JP4024959B2 - プラズマディスプレイパネル用の誘電体の組成物 - Google Patents
プラズマディスプレイパネル用の誘電体の組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4024959B2 JP4024959B2 JP12396999A JP12396999A JP4024959B2 JP 4024959 B2 JP4024959 B2 JP 4024959B2 JP 12396999 A JP12396999 A JP 12396999A JP 12396999 A JP12396999 A JP 12396999A JP 4024959 B2 JP4024959 B2 JP 4024959B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dielectric
- pbo
- weight
- glass
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/38—Dielectric or insulating layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/16—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C14/00—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
- C03C14/004—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of particles or flakes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
- C03C8/10—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing lead
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2214/00—Nature of the non-vitreous component
- C03C2214/04—Particles; Flakes
Description
【発明の属する技術分野】
本発明はプラズマディスプレイパネル(PDP)に関する。特に本発明はPDPの誘電体層と隔壁の形成に適用される誘電体の組成物とその組成物の形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
PDPは他のフラットパネルディスプレイ(FPD)より製作工程が容易であり、大画面のフラットパネルディスプレイとして注目を浴びている。
図1は交流(AC)型のPDPのマトリックス形態で配列されたPDPセルの構造を図示している。PDPセルは上部基板(10)に維持電極対(12A、12B)、上部誘電体層(14)及び保護膜(16)を形成させた上板と、下部基板(18)にアドレス電極(20)、下部誘電体層(22)、隔壁(24)及び蛍光体層(26)を形成させた下板とを具備する。なお、本命最初において、方向を意味する上下は説明の便宜にすぎない。上部基板(10)と下部基板(18)は互いに対向され、これらの基板(10、18)と隔壁(24)により放電空間が形成されている。
【0003】
維持電極対(12A、12B)の一つはパネルを走査するための走査パルスを供給する走査電極として利用される。上部の誘電体層(14)には電荷が蓄積される。保護膜(16)はスパッタリングによる上部の誘電体層(14)の損傷を防いでPDPの寿命を延ばすだけでなく、二次電子の放出効率を高めている。保護膜(16)としては通常酸化マグネシウム(MgO)が利用される。上部基板(10)と下部基板(18)が整列させられてアドレス電極(20)は維持電極対(12A、12B)と交差する。図はわかりやすくするために一方の基板を90度回転させて示している。このアドレス電極(20)はディスプレイされたセルを選択するためのデータ信号が供給される。隔壁(24)は放電により生成された紫外線が隣接した放電セルに漏れるのを防ぐ。蛍光体(26)は下部誘電体層(22)及び隔壁(24)の表面に塗布されて、赤色、緑色または青色の可視光線を発生する役割をする。
【0004】
このような構造のPDP放電セルはアドレス電極(20)と走査/維持電極(12A)の間の対向放電により選択された後、維持電極対(12A、12B)の間の面放電により放電を維持する。PDP放電セルでは維持放電時に発生する紫外線により蛍光体(26)が発光して可視光が外部に放射される。その結果、放電セルなどを有するPDPは画像を表示する。
【0005】
図2は図1に図示された隔壁(24)の製造方法を段階的に説明する流れ図である。
段階S2で隔壁の材料である母材ガラスの粉末と酸化物充鎮剤粉末を混ぜて混合粉末を作る。この場合、母材ガラス粉末と酸化物充鎮剤粉末を所定の比率で混合した後10μm以下の微粉末にする。次に、段階S4で混合粉末を有機溶媒と混合してスクリーン印刷法で利用されるペーストまたはテープキャスチング(Tape Casting)法で利用されるスラリー状態にする。続いて、段階S6でペーストまたはスラリーを利用して下部基板(18)上に形成された下部誘電体層(22)上に隔壁(24)を形成する。この場合、隔壁(24)はスクリーン印刷方法、サンドブラスト方法、エッチング法、添加法及びスタンピング(Stamping)法などにより形成することができる。これに対する詳細な説明は後述する。そして、段階S8で形成された隔壁(24)を300〜500℃の温度の範囲で15〜20分間乾燥して有機溶媒を除去した後、550〜600℃範囲で加熱して隔壁(24)を完成する。
【0006】
図3A乃至図3Dはスクリーン印刷方法を利用した隔壁製造方法を段階的に表す断面図である。
図3Aを参照すると、下部基板(18)上に下部誘電体層(22)とガラスペーストパターン(28)が積層された構造が図示されている。ガラスペーストパターン(28)は母材ガラスと充鎮剤が混合されたガラス粉末を有機溶媒と混合したガラスペーストをスクリーン印刷方法により下部誘電体層(22)上に所定の厚さに塗布した後所定の時間の間乾燥させて形成される。ついで、図3B及び図3Cに図示されたように、前述したガラスペーストパターン(28)形成方法を7〜8回繰り返して行う。この結果、所望の高さ例えば、150〜200μmの高さにガラスペーストパターン(28)を積層する。このように積層されたガラスペーストパターン(28)はを焼成して図3Dに図示されたように下部誘電体層(22)上に所定の高さを有する隔壁(24)が形成される。
【0007】
図4Aないし図4Fはサンドブラスト方法を利用した隔壁製造方法を段階的に表す断面図である。
図4Aに示されたように下部基板(18)上に形成された下部誘電体層(22)上にガラスペースト(30)を塗布した後、図4Bに図示されたようにそのガラスペースト(30)上にフォトレジスタ(32)を塗布する。次に、図4Cに示されたようにマスクパターン(34)をフォトレジスタ(32)上に位置させた後、そのマスクパターン(34)の開口部を通してフォトレジスタ(32)を露光させる。続いて、マスクパターン(34)を除去した後フォトレジスタ(32)で露光されない部分を除去することで図4Dに示されたようにフォトレジスタパターン(32A)を形成する。そして、サンドブラストを利用してフォトレジスタパターン(32A)を除去することで図4eに図示されたようにフォトレジスタパターン(32A)と同一の形状のガラスペーストパターン(30A)を形成する。その次、フォトレジスタパターン(32A)を除去した後、ガラスペーストパターン(30A)を焼成させて図4Fに示されたように下部誘電体層(22)上に隔壁(24)を形成する。
【0008】
図5Aないし図5Cはエッチング方法を利用した隔壁製造方法を段階的に表す断面図である。
図5Aに示されたように下部基板(18)上に形成した誘電体層(22)上に感光性ペースト(34)を塗布する。その次、図5Bに示されたように感光性ペースト(34)上にマスクパターン(36)を配置した後、そのマスクパターン(36)を通して感光性ペースト(34)を露光させる。続いて、マスクパターン(36)を除去した後、感光性ペースト(34)で露光されない部分をエッチングさせた後エッチングされない部分を焼成することで図5Cに示された隔壁(24)を形成する。
【0009】
図6Aないし図6Eは添加(Additive)法を利用した隔壁製造方法を段階的に表す断面図である。
図6Aに図示されたように下部基板(18)上に形成された下部誘電体層(22)上にフォトレジスタ(38)を塗布する。その次、図6Bに示されたようにフォトレジスタ(38)上にマスクパターン(40)を配置させた後、そのマスクパターン(40)を通してフォトレジスタ(38)を露光する。続いて、マスクパターン(40)を除去した後、フォトレジスタ(38)の露光された部分を除去することで図6Cに示されたようなフォトレジスタパターン(38A)を形成する。そして、図6Dに示されたようにフォトレジスタパターン(38A)の間にガラスペースト(30)を塗布して乾燥させる。続いて、フォトレジスタパターン(38A)を除去した後ガラスペースト(30)を焼成させることで図6Eに示されたように下部誘電体層(22)上に隔壁(24)を形成する。
【0010】
図7Aないし図7Dはスタンピング方法を利用する隔壁製造方法を段階別に表す断面図である。
図7Aに示されたように、下部基板(18)上に形成された下部誘電体層(22)上にガラスペースト(42)を塗布する。その次、ガラスペースト(42)の上に隔壁用の溝が形成された金型(44)を配置した後、その金型(44)に所定の圧力を加えてスタンピングして、図7Bに示されたように金型(44)の溝形状に対応するガラスペーストパターン(42A)を形成する。続いて、図7Cに示されたように金型(44)を分離した後、ガラスペーストパターン(42A)を焼成させて図7Dに示されたように、下部誘電体層(22)上に隔壁(24)を形成する。
【0011】
このように様々な方法により製造することができる隔壁(24)は下部誘電体層(22)と共に蛍光体層(26)から出される背面光を反射してPDPの輝度を増加させる役割を担っている。これによって、下部誘電体層(22)及び隔壁(24)は高い反射率を有するための緻密な組織が要求される。また、下部誘電体層(22)及び隔壁(24)は素子の応答特性を良くするために低い誘電率とし、かつ亀裂を防ぐための低い熱膨張係数とし、かつ熱的安定性及び焼成時下部基板(18)の亀裂を防ぐために低い焼成温度が要求される。このために、下部誘電体層(22)及び隔壁(24)は同一の系列の母材ガラスと酸化物充鎮剤を使用している。例えば、隔壁(24)材料では大量のPbO成分を含むPbO−B2O3−SiO2系、またはPbO−B2O3−ZnO系の母材ガラス粉末にTiO2とAl2O3とで構成された酸化物充鎮剤粉末が混合されたガラスセラミックス材料が使用されている。従来の隔壁(24)材料に含まれている母材ガラスの組成物と組成比を示せば次の表1の通りである。
【0012】
【0013】
ここで、母材ガラス組成物の組成比は隔壁の重さを100重量%と仮定して算出し、充鎮剤組成物の組成比もまた隔壁重さを100重量%と仮定して算出した。表1のように従来の隔壁(24)用母材ガラスには60〜80%の大きい比重を占める酸化鉛(PbO)を含むPbO−B2O3−SiO2系またはPbO−B2O3−ZnO系が使用されている。酸化物充鎮剤でTiO2は隔壁(24)の反射率と結晶性を増加させる役割をする。詳細すると、反射率と比例する母材ガラスの屈折率は1.4〜1.5であるが、TiO2の屈折率は2.7であるのでTiO2は隔壁の反射率を増加させる重要な要素になる。また、TiO2は隔壁の結晶性を高くし、反射率を増加させる。そして、酸化物充鎮剤でAl2O3は隔壁(24)の熱膨張係数を低下させる役割をする。表2は表1に表したような組成比を有する組成物が適用された隔壁(24)の特性を表す。
【0014】
なお、上記母材ガラスは40〜70%で充填剤は30〜60%である。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このような隔壁(24)材料は13〜15に該当する高い誘電率を有することによって素子の応答速度が遅延されるという問題点がある。また、隔壁(24)は前述したように下部基板(18)上に形成された後下部基板(18)と共に焼成する。この場合、従来のように隔壁(24)の材料が高い焼成温度を有すると、隔壁(24)焼成時下部基板(18)が変形または破損されるという問題点もある。さらに、従来の隔壁(24)材料は高い比重のPbOにより環境汚染を誘発するだけでなく素子の重さが増大するという問題点がある。
【0016】
従って、本発明の目的は光学的、熱的、電気的要求を満足させることができるプラズマディスプレイパネル用の誘電体組成物を提供することである。
本発明の他の目的はPbOの組成比が低い母材ガラスを使用することでPbOによる環境汚染を防ぐことができるプラズマディスプレイパネル用の誘電体組成物を提供することである。
【0017】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明によるプラズマディスプレイパネル用の誘電体組成物はP2O5−PbO−K2O系母材ガラスと、酸化物充鎮剤を含むことを特徴とする。
本発明によるプラズマディスプレイパネル用の誘電体組成物は母材ガラスと、30〜90重量%のAl2O3、5〜15重量%のV2O5、5〜10重量%のTiO2、0〜20重量%のMg2Al3(AlSi5O18)及び0〜20重量%のLiAl(Si2O6)の中少なくとも一つ以上を構成とする酸化物充鎮剤を含むことを特徴とする。
本発明によるプラズマディスプレイパネル用の誘電体組成物はP2O5−PbO−K2O系母材ガラスと、30〜90重量%のAl2O3、5〜15重量%のV2O5、5〜10重量%のTiO2、0〜20重量%のMg2Al3(AlSi5O18)及び0〜20重量%のLiAl(Si2O6)の中少なくとも一つ以上を構成とする酸化物充鎮剤を含むことを特徴とする。
【0018】
【作用】
本発明によるPDP用誘電体組成物はP2O5−PbO−K2O系母材ガラスを含むことで誘電体が比較的に低い誘電率を有するようになり、素子の応答速度を向上させることができる。また、本発明によるPDP用誘電体組成物はP2O5−PbO−K2O系母材ガラスを含むことで反射率が増加して輝度を向上させることができる。併せて、本発明によるPDP用誘電体組成物はP2O5−PbO−K2O系母材ガラスを含むことで焼成温度を低下させ、熱膨張係数を減少させることができ、誘電体の亀裂及び下部基板の変形または亀裂を防ぐことができる。さらに、本発明によるPDP用誘電体組成物はPbO成分が少ない母材ガラスを含むのでPbOによる環境汚染などの問題を少なくできるだけではなく、PDP素子の重量を減少させることができる。
【0019】
【発明の実施形態】
以下、本発明の好ましい実施形態に対して詳細に説明する。
本発明の実施形態によるPDP用誘電体組成物は隔壁及び下板誘電体層に適用される。P2O5−PbO−K2O系母材ガラスと酸化物充鎮剤を含む。この場合、P2O5−PbO−K2O系母材ガラスと酸化物充鎮剤に対する詳細な組成物及び組成比の例をあげると次の表3の通りである。
【0020】
【表3】
【0021】
表3でP2O5−PbO−K2O系母材ガラス組成物の組成比は母材ガラスの重さを100重量%と仮定して算出し、酸化物充鎮剤組成物の組成比は酸化物充鎮剤の重さを100重量%と仮定して算出してある。このような誘電体組成物でTiO2はV2O5 と併せて誘電体の組成物の結晶性を増大させ誘電体の反射率を増加させる目的として添加している。そして、Al2O3及び酸化化合物は誘電体材料の誘電率を低下させて、熱膨張係数を調節するために添加する。詳細には、熱膨張係数が120〜140×10ー7℃の範囲である母材ガラスAl2O3及び酸化化合物のような低熱膨張係数の充鎮剤を混合することでその混合比率によって熱膨張係数が70〜850×10ー7℃の範囲の誘電体材料が得られる。表3で酸化物充鎮剤や組成物TiO2、Al2O3、Mg2Al3(AlSi5O18)、V2O5、LiAl(Si2O6)それぞれを、P2O5−PbO−K2O系母材ガラスすべてに添加することができるが、誘電体に要求される特性によって選択的に添加することもできる。
表4は表3に表した組成物が適用された誘電体の特徴を表している。
【0022】
ただし、母材ガラスと充填材は、前者が40〜80%で後者が20〜60%である。
【0023】
上記のように、本発明による組成物が適用された誘電体は40〜80重量%の母材ガラスと20〜60重量%の充鎮剤を含む。表4で本発明の組成物が適用された誘電体の焼成温度は530〜580℃であり、表2に表れた従来の組成物が適用された隔壁、即ち誘電体の焼成温度580〜600℃より低くなっていることが分かる。また、表4で誘電体の誘電率は7〜10であり、表2の従来の誘電体の誘電率の13〜15より低く、また反射率が50〜55で、表2の従来誘電体の反射率50〜60より低いことが分かる。そして、本実施形態の誘電体熱膨張係数は70〜80×10-7℃で、表2の従来誘電体の熱膨張係数と同一であることが分かる。結果的に、本発明による誘電体組成物はP2O5−PbO−K2O系母材ガラスを含むことで熱的安定性、低誘電体率の特性を確保することができる。また、PbO成分が低い母材ガラスを使用するので環境汚染などの問題を少なくすることができる。
【0024】
本発明によるP2O5−PbO−K2O系母材ガラスと酸化物充鎮剤を含む誘電体組成物が適用される隔壁製造方法を図2を参照して説明する。
段階S2でP2O5−PbO−K2O系母材ガラス粉末と酸化物充鎮剤粉末を混合してグラスセラミックス粉末を作る。このP2O5−PbO−K2O系母材ガラス粉末の製造過程を詳細に説明する。表3に表した母材ガラス組成物それぞれの原材料を設定された組成比に計量した後タンブリングミッキサ(Tumbling Mixer)を利用して所定の時間の間混合する。その次、混合された原材料を電気溶融炉を利用して溶融させる。その溶融条件である温度範囲は1000〜1200℃程度に設定する。溶融時間は1〜5時間程度に設定する。そして、均質度維持のために溶融されたガラスを攪拌器を利用して数回攪拌する。それにより溶融されたガラスは緻密な組織を有するようになる。続いて、溶融されたガラスをクエンチングローラ(Quenching Roller)を利用して急速冷却させることでガラス破片(コレット)を作成する。そして、ガラス破片をボールミルを利用して16時間の間製粉した後#170、#270ふるいに順番に通過させ、平均粒子の大きさが10μm以下の粒度の母材ガラス粉末を作る。この場合、ミリング条件であるミリングジャー(Milling Jar)の充填量は250gに設定して、ボールタイプのシリンダの単位概数は44EA/jar、ミリング速度は70rpm、ミリング時間は16時間に設定して潤滑剤としてはIPA溶液2mlを使用する。このような過程により作られた母材ガラス粉末に前記表3のような組成比を有する充鎮剤粉末を20〜60重量%程添加してグラスセラミックス粉末を作る。この場合、母材ガラス粉末と酸化物充鎮剤粉末をタンブリングミッキサで7時間程度混合した後混合された粉末を150℃のドライオーブンに入れて2時間以上乾燥させることでグラスーセラミックス粉末を作る。
【0025】
その次、段階S4でS2段階で作られたグラスーセラミックス材料を有機溶媒と混合してスクリーン印刷用ペーストまたはテープキャスティング用スラリーを作る。この場合、グラスーセラミックス粉末と有機溶媒の混合比率は70:30程度が適当であり、この比率は母材ガラス粉末と酸化物充鎮剤の種類によって調節される。有機溶媒としてはBCA(Butyl Carbitol Acetate)、BC(Butyl Carbitol)及びEC(Ethyl Cellulose)が所定の比率で混合されたものを使用する。ここで、ECはペーストまたはスラリーの粘度を変化させ流動性及び焼結特性に影響を与える。このECの混合比率は10%が適当であり、BCAの混合比率は60%、BCの混合比率は20%が適当である。そして、スクリーン印刷ペーストの粘度は70,000〜100,000(cps)程度の範囲が適当であり、テープキャスティングスラリーの粘度は700〜1,000(cps)程度の範囲が適当である。ここで、ペースト及びスラリーの粘度は後工程によって異なるように調節する。
【0026】
続いて、段階S6ではS4段階で作られたペーストまたはスラリーにより下部基板上に形成された下部誘電体上に隔壁を形成する。この場合、隔壁は前述した隔壁製造方法の中一つを利用して形成する。
そして、段階S8で隔壁を焼成して完成する。この場合、隔壁が形成された下部基板を20分程度乾燥した後、加熱炉を利用して隔壁を焼成させることで隔壁を完成する。この時、隔壁の焼成温度は通常混合粉末に対するDTA(Differential Thermal Analysis)分析結果から得られた結晶化温度で決定され、本発明の実施形態による混合粉末は530〜580℃の焼成温度で15分から30分程度焼成させることが適当である。
【0027】
【発明の効果】
上述したように、本発明によるPDP用誘電体組成物はP2O5−PbO−K2O系母材ガラスを含む。そのため、誘電体が比較的に低い誘電率を有するようになり、素子の応答速度を向上させることができる。また、反射率が増加して輝度を向上させることができる。さらに、焼成温度が低下し、熱膨張係数が減少するので誘電体の亀裂及び下部基板の変形または亀裂を防ぐことができる。
さらに、本発明によるPDP用誘電体組成物はPbO成分が減少した母材ガラスを含むのでPbOによる環境汚染などの問題を少なくすることができるだけでなくPDP素子の重量を減少させることができる。
【0028】
以上説明した内容を通して当業者であれば本発明の技術思想を逸脱しない範囲で多用な変更及び修正が可能である。従って、本発明の技術的範囲は明細書の詳細な説明に記載戯れた内容に限らず特許請求の範囲により定めなければならないであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】 一般的プラズマディスプレイパネル放電セル構造を表す断面図である。
【図2】 隔壁製造方法を段階的に説明する流れ図である。
【図3】 スクリーン印刷法を利用した隔壁製造方法を段階的に表す断面図である。
【図4】 サンドブラスト法を利用した隔壁製造方法を段階的に表す断面図である。
【図5】 エッチング法を利用した隔壁製造方法を段階的に表す断面図である。
【図6】 添加法を利用した隔壁製造方法を段階的に表す断面図である。
【図7】 スタンピング法を利用した隔壁製造方法を段階的に表す断面図である。
【符号の説明】
10:上部基板 12A:走査/維持電極
12B:維持電極 14:上部誘電体層
16:保護膜 18:下部基板
20:アドレス電極
28、30A、42A:ガラスペーストパターン
22:下部誘電体層 24:隔壁
26:蛍光体 30、42:ガラスペースト
32、38:フォトレジスタ
32A、38A:フォトレジスタパターン
36、40:マスクパターン 34:感光性ペースト
44:金型
Claims (4)
- P2O5−PbO−K2O系母材ガラスと、酸化物の充填剤とを含み、
前記P 2 O 5 −PbO−K 2 O系母材ガラスは、
45〜65重量%のP 2 O 5 と、10〜35重量%のPbOと、5〜20重量%のK 2 Oと、1〜7重量%のZnOと、1〜4重量%のMgOと、1〜4重量%のBaOと、0〜4重量%のCaOと、0〜5重量%のNa 2 Oと、0〜4重量%のV 2 O 5 と、0〜4重量%のAl 2 O 3 を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用の誘電体の組成物。 - 前記誘電体の組成物は前記プラズマディスプレイパネルの上部誘電体層、下部誘電体層または隔壁の中少なくとも一つ以上に適用されることを特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイパネル用の誘電体の組成物。
- P2O5−PbO−K2O系母材ガラスは、30〜90重量%のAl2O3、5〜15重量%のV2O5、5〜10重量%のTiO2 を酸化物充填剤として含むとともに、0〜20重量%のMgAl3(AlSi5O18)及び0〜20重量%のLiAl(Si2O6)の中少なくとも一つ以上を酸化物充填剤として含み、前記P 2 O 5 −PbO−K 2 O系母材ガラスは、45〜65重量%のP 2 O 5 と、10〜35重量%のPbOと、5〜20重量%のK 2 Oと、1〜7重量%のZnOと、1〜4重量%のMgOと、1〜4重量%のBaOと、0〜4重量%のCaOと、0〜5重量%のNa 2 Oと、0〜4重量%のV 2 O 5 と、0〜4重量%のAl 2 O 3 を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用の誘電体の組成物。
- 前記誘電体の組成物は前記プラズマディスプレイパネルの上部誘電体層、下部誘電体層または隔壁の中少なくとも一つ以上に適用されることを特徴とする請求項3記載のプラズマディスプレイパネル用の誘電体の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR15612/1998 | 1998-04-30 | ||
KR1019980015612A KR100301661B1 (ko) | 1998-04-30 | 1998-04-30 | 플라즈마표시장치용유전체조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11343142A JPH11343142A (ja) | 1999-12-14 |
JP4024959B2 true JP4024959B2 (ja) | 2007-12-19 |
Family
ID=19536930
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12396999A Expired - Fee Related JP4024959B2 (ja) | 1998-04-30 | 1999-04-30 | プラズマディスプレイパネル用の誘電体の組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6194333B1 (ja) |
JP (1) | JP4024959B2 (ja) |
KR (1) | KR100301661B1 (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6184163B1 (en) * | 1998-03-26 | 2001-02-06 | Lg Electronics Inc. | Dielectric composition for plasma display panel |
US6439943B1 (en) * | 1998-05-12 | 2002-08-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Manufacturing method of plasma display panel that includes adielectric glass layer having small particle sizes |
KR100747207B1 (ko) * | 1999-05-18 | 2007-08-07 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물 |
US6514891B1 (en) * | 1999-07-14 | 2003-02-04 | Lg Electronics Inc. | Thick dielectric composition for solid state display |
KR20010063309A (ko) * | 1999-12-22 | 2001-07-09 | 박영구 | 유전체 페이스트 조성물 |
US6989631B2 (en) * | 2001-06-08 | 2006-01-24 | Sony Corporation | Carbon cathode of a field emission display with in-laid isolation barrier and support |
US6551720B2 (en) | 2000-05-02 | 2003-04-22 | Sarnoff Corporation | Materials to fabricate a high resolution plasma display back panel |
US20020082155A1 (en) * | 2000-10-12 | 2002-06-27 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Barrier rib material for plasma display panel |
KR100404083B1 (ko) * | 2001-03-20 | 2003-11-03 | 엘지전자 주식회사 | 피디피 표시소자 |
US7002290B2 (en) * | 2001-06-08 | 2006-02-21 | Sony Corporation | Carbon cathode of a field emission display with integrated isolation barrier and support on substrate |
US6682382B2 (en) * | 2001-06-08 | 2004-01-27 | Sony Corporation | Method for making wires with a specific cross section for a field emission display |
US6756730B2 (en) * | 2001-06-08 | 2004-06-29 | Sony Corporation | Field emission display utilizing a cathode frame-type gate and anode with alignment method |
US6791278B2 (en) * | 2002-04-16 | 2004-09-14 | Sony Corporation | Field emission display using line cathode structure |
US7012582B2 (en) * | 2002-11-27 | 2006-03-14 | Sony Corporation | Spacer-less field emission display |
US20040145299A1 (en) * | 2003-01-24 | 2004-07-29 | Sony Corporation | Line patterned gate structure for a field emission display |
US20040189552A1 (en) * | 2003-03-31 | 2004-09-30 | Sony Corporation | Image display device incorporating driver circuits on active substrate to reduce interconnects |
US7071629B2 (en) * | 2003-03-31 | 2006-07-04 | Sony Corporation | Image display device incorporating driver circuits on active substrate and other methods to reduce interconnects |
KR100918415B1 (ko) * | 2004-05-24 | 2009-09-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
KR100694388B1 (ko) * | 2005-10-05 | 2007-03-12 | 삼화전자공업 주식회사 | Pdp의 무연 후면판용 유전체재 조성물 및 조성방법 |
KR100730044B1 (ko) * | 2005-12-06 | 2007-06-20 | 엘지전자 주식회사 | 격벽용 슬러리, 그린시트 및 플라즈마 디스플레이 패널의격벽 제조방법 |
KR100831013B1 (ko) * | 2007-02-22 | 2008-05-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE789866A (fr) * | 1971-10-15 | 1973-04-09 | Ici Ltd | Verres a base d'oxydes inorganiques |
DD157327B1 (de) * | 1981-03-18 | 1986-07-16 | Fliesenwerke Kurt Buerger Boiz | Keramische glasuren mit halbglaenzender bis matter oberflaeche |
US4547467A (en) * | 1983-06-22 | 1985-10-15 | Burroughs Corporation | Dielectric composition and devices using it |
JPS60235744A (ja) * | 1984-05-04 | 1985-11-22 | Asahi Glass Co Ltd | セラミック基板用組成物 |
US4593006A (en) * | 1985-04-11 | 1986-06-03 | Asahi Glass Company, Ltd. | Composition for multilayer printed wiring board |
JP2507418B2 (ja) * | 1986-05-02 | 1996-06-12 | 旭硝子株式会社 | 回路基板用組成物 |
JP2971502B2 (ja) * | 1990-03-27 | 1999-11-08 | 旭硝子株式会社 | コバール封着用ガラス組成物 |
GB9012533D0 (en) * | 1990-06-05 | 1990-07-25 | Johnson Matthey Plc | Glass composition |
US5242867A (en) * | 1992-03-04 | 1993-09-07 | Industrial Technology Research Institute | Composition for making multilayer ceramic substrates and dielectric materials with low firing temperature |
US5674634A (en) * | 1994-12-05 | 1997-10-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Insulator composition, green tape, and method for forming plasma display apparatus barrier-rib |
JPH08321257A (ja) * | 1995-05-24 | 1996-12-03 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの障壁形成用塗工液及びその製造方法並びにプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 |
JPH09231910A (ja) * | 1996-02-26 | 1997-09-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルと誘電体ガラス組成物および酸化チタンの製造方法 |
JP3906946B2 (ja) * | 1997-06-26 | 2007-04-18 | 日本電気硝子株式会社 | プラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料 |
-
1998
- 1998-04-30 KR KR1019980015612A patent/KR100301661B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1999
- 1999-04-27 US US09/299,602 patent/US6194333B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-30 JP JP12396999A patent/JP4024959B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100301661B1 (ko) | 2001-11-14 |
US6194333B1 (en) | 2001-02-27 |
KR19990081588A (ko) | 1999-11-15 |
JPH11343142A (ja) | 1999-12-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4024959B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル用の誘電体の組成物 | |
JP2006008496A (ja) | プラズマディスプレイパネル隔壁用無鉛ガラス組成物,及びプラズマディスプレイパネル | |
KR100605755B1 (ko) | 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물 | |
JP3429211B2 (ja) | プラズマ表示装置用の誘電体の組成物 | |
JP3111409B2 (ja) | プラズマ表示装置の隔壁用の組成物及びその組成物を使用した隔壁形成方法 | |
KR100554248B1 (ko) | 유리 세라믹 조성물 및 후막 유리 페이스트 조성물 | |
JP3331428B2 (ja) | シーリング・ガラス | |
US20090179567A1 (en) | Plasma display panel, method of producing the same, and sealing member | |
CN101390182B (zh) | 等离子显示器用构件及其制造方法 | |
JP2005194120A (ja) | ガラスセラミック粉末組成物及びガラスペースト | |
KR101417009B1 (ko) | 절연층을 형성하기 위한 무연 붕규산염 유리 프릿 및 그의 유리 페이스트 | |
KR100392950B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 제조방법 | |
KR100268587B1 (ko) | 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물 | |
JP2008214144A (ja) | 誘電体組成物とこの誘電体組成物を用いた誘電体および誘電体ペースト | |
KR100575630B1 (ko) | 플라즈마 표시장치의 격벽 성형용 조성물 및 조성물을 이용한 격벽재의 제조방법 | |
KR100438915B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 제조방법 | |
KR100444521B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 및 그의 제조방법 | |
KR100444518B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽재료 및 격벽 제조방법 | |
KR100438916B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽재료 및 격벽 제조방법 | |
KR100421677B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 제조방법 | |
KR100444514B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 및 그의 제조방법 | |
KR100444520B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽재료 및 격벽 제조방법 | |
JP4029501B2 (ja) | プラズマディスプレイ用基板の製造方法 | |
JP2003112947A (ja) | プラズマディスプレイパネル用ガラスペースト、その焼成方法及びそれを用いた誘電体材料又は障壁材料 | |
KR100444519B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽재료 및 격벽 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060501 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070508 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070808 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070904 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071004 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101012 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |