは、上記の問題点について種々研
究した結果、通常、スケール落としに使用されているタ
ンブリングブラスト機またはエプロンブラスト機を用い
て、表面処理されたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石をブラスト
機内のドラム部内に挿入し、該ドラム部を回転させなが
らスチールショットを噴射することによって、特殊な溶
剤などを使用することなく、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の
表面処理被膜を完全に剥離することが可能であることを
知見した。

【０００９】また、さらに効率よく短時間で剥離可能な
条件について種々検討した結果、上記の方法において、
ブラスト機内のドラム部の回転数、スチールショットの
粒度、硬度、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に対するスチール
ショットの投射角度、投射速度の最適条件を知見し、こ
の発明を完成した。

【００１０】すなわち、この発明は、磁石表面に表面処
理被膜を有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石を、タンブリン
グブラスト機のタンブラー型ドラム部またはエプロンブ
ラスト機のエプロン型ドラム部に挿入し、該ドラム部を
回転させながらＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石にスチールショ
ットを噴射することによって、磁石表面の表面処理被膜
を剥離することを特徴とするＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の
表面処理被膜剥離方法である。

【００１１】また、この発明は、上記方法において、ド
ラム部の回転数が２〜１５ｒｐｍであること、スチール
ショットの平均粒度が０．１８ｍｍ〜０．５０ｍｍであ
ること、スチールショットの平均硬度が４０〜５０Ｈ_RC
であること、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に対するスチール
ショットの投射角度が４０°〜９０°、投射速度が５０
ｍ／ｓｅｃ〜８０ｍ／ｓｅｃであることを併せて提案す
る。

【００１２】

【発明の実施の形態】この発明においては、対象とする
表面処理被膜を有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の大き
さ、形状は問わず、あらゆるものを対象とすることがで
き、また、表面処理被膜も、電解めっき膜、無電解めっ
き膜、樹脂被膜、クロメート処理被膜などあらゆる被膜
を剥離することが可能であるが、特に、従来剥離が困難
であった、小物・薄物のめっき品が好適である。

【００１３】この発明において、ブラスト機には、例え
ば、図１に示す構成からなるタンブリングブラスト機
や、図２に示すエプロンブラスト機を用いることができ
る。以下、その構造と使用方法を説明する。

【００１４】図１に示すタンブリングブラスト機１は、
その機体内部に、回転および／または振動可能なタンブ
ラー型のドラム部２が配置され、機体外部に該ドラムに
スチールショットを噴射するための噴射装置３が配置さ
れた構成からなる。機体内部のドラム部２は、開口部４
を噴射装置３に向けるように所定角度θをもってモータ
５に軸支されており、壁面には無数の小さな孔が開けら
れている。

【００１５】また、図２に示すエプロンブラスト機１１
は、その機体内部に、モータに連結された３本の駆動軸
１５が配置され、該駆動軸にゴム製ベルトが所要のたわ
みをもって掛けられており、該たわみ部がエプロン状を
なして、エプロン型ドラム部を構成し、これがタンブリ
ングブラスト機のドラム部２に相当するが、以下エプロ
ン部１２という。機体外部には、該エプロン部１２にス
チールショットを噴射するための噴射装置１３が、エプ
ロン部１２に対して所定角度θをもって配置されてい
る。また、エプロン部に無数の小さな孔が開けられてい
る。

【００１６】以下に、使用方法を簡単に説明する。な
お、上記の如く、タンブリングブラスト機とエプロンブ
ラスト機とはドラム部の形状等がタンブラー型とエプロ
ン型が異なるものの、基本的にワークを回転させながら
ショットを噴射する点は共通するため、以下はタンブリ
ングブラスト機を例にとって説明する。

【００１７】まず、ドラム部２に、磁石表面に表面処理
被膜を有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石からなるワーク６
を一定量挿入する。挿入量はドラム部２の大きさ、ワー
ク６の形状、ワーク６の大きさ等によって適宜調整す
る。そして、ワーク６の量に応じてドラム部２の角度を
調整する。

【００１８】次に、ドラム部２をモータ５によって所定
の回転速度で回転させるとともに、噴射装置３からスチ
ールショットを所定角度で噴射し、ドラム部２内のワー
ク６に当接させる。その際、スチールショットとワーク
から剥離した表面処理被膜は、ドラム部２の壁面に設け
られた孔よりドラム部２外部へ放出され、機体内部の底
部７にたまり、最後に回収される。

【００１９】その結果、ドラム部２内部には表面処理が
剥離されたワーク６及びドラム部壁面に設けられた孔を
通らなかった表面処理被膜が残ることとなる。

【００２０】上記の方法において、表面処理被膜を有す
るＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石から表面処理被膜のみを効率
よく短時間で剥離するするためには、ドラム部の回転数
を２〜１５ｒｐｍにすることが好ましい。２ｒｐｍ未満
または１５ｒｐｍを超えると表面処理被膜の剥離が完全
にできなくなるためである。さらに好ましい回転数は３
〜５ｒｐｍである。

【００２１】また、スチールショットの平均粒度及び平
均硬度も重要であり、平均粒度が０．１８ｍｍ未満また
は０．５０ｍｍを超えると剥離能力が低下するため０．
１８ｍｍ〜０．５０ｍｍが好ましい。最も好ましくは
０．３ｍｍ〜０．４５ｍｍである。

【００２２】また、平均硬度は、４０Ｈ_RC未満では剥離
能力が低下し、５０Ｈ_RCを超えるとＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久
磁石そのものまで加工される恐れがあるため、４０〜５
０Ｈ_RCが好ましい。最も好ましくは４４〜４７Ｈ_RCであ
る。

【００２３】上記の点を考慮すると、Ｃ、Ｓｉ、Ｍｎ、
Ｐ、Ｓを微量に含有する焼戻マルテンサイト組織を有す
るスチールショットを粒度調整したものが好適である。

【００２４】さらに、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に対する
スチールショットの噴射角度、噴射速度も重要であっ
て、噴射角度が４０°未満または９０°を超えると十分
な剥離ができないため、４０°〜９０°が好ましい。ま
た、噴射速度が５０ｍ／ｓｅｃ未満ないしは８０ｍ／ｓ
ｅｃを超えると同様に十分な剥離ができないため、５０
ｍ／ｓｅｃ〜８０ｍ／ｓｅｃが好ましい。

【００２５】また、この発明において、タンブリングブ
ラスト機またはエプロンブラスト機の機体内部の雰囲気
は、不活性ガスなどの無酸素雰囲気であることが望まし
い。これは、剥離後のＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の表面は
非常に活性な状態にあり、すぐに酸素と反応して磁石表
面に酸化物を形成するので、新たに酸化物を除去する工
程が必要となるためである。なお、その他の条件につい
ては、タンブリングブラスト機またはエプロンブラスト
を用いたスケール落としなどに用いられる公知の条件を
用いることができる。

【００２６】

【実施例】実施例１図１に示すタンブリングブラスト機を用いて、寸法が外
径３５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚み０．８ｍｍからなる、
表面に電解Ｎｉめっき被膜を有するリング状Ｒ−Ｆｅ−
Ｂ系永久磁石の表面処理被膜の剥離テストを行なった。

【００２７】処理条件は以下の通りである。ドラム部回転数＝３．６ｒｐｍ、スチールショットの平均粒度＝０．３５３μｍ、スチールショットの平均硬度＝４６．２Ｈ_RC、スチールショットの噴射角度＝６０°、スチールショットの噴射速度＝７３ｍ／ｓｅｃ、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の処理量＝５ｋｇ、処理時間＝２分。

【００２８】また、スチールショットには、Ｃ０．９
３、Ｓｉ０．７９、Ｍｎ０．８４、Ｐ０．０２
１、Ｓ０．０２７、残部Ｆｅからなる組成の焼戻マル
テンサイト組織を有するものを用いた。剥離後の評価方
法は、処理後のＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石から任意に１０
個サンプリングしたものの外観検査で評価した。その結
果を表１に示す。

【００２９】実施例２図２に示すエプロンブラスト機を用いて、実施例１と同
じ表面に電解Ｎｉめっき被膜を有するリング状Ｒ−Ｆｅ
−Ｂ系永久磁石の表面処理被膜の剥離テストを行なっ
た。また、スチールショットの組成、剥離後の評価方法
も実施例１と同様にした。その結果を表１に示す。

【００３０】処理条件は以下の通りである。エプロン部回転数＝１０．４ｒｐｍ、スチールショットの平均粒度＝０．３５３μｍ、スチールショットの平均硬度＝４６．２Ｈ_RC、スチールショットの噴射角度＝６０°、スチールショットの噴射速度＝７３ｍ／ｓｅｃ、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の処理量＝５ｋｇ、処理時間＝
５分。

【００３１】比較例１実施例１と同じ、表面に電解Ｎｉめっき被膜を有するリ
ング状Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石５ｋｇをバレル内に挿入
し、メチルアルコールと硝酸を２：１で混合した電解研
磨液に浸漬して、バレルを回転させながら２０Ｖの直流
電流を２分間通電する電解研磨処理を施した。その結果
を実施例１と共に表１に示す。評価方法は実施例１と同
様である。

【００３２】

【表１】

【００３３】実施例３ドラム部回転数を表２に示すように変化させる以外は、
実施例１と全く同じ条件で剥離テストを行なった。
（３．８ｒｐｍは実施例１の結果）剥離後の評価方法としては、処理後のＲ−Ｆｅ−Ｂ系永
久磁石から任意に１０個サンプリングし、１０個全部に
ついて完全に表面処理被膜が剥離されているものは○
印、１〜５個に少しでも表面処理被膜が残っている場合
は△印、６個以上に少しでも表面処理被膜が残っている
場合は×印を付した。結果を表２に示す。

【００３４】実施例４スチールショットの平均粒度を表２に示すように変化さ
せる以外は、実施例１と全く同じ条件で剥離テストを行
なった。（０．３５μｍは実施例１の結果）測定結果を
表２に示す。なお、評価方法は、実施例２と同様であ
る。

【００３５】実施例５スチールショットの平均硬度を表２に示すように変化さ
せる以外は、実施例１と全く同じ条件で剥離テストを行
なった。（４６．２Ｈ_RCは実施例１の結果）測定結果を
表２に示す。なお、評価方法は、実施例２と同様であ
る。

【００３６】

【表２】

【００３７】実施例６スチールショットの噴射角度を表３に示すように変化さ
せる以外は、実施例１と全く同じ条件で剥離テストを行
なった。（６０°は実施例１の結果）測定結果を表３に
示す。評価方法は、実施例２と同様である。なお、９０
°以上は装置の構造上テストを行なうことができなかっ
た。

【００３８】実施例７スチールショットの噴射速度を表３に示すように変化さ
せる以外は、実施例１と全く同じ条件で剥離テストを行
なった。（７３ｍ／ｓｅｃは実施例１の結果）測定結果
を表３に示す。なお、評価方法は、実施例２と同様であ
る。なお、９０ｍ／ｓｅｃでは、被膜は完全に剥離され
ていたが、磁石素材の研磨量が著しかった。

【００３９】

【表３】

【００４０】

【発明の効果】この発明によれば、製品同士が密着した
部分の完全剥離が可能であり、リサイクルによる製品の
質を低下させることなく、短時間でかつ安価にしてＲ−
Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の表面処理被膜を剥離することがで
きる。また、特殊な溶剤や廃液処理が不要なため、安全
であると共に産業廃棄物を出すことが無くなり、さら
に、Ｎｉなどの資源の再利用にも貢献できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】タンブリングブラスト機の一例を示す断面説明
図である。

【図２】エプロンブラスト機の一例を示す断面説明図で
ある。

【符号の説明】

１タンブリングブラスト機２ドラム部３，１３噴射装置４開口部５モータ６ワーク７底部１１エプロンブラスト機１２エプロン部１５駆動軸

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者松島俊藏大阪府三島郡島本町江川２丁目15−17 株式会社エス・ジー・エス内 (72)発明者上田覚大阪府三島郡島本町江川２丁目15−17 株式会社エス・ジー・エス内 (72)発明者田嶋淳大阪府大阪市平野区西脇１丁目２番20号株式会社アサコ内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁石表面に表面処理被膜を有するＲ−Ｆ
ｅ−Ｂ系永久磁石を、タンブリングブラスト機またはエ
プロンブラスト機のドラム部に挿入し、該ドラム部を回
転させながらＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石にスチールショッ
トを噴射することによって、磁石表面の表面処理被膜を
剥離することを特徴とするＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の表
面処理被膜剥離方法。
【請求項２】請求項１において、ドラム部の回転数
が２〜１５ｒｐｍであるＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の表面
処理被膜剥離方法。
【請求項３】請求項１において、スチールショット
の平均粒度が０．１８ｍｍ〜０．５０ｍｍであるＲ−Ｆ
ｅ−Ｂ系永久磁石の表面処理被膜剥離方法。
【請求項４】請求項１において、スチールショット
の平均硬度が４０〜５０Ｈ_RCであるＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久
磁石の表面処理被膜剥離方法。
【請求項５】請求項１において、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永
久磁石に対するスチールショットの噴射角度が４０°〜
９０°であるＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の表面処理被膜剥
離方法。
【請求項６】請求項１において、スチールショット
の噴射速度が５０ｍ／ｓｅｃ〜８０ｍ／ｓｅｃであるＲ
−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の表面処理被膜剥離方法。