JP2002174895A - 平版印刷版用原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ディジタル信号に基づいた赤外線を放出する
固体レーザー及び半導体レーザーの走査露光により直接
製版が可能であり、感度が高く、且つ残膜による汚れが
生じない平版印刷版用原版を提供する。 【解決手段】 表面親水性の支持体上に、一般式（１）
で表される官能基及び一般式（２）で表される官能基の
少なくともいずれかを有する疎水性赤外線吸収剤と、一
般式（３）で表される官能基及び一般式（４）で表され
る官能基の少なくともいずれかを有する化合物とを含有
する画像形成層を有することを特徴とする。 【化１】 (式中R¹〜R⁶はアルキル基等を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、赤外線レーザによ
って直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平
版印刷版用原版に関する。

【０００２】

【従来の技術】印刷版の製造には、露光工程の後に、支
持体表面に設けられた画像記録層を画像状に除去するた
めの湿式による現像工程や現像処理された印刷版を水洗
水で水洗したり、界面活性剤を含有するリンス液、アラ
ビアガム、澱粉誘導体を含む不感脂化液で処理する後処
理工程が必要である。

【０００３】一方、近年の製版および印刷業界では、現
像廃液がアルカリ性であることより、環境問題が生じて
きている。また、製版作業の合理化が進められており、
上記のような複雑な湿式現像処理を必要とせず、露光後
にそのまま印刷に使用できる印刷版用原版が望まれてい
る。

【０００４】また、近年におけるレーザの発展は目ざま
しく、特に波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を
放射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小
型のものが容易に入手できる様になっている。コンピュ
ータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源
として、これらのレーザは非常に有用であり、８３０ｎ
ｍ付近に発光する半導体レーザ、及び、１０６４ｎｍに
発光するＹＡＧレーザを用いた、レーザ製版機が上市さ
れている。しかし、実用上有用な多くの感光性記録材料
は、感光波長が７６０ｎｍ以下の可視光域であるため、
これらの赤外線レーザでは画像記録できない。このた
め、赤外線レーザで記録可能な材料が望まれている。

【０００５】赤外線吸収剤を含有する赤外線レーザー感
応性ポジ型平版印刷版に用いた例としては、特開平７−
１８６５６２号に開示されている酸分解性カルボン酸エ
ステルと赤外線色素を用いた例、ＵＳ５６０５７８０号
に開示されているアブレーション型ポリマーと赤外線色
素を用いた例が知られている。また赤外線レーザー感応
性ネガ型平版印刷版として用いた例は、特開昭５６−６
９１９３号、特開平７−２０６２９号、特開平７−２７
１０２９号に熱架橋性樹脂であるレゾール樹脂、酸発生
剤、および赤外線吸収剤との組み合わせを用いた例が知
られている。しかしながら、これらの平版印刷版は実用
的な観点から十分な感度ではなく、さらなる高感度化が
望まれていた。また、これらの平版印刷版に用いられる
赤外線吸収剤の多くは、光熱変換の後、自身が分解して
疎水性となる場合が多く、露光部において残膜として残
ったり、印刷時の湿し水中でカス状の固相となったりし
て、汚れの原因となる場合があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は赤外線レーザにより、コンピューター等のデジタルデ
ータから直接製版可能である平版印刷版用原版を提供す
ることにある。さらに、本発明の目的は、感度が高く、
かつ汚れの生じない平版印刷版用原版を提供することに
ある。

【０００７】

【問題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成すべく鋭意検討した結果、下記平版印刷版用原版
を用いることにより上記課題が解決されることを見出
し、本発明を完成するに至ったものである。即ち本発明
は、表面親水性の支持体上に、下記一般式（１）で表さ
れる官能基及び下記一般式（２）で表される官能基の少
なくともいずれかを有する疎水性赤外線吸収剤と、下記
一般式（３）で表される官能基及び下記一般式（４）で
表される官能基の少なくともいずれかを有する化合物と
を含有する画像形成層を有することを特徴とする平版印
刷版用原版である。

【０００８】

【化２】

【０００９】（式中、Ｘ⁺はヨードニウムイオン、スル
ホニウムイオン、ジアゾニウムイオンを表し、Ｒ¹、
Ｒ²、は水素、アルキル基、アリール基、アルキニル
基、アルケニル基を表し、Ｒ³はアルキル基、アリール
基、アルキニル基、アルケニル基を表し、Ｒ⁴は水素、
アルキル基、アリール基、アルキニル基、アルケニル基
を表し、Ｒ⁵、Ｒ⁶の内のいずれか一方は水素を表し、も
う一方は水素、アルキル基、アリール基、アルキニル
基、アルケニル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³の任意の２つ
で環を形成しても良く、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶の任意の二つで
環を形成しても良い。）

【００１０】本発明の平版印刷版用原版は、その画像形
成層に含まれる赤外線吸収剤が、上記一般式（１）で表
される官能基及び上記一般式（２）で表される官能基の
少なくともいずれかを有することで、活性光線の照射及
び／又は加熱により親水性に変化するために、露光部に
おいて残色として残ったり、印刷時の湿し水中でカス状
の固相となったりすることが無く、汚れの生じない優れ
た平版印刷版を得ることができる。更に、本発明の平版
印刷版用原版には、一般式（３）及び／又は（４）で表
される官能基を有する化合物が画像形成層に含まれる
が、この化合物を含有したことによって、より少ないエ
ネルギーにて画像形成層を水性液体可溶性に変化させる
ことが可能になった。この原因は定かでないが、おそら
く以下のような機構によると考えられる。

【００１１】

【化３】

【００１２】

【化４】

【００１３】上記のように、本発明の平版印刷版用原版
は、サーマルヘッドや赤外線を放出する固体レーザー及
び半導体レーザー、若しくは可視光線を放出する固体レ
ーザー及び半導体レーザーを用いて記録することによ
り、コンピューター等のデジタルデータから直接製版可
能であり、画像記録後、湿式現像処理や擦り等の特別な
処理を必要とず、しかも感度が高く、耐刷性もよく且つ
汚れの生じない優れた平版印刷版を得ることができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明の平版印刷版用原版の画像形成層は、前記一般式
（１）で表される官能基及び前記一般式（２）で表され
る官能基の少なくともいずれかを有する疎水性赤外線吸
収剤（以下、単に「赤外線吸収剤」、「本発明における
赤外線吸収剤」或いは「ＩＲ吸収剤」とも言う場合があ
る。）と、前記一般式（３）で表される官能基及び前記
一般式（４）で表される官能基の少なくともいずれかを
有する化合物（以下、「分解促進化合物」と略す）とを
含有することが特徴であり、熱により水及び水溶液のい
ずれかに溶けるようになる画像形成層であり、赤外線吸
収剤の他、目的に応じて、他成分を含有できる。

【００１５】〔赤外線吸収剤〕本発明の平版印刷版用原
版に用いられる赤外線吸収剤とは、染料又は顔料であ
り、前記一般式（１）で表される官能基及び前記一般式
（２）で表される官能基の少なくともいずれかを有し、
活性光線の照射及び／又は加熱により親水性に変換する
ものである。この変化は、活性光線の照射及び／又は加
熱前には水に対して溶解する等の親和性を示さない赤外
線吸収剤が、活性光線の照射及び／又は加熱により、分
子内の前記一般式（１）で表される官能基及び前記一般
式（２）で表される官能基の少なくともいずれかが分解
し、水に対して溶解する等の親和性を示すようになる程
度の変化であることを要する。

【００１６】前記一般式（１）で表される官能基及び前
記一般式（２）で表される官能基中のＸ⁺で表されるヨ
ードニウムイオン、スルホニウムイオン、ジアゾニウム
イオンは、酸発生剤として当該業者間では周知であり、
活性光線の照射及び／又は加熱によって対応するカウン
ターアニオンの酸を形成する。従来の平版印刷版では、
このようにして発生した酸を架橋反応や酸分解性官能基
の分解を起こさせるための触媒として利用してきた。

【００１７】これに対し、本発明の平版印刷版用原版に
よれば、活性光線の照射及び／又は加熱により、前記官
能基のようなスルホン酸塩基、カルボン酸塩基がそれぞ
れスルホン酸、カルボン酸に変化し、元々疎水性であっ
た赤外線吸収剤が親水性に変化する。これによって露光
後の平版印刷版用原版を、水、水性液体又は印刷機上の
湿し水により現像すると、加熱部の画像形成層に含まれ
る赤外線吸収剤は容易に除去されて、残色の無い汚れ性
の良好な印刷版が形成される。Ｘ⁺で表されるヨードニ
ウムイオン、スルホニウムイオン、ジアゾニウムイオン
は、変換前の赤外線吸収剤を疎水性にし、変換後の赤外
線吸収剤を親水性にするものであれば何れの化合物も好
適に用いることができるが、変換前の疎水性や経時安定
性を考慮すると、以下の一般式（５）〜（７）で表され
るヨードニウムイオン、スルホニウムイオン、ジアゾニ
ウムイオンが特に好ましい。

【００１８】

【化５】

【００１９】式中、Ｒ¹〜Ｒ³⁰は、各々独立して水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、
アリール基、アルキニル基、アルケニル基、及び以下の
一般式で表される官能基を表し、Ｒ³¹〜Ｒ³³は水素原
子、アルキル基、アリール基、アルキニル基、アルケニ
ル基を表し、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰の任意の２つで環を形成しても
よく、Ｒ¹¹〜Ｒ²⁵の任意の２つで環を形成してもよく、
Ｒ²⁶〜Ｒ³⁰の任意の２つで環を形成しても良い。

【００２０】

【化６】

【００２１】（式中、Ｒ³¹、Ｒ³²は各々独立して水素原
子、アルキル基、アリール基、アルキニル基、アルケニ
ル基を表す） Ｒ¹〜Ｒ³⁰がアルキル基を表すとき、アルキル基として
は、炭素原子数が１〜２０までの直鎖状、分岐状、及び
環状のアルキル基を挙げることができる。その具体例と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノ
ニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデ
シル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル
基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メ
チルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル
基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロ
ペンチル基、２−ノルボルニル基等を挙げることができ
る。これらの中では、炭素原子数１〜１２までの直鎖
状、炭素原子数３〜１２までの分岐状、並びに炭素原子
数５〜１０までの環状のアルキル基がより好ましい。

【００２２】Ｒ¹〜Ｒ³⁰が置換アルキル基を表すとき、
その置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が
用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、
−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ
基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアル
キルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリ
ールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、
アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル
カルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，
Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキ
シ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルア
ミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールア
シルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレイド
基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリー
ルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アル
キルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アル
キル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−
アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−ア
ルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリ
ールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロ
キシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシ
カルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシ
カルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、

【００２３】アルコキシカルボニル基、アリーロキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイ
ル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリー
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アル
キルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−
ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スルホナト基と
称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホ
ニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ
−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールス
ルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフ
ィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルフ
ァモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ
−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスル
ファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモ
イル基、ホスフォノ基（−ＰＯ ₃Ｈ₂）及びその共役塩基
基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホスフ
ォノ基（−ＰＯ₃(alkyl)₂）、ジアリールホスフォノ基
（−ＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリールホスフォノ基
（−ＰＯ₃(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノ基
（−ＰＯ₃Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以後、アル
キルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフォノ
基（−ＰＯ₃Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基（以後、ア
リールホスフォナト基と称す）、ホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以後、ホスフォ
ナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ₃(alkyl)₂）、ジアリールホスフォノオキシ
基（−ＯＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリールホスフォノ
オキシ基（−ＯＰＯ₃(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホ
スフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ(alkyl)）及びその共役
塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称
す）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ
(aryl)）及びその共役塩基基（以後、アリールフォスホ
ナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。

【００２４】これらの置換基におけるアルキル基の具体
例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール基
の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチ
ル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバ
モイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル
基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホ
スフォナトフェニル基等を挙げることができる。また、
アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル
基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−
エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の例としては、
エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリ
メチルシリルエチニル基等が挙げられる。アシル基（Ｒ
⁴¹ＣＯ−）におけるＲ⁴¹としては、水素、及び上記のア
ルキル基、アリール基を挙げることができる。

【００２５】これら置換基の内、更により好ましいもの
としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−
Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルス
ルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ
基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリ
ールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキ
ルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリー
ルホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナト
オキシ基、アリール基、アルケニル基等が挙げられる。

【００２６】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては、前述の炭素数１〜２０のアルキル基上の水
素原子のいずれか１つを除き、２価の有機残基としたも
のを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１〜１２
までの直鎖状、炭素原子数３〜１２までの分岐状、及び
炭素原子数５〜１０までの環状のアルキレン基を挙げる
ことができる。該置換基とアルキレン基を組み合わせる
事により得られる置換アルキル基の、好ましい具体例と
しては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロ
エチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、
メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フ
ェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメ
チル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピ
ル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル
基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカ
ルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイル
オキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチル
ベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２
−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシ
カルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル
基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイ
ルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフ
ェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ス
ルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル
基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ
−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピル
スルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイル
プロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）
スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホス
フォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジ
フェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチ
ル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノ
ヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォ
ノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−
メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル
基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル
基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチル
プロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル
基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。

【００２７】Ｒ¹〜Ｒ³⁰が、アリール基を表すとき、ア
リール基としては、１個〜３個のベンゼン環が縮合環を
形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形
成したものを挙げることができ、具体例としては、フェ
ニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル
基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基
等を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル
基、ナフチル基がより好ましい。また、アリール基には
上記炭素環式アリール基の他、複素環式（ヘテロ）アリ
ール基が含まれる。複素環式アリール基としては、ピリ
ジル基、フリル基、その他ベンゼン環が縮環したキノリ
ル基、ベンゾフリル基、チオキサントン基、カルバゾー
ル基等の炭素数３〜２０、ヘテロ原子数１〜５を含むも
のが用いられる。

【００２８】Ｒ¹〜Ｒ³⁰が、置換アリール基を表すと
き、置換アリール基としては、前述のアリール基の環形
成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属
原子団を有するものが用いられる。好ましい置換基の例
としては前述のアルキル基、置換アルキル基、及び、先
に置換アルキル基における置換基として示したものを挙
げることができる。この様な、置換アリール基の好まし
い具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロ
モフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェ
ニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフ
ェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェ
ニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル
基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エ
チルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モ
ルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベン
ゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモ
イルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキ
シフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチル
ベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、
メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニ
ルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル
基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイル
フェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル
基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフェニル
基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイル
フェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル
基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモ
イルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフ
ェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−
メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルフ
ェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニ
ル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホス
フォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチ
ルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル
基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、１−プ
ロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル
フェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プ
ロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブ
チニルフェニル基等を挙げることができる。

【００２９】Ｒ¹〜Ｒ³⁰が、アルケニル基、置換アルケ
ニル基［−Ｃ（Ｒ⁴²）＝Ｃ（Ｒ⁴³）（Ｒ⁴⁴）］、アルキ
ニル基、又は置換アルキニル基［−Ｃ≡Ｃ（Ｒ⁴⁵）］を
表すとき、Ｒ⁴²〜Ｒ⁴⁵としては、一価の非金属原子団を
使用することができる。好ましいＲ⁴²〜Ｒ⁴⁵の例として
は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基、及び置換アリール基を挙げることが
できる。これらの具体例としては、前述の例として示し
たものを挙げることができる。Ｒ⁴²〜Ｒ ⁴⁵のより好まし
い置換基としては、水素原子、ハロゲン原子、及び炭素
原子数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を
挙げることができる。

【００３０】アルケニル基、置換アルケニル基、アルキ
ニル基及び置換アルキニル基の具体例としては、ビニル
基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニ
ル基、１−オクテニル基、１−メチル−１−プロペニル
基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−
ブテニル基、２−フェニル−１−エテニル基、２−クロ
ロ−１−エテニル基、エチニル基、プロピニル基、フェ
ニルエチル基等を挙げることができる。

【００３１】これらのうち、経時安定性や変換前の極性
変換高分子化合物の疎水性の観点からＲ¹〜Ｒ³⁰として
好ましい官能基は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アリール基、アルキニル基、アルケニル基、シアノ
基、及び以下の一般式で表される官能基である。

【００３２】

【化７】

【００３３】（式中、Ｒ³¹、Ｒ³²は各々独立して水素原
子、アルキル基、アリール基、アルキニル基、アルケニ
ル基を表す） 以下に、ヨードニウムイオン、スルホニウムイオン、ジ
アゾニウムイオンの具体例を記載するが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。

【００３４】

【化８】

【００３５】

【化９】

【００３６】

【化１０】

【００３７】本発明に用いられるＩＲ吸収剤の染料又は
顔料の母核は、７００〜１２００ｎｍに吸収を持つ染料
又は顔料であれば何れも好適に使用することができる。
そのような母核として好ましいものとしては、ポリメチ
ン色素、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウ
ム色素、ジインモニウム色素、フタロシアニン化合物、
トリアリールメタン色素、金属ジチオレン等が挙げられ
る。これらのうち更に好ましいものとしては、ポリメチ
ン色素、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウ
ム色素、ジインモニウム色素、フタロシアニン化合物で
あり、その中でも合成適正の観点からポリメチン色素、
シアニン色素、フタロシアニン化合物がもっとも好まし
い。本発明に用いられる７００〜１２００ｎｍに吸収を
持つ染料又は顔料の母核の具体例を以下に示すが、本発
明はこれらに限定されるものではない。

【００３８】

【化１１】

【００３９】

【化１２】 本発明に用いられるＩＲ吸収剤は、前記のような７００
〜１２００ｎｍに吸収を持つ染料又は顔料であって、前
記一般式（１）で表される官能基及び前記一般式（２）
で表される官能基の少なくともいずれかを有するもので
あれば何れも好適に使用することができる。本発明に用
いられるＩＲ吸収剤の具体例を以下に示すが、本発明は
これらに限定されるものではない。

【００４０】

【化１３】

【００４１】

【化１４】

【００４２】また、本発明に用いられる赤外線吸収剤の
具体的合成方法を以下に記載するが、本発明はこの合成
法に従って合成された赤外線吸収剤に限定されるもので
はない。

【００４３】（ａ）ジ（4-t-アミルフェニル）ヨードニ
ウムヨージド（１）の合成 t-アミルベンゼン：６０ｇ、ヨウ素酸カリウム：３９．
５ｇ、無水酢酸：８１ｇ、ジクロロメタン：１７０ｍｌ
を混合し、これに氷冷下濃硫酸：６６．８ｇをゆっくり
と滴下した。氷冷下２時間攪拌後、室温で１０時間攪拌
した。得られた反応溶液を氷冷後、水：５００ｍｌを加
え、よく攪拌した後、水相とジクロロメタン相を分離し
た。得られた水相にジクロロメタン：２００ｍｌを加え
てよく攪拌した後、再度水相とジクロロメタン相を分離
して、得られたジクロロメタン溶液を併せて、炭酸水素
ナトリウム水溶液、水、塩化ナトリウム水溶液で順次洗
浄した。こうして得られたジクロロメタン溶液を、無水
硫酸マグネシウムにより十分に脱水した後、濾過して濃
縮するとジ（4-t-アミルフェニル）ヨードニウム硫酸塩
が得られた。この硫酸塩を過剰量のヨウ化カリウムを含
む水溶液に加えた。得られた水溶液をジクロロメタンに
より抽出し、ジクロロメタン溶液を水により洗浄した
後、濃縮するとジ（4-t-アミルフェニル）ヨードニウム
ヨージド（１）：７５ｇが得られた（下記構造）。

【００４４】（ｂ）赤外線吸収剤（２）の合成 ５００ｍＬの三口フラスコにトリメチルベンズインドレ
ニン（３）（下記構造）：５２．３２ｇ、1,4-ブタンサ
ルトン：４０．８５ｇ、及びトルエン：５０ｍｌを入
れ、トルエン還流下、９時間攪拌した。室温まで冷却し
た後、析出した固体を濾過し、トルエンで洗浄した。得
られた固体を減圧乾燥して、化合物（４）（下記構
造）：６４．８ｇが得られた。１リットルの三口フラス
コに、得られた化合物（４）：３６．８１ｇ、化合物
（５）（下記構造）：１９．１４ｇ、及びメタノール：
１００ｍｌを入れ、室温にて攪拌した。ここに無水酢
酸：２１．７６ｇを加えた後、トリエチルアミン：２
１．５６ｇを少量ずつ１時間かけて添加した。添加終了
後、更に２時間攪拌を続けた後、メタノールを加えて総
容量３００ｍｌとした。このメタノール溶液を、激しく
攪拌した１０リットル−ポリ容器中の酢酸エチル８リッ
トルに５時間かけて滴下した。滴下終了後、そのまま１
時間攪拌を続けた後、析出した固体を濾過した。得られ
た固体を減圧下乾燥して、赤外線吸収剤（２）（下記構
造）：４５．２９ｇが得られた。

【００４５】（ｃ）赤外線吸収剤（６）の合成 赤外線吸収剤（２）：９２．８７ｇを蒸留水：２リット
ルに溶かし、赤外線吸収剤水溶液を調製した。一方、ジ
（4-t-アミルフェニル）ヨードニウムヨージド（１）：
５４．８３ｇをメタノール：２０００ｍｌに溶解させ、
この溶液に酸化銀：２４．８２ｇを加え、室温で４時間
攪拌した。この反応溶液を濾過した後、激しく攪拌した
前述の赤外線吸収剤水溶液にゆっくりと注ぐと、固形物
が析出した。析出した固形物を濾過し、蒸留水で洗浄
後、減圧乾燥すると赤外線吸収剤（６）：９９．８ｇ
（下記構造）が得られた。

【００４６】

【化１５】

【００４７】本発明において、これらの赤外線吸収剤の
含有量は、画像形成層の全固形分中、0.05〜50重量％程
度であり、好ましくは0.5〜25重量％、特に好ましくは1
〜20重量％の範囲で用いられる。赤外線吸収剤の含有量
が0.1重量％未満であると感度が低く残膜が生じ易くな
り、また、50重量％を越えると全ての赤外線吸収剤を親
水性に変えることができなくなるため、赤外線吸収剤が
画像形成層に残存し易くなり、残色や汚れが生じる傾向
が出てくる。

【００４８】〔分解促進化合物〕本発明に用いられる
「分解促進化合物」とは、以下の一般式（３）及び／又
は（４）で表される官能基を有する化合物である。

【００４９】

【化１６】

【００５０】式中、Ｒ¹、Ｒ²は水素、アルキル基、アリ
ール基、アルキニル基、アルケニル基を表し、Ｒ³はア
ルキル基、アリール基、アルキニル基、アルケニル基を
表し、Ｒ⁴は水素、アルキル基、アリール基、アルキニ
ル基、アルケニル基を表し、Ｒ⁵、Ｒ⁶の内のいずれか一
方は水素を表し、もう一方は水素、アルキル基、アリー
ル基、アルキニル基、アルケニル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、
Ｒ³の任意の２つで環を形成しても良く、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶
の任意の二つで環を形成しても良い。Ｒ¹〜Ｒ⁸がアルキ
ル基、アリール基、アルキニル基、アルケニル基を表す
とき、これらの基としては前述の一般式（５）〜（７）
で表されるオニウム化合物のＲ¹〜Ｒ³⁰で挙げられたも
のが挙げられる。なお、本発明で用いる分解促進化合物
は前述の極性変換高分子化合物と一体型のものであって
もよい。以下に、本発明に用いられる分解促進化合物の
具体例を記載するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。

【００５１】

【化１７】

【００５２】本発明の平版印刷版用原版の画像形成層に
含まれる分解促進化合物の割合は、後述の極性変換高分
子化合物中の一般式（１）及び／又は（２）で表される
官能基のモル数に対して、１０モル％以上添加されるの
が好ましい。１０モル％より多ければ、前述の推定分解
機構によって分解される極性変換高分子化合物中の一般
式（１）及び／又は（２）で表される官能基のモル数に
よって、極性変換高分子化合物は十分に親水性に変化さ
せることができる。

【００５３】次に、本発明の平版印刷版用原版の画像形
成層に用いられる赤外線吸収剤および分解促進化合物以
外の構成成分について説明する。 〔高分子化合物〕本発明に用いられる高分子化合物は、
画像形成層が熱により水及び水溶液の少なくともいずれ
かに溶けるようになることを妨げない限り、何れの高分
子化合物も使用することができるが、本発明に用いられ
る高分子化合物として特に好ましいものは、熱により親
水性に変化する疎水性高分子化合物（以下、ポジ型極性
変換高分子化合物と呼ぶ場合がある）、及びアルカリ水
溶液可溶性樹脂である。

【００５４】〔ポジ型極性変換高分子化合物〕本発明に
用いられるポジ型極性変換高分子化合物とは、前述した
通り、熱により親水性に変化する疎水性高分子化合物で
ある。そのような高分子化合物としては、側鎖に熱によ
り親水性に変化する疎水性官能基を有する疎水性高分子
化合物が挙げられる。この変化は、レーザー露光後の光
熱変換により熱が加えられた場合に、常温では水に対し
て溶解するあるいは膨潤する等の親和性を示さない高分
子化合物が、熱によって側鎖の極性変換官能基の一部も
しくは全部が変化して水に対して溶解するあるいは膨潤
する等の親和性を示すようになる程度の変化であること
を要する。

【００５５】疎水性高分子化合物側鎖の疎水性官能基
が、熱により親水性に変化する過程としては、元々疎水
性の側鎖官能基が熱により反応して親水性に変化する過
程と、元々疎水性の側鎖官能基が熱により分解して疎水
性官能基を失うことで親水性に変化する二つの過程が考
えられる。前者の熱により反応して親水性に変化する過
程としては、疎水性官能基がポリマー内部の他の官能基
と熱により反応して親水性に変化する過程と、疎水性官
能基がポリマー外部の他の化合物と熱により反応して親
水性に変化する過程とが考えられ、これらを二種組み合
わせた過程により親水性に変化しても良い。上述した過
程のうち、反応性の観点から、元々疎水性の側鎖官能基
が熱により分解して疎水性官能基を失うことで親水性に
変化する過程が好ましい。

【００５６】また、本発明においては、極性変換高分子
化合物の側鎖の極性変換官能基が総て親水性に変化する
ことがより好ましいが、極性変換高分子化合物が、水に
対して溶解する或いは膨潤する等の親和性を示すように
なる程度に起これば、特に制限はなく、その総てが親水
性に変化しなくても良い。本発明における疎水性官能基
の一部の具体例としては、以下のような官能基が挙げら
れる。

【００５７】

【化１８】

【００５８】（式中、Ｒ¹、Ｒ³はアルキル基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基を表し、Ｒ²、Ｒ⁴は水
素、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基を表し、Ｒ¹とＲ²、Ｒ¹とＲ³、及びＲ¹とＲ⁴で環を
形成しても良い）

【００５９】また、本発明における親水性官能基の具体
例としては、以下のような官能基が挙げられる。

【００６０】

【化１９】

【００６１】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は水素、アルキル
基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基を表し、
任意の２つで環を形成しても良い。Ｅ^-は対アニオンを
表す。）

【００６２】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴がアルキル基を表すと
き、アルキル基としては、炭素原子数が１〜２０までの
直鎖状、分岐状、及び環状のアルキル基を挙げることが
できる。その具体例としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オク
タデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチ
ル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、
ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル
基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シ
クロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル
基等を挙げることができる。これらの中では、炭素原子
数１〜１２までの直鎖状、炭素原子数３〜１２までの分
岐状、並びに炭素原子数５〜１０までの環状のアルキル
基がより好ましい。

【００６３】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴が置換アルキル基を表
すとき、その置換基としては、水素を除く一価の非金属
原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子
（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、ア
ルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリール
ジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミ
ノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
ルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイ
ルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
ルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキル
スルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、
アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−ア
リールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−
アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド
基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−
Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ
−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−
アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロ
キシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシ
カルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシ
カルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、

【００６４】アルコキシカルボニル基、アリーロキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイ
ル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリー
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アル
キルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−
ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スルホナト基と
称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホ
ニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ
−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールス
ルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフ
ィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルフ
ァモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ
−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスル
ファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモ
イル基、ホスフォノ基（−ＰＯ ₃Ｈ₂）及びその共役塩基
基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホスフ
ォノ基（−ＰＯ₃(alkyl)₂）、ジアリールホスフォノ基
（−ＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリールホスフォノ基
（−ＰＯ₃(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノ基
（−ＰＯ₃Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以後、アル
キルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフォノ
基（−ＰＯ₃Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基（以後、ア
リールホスフォナト基と称す）、ホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以後、ホスフォ
ナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ₃(alkyl)₂）、ジアリールホスフォノオキシ
基（−ＯＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリールホスフォノ
オキシ基（−ＯＰＯ₃(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホ
スフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ(alkyl)）及びその共役
塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称
す）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ
(aryl)）及びその共役塩基基（以後、アリールフォスホ
ナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。

【００６５】これらの置換基におけるアルキル基の具体
例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール基
の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチ
ル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバ
モイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル
基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホ
スフォナトフェニル基等を挙げることができる。また、
アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル
基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−
エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の例としては、
エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリ
メチルシリルエチニル基等が挙げられる。アシル基（Ｒ
⁴¹ＣＯ−）におけるＲ⁴¹としては、水素、及び上記のア
ルキル基、アリール基を挙げることができる。

【００６６】これら置換基の内、更により好ましいもの
としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−
Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルス
ルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ
基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリ
ールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキ
ルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリー
ルホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナト
オキシ基、アリール基、アルケニル基等が挙げられる。

【００６７】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては、前述の炭素数１〜２０のアルキル基上の水
素原子のいずれか１つを除き、２価の有機残基としたも
のを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１〜１２
までの直鎖状、炭素原子数３〜１２までの分岐状、及び
炭素原子数５〜１０までの環状のアルキレン基を挙げる
ことができる。該置換基とアルキレン基を組み合わせる
事により得られる置換アルキル基の、好ましい具体例と
しては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロ
エチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、
メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フ
ェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメ
チル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピ
ル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル
基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカ
ルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイル
オキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチル
ベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２
−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシ
カルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル
基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイ
ルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフ
ェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ス
ルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル
基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ
−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピル
スルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイル
プロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）
スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホス
フォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジ
フェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチ
ル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノ
ヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォ
ノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−
メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル
基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル
基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチル
プロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル
基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。

【００６８】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴が、アリール基を表す
とき、アリール基としては、１個〜３個のベンゼン環が
縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮
合環を形成したものを挙げることができ、具体例として
は、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナン
トリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレ
ニル基等を挙げることができ、これらのなかでは、フェ
ニル基、ナフチル基がより好ましい。また、アリール基
には上記炭素環式アリール基の他、複素環式（ヘテロ）
アリール基が含まれる。複素環式アリール基としては、
ピリジル基、フリル基、その他ベンゼン環が縮環したキ
ノリル基、ベンゾフリル基、チオキサントン基、カルバ
ゾール基等の炭素数３〜２０、ヘテロ原子数１〜５を含
むものが用いられる。

【００６９】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴が、置換アリール基を
表すとき、置換アリール基としては、前述のアリール基
の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の
非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換
基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、及
び、先に置換アルキル基における置換基として示したも
のを挙げることができる。この様な、置換アリール基の
好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キ
シリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル
基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメ
チルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒド
ロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエト
キシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシ
フェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニ
ル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニ
ル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル
基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシル
カルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモ
イルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ
−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェ
ニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシ
カルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフ
ェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルカルバ
モイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフ
ェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフェ
ニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモ
イルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニ
ル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファ
モイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル
フェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ
−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイル
フェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェ
ニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホ
スフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メ
チルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニ
ル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、１−
プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリ
ルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−
プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−
ブチニルフェニル基等を挙げることができる。

【００７０】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴が、アルケニル基、置
換アルケニル基［−Ｃ（Ｒ⁴²）＝Ｃ（Ｒ⁴³）
（Ｒ⁴⁴）］、アルキニル基、又は置換アルキニル基［−
Ｃ≡Ｃ（Ｒ⁴⁵）］を表すとき、Ｒ⁴²〜Ｒ⁴⁵としては、一
価の非金属原子団を使用することができる。好ましいＲ
⁴²〜Ｒ⁴⁵の例としては、水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、置換アルキル基、アリール基、及び置換アリー
ル基を挙げることができる。これらの具体例としては、
前述の例として示したものを挙げることができる。Ｒ⁴²
〜Ｒ ⁴⁵のより好ましい置換基としては、水素原子、ハロ
ゲン原子、及び炭素原子数１〜１０の直鎖状、分岐状、
環状のアルキル基を挙げることができる。

【００７１】アルケニル基、置換アルケニル基、アルキ
ニル基及び置換アルキニル基の具体例としては、ビニル
基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニ
ル基、１−オクテニル基、１−メチル−１−プロペニル
基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−
ブテニル基、２−フェニル−１−エテニル基、２−クロ
ロ−１−エテニル基、エチニル基、プロピニル基、フェ
ニルエチル基等を挙げることができる。上記のうち、Ｒ
¹、Ｒ³として好ましいものは、アルキル基、置換基アル
キル基、アリール基、及び置換アリール基であり、
Ｒ²、Ｒ⁴として好ましいものは、水素、アルキル基、置
換アルキル基、アリール基、置換アリール基である。

【００７２】Ｅ^-で表される対アニオンとは、負電荷を
有するアニオンであり、親水性官能基であるアンモニウ
ム基（−Ｎ⁺Ｒ¹Ｒ²Ｒ³）中の正電荷とイオンペアを形成
する。故に、Ｅ^-で表される対アニオンは、アンモニウ
ム基中に存在する正電荷と等電荷となるモル数だけ存在
する。より具体的な対アニオンとしてはF^-、Cl^-、Br^-、
I^-、HO^-、CN^-、SO₄ ^2-、HSO₄ ^-、SO₃ ^2-、HSO₃ ^-、NO₃ ^-、CO
₃ ^2-、HCO₃ ^-、PF₆ ^-、BF₄ ^-、ClO₄ ^-、ClO₃ ^-、ClO₂ ^-、Cl
O ^-、BrO₄ ^-、BrO₃ ^-、BrO₂ ^-、BrO^-、IO₄ ^-、IO₃ ^-、IO₂ ^-、I
O^-、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、ホスホ
ン酸アニオン、リン酸アニオン等が挙げられる。スルホ
ン酸アニオンの具体例としては、以下のようなものが挙
げられるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。

【００７３】

【化２０】

【００７４】

【化２１】

【００７５】カルボン酸アニオンの具体例としては、以
下のようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定
されるものではない。

【００７６】

【化２２】

【００７７】

【化２３】

【００７８】ホスホン酸アニオンの具体例としては、以
下のようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定
されるものではない。

【００７９】

【化２４】

【００８０】リン酸アニオンの具体例としては、以下の
ようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定され
るものではない。

【００８１】

【化２５】

【００８２】これらのアニオンのうち、本発明に好適に
使用されるアニオンは、Cl^-、Br^-、I^-、CN^-、SO₄ ^2-、PF
₆ ^-、BF₄ ^-、ClO₄ ^-、スルホン酸アニオン、カルボン酸ア
ニオン、ホスホン酸アニオン、リン酸アニオンである。
このような熱により親水性に変化する疎水性官能基のう
ち、反応性、保存安定性、及び親疎水性のディスクリの
観点から特に好ましい官能基は、以下の一般式（６）〜
（１０）で表される官能基である。

【００８３】

【化２６】

【００８４】式中、Ｌは非金属原子から成る多価の連結
基を表し、Ｒ¹はアルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基又は環状イミド基を表し、Ｒ²、Ｒ³は
アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル
基を表し、Ｒ⁴はアルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基又は−ＳＯ₂−Ｒ¹¹を表し、Ｒ⁵、Ｒ ⁶
及びＲ⁷はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基又はアルキニル基を表し、Ｒ⁸及びＲ⁹の内の
一方は水素、他方は水素、アルキル基、アリール基、ア
ルケニル基又はアルキニル基を表し、Ｒ¹⁰はアルキル
基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Ｒ¹¹はアル
キル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を
表し、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷の内の任意の２つもしくは３つ
で環を形成してもよく、Ｒ⁸とＲ¹⁰又はＲ⁹とＲ¹⁰で環を
形成してもよい。ＸはＯ又はＳを表す。

【００８５】Ｒ¹〜Ｒ¹¹がアルキル基を表すとき、アル
キル基としては、前述のような官能基が挙げられる。Ｒ
¹〜Ｒ¹¹が置換アルキル基を表すとき、その置換基とし
ては、前述のような官能基が挙げられる。Ｒ¹〜Ｒ⁹及び
Ｒ¹¹が、アリール基を表すとき、アリール基としては、
前述のような官能基が挙げられる。Ｒ¹〜Ｒ⁹及びＲ
¹¹が、置換アリール基を表すとき、置換アリール基とし
ては、前述のような官能基が挙げられる。

【００８６】Ｒ¹〜Ｒ¹¹が、アルケニル基、置換アルケ
ニル基［−Ｃ（Ｒ¹³）＝Ｃ（Ｒ¹⁴）（Ｒ¹⁵）］、アルキ
ニル基、又は置換アルキニル基［−Ｃ≡Ｃ（Ｒ¹⁶）］を
表すとき、Ｒ¹³〜Ｒ¹⁶としては、一価の非金属原子団を
使用することができる。好ましいＲ¹³〜Ｒ¹⁶の例として
は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基、及び置換アリール基を挙げることが
できる。これらの具体例としては、前述の例として示し
たものを挙げることができる。Ｒ¹が環状イミド基を表
すとき、環状イミドとしては、琥珀酸イミド、フタル酸
イミド、シクロヘキサンジカルボン酸イミド、ノルボル
ネンジカルボン酸イミド等の炭素原子４〜２０までのも
のを用いることができる。

【００８７】上記のうち、Ｒ¹として特に好ましいもの
は、アルキル基、置換基アルキル基、及び環状イミド基
である。また、上記のうちＲ²、Ｒ³、Ｒ⁴、及びＲ¹¹と
して特に好ましいものは、ハロゲン、シアノ、ニトロ等
の電子吸引性基で置換されたアルキル基、ハロゲン、シ
アノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換されたアリール
基、及び２級若しくは３級の分岐状アルキル基である。
Ｒ⁵〜Ｒ⁹として好ましいものは、アルキル基、置換アル
キル基、アリール基、又は置換アリール基であり、Ｒ¹⁰
として好ましいものは、アルキル基又は置換アルキル基
であって、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷のうちの任意の２つ若しく
は３つで環を形成した場合、及び、Ｒ⁸とＲ¹⁰又はＲ⁹と
Ｒ¹⁰で環を形成した場合である。

【００８８】Ｌで表される非金属原子からなる多価の連
結基とは、１から６０個までの炭素原子、０個から１０
個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１
個から１００個までの水素原子、及び０個から２０個ま
での硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連
結基としては下記の構造単位が組み合わさって構成され
るものを挙げることができる。

【００８９】

【化２７】

【００９０】多価の連結基が置換基を有する場合、置換
基としてはメチル基、エチル基等の炭素数１〜２０まで
のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜
１６までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、スル
ホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基
のような炭素数１〜６までのアシルオキシ基、メトキシ
基、エトキシ基のような炭素数１〜６までのアルコキシ
基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシ
カルボニル基のような炭素数２〜７までのアルコキシカ
ルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネートのよう
な炭酸エステル基等を用いることができる。

【００９１】上記の熱により親水性に変化する疎水性官
能基を有するポジ型極性変換高分子化合物を合成するた
めに好適に使用される、該疎水性官能基を有するラジカ
ル重合性モノマーの具体例を以下に示すが、本発明はこ
れに限定されるものではない。

【００９２】

【化２８】

【００９３】

【化２９】

【００９４】

【化３０】

【００９５】

【化３１】

【００９６】

【化３２】

【００９７】

【化３３】

【００９８】

【化３４】

【００９９】上記熱により親水性に変化する疎水性官能
基を有するポジ型極性変換高分子化合物は、その側鎖の
少なくとも一部に該疎水性官能基を有していれば、特に
制限はなく、その側鎖に熱により親水性に変化する疎水
性官能基以外の官能基を有していても良い。故に、熱に
より親水性に変化する疎水性官能基以外の官能基を有す
るモノマーとの共重合体であっても、本発明の効果を妨
げない限り、好適に使用することができる。このような
側鎖を有するラジカル重合性のモノマーとしては、以下
のようなモノマーが挙げられる。

【０１００】共重合体に用いられる他のラジカル重合性
のモノマーとしては、アクリル酸、アクリル酸エステル
類、アクリルアミド類、メタクリル酸、メタクリル酸エ
ステル類、メタクリルアミド類、マレイン酸、無水マレ
イン酸、マレイン酸エステル類、マレイン酸アミド類、
マレイン酸イミド類、イタコン酸、イタコン酸無水物、
イタコン酸エステル類、イタコン酸アミド類、イタコン
酸イミド類、クロトン酸、クロトン酸エステル類、クロ
トン酸アミド類、フマル酸、フマル酸エステル類、フマ
ル酸アミド類、メサコン酸、メサコン酸エステル類、メ
サコン酸アミド類、α、β-不飽和ラクトン類、α、β-
不飽和ラクタム類、不飽和炭化水素類、ビニルエーテル
類、ビニルエステル類、α、β-不飽和ケトン類、スチ
レン類、等の公知のモノマーが挙げられる。

【０１０１】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ-又は
ｉ-）プロピルアクリレート、（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又は
ｔ-）ブチルアクリレート、ペンチルアクリレート、ヘ
キシルアクリレート、へプチルアクリレート、オクチル
アクリレート、ノニルアクリレート、デシルアクリレー
ト、アミルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレー
ト、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレー
ト、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、5-ヒドロキシペンチルアクリレー
ト、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレー
ト、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタ
エリスリトールモノアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルア
クリレート、ヒドロキシベンジルアクリレート、ヒドロ
キシフェネチルアクリレート、ジヒドロキシフェネチル
アクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、ヒド
ロキシフェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレ
ート、スルファモイルフェニルアクリレート、2-（ヒド
ロキシフェニルカルボニルオキシ）エチルアクリレート
等が挙げられる。

【０１０２】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、Ｎ-メチルアクリルアミド、Ｎ-エチルアク
リルアミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルアクリルアミ
ド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）アクリルアミ
ド、Ｎ-ベンジルアクリルアミド、Ｎ-ヒドロキシエチル
アクリルアミド、Ｎ-フェニルアクリルアミド、Ｎ-トリ
ルアクリルアミド、Ｎ-（ヒドロキシフェニル）アクリ
ルアミド、Ｎ-（スルファモイルフェニル）アクリルア
ミド、Ｎ-（フェニルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ-
（トリルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ-ジメチ
ルアクリルアミド、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルアクリルア
ミド、Ｎ-ヒドロキシエチル-Ｎ-メチルアクリルアミド
等が挙げられる。

【０１０３】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ-又はｉ-）プロピルメタクリレート、（ｎ-、ｉ-、
ｓｅｃ-又はｔ-）ブチルメタクリレート、ペンチルメタ
クリレート、ヘキシルメタクリレート、へプチルメタク
リレート、オクチルメタクリレート、ノニルメタクリレ
ート、デシルメタクリレート、アミルメタクリレート、
2-エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレ
ート、クロロエチルメタクリレート、2-ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、5-ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキ
シルメタクリレート、アリルメタクリレートトリメチロ
ールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メト
キシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリ
レート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒドロキ
シフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネチル
メタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒ
ドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレー
ト、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフェニ
ルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレ
ート、2-（ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）エチ
ルメタクリレート等が挙げられる。

【０１０４】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、Ｎ-メチルメタクリルアミド、Ｎ-エチ
ルメタクリルアミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルメタ
クリルアミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）メタ
クリルアミド、Ｎ-ベンジルメタクリルアミド、Ｎ-ヒド
ロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ-フェニルメタクリ
ルアミド、Ｎ-トリルメタクリルアミド、Ｎ-（ヒドロキ
シフェニル）メタクリルアミド、Ｎ-（スルファモイル
フェニル）メタクリルアミド、Ｎ-（フェニルスルホニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ-（トリルスルホニル）メタ
クリルアミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルメタクリルアミド、Ｎ-
メチル-Ｎ-フェニルメタクリルアミド、Ｎ-ヒドロキシ
エチル-Ｎ-メチルメタクリルアミド等が挙げられる。

【０１０５】クロトン酸エステル類の具体例としては、
メチルクロトネート、エチルクロトネート、（ｎ-又は
ｉ-）プロピルクロトネート、（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又は
ｔ-）ブチルクロトネート、ペンチルクロトネート、ヘ
キシルクロトネート、へプチルクロトネート、オクチル
クロトネート、ノニルクロトネート、デシルクロトネー
ト、アミルクロトネート、2-エチルヘキシルクロトネー
ト、ドデシルクロトネート、クロロエチルクロトネー
ト、2-ヒドロキシエチルクロトネート、2-ヒドロキシプ
ロピルクロトネート、5-ヒドロキシペンチルクロトネー
ト、シクロヘキシルクロトネート、アリルクロトネー
ト、トリメチロールプロパンモノクロトネート、ペンタ
エリスリトールモノクロトネート、ベンジルクロトネー
ト、メトキシベンジルクロトネート、クロロベンジルク
ロトネート、ヒドロキシベンジルクロトネート、ヒドロ
キシフェネチルクロトネート、ジヒドロキシフェネチル
クロトネート、フルフリルクロトネート、テトラヒドロ
フルフリルクロトネート、フェニルクロトネート、ヒド
ロキシフェニルクロトネート、クロロフェニルクロトネ
ート、スルファモイルフェニルクロトネート、2-（ヒド
ロキシフェニルカルボニルオキシ）エチルクロトネート
等が挙げられる。

【０１０６】クロトン酸アミド類の具体例としては、ク
ロトン酸アミド、Ｎ-メチルクロトン酸アミド、Ｎ-エチ
ルクロトン酸アミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルクロ
トン酸アミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）クロ
トン酸アミド、Ｎ-ベンジルクロトン酸アミド、Ｎ-ヒド
ロキシエチルクロトン酸アミド、Ｎ-フェニルクロトン
酸アミド、Ｎ-トリルクロトン酸アミド、Ｎ-（ヒドロキ
シフェニル）クロトン酸アミド、Ｎ-（スルファモイル
フェニル）クロトン酸アミド、Ｎ-（フェニルスルホニ
ル）クロトン酸アミド、Ｎ-（トリルスルホニル）クロ
トン酸アミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルクロトン酸アミド、Ｎ-
メチル-Ｎ-フェニルクロトン酸アミド、Ｎ-ヒドロキシ
エチル-Ｎ-メチルクロトン酸アミド等が挙げられる。

【０１０７】マレイン酸エステル類の具体例としては、
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸
ジ（ｎ-又はｉ-）プロピル、マレイン酸ジ（ｎ-、ｉ-、
ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、マレイン酸ジフェニル、マレ
イン酸ジアリル、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モ
ノエチル、マレイン酸モノ（ｎ-又はｉ-）プロピル、マ
レイン酸モノ（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、マ
レイン酸ジベンジル、マレイン酸モノベンジル、マレイ
ン酸メチルエチル、マレイン酸メチルプロピル、マレイ
ン酸エチルプロピル等が挙げられる。

【０１０８】マレイン酸アミド類の具体例としては、マ
レイン酸アミド、Ｎ-メチルマレイン酸アミド、Ｎ-エチ
ルマレイン酸アミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルマレ
イン酸アミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチ
ルマレイン酸アミド、Ｎ-ベンジルマレイン酸アミド、
Ｎ-ヒドロキシエチルマレイン酸アミド、Ｎ-フェニルマ
レイン酸アミド、Ｎ-トリルマレイン酸アミド、Ｎ-（ヒ
ドロキシフェニル）マレイン酸アミド、Ｎ-（スルファ
モイルフェニル）マレイン酸アミド、Ｎ-（フェニルス
ルホニル）マレイン酸アミド、Ｎ-（トリルスルホニ
ル）マレイン酸アミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルマレイン酸ア
ミド、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルマレイン酸アミド、Ｎ-ヒ
ドロキシエチル-Ｎ-メチルマレイン酸アミド、Ｎ-メチ
ルマレイン酸モノアミド、Ｎ-エチルマレイン酸モノア
ミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルマレイン酸モノアミド、Ｎ-メチ
ル-Ｎ’-エチルマレイン酸アミド、Ｎ-メチル-Ｎ’-フ
ェニルマレイン酸アミド等が挙げられる。

【０１０９】マレイン酸イミド類の具体例としては、マ
レイン酸イミド、Ｎ-メチルマレイン酸イミド、Ｎ-エチ
ルマレイン酸イミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルマレ
イン酸イミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチ
ルマレイン酸イミド、Ｎ-ベンジルマレイン酸イミド、
Ｎ-ヒドロキシエチルマレイン酸イミド、Ｎ-フェニルマ
レイン酸イミド、Ｎ-トリルマレイン酸イミド、Ｎ-（ヒ
ドロキシフェニル）マレイン酸イミド、Ｎ-（スルファ
モイルフェニル）マレイン酸イミド、Ｎ-（フェニルス
ルホニル）マレイン酸イミド、Ｎ-（トリルスルホニ
ル）マレイン酸イミド等が挙げられる。

【０１１０】イタコン酸エステル類の具体例としては、
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸
ジ（ｎ-又はｉ-）プロピル、イタコン酸ジ（ｎ-、ｉ-、
ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、イタコン酸ジフェニル、イタ
コン酸ジアリル、イタコン酸モノメチル、イタコン酸モ
ノエチル、イタコン酸モノ（ｎ-又はｉ-）プロピル、イ
タコン酸モノ（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、イ
タコン酸ジベンジル、イタコン酸モノベンジル、イタコ
ン酸メチルエチル、イタコン酸メチルプロピル、イタコ
ン酸エチルプロピル等が挙げられる。

【０１１１】イタコン酸アミド類の具体例としては、イ
タコン酸アミド、Ｎ-メチルイタコン酸アミド、Ｎ-エチ
ルイタコン酸アミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルイタ
コン酸アミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチ
ルイタコン酸アミド、Ｎ-ベンジルイタコン酸アミド、
Ｎ-ヒドロキシエチルイタコン酸アミド、Ｎ-フェニルイ
タコン酸アミド、Ｎ-トリルイタコン酸アミド、Ｎ-（ヒ
ドロキシフェニル）イタコン酸アミド、Ｎ-（スルファ
モイルフェニル）イタコン酸アミド、Ｎ-（フェニルス
ルホニル）イタコン酸アミド、Ｎ-（トリルスルホニ
ル）イタコン酸アミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルイタコン酸ア
ミド、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルイタコン酸アミド、Ｎ-ヒ
ドロキシエチル-Ｎ-メチルイタコン酸アミド、Ｎ-メチ
ルイタコン酸モノアミド、Ｎ-エチルイタコン酸モノア
ミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルイタコン酸モノアミド、Ｎ-メチ
ル-Ｎ’-エチルイタコン酸アミド、Ｎ-メチル-Ｎ’-フ
ェニルイタコン酸アミド等が挙げられる。

【０１１２】イタコン酸イミド類の具体例としては、イ
タコン酸イミド、Ｎ-メチルイタコン酸イミド、Ｎ-エチ
ルイタコン酸イミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルイタ
コン酸イミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチ
ルイタコン酸イミド、Ｎ-ベンジルイタコン酸イミド、
Ｎ-ヒドロキシエチルイタコン酸イミド、Ｎ-フェニルイ
タコン酸イミド、Ｎ-トリルイタコン酸イミド、Ｎ-（ヒ
ドロキシフェニル）イタコン酸イミド、Ｎ-（スルファ
モイルフェニル）イタコン酸イミド、Ｎ-（フェニルス
ルホニル）イタコン酸イミド、Ｎ-（トリルスルホニ
ル）イタコン酸イミド等が挙げられる。

【０１１３】フマル酸エステル類の具体例としては、フ
マル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジ（ｎ-
又はｉ-）プロピル、フマル酸ジ（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又
はｔ-）ブチル、フマル酸ジフェニル、フマル酸ジアリ
ル、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル
酸モノ（ｎ-又はｉ-）プロピル、フマル酸モノ（ｎ-、
ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、フマル酸ジベンジル、
フマル酸モノベンジル、フマル酸メチルエチル、フマル
酸メチルプロピル、フマル酸エチルプロピル等が挙げら
れる。

【０１１４】フマル酸アミド類の具体例としては、フマ
ル酸アミド、Ｎ-メチルフマル酸アミド、Ｎ-エチルフマ
ル酸アミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルフマル酸アミ
ド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチルフマル酸
アミド、Ｎ-ベンジルフマル酸アミド、Ｎ-ヒドロキシエ
チルフマル酸アミド、Ｎ-フェニルフマル酸アミド、Ｎ-
トリルフマル酸アミド、Ｎ-（ヒドロキシフェニル）フ
マル酸アミド、Ｎ-（スルファモイルフェニル）フマル
酸アミド、Ｎ-（フェニルスルホニル）フマル酸アミ
ド、Ｎ-（トリルスルホニル）フマル酸アミド、Ｎ、Ｎ-
ジメチルフマル酸アミド、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルフマ
ル酸アミド、Ｎ-ヒドロキシエチル-Ｎ-メチルフマル酸
アミド、Ｎ-メチルフマル酸モノアミド、Ｎ-エチルフマ
ル酸モノアミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルフマル酸モノアミ
ド、Ｎ-メチル-Ｎ’-エチルフマル酸アミド、Ｎ-メチル
-Ｎ’-フェニルフマル酸アミド等が挙げられる。

【０１１５】メサコン酸エステル類の具体例としては、
メサコン酸ジメチル、メサコン酸ジエチル、メサコン酸
ジ（ｎ-又はｉ-）プロピル、メサコン酸ジ（ｎ-、ｉ-、
ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、メサコン酸ジフェニル、メサ
コン酸ジアリル、メサコン酸モノメチル、メサコン酸モ
ノエチル、メサコン酸モノ（ｎ-又はｉ-）プロピル、メ
サコン酸モノ（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、メ
サコン酸ジベンジル、メサコン酸モノベンジル、メサコ
ン酸メチルエチル、メサコン酸メチルプロピル、メサコ
ン酸エチルプロピル等が挙げられる。

【０１１６】メサコン酸アミド類の具体例としては、メ
サコン酸アミド、Ｎ-メチルメサコン酸アミド、Ｎ-エチ
ルメサコン酸アミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルメサ
コン酸アミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチ
ルメサコン酸アミド、Ｎ-ベンジルメサコン酸アミド、
Ｎ-ヒドロキシエチルメサコン酸アミド、Ｎ-フェニルメ
サコン酸アミド、Ｎ-トリルメサコン酸アミド、Ｎ-（ヒ
ドロキシフェニル）メサコン酸アミド、Ｎ-（スルファ
モイルフェニル）メサコン酸アミド、Ｎ-（フェニルス
ルホニル）メサコン酸アミド、Ｎ-（トリルスルホニ
ル）メサコン酸アミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルメサコン酸ア
ミド、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルメサコン酸アミド、Ｎ-ヒ
ドロキシエチル-Ｎ-メチルメサコン酸アミド、Ｎ-メチ
ルメサコン酸モノアミド、Ｎ-エチルメサコン酸モノア
ミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルメサコン酸モノアミド、Ｎ-メチ
ル-Ｎ’-エチルメサコン酸アミド、Ｎ-メチル-Ｎ’-フ
ェニルメサコン酸アミド等が挙げられる。

【０１１７】スチレン類の具体例としては、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレ
ン、4-ビニルベンゼンスルホン酸ナトリウム等が挙げら
れる。α、β-不飽和ラクトン類の具体例としては、以
下のような化合物が挙げられる。

【０１１８】

【化３５】

【０１１９】α、β-不飽和ラクタム類の具体例として
は、以下のような化合物等が挙げられる。

【０１２０】

【化３６】

【０１２１】不飽和炭化水素類の具体例としては、以下
のような化合物等が挙げられる。

【０１２２】

【化３７】

【０１２３】ビニルエーテル類の具体例としては、以下
のような化合物等が挙げられる。

【０１２４】

【化３８】

【０１２５】ビニルエステル類の具体例としては、以下
のような化合物等が挙げられる。

【０１２６】

【化３９】

【０１２７】α、β-不飽和ケトン類の具体例として
は、以下のような化合物等が挙げられる。

【０１２８】

【化４０】

【０１２９】前記熱により親水性に変化する疎水性官能
基を有するポジ型極性変換高分子化合物の合成に使用さ
れる、該疎水性官能基を有するモノマーの割合は、５重
量％以上が好ましく、10〜95重量％がより好ましい。こ
のようなモノマーの割合が５重量％より少ないと、側鎖
の疎水性官能基が親水性に変化してもポジ型極性変換高
分子化合物は親水性に変化せず、その結果として、非画
像部に汚れが生じる。また、本発明で使用されるポジ型
極性変換高分子化合物の合成に、前述のような他のモノ
マーを使用する場合、共重合可能な他のモノマーの割合
は、前述のような特定の官能基を有するモノマーが好ま
しい割合で使用されている限り、どの様な割合でも使用
することができる。この共重合可能な他のモノマーは、
１種類のみを使用しても良いし、２種類以上を混合して
使用しても良い。以下に、前記疎水性官能基を有するポ
ジ型極性変換高分子化合物の具体例を示す。但し、本発
明はこれらに限定されるものではない。

【０１３０】

【化４１】

【０１３１】

【化４２】

【０１３２】

【化４３】

【０１３３】熱により親水性に変化する疎水性官能基の
他の一部の例としては、下記一般式（１）で表される官
能基及び下記一般式（２）で表される官能基である。

【０１３４】

【化４４】

【０１３５】（式中、Ｘ⁺はヨードニウムイオン、スル
ホニウムイオンまたはジアゾニウムイオンを表す。）

【０１３６】Ｘ⁺で表されるヨードニウムイオン、スル
ホニウムイオン、ジアゾニウムイオンは、変換前の極性
変換高分子化合物を疎水性にし、変換後の極性変換高分
子化合物を親水性にするものであれば何れの化合物も好
適に用いることができるが、変換前の疎水性や経時安定
性を考慮すると、前記の一般式（５）〜（７）で表され
るヨードニウムイオン、スルホニウムイオン、ジアゾニ
ウムイオンが特に好ましい。上記一般式（１）で表され
る官能基及び下記一般式（２）で表される官能基、およ
び前記の一般式（５）〜（７）で表されるヨードニウム
イオン、スルホニウムイオン、ジアゾニウムイオンにつ
いての詳細は前述の赤外線吸収剤の項で示したものと同
じである。

【０１３７】一般式（１）又は（２）で表される官能基
を有する極性変換高分子化合物は、該官能基を有するモ
ノマーの単独重合、共重合、若しくは他のモノマーとの
共重合によって合成することもできるが、重合性の観点
から、一般式（１）又は（２）で表される官能基へと変
換することが可能な官能基を有するモノマー（以後「前
駆体モノマー」と呼ぶ）を用いて高分子化合物を合成し
た後、一般式（１）又は（２）で表される官能基へと導
く方法が好ましい。以下に、ラジカル重合に用いられる
前駆体モノマーの具体例を記載するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。

【０１３８】

【化４５】

【０１３９】前記一般式（１）又は（２）で表される官
能基を有する極性変換高分子化合物は、前述のような前
駆体モノマーを単独で重合した高分子化合物や２種以上
を共重合した高分子化合物より導くことができるが、本
発明の効果を妨げない限り、前駆体モノマーと他のモノ
マーを共重合した高分子化合物より導くこともできる。
このようなラジカル重合性のモノマーとしては前述のよ
うなモノマーが挙げられる。

【０１４０】前記一般式（１）又は（２）で表される官
能基を有する極性変換高分子化合物の合成に使用される
前駆体モノマーの割合は、５重量％以上が好ましく、１
０〜９０重量％がより好ましい。前駆体モノマーの割合
が５重量％より少ないと、一般式（１）又は（２）で表
されるスルホン酸塩基、カルボン酸塩基が全てスルホン
酸、カルボン酸に変化したとしても、極性変換高分子化
合物は親水性に変化しないため、水性液体により除去す
ることができず、結果として印刷版を形成することがで
きなくなる。また、極性変換高分子化合物の合成に、前
駆体モノマー以外の他のモノマーを使用する場合、共重
合可能な他のモノマーの割合は、前駆体モノマーが好ま
しい割合で使用されている限り、どのような割合でも使
用することができる。このような共重合可能な他のモノ
マーは、１種類のみを用いても良いし、２種類以上を混
合して用いても良い。

【０１４１】前記一般式（１）又は（２）で表される官
能基を有する極性変換高分子化合物は、前述のような前
駆体モノマーの単独重合体、２種類以上の前駆体モノマ
ーの共重合体、又は前駆体モノマーと他のモノマーの共
重合体を、必要に応じて適当な溶媒中にて、酸触媒又は
塩基触媒の存在下加熱した後、前述のようなヨードニウ
ム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩へと導くことに
よって得ることができる。以下に一般式（１）又は
（２）で表される官能基を有する極性変換高分子化合物
の具体例を記載するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。

【０１４２】

【化４６】

【０１４３】

【化４７】

【０１４４】

【化４８】

【０１４５】

【化４９】

【０１４６】また、本発明の平版印刷版用原版で使用さ
れる極性変換高分子化合物のＧＰＣで測定した重量平均
分子量は、好ましくは2000以上であり、更に好ましくは
500〜30万の範囲であり、数平均分子量は好ましくは800
以上であり、更に好ましくは1000〜25万の範囲である。
多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が
好ましく、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。これ
らの極性変換高分子化合物は、ランダムポリマー、ブロ
ックポリマー、グラフトポリマー等何れでも良いが、ラ
ンダムポリマーであることが好ましい。

【０１４７】本発明で使用される極性変換高分子化合物
を合成する際に使用される溶媒としては、テトラヒドロ
フラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチ
ルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、2-メトキシエチルアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1-メトキ
シ-2-プロパノール、1-メトキシ-2-プロピルアセテー
ト、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトア
ミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸メチ
ル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これら
の溶媒は、単独で或いは２種以上混合して用いることが
できる。

【０１４８】本発明に使用される極性変換高分子化合物
を合成する際に用いられるラジカル重合開始剤として
は、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等の公知の化合物が
使用できる。

【０１４９】上記のような極性変換高分子化合物が画像
形成層に含まれる場合、１種のみの極性変換高分子化合
物単独でも、２種以上の極性変換高分子化合物を混合し
て用いても良い。画像形成層に含まれる極性変換高分子
化合物の割合は、40重量％以上が好ましく、50重量％以
上がより好ましい。添加量が40重量％未満の場合は、画
像強度が弱くなり、耐刷性が低下する。

【０１５０】次に、本発明の画像形成層に用いられる熱
により親水性に変化する疎水性高分子化合物として、上
記ポジ型極性変換高分子化合物と同様に好ましく用いる
ことができるアルカリ水溶液可溶性樹脂について説明す
る。

【０１５１】〔アルカリ水溶液可溶性樹脂〕本発明に使
用されるアルカリ水溶液可溶性高分子化合物（ｂ）と
は、高分子化合物の主鎖又は側鎖に、以下のような酸基
構造を有するものを指す。フェノール性水酸基（−Ａｒ
−ＯＨ）、カルボン酸基（−ＣＯ₂Ｈ）、スルホン酸基
（−ＳＯ₃Ｈ）、リン酸基（−ＯＰＯ₃Ｈ）、スルホンア
ミド基（−ＳＯ₂ＮＨ−Ｒ）、置換スルホンアミド系酸
基（活性イミド基）（−ＳＯ₂ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ₂ＮＨ
ＳＯ₂Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ₂Ｒ）。ここで、Ａｒは置換基
を有していてもよい２価のアリール基を表し、Ｒは置換
基を有していてもよい炭化水素基を有する。なかでも、
好ましい酸基として、（ｂ−１）フェノール性水酸基、
（ｂ−２）スルホンアミド基、（ｂ−３）活性イミド基
が挙げられ、特に（ｂ−１）フェノール性水酸基を有す
るアルカリ水溶液可溶性樹脂（以下、「フェノール性水
酸基を有する樹脂」という。）が最も好ましく用いるこ
とができる。

【０１５２】（ｂ−１）フェノール性水酸基を有する高
分子化合物としては、例えば、フェノールとホルムアル
デヒドとの縮重合体（以下、「フェノールホルムアルデ
ヒド樹脂」という。）、ｍ−クレゾールとホルムアルデ
ヒドとの縮重合体（以下、「ｍ−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂」という。）、ｐ−クレゾールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホル
ムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール
（ｍ−、ｐ−、またはｍ−／ｐ−混合のいずれでもよ
い）とホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹
脂、および、ピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙
げることができる。あるいは、フェノール基を側鎖に有
するモノマーを共重合させた共重合体を用いることもで
きる。用いるフェノール基を有するモノマーとしては、
フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、また
はヒドロキシスチレン等が挙げられる。

【０１５３】具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）
アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アク
リルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）、メタクリ
ルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリル
アミド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒ
ドロキシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニ
ルアクリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレ
ート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリ
レート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタク
リレート等を好適に使用することができる。

【０１５４】高分子の重量平均分子量は５．０×１０²
〜２．０×１０⁴で、数平均分子量が２．０×１０²〜
１．０×１０⁴のものが、画像形成性の点で好ましい。
また、これらの樹脂を単独で用いるのみならず、２種類
以上を組み合わせて使用してもよい。組み合わせる場合
には、米国特許第４１２３２７９号明細書に記載されて
いるような、ｔ−ブチルフェノールとホルムアルデヒド
との縮重合体や、オクチルフェノールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体のような、炭素数３〜８のアルキル基を
置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの
縮重合体を併用してもよい。これらのフェノール性水酸
基を有する樹脂は、重量平均分子量が５００〜２０００
０で数平均分子量が２００〜１００００のものが好まし
い。

【０１５５】（ｂ−２）スルホンアミド基を有するアル
カリ水可溶性高分子化合物の場合、この高分子化合物を
構成する主たるモノマーである（ａ−２）スルホンアミ
ド基を有する重合性モノマーを単独重合、或いは該モノ
マーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分
子化合物を挙げることができる。スルホンアミド基を有
する重合性モノマーとしては、１分子中に、窒素原子上
に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド
基−ＮＨ−ＳＯ₂−と、重合可能な不飽和結合をそれぞ
れ一つ以上有する低分子化合物からなるモノマーが挙げ
られる。その中でも、アクリロイル基、アリル基、また
はビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホ
ニル基または置換スルホニルイミノ基とを有する低分子
化合物が好ましい。このような化合物としては、例え
ば、下記一般式（１１）〜（１５）で示される化合物が
挙げられる。

【０１５６】

【化５０】

【０１５７】式中、Ｘ¹、Ｘ²はそれぞれ−Ｏ−又は−Ｎ
Ｒ²⁷−を示す。Ｒ²¹、Ｒ²⁴はそれぞれ水素原子又は−Ｃ
Ｈ₃ を表す。Ｒ²²、Ｒ²⁶、Ｒ²⁹、Ｒ³²、Ｒ³⁶はそれぞれ
置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン
基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレ
ン基を表す。Ｒ²³、Ｒ²⁷、Ｒ³³は水素原子、それぞれ置
換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示
す。また、Ｒ²⁶、Ｒ²⁷は、それぞれ置換基を有していて
もよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示す。Ｒ²⁸、Ｒ³⁰、Ｒ
³⁴は水素原子又は−ＣＨ₃ を表す。Ｒ³¹、Ｒ ³⁵はそれぞ
れ単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Ｙ¹、Ｙ²はそれぞれ単結合ま
たは−ＣＯ−を表す。

【０１５８】具体的には、ｍ−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフ
ェニル）アクリルアミド等を好適に使用することができ
る。

【０１５９】（ｂ−３）活性イミド基を有するアルカリ
水可溶性高分子化合物の場合、下記式で表される活性イ
ミド基を分子内に有するものであり、この高分子化合物
を構成する主たるモノマーである（ｂ−３）活性イミド
基を有するモノマーとしては、１分子中に、下記の式で
表される活性イミノ基と、重合可能な不飽和結合をそれ
ぞれ一つ以上有する低分子化合物からなるモノマーを共
重合させて得られる高分子化合物を挙げることができ
る。

【０１６０】

【化５１】

【０１６１】このような化合物としては、具体的には、
Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適
に使用することができる。

【０１６２】本発明に用い得るアルカリ水可溶性共重合
体は、前記（ｂ−１）から（ｂ−３）の酸性基を含むモ
ノマーは、１種類である必要はなく、同一の酸性基を有
するモノマーを２種以上、または、異なる酸性基を有す
るモノマーを２種以上共重合させたものも用いることも
できる。共重合の方法としては、従来知られている、グ
ラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム共重合法
等を用いることができる。

【０１６３】前記共重合体は、共重合させる（ｂ−１）
から（ｂ−３）の酸性基を有するモノマーを共重合成分
として１０モル％以上含んでいることが好ましく、２０
モル％以上含むものがより好ましい。共重合成分が１０
モル％より少ないと、フェノール性水酸基を有する樹脂
との相互作用が不十分となり共重合成分を用いる場合の
利点である現像ラチチュードの向上効果が不充分とな
る。

【０１６４】また、この共重合体には、前記（ｂ−１）
から（ｂ−３）の酸性基を含むモノマー以外の他の共重
合成分を含んでいてもよい。共重合体成分として用いう
るモノマーの例としては、下記（１）〜（１２）に挙げ
るモノマーを用いることができる。

【０１６５】（１）例えば、２−ヒドロキシエチルアク
リレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリレート等
の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、および
メタクリル酸エステル類。 （２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 （３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。

【０１６６】（４）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリ
ルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロ
ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミ
ド。 （５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 （６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。

【０１６７】（７）スチレン、α−メチルスチレン、メ
チルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 （８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。 （９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 （１０）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 （１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミ
ド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニル
メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 （１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。

【０１６８】本発明においてアルカリ水溶液可溶性高分
子化合物としては、単独重合体、共重合体に係わらず、
重量平均分子量が２０００以上、数平均分子量が５００
以上のものが膜強度の点で好ましい。さらに好ましく
は、重量平均分子量が５０００〜３０００００、数平均
分子量が８００〜２５００００であり、分散度（重量平
均分子量／数平均分子量）が１．１〜１０のものであ
る。

【０１６９】前記共重合体において、（ｂ−１）〜（ｂ
−３）の酸性基を有するモノマーと、他のモノマーとの
配合重量比が、現像ラチチュードの点から５０：５０か
ら５：９５の範囲にあるものが好ましく、４０：６０か
ら１０：９０の範囲にあるものがより好ましい。

【０１７０】これらアルカリ水可溶性高分子化合物は、
それぞれ１種類あるいは２種類以上を組み合わせて使用
してもよく、画像形成層の全固形分中、３０〜９９重量
％、好ましくは４０〜９５重量％、特に好ましくは５０
〜９０重量％の添加量で用いられる。アルカリ可溶性の
高分子化合物の添加量が３０重量％未満であると画像形
成層の耐久性が悪化し、また、９９重量％を越えると感
度、耐久性の両面で好ましくない。

【０１７１】次に、本発明の平版印刷版用原版の画像形
成層に含まれる、上記疎水性赤外線吸収剤、分解促進化
合物、極性変換高分子化合物、アルカリ水溶液可溶性高
分子化合物以外の構成成分について説明する。 〔開始剤〕本発明の平版印刷版用原版の画像形成層に
は、熱又は光によってラジカル（前述の推定分解機構中
のＲ・）を発生させる開始剤を含有することができる。
かかる開始剤から生成したラジカルは、前述の推定分解
機構を開始させる役割を有しているが、そのような開始
剤は、一般式（１）及び／又は（２）で表される官能基
に含まれる、オニウム化合物が熱分解することによって
も生成するので、必ずしも必要ではないが、添加するこ
とによって、より速やかに一般式（１）及び／又は
（２）で表される官能基を分解させることができる。本
発明に用いられる開始剤は、熱又は光によってラジカル
を発生させる化合物であれば何れも好適に用いることが
できるが、熱又は光によって還元性のラジカルを発生す
る化合物が特に好ましい。本発明に用いられる開始剤の
具体例としては、ベンズピナコール系開始剤、アリール
アゾトリアリールメタン系開始剤、及びベンゾフェノン
等の水素引き抜き型光開始剤等が挙げられるが、本発明
はこれらに限定されるものではない。

【０１７２】〔その他の添加色素〕本発明の平版印刷版
用原版は、上記疎水性赤外線吸収剤、分解促進化合物、
極性変換高分子化合物、アルカリ水溶液可溶性高分子化
合物および開始剤を有する画像形成層であれば、赤外線
レーザにより、コンピューター等のデジタルデータから
直接製版可能である平版印刷版用原版を提供することが
可能であるが、下記の色素を混合して用いることができ
る。

【０１７３】本発明において好ましく使用される他の添
加色素は、波長７６０〜１２００ｎｍの光を有効に吸収
する染料又は顔料である。より好ましくは、波長７６０
〜１２００ｎｍに吸収極大を有する染料又は顔料であ
る。染料としては、市販の染料及び文献（例えば「染料
便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載さ
れている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染
料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラ
キノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、
キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、金属チ
オレート錯体等の染料が挙げられる。

【０１７４】好ましい染料としては例えば、シアニン染
料、メチン染料、ナフトキノン染料、スクワリリウム色
素等を挙げることができる。また、近赤外吸収増感剤も
好適に用いられ、置換されたアリールベンゾ（チオ）ピ
リリウム塩、トリメチンチアピリリウム塩、ピリリウム
系化合物、シアニン色素、ペンタメチンチオピリリウム
塩等やピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、
染料として好ましい別の例として米国特許第４，７５
６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載さ
れている近赤外吸収染料を挙げることができる。これら
の染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色
素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオ
レート錯体が挙げられる。

【０１７５】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、
「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年
刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年
刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）
に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類として
は、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、
赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、
金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合ア
ゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、ア
ントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チ
オインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン
系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔
料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニ
トロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブ
ラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいも
のはカーボンブラックである。

【０１７６】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載されている。

【０１７７】顔料の粒径は０．０１〜１０μｍの範囲に
あることが好ましく、０．０５〜１μｍの範囲にあるこ
とが更に好ましく、特に０．１〜１μｍの範囲にあるこ
とが好ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満のときは
分散物の画像形成層の塗布液中での安定性の点で好まし
くなく、また、１０μｍを越えると塗布後の画像形成層
の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【０１７８】これらの染料若しくは顔料は、本発明の平
版印刷版用原版の画像形成層の全固形物分に対し０．０
１〜５０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％、染料
の場合特に好ましくは０．５〜１０重量％、顔料の場合
特に好ましくは１．０〜１０重量％の割合で添加するこ
とができる。顔料若しくは染料の添加量が０．０１重量
％未満であると感度が低くなり、また５０重量％を越え
ると印刷時非画像部に汚れが発生しやすい。

【０１７９】〔固体粒子〕本発明の画像形成層には、そ
の他の添加剤として上記色素の他に固体粒子を添加して
も良い。固体粒子は、画像形成層の除去性を上げると共
に、熱伝導率分布を変化させて画像形成層で発生した熱
を効率よく利用できる粒子が好ましい。かかる固体粒子
としては、無機粒子、有機粒子、及び金属粒子が挙げら
れる。無機粒子としては、例えば酸化亜鉛、二酸化チタ
ン、酸化鉄、ジルコニア等の金属酸化物；無水ケイ酸、
含水ケイ酸カルシウム及び含水ケイ酸アルミニウム等そ
れ自体は可視域に吸収を持たないホワイトカーボンとも
呼ばれている珪素含有酸化物；クレー、タルク、カオリ
ン、ふっ石等の粘土鉱物粒子等が使用できる。また、金
属粒子としては、例えばアルミニウム、銅、ニッケル、
銀、鉄等が使用できる。無機粒子又は金属粒子は10mm以
下、好ましくは0.01〜10mm、さらに好ましくは0.1〜５m
mの平均粒径を有する。

【０１８０】無機粒子又は金属粒子の平均粒径が0.01mm
を下回ると、画像形成層の除去性、熱伝導率分布変化
は、効果が見られるほど改良されない。10mmを上回る
と、印刷物の解像度が悪くなったり、支持体との接着性
が極端に悪くなって画像部の強度が低下する。無機粒子
又は金属粒子は、他の成分が好ましい含有量で使用され
ている限り、どのような含有量でも使用することができ
るが、含有する場合は画像形成層の全固形分に対し２〜
90重量％が好ましく、５〜80重量％がより好ましい。粒
子の含有量が２重量％を下回ると、画像形成層の除去
性、熱伝導率分布変化は、効果が見られるほど改良され
ない。また、90重量％を上回ると、印刷物の解像度が悪
くなったり、支持体との接着性が極端に悪くなって画像
部の強度が低下することがある。

【０１８１】粒状物として無機粒子又は金属粒子以外に
有機粒子も使用できる。有機粒子は画像形成層の除去性
を挙げると共に、熱伝導率分布を変化させて画像形成層
で発生した熱を効率よく利用できるものであれば特に限
定はしないが粒状物の有機粒子としては樹脂粒子が使用
できる。使用の際に次の注意を払うことが必要である。
樹脂粒子を分散させる際に溶剤を用いるときはその溶剤
に溶解しない樹脂粒子を選択するか、樹脂粒子を溶解し
ない溶剤を選択する必要がある。また、樹脂粒子を熱可
塑性ポリマーと熱により分散させる際には樹脂粒子が分
散させるときの熱により溶融したり、変形したり、分解
しないような物を選択する必要がある。

【０１８２】これらの注意点を軽減する物として、架橋
された樹脂粒子を好ましく使用することができる。有機
粒子は0.01〜10mm、好ましくは0.05〜10mm、さらに好ま
しくは0.1〜５mmの平均粒径を有する。有機粒子の平均
粒径が0.01mmを下回ると、画像形成層の除去性、熱伝導
率分布変化は、効果が見られるほど改良されない。10mm
を上回ると、印刷物の解像度が悪くなったり、支持体と
の接着性が極端に悪くなって画像部の強度が低下する。
有機粒子は、他の成分が好ましい含有量で使用されてい
る限り、どのような含有量でも使用することができる
が、含有する場合は２〜90重量％が好ましく、５〜80重
量％がより好ましい。粒子の含有量が２重量％を下回る
と、画像形成層の除去性、熱伝導率分布変化は、効果が
見られるほど改良されない。また、90重量％を上回る
と、印刷物の解像度が悪くなったり、支持体との接着性
が極端に悪くなって画像部の強度が低下することもあ
る。

【０１８３】有機粒子としては、ポリスチレン粒子（粒
径４〜10mm）、シリコーン樹脂粒子（粒径２〜４mm）等
が挙げられる。架橋された樹脂粒子としては、例えば、
２種以上のエチレン性不飽和モノマーから成るマイクロ
ゲル（粒径0.01〜１mm）、スチレンとジビニルベンゼン
とから成る架橋樹脂粒子（粒径４〜10mm）メチルメタク
リレートとジエチレングリコールジメタクリレートとか
らなる架橋樹脂粒子（粒径４〜10mm）等、つまりアクリ
ル樹脂のマイクロゲル、架橋ポリスチレン及び架橋メチ
ルメタクリレート等が挙げられる。これらは乳化重合
法、ソープフリー乳化重合法、シード乳化重合法、分散
重合法、懸濁重合法等の一般的な方法で調製される。

【０１８４】また、溶液から無機粒子を調製することも
可能である。例えば、エタノールなどの溶剤中に金属低
級アルコキシドを加え、水及び酸もしくはアルカリの存
在下により、該金属を含む無機粒子が得られる。できた
無機粒子溶液を溶剤可溶の熱可塑性ポリマー溶液に加え
て無機粒子分散溶液を作ることができる。或いは金属低
級アルコキシドをさきに熱可塑性ポリマー溶液に加えて
から水及び酸もしくはアルカリを添加し、該金属を含む
無機粒子を得ることも可能である。熱可塑性ポリマーの
前駆体溶液に金属低級アルコキシドを添加して無機粒子
を作成する場合はポリマー前駆体を熱により熱可塑性ポ
リマーにするときにポリマーと無機の複合体のものが得
られる。金属低級アルコキシドとしてはテトラエトキシ
シラン、テトラエトキシチタン等が使用できる。

【０１８５】その他の成分としては、例えば、可視光域
に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用する
ことができる。具体的にはオイルイエロー＃１０１、オ
イルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイル
グリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６
０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイ
ルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）
製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレッ
ト（Ｃ．Ｉ．４２５５５）、メチルバイオレット（Ｃ．
Ｉ．４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ
（Ｃ．Ｉ．１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン
（Ｃ．Ｉ．４２０００）、メチレンブルー（Ｃ．Ｉ．５
２０１５）等、あるいは特開昭６２−２９３２４７号公
報に記載されている染料を挙げることができる。なお、
添加量は、本発明の平版印刷用原版の画像形成層全固形
分に対し、０．０１〜１０重量％の割合である。

【０１８６】〔界面活性剤〕本発明の平版印刷版用原版
の画像形成層中には、印刷条件に対する安定性を拡げる
ため、特開昭62-251740号公報や特開平3-208514号公報
に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59
-121044号公報、特開平4-13149号に記載されているよう
な両性界面活性剤を添加することができる。非イオン界
面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレー
ト、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレ
ート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両性界面活
性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グ
リシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2-
アルキル-N-カルボキシエチル-N-ヒドロキシエチルイミ
ダゾリニウムベタインやN-テトラデシル-N,N-ベタイン
型（例えば、商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）
等が挙げられる。上記非イオン界面活性剤及び両性界面
活性剤の画像形成層全固形物中に占める割合は、0.05〜
15重量％が好ましく、0.1〜5 重量％がより好ましい。

【０１８７】〔その他構成成分〕本発明に使用される画
像形成層には、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加
することができる。例えば、オニウム塩、芳香族スルホ
ン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等は熱分解
性物質として作用するので、このような物質を添加する
と、画像部の現像液への溶解阻止性を向上させることが
できるので好ましい。

【０１８８】オニウム塩としてはジアゾニウム塩、アン
モニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホ
ニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げる
ことができる。本発明において用いられるオニウム塩と
して好適なものとしては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅ
ｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．、１
８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ ｅｔａｌ，
Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）、または、
特開平５−１５８２３０号公報に記載のジアゾニウム
塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，
０５６号、または特開平３−１４０１４０号公報に記載
のアンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒｅｔａｌ，Ｍ
ａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８（１９８
４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．
Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．ＣｕｒｉｎｇＡＳＩＡ，ｐ４７８
Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国特許第４，０６
９，０５５号、または同４，０６９，０５６号に記載の
ホスホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａ
ｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６）、１３
０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆ Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，
Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０
４，１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同第４１
０，２０１号、特開平２−１５０８４８号公報、または
特開平２−２９６５１４号公報に記載のヨードニウム
塩、

【０１８９】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ Ｊ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．
Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．、４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ
ｅｔａｌ，Ｊ．ＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ，、Ｐｏｌｙｍ
ｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．、２２，１７８９（１９８
４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ Ｂｕｌｌ．、１４，２７９（１９８５）、Ｊ．
Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅ
ｃｕｌｅｓ，１４（５）、１１４１（１９８１）、Ｊ．
Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏｅｔａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｓｃｉ．、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．、１７，
２８７７（１９７９）、欧州特許第３７０，６９３号、
同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，
４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同３，９
０２，１１４号、同４１０，２０１号、同３３９，０４
９号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４
号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９３８０
４，６２６号、同３，６０４，５８０号、または同３，
６０４，５８１号に記載のスルホニウム塩、

【０１９０】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｍ
ａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６）、１３０７
（１９７７）、またはＪ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ
ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．、Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍｉｃｈ．、１７，１０４７（１９７９）に記
載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔａｌ，Ｔｅ
ｈ，Ｐｒｏｃ，Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳ
ＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記
載のアルソニウム塩等が挙げられる。

【０１９１】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５
−スルホサリチル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２
−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスル
ホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキ
シ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や２，５−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。

【０１９２】オニウム塩の添加剤の添加量は、好ましく
は１〜５０重量％、更に好ましくは５〜３０重量％、特
に好ましくは１０〜３０重量％である。本発明において
添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好まし
い。

【０１９３】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物穎、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，
１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，
６−エンドオキシ−△⁴ −テトラヒドロ無水フタル酸、
テトラクロロ無水フタル酸、無水マレイン酸、クロロ無
水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハ
ク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノー
ル類としては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノー
ル、ｐ−エトキシフェノール、２，４′，４′−トリヒ
ドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，
４′，４”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，
４′，３″，４″−テトラヒドロキシ−３，５，３′，
５′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられ
る。

【０１９４】更に、有機酸類としては、特開昭６０−８
８９４２号、特開平２−９６７５５号公報などに記載さ
れている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫
酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン
酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン
酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフ
ィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホ
スフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息
香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、
３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、エル
カ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸
などが挙げられる。上記の環状酸無水物、フェノール類
および有機酸類の画像形成層中に占める割合は、０．０
５〜２０重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１
５重量％、特に好ましくは０．１〜１０重量％である。

【０１９５】さらに、これら以外にも、エポキシ化合
物、ビニルエーテル類、さらには特開平８−２７６５５
８号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノー
ル化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合
物及び本発明者らが先に出願した特願平９−３２８９３
７号明細書に記載の溶解抑制増強架橋剤等を目的に応じ
て適宜添加することができる。

【０１９６】本発明の平版印刷版用原版の画像形成層に
は、必要に応じて塗膜の柔軟性等を付与するために可塑
剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又
はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられ
る。

【０１９７】本発明に使用される画像形成層中には、露
光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤を
加えることができる。焼き出し剤としては、露光による
加熱によって酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を
形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることが
できる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５
３−８１２８号の各公報に記載されているｏ−ナフトキ
ノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有
機染料の組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４
−７４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３
７４８号、同６１−１５１６４４号および同６３−５８
４４０号の各公報に記載されているトリハロメチル化合
物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。
かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系
化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安
定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。

【０１９８】本発明の平版印刷版用原版の画像形成層
は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上
に塗布することにより製造することができる。ここで使
用する溶媒としては、テトラヒドロフラン、エチレンジ
クロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、
アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、2-メトキシエチルアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1-メトキ
シ-2-プロパノール、1-メトキシ-2-プロピルアセテー
ト、ジメトキシエタン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,
N-ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸
エチル、乳酸メチル、ジメチルスルホキシド、水、スル
ホラン、γ-ブチロラクトン等を挙げることができるが
これに限定されるものではない。これらの溶媒は単独或
いは混合して使用される。塗布液を調製する場合、溶媒
中の上記画像形成層構成成分（添加剤を含む全固形分）
の濃度は、好ましくは１〜50重量％である。

【０１９９】塗布する方法としては、公知の種々の方法
を用いることができるが、例えば、バーコター塗布、回
転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、
エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げ
ることができる。本発明の平版印刷版用原版の画像形成
層中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば
特開昭62-170950号公報に記載されているようなフッ素
系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量
は、画像形成層全固形物分に対し、0.01〜１重量％であ
り、更に好ましくは0.05〜0.5重量％である。塗布、乾
燥後に得られる画像形成層塗布量（固形分）は、用途に
よって異なるが、一般的な平版印刷版用原版についてい
えば、0.1〜5.0g/m²の範囲であり、0.2〜2.5g/m²が好ま
しく、0.5〜2.0g/m²がより好ましい。

【０２００】〔支持体〕本発明の画像形成層を塗布すべ
き平版印刷版用原版に使用される支持体（基板）は、寸
法安定性の良好な板状物であり、これまで印刷版の支持
体として使用された公知のものはいずれも好適に使用す
ることができる。かかる支持体としては、紙、プラスチ
ックス（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン等）がラミネートされた紙、例えば、アルミニ
ウム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、鉄、銅等のよ
うな金属の板、例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セル
ロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪
酸酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等のよ
うなプラスチックスのフィルム、上記のような金属がラ
ミネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフ
ィルム等が含まれるが、特にアルミニウム板が好まし
い。アルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニ
ウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々
のものが使用でき、例えば、ケイ素、銅、マンガン、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等
の金属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの合
金組成物には、いくらかの鉄及びチタンに加えてその他
無視し得る程度の量の不純物を含むことが容認される。

【０２０１】支持体は、必要に応じて表面処理される。
例えば、平版印刷版用原版を作製する場合には、支持体
の表面に、画像形成層を塗布するに先立って親水化処理
が施される。また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、砂目立て処理、ケイ酸ソーダ、弗
化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬
処理、あるいは陽極酸化処理等の表面処理がなされてい
ることが好ましい。また、米国特許第２，７１４，０６
６号公報に記載されているように、砂目立てしたのち珪
酸ナトリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米
国特許第３，１８１，４６１号公報に記載されているよ
うにアルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカ
リ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用
される。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム
酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミ
ン酸等の有機酸又はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の
単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウ
ム板を陽極として電流を流すことにより実施される。

【０２０２】表面処理としては、米国特許第３，６５
８，６６２号公報に記載されているようなシリケート電
着も有効である。これらの親水化処理は、支持体の表面
を親水性とするために施される以外に、その上に設けら
れる画像形成層との有害な反応を防ぐ為や、該層との密
着性を向上させるために施されるものである。アルミニ
ウム板を砂目立てにより粗面化するに先立って、必要に
応じて表面の圧延油を除去するため、あるいは清浄なア
ルミニウム面を表出させるためにその表面に前処理を施
してもよい。通常、圧延油等の除去には、トリクレン等
の溶剤、界面活性剤等が用いられている。また、清浄な
面の表出のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリエッチング剤を用いる方法が広く行われて
いる。

【０２０３】砂目立て方法としては、機械的、化学的及
び電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石
のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦
りつけるブラシ研磨法等があり、化学的方法としては、
特開昭５４−３１１８７号公報に記載されているような
鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適
しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸又はこれ
らの組合せのような酸性電解液中で交流電解する方法が
好ましい。このような粗面化方法のうち、特に特開昭５
５−１３７９９３号公報に記載されているような機械的
粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法が、画
像形成層の支持体への接着力が強いので好ましい。上記
の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表面の
中心線表面粗さ（Ｒａ）が０．３〜１．０μｍとなるよ
うな範囲で施されることが好ましい。このようにして砂
目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水洗及び化
学的にエッチングされる。

【０２０４】エッチング処理液は、通常アルミニウムを
溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場
合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘
導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないもの
でなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれ
ば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン
酸三カリウム、リン酸二カリウム等；酸性物質としては
硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、ア
ルミニウムよりイオン化傾向の低い金属、例えば、亜
鉛、クロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチン
グ表面に不必要な被膜を形成するため好ましくない。こ
れらのエッチング剤は、使用濃度、温度の設定におい
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間１分あたり０．３〜４０ｇ／ｍ²になるように行
なわれるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下
回るものであっても差支えない、

【０２０５】エッチングは上記エッチング液にアルミニ
ウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液
を塗布すること等により行われ、エッチング量が０．５
〜１０ｇ／ｍ²の範囲となるように処理されることが好
ましい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速
度が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが
望ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デ
スマット処理される。デスマット処理に使用される酸
は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ
化水素酸等が用いられる。エッチング処理されたアルミ
ニウム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極
酸化は、この分野で従来より行なわれている方法で行な
うことができる。具体的には、硫酸、りん酸、クロム
酸、蓚酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等ある
いはそれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶
液中でアルミニウムに直流又は交流の電流を流すと、ア
ルミニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させること
ができる。

【０２０６】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一般には決定され得ないが、一
般的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０
℃、電流密度０．５〜６０アンペア／ｄｍ²、電圧１〜
１００Ｖ、電解時間３０秒〜５０分の範囲が適当であ
る。これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第
１，４１２，７６８号公報に記載されている硫酸中で高
電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第３，５１
１，６６１号公報に記載されている燐酸を電解浴として
陽極酸化する方法が好ましい。上記のように粗面化さ
れ、更に陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じ
て親水化処理しても良く、その好ましい例としては米国
特許第２，７１４，０６６号及び同第３，１８１，４６
１号明細書に開示されているようなアルカリ金属シリケ
ート、例えば珪酸ナトリウム水溶液又は特公昭３６−２
２０６３号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カ
リウム及び米国特許第４，１５３，４６１号明細書に開
示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方
法がある。

【０２０７】〔その他の層〕支持体の裏面には、必要に
応じてバックコートが設けられる。かかるバックコート
としては特開平５−４５８８５号公報に記載の有機高分
子化合物及び特開平６−３５１７４号公報に記載の有機
又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られ
る金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。こ
れらの被覆層のうち、Ｓｉ(ＯＣＨ₃)₄、Ｓｉ(ＯＣ₂Ｈ₅)
₄、Ｓｉ(ＯＣ₃Ｈ₇)₄、Ｓｉ(ＯＣ₄Ｈ₉)₄等のケイ素のア
ルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる
金属酸化物の被覆層が親水性に優れており特に好まし
い。

【０２０８】〔製版方法〕次に、本発明の平版印刷版用
原版からの平版印刷版の製版方法について説明する。こ
の平版印刷版用原版は、例えば、熱記録ヘッド等により
直接画像様に感熱記録を施されたり、光によって画像様
に露光されることで記録を施されたりする。像露光に用
いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メ
タルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルラン
プ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子
線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線等がある。またｇ
線、ｉ線、Deep-UV光、高密度エネルギービーム（レー
ザービーム）も使用される。レーザービームとしてはヘ
リウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプト
ンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキ
シマレーザー、固体レーザー、半導体レーザー等が挙げ
られる。本発明においては、波長760〜1200nmの赤外線
を放射する固体レーザー、半導体レーザーが特に好まし
い。

【０２０９】本発明の平版印刷版用原版は、上述の手法
により画像記録された後、現像液により現像後、更に必
要であればガム引きやバーニング処理等を行った後、印
刷機に版を装着し印刷を行うこともできる。また、本発
明の平版印刷版用原版は、画像記録後直ちに（現像工程
を経ずに）印刷機に版を装着し印刷を行うこともでき
る。この場合は、湿し水等により、加熱部或いは露光部
が膨潤し、印刷初期に膨潤部が除去され、平版印刷版が
形成される。即ち、本発明の平版印刷版用原版を使用す
る製版方法では、特に現像処理やその他の処理を経るこ
となく平版印刷版を製版し得る。

【０２１０】また、近年、製版・印刷業界では製版作業
の合理化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が
広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部
と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液
槽およびスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水
平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプ
レーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方
法も知られている。このような自動処理においては、各
処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しな
がら処理することができる。また、実質的に未使用の処
理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用でき
る。

【０２１１】画像を記録した本発明の平版印刷版用原版
を、上述のような自動現像機を用いて現像する場合に
は、従来のようなアルカリ強度の高い水溶液（補充液）
を現像液に用いても良いが、より環境安全性が高く、取
り扱いが容易な水や炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、有機カルボン酸
塩などの弱塩基を含有した水溶液を用いることができ
る。また、現像液には、現像性の促進や抑制、現像カス
の分散および印刷版画像部の親インキ性を高める目的
で、必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加で
きる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチ
オン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げられ
る。

【０２１２】更に現像液には必要に応じて、ハイドロキ
ノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸
のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カル
ボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。上
記現像液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面
活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導
体を含む不感脂化液で後処理される。画像形成層を有す
る本発明の平版印刷版用原版に画像形成を行い印刷版と
して使用する場合の後処理としては、これらの処理を種
々組み合わせて用いることができる。

【０２１３】本発明の平版印刷版用原版は、画像露光
し、現像し、水洗及び／又はリンス及び／又はガム引き
して得られた平版印刷版に不必要な画像部（例えば原画
フィルムのフィルムエッジ跡など）がある場合には、そ
の不必要な画像部の消去が行われる。このような消去
は、例えば特公平２−１３２９３号公報に記載されてい
るような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定
の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好
ましいが、特開平５９−１７４８４２号公報に記載され
ているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光
線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用で
きる。以上のようにして得られた平版印刷版は所望によ
り不感脂化ガムを塗布した後、オフセット印刷機等にか
けられ、多数枚の印刷に用いられる。

【０２１４】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 ［平版印刷版用原版（１）の作製］厚さ０．３０ｍｍの
アルミニウム板（材質１０５０）をトリクロロエチレン
洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュ
のパミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、
水でよく洗浄した。この板を４５℃の２５％水酸化ナト
リウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗
後、更に２％硝酸に２０秒間浸漬して水洗した。このと
きの砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ²であっ
た。次にこの板を７％硫酸を電解液として電流密度１５
Ａ／ｄｍ²で３ｇ／ｍ²の直流陽極酸化皮膜を設けた後、
水洗乾燥した。更に上記の処理済みのアルミニウム板
に、下記のように調製した画像形成層塗布溶液［１］を
回転数：１５０rpmで回転塗布し、８０℃で３分間乾燥
して平版印刷版用原版［１］を得た。乾燥後の重量は
１．０ｇ／ｍ²であった。

【０２１５】 （画像形成層塗布溶液［１］） ・ポジ型極性変換高分子化合物（１）（下記構造） １．００ｇ ・赤外線吸収剤（１）（下記構造） ０．１５ｇ ・分解促進化合物（１）（下記構造） ０．０２ｇ ・メチルエチルケトン １０ｇ ・メタノール ５ｇ ・1-メトキシ-２-プロパノール ５ｇ

【０２１６】［平版印刷版用原版（２）の作製］画像形
成層塗布溶液［１］の代わりに、下記の画像形成層塗布
溶液［２］を用いた以外は、平版印刷版用原版（１）と
同様の手法により平版印刷版用原版（２）を作製した。
なお、固形分塗布量は１．１ｇ／ｍ²であった。

【０２１７】 （画像形成層塗布溶液［２］） ・ポジ型極性変換高分子化合物（２）（下記構造） １．００ｇ ・赤外線吸収剤（２）（下記構造） ０．２０ｇ ・分解促進化合物（２）（下記構造） ０．０１ｇ ・メチルエチルケトン １０ｇ ・メタノール ５ｇ ・1-メトキシ-２-プロパノール ５ｇ

【０２１８】［平版印刷版用原版（３）の作製］画像形
成層塗布溶液［１］の代わりに、下記の画像形成層塗布
溶液［３］を用いた以外は、平版印刷版用原版（１）と
同様の手法により平版印刷版用原版（３）を作製した。
なお、固形分塗布量は１．２ｇ／ｍ²であった。

【０２１９】 （画像形成層塗布溶液［３］） ・ポジ型極性変換高分子化合物（３）（下記構造） １．００ｇ ・赤外線吸収剤（１） ０．２０ｇ ・分解促進化合物（３）（下記構造） ０．０１ｇ ・メタノール １５．０ｇ ・1-メトキシ-2-プロパノール ５．０ｇ

【０２２０】［平版印刷版用原版（４）の作製］画像形
成層塗布溶液［１］の代わりに、下記の画像形成層塗布
溶液［４］を用いた以外は、平版印刷版用原版（１）と
同様の手法により平版印刷版用原版（４）を作製した。
なお、固形分塗布量は１．３ｇ／ｍ²であった。

【０２２１】 （画像形成層塗布溶液［４］） ・ポジ型極性変換高分子化合物（４）（下記構造） １．００ｇ ・赤外線吸収剤（１） ０．２０ｇ ・分解促進化合物（４）（下記構造） ０．０３ｇ ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを ０．０２ｇ 1-ナフタレン-スルホン酸にした染料 ・メタノール １５．０ｇ ・1-メトキシ-2-プロパノール ５．０ｇ

【０２２２】［平版印刷版用原版（５）の作製］画像形
成層塗布溶液［１］の代わりに、下記の画像形成層塗布
溶液［５］を用いた以外は、平版印刷版用原版（１）と
同様の手法により平版印刷版用原版（５）を作製した。
なお、固形分塗布量は１．０ｇ／ｍ²であった。

【０２２３】 （画像形成層塗布溶液［５］） ・m,p-クレゾールノボラック １．００ｇ （m/p比：6/4、重量平均分子量3500、未反応クレゾール0.5重量％含有） ＊アルカリ水溶液可溶性樹脂 ・赤外線吸収剤（２）（下記構造） ０．２ｇ ・分解促進化合物（２） ０．０１ｇ ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 1-ナフタレン−スルホン酸にした染料 ０．０２ｇ ・フッ素系界面活性剤 ０．０５ｇ メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製 ・γ−ブチロラクトン ３．０ｇ ・メチルエチルケトン ８．０ｇ ・メタノール ３．０ｇ ・１−メトキシ-２-プロパノール ４．０ｇ

【０２２４】［平版印刷版用原版（６）の作製］画像形
成層塗布溶液［１］の代わりに、下記の画像形成層塗布
溶液［６］を用いた以外は、平版印刷版用原版（１）と
同様の手法により平版印刷版用原版（６）を作製した。
なお、固形分塗布量は１．８ｇ／ｍ²であった。

【０２２５】 （画像形成層塗布溶液［６］） ・アルカリ水溶液可溶性樹脂（１）（下記構造） １１．００ｇ ・赤外線吸収剤（１） ０．２ｇ ・分解促進化合物（４） ０．０６ｇ ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを ０．０２ｇ 1-ナフタレン１−スルホン酸にした染料 ・フッ素系界面活性剤 ０．０５ｇ メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製 ・γ−ブチロラクトン ８．０ｇ ・メチルエチルケトン ８．０ｇ ・メタノール ３．０ｇ ・１−メトキシ-２-プロパノール ４．０ｇ

【０２２６】［平版印刷版用原版（７）の作製］画像形
成層塗布溶液［１］の代わりに、下記の画像形成層塗布
溶液［７］を用いた以外は、平版印刷版用原版（１）と
同様の手法により平版印刷版用原版（７）を作製した。
なお、固形分塗布量は１．１ｇ／ｍ²であった。

【０２２７】 (画像形成層塗布溶液［７］) ・ポジ型極性変換高分子化合物（１） １．００ｇ ・赤外線吸収剤（１） ０．２０ｇ ・メチルエチルケトン １０．０ｇ ・メタノール ５．０ｇ ・１−メトキシ-２-プロパノール ５．０ｇ

【０２２８】［平版印刷版用原版（８）の作製］画像形
成層塗布溶液［１］の代わりに、下記の画像形成層塗布
溶液［８］を用いた以外は、平版印刷版用原版（１）と
同様の手法により平版印刷版用原版（８）を作製した。
なお、固形分塗布量は１．１ｇ／ｍ²であった。

【０２２９】 （画像形成層塗布溶液［８］） ・ポジ型極性変換高分子化合物（３） １．００ｇ ・赤外線吸収剤（１） ０．２０ｇ ・メタノール １５．０ｇ ・1-メトキシ-２-プロパノール ５．０ｇ

【０２３０】

【化５２】

【０２３１】

【化５３】

【０２３２】

【化５４】

【０２３３】〔実施例１〜６、比較例１〜２〕得られた
平版印刷用原版（１）〜（８）を、波長８３０ｎｍの赤
外線を発するＩＲレーザー（ビーム径：２８μｍ）で露
光した。露光後、リスロン印刷機にてＦグロス墨インキ
と水道水を用いて印刷した。この際、印刷物の非画像部
に汚れが発生しているかどうかを観察すると同時に、良
好な印刷物が何枚得られるかどうかを評価した。また、
得られた印刷版のレーザー走査線部を顕微鏡で観察し、
得られた線幅を測定することにより感度を見積もった。
線幅が照射したビーム径（：２８μｍ）に近いほど感度
が高いことを表す。結果を表１に示す。

【０２３４】

【表１】

【０２３５】表１から明らかなように、本発明に係る各
実施例の平版印刷版用原版（１）〜（６）は何れも感度
が高く、印刷物非画像部には汚れが無く、良好な印刷物
枚数（耐刷性）が40000枚以上得られ、満足すべき結果
を得た。分解促進化合物を含まない比較例１および２の
平版印刷版用原版（７）、（８）は平版印刷版用原版
（１）、（３）との比較から明らかなように、感度にお
いて不満足なものであった。

【０２３６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の平版印刷
版用原版は、画像形成層に特定の官能基を有する疎水性
赤外線吸収剤と、特定の官能基を有する分解促進化合物
を含有し、赤外線レーザーにより、親水性に変化する疎
水性高分分子化合物を含有させることによって、高感度
であり、耐刷性があり、かつ残色、汚れのない印刷物を
与えることが可能である。特に赤外線を放射する固体レ
ーザー又は半導体レーザー等を用いて記録することによ
り、ディジタルデータから直接製版可能な平版印刷版用
原版を提供することができる。また、水又は弱アルカリ
水溶液現像可能な、或いは画像書き込み後、湿式現像処
理や擦り等の特別な処理を必要としない、極めて簡便な
実用性を有する平版印刷版用原版提供することができる
という効果を奏する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA12 AB03 AC08 AD03 BH03 CC11 DA36 FA10 2H096 AA06 BA11 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA24 BA01 BA10 DA41 DA52 DA53 EA01 EA02 FA10 FA16 GA21

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面親水性の支持体上に、下記一般式
   （１）で表される官能基及び下記一般式（２）で表され
   る官能基の少なくともいずれかを有する疎水性赤外線吸
   収剤と、下記一般式（３）で表される官能基及び下記一
   般式（４）で表される官能基の少なくともいずれかを有
   する化合物とを含有する画像形成層を有することを特徴
   とする平版印刷版用原版。 【化１】 （式中、Ｘ⁺はヨードニウムイオン、スルホニウムイオ
   ン、ジアゾニウムイオンを表し、Ｒ¹、Ｒ²、は水素、ア
   ルキル基、アリール基、アルキニル基、アルケニル基を
   表し、Ｒ³はアルキル基、アリール基、アルキニル基、
   アルケニル基を表し、Ｒ⁴は水素、アルキル基、アリー
   ル基、アルキニル基、アルケニル基を表し、Ｒ⁵、Ｒ⁶の
   内のいずれか一方は水素を表し、もう一方は水素、アル
   キル基、アリール基、アルキニル基、アルケニル基を表
   し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³の任意の２つで環を形成しても良
   く、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶の任意の二つで環を形成しても良
   い。）