JP2007314376A - 電極被覆用ガラスおよびこれを用いたディスプレイ装置 - Google Patents

電極被覆用ガラスおよびこれを用いたディスプレイ装置 Download PDF

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Abstract

【課題】誘電体層やガラス基板の黄変を抑制することができる電極被覆用ガラスと前記電極被覆用ガラスを用いて黄変が無く、絶縁性に優れたディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】AgまたはCuの少なくとも1種からなる電極を被覆する電極被覆用ガラスであって、前記電極被覆用ガラスがSOを0.1〜5mol%含むことを特徴とする電極被覆用ガラスと、互いに直交する表示電極およびアドレス電極を有し、前記表示電極または前記アドレス電極がAgまたはCuの少なくとも1種からなるディスプレイ装置において、前記表示電極または前記アドレス電極が前記電極被覆用ガラスにより被覆されていることディスプレイ装置である。
【選択図】なし

Description

本発明は、電極被覆用ガラスおよびこれを用いたディスプレイ装置に関するものであり、特に、プラズマディスプレイパネルの電極を被覆する誘電体層用ガラスおよびプラズマディスプレイに関する。
近年、ディスプレイ装置の中でもプラズマディスプレイパネル(以下、PDPと記す)や液晶ディスプレイ(以下、LCDと記す)、電界放出ディスプレイ(以下、FEDと記す)などに代表されるフラットパネルディスプレイ(以下、FPDと記す)が、大型画面を有し、さらに薄型化、かつ軽量化を実現できる画像表示装置として注目されている。これらのFPDは、いずれも画像を表示させるための構成部材や各種要素がガラス基板上に形成されてなる前面ガラス基板(以下、前面板と記す)と背面ガラス基板(以下、背面板と記す)とを対向させて、両基板の外周を封着した構造をとる。
ここで、代表的なFPDの一例としてPDPについて説明する。
PDPは、前面板として、ガラス基板の表面上に複数対のストライプ状の表示電極が形成された後、その上に誘電体層、さらには保護層が形成された構造をとる。また、背面板に関しては、ガラス基板の表面上にストライプ状のアドレス電極が設けられ、その上に絶縁体層(または誘電体層)が形成され、さらに隣り合うアドレス電極同士の間に、画像を表示させる際の発光要素となる部位(=セル)を形成するための「しきり」となる隔壁が絶縁体層(または誘電体層)の上に形成した後、前記隔壁間および絶縁体層(または誘電体層)の上に蛍光体層が塗布されている。上記前面板と上記背面板とが、双方の電極が直交するように対向配置され、前面板または背面板の外縁が低融点ガラスを用いて封着されており、内部に形成される密閉空間に希ガスからなる放電ガスが封入されている。
なお、上記表示電極は2本で一対の構成をなし、その一対の表示電極と1本のアドレス電極とが、放電空間を挟んで立体的に交差する領域が画像表示に寄与するセルとなる。
以下、PDPの前面板における誘電体層について具体的に説明する。
PDPの誘電体層には、同層が表示電極上に形成されることから、高い絶縁性を有すること、画像表示の際の消費電力を抑えるために低い誘電率を有すること、PDP製造工程における焼成プロセスで基板や誘電体層にかかる熱応力ではがれやクラックが生じないようにするためにガラス基板との熱膨張係数がマッチングしていることなどが要求される。さらに前面板に形成される誘電体層は、蛍光体から発生した光を効率良くパネル前面に透過させ、表示光として利用するために、通常可視光透過率が高い非晶質性ガラスであることが求められる。
通常、誘電体層はガラス粉末、樹脂、溶剤、および場合によっては無機充填剤や無機顔料を含むガラスペーストをスクリーン印刷等の成膜方法を用いてガラス基板上に塗布し、乾燥及び焼成を行うことによって形成される。一方、PDPに使用されるガラス基板には、低価格や入手容易性の観点などからフロート法で作製されたソーダライムガラスが一般的に使用されている。そのため、誘電体層の形成は、ガラスペーストの焼成でガラス基板の変形が生じない600℃以下で行われている。
さらに、PDPに用いる誘電体層の形成においては、ガラス基板が変形しない温度で焼成を行わなければならないため、600℃以下の温度で加熱処理した際に、ガラスの軟化・流動が生じる、いわゆる低融点ガラスを用いる必要がある。そのため、現在は主として、PbOを主原料とするPbO−B−SiO系ガラスが使用されている。
その一方で、世界規模での環境問題への配慮から、鉛(Pb)を含まない誘電体層の開発が進められている。上述のように、現在、誘電体層用として使用されている鉛含有ガラスに替わる、鉛を含まない「無鉛系ガラス」が求められており、その開発が進んでいる。例えば、Bi−ZnO−B系ガラス(特許文献1)やBi−B系ガラス(特許文献2)、さらにはSnO−Bi-B系ガラス(特許文献3)などが挙げられる。
特開2003−128430号公報 特開2002−53342号公報 特開2001−48577号公報
上述のように、PDPにおける前面板用誘電体層の形成に使用可能な無鉛系ガラスに関しては従来から提案されているが、600℃以下での焼成によるガラスの軟化・流動を実現するためにはガラス中の鉛成分、具体的にはPbOに替えて、LiOやNaO、KOなどのアルカリ金属酸化物や酸化ビスマス(Bi)を添加する手段が取られている。しかしながら、これらのガラス系からなるガラスペーストを用いて誘電体層を形成した場合、誘電体層やガラス基板が黄色や褐色に変色する現象(以下、黄変と記す)が起こることがある。
この黄変が生じるメカニズムについては、次のように考えられる。
前面板用ガラス基板上に設けられる表示電極や背面板用ガラス基板上に設けられるアドレス電極には、AgやCuが用いられており、誘電体層の形成工程での焼成プロセスにおいて、AgやCuがイオン化して誘電体層やガラス基板の中に溶け出し、拡散する場合がある。この拡散したAgイオンやCuイオンは誘電体層中のアルカリ金属イオンやビスマスイオン、さらにはガラス基板表面や表示電極中に存在するSnイオン(2価、4価)によって還元されやすく、還元された場合にはAg原子やCu原子が凝集し、コロイドを形成する。このようにAgやCuがコロイド化した場合、ガラス基板が黄色や褐色を呈する、いわゆる黄変が生じる(例えばJ. E. Shelby and J. Vitko, Jr., Journal of Non-Crystalline Solids, Vol.50 (1982), P.107−P.117参照)。
このような黄変が発生したパネルでは波長400nmの光を吸収するためにPDPにおいては青色の輝度低下が起こったり、色度のずれが生じたりすることから、前面板製造プロセスにおいて黄変は特に問題となる。
また、AgやCuのコロイドは導電性を有するため、誘電体層自身の絶縁耐圧を低下させたり、可視光の波長よりも大きなコロイド粒子として析出するため、誘電体層を透過する光を反射してPDPの輝度を低下させたりする原因となる。
本発明は、上記課題に鑑み、誘電体層やガラス基板の黄変を抑制することができる電極被覆用ガラスを提供することを目的とする。さらに、上記電極被覆用ガラスを用いることで絶縁性に優れた誘電体層を備え、誘電体層やガラス基板の黄変を抑制するとともに絶縁破壊を抑制した高信頼性のディスプレイ装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の電極被覆用ガラスは、AgまたはCuの少なくとも1種からなる電極を被覆する電極被覆用ガラスであって、前記電極被覆用ガラスがSOを0.1〜5mol%含むことを特徴とする電極被覆用ガラスである。これによれば、電極に使用されるAgあるいはCuがイオン化し、誘電体層やガラス基板内に拡散しても、SOとAgイオンあるいはCuイオンとの間で安定な化合物が生成されるため、Ag原子あるいはCu原子が凝集してコロイド化することを抑制できる。これにより、AgあるいはCuのコロイド化に起因する誘電体層やガラス基板の黄変やそれに伴う絶縁破壊を抑制することができる。
また、本発明の電極被覆用ガラスはAgまたはCuの少なくとも1種からなる電極を被覆する電極被覆用ガラスであって、前記電極被覆用ガラスがSOと、MnO、Mn、Mnのうち少なくとも1種を含み、その合計が0.2〜10mol%であることを特徴とする電極被覆用ガラスである。これによれば、電極に使用されるAgあるいはCuがイオン化し、誘電体層やガラス基板内に拡散しても、SOおよびMnO、Mn、Mnのうち少なくとも1種とAgイオンあるいはCuイオンとの間で安定な化合物が生成されるため、Ag原子あるいはCu原子が凝集してコロイド化することを抑制できる。これにより、AgあるいはCuのコロイド化に起因する誘電体層やガラス基板の黄変やそれに伴う絶縁破壊を抑制できることができる。
さらに、本発明のディスプレイ装置は、互いに直交する表示電極およびアドレス電極を有し、前記表示電極または前記アドレス電極がAgまたはCuの少なくとも1種からなるディスプレイ装置であって、前記表示電極または前記アドレス電極がSOを0.1〜5mol%含む電極被覆用ガラスにより被覆されていることを特徴とするディスプレイ装置である。これによれば、表示電極およびアドレス電極に使用されるAgあるいはCuがイオン化し、誘電体層やガラス基板内に拡散しても、SOとAgイオンあるいはCuイオンとの間で安定な化合物が生成されるため、Ag原子あるいはCu原子が凝集してコロイド化することを抑制できることから、AgあるいはCuのコロイド化に起因する誘電体層やガラス基板の黄変やそれに伴う絶縁破壊を抑制できるディスプレイ装置を提供できる。
また、本発明のディスプレイ装置は、互いに直交する表示電極およびアドレス電極を有し、前記表示電極または前記アドレス電極がAgまたはCuの少なくとも1種からなるディスプレイ装置であって、前記表示電極または前記アドレス電極がSOと、MnO、Mn、Mnのうち少なくとも1種を含み、その合計が0.2〜10mol%である電極被覆用ガラスにより被覆されていることを特徴とするディスプレイ装置である。これによれば、表示電極およびアドレス電極に使用されるAgあるいはCuがイオン化し、誘電体層やガラス基板内に拡散しても、SOおよびMnO、Mn、Mnのうち少なくとも1種と安定な化合物が生成するため、Ag原子あるいはCu原子が凝集してコロイド化することを抑制できることから、AgあるいはCuのコロイド化に起因する誘電体層やガラス基板の黄変やそれに伴う絶縁破壊を抑制できるディスプレイ装置を提供できる。
本発明の電極被覆用ガラスによれば、誘電体層やガラス基板の黄変を抑制することができ、さらに、前記電極被覆用ガラスを用いることで絶縁性に優れた誘電体層を備えた、誘電体層やガラス基板の黄変を抑制するとともに絶縁破壊を抑制した高信頼性のディスプレイ装置を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の説明ではディスプレイ装置としてPDPを取り上げるが、本発明の一例であり、本発明はこれによって限定されるものではない。
(実施の形態1)
<プラズマディスプレイパネル>
図1は、本実施の形態1にかかるPDPの主要構成を示す部分的な断面斜視図である。また、図2は、図1を真横から見た場合の断面図である。上記PDPはAC面放電型であって、誘電体層を形成するガラス組成物の構成内容以外は従来例にかかるPDPと同様の構成である。
図1、図2に示すように、前面板1は前面ガラス基板2と、その内側面(放電空間14に臨む面)に形成された透明導電膜3およびバス電極4からなる表示電極5と、表示電極5を覆う誘電体層6と、酸化マグネシウムからなる誘電体保護層7とを備えている。この誘電体層6に上述したガラスからなる材料が使用されている。
また、背面板8は背面ガラス基板9と、その内面側(放電空間14に臨む面)に形成したアドレス電極10と、アドレス電極10を覆う絶縁体層11と、絶縁体層11の上面に設けられた隔壁12と、隔壁12同士の間に形成された蛍光体層13とから構成されている。上記蛍光体層13は、具体的には赤色蛍光体層13(R)、緑色蛍光体層13(G)および青色蛍光体層13(B)が順番に配列されて成る。
上記蛍光体層13を構成する蛍光体としては、例えば、下記に示すような材料を用いることができる。
青色蛍光体 BaMgAl1017:Eu
緑色蛍光体 ZnSiO:Mn
赤色蛍光体 Y:Eu
前面板1および背面板8は、表示電極5とアドレス電極10の各々の長手方向が互いに直交するように配置し、封着部材(図示せず)を用いて接合される。
放電空間には、He、Xe、Neなどの希ガス成分からなる放電ガス(封入ガス)が66.5〜79.8kPa(500〜600Torr)程度の圧力で封入されている。表示電極5は、ITOまたは酸化スズからなる透明導電膜3に、良好な導電性を確保するためAgまたはCr/Cu/Crからなるバス電極4が積層されて形成されている。
表示電極5とアドレス電極10は、それぞれ外部の駆動回路(図示せず)と接続され、駆動回路から印加される電圧によって放電空間14で放電が発生し、放電に伴って発生する短波長(波長147nm)の紫外線で蛍光体層13が励起されて可視光を発光する。
誘電体層6は、上記ガラス組成物をペースト化したものを塗布・焼成することによって形成することができる。より具体的には、ガラスペーストをスクリーン法を用いて、スクリーン印刷機、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ドクターブレードなどによって塗布し、焼成する方法が代表的である。ただし、それに限定されることなく、例えば上記ガラス組成物をシート化したものを貼り付けて焼成する方法でも形成できる。
誘電体層6の膜厚は、光透過性を確保するために50μm以下とすることが好ましい。
本発明におけるPDPによれば、誘電体層6にSO、またはSOと、MnO、Mn、Mnのうち少なくとも1種が含まれているため、バス電極4に含まれる金属(例えばAg、Cu)がイオン化し、誘電体層6中に拡散しても、金属コロイドの形成を抑制できることから、金属イオンのコロイド化に起因する誘電体層6や前面ガラス基板2の黄変やそれに伴う絶縁破壊を抑制できる。
また、黄変の問題については、鉛を含まないガラスを用いた場合やアルカリ金属酸化物を含むガラスを用いた場合で顕著に見られる傾向があるが、本発明におけるPDPによれば、鉛を含まずに、さらにアルカリ金属酸化物を含む場合においてもSO、またはSOとMnO、Mn、Mnのうち少なくとも1種を含むことで黄変を抑制した誘電体層を実現することができる。
なお、本発明を適用させることができるPDPとしては上記のような面放電型のものが代表的であるが、これに限定されるものではなく、対向放電型にも適用させることができる。
また、AC型に限定されるものではなく、DC型PDPであっても誘電体層を備えたものに対して適用させることができる。
<誘電体層のガラス組成>
本発明では、ディスプレイ装置においてAgまたはCuのうち少なくとも1種を含む電極を被覆した場合に、ガラス基板や誘電体層の黄変の発生を抑制できるガラス組成を見いだした点に特徴を有している。以下、本発明の電極被覆用ガラスをPDPの前面板の誘電体層に使用するガラスとして用いる場合について説明する。
本発明での電極被覆用ガラスは、SOを0.1〜5mol%含むことを特徴とする。これにより、表示電極に使用するAgやCuのコロイド化に起因するガラス基板や誘電体層の黄変、あるいは絶縁破壊を抑制することができる。
この理由については、電極がAgを含む場合を例として以下に述べる。
表示電極から発生したAgイオンがガラス中に存在し、拡散する際、誘電体層を形成するガラス層中の還元性を有する金属イオン、例えばBi5+イオンとの間で電子の授受が行われ、AgイオンがAgの形態になる。あるいは、低融点のB系ガラスでBO錯陰イオンやBO錯陰イオンが共存するため、Agイオンと上記錯陰イオン間で電子の授受が生じることが考えられる。
この電子の授受、すなわち酸化還元反応によりAgコロイドが発生するが、ガラス組成としてSOが存在する場合、ガラス中では6価のS6+イオンの形態をなし、このS6+イオンは酸化性が極めて強いイオン種であるため、拡散しているAgイオンのAgへの変化を抑制するものと考えられる。
同様に、電極がCuを含む場合においても、Cuイオンのコロイド化が抑制されると考えられる。
これらの効果を有せしめるには、ガラス中のSOの含有量が後述するように0.1mol%以上とすることが好ましい。一方で、SOの含有量が多くなるとS6+イオンの着色が顕著になるため、SOの含有量は誘電体の透過率を低下させないための範囲の5mol%以下とすることが好ましい。
また、MnO、Mn、Mnのいずれか1種以上がガラス成分である場合、ガラス中のMnイオンは一部もしくは全部が3価あるいは4価の陽イオンの形態で存在する。このガラス中においてAgイオンが拡散し、コロイド化した場合、3価あるいは4価のMnイオンがAgコロイドもしくはAg原子の電子を引き抜き、Mnイオン自身が2価あるいは3価に還元されることでAg原子をイオン化し、着色の原因となるAgコロイドを消滅させうる。
なお、MnO、Mn、Mnのような3価あるいは4価のMnイオンを有するマンガン酸化物のみをガラス中に存在させた場合とSOを共存させた場合を比べるとマンガン酸化物自身による着色を回避でき、誘電体層の透過率の損失を抑制しながら、黄変の低減効果を得ることができるため、より好ましい。
本発明の電極被覆用ガラスではSO、またはSOとMnO、Mn、Mnのいずれか1種以上を含むことを特徴としているが、本発明の効果が得られる限り、他のガラス成分として酸化性の高い酸化物を共存するように含有してもよい。上記他のガラス成分としては、例えば、ガラスの特性温度(ガラス転移点、屈服点、軟化点等)や熱膨張係数を調整できる成分、焼成プロセスにおいてガラスが結晶化すること無く安定となる成分、化学的耐久性の向上等のために添加する成分が挙げられ、具体的には、MoOやWO、CeO、SnO、Sb、Sbなどが挙げられる。上記他の成分の含有量の合計は、好ましくは7mol%以下、より好ましくは5mol%以下である。
本発明の電極被覆用ガラスをPDPの誘電体層に使用するガラスとして用いる場合、SO、またはSOとMnO、Mn、Mn以外のガラス成分として、
SiO:0〜15mol%
:10〜50mol%
ZnO:10〜55mol%
Al:0〜10mol%
Bi:0〜15mol%
MgO、CaO、SrO、BaOから選ばれる少なくとも1種:3〜25mol%
LiO、NaO、KOから選ばれる少なくとも1種:0〜8mol%
を含有することが好ましい。
これらの組成範囲の限定理由について以下に説明する。
SiOはガラスの安定化に効果があり、その含有量は15mol%以下である。SiOの含有量が15mol%を超えると軟化点が高くなり、所定の温度での焼成が困難となる。SiOの含有量は、より好ましくは10mol%以下である。さらに、焼成後の気泡の残留を低減するためには焼成時のガラス粘度を低くすることが好ましく、そのためには、SiOの含有量を5mol%以下とすることがより好ましい。
はPDPにおける誘電体層用ガラスの必須成分であり、その含有量は10〜50mol%である。Bの含有量が50mol%を超えるとガラスの耐久性が低下し、また熱膨張係数が小さくなると共に軟化点が高くなり、所定の温度での焼成が困難となる。また、その含有量が10mol%未満ではガラスが不安定になって失透し易くなる。Bの含有量のより好ましい範囲は20〜40mol%である。
ZnOはPDPにおける誘電体層用ガラスの主要成分の1つであり、ガラスを安定化させるのに効果がある。ZnOの含有量は10〜55mol%である。ZnOの含有量が55mol%を超えると、結晶化し易くなり、安定したガラスが得られなくなる。また、その含有量が10mol%未満の場合、軟化点が高くなり、所定の温度での焼成が困難になる。また、焼成後にガラスが失透しにくい安定したガラスを得るには、ZnOの含有量は25mol%以上であることがより好ましい。
Alはガラスの安定化に効果があり、その含有量は10mol%以下である。10mol%を超えるとガラスが失透する恐れがあり、また軟化点が高くなり、所定の温度での焼成が困難となる。焼成後に安定なガラスを得るには、Alの含有量は0.1mol%以上、5mol%以下であることがより好ましい。
BiはPDPにおける誘電体層用ガラスにおいて効果的な成分の1つであり、軟化点を下げ、熱膨張係数を上げる性質がある。その含有量は0〜15mol%である。Biの含有量が15mol%を超えると熱膨張係数が大きくなり過ぎ、相乗効果として誘電率も大きくなり、消費電力を上昇させてしまう。Biの含有量のより好ましい範囲は0〜7mol%である。
MgO、CaO、SrO、BaOのアルカリ土類金属酸化物は、耐水性の向上やガラスの分相の抑制、熱膨張係数の相対的な向上などの効果を有する。MgO、CaO、SrO、BaOのアルカリ土類金属酸化物の含有量の合計は3〜25mol%である。MgO、CaO、SrO、BaOのアルカリ土類金属酸化物の含有量の合計が25mol%を超えると失透する恐れがあり、また熱膨張係数が大きくなり過ぎる。また、それらの合計が3mol%未満の場合は、上記効果が得られにくくなる。
一般的に誘電体層の黄変を防止するためには、ガラス成分としてアルカリ金属酸化物を含有しないことが好ましいとされている。しかしながら、本発明では黄変を抑制するSO、またはSOと、MnO、Mn、Mnのうちいずれかを含有しているため、LiO、NaO、KOのアルカリ金属酸化物から選ばれる少なくとも1種を0〜8mol%の範囲内で含有することができる。上記アルカリ金属酸化物を含有させることで、軟化点を低下させ、諸物性を調整することができる。例えば、軟化点を低下させることができることから、同じ効果を有するBiの含有量を低減できる。これによって比誘電率を低下させることができる。ただし含有量が8mol%を超えると熱膨張係数が大きくなり、好ましくない。
このように、本発明の電極被覆用ガラスはPDPにおける誘電体層用ガラスに好適な材料として使用できる。
PDP用のガラス基板としては、フロート法で作製されて容易に入手できるソーダライムガラスやPDP用に開発された高歪点ガラスがあり、それらは通常、600℃までの耐熱性、75×10−7〜85×10−7/℃の熱膨脹係数を有している。
PDPの誘電体層は、ガラス基板にガラスペーストを塗布した後、焼成することによって形成される。そのため、誘電体層の焼成をガラス基板の軟化変形が起こらない600℃以下で行う必要がある。また、ガラス基板の反りや誘電体層の剥がれ、クラックを防止するためには、誘電体層を構成するガラス材料の熱膨脹係数をガラス基板の熱膨張係数より25×10−7/℃以下の範囲で小さくしておく必要がある。さらに誘電体層の誘電率が高い場合、電極に流れる電流が大きくなり、PDPの消費電力が大きくなるため、誘電体層には誘電率の低いものが好ましい。
このため、本発明の電極被覆用ガラスを用いてPDPの誘電体層を形成する場合、前述した範囲のガラス組成で、軟化点が600℃以下、熱膨脹係数が60×10−7〜85×10−7/℃、比誘電率が12以下となる無鉛ガラス組成物を用いるのが好ましい。さらに、歪みなどによる剥がれやクラックを抑制し、90%以上の歩留まりの達成を考慮すると、より好ましい熱膨張係数は65×10−7〜85×10−7/℃である。また、消費電力をさらに低減するためには比誘電率が10以下であることがより好ましい。
なお、誘電体層に含まれるガラスの量については、本発明の効果が得られる限り、特に限定はないが、例えば、70wt%以上であることが好ましい。
本発明の電極被覆用ガラスを用いてPDPの前面板の誘電体層を形成する場合、光学特性を損ねることなくガラス強度の向上や熱膨張係数の調整を行うために無機充填剤や無機顔料を添加してもよい。また、上記のガラスを用いてPDPの背面板上に形成した電極を被覆してもよい。この場合においても、反射特性などの光学特性を向上させると共にガラス強度の向上や熱膨張係数の調整を目的として、無機充填剤や無機顔料を添加してもよい。無機充填剤や無機顔料としては、たとえば、アルミナ、酸化チタン、ジルコニア、ジルコン、コーディエライト、石英などが挙げられる。
<ガラスペースト>
本発明の電極被覆用ガラスの粉末に印刷性を付与するための樹脂(バインダー)や溶剤などを添加することによって得られるガラスペーストを、ガラス基板と上記基板上に形成された電極を覆うように塗布、焼成することによって、電極を被覆する誘電体層を形成できる。この誘電体層の上には、電子ビーム蒸着法などを用いて所定の厚さの保護層が形成される。なお、保護層の形成は、電子ビーム蒸着法に限らず、スパッタ法やイオンプレーティング法で行ってもよい。
上記ガラスペーストは、上記本発明の電極被覆用ガラス粉末と、溶剤と、樹脂(バインダー)以外の成分を含んでもよく、例えば、界面活性剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、染料等、種々の目的に応じた添加剤を含んでもよい。
ガラスペーストに含まれる樹脂(バインダー)は、低融点のガラス粉末との反応性が低いものであればよい。たとえば、化学的安定性、コスト、安全性などの観点から、ニトロセルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等のセルロース誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリエチレングリコール、カーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂等が望ましい。
ガラスペースト中の溶剤は、低融点のガラス粉末との反応性が低いものであればよい。たとえば、化学的安定性、コスト、安全性などの観点、および、バインダー樹脂との相溶性の観点から、酢酸ブチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等の乳酸のエステル類、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸ヘキシル、酢酸2−エチルヘキシル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、ブタン酸メチル(酪酸メチル)、ブタン酸エチル(酪酸エチル)、ブタン酸プロピル(酪酸プロピル)、ブタン酸イソプロピル(酪酸イソプロピル)等の脂肪族カルボン酸のエステル類;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどのカーボネート類;テルピネオール、ベンジルアルコール等のアルコール類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類;2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチル酪酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、ブチルカルビトールアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、3−メチル−3−メトキシブチルブチレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレートアセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、安息香酸エチル、酢酸ベンジル等のエステル類;N−メチルピロリドン、NN−ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で使用してもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
ガラスペーストにおける溶剤の含有率は、ペーストの可塑性又は流動性(粘度)が、成形処理又は塗布処理に適したものとなる範囲で調整される。なお、ガラスペーストは、PDP背面板上に形成した電極を覆う誘電体層の形成にも適用できる。
実施例を用いて本発明をさらに詳細に説明する。
以下では、PDPを作製して電極被覆用ガラスの評価を行った結果を示す。
本発明の電極被覆用ガラスおよび比較例のガラスを作製した。(表1)〜(表7)にそのガラス組成を示す。なお、各表に示す組成の割合はモル百分率(mol%)である。
Figure 2007314376
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<ガラスの作製>
(表1)〜(表7)に示す組成となるように原料を混合し、1100〜1200℃の電気炉中で白金ルツボを用いて1時間溶融した。そして、得られた溶融ガラスを真鍮板にてプレスすることにより急冷し、ガラスカレットを作製し、ボールミルによってガラスカレットを粉砕して粉末を作製した。作製した実施例及び比較例のガラス粉末の平均粒径は2.2〜4.8μmであった。
<ガラスペーストの調製>
樹脂であるエチルセルロースと、溶剤であるα−ターピネオールとを、その重量比が5:30となるように混合して攪拌し、有機成分を含む溶液を調製した。ついで、上記溶液と(表1)〜(表7)に示す実施例と比較例のガラス粉末とを重量比65:35で混合し、3本ロールミルで混合および分散させてガラスペーストを調製した。
<PDPの作製>
(1)前面板の作製
厚さ約2.8mmの平坦なソーダライムガラスからなる前面ガラス基板の面上に、ITO(透明)電極の材料を所定のパターンで塗布し、乾燥させた。次いで、バス電極として銀粉末と有機ビヒクルとの混合物である銀ペーストをストライプ状に複数本塗布した後、上記前面ガラス基板全体を加熱することにより、上記銀ペーストを焼成した。このようにしてITO(透明)電極とバス電極からなる表示電極を形成した。
表示電極を作製した前面ガラス基板に、上記ガラスペーストを表示電極を覆うようにブレードコーター法を用いて塗布した。その後、上記前面ガラス基板全体を90℃で30分間保持してガラスペーストを乾燥させ、570℃で10分間焼成することによって誘電体層を形成した。
上記誘電体層上に酸化マグネシウム(MgO)を電子ビーム蒸着法によって蒸着させた後、焼成することによって保護層を形成した。
(2)背面板の作製
まず、前面ガラス基板と同様の厚さ約2.8mmのソーダライムガラスからなる背面ガラス基板上にスクリーン印刷によって銀ペーストをストライプ状に複数本塗布した後、背面ガラス基板全体を加熱して銀ペーストを焼成することによって、アドレス電極を形成した。続いて、上記アドレス電極を覆うように背面板上にスクリーン印刷法を用いてガラスペーストを塗布した後、背面ガラス基板全体を加熱してガラスペーストを焼成することによって、絶縁体層を形成した。
次に、上記絶縁体層上に、隣り合うアドレス電極の間にスクリーン印刷法を用いてガラスペーストを塗布し、背面ガラス基板全体を加熱してガラスペーストの焼成を行い、このスクリーン印刷および焼成を繰り返すことによって隔壁を形成した。
次に、隔壁の壁面と隔壁間で露出している誘電体層の表面に、赤(R)、緑(G)、青(B)の蛍光体ペーストを塗布し、背面ガラス基板を約500℃に加熱して乾燥させて、焼成することで蛍光体ペースト内の樹脂成分(バインダー)等を除去し、蛍光体層を作製した。
作製した前面板、背面板を封着ガラスを用いて貼り合わせた。そして、封着により形成された放電空間の内部を高真空(1×10−4Pa程度)に排気したのち、所定の圧力となるようにNe−Xe系放電ガスを封入した。
<PDPの評価>
(表1)〜(表7)には、上記のようにして作製したそれぞれのガラスを誘電体層として用いたPDPの表示面側において、その黄変の度合いを色彩色差計を用いて測定した結果が示されている。
なお、(表1)〜(表7)におけるa値は、プラス方向に大きくなると赤色が強まり、マイナス方向に大きくなると緑色が強まることを示す。また、b値はプラス方向に大きくなると黄色が強まり、マイナス方向に大きくなると青色が強まることを示す。一般に、a値が−5〜+5の範囲であり、かつb値が−5〜+5の範囲であれば、前面パネルの着色は観察されない。特に、黄変については、b値の大きさが影響するため、PDPとしてはb値が−5〜+5の範囲であることが好ましい。
以下に、(表1)〜(表7)におけるSO、MnO、Mn、Mnの添加量とb値との関係を述べる。
(表1)よりガラス成分としてアルカリ酸化物を含まず、SO量が0mol%の場合ではb値は+5以上となり、またSOの添加量が7mol%の場合でもb値は+5以上になるのに対し、SOの添加量が0.1〜5mol%の場合ではb値は+5以下の値を示し、黄変の問題を改善していることが読み取れる。
また、(表2)よりガラス成分にアルカリ酸化物を含む場合においても、SOが添加されていないガラスではb値は+5以上であり、またSOの添加量が7mol%の場合でも+5以上のb値を示すのに対し、SOの添加量が0.1〜5mol%の場合ではb値は+5以下であり、黄変の発生を抑制していることがわかる。
さらに、(表3)および(表4)からはガラス成分としてアルカリ酸化物を含まない場合にMnO、Mn、Mnのいずれかのみを添加したガラスではb値は+5以上となり、黄変が発生していることがわかる。また、SOと、MnO、Mn、Mnのいずれかの量の合計が10mol%を超えた場合でもb値は+5以上になり、黄変の発生を抑制できていないことがわかる。それに対し、SOと、MnO、Mn、Mnのいずれかの量の合計が0.2〜10mol%の場合ではb値は+5以下であり、黄変の発生を抑制していることがわかる。
(表5)〜(表7)より、ガラス成分にアルカリ酸化物を含み、添加物としてSOと、MnO、Mn、Mnのいずれかの量の合計が0.2〜10mol%の場合ではb値は+5以下を示すのに対し、合計量が0.2mol%に満たない場合や10mol%を超える場合では、b値は+5以下の値となり、黄変の発生を抑制できていないことがわかる。
なお、b値は+5以下の数値を示したガラスを電極被覆用ガラスとしたパネルについては、PDPを動作させても誘電体の絶縁破壊は起こらなかった。
なお、上述したPDPおよびその製造方法は一例であり、本発明はこれに限定されない。
本発明は、ディスプレイ装置の電極を被覆するためのガラスとして好適に適用でき、これを用いて作製したディスプレイ装置はパネルの着色の無い好適なものである。
実施の形態1にかかるPDPの部分断面斜視図 実施の形態1にかかるPDPの断面図
符号の説明
1 前面板
2 前面ガラス基板
3 透明導電膜
4 バス電極
5 表示電極
6 誘電体層
7 誘電体保護層
8 背面板
9 背面ガラス基板
10 アドレス電極
11 絶縁体層
12 隔壁
13 蛍光体層
14 放電空間
15 第1誘電体層
16 第2誘電体層

Claims (4)

  1. AgまたはCuの少なくとも1種からなる電極を被覆する電極被覆用ガラスであって、前記電極被覆用ガラスがSOを0.1〜5mol%含むことを特徴とする電極被覆用ガラス。
  2. AgまたはCuの少なくとも1種からなる電極を被覆する電極被覆用ガラスであって、前記電極被覆用ガラスがSOと、MnO、Mn、Mnのうち少なくとも1種を含み、その合計が0.2〜10mol%であることを特徴とする電極被覆用ガラス。
  3. 互いに直交する表示電極およびアドレス電極を有し、前記表示電極または前記アドレス電極がAgまたはCuの少なくとも1種からなるディスプレイ装置であって、前記表示電極または前記アドレス電極がSOを0.1〜5mol%含む電極被覆用ガラスにより被覆されていることを特徴とするディスプレイ装置。
  4. 互いに直交する表示電極およびアドレス電極を有し、前記表示電極または前記アドレス電極がAgまたはCuの少なくとも1種からなるディスプレイ装置であって、前記表示電極または前記アドレス電極がSOと、MnO、Mn、Mnのうち少なくとも1種を含み、その合計が0.2〜10mol%である電極被覆用ガラスにより被覆されていることを特徴とするディスプレイ装置。
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JP2010238570A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Noritake Co Ltd プラズマディスプレイパネルおよび該パネルの電極形成用ペースト

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