JPH11335136A - ガラスリブ構造部材を形成する結晶化ガラスフリット組成物 - Google Patents
ガラスリブ構造部材を形成する結晶化ガラスフリット組成物Info
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- JPH11335136A JPH11335136A JP10290815A JP29081598A JPH11335136A JP H11335136 A JPH11335136 A JP H11335136A JP 10290815 A JP10290815 A JP 10290815A JP 29081598 A JP29081598 A JP 29081598A JP H11335136 A JPH11335136 A JP H11335136A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
- C03C8/10—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing lead
- C03C8/12—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing lead containing titanium or zirconium
-
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- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマディスプレーパネルにおいて、バリ
アリブおよび絶縁層を同時に形成する。 【解決手段】 重量パーセント基準で、18％から24％ま
でのＳｉＯ2、69％から80％までのＰｂＯ、および１％
から３％までのＴｉＯ2を含む熱融解ガラスフリットか
ら形成された絶縁層により被覆されたガラス基体を備え
る。
アリブおよび絶縁層を同時に形成する。 【解決手段】 重量パーセント基準で、18％から24％ま
でのＳｉＯ2、69％から80％までのＰｂＯ、および１％
から３％までのＴｉＯ2を含む熱融解ガラスフリットか
ら形成された絶縁層により被覆されたガラス基体を備え
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、自立性ガラス構造
部材、特に、プラズマフラットパネルディスプレー用途
に使用するようなガラスリブバリア層を形成するのに有
用なケイ酸鉛ガラスフリット組成物に関するものであ
る。
部材、特に、プラズマフラットパネルディスプレー用途
に使用するようなガラスリブバリア層を形成するのに有
用なケイ酸鉛ガラスフリット組成物に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】カラープラズマディスプレーパネルが、
大型用途に最も適切なフラットディスプレー装置と考え
られており、高品位テレビ、並びに他の視覚ディスプレ
ー用途に適用できると考えられている。典型的に、その
ようなディスプレーパネルは、互いに離れて配置され、
それらの間に、ネオン、キセノン、およびヘリウムの混
合物のような放電ガスが充填される放電空間を形成する
二つの平行な基板から形成されている。基板の各々の内
側に面する表面は、間隔のおかれた電極パターンを担持
しており、一方の基板上の電極は、他方の基板上の電極
の方向と交差する方向に向けられている。基板の電極を
担持する表面は典型的に絶縁層で覆われており、赤、緑
および青の蛍光体が、二つの基板のうち一方の上にある
絶縁層の内面に配置されている。絶縁層は一般的に、そ
れらの配合および必要とされる均一性のレベルに応じ
て、500℃と600℃の間の温度で焼成された鉛ベースのガ
ラスフリットである。ガス放電により局部的に放出され
た紫外線により、隣接する蛍光体が発光する。
大型用途に最も適切なフラットディスプレー装置と考え
られており、高品位テレビ、並びに他の視覚ディスプレ
ー用途に適用できると考えられている。典型的に、その
ようなディスプレーパネルは、互いに離れて配置され、
それらの間に、ネオン、キセノン、およびヘリウムの混
合物のような放電ガスが充填される放電空間を形成する
二つの平行な基板から形成されている。基板の各々の内
側に面する表面は、間隔のおかれた電極パターンを担持
しており、一方の基板上の電極は、他方の基板上の電極
の方向と交差する方向に向けられている。基板の電極を
担持する表面は典型的に絶縁層で覆われており、赤、緑
および青の蛍光体が、二つの基板のうち一方の上にある
絶縁層の内面に配置されている。絶縁層は一般的に、そ
れらの配合および必要とされる均一性のレベルに応じ
て、500℃と600℃の間の温度で焼成された鉛ベースのガ
ラスフリットである。ガス放電により局部的に放出され
た紫外線により、隣接する蛍光体が発光する。
【０００３】そのようなディスプレーにおいて、隣接し
たピクセル間での発光のクロストークを防ぐことを目的
として、各々の放電セルを光学的に隔離するために、典
型的に、バリアリブが少なくとも一方の基板（典型的に
背面のもの）上に、垂直にまたは密閉セルとして配置さ
れている。これらのリブは典型的に、ケイ酸鉛および亜
鉛、鉛、またはリン酸塩ガラスのような低融解温度のガ
ラスを含有するガラスフリットをサンドブラスチングま
たはスクリーン印刷することにより形成される。バリア
リブ構造部材は典型的に、パネルの解像度に応じて、20
0μｍから400μｍまでのピッチで周期的となっている。
これらのリブは、幅が約30-80μｍであり、厚さが約100
-200μｍである。あるいは、各々の辺が約200-400μｍ
である正方形のセルを有する密閉セルの設計が用いられ
ている。これらの正方形のセルを形成する「リブ」は、
幅が約30μｍから約70μｍまでであり、高さが約30μｍ
から約200μｍまでである。
たピクセル間での発光のクロストークを防ぐことを目的
として、各々の放電セルを光学的に隔離するために、典
型的に、バリアリブが少なくとも一方の基板（典型的に
背面のもの）上に、垂直にまたは密閉セルとして配置さ
れている。これらのリブは典型的に、ケイ酸鉛および亜
鉛、鉛、またはリン酸塩ガラスのような低融解温度のガ
ラスを含有するガラスフリットをサンドブラスチングま
たはスクリーン印刷することにより形成される。バリア
リブ構造部材は典型的に、パネルの解像度に応じて、20
0μｍから400μｍまでのピッチで周期的となっている。
これらのリブは、幅が約30-80μｍであり、厚さが約100
-200μｍである。あるいは、各々の辺が約200-400μｍ
である正方形のセルを有する密閉セルの設計が用いられ
ている。これらの正方形のセルを形成する「リブ」は、
幅が約30μｍから約70μｍまでであり、高さが約30μｍ
から約200μｍまでである。
【０００４】絶縁層およびバリアリブの調製に用いられ
るフリット含有材料には、しばしば、ある量の結晶質充
填剤、例えば、鉱物、セラミック、およびガラスセラミ
ックの材料からなる群より選択された結晶質材料が加え
られる。典型的に、そのような結晶質材料は、熱膨張係
数を有しており、０℃から300℃までの温度範囲に亘
り、フリット含有材料の平均熱膨張係数または結果とし
て生じた熱膨張係数が、約77×10-7／℃から約90×10-7
／℃までの間となるような量で用いられる。そのような
充填剤は、プラズマ構造部材の様々な層が、固結中に生
じるミスアライメントを防ぐのに役立つ。特に、充填剤
は、機械的強度を改良し、フリットの剛性を向上させ
る、フリットの表面核形成結晶化を促進させる。この技
術は、過剰な流動を防ぐのに非常に有用であり、したが
って、バリアリブ並びに絶縁層に用いられて、焼成後の
構造幾何学を維持している。
るフリット含有材料には、しばしば、ある量の結晶質充
填剤、例えば、鉱物、セラミック、およびガラスセラミ
ックの材料からなる群より選択された結晶質材料が加え
られる。典型的に、そのような結晶質材料は、熱膨張係
数を有しており、０℃から300℃までの温度範囲に亘
り、フリット含有材料の平均熱膨張係数または結果とし
て生じた熱膨張係数が、約77×10-7／℃から約90×10-7
／℃までの間となるような量で用いられる。そのような
充填剤は、プラズマ構造部材の様々な層が、固結中に生
じるミスアライメントを防ぐのに役立つ。特に、充填剤
は、機械的強度を改良し、フリットの剛性を向上させ
る、フリットの表面核形成結晶化を促進させる。この技
術は、過剰な流動を防ぐのに非常に有用であり、したが
って、バリアリブ並びに絶縁層に用いられて、焼成後の
構造幾何学を維持している。
【０００５】バリアリブおよび絶縁層に用いられるフリ
ットは典型的に、異なる配合のものである。このことは
一般的に、サンドブラスチング工程を用いて絶縁層の表
面上にバリアリブを形成し、リブ間の絶縁層が除去され
るのを防ぐ場合に必要である。しかしながら、最近、絶
縁層およびバリアリブを一段階で同時に形成できる方法
が開発された。この方法によれば、バリアリブおよび絶
縁層は、エンボス工程または凹版印刷工程により基板上
に形成することができる。この結果を達成する方法およ
び装置が、1997年３月18日に出願された米国特許出願第
08/820,206号に詳細に記載されている。この出願をここ
に引用する。
ットは典型的に、異なる配合のものである。このことは
一般的に、サンドブラスチング工程を用いて絶縁層の表
面上にバリアリブを形成し、リブ間の絶縁層が除去され
るのを防ぐ場合に必要である。しかしながら、最近、絶
縁層およびバリアリブを一段階で同時に形成できる方法
が開発された。この方法によれば、バリアリブおよび絶
縁層は、エンボス工程または凹版印刷工程により基板上
に形成することができる。この結果を達成する方法およ
び装置が、1997年３月18日に出願された米国特許出願第
08/820,206号に詳細に記載されている。この出願をここ
に引用する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】したがって、そのよう
な方法に特有な利点を得るためには、絶縁層およびバリ
アリブの両方に適したガラスフリット組成物が必要であ
る。さらに、表面核形成結晶化を促進するために通常加
えられるジルコン、アルミナまたはガラスセラミックの
充填剤のような充填剤を加えずに、そのようなフリット
が失透することが好ましい。これらの必要性は、ここに
記載されているガラスフリット組成物により満たされ
る。
な方法に特有な利点を得るためには、絶縁層およびバリ
アリブの両方に適したガラスフリット組成物が必要であ
る。さらに、表面核形成結晶化を促進するために通常加
えられるジルコン、アルミナまたはガラスセラミックの
充填剤のような充填剤を加えずに、そのようなフリット
が失透することが好ましい。これらの必要性は、ここに
記載されているガラスフリット組成物により満たされ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、プラズマディ
スプレーパネルに用いられる絶縁層およびバリアリブの
形成に使用するのに特に適したガラスフリット組成物に
関するものである。この組成物により、絶縁層およびバ
リア層を同時に形成することができる。このことによっ
て、それらの製造が著しく容易になる。さらに、その組
成物は、結晶質充填剤を添加する必要がなく、内部の結
晶化によって、融解中に最初に失透し、約520℃から約5
80℃までの温度での通常の加工条件下で固結させた場
合、所望の形状が維持される。その結果、本発明のガラ
スフリット組成物は典型的に、焼成後に非常に圧縮され
た状態を示し、多孔度および表面荒さが小さくなる。こ
れらの特性により、絶縁層の厚さおよび均質性をより良
好に制御することができる。このことは、それらの表面
全体に亘り均一な電気的挙動を得る上で重要である。
スプレーパネルに用いられる絶縁層およびバリアリブの
形成に使用するのに特に適したガラスフリット組成物に
関するものである。この組成物により、絶縁層およびバ
リア層を同時に形成することができる。このことによっ
て、それらの製造が著しく容易になる。さらに、その組
成物は、結晶質充填剤を添加する必要がなく、内部の結
晶化によって、融解中に最初に失透し、約520℃から約5
80℃までの温度での通常の加工条件下で固結させた場
合、所望の形状が維持される。その結果、本発明のガラ
スフリット組成物は典型的に、焼成後に非常に圧縮され
た状態を示し、多孔度および表面荒さが小さくなる。こ
れらの特性により、絶縁層の厚さおよび均質性をより良
好に制御することができる。このことは、それらの表面
全体に亘り均一な電気的挙動を得る上で重要である。
【０００８】本発明のある態様において、ガラスフリッ
トは、重量で、18％から24％までのシリカ（Ｓｉ
Ｏ2）、69％から80％までのＰｂＯ、および１％から３
％までの二酸化チタン（ＴｉＯ2）を含む。必要に応じ
て、この組成物は、15％までの酸化ジルコニウム（Ｚｒ
Ｏ2）、並びに少量の、ＢａＴｉＯ3のようなセラミック
絶縁材料を含有してもよい。
トは、重量で、18％から24％までのシリカ（Ｓｉ
Ｏ2）、69％から80％までのＰｂＯ、および１％から３
％までの二酸化チタン（ＴｉＯ2）を含む。必要に応じ
て、この組成物は、15％までの酸化ジルコニウム（Ｚｒ
Ｏ2）、並びに少量の、ＢａＴｉＯ3のようなセラミック
絶縁材料を含有してもよい。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の鉛ガラスフリット組成物
により、単独に用いて、光沢面を有する、または顔料の
添加により乳白色の反射性となる構造部材を形成できる
結晶化ガラス配合物を提供する。さらに、形成された構
造部材の絶縁特性は、ＢａＴｉＯ3のような特定のセラ
ミック絶縁材料を少量添加することにより、適合させる
ことができる。
により、単独に用いて、光沢面を有する、または顔料の
添加により乳白色の反射性となる構造部材を形成できる
結晶化ガラス配合物を提供する。さらに、形成された構
造部材の絶縁特性は、ＢａＴｉＯ3のような特定のセラ
ミック絶縁材料を少量添加することにより、適合させる
ことができる。
【００１０】様々なガラスフリットを用いて絶縁層およ
びバリアリブ構造部材を提供している従来技術とは異な
り、本発明は、これらの層の両方に使用できる一つの材
料配合物を提供する。本発明の組成物は、基板をそのア
ニーリング範囲まで加熱したときにおける、ガラス基板
の寸法の変動が最少であり、約520℃から約580℃までの
温度範囲で、好ましくは約550℃で固結される場合、寸
法形状が非常に良好に制御された構造部材を形成するこ
とができる。特に、約450℃から約550℃までの範囲にあ
る軟化点と組み合わされた、ガラスフリット組成物への
ＺｒＯ2の添加により増大されるかもしれない、強力な
失透特性のために、焼成中に生じる圧縮レベルは高く、
形成されたガラス基板は、多孔度および表面荒さが小さ
い。その結果、所定の温度（好ましくは約550℃）で寸
法形状を精密に制御し、機械的強度および均一性が改良
されたガラス基板を得ることができる。さらに、熱膨張
係数を約70×10-7／℃から約90×10-7／℃までの範囲に
維持して、基板（一般的にはソーダ石灰ガラス）と絶縁
層との間の膨脹が潜在的に過剰にくいちがうことにより
誘発される応力および亀裂が避けられる。
びバリアリブ構造部材を提供している従来技術とは異な
り、本発明は、これらの層の両方に使用できる一つの材
料配合物を提供する。本発明の組成物は、基板をそのア
ニーリング範囲まで加熱したときにおける、ガラス基板
の寸法の変動が最少であり、約520℃から約580℃までの
温度範囲で、好ましくは約550℃で固結される場合、寸
法形状が非常に良好に制御された構造部材を形成するこ
とができる。特に、約450℃から約550℃までの範囲にあ
る軟化点と組み合わされた、ガラスフリット組成物への
ＺｒＯ2の添加により増大されるかもしれない、強力な
失透特性のために、焼成中に生じる圧縮レベルは高く、
形成されたガラス基板は、多孔度および表面荒さが小さ
い。その結果、所定の温度（好ましくは約550℃）で寸
法形状を精密に制御し、機械的強度および均一性が改良
されたガラス基板を得ることができる。さらに、熱膨張
係数を約70×10-7／℃から約90×10-7／℃までの範囲に
維持して、基板（一般的にはソーダ石灰ガラス）と絶縁
層との間の膨脹が潜在的に過剰にくいちがうことにより
誘発される応力および亀裂が避けられる。
【００１１】本発明の結晶化ガラスは、ＴｉＯ2を含有
するケイ酸鉛材料である。本発明のガラスフリット組成
物は、重量パーセント基準で、18％から24％までのＳｉ
Ｏ2、69％から80％までのＰｂＯ、および１％から３％
までのＴｉＯ2を含有する。この組成物は、必要に応じ
て、０％から15％までのＺｒＯ2を含有してもよい。好
ましい実施の形態において、この組成物は、重量パーセ
ント基準で、18％から24％までのＳｉＯ2、71％から77
％までのＰｂＯ、１％から３％までのＴｉＯ2および２
％から８％までのＺｒＯ2を含有し、最も好ましい実施
の形態においては、約19％のＳｉＯ2、約74％のＰｂ
Ｏ、約２％のＴｉＯ2、および約５％のＺｒＯ2を含有す
る。これらのフリットは、(1)成分を約1350℃で融解さ
せ、(2)融解サイクルの終わりに、または典型的に上述
した温度での約３時間後であって、約1250℃まで冷却し
た後に、フリット化された材料を形成するために、融解
物を水中に注ぎ入れ、(3)形成されたフリットをオーブ
ン中で乾燥させることにより形成される。バルク材料を
特徴付けるために、この材料の残りをプレートの形状に
注型する。形成されたフリット材料は、用途に適した十
分に微細な平均粒径が得られるまで、いくつかの段階で
破壊され、ふるいにかけられる、小さくて、不規則な形
状の断片の形態にある。典型的に、これらの結晶化ガラ
スフリットは、20ミクロン未満、最も好ましくは、５ミ
クロンから10ミクロンまでの間の粒子まで磨砕する。
するケイ酸鉛材料である。本発明のガラスフリット組成
物は、重量パーセント基準で、18％から24％までのＳｉ
Ｏ2、69％から80％までのＰｂＯ、および１％から３％
までのＴｉＯ2を含有する。この組成物は、必要に応じ
て、０％から15％までのＺｒＯ2を含有してもよい。好
ましい実施の形態において、この組成物は、重量パーセ
ント基準で、18％から24％までのＳｉＯ2、71％から77
％までのＰｂＯ、１％から３％までのＴｉＯ2および２
％から８％までのＺｒＯ2を含有し、最も好ましい実施
の形態においては、約19％のＳｉＯ2、約74％のＰｂ
Ｏ、約２％のＴｉＯ2、および約５％のＺｒＯ2を含有す
る。これらのフリットは、(1)成分を約1350℃で融解さ
せ、(2)融解サイクルの終わりに、または典型的に上述
した温度での約３時間後であって、約1250℃まで冷却し
た後に、フリット化された材料を形成するために、融解
物を水中に注ぎ入れ、(3)形成されたフリットをオーブ
ン中で乾燥させることにより形成される。バルク材料を
特徴付けるために、この材料の残りをプレートの形状に
注型する。形成されたフリット材料は、用途に適した十
分に微細な平均粒径が得られるまで、いくつかの段階で
破壊され、ふるいにかけられる、小さくて、不規則な形
状の断片の形態にある。典型的に、これらの結晶化ガラ
スフリットは、20ミクロン未満、最も好ましくは、５ミ
クロンから10ミクロンまでの間の粒子まで磨砕する。
【００１２】本発明のガラスフリット組成物は、どのよ
うな従来の方法により絶縁層およびバリアリブに形成し
てもよいが、米国特許出願第08/820,206号に開示されて
いるようなエンボス工程または凹版印刷工程によりその
両方を同時に形成するのに特に適している。そのような
工程において、フリットを適切な有機結合剤中に分散さ
せ、形成された混合物を、基体の表面に施し、エンボス
プレートまたはロールとの接触により所望の形状に形成
するか、もしくは、凹版プレートまたはロールに施し、
次いで、基体表面に印刷する。そのような方法の両方
が、上述した特許出願に詳細に記載されている。
うな従来の方法により絶縁層およびバリアリブに形成し
てもよいが、米国特許出願第08/820,206号に開示されて
いるようなエンボス工程または凹版印刷工程によりその
両方を同時に形成するのに特に適している。そのような
工程において、フリットを適切な有機結合剤中に分散さ
せ、形成された混合物を、基体の表面に施し、エンボス
プレートまたはロールとの接触により所望の形状に形成
するか、もしくは、凹版プレートまたはロールに施し、
次いで、基体表面に印刷する。そのような方法の両方
が、上述した特許出願に詳細に記載されている。
【００１３】
【実施例】以下、実施例を参照して、本発明のガラスフ
リット組成物を詳細に説明する。
リット組成物を詳細に説明する。
【００１４】本発明の例示的な配合物が表１に示されて
いる。ここでは、組成物が様々な成分の重量パーセント
で表されている。これらの試料の配合物の各々に関し
て、フリットを焼成する際に形成されたガラスの10-7／
℃で表された熱膨張係数、℃で表されたガラス転移温度
（Ｔｇ）、および℃で表されたガラス軟化点（Ｔｓ）も
また記載されている。
いる。ここでは、組成物が様々な成分の重量パーセント
で表されている。これらの試料の配合物の各々に関し
て、フリットを焼成する際に形成されたガラスの10-7／
℃で表された熱膨張係数、℃で表されたガラス転移温度
（Ｔｇ）、および℃で表されたガラス軟化点（Ｔｓ）も
また記載されている。
【００１５】さらに、試料のフリット組成物の所定の幾
何学形状を維持する能力が、焼成サイクル後に維持され
たフリットのボタンの高さおよび直径の百分率として表
されている。この特徴付けにおいて、20ｍｍの高さおよ
び10ｍｍの直径を有するプレスドボタンは、ボールミル
粉砕され、300メッシュで篩い分けされたフリットから
作製した。次いで、これらのボタンを25分間に亘り550
℃で焼成した。焼成後、新たな寸法を測定した。例え
ば、実施例５では、高さの比率が69％であり、直径の比
率が103％である。これは、初期形状からの中位の流動
を示している。同一の軟化点を有するガラス質フリット
は典型的に、しばしば、約40％未満の高さの比率および
約130％より大きい直径の比率に対応する、かなり大き
い流動を示す。一般的に、軟化点が大きければ、表１に
示したように、高さの比率が増大し、直径の比率が減少
する。しかしながら、約550℃未満の軟化点の値が、一
般的に、焼結を良好に維持するのに好ましい。
何学形状を維持する能力が、焼成サイクル後に維持され
たフリットのボタンの高さおよび直径の百分率として表
されている。この特徴付けにおいて、20ｍｍの高さおよ
び10ｍｍの直径を有するプレスドボタンは、ボールミル
粉砕され、300メッシュで篩い分けされたフリットから
作製した。次いで、これらのボタンを25分間に亘り550
℃で焼成した。焼成後、新たな寸法を測定した。例え
ば、実施例５では、高さの比率が69％であり、直径の比
率が103％である。これは、初期形状からの中位の流動
を示している。同一の軟化点を有するガラス質フリット
は典型的に、しばしば、約40％未満の高さの比率および
約130％より大きい直径の比率に対応する、かなり大き
い流動を示す。一般的に、軟化点が大きければ、表１に
示したように、高さの比率が増大し、直径の比率が減少
する。しかしながら、約550℃未満の軟化点の値が、一
般的に、焼結を良好に維持するのに好ましい。
【００１６】さらに、試料１のフリット組成物を焼成す
ることにより形成されたガラスに関して、誘電率を測定
した。
ることにより形成されたガラスに関して、誘電率を測定
した。
【００１７】
【表１】
【００１８】本発明を、説明を目的として詳細に上述し
てきたが、特許請求の範囲により定義された本発明の精
神および範囲から逸脱せずに当業者により様々な変更お
よび改変を行ってもよいことが理解されよう。
てきたが、特許請求の範囲により定義された本発明の精
神および範囲から逸脱せずに当業者により様々な変更お
よび改変を行ってもよいことが理解されよう。
Claims (14)
- 【請求項１】 重量パーセント基準で、18％から24％ま
でのＳｉＯ2、69％から80％までのＰｂＯ、および１％
から３％までのＴｉＯ2を含むことを特徴とするケイ酸
鉛ガラスフリット組成物。 - 【請求項２】 前記ＰｂＯが71％から77％までの量で存
在することを特徴とする請求項１記載のガラスフリット
組成物。 - 【請求項３】 15％までのＺｒＯ2を含むことを特徴と
する請求項１記載のガラスフリット組成物。 - 【請求項４】 前記ＺｒＯ2が２％から８％までの量で
存在することを特徴とする請求項３記載のガラスフリッ
ト組成物。 - 【請求項５】 前記ＳｉＯ2が18％から24％までの量で
存在し、前記ＰｂＯが71％から77％までの量で存在する
ことを特徴とする請求項４記載のガラスフリット組成
物。 - 【請求項６】 前記ＳｉＯ2が約19％の量で存在し、前
記ＰｂＯが約74％の量で存在し、前記ＴｉＯ2が約２％
の量で存在し、前記ＺｒＯ2が約５％の量で存在するこ
とを特徴とする請求項５記載のガラスフリット組成物。 - 【請求項７】 熱膨張係数が約73×10-7／℃から約83×
10-7／℃までであることを特徴とする請求項１記載のガ
ラスフリット組成物。 - 【請求項８】 ガラス転移温度が約425℃から約465℃ま
でであることを特徴とする請求項１記載のガラスフリッ
ト組成物。 - 【請求項９】 軟化点が約500℃から約550℃までである
ことを特徴とする請求項１記載のガラスフリット組成
物。 - 【請求項１０】 前記軟化点が約510℃から約520℃まで
であることを特徴とする請求項９記載のガラスフリット
組成物。 - 【請求項１１】 重量パーセント基準で、18％から24％
までのＳｉＯ2、69％から80％までのＰｂＯ、および１
％から３％までのＴｉＯ2を含む熱融解ガラスフリット
から形成された絶縁層により被覆されたガラス基体を備
えることを特徴とするプラズマディスプレーパネル。 - 【請求項１２】 重量パーセント基準で、18％から24％
までのＳｉＯ2、69％から80％までのＰｂＯ、および１
％から３％までのＴｉＯ2を含む熱融解ガラスフリット
から形成されたバリアリブを備えることを特徴とする請
求項１１記載のプラズマディスプレーパネル。 - 【請求項１３】 前記絶縁層およびバリアリブが、同一
組成のガラスフリットから形成されることを特徴とする
請求項１２記載のプラズマディスプレーパネル。 - 【請求項１４】 重量パーセント基準で、18％から24％
までのＳｉＯ2、69％から80％までのＰｂＯ、および１
％から３％までのＴｉＯ2を含む熱融解ガラスフリット
から形成されたバリアリブを備えることを特徴とするプ
ラズマディスプレーパネル。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP98401264 | 1998-05-27 | ||
| EP98401264.2 | 1998-05-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11335136A true JPH11335136A (ja) | 1999-12-07 |
Family
ID=8235380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10290815A Withdrawn JPH11335136A (ja) | 1998-05-27 | 1998-10-13 | ガラスリブ構造部材を形成する結晶化ガラスフリット組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11335136A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0987228A3 (en) * | 1998-08-07 | 2001-04-18 | JSR Corporation | Glass paste composition, and transfer film and plasma display panel comprising the same |
| JP2005306010A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-11-04 | Asahi Glass Co Ltd | 軟化点が低いガラスを被覆したフィルム |
| US7497093B2 (en) | 2004-07-29 | 2009-03-03 | 3M Innovative Properties Company | Method of making ceramic articles |
| US7501000B2 (en) | 2001-08-02 | 2009-03-10 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive particles, abrasive articles, and methods of making and using the same |
| US7507268B2 (en) | 2001-08-02 | 2009-03-24 | 3M Innovative Properties Company | Al2O3-Y2O3-ZrO2/HfO2 materials, and methods of making and using the same |
| US7563294B2 (en) | 2001-08-02 | 2009-07-21 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive particles and methods of making and using the same |
| US7563293B2 (en) | 2001-08-02 | 2009-07-21 | 3M Innovative Properties Company | Al2O3-rare earth oxide-ZrO2/HfO2 materials, and methods of making and using the same |
| US7625509B2 (en) | 2001-08-02 | 2009-12-01 | 3M Innovative Properties Company | Method of making ceramic articles |
-
1998
- 1998-10-13 JP JP10290815A patent/JPH11335136A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0987228A3 (en) * | 1998-08-07 | 2001-04-18 | JSR Corporation | Glass paste composition, and transfer film and plasma display panel comprising the same |
| US7501000B2 (en) | 2001-08-02 | 2009-03-10 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive particles, abrasive articles, and methods of making and using the same |
| US7501001B2 (en) | 2001-08-02 | 2009-03-10 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive particles, and methods of making and using the same |
| US7507268B2 (en) | 2001-08-02 | 2009-03-24 | 3M Innovative Properties Company | Al2O3-Y2O3-ZrO2/HfO2 materials, and methods of making and using the same |
| US7510585B2 (en) | 2001-08-02 | 2009-03-31 | 3M Innovative Properties Company | Ceramic materials, abrasive particles, abrasive articles, and methods of making and using the same |
| US7563294B2 (en) | 2001-08-02 | 2009-07-21 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive particles and methods of making and using the same |
| US7563293B2 (en) | 2001-08-02 | 2009-07-21 | 3M Innovative Properties Company | Al2O3-rare earth oxide-ZrO2/HfO2 materials, and methods of making and using the same |
| US7625509B2 (en) | 2001-08-02 | 2009-12-01 | 3M Innovative Properties Company | Method of making ceramic articles |
| JP2005306010A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-11-04 | Asahi Glass Co Ltd | 軟化点が低いガラスを被覆したフィルム |
| US7497093B2 (en) | 2004-07-29 | 2009-03-03 | 3M Innovative Properties Company | Method of making ceramic articles |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060110 |