JPH11345796A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPH11345796A JPH11345796A JP15332298A JP15332298A JPH11345796A JP H11345796 A JPH11345796 A JP H11345796A JP 15332298 A JP15332298 A JP 15332298A JP 15332298 A JP15332298 A JP 15332298A JP H11345796 A JPH11345796 A JP H11345796A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- liquid
- vacuum
- cleaning tank
- washing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 洗浄液中に金属イオンが溶出することがな
く、且つ所定の真空度の減圧下で超音波振動を用いて強
い洗浄力で被洗浄物を洗浄できる洗浄装置を提供するこ
と。 【解決手段】 少なくとも洗浄液Ｑ１が接する接液面を
樹脂材等の非金属材で構成すると共に内部を０．１Ｔｏ
ｒｒ〜数十Ｔｏｒｒの真空度にしても耐えうる構造の洗
浄槽１０と、該洗浄槽１０内に収容した洗浄液Ｑ１に超
音波振動を与える超音波振動装置１８と、洗浄槽１０内
を所定の真空度にまで減圧する真空ポンプ２０を具備
し、洗浄槽１０内に洗浄液Ｑ１を収容すると共に、該洗
浄液Ｑ１中に浸漬した被洗浄物Ｍを真空ポンプ２０で該
洗浄槽１０内を所定の真空度に維持した状態で超音波振
動装置１８で該洗浄液Ｑ１に超音波振動を与えながら洗
浄する。
く、且つ所定の真空度の減圧下で超音波振動を用いて強
い洗浄力で被洗浄物を洗浄できる洗浄装置を提供するこ
と。 【解決手段】 少なくとも洗浄液Ｑ１が接する接液面を
樹脂材等の非金属材で構成すると共に内部を０．１Ｔｏ
ｒｒ〜数十Ｔｏｒｒの真空度にしても耐えうる構造の洗
浄槽１０と、該洗浄槽１０内に収容した洗浄液Ｑ１に超
音波振動を与える超音波振動装置１８と、洗浄槽１０内
を所定の真空度にまで減圧する真空ポンプ２０を具備
し、洗浄槽１０内に洗浄液Ｑ１を収容すると共に、該洗
浄液Ｑ１中に浸漬した被洗浄物Ｍを真空ポンプ２０で該
洗浄槽１０内を所定の真空度に維持した状態で超音波振
動装置１８で該洗浄液Ｑ１に超音波振動を与えながら洗
浄する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は洗浄装置に関し、特
に金属イオンに曝され被洗浄物が該金属イオンで汚染さ
れることを嫌う洗浄に好適な洗浄装置に関するものであ
る。
に金属イオンに曝され被洗浄物が該金属イオンで汚染さ
れることを嫌う洗浄に好適な洗浄装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】この種の洗浄装置、例えば、半導体デバ
イスの製造分野において用いられる洗浄装置において
は、所定の真空度の減圧下で超音波で洗浄を行うと、通
常の大気圧状態で洗浄する場合に比べ、洗浄力が大幅に
向上することが知られている。この洗浄力が大幅に向上
する要因としては下記の事が挙げられる。
イスの製造分野において用いられる洗浄装置において
は、所定の真空度の減圧下で超音波で洗浄を行うと、通
常の大気圧状態で洗浄する場合に比べ、洗浄力が大幅に
向上することが知られている。この洗浄力が大幅に向上
する要因としては下記の事が挙げられる。
【０００３】洗浄槽内を減圧することで洗浄液中の溶
存酸素が除去され、超音波キャビテーション効果が増大
する。即ち、脱酸素水を使用した場合と同等の効果が得
られる。
存酸素が除去され、超音波キャビテーション効果が増大
する。即ち、脱酸素水を使用した場合と同等の効果が得
られる。
【０００４】微小な止まり穴等の中の気泡が除去され
るので、洗浄液の浸入が促進され、良好な洗浄効果が得
られる。
るので、洗浄液の浸入が促進され、良好な洗浄効果が得
られる。
【０００５】重なり合った物の隙間に浸入した洗浄液
の移動が促進され、洗浄効果が向上する。
の移動が促進され、洗浄効果が向上する。
【０００６】汚れた成分と被洗浄物の間に空気層が存
在する場合は、減圧される時に空気が膨張・破裂し、汚
れた成分の剥離・分離が促進される。
在する場合は、減圧される時に空気が膨張・破裂し、汚
れた成分の剥離・分離が促進される。
【０００７】このように所定の真空度の減圧下で超音波
を用いて洗浄を行う、減圧超音波洗浄装置は、フロンや
エタンが洗浄剤の主力であった時代から用いられていた
が、オゾン層破壊の問題が浮上し、フロンやエタンの生
産・使用を全廃しなければならなくなった為に、最近特
に注目が注がれている。
を用いて洗浄を行う、減圧超音波洗浄装置は、フロンや
エタンが洗浄剤の主力であった時代から用いられていた
が、オゾン層破壊の問題が浮上し、フロンやエタンの生
産・使用を全廃しなければならなくなった為に、最近特
に注目が注がれている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】減圧超音波洗浄装置を
製作するには、目的の真空度（０．１Ｔｏｒｒ〜６０Ｔ
ｏｒｒ程度）に耐えうる洗浄槽を用意し、真空ポンプを
用いて所定の真空度まで減圧すれば良いが、真空引きさ
れている洗浄槽に加わる外圧は非常に大きい。従って、
洗浄槽の材質は、例えば１０ｍｍの厚さのステンレス板
を用いて、大きさによって補強を入れるとか、円形にし
て強度を上げる等の工夫が必要となる。
製作するには、目的の真空度（０．１Ｔｏｒｒ〜６０Ｔ
ｏｒｒ程度）に耐えうる洗浄槽を用意し、真空ポンプを
用いて所定の真空度まで減圧すれば良いが、真空引きさ
れている洗浄槽に加わる外圧は非常に大きい。従って、
洗浄槽の材質は、例えば１０ｍｍの厚さのステンレス板
を用いて、大きさによって補強を入れるとか、円形にし
て強度を上げる等の工夫が必要となる。
【０００９】洗浄槽を金属製とするのであれば、外圧に
強い槽とすることは容易であるが、半導体製造における
洗浄工程においては、洗浄液中の微量な金属イオンさえ
問題となる場合がある。また、洗浄液のＰＨ値によって
は金属製の洗浄槽を使用できない場合がある。
強い槽とすることは容易であるが、半導体製造における
洗浄工程においては、洗浄液中の微量な金属イオンさえ
問題となる場合がある。また、洗浄液のＰＨ値によって
は金属製の洗浄槽を使用できない場合がある。
【００１０】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、洗浄液中に金属イオンが溶出することなく、且つ所
定の真空度の減圧下で超音波振動を用いて強い洗浄力で
被洗浄物を洗浄できる洗浄装置を提供することを目的と
する。
で、洗浄液中に金属イオンが溶出することなく、且つ所
定の真空度の減圧下で超音波振動を用いて強い洗浄力で
被洗浄物を洗浄できる洗浄装置を提供することを目的と
する。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１に記載の発明は、少なくとも洗浄液が接する接
液面を非金属材で構成すると共に内部を０．１Ｔｏｒｒ
〜数十Ｔｏｒｒの真空度にしても耐えうる構造の洗浄槽
と、該洗浄槽内に収容した洗浄液に超音波振動を与える
超音波振動装置と、洗浄槽内を所定の真空度にまで減圧
する真空装置を具備し、洗浄槽内に洗浄液を収容すると
共に、該洗浄液中に浸漬した被洗浄物を真空装置で該洗
浄槽内を所定の真空度に維持した状態で超音波振動装置
で該洗浄液に超音波振動を与えながら洗浄する洗浄装置
にある。
請求項１に記載の発明は、少なくとも洗浄液が接する接
液面を非金属材で構成すると共に内部を０．１Ｔｏｒｒ
〜数十Ｔｏｒｒの真空度にしても耐えうる構造の洗浄槽
と、該洗浄槽内に収容した洗浄液に超音波振動を与える
超音波振動装置と、洗浄槽内を所定の真空度にまで減圧
する真空装置を具備し、洗浄槽内に洗浄液を収容すると
共に、該洗浄液中に浸漬した被洗浄物を真空装置で該洗
浄槽内を所定の真空度に維持した状態で超音波振動装置
で該洗浄液に超音波振動を与えながら洗浄する洗浄装置
にある。
【００１２】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
に記載の洗浄装置において、洗浄槽は主に肉厚の塩化ビ
ニール板を組み合わせて構成することを特徴とする。
に記載の洗浄装置において、洗浄槽は主に肉厚の塩化ビ
ニール板を組み合わせて構成することを特徴とする。
【００１３】また、請求項３に記載の発明は、請求項１
又は２に記載の洗浄装置において、洗浄槽は非金属材か
らなる振動板で仕切られており、該仕切られた一方の室
に洗浄液を収容すると共に、他方の室に超音波振動伝播
媒体液を収容し該液体中に超音波振動装置を配置したこ
とを特徴とする。
又は２に記載の洗浄装置において、洗浄槽は非金属材か
らなる振動板で仕切られており、該仕切られた一方の室
に洗浄液を収容すると共に、他方の室に超音波振動伝播
媒体液を収容し該液体中に超音波振動装置を配置したこ
とを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例を図
面に基づいて説明する。図１は本発明の洗浄装置の構造
を示す図で、図１（ａ）は平面図、図１（ｂ）は（ａ）
のＡ側面図、図１（ｃ）は（ａ）のＢ側面図である。図
１において、１０は樹脂製の洗浄槽であり、該洗浄槽１
０は樹脂製の洗浄槽本体１１と樹脂製の蓋体１２からな
る。蓋体１２は洗浄槽本体１１の上部にヒンジ機構１３
で開閉できるように取り付けられている。洗浄槽本体１
１及び蓋体１２は後に詳述するように、洗浄槽本体１１
内を０．１Ｔｏｒｒ〜６０Ｔｏｒｒの真空度に減圧した
場合に加わる外圧に十分耐えうる強度にしている。
面に基づいて説明する。図１は本発明の洗浄装置の構造
を示す図で、図１（ａ）は平面図、図１（ｂ）は（ａ）
のＡ側面図、図１（ｃ）は（ａ）のＢ側面図である。図
１において、１０は樹脂製の洗浄槽であり、該洗浄槽１
０は樹脂製の洗浄槽本体１１と樹脂製の蓋体１２からな
る。蓋体１２は洗浄槽本体１１の上部にヒンジ機構１３
で開閉できるように取り付けられている。洗浄槽本体１
１及び蓋体１２は後に詳述するように、洗浄槽本体１１
内を０．１Ｔｏｒｒ〜６０Ｔｏｒｒの真空度に減圧した
場合に加わる外圧に十分耐えうる強度にしている。
【００１５】洗浄槽本体１１内は仕切板１４で２つの室
に仕切られ、一方の室は被洗浄物Ｍを洗浄する洗浄室１
５となっており、他方の室は超音波振動装置１８が配置
される室１６となっている。洗浄槽本体１１の上部には
被洗浄物Ｍを装填する装填具１７を吊り下げる吊り下げ
具１９が配置されている。
に仕切られ、一方の室は被洗浄物Ｍを洗浄する洗浄室１
５となっており、他方の室は超音波振動装置１８が配置
される室１６となっている。洗浄槽本体１１の上部には
被洗浄物Ｍを装填する装填具１７を吊り下げる吊り下げ
具１９が配置されている。
【００１６】洗浄槽本体１１は台板２３の上に載置さ
れ、洗浄槽本体１１の周辺部には真空ポンプ２０、モー
タ２１、ポンプ２２等が配置されている。真空ポンプ２
０は蓋体１２で洗浄槽本体１１の開口を閉じた状態で、
洗浄槽本体１１内を０．１Ｔｏｒｒ〜６０Ｔｏｒｒの所
定の真空度に減圧するためのものである。また、モータ
２１は装填具１７を上下動させるためのものであり、モ
ータ２１が回転すると棒部材２５が上下動し、該棒部材
２５の上下動により軸２４が時計方向及び反時計方向に
回動し、前記吊り下げ具１９を矢印Ｃに示すように軸２
４を中心に揺動させる。これにより装填具１７に装填さ
れた被洗浄物Ｍが洗浄液Ｑ１の中で上下動する。
れ、洗浄槽本体１１の周辺部には真空ポンプ２０、モー
タ２１、ポンプ２２等が配置されている。真空ポンプ２
０は蓋体１２で洗浄槽本体１１の開口を閉じた状態で、
洗浄槽本体１１内を０．１Ｔｏｒｒ〜６０Ｔｏｒｒの所
定の真空度に減圧するためのものである。また、モータ
２１は装填具１７を上下動させるためのものであり、モ
ータ２１が回転すると棒部材２５が上下動し、該棒部材
２５の上下動により軸２４が時計方向及び反時計方向に
回動し、前記吊り下げ具１９を矢印Ｃに示すように軸２
４を中心に揺動させる。これにより装填具１７に装填さ
れた被洗浄物Ｍが洗浄液Ｑ１の中で上下動する。
【００１７】また、ポンプ２２は後述する通り、洗浄室
１５の洗浄液Ｑ１をフィルタ２７を通して循環させるた
めのものである。また、仕切板１４で仕切られた他方の
室１６には超音波振動伝播媒体液Ｑ２が収容されてい
る。
１５の洗浄液Ｑ１をフィルタ２７を通して循環させるた
めのものである。また、仕切板１４で仕切られた他方の
室１６には超音波振動伝播媒体液Ｑ２が収容されてい
る。
【００１８】図２は洗浄槽本体１１の構造を示す図で、
図２（ａ）は平面図、図２（ｂ）及び（ｃ）は側面図で
ある。洗浄槽本体１１は５枚の肉厚（例えば厚さ３０ｍ
ｍ）の塩化ビニール板１１−１を接着及び溶接して造っ
たもので、側面及び底面を補強リブ１１−２で補強する
と共に、上端の開口部は補強鍔１１−３で補強し、内部
を減圧した場合に加わる外圧に耐えうる構造としてい
る。
図２（ａ）は平面図、図２（ｂ）及び（ｃ）は側面図で
ある。洗浄槽本体１１は５枚の肉厚（例えば厚さ３０ｍ
ｍ）の塩化ビニール板１１−１を接着及び溶接して造っ
たもので、側面及び底面を補強リブ１１−２で補強する
と共に、上端の開口部は補強鍔１１−３で補強し、内部
を減圧した場合に加わる外圧に耐えうる構造としてい
る。
【００１９】補強リブ１１−２は図３に示すように、断
面矩形の長尺の塩化ビニール板１１−２ａを洗浄槽本体
１１の側板及び底板を構成する塩化ビニール板１１−１
の外面に接着剤で接着した後、その両側に塩化ビニール
材の溶接部１１−２ｃを形成して塩化ビニール板１１−
２ａを固着する。そして更に塩化ビニール板１１−２ａ
を補強するために、該塩化ビニール板１１−２ａに断面
コ字上のステンレス鋼板１１−２ｂを被せ、該ステンレ
ス鋼板１１−２ｂの外表面からネジ１１−２ｄをねじ込
んで固定している。
面矩形の長尺の塩化ビニール板１１−２ａを洗浄槽本体
１１の側板及び底板を構成する塩化ビニール板１１−１
の外面に接着剤で接着した後、その両側に塩化ビニール
材の溶接部１１−２ｃを形成して塩化ビニール板１１−
２ａを固着する。そして更に塩化ビニール板１１−２ａ
を補強するために、該塩化ビニール板１１−２ａに断面
コ字上のステンレス鋼板１１−２ｂを被せ、該ステンレ
ス鋼板１１−２ｂの外表面からネジ１１−２ｄをねじ込
んで固定している。
【００２０】補強鍔１１−３は図４に示すように、内部
に洗浄槽本体１１の外径寸法と同じ寸法の穴１１−３ｂ
が形成された額縁状の枠体に蓋体１２との間に介在する
パッキン２６（図５参照）を挿入する溝１１−３ａを形
成したもので、該補強鍔１１−３を洗浄槽本体１１の上
端に挿入し、その接触面を接着剤で接着すると共に、図
５に示すように、上下の縁部に塩化ビニール材の溶接部
１１−３ｃ、１１−３ｄを形成して固着する。
に洗浄槽本体１１の外径寸法と同じ寸法の穴１１−３ｂ
が形成された額縁状の枠体に蓋体１２との間に介在する
パッキン２６（図５参照）を挿入する溝１１−３ａを形
成したもので、該補強鍔１１−３を洗浄槽本体１１の上
端に挿入し、その接触面を接着剤で接着すると共に、図
５に示すように、上下の縁部に塩化ビニール材の溶接部
１１−３ｃ、１１−３ｄを形成して固着する。
【００２１】洗浄槽本体１１を構成する塩化ビニール板
１１−１と１１−１の固着は、図６に示すように、それ
ぞれの端部に段部１１−１ａ、１１−１ａを設け、接合
面を接着材で接合すると共に、縁部に塩化ビニール材の
溶接部１１−１ｂを形成して固着する。このような構造
とすることにより、塩化ビニール板１１−１と１１−１
の固着は外圧Ｆに対して強い構造となる。
１１−１と１１−１の固着は、図６に示すように、それ
ぞれの端部に段部１１−１ａ、１１−１ａを設け、接合
面を接着材で接合すると共に、縁部に塩化ビニール材の
溶接部１１−１ｂを形成して固着する。このような構造
とすることにより、塩化ビニール板１１−１と１１−１
の固着は外圧Ｆに対して強い構造となる。
【００２２】図７は仕切板１４の構成例を示す図であ
り、仕切板１４は塩化ビニール板１４−１からなり、超
音波振動装置１８の振動波発信面に対向する部分がガラ
ス板１４−２からなる。塩化ビニール板１４−１にはガ
ラス板１４−２の外径寸法より若干小さい開口部１４−
１ａが形成されており、該開口部１４−１ａにガラス板
１４−２をその両側縁部にテフロン製のパッキン１４−
３、１４−４を介在させステンレス鋼板からなる押え板
１４−５で押え込むことにより固着する。押え板１４−
５はネジ１４−６でねじ込んで固定する。このような構
成の仕切板１４のガラス板１４−２が洗浄室１５に面す
るように（押え部材が室１６に面するように）、洗浄槽
本体１１内に固定する。
り、仕切板１４は塩化ビニール板１４−１からなり、超
音波振動装置１８の振動波発信面に対向する部分がガラ
ス板１４−２からなる。塩化ビニール板１４−１にはガ
ラス板１４−２の外径寸法より若干小さい開口部１４−
１ａが形成されており、該開口部１４−１ａにガラス板
１４−２をその両側縁部にテフロン製のパッキン１４−
３、１４−４を介在させステンレス鋼板からなる押え板
１４−５で押え込むことにより固着する。押え板１４−
５はネジ１４−６でねじ込んで固定する。このような構
成の仕切板１４のガラス板１４−２が洗浄室１５に面す
るように（押え部材が室１６に面するように）、洗浄槽
本体１１内に固定する。
【００２３】図８は本発明の洗浄装置の全体のシステム
構成を示す図である。図８において、洗浄槽本体１１の
洗浄室１５には洗浄液Ｑ１として純水を収容し、室１６
には超音波振動を伝播させる超音波振動伝播媒体液Ｑ２
として水道水を収容する。先ず洗浄槽本体１１内を減圧
させない状態で、図１に示すように、装填具１７に被洗
浄物Ｍを装填し、装填具１７を吊り下げ具１９に吊り下
げ、被洗浄物Ｍを装填具１７と共に洗浄液Ｑ１中に浸漬
する。そして蓋体１２で洗浄槽本体１１の上端開口部を
閉じる。
構成を示す図である。図８において、洗浄槽本体１１の
洗浄室１５には洗浄液Ｑ１として純水を収容し、室１６
には超音波振動を伝播させる超音波振動伝播媒体液Ｑ２
として水道水を収容する。先ず洗浄槽本体１１内を減圧
させない状態で、図１に示すように、装填具１７に被洗
浄物Ｍを装填し、装填具１７を吊り下げ具１９に吊り下
げ、被洗浄物Ｍを装填具１７と共に洗浄液Ｑ１中に浸漬
する。そして蓋体１２で洗浄槽本体１１の上端開口部を
閉じる。
【００２４】この状態で、ポンプバルブＳＶ５、ＳＶ６
を開き、電磁弁ＳＯＬ１、ＳＯＬ２を開いて、ポンプ２
２を起動することにより、洗浄室１５内の洗浄液は該ポ
ンプ２２により、ヒータ２８、フィルタ２７を通して循
環し、加温と洗浄液に含まれる汚染物が除去される。な
お、３０はフィルタ２７の入力側の圧力を測定する圧力
計である。また、３２、３３はそれぞれフロースイッチ
である。
を開き、電磁弁ＳＯＬ１、ＳＯＬ２を開いて、ポンプ２
２を起動することにより、洗浄室１５内の洗浄液は該ポ
ンプ２２により、ヒータ２８、フィルタ２７を通して循
環し、加温と洗浄液に含まれる汚染物が除去される。な
お、３０はフィルタ２７の入力側の圧力を測定する圧力
計である。また、３２、３３はそれぞれフロースイッチ
である。
【００２５】洗浄液Ｑ１の汚染物が除去され、温度計３
４で測定する液温が所定の温度になったら、ポンプ２２
を停止して、洗浄液の循環を停止する。この状態で真空
ポンプ２０を起動し、洗浄槽１０内を減圧する。なお、
２９はオイルミストトラップであり、真空ポンプ２０か
ら吐き出されるオイルミストは該オイルミストトラップ
２９で除去される。真空計３１で洗浄槽１０内の真空度
を測定し、真空度が０．１Ｔｏｒｒ〜６０Ｔｏｒｒの所
定値になるまで減圧する。
４で測定する液温が所定の温度になったら、ポンプ２２
を停止して、洗浄液の循環を停止する。この状態で真空
ポンプ２０を起動し、洗浄槽１０内を減圧する。なお、
２９はオイルミストトラップであり、真空ポンプ２０か
ら吐き出されるオイルミストは該オイルミストトラップ
２９で除去される。真空計３１で洗浄槽１０内の真空度
を測定し、真空度が０．１Ｔｏｒｒ〜６０Ｔｏｒｒの所
定値になるまで減圧する。
【００２６】上記減圧により、洗浄槽本体１１には強い
外圧が加わるが、洗浄槽本体１１の外側面や外底面は補
強リブ１１−２で補強され、上端開口部も補強鍔１１−
３で補強されているから、洗浄槽本体１１はこの外圧に
十分耐えうる。また、補強鍔１１−３と蓋体１２の間に
はパッキン２６が介在しているため（図５参照）、洗浄
槽本体１１内は該真空度を維持して気密状態となる。な
お、ＳＶ４は真空調整弁、ＳＶ３は真空解除弁である。
外圧が加わるが、洗浄槽本体１１の外側面や外底面は補
強リブ１１−２で補強され、上端開口部も補強鍔１１−
３で補強されているから、洗浄槽本体１１はこの外圧に
十分耐えうる。また、補強鍔１１−３と蓋体１２の間に
はパッキン２６が介在しているため（図５参照）、洗浄
槽本体１１内は該真空度を維持して気密状態となる。な
お、ＳＶ４は真空調整弁、ＳＶ３は真空解除弁である。
【００２７】上記のように洗浄槽１０内が所定の真空度
に減圧されたら、超音波振動装置１８を起動する。これ
により発生した超音波振動は、室１６内の超音波振動伝
播媒体液Ｑ２を伝わって、仕切板１４のガラス板１４−
２に伝播し、該ガラス板１４−２を通して洗浄液Ｑ１に
伝播する。このとき洗浄槽１０内が減圧されているか
ら、上記のように、洗浄液Ｑ１中の溶存酸素が除去さ
れ、超音波キャビテーション効果が増大するから、被洗
浄物Ｍに付着する汚染物の洗浄効果が向上する。
に減圧されたら、超音波振動装置１８を起動する。これ
により発生した超音波振動は、室１６内の超音波振動伝
播媒体液Ｑ２を伝わって、仕切板１４のガラス板１４−
２に伝播し、該ガラス板１４−２を通して洗浄液Ｑ１に
伝播する。このとき洗浄槽１０内が減圧されているか
ら、上記のように、洗浄液Ｑ１中の溶存酸素が除去さ
れ、超音波キャビテーション効果が増大するから、被洗
浄物Ｍに付着する汚染物の洗浄効果が向上する。
【００２８】また、微小な止まり穴等の中の気泡が除去
され、洗浄液Ｑ１の浸入が促進されたり、重なり合った
物の隙間に浸入した洗浄液の移動が促進されて洗浄効果
が向上する。また、汚れた成分と被洗浄物Ｍの間に空気
層が存在する場合は、減圧される時に空気が膨張・破裂
し、汚れた成分の剥離・分離が促進するから、洗浄効果
が向上する。
され、洗浄液Ｑ１の浸入が促進されたり、重なり合った
物の隙間に浸入した洗浄液の移動が促進されて洗浄効果
が向上する。また、汚れた成分と被洗浄物Ｍの間に空気
層が存在する場合は、減圧される時に空気が膨張・破裂
し、汚れた成分の剥離・分離が促進するから、洗浄効果
が向上する。
【００２９】また、本実施形態例では、洗浄液Ｑ１が接
する面は、塩化ビニール材とガラス材の非金属材なの
で、洗浄液Ｑ１中に金属イオンが溶出することがなく、
金属イオンによる汚染を嫌う、例えば半導体デバイスの
製造分野においては極めて効果的である。
する面は、塩化ビニール材とガラス材の非金属材なの
で、洗浄液Ｑ１中に金属イオンが溶出することがなく、
金属イオンによる汚染を嫌う、例えば半導体デバイスの
製造分野においては極めて効果的である。
【００３０】なお、上記実施形態例では、塩化ビニール
板を組み合わせて、洗浄槽本体１１を構成し、洗浄液Ｑ
１との接液部を塩化ビニール材としたが、洗浄槽本体１
１を構成する樹脂板としては他の硬質の樹脂板であって
もよい。また、樹脂板の組合せで構成するものに限定さ
れるものではなく、洗浄液が接する接液面を樹脂材等の
非金属材で構成するものであればよい。
板を組み合わせて、洗浄槽本体１１を構成し、洗浄液Ｑ
１との接液部を塩化ビニール材としたが、洗浄槽本体１
１を構成する樹脂板としては他の硬質の樹脂板であって
もよい。また、樹脂板の組合せで構成するものに限定さ
れるものではなく、洗浄液が接する接液面を樹脂材等の
非金属材で構成するものであればよい。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように各請求項に記載の発
明によれば、少なくとも洗浄液が接する接液面を樹脂材
で構成すると共に内部を０．１Ｔｏｒｒ〜数十Ｔｏｒｒ
の真空度にしても耐えうる構造の洗浄槽と、該洗浄槽内
に収容した洗浄液に超音波振動を与える超音波振動装置
と、洗浄槽内を所定の真空度にまで減圧する真空装置を
具備し、洗浄槽内を所定の真空度に維持した状態で超音
波振動装置で洗浄液に超音波振動を与えながら洗浄する
ので、被洗浄物が金属イオンに汚染されることなく、且
つ減圧と超音波振動の複合作用により、洗浄効果が向上
する。
明によれば、少なくとも洗浄液が接する接液面を樹脂材
で構成すると共に内部を０．１Ｔｏｒｒ〜数十Ｔｏｒｒ
の真空度にしても耐えうる構造の洗浄槽と、該洗浄槽内
に収容した洗浄液に超音波振動を与える超音波振動装置
と、洗浄槽内を所定の真空度にまで減圧する真空装置を
具備し、洗浄槽内を所定の真空度に維持した状態で超音
波振動装置で洗浄液に超音波振動を与えながら洗浄する
ので、被洗浄物が金属イオンに汚染されることなく、且
つ減圧と超音波振動の複合作用により、洗浄効果が向上
する。
【図１】本発明の洗浄装置の構造を示す図で、図１
（ａ）は平面図、図１（ｂ）は（ａ）のＡ側面図、図１
（ｃ）は（ａ）のＢ側面図である。
（ａ）は平面図、図１（ｂ）は（ａ）のＡ側面図、図１
（ｃ）は（ａ）のＢ側面図である。
【図２】本発明の洗浄装置の洗浄槽本体の構造を示す図
で、図２（ａ）は平面図、図２（ｂ）及び（ｃ）は側面
図である。
で、図２（ａ）は平面図、図２（ｂ）及び（ｃ）は側面
図である。
【図３】本発明の洗浄装置の洗浄槽本体の補強リブの取
付け構造を示す図である。
付け構造を示す図である。
【図４】本発明の洗浄装置の洗浄槽本体の補強鍔の構造
を示す図である。
を示す図である。
【図５】本発明の洗浄装置の洗浄槽本体の補強鍔の取付
け構造を示す図である。
け構造を示す図である。
【図６】本発明の洗浄装置の洗浄槽本体の塩化ビニール
の接合構造を示す図である。
の接合構造を示す図である。
【図７】本発明の洗浄装置の洗浄槽本体の仕切板の構成
例を示す図である。
例を示す図である。
【図８】本発明の洗浄装置の全体のシステム構成を示す
図である。
図である。
１０ 洗浄槽 １１ 洗浄槽本体 １２ 蓋体 １３ ヒンジ機構 １４ 仕切板 １５ 洗浄室 １６ 室 １７ 装填具 １８ 超音波振動装置 １９ 吊り下げ具 ２０ 真空ポンプ ２１ モータ ２２ ポンプ ２３ 台板 ２４ 軸 ２５ 棒部材 ２６ パッキン ２７ フィルタ ２８ ヒータ ２９ オイルミストトラップ ３０ 圧力計 ３１ 真空計 ３２，３３ フロースイッチ ３４ 温度計
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも洗浄液が接する接液面を非金
属材で構成すると共に内部を０．１Ｔｏｒｒ〜数十Ｔｏ
ｒｒの真空度にしても耐えうる構造の洗浄槽と、該洗浄
槽内に収容した洗浄液に超音波振動を与える超音波振動
装置と、洗浄槽内を所定の真空度にまで減圧する真空装
置を具備し、 前記洗浄槽内に洗浄液を収容すると共に、該洗浄液中に
浸漬した被洗浄物を前記真空装置で該洗浄槽内を所定の
真空度に維持した状態で前記超音波振動装置で該洗浄液
に超音波振動を与えながら洗浄することを特徴とする洗
浄装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の洗浄装置において、 前記洗浄槽は主に肉厚の塩化ビニール板を組み合わせて
構成することを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項３】 請求項１又は２に記載の洗浄装置におい
て、 前記洗浄槽は非金属材からなる振動板で仕切られてお
り、該仕切られた一方の室に洗浄液を収容すると共に、
他方の室に超音波振動伝播媒体液を収容し該液中に超音
波振動装置を配置したことを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15332298A JPH11345796A (ja) | 1998-06-02 | 1998-06-02 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15332298A JPH11345796A (ja) | 1998-06-02 | 1998-06-02 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11345796A true JPH11345796A (ja) | 1999-12-14 |
Family
ID=15559970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15332298A Pending JPH11345796A (ja) | 1998-06-02 | 1998-06-02 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11345796A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002066455A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-05 | Chiyoda Manufacturing Co Ltd | 超音波振動子及び超音波処理装置 |
| WO2008048003A1 (en) * | 2006-10-20 | 2008-04-24 | Korea Institute Of Machinery & Materials | Cleaning apparatus using ultrasonic waves |
| WO2008048001A1 (en) * | 2006-10-20 | 2008-04-24 | Korea Institute Of Machinery & Materials | Megasonic cleaning module |
| WO2017030073A1 (ja) * | 2015-08-20 | 2017-02-23 | セントラル硝子株式会社 | ウェハの洗浄方法及び該洗浄方法に用いる薬液 |
| JP2017168804A (ja) * | 2015-08-20 | 2017-09-21 | セントラル硝子株式会社 | ウェハの洗浄方法及び該洗浄方法に用いる薬液 |
-
1998
- 1998-06-02 JP JP15332298A patent/JPH11345796A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002066455A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-05 | Chiyoda Manufacturing Co Ltd | 超音波振動子及び超音波処理装置 |
| JP4497679B2 (ja) * | 2000-08-25 | 2010-07-07 | サクラ精機株式会社 | 超音波振動子及び超音波処理装置 |
| WO2008048003A1 (en) * | 2006-10-20 | 2008-04-24 | Korea Institute Of Machinery & Materials | Cleaning apparatus using ultrasonic waves |
| WO2008048001A1 (en) * | 2006-10-20 | 2008-04-24 | Korea Institute Of Machinery & Materials | Megasonic cleaning module |
| US8011378B2 (en) | 2006-10-20 | 2011-09-06 | Korea Institute Of Machinery & Materials | Megasonic cleaning module |
| WO2017030073A1 (ja) * | 2015-08-20 | 2017-02-23 | セントラル硝子株式会社 | ウェハの洗浄方法及び該洗浄方法に用いる薬液 |
| JP2017168804A (ja) * | 2015-08-20 | 2017-09-21 | セントラル硝子株式会社 | ウェハの洗浄方法及び該洗浄方法に用いる薬液 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2008119642A (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
| US3688527A (en) | Apparatus for cleaning resilient webs | |
| JPH11345796A (ja) | 洗浄装置 | |
| Moussatov et al. | Ultrasonic cavitation in thin liquid layers | |
| JP2010153541A (ja) | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 | |
| US3829328A (en) | Method for cleaning resilient webs | |
| JPH0234923A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP2003145071A (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
| JP3515668B2 (ja) | 超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置 | |
| JPH05169039A (ja) | 超音波洗浄方法 | |
| JP2836888B2 (ja) | 板状体の洗浄方法 | |
| JP2017112140A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2789178B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP2005081163A (ja) | キャリアプレートの製造方法 | |
| US6827791B2 (en) | Method for removing paint from a substrate | |
| JPH05109685A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH10137705A (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH0924349A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH01316935A (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH01304089A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP3040788B2 (ja) | 洗浄乾燥装置 | |
| JP3006785U (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| Dauchez et al. | Validation of 3-D poroelastic finite element from the impedance measurement of a vibrating foam sample | |
| JPS61207022A (ja) | 純水洗浄装置 | |
| JP2808216B2 (ja) | 超音波洗浄槽内の音場評価方法 |