KR100952750B1 - 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물 및 이를포함하는 디스플레이 장치 - Google Patents

디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물 및 이를포함하는 디스플레이 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것으로, 상기 무연 유전체 분말 조성물은 SiO2 5 내지 15 중량%; B2O3 30 내지 45 중량%; Al2O3 10 내지 25 중량%; ZnO 10 내지 25 중량%; BaO 0.1 내지 15 중량%; SrO 0.01 내지 10 중량%; MgO 0.01 내지 5 중량%; CaO 0.1 내지 5 중량%; Li2O 0.1 내지 10 중량%; Na2O 0.1 내지 15중량%; 및 CeO2, CuO, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 산화물 0.01 내지 4 중량%를 포함한다.
본 발명의 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물은 환경 및 인체에 무해하며, 내에칭성, 내산성 및 내알칼리성 등의 내화학적 물성이 우수한 장점을 얻을 수 있다.
무연 유전체 분말 조성물, 무연 유리 분말, 에칭, 플라즈마 디스플레이 패널

Description

디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 장치{LEAD FREE DIELECTRIC POWDER COMPOSITION FOR DISPLAY DEVICE AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME}
본 발명은 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 환경 및 인체에 무해하며, 내에칭성, 내산성 및 내알칼리성 등의 내화학적 물성이 우수한 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물에 관한 것이다.
일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널은 기체 방전을 통하여 얻어진 플라즈마로부터 방사되는 진공 자외선이 형광체를 여기시킴으로써 발생되는 적(R), 녹(G), 청(B)색의 가시광을 이용하여 영상을 구현하는 디스플레이 소자이다.
이러한 플라즈마 디스플레이 패널은 60인치 이상의 초대형 화면을 불과 10cm 이내의 두께로 구현할 수 있고, CRT와 같은 자발광 디스플레이 소자이므로 색 재현력 및 시야각에 따른 왜곡 현상이 없는 특성을 가진다.　 또한, LCD 등에 비해 제조공법이 단순하여 생산성 및 원가 측면에서도 강점을 갖는 TV 및 산업용 평판 디스플레이로 각광 받고 있다.
가장 일반적인 3전극 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널은 동일면상에 위치한 유지 전극과 주사 전극을 포함한 전면 기판과, 이로부터 일정 거리를 두고 이격되어 수직 방향으로 이어지는 어드레스 전극을 포함한 배면 기판으로 이루어지며, 그 사이에 방전가스를 봉입하고 있다.
이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 배면 기판에 형성되는 유전체층은 어드레스 전극을 덮으며 형성되어 플라즈마 방전시 이온 충격으로부터 어드레스 전극을 보호하고, 방전을 유지시키고, 발광 효율을 향상시키며, 형광체로부터 백 스캐터링(back scattering)되어 나오는 가시 광선을 반사하여 휘도를 증대시키는 기능을 한다.
이러한 유전체층을 형성하기 위한 유리 조성물로는 종래 PbO계 유리 조성물 및 Bi2O3계 유리 조성물이 대표적으로 사용되었으나, PbO 및 Bi2O3의 성분은 인체 및 환경에 유해한 물질이며, 노후한 전자 제품의 폐기 시에 산과 알카리 용액등과 화학반응이 일어나서 환경을 오염시키는 문제점이 있다.　 또한, PbO 및 Bi2O3의 함량이 많아지게 되면, 점성유동이 심해져서 소성 공정 후에 기포가 많아지고, 유전율이 13 내지 18 정도로 높아 구동전압이 높아지므로 전력 소비량이 증가하는 문제점이 있다.
한편, 유전체층을 형성한 후 그 상부에 격벽을 형성하게 되는데, 격벽을 형성하기 위하여 통상적으로 샌드 블라스트법, 에칭법, 감광성법, 스크린 인쇄법, 블레이드법, 리프트 오프법 등의 다양한 격벽 제조 방법이 이용되어 왔다.　 이러한 제조 방법에 따라 격벽이 형성되는 동안 격벽 형성시 사용되는 에칭액 및 박리액, 감광액, 샌드 등에 의하여 격벽의 하부에 위치한 유전체층이 쉽게 손상될 수 있는 문제점이 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위해서 유전체층은 PbO 및 Bi2O3의 성분을 가지고 있지 않아 인체 및 환경에 해롭지 않아야 하며, 격벽 형성 시의 혹독한 환경을 견딜 수 있는 정도의 물성을 가질 것이 요구된다.　
본 발명의 목적은 환경 및 인체에 무해하며, 내에칭성, 내산성 및 내알칼리성 등의 내화학적 물성이 우수한 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 유전체 분말 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 무연 유전체 분말 조성물을 포함하는 디스플레이 장치를 제공하는 것이다.
다만, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 평균적 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 구현예는 SiO2 5 내지 15 중량%; B2O3 30 내지 45 중량%; Al2O3 10 내지 25중량%; ZnO 10 내지 25 중량%; BaO 0.1 내지 15 중량%; SrO 0.01 내지 10 중량%; MgO 0.01 내지 5 중량%; CaO 0.1 내지 5 중량%; Li2O 0.1 내지 10 중량%; Na2O 0.1 내지 15 중량%; 및 CeO2, CuO, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 산화물 0.01 내지 4 중량%를 포함하는 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 일 구현예는 상기 무연 유전체 분말 조성물을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
기타 본 발명의 구현예들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.　　
본 발명의 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물은 환경 및 인체에 무해하며, 내에칭성, 내산성 및 내알칼리성 등의 내화학적 물성이 우수한 장점을 갖는다.　 또한, 본 발명의 무연계 유전체 분말 조성물은 낮은 유전율을 가지며, 이에 따라 디스플레이 장치의 소비전력을 감소시킬 수 있다.　
특히, 본 발명의 무연 유전체 분말 조성물을 플라즈마 디스플레이 패널에서 어드레스 전극을 덮으며 형성되는 배면 유전체층(이하 "하 유전체층" 이라 함)의 제조에 사용하는 경우 본 발명에 따른 효과를 극대화 시킬 수 있다.
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.　　다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다.　　
본 발명의 일 구현예에 따르면, SiO2 5 내지 15 중량%; B2O3 30 내지 45중량%; Al2O3 10 내지 25 중량%; ZnO 10 내지 25 중량%; BaO 0.1 내지 15 중량%; SrO 0.01 내지 10 중량%; MgO 0.01 내지 5 중량%; CaO 0.1 내지 5 중량%; Li2O 0.1 내지 10 중량%; Na2O 0.1 내지 15 중량%; 및 CeO2, CuO, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 산화물 0.01 내지 4 중량%를 포함하는 디스플레이 장치용 무연 유전 체 분말 조성물을 제공한다.
본 발명의 다른 일 구현예에 따르면, 상기 일 구현예에 따른 무연 유전체 분말 조성물을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
이하, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽을 형성하기 위해서는 샌드 블라스트법. 감광성법, 에칭법 등을 이용한다.　 이러한 공법 특히, 에칭법을 사용하여 격벽을 형성하는 동안 격벽의 하부에 위치하는 하 유전체층은 에칭액과 박리액의 혹독한 환경을 견디어야 하기 때문에 하 유전체층을 형성하는 유전체 분말 조성물은 내에칭성, 내산성 및 내알칼리성 등의 내화학적으로 우수한 물리적 특성이 요구된다.　 또한, 전극의 Ag에 의한 황변 현상을 방지하고, 유전체층 재료와 격벽 형성용 페이스트 재료와의 메칭성에 의해서 유전체층과 격벽의 미반응 특성이 요구된다.
또한, 플라즈마 디스플레이 패널을 제조시 기판으로는 소다-라임 유리 기판보다 높은 600℃ 정도의 사용 온도를 갖고, 열팽창 계수가 83×10-7/℃ 정도로 소다-라임 유리 기판보다 우수한 특성을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel: PDP)용 유리기판이 주로 사용되고 있다. 이러한 PDP용 유리기판 은 Pb 또는 Bi 성분을 포함하는 중금속계 유전체의 물리적 특성과 유사하여 종래 플라즈마 디스플레이 패널을 제조시 중금속계 유전체를 사용하였다.　 그러나 상기 중금속계 유전체 분말은 인체 및 환경에 유해한 물질로 알려져 있으며, 노후한 전 자 제품의 폐기 시에 산과 알카리 용액등과 화학반응이 일어나서 환경을 오염시키는 문제점이 있다.　 또한, 상기 중금속의 함량이 많아지게 되면, 격벽의 소성 공정시 점성유동이 심해져서 소성 후에 기포가 많아지고, 유전율이 13 내지 18 정도로 높아 구동전압이 높아지므로 전력 소비량이 증가하는 문제점이 있다.
이에 대해, 본 발명은 Pb와 같은 중금속을 포함하지 않는 무연 유전체 분말 조성물로서, 내에칭성, 내산성 및 내알칼리성 등의 우수한 내화학적, 물리적 특성을 가진다. 특히, 하 유전체층의 제조에 사용하는 경우 이러한 우수한 특성이 극대화되며, 플라즈마 디스플레이 패널의 전력 소비량을 감소시킬 수 있다. 또한, 본 발명의 무연 유전체 분말 조성물의 조성을 적절히 조절하여 PDP용 유리 기판에 적합하게 사용할 수 있는 유전체 분말을 제공한다.
본 발명의 유전체 분말 조성물은 중금속을 포함하지 않으므로 종래 중금속계 유전체를 사용함에 따른 환경 오염, 전력 소비량 증가 등의 문제점을 해결할 수 있다.
또한, 종래 유연 유전체 분말 조성물의 유전율은 13 내지 18 정도이나, 본 발명의 무연 유전체 분말 조성물은 11 이하의 낮은 유전율을 가지므로, 이를 플라즈마 디스플레이 패널에 적용시 구동전압을 감소시켜 소비전력을 감소시킬 수 있다.
또한, 저유전율을 갖는 본 발명의 무연 유전체 분말 조성물을 사용하여 유전체층을 형성하는 경우, 유전체층의 두께를 훨씬 얇게 형성할 수 있다. 종래 유연 유전체 분말을 사용한 하 유전체층은 대략 15㎛의 두께를 가지나, 본 발명의 무연 유전체 분말 조성물을 사용한 하 유전체층은 10 내지 12㎛의 두께를 가지므로, 본 발명의 무연 유전체 분말 조성물을 사용하여 플라즈마 디스플레이 패널을 제조할 시 약 20% 정도의 비용절감 효과를 얻을 수 있다. 　
또한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 유전체 분말 조성물은 유전체층을 형성하기 위한 유전체 분말에 요구되는 내에칭성, 내산성 및 내알칼리성 등의 내화학적으로 우수한 물리적 특성을 충족시키고, 전극의 Ag에 의한 황변 현상 및 격벽과의 반응을 방지할 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 유전체 분말 조성물은 SiO2 5 내지 15 중량%; B2O3 30 내지 45 중량%; Al2O3 10 내지 25 중량%; ZnO 10 내지 25 중량%; BaO 0.1 내지 15 중량%; SrO 0.01 내지 10 중량%; MgO 0.01 내지 5 중량%; CaO 0.1 내지 5 중량%; Li2O 0.1 내지 10 중량%; Na2O 0.1 내지 15 중량%; 및, CeO2, CuO, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 산화물 0.01 내지 4 중량%를 포함한다.
상기 주성분에 있어서, SiO2는 사면체 구조를 가지는 대표적인 유리 안정제로서 황변 현상을 억제하는 역할을 한다. 상기 SiO2의 함량은 무연 유전체 분말 조성물 총 중량에 대하여 5 내지 15 중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 8 내지 12 중량%로 포함된다.　　 상기 SiO2의 함량이 5 중량% 미만이면 상기 유리 조성물의 유리전이점 및 연화점이 낮아질 우려가 있어 바람직하지 않고, 15 중량%를 초과하면 유리 조성물의 유리전이점 및 연화점이 높아져 500 내지 600℃ 사이의 온도에서 소성이 불가능하여 바람직하지 않다.
상기 B2O3는 대표적인 유리 형성제로서, 저융점화 및 저굴절률화에 유효한 역할을 한다.　 상기 B2O3의 함량은 무연 유전체 분말 조성물 총 중량에 대하여 30 내지 45 중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 35 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.　 상기 B2O3의 함량이 30 중량% 미만이면 유리 형성제가 부족하여 결정화가 발생할 우려가 있으며, 45 중량%를 초과하면 유리의 화학적 내구성이 저하될 우려가 있어 바람직하지 않다.
또한 상기 Al2O3는 유리의 내수성, 내화학성 및 내구성을 향상시키는 역할을 하는 성분으로, 무연 유전체 분말 조성물 총 중량에 대하여 10 내지 25 중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15 내지 20 중량%로 포함될 수 있다.　　 상기 Al2O3의 함량이 10 중량% 미만이면 내수성 및 내화학성 향상 효과가 감소할 우려가 있고, 25 중량%를 초과하면 유리의 용융 온도의 증가와 전이점 및 연화점이 상승하여 소성이 어려운 문제점이 있다.
이 때, 상술한 SiO2, B2O3, 및 Al2O3는 1:3:1 내지 1:7:4의 중량비로 혼합하는 것이 바람직하다. 상기 SiO2, B2O3, 및 Al2O3가 상기 범위 내에 혼합되는 경우 하 유전체층에 적합한 내에칭성을 가질 수 있다.
상기 ZnO는 연화점 및 선팽창 계수를 조절하는 성분으로서, 그 함량은 10 내 지 25 중량%가 바람직하고, 15 내지 25 중량%가 더욱 바람직하다. 상기 ZnO의 함량이 15 중량% 미만이면 연화점 상승으로 소성상 문제가 있고, 25 중량%를 초과하는 경우에는 내화학성이 감소하여 에칭액에 노출되었을 시 유전체층이 손상되어 바람직하지 않다.
상기 BaO는 분상을 억제하고 열팽창 계수를 증가시키는 역할을 하는 성분으로서, 그 함량은 무연 유전체 분말 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 15 중량%가 바람직하고, 2 내지 6 중량%가 더욱 바람직하다.　 상기 BaO의 함량이 0.1 중량% 미만이면 열팽창 계수가 저하되고, 연화점이 상승되며, 15 중량%를 초과하면 열팽창 계수가 90 이상으로 상승되고, 투과율이 저하되어 바람직하지 않다.
상기 SrO는 분상을 억제하고 열팽창 계수를 증가시키는 역할을 하는 성분으로서, 그 함량은 무연 유전체 분말 조성물 총 중량에 대하여 0.01 내지 10 중량%가 바람직하고, 2 내지 6 중량%가 더욱 바람직하다.　 상기 SrO의 함량이 0.01 중량% 미만이면 열팽창계수가 너무 저하되어 바람직하지 않고, 10 중량%를 초과하면 열팽창계수가 너무 높아 바람직하지 않다.
상기 MgO는 내화학적 특성을 향상시키는 역할을 하는 성분으로서, 그 함량은 무연 유전체 분말 조성물 총 중량에 대하여 0.01 내지 5 중량%가 바람직하다.　 상기 MgO의 함량이 0.01 중량% 미만이면 내화학성이 저하되어 바람직하지 않고, 5 중량%를 초과하는 경우 유전체 분말의 연화점이 상승되어 바람직하지 않다.
상기 CaO는 열팽창 계수 조절 역할을 하는 성분으로서, 그 함량은 무연 유전체 분말 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 5 중량%가 바람직하다.　 상기 CaO의 함 량이 0.1 중량% 미만이면 열팽창계수가 낮아 바람직하지 않고, 5 중량%를 초과하면 제조되는 유전체 분말이 취약하며, 투과율이 저하되어 바람직하지 않다.
상기 Li2O은 연화점을 조절하는 성분으로서, 그 함량은 무연 유전체 분말 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 10 중량%가 바람직하다.　 상기 Li2O의 함량이 0.1 중량% 미만이면 유전체 분말의 연화점이 높아 바람직하지 않고, 10 중량%를 초과하면 유전체의 연화점은 저하되나 전극과의 반응이 일어나기 쉬워 바람직하지 않다.
상기 Na2O은 연화점을 조절하는 성분으로서, 그 함량은 무연 유전체 분말 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 15 중량%가 바람직하다.　 상기 Na2O의 함량이 0.1 중량% 미만이면 유전체의 연화점이 높아져서 바람직하지 않고, 15 중량%를 초과하면 유전체의 연화점은 저하되나 전극과의 반응이 일어나기 쉬워 바람직하지 않다.
상기 CeO2, CuO, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 산화물은 어드레스 전극으로 사용되는 Ag 이온이 유전체층으로 이동하게 되는 현상(migration)을 억제하는 역할을 하며, 그 함량은 무연 유전체 분말 조성물 총 중량에 대하여 각각 0.01 내지 4 중량%가 바람직하다. 상기 산화물의 함량이 상기 범위 내에 있는 경우 황변 현상을 방지하고, 유전체 조성물의 물성이 향상되어 바람직하다.　 이때, CeO2 및 CuO를 혼합하여 사용하는 경우, 그 혼합 비율은 사용 용도에 따라 적절하게 조절하면 되며, 특별히 한정할 필요는 없다.
앞서 설명한 바와 같은 구성을 갖는 무연 유전체 분말 조성물은 70 내지 100%의 내에칭율을 가지는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 80 내지 100%의 내에칭율을 갖는 것이다.　 상기 내에칭율이 70% 미만인 경우에는 유전체 자체의 물성이 저하되고, 특히 하 유전체층에 사용될 경우 과도하게 에칭이 되어 기판 위의 어드레스 전극이 노출되는 문제점이 있어 바람직하지 않다.
또한, 상기 무연 유전체 분말 조성물은 400 내지 480℃의 전이점을 가지는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 420 내지 480℃이다.　 상기 전이점이 400 내지 480℃의 범위인 경우 소성 공정 시 소성 치밀도가 향상되며, 유전체의 미세구조 및 두께가 균일해지는 효과가 있다.　 또한, 상기 무연 유전체 분말 조성물은 450 내지 550℃의 연화점을 가지는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 460 내지 530℃이다.　 상기 연화점이 450℃ 미만인 경우에는 결정화가 700℃ 미만에서 발생하여 바람직하지 않고, 550℃를 초과하는 경우에는 소성 온도를 더 높이면 PDP용 유리기판의 가용 범위 온도를 넘어서서 PDP용 유리기판 기판 자체의 변형이 일어나서 바람직하지 않다.
또한, 상기 무연 유전체 분말 조성물은 열팽창 계수(coefficient of thermal expansion)가 60×10-7/℃ 내지 90×10-7/℃인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 65×10-7/℃ 내지 80×10-7/℃이다.　 상기 열팽창 계수가 상기 범위를 벗어나는 경우에는 PDP용 유리기판과 유전체층 간의 열팽창계수 차이에 의하여 PDP용 유리기판의 휨 현상이 발생하여 PDP 제조 공정 시 진공을 잡을 수 없어 바람직하지 않다.
또한, 상기 무연 유전체 분말 조성물은 5 내지 11의 유전상수를 갖는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 7 내지 10이다.　 상기 유전상수가 5 미만인 경우에는 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층을 형성하는 공정 중 소성시의 두께가 낮아져서 바람직하지 않고, 11을 초과하는 경우에는 투과율 저하 및 원료비가 증가하여 바람직하지 않다.
본 발명의 무연 유전체 분말 조성물을 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층을 제조하는데 사용하기 위해서는 페이스트를 제조하여야 한다. 이러한 페이스트 제조시 상술한 무연 유전체 분말 조성물에 ZnO, Al2O3, TiO2, 코디어라이트(cordierite) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 유리 필러(glass filler)를 더 첨가할 수 있다.　 특히, 하 유전체층을 형성하기 위하여 상기 필러를 사용할 경우 반사율 및 백색도를 향상시킬 수 있다.
상기 필러에 있어서, 상기 ZnO는 유전체 분말과 TiO2 간의 윤활제 역할을하는 성분으로서, 유전체 분말의 페이스트 제조 시 유전체 분말과 TiO2 간의 분산성을 향상시킨다.　 상기 ZnO는 무연 유전체 분말 조성물 100 중량부에 대하여 0.1 내지 5 중량부로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 3 중량부로 포함될 수 있다.　 상기 ZnO의 함량이 상기 범위 내에 있는 경우 결정화가 발생하는 것을 방지하고 유전체 분말과 TiO2 간의 분산성을 향상시켜 바람직하다.
상기 Al2O3는 강도를 향상시키고, 소성온도를 증가시키는 역할을 하는 성분으로, 무연 유전체 분말 조성물 100 중량부에 대하여 0.1 내지 10 중량부로 포함되 는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 5 중량부로 포함될 수 있다.　 상기 Al2O3이 0.1 내지 10 중량부의 함량으로 포함되는 경우 유전체의 강도를 증가시키는 효과를 얻을 수 있다.
상기 TiO2는 백색도와 반사율을 증가시키는 성분으로 무연 유전체 분말 조성물 100 중량부에 대하여 0.1 내지 20 중량부의 함량으로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직한 것은 8 내지 15 중량부로 포함된다.　 상기 TiO2가 상기 함량 범위 내에서 하 유전체층에 사용될 경우 하 유전체층의 백색도 및 반사율이 향상되는 장점이 있다.
상기 코디어라이트는 유전체 분말의 수축률을 감소시키는 성분으로 무연 유전체 분말 조성물 100 중량부에 대하여 0.1 내지 10 중량부의 함량으로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직한 것은 0.1 내지 5 중량부로 포함된다.
상기 페이스트를 제조하는 공정은 다음과 같다.
먼저, 무연 유전체 분말 조성물을 구성하는 모든 성분을 원하는 비율대로 혼합한다.　 얻어진 혼합물을 1200 내지 1400℃의 용융로에서 1 내지 2시간 동안 용융하여 무연 유전체 분말 조성물 전구체를 제조한다.　 상기 무연 유전체 분말 조성물 전구체를 냉각한 후, 제1차 분쇄 공정을 실시하여 평균 입경이 30 내지 60㎛를 갖는 유전체 분말 조성물을 제조한다.　 상기 제1차 분쇄 공정을 거친 유전체 분말 조성물에 제2차 분쇄 공정을 실시하여 평균 입경이 2 내지 4㎛를 갖는 유전체 분말 조성물을 제조한다.　 상기 냉각 공정은 건식 냉각으로 실시할 수 있으며, 제1차 분 쇄 공정은 볼밀(ball mill), 디스크밀 등의 분쇄장비를 이용하여 실시할 수 있고, 제2차 분쇄공정은 파인밀 (fine mill), 비드밀(bead mill), 어트리션밀(attrition mill), 제트밀(jet mill) 등의 분쇄장비를 이용하여 실시할 수 있다.
상기 제2차 분쇄 공정을 거친 유전체 분말 조성물과 비히클을 혼합하여 유전체 페이스트를 제조한다. 이때, 하 유전체층에 사용할 경우 선택적으로 필러를 더 첨가할 수 있다.　 상기 필러는 전술한 바와 동일하다.
상기 유전체 분말 조성물과 비히클의 혼합비율은 6:4 내지 8:2 중량비가 바람직하다.　 상기 유전제 분말 조성물과 비히클이 6:4 내지 8:2 중량비로 혼합되어 제조되는 경우 유전체를 소성 시 바인더가 제거되는 공정인 번아웃(burn-out)이 용이하게 일어난다는 장점을 갖는다.
이러한 비히클로는 용매 및 바인더가 주로 사용된다.　 용매로는 에틸 카비톨, 부틸 카비톨, 에틸 카비톨 아세테이트, 부틸 카비톨 아세테이트, 텍사놀, 테르핀유, 디프로필렌글리콜 메틸 에테르, 디프로필렌글리콜 에틸 에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, γ-부티로락톤, 셀로솔브 아세테이트, 부틸셀로솔브 아세테이트, 트리프로필렌 글리콜, α-터피네올 등을 1종 또는 1종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 바인더로는 셀룰로오즈, 히드록시 메틸 셀룰로오즈, 히드록시 에틸 셀룰로오즈, 카르복시 메틸 셀룰로오즈, 카르복시 에틸 셀룰로오즈, 카르복시 에틸 메틸 셀룰로오드 등의 셀룰로오즈 유도체를 1종 또는 1종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.　
상기 제조된 유전체 페이스트는 어드레스 전극을 덮는 유전체층 및/또는 표시(버스)전극을 덮은 유전체층을 형성하는 데 사용될 수 있으며, 특히 어드레스 전극을 덮는 하 유전체층에 본 발명의 무연 유전체 분말 조성물이 포함되는 경우, 본 발명의 유전체 분말은 내에칭성, 내산성 및 내알칼리성 등의 내화학적으로 우수한 물리적 특성을 가져 격벽 형성시 에칭액과 박리액 등의 혹독한 환경을 견딜 수 있으므로 보다 우수한 플라즈마 디스플레이 패널을 제조할 수 있다.
이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다.　 그러나 하기한 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐 본 발명이 하기한 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1, 2 및 4] 무연 유전체 분말 조성물의 제조
무연 유전체 분말 조성물(SiO2, B2O3, Al2O3, ZnO, BaO, SrO, MgO, CaO, Li2O, Na2O, CeO2, 및 CuO)의 각 성분을 하기 표 1에 나타낸 함량으로 측정하여 혼합한 후, 1300℃의 온도에서 1시간 동안 용융한 후 건식 냉각하여 유전체 분말 조성물 전구체를 컬렛(cullet) 상태로 제조하였다.　 상기 컬렛 상태로 제조된 유전체 분말 조성물 전구체를 볼밀로 건식 밀링하여 50 ㎛의 평균 입경을 갖도록 제1차 분쇄 공정을 실시하였다. 상기 1차 분쇄 공정을 거친 후 제트밀로 제2차 분쇄 공정을 실시하여 2.7 ㎛의 평균 입경을 갖는 유전체 분말 조성물을 제조하였다. 이 때, 실시예 1, 2 및 4에 따른 SiO2, B2O3, 및 Al2O3의 중량비는 각각 1:6.9:3.3(실시예 1), 1:3.2:1.3(실시예 2) 및 1:3:1.2(실시예 4)이였다.
[비교예 1 내지 5] 유전체 분말 조성물의 제조
유전체 분말 조성물(SiO2, B2O3, Al2O3, BaO, SrO, ZnO, MgO, CaO, Li2O, Na2O, TiO2, PbO)의 각 성분을 하기 표 1에 나타낸 함량으로 측정하여 혼합한 후, 백금 도가니에 넣고 전기로에서 1300℃의 온도에서 1시간 동안 용융한 후 건식 냉각하여 유전체 분말 조성물 전구체를 컬렛(cullet) 상태로 제조하였다. 컬렛 상태로 제조된 유전체 분말 조성물 전구체를 볼밀로 건식 밀링하여 미쇄하게 분쇄하였다. 이때 유전체 분말 조성물의 평균 입경은 2.7㎛가 되도록 하였다.
(단위: 중량%)
성　 분 SiO2 B2O3 Al2O3 ZnO BaO SrO MgO CaO Li2O Na2O CeO2 CuO P2O5
실시예 1 6 41.19 20 18 1.5 0.01 1 3 0.1 8.5 0.2 0.5 0
실시예 2 12 37.78 15 22 0.01 0.01 2 3 7 0.1 0.1 1 0
실시예 4 12 35 14 14 4 2 3 3 7 4 1 1 0
비교예 1 0 25 0 48 14 0 0 0 3 0 0 0.5 9.5
비교예 2 6 36 18 18 2 1 1 1 15 0 0 1 1
성　 분 SiO2 B2O3 Al2O3 ZnO BaO SrO MgO CaO Li2O Na2O TiO2 PbO P2O5
비교예 3 21 31 23 2 4 0 6 4 7 2 0 0 0
비교예 4 24 21 20 6 5 5 5 5 5 2 2 0 0
비교예 5 46 11 5 0 0 0 0 0 0 0 0 38 0
[내에칭성 테스트]
상기 실시예 1, 2 및 4와 비교예 1 내지 5에서 제조된 유전체 분말 조성물과 부틸 카비톨 아세테이트 20g, 셀룰로오즈 10g을 혼합하여 제조된 비히클을 7:3 중량비로 혼합하여 상기 유전체 분말 페이스트를 제조하였다.　 상기 제조된 페이스트를 어드레스 전극이 형성된 PDP용 유리기판 상부에 스크린 프린팅법을 사용하여 도포 후, 550 내지 580℃의 온도 구간에서 소성하여 유전체층을 형성하였다.
또한, 상기 비히클에 에칭용 격벽 파우더((주)휘닉스PDE, PLB1128)를 3:7 중량비로 혼합하여 격벽 형성용 조성물을 제조하였다. 상기 제조된 격벽 형성용 조성물을 상기 유전체층 상부에 스크린 프린팅법을 사용하여 도포 후, 500℃에서 소성하여 격벽층을 형성하였다.　 상기 형성된 격벽층의 상부에 드라이 필름 레지스트(dry film resister: DFR)를 라미네이팅한 후, DI(direct imaging) 노광기를 이용하여 10mJ 노광하였다.　 이후, 6 wt% NaOH 수용액을 이용하여 현상하고 건조하여 스트라이트 패턴으로 패터닝하였다.
상기 패턴된 격벽층을 0.2 wt% HNO3 수용액이 들어있는 에칭기에서 에칭하여 격벽층의 하부에 위치한 유전체층의 내에칭성을 각각 테스트하였다. 이 때 에칭공정은 15분 동안 2 bar의 압력 하에 실시하였다. 상기 실시예 1, 2 및 4와 비교예 1 내지 5 중 실시예 1, 2 및 4와 비교예 1, 2, 5의 결과를 도 2a 내지 2d와 도 3a 내지 3c에 각각 나타내었다.
도 2a 내지 2d에서 보는 바와 같이 실시예 1, 2 및 4에 따른 유전체층은 에칭 후에도 에칭 전과 같아 아무런 손상이 나타나질 않았음을 알 수 있으나, 도 3a 내지 3b에서 보는 바와 같이 비교예 1 내지 2에 따른 유전체층은 에칭 후 심하게 손상되었음을 알 수 있다.　 또한, 도 3에 나타낸 바와 같이 비교예 5에 따른 유전체층은 실시예 1, 2 및 4와 같이 에칭 후에도 손상이 나타나질 않았으나, 비교예 5는 PbO를 포함하는 유연 유전체 분말로서, 실시예 1, 2 및 4의 무연 유전체 분말 조성물은 PbO를 포함하지 않아도 유연 유전체 분말과 대등한 내에칭성 효과를 얻을 수 있음을 알 수 있다.
또한, 상기 패턴된 격벽층을 0.2 wt% HNO3 수용액이 들어있는 에칭기에서 일정시간 에칭한 후, 초기 소성되어 형성된 유전체층의 두께와 에칭한 후 유전체층의 두께 차이를 백분율로 계산하여 내에칭율(%)을 계산하였다. 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
[물성 측정]
본 발명의 실시예 1, 2 및 4와 비교예 1 내지 5에 따라 제조된 유전체층에 대하여 다음과 같은 방법으로 전이점, 연화점, 열팽창 계수, 유전상수 및 결정화 유무를 측정하여 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
1) 전이점(Tg) 측정 조건(단위: ℃)
- 측정 장치: 열기계 분석(Thermal Mechanical Analysis; TMA), 910-TMA(TA-instrument 사)
- 측정 방법: 상기 실시예 1, 2 및 4와 비교예 1 내지 3, 5에 따라 제조된 유전체를 7mm x 10mm의 원통형 벌크 시편의 형태로 성형 후, TMA 측정기로 5℃/min의 승온 속도로 510℃까지 온도를 증가시키면서 전이가 일어나는 온도를 측정하였다.　
2) 연화점(Ts) 측정 조건(단위: ℃)
- 측정 장치: 시차주사열량계(differential scanning calorimetetry ; DSC), 910-DSC(TA-instrument 사)
- 측정 방법: 상기 실시예 1, 2 및 4와 비교예 1 내지 3, 5에 따라 제조된 유전체 분말을 30mg 칭량하여 DSC용 셀인 알루미늄 셀에 넣고, 10℃/min의 승온 속도로 580℃까지 온도를 증가시키면서 연화(고상에서 액상으로 넘어가는 시점)가 일어나는 온도를 측정하였다.
3) 열팽창 계수 측정 조건(단위: ×10-7/℃)
- 측정 장치: 열기계 분석(thermal mechanical analysis; TMA), 910-TMA(TA-instrument 사)
- 측정 방법: 상기 실시예 1, 2 및 4와 비교예 1 내지 3, 5에 따라 제조된 유전체 분말을 적정 형태로 성형 후, 5℃/min의 승온 속도로 510℃까지 온도를 증가시키면서 50℃와 350℃ 사이의 온도 구간에서 성형된 유전체 분말이 팽창되는 정도를 측정하였다. 측정된 그래프에서 열팽창 계수를 산출하였다.
4) 유전상수 측정 조건
- 시편 제조: 상기 실시예 1, 2 및 4와 비교예 1 내지 3, 5에 따라 제조된 분쇄된 유전체 분말에 1MHz 압력을 가하여 성형한 후 550 내지 580℃에서 소성하고, 소성된 시료의 상하면을 매끄럽게 연마하여 시편을 제조하였다.
- 측정 장치: LCR Meter
- 측정 방법: 제조된 시편의 상하면에 Au 스퍼터링 코팅하여 Cp값을 측정한 후 유전상수 값을 계산하였다.
5) 결정화 측정 조건
- 측정 장치: 열중량 분석(thermal Gravity analysis; TGA), 910-TMA(TA-instrument 사)
- 측정 방법: 상기 실시예 1, 2 및 4와 비교예 1 내지 3, 5에 따라 제조된 유전체 분말을 5℃/min의 승온 속도로 750℃까지 온도를 증가시켜 700℃ 이하에서 결정화가 일어나면 불량, 700℃ 이상에서 결정화가 일어나면 양호로 판정하여 기록하였다.
이러한 물성 측정을 통하여 얻은 결과를 하기 표 2에 기재하였다.
실시예 1 실시예 2 실시예 4 비교예 1 비교예 2 비교예 3 비교예 5
내에칭율(%) 90 90 90 20 60 90 90
전이점 475 464 473 461 410 495 430
연화점 524 506 520 505 447 536 470
열팽창 계수 75 74 78 79 83 78 72
유전상수 7 7.2 7 9.5 7.5 8 13
결정화 양호 양호 양호 양호 불량 양호 양호
상기 표 2에 나타낸 바와 같이 비교예 1 및 2는 내에칭율이 20% 또는 60%이나, 실시예 1, 2 및 4와 비교예 3은 내에칭성이 모두 90%로 격벽의 제조 공정상의 혹독한 환경을 견딜 수 있는 내에칭성을 가짐을 알 수 있다.　
또한, 비교예 5는 실시예 1, 2 및 4와 같이 내에칭성이 90%이나, 유전상수가 13을 나타내어 실시예 1, 2 및 4에 비하여 매우 높은 유전상수 값을 가짐에 따라 전력 소비량이 증가하는 문제가 발생할 수 있음을 알 수 있다. 또한, 비교예 5는 PbO를 포함하는 유연 유전체 분말로서, 실시예 1, 2 및 4의 무연 유전체 분말 조성물은 PbO를 포함하지 않아도 유연 유전체 분말과 대등한 내에칭성 효과를 얻을 수 있음을 알 수 있다.
이로부터 실시예 1, 2 및 4에 따른 무연 유전체 분말 조성물은 우수한 내에칭성을 가져 격벽 형성 시 유전체층의 손상을 방지할 수 있으나, 비교예 1에 따른 유전체 분말을 사용한 유전체층은 20%의 내에칭율을 가지므로 격벽 형성 시 유전체층이 손상을 입어 유전체로 사용할 수 없고, 비교예 2는 60%의 내에칭율을 가질 뿐만 아니라 결정화가 불량하여 플라즈마 디스플레이 패널에 부적합함을 알 수 있다.
또한, 실시예 1, 2 및 4의 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 유전체 분말 조성물은 결정화가 일어나지 않음을 알 수 있어, 500 내지 600℃의 소성온도에서 무연 유전체 분말 조성물의 소성이 가능함을 보여준다.　 이로부터 실시예 1, 2 및 4에 따른 무연 유전체 분말 조성물은 플라즈마 디스플레이 패널에 적합한 물성인 전이점, 연화점, 열팽창 계수, 유전상수 및 결정화를 가짐을 알 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예 1, 2 및 4에 따른 무연 유전체 분말 조성물은 비교예 5의 데이터와 비교해 보면 Pb 및 Bi의 성분을 가지는 유연 유전체 분말 수준과 대등한 물성을 유지하면서 인체 및 환경에 무해한 효과를 가짐을 알 수 있다.
[실시예 5, 6 및 8과 비교예 6 내지 8] 플라즈마 디스플레이 패널의 제조
상기 실시예 1, 2 및 4와 비교예 1 내지 3에서 제조된 유전체 분말 조성물과, 부틸 카비톨 아세테이트 20g, 셀룰로오즈 10g을 혼합하여 제조된 비히클을 6:4 중량비로 혼합하여 유전체 페이스트를 각각 제조한 후, 제조된 각각의 유전체 페이스트에 성분 1 내지 4의 필러 조성물 중 어느 한 조성물을 각각 혼합하였다. 성분 1 내지 4의 각 필러 조성물은 필러(ZnO, Al2O3, TiO2)의 성분을 하기 표 3에 나타낸 함량으로 각각 계량하여 혼합하였다.　 이때, 표 3에 기재된 각 필러 성분의 함량은 상기 실시예 1, 2 및 4와 비교예 1 내지 3에서 제조된 유전체 분말 조성물 100 중량부에 대한 함량을 나타낸 것이다.
구체적으로, 실시예 5는 실시예 1에서 제조된 유전체 분말 조성물과 하기 표 3의 성분 1의 필러 조성물을 혼합한 것이고, 실시예 6은 실시예 2에서 제조된 유전체 분말 조성물과 하기 표 3의 성분 2의 필러 조성물을 혼합한 것이고, 실시예 8은 실시예 4에서 제조된 유전체 분말 조성물과 하기 표 3의 성분 4의 필러 조성물을 혼합한 것이다. 또한 비교예 6은 비교예 1에서 제조된 유전체 분말 조성물과 하기 표 3의 성분 1의 필러 조성물을 혼합한 것이고, 비교예 7은 비교예 2에서 제조된 유전체 분말 조성물과 하기 표 3의 성분 1의 필러 조성물을 혼합한 것이고, 비교예 8은 비교예 3에서 제조된 유전체 분말 조성물과 하기 표 3의 성분 1의 필러 조성물을 혼합한 것이다.
삭제
상기 제조된 유전체 페이스트를 어드레스 전극이 형성된 제1 기판인 PDP용 유리기판 상부에 스크린 프린팅법을 사용하여 도포 후, 550 내지 580℃의 온도 구간에서 소성하여 유전체층을 형성하였다.
또한, 상기 비히클에 에칭용 격벽 파우더((주)휘닉스PDE, PLB1128)를 3:7 중량비로 혼합하여 격벽 형성용 조성물을 제조하였다. 상기 제조된 격벽 형성용 조성물을 상기 유전체층 상부에 스크린 프린팅법을 사용하여 도포 후, 550 내지 580℃의 온도 구간에서 소성하여 격벽층을 형성하였다.
상기 형성된 격벽층 상에 드라이 필름 레지스트(dry film resister: DFR)를 라미네이팅한 후, 노광 DI(direct imaging) 노광기를 이용하여 10mJ 노광하였다.　 이후 6 wt% NaOH 수용액을 이용하여 현상하고 건조하여 스트라이프 패턴으로 패터닝하였다.
패턴된 DFR이 형성된 상부 격벽층 형성용 필름과 하부 격벽층 형성용 필름의 적층체에 압력 5kgf/㎠, 유량 1ml/sec로 약 8분간 스프레이 노즐을 통해 톨루엔을 분사시켜 격벽 형상으로 식각한 뒤 550 내지 580℃의 온도 구간에서 1시간 동안 소성하여 격벽을 제조하였다.　이후 방전 공간 내의 공기를 배기한 후 400Torr의 조건으로 방전가스를 주입하여 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하였다.
(단위: 중량부)
성　 분 ZnO Al2O3 TiO2 코디어라이트
1 0.5 0.5 8 0.1
2 1 1 15 1
3 1 1 12 2
4 1 1 10 2
[황변현상 측정]
상기 실시예 5, 6 및 8과 비교예 6 내지 8에 따라 제조된 유전체층의 변색 유무를 육안으로 관찰하였다.　그 결과를 하기 표 4에 나타내었다.
실시예 5 실시예 6 실시예 8 비교예 6 비교예 7 비교예 8
황변현상 무 무 무 무 유 유
상기 표 4에서 보는 바와 같이, 실시예 5, 6 및 8의 유전체층은 소성 후에도 유전체가 노란색을 띄는 황변 현상이 발생하지 않았음을 알 수 있다.　 또한, 비교예 1에 따른 유전체 분말 조성물을 사용한 비교예 6의 경우 황변현상이 나타나지 않았으나, 상기 표 2에서 보는 바와 같이 비교예 1의 내에칭성이 플라즈마 디스플레이 패널에 부적합한 결과를 보이며, Li2O의 함량의 많은 비교예 2에 따른 유전체 분말 조성물을 사용한 비교예 7의 경우 황변현상이 발생하였고 CuO나 CeO를 포함하지 않은 비교예 3에 따른 유전체 분말 조성물을 사용한 비교예 8의 경우도 황변현상이 발생하였다.
이로부터 본 실시예 1, 2 및 4의 유전체 분말 조성물을 플라즈마 디스플레이 패널에 적용하는 경우 황변현상을 방지하여 플라즈마 디스플레이 패널의 수명을 향상시키는 효과를 가질 뿐만 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널에 적합한 내에칭성 및 물성(전이점, 연화점, 열팽창 계수, 유전상수 및 결정화 온도)을 가짐을 알 수 있다. 이에 대하여 비교예 1은 내에칭율(20%)이 매우 낮고 유전상수(9.5)가 높으며, 비교예 2는 내에칭율(60%)이 매우 낮고 결정화가 불량하며, 황변현상이 발생하는 문제점이 있으며, 비교예 3은 내에칭율(90%)은 높으나, 전이점(495℃)이 높고 황변현상이 발생하며 비교예 5는 내에칭율(90%)은 높으나, 유전상수(13)가 매우 높아 전력소비량이 증가하는 문제점 및 PbO를 포함하여 환경 및 인체에 유해한 문제점이 있다.
본 발명의 단순한 변형 또는 변경은 모두 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.
　
도 1은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 일 예를 모식적으로 나타낸 부분 분해 사시도이다.
도 2a, 2b 및 2d는 본 발명의 실시예 1, 2 및 4에 따라 제조된 무연 유전체 분말 조성물을 사용하여 제조된 유전체층을 각각 내에칭 테스트한 후, 이미지 현미경을 이용하여 측정한 사진이다.
도 3a 내지 도 3c는 비교예 1 내지 2 및 비교예 5에 따라 제조된 유전체 분말을 사용하여 제조된 유전체층을 각각 내에칭 테스트한 후, 이미지 현미경을 이용하여 측정한 사진이다.

Claims (10)

  1. SiO2 5 내지 15 중량%;
    B2O3 30 내지 45 중량%;
    Al2O3 10 내지 25 중량%;
    ZnO 10 내지 25 중량%;
    BaO 0.1 내지 15 중량%;
    SrO 0.01 내지 10 중량%;
    MgO 0.01 내지 5 중량%;　
    CaO 0.1 내지 5 중량%;
    Li2O 0.1 내지 10 중량%;
    Na2O 0.1 내지 15중량%; 및
    CeO2, CuO 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 산화물 0.01 내지 4 중량%를 포함하고,
    70 내지 100%의 내에칭율을 갖는 것인 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 SiO2, B2O3, 및 Al2O3는 1:3:1 내지 1:7:4의 중량비로 혼합하는 것인 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 유전체 분말은 60×10-7/℃ 내지 90×10-7/℃의 열팽창 계수를 갖는 것인 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물.
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 무연 유전체 분말 조성물은 400 내지 480℃의 전이점을 갖는 것인 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 무연 유전체 분말 조성물은 450 내지 550℃의 연화점을 갖는 것인 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 무연 유전체 분말 조성물은 플라즈마 디스플레이 패널용인 것인 디스플 레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 무연 유전체 분말 조성물은 어드레스 전극을 덮으며 형성되는 하 유전체층의 제조시 사용되는 것인 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 무연 유전체 분말 조성물은 ZnO, Al2O3, TiO2, 코디어라이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 필러를 더 포함하는 것인 디스플레이 장치용 무연 유전체 분말 조성물.
  10. 제1항 내지 제3항 및 제5항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 무연 유전체 분말 조성물을 포함하는 디스플레이 장치.
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