JPH11339560A - 銀ペースト - Google Patents

銀ペースト

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JPH11339560A
JPH11339560A JP14885098A JP14885098A JPH11339560A JP H11339560 A JPH11339560 A JP H11339560A JP 14885098 A JP14885098 A JP 14885098A JP 14885098 A JP14885098 A JP 14885098A JP H11339560 A JPH11339560 A JP H11339560A
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JP
Japan
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silver
paste
powder
boric acid
thick
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JP14885098A
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English (en)
Inventor
Tetsuya Ikeda
哲也 池田
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】銀材料の安価、低抵抗という特徴を維持しなが
ら、導電体層として用いたときの、銀の絶縁体層への拡
散を抑えた銀ペーストを提供する。 【解決手段】硼酸を付着させた、銀粉末または銀を主成
分とする合金粉末が、有機ビヒクル中に分散している。
硼酸の量は、硼素原子に換算して、銀粉末または銀を主
成分とする合金粉末100重量部に対して、0.005
〜5.0重量部が好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、厚膜印刷多層基
板、セラミック多層基板などの導電体として用いられる
銀ペーストに関する。
【0002】
【従来の技術】電子機器の高機能化や小型化にともな
い、より多くの半導体ICやその他の表面実装部品を、
回路基板上に実装することがますます必要となってき
た。それに答えて、厚膜絶縁体層と厚膜導電体層をペー
ストの塗布・焼成により形成した厚膜印刷多層基板や、
導電体ペーストを塗布して導電体層を形成したセラミッ
クグリーンシートを積層・焼成して形成した、セラミッ
ク多層基板などが実用化されてきた。そして、これら導
電体層の形成用ペーストとしては、例えば、銀ペースト
が用いられてきた。これは、銀は、材料として安価であ
り、空気中での焼成が可能であり、さらに焼成膜、即ち
配線の抵抗値が低いという優れた特性を持っているため
である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
銀ペーストの場合、焼成中に銀が拡散して基板やガラス
が黄変し、外観不良さらには絶縁抵抗の劣化を引き起こ
してしまうという問題点を有していた。特に、ペースト
の塗布・焼成により形成した厚膜絶縁体層上に銀ペース
ト層を焼成して形成した場合、またはペーストの塗布に
より形成した厚膜絶縁体層と銀ペースト層とを同時焼成
した場合に、この現象が著しかった。
【0004】この問題を解決するため、従来は、銀に少
量のパラジウム、白金などを加えた合金材料を使用して
いた。しかしながら、このような合金材料は、貴金属を
含有するため高価であり、銀の拡散抑制効果が十分でな
く、さらに、配線の抵抗値が高くなり、電気信号の遅延
が生じて高周波化への対応が困難となっていた。
【0005】また、厚膜絶縁体層形成用のペースト成分
として非晶質ガラスを用いると、特に銀電極からの拡散
が大きくなる傾向があった。この銀拡散を防止するため
に、ペースト成分として結晶化ガラスを用いる方法もあ
るが、基板との接着性が悪く、得られた絶縁体層上部に
電極を形成し部品を搭載する場合、強度に対する信頼性
が悪くなるという問題があった。
【0006】そこで、本発明の目的は、上記問題を解決
して、銀材料の安価、低抵抗という特徴を維持しなが
ら、導電体層として用いたときの、銀の絶縁体層への拡
散を抑えた銀ペーストを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の銀ペーストは、硼酸を付着させた、銀粉末
または銀を主成分とする合金粉末が、有機ビヒクル中に
分散していることを特徴とする。
【0008】また、前記硼酸の量は、硼素原子に換算し
て、前記銀粉末または銀を主成分とする合金粉末100
重量部に対して、0.005〜5.0重量部であること
を特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を実施
例に基づき説明する。
【0010】(実施例)まず、以下のようにして、銀粉
末に硼酸を付着させた。すなわち、粒子径が0.5〜5
μmの銀粉末100gと、この銀粉末100重量部に対
して、硼素原子に換算して0.004〜7.6重量部の
範囲の所定量となる硼酸と、この硼酸の0.5wt%溶
液が得られる量のアセトンをそれぞれ用意した。そし
て、用意した硼酸をアセトンに溶解した後、銀粉末を加
えて1時間混合処理した。その後、減圧下、40〜50
℃の温度で溶剤であるアセトンを蒸発除去し、乾燥させ
て、表1に示す、所定量の硼素が硼酸として表面に付着
した銀粉末を得た。なお従来例として、硼酸を付着させ
ていない銀粉末(表1の試料番号12)も準備した。
【0011】その後、得られた銀粉末と、エチルセルロ
ース系樹脂をターピネオールに溶解した有機ビヒクルと
を4/1の重量比で混合し、混練して、銀ペーストを作
製した。
【0012】一方、ホウケイ酸系の非晶質ガラス粉末と
フィラーとしてのアルミナ粉末を、エチルセルロース系
の樹脂をターピネオールに溶解した有機ビヒクルに分散
させて絶縁体ペーストを作製した。
【0013】次に、図1に示すように、アルミナ基板1
の上に、以下のようにして厚膜導電体層を形成した。即
ち、まず、アルミナ基板1の上に、先に準備した銀ペー
ストを所定形状にスクリーン印刷し、150℃で10分
間で乾燥させた。その後、連続焼成炉を用いて、最高温
度850℃で10分間保持のプロファイルで焼成して、
銀からなる厚膜導電体層2を形成した。
【0014】その後、厚膜導電体層2の上に、先に準備
した絶縁体ペーストをスクリーン印刷し、150℃で1
0分間で乾燥させた。続いて同様にして、このペースト
層の上に重ねて絶縁体ペースト層を形成した。その後、
連続焼成炉を用いて最高温度850℃で10分間保持の
プロファイルで焼成して、厚み20〜40μmの厚膜絶
縁体層3を形成した。以上のようにして、厚膜印刷多層
基板を得た。
【0015】ところで、絶縁体層へ銀が拡散するにした
がって、絶縁体層が黄変することが知られている。した
がって、得られた厚膜印刷基板について、絶縁体層の黄
変度合いを目視で観察することにより、絶縁体層への銀
の拡散度合いを確認した。表1にその結果を示す。表1
の銀拡散量の欄において、〇印は目視により絶縁体層の
黄変が認められなかったものであり、×印は目視により
絶縁体層の黄変が認められたものである。
【0016】また、導電体層2のアルミナ基板1への接
着強度を測定した。すなわち、得られた厚膜印刷多層基
板の導電体層の露出部分に垂直にリード線をはんだ付け
し、このリード線を導電体層面に垂直に引張って、導電
体層の接着強度を求めた。表1にその結果を示す。表1
の接着強度の欄において、〇印は接着強度が2.0kg
f以上/2mm□のものであり、×印は2.0kgf未
満/2mm□のものである。
【0017】
【表1】
【0018】表1において、*印を付したもの以外は、
本発明のうちで、請求項2にかかる最も好ましい範囲の
ものである。
【0019】表1より明らかな通り、硼酸が付着した銀
粉末を有機ビヒクルに分散させた銀ペーストを用いるこ
とにより、硼酸が付着していない銀粉末を用いた試料番
号12と比較して、絶縁体層への銀の拡散が抑えられた
厚膜印刷基板を得ることができる。
【0020】そして、硼酸の量としては、試料番号2〜
10に示すように、硼素原子に換算して、前記銀粉末1
00重量部に対して、0.005〜5.0重量部の範囲
内が好ましい。
【0021】さらに、得られた試料番号5および試料番
号12について、その厚膜印刷層の面を垂直にカットし
た断面について、電子線微小分析法(EPMA)で銀の
拡散状態を分析した。得られた試料番号5のAgのマッ
ピング図を図2に示す。試料番号12のAgのマッピン
グ図を図3に、それぞれ示す。
【0022】図2、3より明らかな通り、硼酸が付着し
た銀粉末を有機ビヒクルに分散させた銀ペースト(試料
番号5)を用いることにより、硼酸を付着していない銀
ペースト(試料番号12)を用いた場合と比較して、絶
縁体層への銀の拡散が抑えられた厚膜印刷基板を得るこ
とができる。
【0023】なお、上記実施例は、導電体層材料とし
て、銀粉末を有機ビヒクルに分散させた場合について説
明したが、本発明は、これのみに限定されるものではな
い。銀粉末以外に、金、パラジウム、白金などを含有し
た銀を主成分とする合金粉末のペーストの場合にも、同
様の効果を得ることができる。
【0024】また、上記実施例の銀ペーストは、導電体
粉末としての銀粉末と、有機ビヒクルとからなっている
が、さらに、ガラスフリットなどの無機バインダをペー
ストに加えてもよい。
【0025】また、硼酸を溶解させる溶媒としては、ケ
トン系、炭化水素系または芳香族系のいずれかの溶媒を
適宜用いることができる。そしてケトン系溶媒の具体例
としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トンなどが挙げられる。炭化水素系溶剤としては、ヘキ
サン、ヘプタンなどが挙げられる。芳香族系溶媒として
は、ベンゼン、キシレン、トルエンなどが挙げられる。
【0026】また、銀ペーストに用いる有機ビヒクル
は、銀粉末に適当なレオロジーを持たせるために用いら
れ、例えばターピネオール、ブチルカルビトール、ブチ
ルカルビトールアセテートなどの高沸点溶剤にエチルセ
ルロース、アクリル系樹脂などを溶解したものを用いる
ことができる。そして、その配合比率は、銀ペースト全
量中の15〜30重量%である。
【0027】さらに、上記実施例においては、銀ペース
トを、厚膜印刷多層基板用の導電体層形成用として用い
た場合について説明したが、セラミックグリーンシート
を積層・焼成して形成するセラミック多層基板の導電体
層材料として用いても、同様の効果を得ることができ
る。
【0028】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
銀ペーストは、硼酸が付着した銀粉末または銀を主成分
とする合金粉末を有機ビヒクル中に分散させたものであ
る。そしてこれにより、銀材料の安価、低抵抗という特
徴を維持しながら、絶縁体層への銀の拡散を抑えた銀ペ
ーストを得ることができる。
【0029】したがって、この銀ペーストを厚膜導電体
層の形成用として用いることにより、外観が良好でかつ
信頼性の高い、厚膜印刷多層基板やセラミック多層基板
などを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】厚膜印刷多層基板の一例を示す断面図である。
【図2】本発明における、絶縁体層中への銀の拡散度合
いのEPMA分析(マッピング分析)結果を示す図であ
る。
【図3】従来例における、絶縁体層中への銀の拡散度合
いのEPMA分析(マッピング分析)結果を示す図であ
る。
【符号の説明】
1 アルミナ基板 2 厚膜導電体層 3 厚膜絶縁体層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 硼酸を付着させた、銀粉末または銀を主
    成分とする合金粉末が、有機ビヒクル中に分散している
    ことを特徴とする、銀ペースト。
  2. 【請求項2】 前記硼酸の量は、硼素原子に換算して、
    前記銀粉末または銀を主成分とする合金粉末100重量
    部に対して、0.005〜5.0重量部であることを特
    徴とする、請求項1に記載の銀ペースト。
JP14885098A 1998-05-29 1998-05-29 銀ペースト Pending JPH11339560A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JPWO2016114118A1 (ja) * 2015-01-13 2017-04-27 日本特殊陶業株式会社 回路基板およびその製造方法

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