JPH11338146A - ポジ型画像形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた現像ラチチュードを示す高感度なポジ
型画像形成材料を提供することを課題とする。 【解決手段】 以下の成分を含有するポジ型画像形成材
料である。 ａ）重合性オニウム塩 ｂ）水に不溶で、かつアルカリ水に可溶な高分子化合物 ここにいう重合性オニウム塩とは、カチオン部またはア
ニオン部に重合性基を有するオニウム塩をいう。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ポジ型画像形成材
料に関し、例えば、平版印刷版、多色印刷の校正版、オ
ーバーヘッドプロジェクター用図面、半導体素子の集積
回路を製造する際に用いる微細なレジストパターンを形
成し得るポジ型画像形成材料に関する。さらに、本発明
は、レーザ等を用いて、コンピュータ等からのデジタル
信号から直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能
な平版印刷版用版材に使用するのに適したポジ型画像形
成材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】多くのポジ型画像形成材料は、アルカリ
水に可溶な高分子と、該高分子のアルカリ水への溶解を
阻止する化合物（以下「溶解阻止剤」という。）とを含
有する。このような構成のポジ型画像形成材料は、溶解
阻止剤が光や熱により分解して溶解抑制作用を消失する
ことによって、いわゆるポジ作用を発現するものであ
る。ところで、オニウム塩や、アルカリ水に不溶で水素
結合可能な化合物は、水素結合等の相互作用により、高
分子のアルカリ水への溶解を抑制することが知られてい
る。オニウム塩等（以下、「溶解阻止剤」という場合が
ある。）のこのような性質を、ポジ型画像形成材料に利
用する技術が種々研究されてきた。例えば、ＷＯ９７／
３９８９４明細書には、溶解阻止剤としてカチオン性赤
外線吸収色素を用いた赤外線レーザ対応のポジ型画像形
成材料について記載されている。この色素は、自ら赤外
線レーザ光を吸収することによって発熱し、その熱によ
り溶解阻止作用を消失するものである。しかし、このポ
ジ型画像形成材料のポジ作用は、レーザ照射される材料
表面では優れているが、発生する熱が材料の深部までは
十分に到達せず、深部のポジ作用は不十分である。その
結果、アルカリ現像しても、非露光部と露光部のディス
クリミネーションが明瞭になりにくく、感度および現像
ラチチュードの点で問題があった。また、特開平６−８
３０４７号公報には、溶解阻止剤としてジアゾニウム塩
を用いた紫外線対応のポジ型画像形成材料について記載
されている。ジアゾニウム塩は紫外線照射により光分解
し、溶解阻止作用を消失するものである。このポジ型画
像形成材料は現像速度が速く良好な画像形成性を有して
いたが、画像形成材料の高感度化が要請される現況にお
いては、感度の点でさらなる改善の余地があった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記問題点
を解決し、さらに感度が向上したポジ型画像形成材料を
提供することを目的とする。即ち、優れた現像ラチチュ
ードを示す高感度なポジ型画像形成材料を提供すること
を目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、オニウム
塩の溶解抑制作用について鋭意研究を重ねた結果、アア
ニオン部またはカチオン部に重合性基を有するオニウム
塩は、光または熱を与えることにより、その溶解抑制作
用を消失することを見出し、この知見に基づいて本発明
を完成するに至った。

【０００５】即ち、前記課題は、ａ）重合性オニウム塩
と、ｂ）水に不溶で、かつアルカリ水に可溶な高分子化
合物とを含有するポジ型画像形成材料により解決する。
本発明のポジ型画像形成材料のポジ作用の発現機構の詳
細については、必ずしも明らかになっていないが、高分
子化したオニウム塩は、溶解抑制作用を有さないことは
実験で確認されている。従って、重合性オニウム塩が、
光または熱により分解することにより溶解抑制作用が消
失するとともに、重合性オニウム塩が高分子化すること
によっても溶解抑制作用が消失するものと考えられる。
この２つの消失効果により、重合性オニウム塩が添加さ
れたポジ型画像形成材料は、従来のオニウム塩（重合性
基を有さないもの）が添加されたものと比較して、感度
および現像ラチチュードが格段に高くなると推測され
る。このように本発明のポジ型画像形成材料を用いる
と、ヒートモード、あるいはフォトンモードの書き込み
により、容易に平版印刷版等を製造することができる。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明を、実施の形態を挙げてさ
らに詳細に説明する。まず、重合性オニウム塩について
説明する。ここにいう重合性オニウム塩とは、カチオン
部に重合性基を有するオニウム塩または対アニオン部に
重合性基を有するオニウム塩をいう。例えば、アンモニ
ウム塩、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、オキソニウ
ム塩、スルホニウム塩、セレニウム塩、ホスホニウム
塩、カルベニウム塩等のカチオン部に重合性基を有する
もの、またはこれらの塩の対アニオン部に重合性基を有
するもの等が挙げられる。重合性基としては、熱重合性
基、光重合性基、ラジカル重合性基、カチオン重合性
基、およびアニオン重合性基等が挙げられる。本発明に
用いる好ましい重合性オニウム塩は、以下の式（１）ま
たは（２）で表わされる。

【０００７】

【化１】

【０００８】

【化２】

【０００９】式（１）中、Ａは陽イオン化した元素を含
み、連結基Ｂ、重合性基Ｃとともに重合性オニウム塩の
カチオン部を構成する。Ａは、例えば、以下の構造を有
するものが好ましい。

【００１０】

【化３】

【００１１】式（２）中、Ａ’は陽イオン化した元素を
含み、重合性オニウム塩のカチオン部を構成する。例え
ば、以下の構造を有するものが好ましい。

【００１２】

【化４】

【００１３】これらの中でも、Ａ−１）とＡ’−１）の
アンモニウムイオン、Ａ−２）とＡ’−２）のジアゾニ
ウムイオン、Ａ−４）とＡ’−４）のスルホニウムイオ
ン、Ａ−８）とＡ’−８）のヨードニウムイオンが好ま
しい。

【００１４】Ａ−１）〜Ａ−８）およびＡ’−１）〜
Ａ’−８）中、Ｒ¹ 〜Ｒ³⁸は独立してアルキル基、アリ
ール基、アルケニル基、またはアリール基を示し、これ
らの基は置換基を有していてもよい。さらに、例えばＡ
−１）中のＲ¹ とＲ² 、またはＲ² とＲ³ 等、同一の陽
イオン化した原子に結合している置換基は、互いに結合
して環を形成していてもよい。

【００１５】アルキル基としては、炭素原子数が１から
２０までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基が
挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、
２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、シクロペンチル基、２一ノルボルニル基を
挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキ
ル基がより好ましい。

【００１６】置換アルキル基は、置換基とアルキレン基
との結合により構成され、置換基としては、水素を除く
一価の非金属原子団が用いられる。好ましい例として
は、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃ１、−Ｉ）、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカ
プト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジ
チオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
リールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルア
ミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、
Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウ
レイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジ
アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリ一ル
ウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’
−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−
ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アリール
−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリ
ールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−ア
ルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−
Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ
−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−
アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル
基、カルボキシル基、及びその共役塩基基（以下、「カ
ルボキシラート」という。）、アルコキシカルボニル
基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−
アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモ
イル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリ
ールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカル
バモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、スルホ基（−ＳＯ₃ Ｈ）及びその共役塩基（以下、
「スルホナト基」という。）、アルコキシスルホニル
基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、
Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキル
スルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アル
キル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイ
ル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアル
キルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキ
ル−Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アシルスルフ
ァモイル基及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニ
ルスルファモイル基（−ＳＯ₂ ＮＨＳＯ₂ Ｒ、Ｒはアル
キル基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アリールス
ルホニルスルファモイル基（−ＳＯ₂ ＮＨＳＯ₂ Ａｒ、
Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−
アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂
Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ
−アリ一ルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ
₂ Ａｒ、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基
基、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＲ）₃ 、Ｒはアル
キル基を表す。）、アリーロキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏ
Ａｒ）₃ 、Ａｒはアリール基を表す。）、ヒドロキシシ
リル基（−Ｓｉ（ＯＨ）₃ ）及びその共役塩基基、ホス
ホノ基（一ＰＯ₃ Ｈ₂ ）及びその共役塩基基（以下、
「ホスホナト基」という。）、ジアルキルホスホノ基
（−ＰＯ₃ Ｒ₂ 、Ｒはアルキル基を表す。）、ジアリー
ルホスホノ基（−ＰＯ₃ Ａｒ₂ 、Ａｒはアリール基を表
す。）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ₃ （Ｒ）
（Ａｒ）、Ｒはアルキル基、Ａｒはアリール基を表
す。）モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ₃ Ｈ（Ｒ）、Ｒ
はアルキル基を表す。）及びその共役塩基基（以下、
「アルキルホスホナト基」という。）、モノアリールホ
スホノ基（−ＰＯ₃ Ｈ（Ａｒ）、Ａｒはアリール基を表
す。）及びその共役塩基基（以下、「アリールホスホナ
ト基」という。）、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ
₃ Ｈ₂ ）及びその共役塩基基（以下、「ホスホナトオキ
シ基」という。）、ジアルキルホスホノオキシ基（−Ｏ
ＰＯ₃ （Ｒ）₂ 、Ｒはアルキル基を表す。）、ジアリー
ルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃ （Ａｒ）₂ 、Ａｒはア
リール基を表す。）、アルキルアリールホスホノオキシ
基（−ＯＰＯ₃ （Ｒ）（Ａｒ）、Ｒはアルキル基、Ａｒ
はアリール基を表す。）、モノアルキルホスホノオキシ
基（−ＯＰＯ₃ Ｈ（Ｒ）、Ｒはアルキル基を表す。）及
びその共役塩基基（以下、「アルキルホスホナトオキシ
基」という。）、モノアリールホスホノオキシ基（−Ｏ
ＰＯ₃ Ｈ（Ａｒ） Ａｒはアリール基を表す。）及びそ
の共役塩基基（以下、「アリ一ルホスホナトオキシ基」
という。）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケ
ニル基、アルキニル基が挙げられる。

【００１７】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオ
フェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノ
フェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル
基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェ
ニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、
ホスホナトフェニル基等を挙げることができる。また、
アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル
基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−
エテニル基、等があげられ、アルキニル基の例として
は、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、
トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等が
挙げられる。前記のアシル基（Ｒ³⁹ＣＯ−）としては、
Ｒ³⁹が水素原子及び前記のアルキル基、アリール基を挙
げることができる。これらの置換基のうち、更により好
ましいものとしては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−
Ｃ１、−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−ア
ルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイ
ルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキ
シカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−ア
リールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカ
ルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイ
ル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアル
キルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキ
ル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホ
スフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホ
スフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホス
フォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホス
フォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ
基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。

【００１８】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては、前述の炭素数１から２０までのアルキル基
上の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基と
したものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１
から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分
岐状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキ
レン基を挙げることができる。好ましい置換アルキル基
の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、
２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ
メチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメ
チル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、ト
リルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルア
ミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキ
シメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘ
キシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカル
バモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ
−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチ
ル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、
メトキシカルボニルエチル基、メトキシカルボニルメチ
ル基、メトキシカルボニルブチル基、エトキシカルボニ
ルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキ
シカルボニルメチル基、ベンジルオキシカルボニルメチ
ル基、メトキシカルボニルフェニルメチル基、トリクロ
ロメチルカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニル
ブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カル
バモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルガルバモイルメチル基、Ｎ−（メト
キシフェニル）ガルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ
−（スルホフェニル）ガルバモイルメチル基、スルホプ
ロピル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スル
ファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル
基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ
−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−
（ホスホノフェニル）スルファイルオクチル基、ホスフ
ォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホス
フォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メ
チルホスフォノブチル基、メチルフォスホナトブチル
基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルフォスホナト
ヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナ
トオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メ
チルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、
ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−
プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリ
ル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル
基、２一ブチニル基、３−ブチニル基、等を挙げること
ができる。

【００１９】アリール基としては１個から３個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和
環が縮合環を形成したものをあげることができ、具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フ
ルオレニル基、を挙げることができ、これらの中でも、
フェニル基、ナフチル基がより好ましい。

【００２０】置換アリール基は、前記のアリール基の環
形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金
属原子団を有するものが用いられる。このような置換ア
リール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、ト
リル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロ
フェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、
クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル
基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メト
キシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フ
ェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチ
オフェニル基、フェニルチオフェニル基、エチルアミノ
フェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフ
ェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキ
シフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシ
フェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル
基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル
基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、ガルバモ
イルフェニル基、Ｎ−メチルガルバモイルフェニル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メ
トキシフェニル）ガルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル
−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイ
ルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−ト
リルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホ
スホノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスホノ
フェニル基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノ
フェニル基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホ
スホノフェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリ
ルホスホノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、
アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、
２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフ
ェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフ
ェニル基、３−ブチニルフェニル基、等を挙げることが
できる。

【００２１】アルケニル基、置換アルケニル基（−Ｃ
（Ｒ⁴⁰）＝Ｃ（Ｒ⁴¹）（Ｒ⁴²））、アルキニル基、置換
アルキニル基（−Ｃ≡Ｃ（Ｒ⁴³）（Ｒ⁴⁴））としては、
Ｒ⁴⁰〜Ｒ⁴⁴が一価の非金属原子団であるものを使用でき
る。Ｒ⁴⁰〜Ｒ⁴⁴の例としては、水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、ならび
に置換アリール基を挙げることができる。これらの具体
例としては、前述の例として示したものが挙げられる。
より好ましい置換基としては、水素原子、ハロゲン原
子、ならびに炭素原子数１から１０までの直鎖状、分岐
状、環状のアルキル基を挙げることができる。これらの
具体例としては、ビニル基、１−ブテニル基、１−ペン
テニル基、１−ヘキセニル基、１−オクテニル基、１−
メチル−１−プロぺニル基、２−メチル−１−プロペニ
ル基、２−メチル−１−ブテニル基、２−フェニル−１
−エテニル基、２−クロロ−１−エテニル基、エチニル
基、プロピニル基、フェニルエチニル基を挙げることが
できる。

【００２２】Ｒ¹ 〜Ｒ³⁸のより好ましい具体例として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、
イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチル
ブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ア
リル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２
−メチルアリル基、２−メチルプロペニル基、２−プロ
ピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、ベンジル
基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル
−１−フェネチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミ
ル基、ヒドロキシエチル基、メトキシエチル基、フェノ
キシエチル基、アリロキシエチル基基、メトキシエチル
基、エトキシエトキシエチル基、モルホリノエチル基、
モルホリノプロピル基、スルホプロピル基、スルホナト
プロピル基、スルホブチル基基、スルホナトブチル基、
カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシ
プロピル基、メトキシカルボニルエチル基、２−エチル
ヘキシルオキシカルボニルエチル基、フェノキシカルボ
ニルメチル基、メトキシカルボニルプロピル基基、Ｎ−
メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−エチルアミノカ
ルバモイルメチル基基、Ｎ−フェニルカルバモイルプロ
ピル基、Ｎ−トリルスルファモイルブチル基、ｐ−トリ
エンスルホニルアミノプロピル基、ベンゾイルアミノヘ
キシル基基、ホスフォノメチル基、ホスフォノエチル
基、ホスフォノプロピル基、ｐ−ホスフォノベンジルア
ミノカルボニルエチル基、ホスフォナトメチル基、ホス
フォナトプロピル基、ホスフォナトブチル基、ｐ−ホス
フォナトベンジルアミノカルボニルエチル基、ビニル
基、エチニル基を挙げることができる。

【００２３】式（１）のＢは、カチオン部において重合
性基と陽イオン化した元素を連結する。また、式（２）
のＢは、アニオン部において重合性基と陰イオン化した
元素を連結する。連結基Ｂは、Ｎ，Ｓ，Ｃ，Ｏ，Ｐ，
Ｈ，Ｃｌ，Ｆ，Ｂｒ，およびＳｉからなる元素群から選
ばれる元素の組み合わせにより構成される２〜６価の基
である。Ｒ¹ 〜Ｒ³⁸の例として挙げたアルキル基、置換
アルキル基、アリール基、置換アリール基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル
基から１〜５個の水素を除いた２〜６価の基、または以
下の基の組み合わせからなる２〜６価の基が好ましい。

【００２４】

【化５】

【００２５】好ましい連結基Ｂの部分構造の具体例を以
下に示す。

【００２６】

【化６】

【００２７】式（１）および式（２）中のＣは、重合性
基を示す。重合性基Ｃとしては、熱重合性基、ラジカル
重合性基、カチオン重合性基、アニオン重合性基等が挙
げられる。重合の態様により重合性基を明確に区別する
ことはできないので、以下のモノマーから水素原子を１
つ除いた１価の基を重合性基Ｃの例として挙げる。アク
リル酸、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メ
タクリル酸、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミ
ド類、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸エステ
ル類、マレイン酸アミド類、マレイン酸イミド類、イタ
コン酸、イタコン酸無水物、イタコン酸エステル類、イ
タコン酸アミド類、イタコン酸イミド類、クロトン酸、
クロトン酸エステル類、クロトン酸アミド類、フマル
酸、フマル酸エステル類、フマル酸アミド類、メサコン
酸、メサコン酸エステル類、メサコン酸アミド類、α、
β- 不飽和ラクトン類、α、β- 不飽和ラクタム類、不
飽和炭化水素類、ビニルエーテル類、ビニルエステル
類、α、β- 不飽和ケトン類、スチレン類、環状エーテ
ル類、環状スルフィド類、環状アミン類、環状ジスルフ
ィド類、アルデヒド類、環状アセタール類、ラクトン
類、ラクタム類、環状カーボネート類、環状ウレア類、
環状ウレタン類、環状酸無水物類、スピロオルトカーボ
ネート類、スピロオルトエステル類、アクリロニトリル
等が挙げられる。

【００２８】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ- 又は
ｉ- ）プロピルアクリレート、（ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ-
又はｔ- ）ブチルアクリレート、ペンチルアクリレー
ト、ヘキシルアクリレート、へプチルアクリレート、オ
クチルアクリレート、ノニルアクリレート、デシルアク
リレート、アミルアクリレート、2-エチルヘキシルアク
リレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリ
レート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキ
シプロピルアクリレート、5-ヒドロキシペンチルアクリ
レート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレ
ート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペン
タエリスリトールモノアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジル
アクリレート、ヒドロキシベンジルアクリレート、ヒド
ロキシフェネチルアクリレート、ジヒドロキシフェネチ
ルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒド
ロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、ヒ
ドロキシフェニルアクリレート、クロロフェニルアクリ
レート、スルファモイルフェニルアクリレート、2-（ヒ
ドロキシフェニルカルボニルオキシ）エチルアクリレー
ト等が挙げられる。

【００２９】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、Ｎ- メチルアクリルアミド、Ｎ- エチルア
クリルアミド、Ｎ- （ｎ- 又はｉ- ）プロピルアクリル
アミド、Ｎ- （ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ- 又はｔ- ）アクリ
ルアミド、Ｎ- ベンジルアクリルアミド、Ｎ- ヒドロキ
シエチルアクリルアミド、Ｎ- フェニルアクリルアミ
ド、Ｎ- トリルアクリルアミド、Ｎ- （ヒドロキシフェ
ニル）アクリルアミド、Ｎ- （スルファモイルフェニ
ル）アクリルアミド、Ｎ- （フェニルスルホニル）アク
リルアミド、Ｎ- （トリルスルホニル）アクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ- ジメチルアクリルアミド、Ｎ- メチル- Ｎ
- フェニルアクリルアミド、Ｎ- ヒドロキシエチル- Ｎ
- メチルアクリルアミド等が挙げられる。

【００３０】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ- 又はｉ- ）プロピルメタクリレート、（ｎ- 、ｉ
- 、ｓｅｃ- 又はｔ- ）ブチルメタクリレート、ペンチ
ルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、へプチル
メタクリレート、オクチルメタクリレート、ノニルメタ
クリレート、デシルメタクリレート、アミルメタクリレ
ート、2-エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタ
クリレート、クロロエチルメタクリレート、2-ヒドロキ
シエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタク
リレート、5-ヒドロキシペンチルメタクリレート、シク
ロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、ト
リメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリ
スリトールモノメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジル
メタクリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、
ヒドロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフ
ェネチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタ
クリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロ
ロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメ
タクリレート、2-（ヒドロキシフェニルカルボニルオキ
シ）エチルメタクリレート等が挙げられる。

【００３１】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、Ｎ- メチルメタクリルアミド、Ｎ- エ
チルメタクリルアミド、Ｎ- （ｎ- 又はｉ- ）プロピル
メタクリルアミド、Ｎ- （ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ- 又はｔ
- ）メタクリルアミド、Ｎ-ベンジルメタクリルアミ
ド、Ｎ- ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ- フェ
ニルメタクリルアミド、Ｎ- トリルメタクリルアミド、
Ｎ- （ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ-
（スルファモイルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ-
（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ- （トリ
ルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ- ジメチルメ
タクリルアミド、Ｎ- メチル- Ｎ- フェニルメタクリル
アミド、Ｎ- ヒドロキシエチル- Ｎ- メチルメタクリル
アミド等が挙げられる。

【００３２】クロトン酸エステル類の具体例としては、
メチルクロトネート、エチルクロトネート、（ｎ- 又は
ｉ- ）プロピルクロトネート、（ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ-
又はｔ- ）ブチルクロトネート、ペンチルクロトネー
ト、ヘキシルクロトネート、へプチルクロトネート、オ
クチルクロトネート、ノニルクロトネート、デシルクロ
トネート、アミルクロトネート、2-エチルヘキシルクロ
トネート、ドデシルクロトネート、クロロエチルクロト
ネート、2-ヒドロキシエチルクロトネート、2-ヒドロキ
シプロピルクロトネート、5-ヒドロキシペンチルクロト
ネート、シクロヘキシルクロトネート、アリルクロトネ
ート、トリメチロールプロパンモノクロトネート、ペン
タエリスリトールモノクロトネート、ベンジルクロトネ
ート、メトキシベンジルクロトネート、クロロベンジル
クロトネート、ヒドロキシベンジルクロトネート、ヒド
ロキシフェネチルクロトネート、ジヒドロキシフェネチ
ルクロトネート、フルフリルクロトネート、テトラヒド
ロフルフリルクロトネート、フェニルクロトネート、ヒ
ドロキシフェニルクロトネート、クロロフェニルクロト
ネート、スルファモイルフェニルクロトネート、2-（ヒ
ドロキシフェニルカルボニルオキシ）エチルクロトネー
ト等が挙げられる。

【００３３】クロトン酸アミド類の具体例としては、ク
ロトン酸アミド、Ｎ- メチルクロトン酸アミド、Ｎ- エ
チルクロトン酸アミド、Ｎ- （ｎ- 又はｉ- ）プロピル
クロトン酸アミド、Ｎ- （ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ- 又はｔ
- ）クロトン酸アミド、Ｎ-ベンジルクロトン酸アミ
ド、Ｎ- ヒドロキシエチルクロトン酸アミド、Ｎ- フェ
ニルクロトン酸アミド、Ｎ- トリルクロトン酸アミド、
Ｎ- （ヒドロキシフェニル）クロトン酸アミド、Ｎ-
（スルファモイルフェニル）クロトン酸アミド、Ｎ-
（フェニルスルホニル）クロトン酸アミド、Ｎ- （トリ
ルスルホニル）クロトン酸アミド、Ｎ，Ｎ- ジメチルク
ロトン酸アミド、Ｎ- メチル- Ｎ- フェニルクロトン酸
アミド、Ｎ- ヒドロキシエチル- Ｎ- メチルクロトン酸
アミド等が挙げられる。

【００３４】マレイン酸エステル類の具体例としては、
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸
ジ（ｎ- 又はｉ- ）プロピル、マレイン酸ジ（ｎ- 、ｉ
- 、ｓｅｃ- 又はｔ- ）ブチル、マレイン酸ジフェニ
ル、マレイン酸ジアリル、マレイン酸モノメチル、マレ
イン酸モノエチル、マレイン酸モノ（ｎ- 又はｉ- ）プ
ロピル、マレイン酸モノ（ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ- 又はｔ
- ）ブチル、マレイン酸ジベンジル、マレイン酸モノベ
ンジル、マレイン酸メチルエチル、マレイン酸メチルプ
ロピル、マレイン酸エチルプロピル等が挙げられる。

【００３５】マレイン酸アミド類の具体例としては、マ
レイン酸アミド、Ｎ- メチルマレイン酸アミド、Ｎ- エ
チルマレイン酸アミド、Ｎ- （ｎ- 又はｉ- ）プロピル
マレイン酸アミド、Ｎ- （ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ- 又はｔ
- ）ブチルマレイン酸アミド、Ｎ- ベンジルマレイン酸
アミド、Ｎ- ヒドロキシエチルマレイン酸アミド、Ｎ-
フェニルマレイン酸アミド、Ｎ- トリルマレイン酸アミ
ド、Ｎ- （ヒドロキシフェニル）マレイン酸アミド、Ｎ
- （スルファモイルフェニル）マレイン酸アミド、Ｎ-
（フェニルスルホニル）マレイン酸アミド、Ｎ- （トリ
ルスルホニル）マレイン酸アミド、Ｎ，Ｎ- ジメチルマ
レイン酸アミド、Ｎ- メチル- Ｎ- フェニルマレイン酸
アミド、Ｎ- ヒドロキシエチル- Ｎ- メチルマレイン酸
アミド、Ｎ- メチルマレイン酸モノアミド、Ｎ- エチル
マレイン酸モノアミド、Ｎ，Ｎ-ジメチルマレイン酸モ
ノアミド、Ｎ- メチル- Ｎ’- エチルマレイン酸アミ
ド、Ｎ- メチル- Ｎ’- フェニルマレイン酸アミド等が
挙げられる。

【００３６】マレイン酸イミド類の具体例としては、マ
レイン酸イミド、Ｎ- メチルマレイン酸イミド、Ｎ- エ
チルマレイン酸イミド、Ｎ- （ｎ- 又はｉ- ）プロピル
マレイン酸イミド、Ｎ- （ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ- 又はｔ
- ）ブチルマレイン酸イミド、Ｎ- ベンジルマレイン酸
イミド、Ｎ- ヒドロキシエチルマレイン酸イミド、Ｎ-
フェニルマレイン酸イミド、Ｎ- トリルマレイン酸イミ
ド、Ｎ- （ヒドロキシフェニル）マレイン酸イミド、Ｎ
- （スルファモイルフェニル）マレイン酸イミド、Ｎ-
（フェニルスルホニル）マレイン酸イミド、Ｎ- （トリ
ルスルホニル）マレイン酸イミド等が挙げられる。

【００３７】イタコン酸エステル類の具体例としては、
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸
ジ（ｎ- 又はｉ- ）プロピル、イタコン酸ジ（ｎ- 、ｉ
- 、ｓｅｃ- 又はｔ- ）ブチル、イタコン酸ジフェニ
ル、イタコン酸ジアリル、イタコン酸モノメチル、イタ
コン酸モノエチル、イタコン酸モノ（ｎ- 又はｉ- ）プ
ロピル、イタコン酸モノ（ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ- 又はｔ
- ）ブチル、イタコン酸ジベンジル、イタコン酸モノベ
ンジル、イタコン酸メチルエチル、イタコン酸メチルプ
ロピル、イタコン酸エチルプロピル等が挙げられる。

【００３８】イタコン酸アミド類の具体例としては、イ
タコン酸アミド、Ｎ- メチルイタコン酸アミド、Ｎ- エ
チルイタコン酸アミド、Ｎ- （ｎ- 又はｉ- ）プロピル
イタコン酸アミド、Ｎ- （ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ- 又はｔ
- ）ブチルイタコン酸アミド、Ｎ- ベンジルイタコン酸
アミド、Ｎ- ヒドロキシエチルイタコン酸アミド、Ｎ-
フェニルイタコン酸アミド、Ｎ- トリルイタコン酸アミ
ド、Ｎ- （ヒドロキシフェニル）イタコン酸アミド、Ｎ
- （スルファモイルフェニル）イタコン酸アミド、Ｎ-
（フェニルスルホニル）イタコン酸アミド、Ｎ- （トリ
ルスルホニル）イタコン酸アミド、Ｎ，Ｎ- ジメチルイ
タコン酸アミド、Ｎ- メチル- Ｎ- フェニルイタコン酸
アミド、Ｎ- ヒドロキシエチル- Ｎ- メチルイタコン酸
アミド、Ｎ- メチルイタコン酸モノアミド、Ｎ- エチル
イタコン酸モノアミド、Ｎ，Ｎ-ジメチルイタコン酸モ
ノアミド、Ｎ- メチル- Ｎ’- エチルイタコン酸アミ
ド、Ｎ- メチル- Ｎ’- フェニルイタコン酸アミド等が
挙げられる。

【００３９】イタコン酸イミド類の具体例としては、イ
タコン酸イミド、Ｎ- メチルイタコン酸イミド、Ｎ- エ
チルイタコン酸イミド、Ｎ- （ｎ- 又はｉ- ）プロピル
イタコン酸イミド、Ｎ- （ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ- 又はｔ
- ）ブチルイタコン酸イミド、Ｎ- ベンジルイタコン酸
イミド、Ｎ- ヒドロキシエチルイタコン酸イミド、Ｎ-
フェニルイタコン酸イミド、Ｎ- トリルイタコン酸イミ
ド、Ｎ- （ヒドロキシフェニル）イタコン酸イミド、Ｎ
- （スルファモイルフェニル）イタコン酸イミド、Ｎ-
（フェニルスルホニル）イタコン酸イミド、Ｎ- （トリ
ルスルホニル）イタコン酸イミド等が挙げられる。

【００４０】フマル酸エステル類の具体例としては、フ
マル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジ（ｎ-
又はｉ- ）プロピル、フマル酸ジ（ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ
- 又はｔ- ）ブチル、フマル酸ジフェニル、フマル酸ジ
アリル、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フ
マル酸モノ（ｎ- 又はｉ- ）プロピル、フマル酸モノ
（ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ- 又はｔ- ）ブチル、フマル酸ジ
ベンジル、フマル酸モノベンジル、フマル酸メチルエチ
ル、フマル酸メチルプロピル、フマル酸エチルプロピル
等が挙げられる。

【００４１】フマル酸アミド類の具体例としては、フマ
ル酸アミド、Ｎ- メチルフマル酸アミド、Ｎ- エチルフ
マル酸アミド、Ｎ- （ｎ- 又はｉ- ）プロピルフマル酸
アミド、Ｎ- （ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ- 又はｔ- ）ブチル
フマル酸アミド、Ｎ- ベンジルフマル酸アミド、Ｎ- ヒ
ドロキシエチルフマル酸アミド、Ｎ- フェニルフマル酸
アミド、Ｎ- トリルフマル酸アミド、Ｎ- （ヒドロキシ
フェニル）フマル酸アミド、Ｎ- （スルファモイルフェ
ニル）フマル酸アミド、Ｎ- （フェニルスルホニル）フ
マル酸アミド、Ｎ- （トリルスルホニル）フマル酸アミ
ド、Ｎ，Ｎ- ジメチルフマル酸アミド、Ｎ- メチル- Ｎ
- フェニルフマル酸アミド、Ｎ- ヒドロキシエチル- Ｎ
- メチルフマル酸アミド、Ｎ- メチルフマル酸モノアミ
ド、Ｎ-エチルフマル酸モノアミド、Ｎ，Ｎ- ジメチル
フマル酸モノアミド、Ｎ- メチル- Ｎ’- エチルフマル
酸アミド、Ｎ- メチル- Ｎ’- フェニルフマル酸アミド
等が挙げられる。

【００４２】メサコン酸エステル類の具体例としては、
メサコン酸ジメチル、メサコン酸ジエチル、メサコン酸
ジ（ｎ- 又はｉ- ）プロピル、メサコン酸ジ（ｎ- 、ｉ
- 、ｓｅｃ- 又はｔ- ）ブチル、メサコン酸ジフェニ
ル、メサコン酸ジアリル、メサコン酸モノメチル、メサ
コン酸モノエチル、メサコン酸モノ（ｎ- 又はｉ- ）プ
ロピル、メサコン酸モノ（ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ- 又はｔ
- ）ブチル、メサコン酸ジベンジル、メサコン酸モノベ
ンジル、メサコン酸メチルエチル、メサコン酸メチルプ
ロピル、メサコン酸エチルプロピル等が挙げられる。

【００４３】メサコン酸アミド類の具体例としては、メ
サコン酸アミド、Ｎ- メチルメサコン酸アミド、Ｎ- エ
チルメサコン酸アミド、Ｎ- （ｎ- 又はｉ- ）プロピル
メサコン酸アミド、Ｎ- （ｎ- 、ｉ- 、ｓｅｃ- 又はｔ
- ）ブチルメサコン酸アミド、Ｎ- ベンジルメサコン酸
アミド、Ｎ- ヒドロキシエチルメサコン酸アミド、Ｎ-
フェニルメサコン酸アミド、Ｎ- トリルメサコン酸アミ
ド、Ｎ- （ヒドロキシフェニル）メサコン酸アミド、Ｎ
- （スルファモイルフェニル）メサコン酸アミド、Ｎ-
（フェニルスルホニル）メサコン酸アミド、Ｎ- （トリ
ルスルホニル）メサコン酸アミド、Ｎ，Ｎ- ジメチルメ
サコン酸アミド、Ｎ- メチル- Ｎ- フェニルメサコン酸
アミド、Ｎ- ヒドロキシエチル- Ｎ- メチルメサコン酸
アミド、Ｎ- メチルメサコン酸モノアミド、Ｎ- エチル
メサコン酸モノアミド、Ｎ，Ｎ-ジメチルメサコン酸モ
ノアミド、Ｎ- メチル- Ｎ’- エチルメサコン酸アミ
ド、Ｎ- メチル- Ｎ’- フェニルメサコン酸アミド等が
挙げられる。

【００４４】スチレン類の具体例としては、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレ
ン等が挙げられる。

【００４５】α、β- 不飽和ラクトン類の具体例として
は、以下のような化合物が挙げられる。

【００４６】

【化７】

【００４７】α、β- 不飽和ラクタム類の具体例として
は、以下のような化合物等が挙げられる。

【００４８】

【化８】

【００４９】不飽和炭化水素類の具体例としては、以下
のような化合物等が挙げられる。

【００５０】

【化９】

【００５１】ビニルエーテル類の具体例としては、以下
のような化合物等が挙げられる。

【００５２】

【化１０】

【００５３】ビニルエステル類の具体例としては、以下
のような化合物等が挙げられる。

【００５４】

【化１１】

【００５５】α、β- 不飽和ケトン類の具体例として
は、以下のような化合物等が挙げられる。

【００５６】

【化１２】

【００５７】環状エーテル類の具体例としては、以下の
ような化合物等が挙げられる。

【００５８】

【化１３】

【００５９】環状スルフィド類の具体例としては、以下
のような化合物等が挙げられる。

【００６０】

【化１４】

【００６１】環状アミン類の具体例としては、以下のよ
うな化合物等が挙げられる。

【００６２】

【化１５】

【００６３】環状ジスルフィド類の具体例としては、以
下のような化合物等が挙げられる。

【００６４】

【化１６】

【００６５】アルデヒド類の具体例としては、以下のよ
うな化合物等が挙げられる。

【００６６】

【化１７】

【００６７】環状アセタール類の具体例としては、以下
のような化合物等が挙げられる。

【００６８】

【化１８】

【００６９】ラクトン類の具体例としては、以下のよう
な化合物等が挙げられる。

【００７０】

【化１９】

【００７１】ラクタム類の具体例としては、以下のよう
な化合物等が挙げられる。

【化２０】

【００７２】環状カーボネート類の具体例としては、以
下のような化合物等が挙げられる。

【００７３】

【化２１】

【００７４】環状ウレア類の具体例としては、以下のよ
うな化合物等が挙げられる。

【００７５】

【化２２】

【００７６】環状ウレタン類の具体例としては、以下の
ような化合物が挙げられる。

【００７７】

【化２３】

【００７８】環状酸無水物類の具体例としては、以下の
ような化合物等が挙げられる。

【００７９】

【化２４】

【００８０】スピロオルトカーボネート類の具体例とし
ては、以下のような化合物等が挙げられる。

【００８１】

【化２５】

【００８２】スピロオルトエステル類の具体例として
は、以下のような化合物等が挙げられる。

【００８３】

【化２６】

【００８４】これらの重合性基Ｃの例の中でも、以下の
部分構造を有する重合性基Ｃが好ましい。

【００８５】

【化２７】

【００８６】式（１）中、Ｄは重合性オニウム塩のアニ
オン部を構成する。Ｄとしては、無機酸または有機酸か
らプロトンを除いたアニオン、およびＯＨ^- 等が挙げら
れる。無機酸アニオンの例としては、ハロゲンイオン
（Ｃｌ^- 、Ｂｒ^- 、Ｉ^- 等）、過塩素酸イオン（ＣｌＯ
₄ ^- ）、チオシアン酸イオン（ＳＣＮ^- ）、ヘキサフル
オロリン酸イオン（ＰＦ₆ ^- ）、テトラフルオロホウ酸
イオン（ＢＦ₄ ^- ）、テトラフェニルホウ酸イオン（Ｂ
（Ｐｈ）₄ ^- ）、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン
（ＳｂＦ₆ ^- ）、硫酸イオン（ＨＳＯ₄ ^- 、Ｓ
Ｏ₄ ^2-）、ＯＨ^- 等が挙げられる。有機酸アニオンの例
としては、例えば、脂肪族スルホン酸イオン、芳香族ス
ルホン酸イオン、脂肪族カルボン酸イオン、芳香族カル
ボン酸イオン、脂肪族ホスホン酸イオン、芳香族ホスホ
ン酸イオン等が挙げられる。式（２）中、Ｄ’は連結基
Ｂ、重合性基Ｃとともに重合性オニウム塩のアニオン部
を構成する。Ｄ’は、有機酸からプロトンを除いたアニ
オンであって、連結基Ｂと結合するための１以上の価数
を有する基である。具体的には、脂肪族スルホン酸イオ
ン、芳香族スルホン酸イオン、脂肪族カルボン酸イオ
ン、芳香族カルボン酸イオン、脂肪族ホスホン酸イオ
ン、芳香族ホスホン酸イオン等から１以上の水素原子を
除いた１以上の価数を有する基が挙げられる。

【００８７】以下に式（１）で表わされる重合性オニウ
ム塩の好ましい例をＹ−１）〜Ｙ−４４）に、式（２）
で表わされる重合性オニウム塩の好ましい例をＺ−１）
〜Ｚ−４２）に示すが、本発明に用いられる重合性オニ
ウム塩は、これらの具体例に制限されるわけではない。

【００８８】

【化２８】

【００８９】

【化２９】

【００９０】

【化３０】

【００９１】

【化３１】

【００９２】

【化３２】

【００９３】

【化３３】

【００９４】

【化３４】

【００９５】

【化３５】

【００９６】

【化３６】

【００９７】

【化３７】

【００９８】

【化３８】

【００９９】

【化３９】

【０１００】

【化４０】

【０１０１】

【化４１】

【０１０２】

【化４２】

【０１０３】

【化４３】

【０１０４】

【化４４】

【０１０５】

【化４５】

【０１０６】

【化４６】

【０１０７】

【化４７】

【０１０８】

【化４８】

【０１０９】

【化４９】

【０１１０】

【化５０】

【０１１１】重合性オニウム塩の中には、それ自体が熱
または光に応答し、ラジカルやカチオンを発生して重合
開始剤として機能するものもある。例えば、Ｙ−５、Ｙ
−６、Ｚ−５等のジアゾニウム塩や、Ｙ−１９、Ｙ−２
１、Ｚ−１８等のヨードニウム塩は、熱または光照射に
より分解し、酸を発生する。重合性オニウム塩が分解す
ることにより溶解抑制作用が消失すると同時に、発生し
た酸により、重合性オニウム塩が重合を開始し、高分子
化することによっても、溶解抑制作用が消失する。ま
た、Ｙ−２、Ｙ−３等の重合性オニウム塩は、赤外線ま
たは近赤外線を吸収し、熱を発生する機能を有する。こ
の熱により重合性オニウム塩の溶解抑制作用が消失する
とともに、この発熱により重合性オニウム塩が重合を開
始し、高分子化することによっても、溶解抑制作用が消
失する。

【０１１２】重合性オニウム塩の重合効率を向上させ、
さらに画像形成性を向上させるために、必要に応じてラ
ジカル発生剤やカチオン発生剤等の重合開始剤や、光を
吸収し熱を発生する染料、顔料等を添加してもよい。添
加する重合開始剤としては、光または熱によりラジカル
あるいはカチオンを発生するものを広く使用することが
でき、用いる重合性オニウム塩の種類に従って選択すれ
ばよい。例えば、「増感剤」（講談社出版）ｐ．６４〜
ｐ．９４に記載の化合物が好適に用いられる。

【０１１３】添加する顔料としては、市販の顔料および
カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便
覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔
料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷イ
ンキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されて
いる顔料が利用できる。黒色顔料、黄色顔料、オレンジ
色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑
色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他ポリマーが結合
した顔料等を広く用いることができる。具体的には、不
溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレー
トアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系
顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系
顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソ
インドリン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ
顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。

【０１１４】顔料は、所望により表面処理を施してもよ
く、表面処理の方法としては、樹脂やワックスを表面コ
ートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物
質（例えば、シランカップリング剤やエポキシ化合物、
ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等
が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性
質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出
版、１９８４年刊）および「最新顔料応用技術」（ＣＭ
Ｃ出版、１９８６年刊）に記載されている。顔料の粒径
は、０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にあることが好まし
く、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあることがさらに好
ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好
ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満であると、顔料
の分散安定性の点で好ましくない。顔料を分散させる方
法としては、インク製造やトナー製造時に用いられる公
知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分
散器、サンドミル、アトライター、パールミル、ボール
ミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイド
ミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等
が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ
出版、１９８６年刊）に記載がある。

【０１１５】添加する染料としては、市販の染料および
文献（例えば、「染料便覧」（有機合成化学協会編集、
昭和４５年刊）に記載されている公知のものが利用でき
る。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾ
ロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染
料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染
料、シアニン染料等が挙げられる。

【０１１６】本発明のポジ型画像形成材料を、赤外線レ
ーザまたは近赤外線レーザ対応の印刷版等の原料に使用
する場合は、これらの顔料および染料は、赤外光または
近赤外光を吸収し、熱を発生するものが好ましい。赤外
光または近赤外光を吸収する顔料としては、カーボンブ
ラックが好適に用いられる。また、赤外光もしくは近赤
外光を吸収する染料としては、例えば特開昭５８−１２
５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−
２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載さ
れているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、
特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９
５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１
２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９
−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６
０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載
されているナフトキノン染料、 特開昭５８−１１２７
９２号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特
許４３４，８７５号記載のシアニン染料、米国特許５，
３８０，６３５号に記載のジヒドロペリミジンスクアリ
リウム染料等を挙げることができる。

【０１１７】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１
４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０
５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３
号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同
５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１
４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４
７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１
７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈ
ｔ III−１２５、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ IV −６２Ａ等は特
に好ましく用いられる。また、染料として特に好ましい
別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中
に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染
料を挙げることができる。

【０１１８】これらの顔料もしくは染料は、ポジ型画像
形成材料全固形分に対し０．０１〜５０重量％、好まし
くは０．１〜１０重量％、染料の場合特に好ましくは
０．５〜１０重量％、顔料の場合特に好ましくは３．１
〜１０重量％の割合で添加することができる。顔料もし
くは染料の添加量が０．０１重量％未満であると感度が
低くなり、また５０重量％を越えると感光層の均一性が
失われ、記録層の耐久性が悪くなる。平版印刷版等を作
製する際に、これらの染料もしくは顔料は、重合性オニ
ウム塩およびアルカリ水溶性高分子化合物と同一の層に
添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよ
い。別の層とする場合、重合性オニウム塩等を含む層に
隣接する層へ添加するのが望ましい。

【０１１９】本発明に用いられる重合性オニウム塩は、
以下の文献等に記載された方法により合成することがで
きる。Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇ
ｒ．ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、
Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ，ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，
４２３（１９８０）、および特開平５−１５８２３０号
公報に記載のジアゾニウム塩の合成方法；米国特許第
４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号明細
書、および特開平３−１４０１４０号公報に記載のアン
モニウム塩の合成方法；Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ ｅｔ
ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８
（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｈ．
Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩ
Ａ，ｐ４７８，Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国
特許第４，０６９，０５５号、および同４，０６９，０
５６号明細書に記載のホスホニウム塩の合成方法；Ｊ．
Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌ
ｅｃｕｌｅｓ，１０（６）， １３０７（１９７７）、
Ｃｈｅｍ．＆ Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３
１（１９８８）、欧州特許第１０４，１４３号、米国特
許第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号明細書、
特開平２−１５０８４８号公報、および特開平２−２９
６５１４号公報に記載のヨードニウム塩の合成方法；
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅ
ｒ Ｊ．１７， ７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖ
ｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、４３，
３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ ｅｔ ａ
ｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２２， １７８９（１９８４）、
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｂｕｌｌ．，１４， ２７９（１９８５）、Ｊ．Ｖ．
Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃ
ｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８１）、Ｊ．
Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅ
ｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１
７， ２８７７（１９７９）、欧州特許第３７０，６９
３号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２
９７，４４２号明細書、米国特許第４，９３３，３７７
号明細書、同３，９０２１１４号明細書、同４１０，２
０１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，０１３
号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７
号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，
５８０号、および同３，６０４，５８１号明細書に記載
のスルホニウム塩の合成方法；Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌ
ｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０
（６）， １３０７（１９７７）、およびＪ．Ｖ．Ｃｒ
ｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈ
ｅｍ． Ｅｄ．，１７， １０４７（１９７９）に記載
のセレニウム塩の合成方法；またはＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，６０，ｐ２３９１〜ｐ２３９５，１９９５やその
参照文献に記載の色素の合成方法に従って合成される。

【０１２０】以下に、重合性オニウム塩であるＹ−
２）、Ｙ−８）、Ｙ−１４）、Ｚ−９）、Ｚ−２３）の
合成例を示すが、本発明に使用される重合性オニウム塩
の製法はこれに制限されるものではない。

【０１２１】

【化５１】

【０１２２】Ｙ−２の合成 ベンゾインドレシン（Ｘ−１：１０ｍｍｏｌ）とアリル
ブロマイド（Ｘ−２：１０ｍｍｏｌ）を、トルエン５０
ｍｌ中で５時間加熱還流した後、室温まで冷却した。こ
の反応液をろ過し、ろ取された沈殿物をトルエンで充分
洗浄し、目的物Ｘ−３を８０％の収率で得た。次に、Ｘ
−５（１ｍｍｏｌ）とＸ−４（１ｍｍｏｌ）を、７５ｍ
ｌのベンゼン−ブタノール（３：７）混合液に溶解し、
この溶液を２時間加熱還流した。室温まで冷却後、Ｘ−
３（１ｍｍｏｌ）を加え１時間加熱した後、再度、室温
まで冷却した。溶媒をポンプで除去した後、沈殿物をｐ
−トルエンスルホン酸水溶液２０ｍｌで洗浄し、Ｙ−２
を３０％の収率で得た。Ｙ−３も同様な方法で合成でき
る。

【０１２３】

【化５２】

【０１２４】Ｙ−８の合成 Ｘ−８（１０ｍｍｏｌ）、メタクリル酸クロライド（Ｘ
−９：１０ｍｍｏｌ）、およびトリエチルアミン（Ｘ−
６：１０ｍｍｏｌ）をアセトン１００ｍｌ中で混合し、
室温で３時間反応させた。反応液中の沈殿物をろ取し、
アセトンで洗浄し、Ｙ−８を収率４０％で得た。

【０１２５】

【化５３】

【０１２６】Ｙ−１４の合成 クロロスチレン（Ｘ−１０：０．１ｍｏｌ）とトリエチ
ルアミン（ｘ−６：０．５ｍｏｌ）を、酢酸エチル５０
ｍｌ中、室温で反応させた。１時間後、析出した結晶を
ろ取し、Ｙ−１４を収率７２％で得た。

【０１２７】

【化５４】

【０１２８】Ｚ−９の合成 Ｘ−１１（１０ｍｍｏｌ）、Ｘ−９（１０ｍｍｏｌ）、
Ｘ−６（１０ｍｍｏｌ）をアセトン１００ｍｌ中、室温
で３時間反応させた。反応液を水２００ｍｌに注ぎ、析
出した固体をろ取し、Ｘ−１２を得た。次にＸ−１２
（１ｍｍｏｌ）とＸ−１３（２ｍｍｏｌ）を、水−エタ
ノール（１：１）２０ｍｌ中に室温で混合し、析出した
固体をろ取した。この固体をメタノールに溶解し、Ｘ−
１３（２ｍｍｏｌ）の水−エタノール溶液と混合した。
析出した固体をろ取し、Ｚ−９を収率６０％で得た。

【０１２９】

【化５５】

【０１３０】Ｚ−２３の合成 Ｘ−１４（１０ｍｍｏｌ）のメタノール３００ｍｌ溶液
に、Ｘ−１５（２０ｍｍｏｌ）のメタノール溶液を加え
た。析出した固体をろ取し、再度、メタノール中に溶解
した。この溶液に、Ｘ−１５（２０ｍｍｏｌ）のメタノ
ール溶液を再度加え、析出した固体をろ取して、Ｚ−２
３を収率７０％で得た。同様にして、Ｚ−２、Ｚ−３、
Ｚ−１４、Ｚ−１５も合成できる。

【０１３１】重合性オニウム塩は、ポジ型画像形成材料
の全固形分に対して０．０１〜５０重量％、好ましくは
０．１〜２０重量％、より好ましくは０．５〜１５重量
％の割合で添加することができる。添加量が０．０１重
量％より少ないと、画像形成性が悪化し、５０重量％を
超えると平版印刷版原版に用いた場合に、非画像部に汚
れが生じるおそれがある。

【０１３２】次に、水に不溶で、かつアルカリ水に可溶
な高分子化合物（以下、「アルカリ水可溶性高分子化合
物」という。）について説明する。本発明に使用される
アルカリ水可溶性高分子化合物は、フェノール性水酸基
（Ａｒ−ＯＨ）、カルボン酸基（−ＣＯＯＨ）、スルホ
ン酸基（−ＳＯ₃ Ｈ）、リン酸基（−ＯＰＯ₃ Ｈ）、ス
ルホンアミド基（−ＳＯＮＨ−Ｒ）、置換スルホンアミ
ド系酸基（以下、「活性イミド基」という。）（−ＳＯ
₂ ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ₂ ＮＨＳＯ₂ Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ
₂ Ｒ）のいずれかの官能基を分子内に有する高分子化合
物であり、好ましくは、フェノール性水酸基、スルホン
アミド基、活性イミド基を有する高分子化合物、特に好
ましくは、フェノール性水酸基を有する高分子化合物で
ある。例えば以下のものが例示されるが、これらに限定
されるものではない。

【０１３３】フェノール性水酸基を有する高分子化合物
としては、例えばフェノールホルムアルデヒド樹脂、ｍ
−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾールホ
ルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールホルム
アルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ
−，またはｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）混合ホル
ムアルデヒド樹脂などのノボラック樹脂やピロガロール
アセトン樹脂を挙げることができる。フェノール性水酸
基を有する高分子化合物としてはこの他に、側鎖にフェ
ノール性水酸基を有する高分子化合物を用いることがで
きる。側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物
としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合
をそれぞれ１つ以上有する低分子化合物からなる重合性
モノマーを単独重合、あるいは該モノマーに他の重合性
モノマーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げる
ことができる。フェノール性水酸基を有する重合性モノ
マーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルア
ミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル、またはヒドロキシスチレン等が挙げら
れる。具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）ア
クリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）アクリ
ルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルア
ミド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒドロ
キシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルア
クリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、
ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒドロキ
シフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレン、
ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２
−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２
−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２
−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２
−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、
２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレー
ト、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレ
ート等を好適に使用することができる。かかるフェノー
ル性水酸基を有する樹脂は、１種類以上あるいは２種類
以上を組み合わせて使用してもよい。更に、米国特許第
４１２３２７９号明細書に記載されているように、ｔ−
ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数３〜８の
アルキル基を置換基として有するフェノールとホルムア
ルデヒドとの縮重合体を併用してもよい。

【０１３４】スルホンアミド基を有するアルカリ水可溶
性高分子化合物としては、スルホンアミド基を有する重
合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合
性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げ
ることができる。スルホンアミド基を有する重合性モノ
マーとしては、１分子中に、窒素原子上に少なくとも１
つの水素原子が結合したスルホンアミド基−ＮＨ−ＳＯ
₂ −と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ１つ以上有す
る低分子化合物からなる重合性モノマーが挙げられる。
その中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロ
キシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基ま
たは置換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が
好ましい。このような化合物としては、例えば、下記一
般式（３）〜（７）で示される化合物が挙げられる。

【０１３５】

【化５６】

【０１３６】式中、Ｘ¹ 、Ｘ² はそれぞれ−Ｏ−又は−
ＮＲ⁵⁷−を示す。Ｒ⁵¹、Ｒ⁵⁴はそれぞれ水素原子又は−
ＣＨ₃ を表す。Ｒ⁵²、Ｒ⁵⁵、Ｒ⁵⁹、Ｒ⁶²、Ｒ⁶⁶はそれぞ
れ置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレ
ン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキ
レン基を表す。Ｒ⁵³、Ｒ⁵⁷、Ｒ⁶³は水素原子、それぞれ
置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
示す。また、Ｒ⁵⁶、Ｒ⁶⁷は、それぞれ置換基を有してい
てもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示す。Ｒ⁵⁸、Ｒ⁶⁰、Ｒ
⁶⁴は水素原子又は−ＣＨ₃ を表す。Ｒ⁶¹、Ｒ⁶⁵はそれぞ
れ単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Ｙ¹ 、Ｙ ² はそれぞれ単結合
または−ＣＯ−を表す。

【０１３７】具体的には、ｍ−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフ
ェニル）アクリルアミド等を好適に使用することができ
る。

【０１３８】活性イミド基を有するアルカリ水可溶性高
分子化合物は、下記式で表される活性イミド基を分子内
に有するものであり、この高分子化合物としては、１分
子中に、下記の式で表わされる活性イミノ基と、重合可
能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物
からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマー
に他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化
合物を挙げることができる。

【０１３９】

【化５７】

【０１４０】このような化合物としては、具体的には、
Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適
に使用することができる。

【０１４１】さらに、本発明のアルカリ水可溶性高分子
化合物としては、前記フェノール性水酸基を有する重合
性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマ
ー、及び活性イミド基を有する重合性モノマーのうちの
２種以上を重合させた高分子化合物、或いはこれら２種
以上の重合性モノマーに他の重合性モノマーを共重合さ
せて得られる高分子化合物を使用することができる。フ
ェノール性水酸基を有する重合性モノマーに、スルホン
アミド基を有する重合性モノマー及び／又は活性イミド
基を有する重合性モノマーを共重合させる場合には、こ
れら成分の配合重量比は５０：５０から５：９５の範囲
にあることが好ましく、４０：６０から１０：９０の範
囲にあることが特に好ましい。

【０１４２】本発明において、アルカリ水可溶性高分子
化合物が前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活
性イミド基を有する重合性モノマーと、他の重合性モノ
マーとの共重合体である場合には、アルカリ水可溶性を
付与するモノマーは１０モル％以上含むことが好まし
く、２０モル％以上含むものがより好ましい。共重合成
分が１０モル％より少ないと、アルカリ可溶性が不十分
となりやすく、現像ラチチュードの向上効果が十分達成
されないことがある。

【０１４３】前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又
は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させる
モノマー成分としては、例えば、下記（１）〜（１２）
に挙げるモノマーを用いることができるがこれらに限定
されるものではない。 （１）例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレートまた
は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、およびメタクリル酸
エステル類。 （２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 （３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 （４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−
ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリ
ルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−
フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリル
アミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等の
アクリルアミドもしくはメタクリルアミド。 （５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 （６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 （７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 （８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。 （９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 （１０）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 （１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミ
ド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニル
メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 （１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。

【０１４４】本発明においてアルカリ水可溶性高分子化
合物が、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活
性イミド基を有する重合性モノマーの単独重合体あるい
は共重合体の場合、重量平均分子量が２０００以上、数
平均分子量が５００以上のものが好ましい。さらに好ま
しくは、重量平均分子量が５０００〜３０００００で、
数平均分子量が８００〜２５００００であり、分散度
（重量平均分子量／数平均分子量）が１．１〜１０のも
のである。また、本発明においてアルカリ水可溶性高分
子化合物がフェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾー
ルアルデヒド樹脂等の樹脂である場合には、重量平均分
子量が５００〜２００００で数平均分子量が２００〜１
００００のものが好ましい。

【０１４５】これらアルカリ水可溶性高分子化合物は、
それぞれ１種類あるいは２種類以上を組み合わせて使用
してもよく、全ポジ型画像形成材料固形分中、３０〜９
９重量％、好ましくは４０〜９５重量％、特に好ましく
は５０〜９０重量％の添加量で用いられる。アルカリ水
可溶性高分子化合物の添加量が３０重量％未満であると
記録層の耐久性が悪化し、また、９９重量％を超えると
感度、耐久性の両面で好ましくない。

【０１４６】本発明のポジ型画像形成材料には、更に必
要に応じて本発明の効果を損なわない範囲で、種々の添
加剤を添加することができる。例えば、他の溶解抑制剤
を併用すると、画像部の現像液への溶解阻止性をさらに
向上できるので好ましい。他の溶解抑制剤としては、芳
香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物
等が挙げられる。

【０１４７】また、感度を向上させる目的で、環状酸無
水物類、フェノール類、有機酸類を併用することもでき
る。環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，１２
８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒド
ロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−
エンドオキシ−Δ⁴ −テトラヒドロ無水フタル酸、テト
ラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マ
レイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク
酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール
類としては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノー
ル、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４′−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，
４′，４″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，
４′，３″，４″−テトラヒドロキシ−３，５，３′，
５′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられ
る。更に、有機酸類としては、特開昭６０−８８９４２
号、特開平２−９６７５５号公報などに記載されてい
る、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、
ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン酸類な
どがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、
エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン
酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イ
ソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，４−ジ
メトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、４−シク
ロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリ
ン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げら
れる。上記の環状酸無水物、フェノール類および有機酸
類のポジ型画像形成材料中に占める割合は、０．０５〜
２０重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５重
量％、特に好ましくは０．１〜１０重量％である。

【０１４８】また、現像条件に対する処理の安定性を向
上させるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開
平３−２０８５１４号公報に記載されているような非イ
オン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特
開平４−１３１４９号公報に記載されているような両性
界面活性剤を添加することもできる。非イオン界面活性
剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソ
ルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、
ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニ
ルフェニルエーテル等が挙げられる。両性界面活性剤の
具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシ
ン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−ア
ルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチル
イミダゾリニウムベタインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ
−ベタイン型（例えば、商品名「アモーゲンＫ」：第一
工業（株）製）等が挙げられる。上記非イオン界面活性
剤および両性界面活性剤のポジ型画像形成材料中に占め
る割合は、０．０５〜１５重量％が好ましく、より好ま
しくは０．１〜５重量％である。

【０１４９】露光または加熱した後、直ちに可視像を得
たい場合は、本発明のポジ型画像形成材料中に焼き出し
剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えてもよい。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出
する化合物（光酸放出剤）と塩を形成し得る有機染料の
組合せを代表として挙げることができる。具体的には、
特開昭５０−３６２０９号、同５３−８１２８号の各公
報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特
開昭５３−３６２２３号、同５４−７４７２８号、同６
０−３６２６号、同６１−１４３７４８号、同６１−１
５１６４４号および同６３−５８４４０号の各公報に記
載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料
の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル
化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系
化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼
き出し画像を与える。画像着色剤としては、前述の塩形
成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩
形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料
と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイル
イエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピ
ンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯ
Ｓ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイ
ルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリ
エント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、
クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバ
イオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、
ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリ
ーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０
１５）などを挙げることができる。また、特開昭６２−
２９３２４７号公報に記載されている染料は特に好まし
い。これらの染料は、ポジ型画像形成材料の全固形分に
対し、０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜３重
量％の割合で印刷版材料中に添加することができる。

【０１５０】塗膜の柔軟性等を付与するために、本発明
のポジ型画像形成材料中に可塑剤を加えてもよい。例え
ば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン
酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、
フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリ
クレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オ
レイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメ
タクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられ
る。

【０１５１】更に、これらの添加剤以外にも、エポキシ
化合物、ビニルエーテル類、さらには、特開平８−２７
６５５８号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフ
ェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノー
ル化合物、および本発明者等が先に出願している特願平
９−３２８３７号明細書に記載の溶解抑制増強架橋剤等
を目的に応じて適宜添加することができる。

【０１５２】次に、本発明のポジ型画像形成材料を用い
た、平版印刷版の製造方法について説明する。本発明の
ポジ型画像形成材料を、前記各成分が溶解する溶媒に溶
解し、支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メト
キシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテー
ト、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等
を挙げることができるがこれに限定されるものではな
い。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、
好ましくは１〜５０重量％である。塗布量（塗布、乾燥
後の支持体上の固形分塗布量）は、用途によって異なる
が、感光性平版印刷版を製造する場合は、０．５〜５．
０ｇ／ｍ ² の範囲が好ましい。塗布量が少なくなるにつ
れて、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は
低下する。

【０１５３】その支持体としては、寸度的に安定な板状
物を広く用いることができ、例えば、紙、プラスチック
（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等）、上記のごとき金属が
ラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチ
ックフィルム等が挙げられる。中でも、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、アルミニウム板
は寸法安定性がよく比較的安価であるので、特に好まし
い。アルミニウム板は異元素を含有しない純度の高いも
のが好ましいが、微量の異元素を含む合金板であっても
よい。従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜
に利用することができる。更に，アルミニウムがラミネ
ートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムも好まし
い。

【０１５４】支持体としてアルミニウム板を用いる場合
は、アルミ板表面を粗面化するのが好ましい。例えば、
ボール研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨等に
より、機械的に粗面化する方法、塩酸または硝酸電解液
中で交流または直流を通電する電気化学的に粗面化する
方法、および特開昭５４−６３９０２号公報に開示され
ているように両者を組み合わせた方法も利用することが
できる。尚、表面を粗面化するのに先立ち、アルミニウ
ム板表面の圧延油を除去するため、例えば界面活性剤、
有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理を
行うのが好ましい。

【０１５５】粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理および中和処理された後、
所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極
酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に
用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する
種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン
酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ
る。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜
決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流
密度５〜６０Ａ／ｄｍ² 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間
１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は１．０ｇ／ｍ² より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。親水
化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同
第３，１８１，４６１号、第３，２８０，７３４号およ
び第３，９０２，７３４号に開示されているようなアル
カリ金属シリケート（例えばケイ酸ナトリウム水溶液）
法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリ
ウム水溶液で浸漬処理されるか、または電解処理され
る。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開示されてい
るフッ化ジルコン酸カリウムおよび米国特許第３，２７
６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同第４，６
８９，２７２号に開示されているようなポリビニルホス
ホン酸で処理する方法などが用いられる。

【０１５６】本発明のポジ型画像形成材料を、前記支持
体上に塗布する方法としては、種々の公知の方法を挙げ
ることができ、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、
スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナ
イフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることが
できる。また、塗布性を良化するための界面活性剤、例
えば特開昭６２−１７０９５０号公報に記載されている
ようなフッ素系界面活性剤を予めポジ型画像形成材料中
に添加することができる。好ましい添加量は、全ポジ型
画像形成材料の０．０１〜１重量％さらに好ましくは
０．０５〜０．５重量％である。

【０１５７】本発明のポジ型画像形成材料の塗布層と支
持体との間に、所望により下塗り層を設けてもよい。下
塗層の成分としては種々の有機化合物が用いられ、例え
ば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラ
ビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基
を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニル
ホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン
酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸および
エチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を
有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキ
ルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換
基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホス
フィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフ
ィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニ
ンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩
酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から
選ばれるが、２種以上混合して用いてもよい。下塗層
は、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケ
トンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の
有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗
布、乾燥して設けることができる。また、水またはメタ
ノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶
剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解
させた溶液に、アルミニウム板等の支持体を浸漬して上
記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥
して設けることもできる。下塗層の被覆量は、２〜２０
０ｍｇ／ｍ²が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ
／ｍ² である。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ² よりも少な
いと十分な性能が得られない。また、２００ｍｇ／ｍ²
より大きくても同様である。

【０１５８】支持体上に、本発明の感熱性および／また
は感光性ポジ型画像形成材料を塗布した平版印刷版用原
版は、通常、熱または光による画像書き込みされた後、
現像処理を施される。熱による画像書き込みの方法とし
ては、サーマルヘッド等を用いた方法が挙げられる。ま
た、光による書き込みの方法としては、フォトマスクを
介して全面露光する方法と、レーザ等を用いて走査露光
する方法がある。全面露光用の光源としては、例えば水
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーボンアーク灯等が挙げられる。放射線と
しては、電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線があ
る。また、ｇ線、ｉ線、Ｄｅｅｐ−ＵＶ光も使用でき
る。走査露光用の光源としては、高密度エネルギービー
ム（レーザービーム）が用いられ、ヘリウム・ネオンレ
ーザー、アルゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリ
ウム・カドミウムレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、
固体レーザー、半導体レーザー、ＵＶレーザ、ＡｒＦエ
キシマレーザ等が挙げられる。

【０１５９】本発明のポジ型画像形成材料の現像に用い
る現像液および補充液としては、アルカリ性水溶液が用
いられる。例えばケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第２
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸
ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウ
ム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウム等、
無機アルカリ剤の水溶液、およびモノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミ
ン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパ
ノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイ
ミン、エチレンジアミン、ピリジン等有機アルカリ剤の
水溶液が挙げられる。これらのアルカリ剤は単独もしく
は２種以上を組み合わせて用いられる。中でも、ケイ酸
ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液を現像
液として用いるのが好ましい。例えば、特開昭５４−６
２００４号公報、特公昭５７−７４２７号公報に記載さ
れているようなアルカリ金属ケイ酸塩が好適に用いられ
る。

【０１６０】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷版原版を処理
できることが知られている。本発明のポジ型画像形成材
料を含む平版印刷版原版においてもこの補充方式が好ま
しく適用される。現像液および補充液には、現像性の促
進や抑制、現像カスの分散および画像部の親インキ性を
高める目的で、必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶
剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオ
ン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が
挙げられる。更に現像液および補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素
酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元
剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加える
こともできる。上記現像液および補充液を用いて現像処
理された平版印刷版原版は水洗水、界面活性剤等を含有
するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂
化液で後処理される。

【０１６１】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬
送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール
などによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処
理することができる。また、実質的に未使用の処理液で
処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。

【０１６２】本発明のポジ型画像形成材料を含む平版印
刷版用原版に、熱または光により画像書き込みした後、
現像し、水洗及び／又はリンス及び／又はガム引きする
と、平版印刷版が得られる。平版印刷版に不必要な画像
部（例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など）があ
る場合には、その不必要な画像部を消去することもでき
る。消去方法としては、例えば特公平２−１３２９３号
公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗
布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗する方法
が好ましいが、特開平５９−１７４８４２号公報に記載
されているようなオプティカルファイバーで導かれた活
性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利
用できる。

【０１６３】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニング処理する場合には、該バーニング処理前
に、特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０６２号、
特開昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６５５号の
各公報に記載されているような整面液で処理することが
好ましい。その方法としては、該整面液を浸み込ませた
スポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整
面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方
法や、自動コーターによる塗布などが適用される。ま
た、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラ
ーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結
果を与える。整面液の塗布量は一般に０．０３〜０．８
ｇ／ｍ² （乾燥重量）が適当である。

【０１６４】整面液が塗布された平版印刷版は、必要で
あれば乾燥後、バーニングプロセッサー（たとえば富士
写真フイルム（株）より販売されているバーニングプロ
セッサー：「ＢＰ−１３００」）などで高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、１８０〜３００℃の範囲で１
〜２０分の範囲が好ましい。

【０１６５】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行われて
いる処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合には、ガム引きな
どのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。こ
の様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印
刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。

【０１６６】本発明のポジ型画像形成材料は、コンピュ
ーター等のデジタル信号から赤外線レーザ等を用いて直
接製版可能な、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷
版の材料として好適に用いられる。また、本発明のポジ
型画像形成材料は、平版印刷版用の材料以外にも広く利
用でき、例えば、多色印刷の校正版、オーバーヘッドプ
ロジェクター用図面、さらに半導体素子の集積回路の作
製に用いられるフォトレジスト等の材料として広く用い
ることができる。

【実施例】以下、本発明を実施例を挙げて説明するが、
本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。

【０１６７】前記の方法により合成した重合性オニウム
塩Ｙ−２と、ｍ，ｐ−クレゾールノボラック樹脂（アル
カリ水可溶性高分子化合物）、および種々の添加剤を以
下の様に配合し、ポジ型画像形成材料の感光液１を調整
した。 ＜感光液１の組成＞ ・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平 均分子量３５００、未反応クレゾール０．５重量％含有）１．０ ｇ （アルカリ水可溶性高分子化合物） ・重合性オニウム塩 Ｙ−２ ０．２ ｇ ・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対アニオンを１−ナフタレ ンスルホン酸アニオンにした染料 ０．０２ｇ ・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本イン キ化学工業（株）製） ０．０５ｇ ・γ−ブチロラクトン ３ ｇ ・メチルエチルケトン ８ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ７ ｇ

【０１６８】感光液１を、以下の様に作製した基板上
に、塗布量が乾燥重量で１．８ｇ／ｍ ² になるように塗
布し、平版印刷版用原版を得た。 ［基板の作製］厚み０．３ｍｍのアルミニウム板（材質
１０５０）をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミス−水懸濁
液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。こ
の板を４５℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間
浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに２０％硝酸
に２０秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面の
エッチング量は約３ｇ／ｍ ² であった。次にこの板を７
％硫酸を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ² で３ｇ／
ｍ² の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、
さらに、下記下塗り液を塗布し、塗膜を９０℃で１分乾
燥した。乾燥後の塗膜の塗布量は１０ｍｇ／ｍ² であっ
た。 ＜下塗り液の組成＞ β−アラニン ０．５ｇ メタノール ９５ ｇ 水 ５ ｇ

【０１６９】実施例２〜６ 重合性オニウム塩を代えた以外は、実施例１と同様に平
版印刷版原版を作製した。用いた重合性オニウム塩を表
１にまとめた。

【０１７０】実施例７ ＜共重合体１の合成＞攪拌機、冷却管及び滴下ロートを
備えた５００ｍｌ三ツ口フラスコにメタクリル酸３１．
０ｇ（０．３６モル）、クロロギ酸エチル３９．１ｇ
（０．３６モル）及びアセトニトリル２００ｍｌを入
れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。この混合
物にトリエチルアミン３６．４ｇ（０．３６モル）を約
１時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、
氷水浴をとり去り、室温下で３０分間混合物を攪拌し
た。この反応混合物に、ｐ−アミノベンゼンスルホンア
ミド５１．７ｇ（０．３０モル）を加え、油浴にて７０
℃に温めながら混合物を１時間攪拌した。反応終了後、
この混合物を水１リットルにこの水を攪拌しながら投入
し、３０分間得られた混合物を攪拌した。この混合物を
ろ過して析出物を取り出し、これを水５００ｍｌでスラ
リーにした後、このスラリーをろ過し、得られた固体を
乾燥することによりＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミドの白色固体が得られた（収量４
６．９ｇ）。次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た１００ｍｌ三ツ口フラスコに、Ｎ−（ｐ−アミノスル
ホニルフェニル）メタクリルアミド５．０４ｇ（０．０
２１０モル）、メタクリル酸エチル２．０５ｇ（０．０
１８０モル）、アクリロニトリル１．１１ｇ（０．０２
１モル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇを入
れ、湯水浴により６５℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「Ｖ−６５」（和光純薬（株）製）
０．１５ｇを加え６５℃に保ちながら窒素気流下２時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにＮ−（ｐ−
アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド５．０４
ｇ、メタクリル酸エチル２．０５ｇ、アクリロニトリル
１．１１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇ及び
「Ｖ−６５」０．１５ｇの混合物を２時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後さらに６５℃で２時間
得られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノール４０
ｇを混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水２リッ
トルにこの水を攪拌しながら投入し、３０分混合物を攪
拌した後、析出物をろ過により取り出し、乾燥すること
により１５ｇの白色固体を得た。ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーによりこの共重合体１の重量平均分
子量（ポリスチレン標準）を測定したところ５３，００
０であった。

【０１７１】実施例１と同様の基板に、以下の組成の感
光液２を塗布量が１．８ｇ／ｍ² になるよう塗布し、平
版印刷版原版を得た。 ＜感光液２の組成＞ ・共重合体１（アルカリ水可溶性高分子化合物） １．０ ｇ ・重合性オニウム塩 Ｙ−２ ０．１ ｇ ・ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００２ｇ ・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対アニオンを１−ナフタレ ンスルホン酸アニオンにした染料 ０．０２ ｇ ・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本イン キ化学工業（株）製） ０．０５ ｇ ・γ−ブチロラクトン ８ ｇ ・メチルエチルケトン ８ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ４ ｇ

【０１７２】実施例８〜１２ 重合性オニウム塩を代えた以外は、実施例７と同様に平
版印刷版原版を作製した。用いた重合性オニウム塩を表
２にまとめた。

【０１７３】比較例１〜３ 重合性オニウム塩を、以下に示す既存の赤外線染料に代
えた以外は、実施例１と同様に平版印刷版原版を作製し
た。用いた赤外線染料を表１にまとめた。比較例４〜６ 重合性オニウム塩を、以下に示す既存の赤外線染料に代
えた以外は、実施例７と同様に平版印刷版原版を作製し
た。用いた赤外線染料を表２にまとめた。

【０１７４】

【化５８】

【０１７５】〔平版印刷版原版の性能評価〕実施例１〜
１２、および比較例１〜６の各平版印刷版原版に、以下
の様にレーザ照射し、感度、現像ラチチュード、保存安
定性について評価した。実施例１〜６および比較例１〜
３の感度および現像ラチチュードの評価結果を表１に、
実施例７〜１２および比較例４〜６の感度および現像ラ
チチュードの評価結果を表２に示す。 （感度及び現像ラチチュードの評価）得られた平版印刷
版原版を、波長８４０ｎｍの半導体レーザを用いて露光
した後、現像液ＤＰ−４（富士写真フィルム（株）
製）、リンス液ＦＲ−３（１：７）を仕込んだ自動現像
機（富士写真フイルム（株）製：「ＰＳプロセッサー９
００ＶＲ」）を用いて現像した。その際、ＤＰ−４は
１：６で希釈したもの及び１：１２で希釈したものの二
水準を使用し、それぞれの現像液にて得られた非画像部
の線幅を測定し、その線幅に相当するレーザーの照射エ
ネルギーを求めた（ｍＪ／ｃｍ² ）。この測定値（ｍＪ
／ｃｍ² ）が小さい程、その平版印刷版原版の感度は高
くなる。次に、１：６で希釈した現像液と、１：１２で
希釈した現像液との照射エネルギーの差を測定した。そ
の差が小さいほど現像ラチチュードが良好であり、２０
ｍＪ／ｃｍ² 以下であれば、実用可能なレベルである。
評価結果を表１に示した。 （保存安定性の評価）実施例１〜１２および比較例１〜
６の平版印刷版原版を、６０℃で３日間保存した後、前
記と同様の条件で、レーザ露光および現像を行い、感度
の変動を測定した。通常、このような高温下で長期間保
存した場合に、感度変動が２０ｍＪ／ｃｍ² 以下であれ
ば、保存安定性は良好であり、実用可能なレベルであ
る。実施例１〜１２および比較例１〜６はいずれも保存
安定性が良好であり、実用可能なレベルのものであっ
た。

【０１７６】

【表１】

【０１７７】

【表２】

【０１７８】表１および表２の評価結果から、実施例の
平版印刷版原版は、比較例との対比において、赤外線レ
ーザに対する感度、現像ラチチュードが向上しているこ
とがわかった。また、通常、感度等が向上すると保存安
定性が悪くなる傾向があるが、実施例１〜１２の保存安
定性に低下は見られなかった。

【０１７９】実施例１３ 前記の合成方法と同様の方法で合成した重合性オニウム
塩Ｙ−１と、クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹
脂と、種々の添加剤を以下の様に配合し、感光液３を調
整した。 ＜感光液３の組成＞ ・重合性オニウム塩 Ｙ−１ ３．０×１０^-4ｍｏｌ ・クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂 １．０ ｇ （アルカリ水可溶性高分子化合物） ・オイルブルー＃６０３（オリエント工業（株）製） ０．０１ｇ ・メチルエチルケトン ５ ｇ ・メチルセロソルブ １５ ｇ ・化合物１ ０．０１ｇ

【０１８０】

【化５９】

【０１８１】この感光液３を、陽極酸化したアルミニウ
ム板上に、塗布量が乾燥重量で１．５ｇ／ｍ² になるよ
うに塗布し、１００℃で２分間乾燥してアルミニウム板
上に感光層を設け、平版印刷版原版を作製した。

【０１８２】実施例１４〜２１ 重合性オニウム塩を代えた以外は、実施例１３と同様に
平版印刷版原版を作製した。用いた重合性オニウム塩を
表３にまとめた。比較例７〜９ 重合性オニウム塩を、重合性基を有さない以下のオニウ
ム塩に代えた以外は、実施例１３と同様に平版印刷版原
版を作製した。用いたオニウム塩を表３にまとめた。

【０１８３】

【化６０】

【０１８４】［平版印刷版原版の性能評価］実施例１３
〜２１および比較例７〜９の平版印刷版原版の、感光層
上に濃度差０．１５のグレースケールを密着させ、２Ｋ
Ｗの高圧水銀灯で５０ｃｍの距離から２分間露光した。
露光した平版印刷版原版を、ＤＰ−４（富士写真フィル
ム（株）製）の８倍希釈水溶液で２５℃で現像し、クリ
ア段数および、ポジ画像が鮮明に現れる時間（現像時
間）を調べた。評価結果を表３に示した。

【０１８５】

【表３】

【０１８６】表３の結果から、実施例１３〜２１の平版
印刷版原版は、重合性基を有さないオニウム塩を用いて
製造した比較例との対比において、紫外光に対する感度
も高く、現像時間が格段に短縮されていることがわかっ
た。

【発明の効果】本発明のポジ型画像形成材料は、従来の
ものと比較して、感度および現像ラチチュードが格段に
優れている。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 以下の成分を含有するポジ型画像形成材
   料。 ａ）重合性オニウム塩 ｂ）水に不溶で、かつアルカリ水に可溶な高分子化合物