JPH11329229A - シャドウマスクの欠陥検査装置及び欠陥検査方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 欠陥検査の正確性及び効率向上を図ることが
できるシャドウマスクの欠陥検査装置を提供する。 【解決手段】 シャドウマスク１の一方の面側に照明光
を照射する照明用光源３２と、シャドウマスク１に設け
た透孔２を通過した通過光を受光してシャドウマスク１
の画像データを収集する受光部３３とからなる撮像手段
と、この撮像手段の受光部３３にて収集した画像データ
を処理してシャドウマスク１の欠陥の有無を判別するコ
ンピュータ３５とを有するシャドウマスク１の欠陥検出
装置において、シャドウマスク１の一方の面に有機物が
蛍光を発する波長域の光を照射する蛍光発光用光源１９
と、この記蛍光発光用光源１９からの光がシャドウマス
ク１の透孔２に存在する有機物に当って生じる蛍光を受
光してシャドウマスク１の蛍光像データを収集し、前記
コンピュータ３５に送る蛍光受光部２０とからなる蛍光
画像撮像手段を備えたものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー受像管等の
シャドウマスクの欠陥検査装置及び欠陥検査方法に関
し、特に孔欠陥を誤判定なく精度よく検出できるシャド
ウマスクの欠陥検査装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、カラー画像を表示するカラー受
像管のシャドウマスクは、カラー受像管の内部の蛍光面
の直前に配置され、シャドウマスクの全面に設けられた
多数の透孔を通して、電子銃から放射された電子ビーム
を選別し、シャドウマスクの透孔と幾何学的に一対一の
関係にある蛍光体層のみに電子ビームを衝突させる機能
を有し、別名、色選別電極とも称されている。

【０００３】このようなシャドウマスクは、０．１乃至
０．２５ｍｍ程度の板厚のアルミキルド鋼あるいはアン
バー材に数万個乃至数十万個の微少な円形又は矩形の透
孔をあけたものであり、フォトエッチング法により製造
される。この際、原材料中に存在する介在物、材料表面
の汚れ、工程中の有機系の異物やゴミの付着、エッチン
グの局所的な進行等が原因となって、透孔の寸法が規格
より小さくなったり、大きくなったり、場合によっては
孔が完全に詰まったりといった欠陥が生じる場合があ
る。

【０００４】この様な欠陥が一つでもあると、カラー受
像管の表示を行った際に、色にじみ等の画像欠陥となる
ため、シャドウマスクの製造工程において検査により除
外されている。

【０００５】従来、この様な検査は人間の目視検査に依
存していたが、人件費の増加や、孔径や孔ピッチの微細
化等の技術的背景から、欠陥検査の自動化が強く望まれ
ている。

【０００６】図３に従来のシャドウマスクの欠陥検出装
置の一例を、図４に従来のシャドウマスクの欠陥検出装
置の欠陥検出の原理の一例を示す。

【０００７】図３に示す欠陥検査装置は、ここには図示
しないＸＹステージに取付けられた検査対象となるシャ
ドウマスク３１の面に対して、ライン型の照明用光源３
２により光を照射し、ＣＣＤセンサからなる受光部３３
によりシャドウマスク３１の透孔を通過した光を受光し
てシャドウマスク３１の画像データ（画像信号）を収集
し、画像処理ユニット３４、コンピュータ３５を使用し
て画像データを処理することで、前記シャドウマスク３
１の透孔４１等の欠陥の有無を検査するものである。

【０００８】尚、コンピュータ３５は、ここには図示し
ないＸＹステージや、前記画像処理ユニット３４等を制
御するようになっている。

【０００９】次に、図４に示すこの欠陥検査装置におい
て処理される画像データの一例を使用して、シャドウマ
スク３１の欠陥検査の原理を説明する。

【００１０】図４（Ａ）は、収集されたシャドウマスク
３１の画像データ３１Ａを示すものである。この画像デ
ータ３１Ａの白い部分（用紙の地色部分）がアルミキル
ド鋼やアンバー材に対応し、円形の斜線部分がシャドウ
マスク３１の透孔４１の部分の透孔像である。

【００１１】図４（Ａ）に示す画像データ３１Ａにおい
て、説明の便宜上各透孔像について行方向にａ，ｂ，
ｃ，ｄ、列方向に１，２，３，４，５の番地を付し、以
下の説明を行う。

【００１２】この画像データ３１Ａの例では、（ｂ，
３）に孔径が規格より大きな孔大欠陥が、（ｄ，３）に
孔径が規格より小さな孔小欠陥が存在する。シャドウマ
スク３１の欠陥検査装置においては、多くの場合、取込
まれた透孔像の隣り同士を比較する検査アルゴリズムが
採用されている。

【００１３】すなわち、ｂ行では（ｂ，１）−（ｂ，
２），（ｂ，２）−（ｂ，３），（ｂ，３）−（ｂ，
４），（ｂ，４）−（ｂ，５），…と引き算処理を行っ
て行く。この結果、図４（Ｂ）に示すように、（ｂ，
１）−（ｂ，２）のように、正常な透孔４１同士の演算
結果は０となるが、（ｂ，３）に孔大欠陥が存在するた
め、（ｂ，２）−（ｂ，３）はマイナスに、また、
（ｂ，３）−（ｂ，４）はプラスとなる。

【００１４】一方、ｄ行で考えると、（ｄ，３）に孔小
欠陥が存在する為、（ｄ，２）−（ｄ，３）はプラス
に、（ｄ，３）−（ｄ，４）はマイナスになる。

【００１５】このように演算結果がマイナス、プラスの
順になるか、プラス、マイナスの順になるかで、孔大、
孔小の区別を判定できるとともに、引き算処理する両孔
の差分の面積について不良となるしきい値を与えておけ
ば、そのしきい値以上の異常値が検出された場合欠陥と
して判定することができる。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、既述し
た従来装置と同様の欠陥検査装置が活躍している液晶の
カラーフィルターやＴＦＴパターンの場合とは異なり、
シャドウマスク３１がエッチングされる環境は完全なク
リーンルームではない。

【００１７】このため、シャドウマスク３１に異物やゴ
ミ等の付着が生じることを回避できない。

【００１８】このような異物の付着が生じた場合の欠陥
検査の一例を、図５（Ａ）、（Ｂ）に示す。図５（Ａ）
において、画像データ３１Ａとして示すようにシャドウ
マスク３１の各透孔４１は全て正常な大きさを有してお
り、本来各透孔４１に異物の付着がなければ、このシャ
ドウマスク３１を上述した欠陥検査装置により検査した
場合には、図５（ｂ）に示す画像データ３１Ａにおける
（ｄ，２）−（ｄ，３）の演算結果は０になり、また
（ｄ，３）−（ｄ，４）の演算結果も０になる筈であ
る。

【００１９】しかし、（ｃ，３）に相当する透孔４１
に、例えば図６に示すようにリント状の異物４３が付着
している場合には、透孔４１を見掛け上小さくしている
ため、図５（Ｂ）に示すように画像データ３１Ａにおけ
る演算結果は、（ｃ，２）−（ｃ，３）はプラスとな
り、また（ｃ，３）−（ｃ，４）はマイナスとなり、こ
の結果（ｃ，３）の透孔４１に恰も欠陥があるように誤
判定してしまうという課題がある。尚、図６において、
４２ａは透孔４１を形成する大穴、４２ｂは透孔４１を
形成する小孔である。

【００２０】本発明は、上述した課題に鑑みなされたも
のであり、シャドウマスクの透孔等に付着した有機系の
異物等の存在により生じる誤判定を回避し、欠陥検査の
正確性及び効率向上を図ることができるシャドウマスク
の欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供することを目的
するものである。

【００２１】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明に係
るシャドウマスクの欠陥検査装置は、シャドウマスクの
一方の面側に設けられ、シャドウマスクの一方の面側に
照明光を照射する照明用光源と、前記シャドウマスクの
他方の面側に設けられ、シャドウマスクに設けた透孔を
通過した通過光を受光してシャドウマスクの画像データ
を収集する受光部とからなる撮像手段と、この撮像手段
の受光部にて収集した画像データを処理してシャドウマ
スクの欠陥の有無を判別する画像処理手段とを少なくと
も有するシャドウマスクの欠陥検出装置において、前記
撮像手段の前段若しくは後段においてシャドウマスクの
一方の面側に配置され、シャドウマスクの一方の面に有
機物が蛍光を発する波長域の光を照射する蛍光発光用光
源と、前記シャドウマスクの他方の面側に配置され、前
記蛍光発光用光源からの光がシャドウマスクの透孔に存
在する有機物に当って生じる蛍光を受光してシャドウマ
スクの蛍光像データを収集し、前記画像処理手段に送る
蛍光受光部とからなる蛍光画像撮像手段を備えたことを
特徴とするものである。

【００２２】この発明によれば、撮像手段により収集し
たシャドウマスクの画像データと、蛍光画像撮像手段に
より収集したシャドウマスクの蛍光画像データとの双方
を使用して、画像処理手段によるシャドウマスクの欠陥
の有無の判別を実行でき、これにより、撮像手段の受光
部にて収集した画像データのみの画像処理の場合に生じ
るシャドウマスクの透孔等に存在する蛍光を発する有機
物に基づく孔欠陥という誤判定を回避し、シャドウマス
クの欠陥検査の正確性及び効率向上を図ることができ
る。

【００２３】請求項２記載の発明に係るシャドウマスク
の欠陥検査装置は、シャドウマスクの一方の面側に設け
られ、シャドウマスクの一方の面側に照明光を照射する
照明用光源と、前記シャドウマスクの他方の面側に設け
られ、シャドウマスクに設けた透孔を通過した通過光を
受光してシャドウマスクの画像データを収集する受光部
とからなる撮像手段と、この撮像手段の受光部にて収集
した画像データを処理してシャドウマスクの欠陥の有無
を判別する画像処理手段とを少なくとも有するシャドウ
マスクの欠陥検出装置において、前記撮像手段の前段若
しくは後段においてシャドウマスクの一方の面側に配置
され、シャドウマスクの一方の面に有機物が蛍光を発す
る波長域の光を照射する蛍光発光用光源と、前記シャド
ウマスクの他方の面側に配置され、前記蛍光発光用光源
からの光がシャドウマスクの透視孔に存在する有機物に
当って生じる蛍光を受光してシャドウマスクの蛍光像デ
ータを収集し、前記画像処理手段に送る蛍光受光部とか
らなる蛍光画像撮像手段を備え、画像処理手段により前
記撮像手段の受光部にて収集した画像データと、蛍光受
光部にて収集した蛍光像データとの合成処理及びシャド
ウマスクに設けた隣り合う透孔同士の各画像データの前
記透孔に存在する有機物による蛍光像データを加味した
演算処理を行って、シャドウマスクの欠陥検出を行うこ
とを特徴とするものである。

【００２４】この発明によれば、撮像手段により収集し
たシャドウマスクの画像データと、蛍光画像撮像手段に
より収集したシャドウマスクの蛍光画像データとの双方
を使用して、画像処理手段によりこれら画像データ及び
蛍光画像データの合成処理及びシャドウマスクに設けた
隣り合う透孔同士の各画像データの前記透孔に存在する
有機物による蛍光像データを加味した演算処理を行って
シャドウマスクの欠陥の有無の判別を実行するものであ
るから、請求項１記載の発明の場合と同様、撮像手段の
受光部にて収集した画像データのみの画像処理の場合に
生じるシャドウマスクの透孔等に存在する蛍光を発する
有機物に基づく孔欠陥という誤判定を回避し、シャドウ
マスクの欠陥検査の正確性及び効率向上を図ることがで
きる。

【００２５】請求項３記載の発明に係るシャドウマスク
の欠陥検査装置は、請求項１又は２記載のシャドウマス
クの欠陥検査装置において、前記蛍光画像撮像手段に用
いる照射により有機物が蛍光を発する波長域の光を発光
する透過照明用光源には、所定波長域の光を通過させる
光学フィルターを用いていることを特徴とするものであ
る。

【００２６】この発明によれば、請求項１又は２記載の
シャドウマスクの欠陥検査装置において、前記透過照明
用光源には、所定波長域の光を通過させる光学フィルタ
ーを用いて光源からの光のうち有機物が蛍光を発する波
長域の光を通過させ、シャドウマスクに照射するように
しているので、透過照明用光源の構成の簡略化を図りつ
つ請求項１又は２記載の発明の作用を発揮させることが
できる。

【００２７】請求項４記載の発明に係るシャドウマスク
の欠陥検査装置は、請求項１乃至３記載のシャドウマス
クの欠陥検査装置において、前記蛍光画像撮像手段に用
いる照射により有機物が蛍光を発する波長域の光を発光
する透過照明用光源は、所定波長のレーザー光を発光す
るレーザー光源であることを特徴とするものである。

【００２８】この発明によれば、請求項１乃至３記載の
シャドウマスクの欠陥検査装置において、透過照明用光
源を所定波長のレーザー光を発光するレーザー光源とし
た簡略な構成で請求項１乃至３記載の発明の作用を発揮
させることができる。

【００２９】請求項５記載の発明は、シャドウマスクの
一方の面側に設けられた照明用光源により、シャドウマ
スクの一方の面側に照明光を照射し、前記シャドウマス
クの他方の面側に設けられた受光部により前記シャドウ
マスクに設けた透孔を通過した通過光を受光してシャド
ウマスクの画像データを収集し、画像処理手段により受
光部にて収集した画像データを処理してシャドウマスク
の欠陥の有無を検査するシャドウマスクの欠陥検査方法
において、前記撮像手段の前段若しくは後段においてシ
ャドウマスクの一方の面側に配置した蛍光発光用光源に
より、シャドウマスクの一方の面に有機物が蛍光を発す
る波長域の光を照射し、前記シャドウマスクの他方の面
側に配置した蛍光画像撮像手段の蛍光受光部により、前
記蛍光発光用光源からの光がシャドウマスクの透孔に存
在する有機物に当って生じる蛍光を受光してシャドウマ
スクの透孔の蛍光像データを収集し、この蛍光像データ
を前記画像処理手段に送って、前記画像処理手段におい
て所定のアルゴリズムに従った前記画像データ及び蛍光
像データの演算処理によりシャドウマスクの欠陥検出を
行うことを特徴とするものである。

【００３０】この発明によれば、撮像手段によるシャド
ウマスクの画像データの収集及び蛍光画像撮像手段によ
るシャドウマスクの蛍光画像データの収集の双方を行
い、これら画像データ及び蛍光画像データの双方を使用
して、画像処理手段により所定のアルゴリズムに基づく
演算処理を実行し、シャドウマスクの欠陥の有無の判別
を行うものであるから、前記画像データのみの画像処理
の場合に生じるシャドウマスクの透孔等に存在する蛍光
を発する有機物に基づく孔欠陥という誤判定を回避し、
シャドウマスクの欠陥検査の正確性及び効率向上を図る
ことができるシャドウマスクの欠陥検査方法を実現でき
る。

【００３１】請求項６記載の発明は、シャドウマスクの
一方の面側に設けられた照明用光源により、シャドウマ
スクの一方の面側に照明光を照射し、前記シャドウマス
クの他方の面側に設けられた受光部により前記シャドウ
マスクに設けた透孔を通過した通過光を受光してシャド
ウマスクの画像データを収集し、画像処理手段により受
光部にて収集した画像データを処理してシャドウマスク
の欠陥の有無を判別するシャドウマスクの欠陥検査方法
において、前記撮像手段の前段若しくは後段においてシ
ャドウマスクの一方の面側に配置した蛍光発光用光源に
より、シャドウマスクの一方の面に有機物が蛍光を発す
る波長域の光を照射し、前記シャドウマスクの他方の面
側に配置した蛍光画像撮像手段の蛍光受光部により、前
記蛍光発光用光源からの光がシャドウマスクの透孔に存
在する有機物に当って生じる蛍光を受光してシャドウマ
スクの透孔の蛍光像データを収集し、この蛍光像データ
を前記画像処理手段に送って、前記画像処理手段によ
り、前記画像データと、前記蛍光像データとの合成処理
及びシャドウマスクに設けた隣り合う透孔同士の前記透
孔に存在する有機物による蛍光像データを加味した所定
のアルゴリズムに従った演算処理を行って、シャドウマ
スクの欠陥検出を行うことを特徴とするものである。

【００３２】この発明によれば、撮像手段によるシャド
ウマスクの画像データの収集及び蛍光画像撮像手段によ
るシャドウマスクの蛍光画像データの収集の双方を行
い、これら画像データ及び蛍光画像データの双方を使用
して、画像処理手段により所定のアルゴリズムに基づい
て、前記画像データと、前記蛍光像データとの合成処理
及びシャドウマスクに設けた隣り合う透孔同士の前記透
孔に存在する有機物による蛍光像データを加味した演算
処理を実行して、シャドウマスクの欠陥検出を行うもの
であるから、請求項５記載の発明の場合と同様、画像デ
ータのみの画像処理の場合に生じるシャドウマスクの透
孔等に存在する蛍光を発する有機物に基づく孔欠陥とい
う誤判定を回避し、シャドウマスクの欠陥検査の正確性
及び効率向上を図ることができるシャドウマスクの欠陥
検査方法を実現できる。

【００３３】請求項７記載の発明は、請求項５又は６記
載のシャドウマスクの欠陥検査方法において、前記画像
処理手段による所定のアルゴリズムに従った演算処理に
より蛍光を発する有機物のみが存在する透孔の画像デー
タと蛍光像データとを処理して、該透孔の画像データを
復元し、該透孔に孔欠陥無しと判定することを特徴とす
るものである。

【００３４】この発明によれば、画像処理手段による所
定のアルゴリズムに従った演算処理により、有機物のみ
が存在する透孔が孔欠陥有りと判定されることを防止
し、シャドウマスクの欠陥検査の正確性及び効率向上を
図ることができる。

【００３５】請求項８記載の発明は、請求項５乃至７の
いずれかに記載のシャドウマスクの欠陥検査方法におい
て、前記蛍光画像撮像手段の透過照明用光源に光学フィ
ルターを使用し、波長５１０ｎｍ乃至５６０ｎｍの光を
照射して、シャドウマスクの透孔に存在する有機物から
蛍光を発生させるものであるから、透過照明用光源の構
成の簡略化を図りつつ請求項５乃至７記載の発明の作用
を発揮させることができる。

【００３６】

【発明の実施の形態】以下、本発明のシャドウマスクの
欠陥検査装置の実施の形態を図面を参照して説明する。

【００３７】尚、図１に示す本実施の形態のシャドウマ
スクの欠陥検査装置において、図３に示す従来装置と同
一の機能を有するものには同一の符号を付して示す。

【００３８】この欠陥検査装置は、図示しないＸＹステ
ージに取り付けられ、矢印方向に搬送される検査対象と
なるシャドウマスク１の一方の面に対して、撮像手段を
構成するライン型の照明用光源３２により光を照射し、
撮像手段を構成する例えばＣＣＤセンサからなる受光部
３３によりシャドウマスク１の透孔２を通過した光を受
光して、シャドウマスク１の画像データ（画像信号）を
収集し、画像処理手段を構成する画像処理ユニット３
４、コンピュータ３５を使用して所定のアルゴリズムに
よる画像データを処理する構成に加えて、前記照明用光
源３２の後段においてシャドウマスク１の一方の面側に
配置され、シャドウマスク１の一方の面に有機物が蛍光
を発する波長域の光を照射する蛍光発光用光源１９と、
前記シャドウマスク１の他方の面側に配置され、前記蛍
光発光用光源１９からの光がシャドウマスク１の透孔２
に付着した有機系統の異物４３（図６参照）に当たって
生じる蛍光を受光することで、シャドウマスク１の蛍光
像データを収集し、この蛍光像データを画像処理ユニッ
ト３４に送る例えばＣＣＤセンサからなる蛍光受光部２
０とからなる蛍光画像撮像手段を備えたことが特徴であ
る。

【００３９】前記蛍光発光用光源１９は、ライン型の透
過照明用水銀ランプ１７に、波長５１０乃至５６０ｎｍ
の光のみを透過する光学フィルター１８を重ねた構成と
なっている。

【００４０】また、前記蛍光発光用光源１９としては、
波長５１０乃至５６０ｎｍ域のレーザ光を発光するレー
ザ光源を用いることもできる。

【００４１】さらに、蛍光発光用光源１９及び蛍光受光
部２０からなる蛍光画像撮像手段は撮像手段の前段に配
置する構成とすることもできる。

【００４２】次に、図２を参照して本実施の形態のシャ
ドウマスクの欠陥検査装置の欠陥検出の原理を説明す
る。

【００４３】図２において、（Ａ−１）は撮像手段によ
り取込まれた画像データを示し、この画像データの白い
部分（用紙の色の部分）がシャドウマスク１のアルミキ
ルド鋼やアンバー材の部分に相当し、斜線部分がシャド
ウマスク１の透孔２の部分に相当する。（Ａ−１）で示
す画像データでは、（ｂ，３）に孔径が規格より大きな
孔大欠陥が、（ｄ，３）に孔径が規格より小さな孔小欠
陥が存在する。また、（ｃ，３）に正常な孔径ではある
が、レジスト残り（図２で示す異物４３の存在による欠
落部分）が存在した透孔が存在する。

【００４４】本実施の形態では、従来例と同様、取込ま
れた（Ａ−１）で示す画像データにおいて、画像処理ユ
ニット３４及びコンピュータ３５により各透孔２の隣同
士を比較する検出アルゴリズムを実行する。すなわち、
（Ａ−１）で示す画像データのｂ行では、（ｂ，１）−
（ｂ，２），（ｂ，２）−（ｂ，３），（ｂ，３）−
（ｂ，４），（ｂ，４）−（ｂ，５），（ｂ，５）−
（ｂ，６）と引き算を実行すると、図２の（Ａ−２）に
示すように、（ｂ，１）−（ｂ，２）の様に正常な孔同
士の演算結果は０となるが、（ｂ，３）に孔大欠陥が存
在するため、（ｂ，２）−（ｂ，３）はマイナスに、
（ｂ，３）−（ｂ，４）はプラスとなる。

【００４５】一方、（Ａ−１）で示す画像データのｄ列
では、（ｄ，３）に孔小欠陥が存在する為、（ｄ，２）
−（ｄ，３）はプラスに、（ｄ，３）−（ｄ，４）はマ
イナスになる。さらに、ｃ列で考えると、孔径は正常で
あるが（ｃ，３）の透孔２に異物４３が存在するため、
孔小欠陥と同じように（ｃ，２）−（ｃ，３）はプラス
に、（ｃ，３）−（ｃ−４）はマイナスになる。

【００４６】この結果、画像処理ユニット３４及びコン
ピュータ３５の動作で、（ｃ，３）に相当するシャドウ
マスク１の透孔２が孔小欠陥であると判定される。

【００４７】次に、蛍光発光用光源１９の透過照明用水
銀ランプ１７から光学フィルター１８を経てシャドウマ
スク１の一方の面に照射された波長５１０乃至５６０ｎ
ｍの光は、シャドウマスク１の透孔２を透過し、蛍光受
光部２０により受光されるがこの時、蛍光受光部２０は
透孔２内に異物４３（有機物）が存在した時のみこの異
物４３が発光する蛍光のみを受光する。したがって、本
実施の形態では（ｃ，３）に相当するシャドウマスク１
の透孔２にのみ異物４３が存在するので、（Ｂ−１）で
示すように（ｃ，３）の画像データ（斜線を付して示
す）のみが収集されることになる。

【００４８】コンピュータ３５は、前記撮像手段で収集
した（Ａ−１）で示す画像データと蛍光画像撮像手段で
収集した（Ｂ−１）で示す画像データとを加算して、
（Ｃ−１）で示す合成画像データを生成する。この時、
孔径は正常であるが透孔２に異物４３が存在する（ｃ，
３）の画像データは、正常な孔径を示す画像データに復
元されることになる。

【００４９】この（Ｃ−１）で示す合成画像データに基
づいて、隣の透孔同士を比較する検出アルゴリズムを使
用して演算処理を行うと、（Ｃ−２）で示す画像データ
のように、ｂ行では（ｂ，３）に孔大欠陥が存在するた
め、（ｂ，２）−（ｂ，３）はマイナスに、（ｂ，３）
−（ｂ，４）はプラスとなる。

【００５０】一方、ｄ行では、（ｄ，３）に孔小欠陥が
存在する為、（ｄ，２）−（ｄ，３）はプラスに、
（ｄ，３）−（ｄ，４）はマイナスとなる。

【００５１】さらに、ｃ行では、（ｃ，３）が正常な透
孔２の画像データに復元されているので、（ｃ，２）−
（ｃ，３）、（ｃ，３）−（ｃ−４）はいずれも０とな
る。従って、（ｃ，３）に相当する透孔２に孔大欠陥又
は孔小欠陥が有ると誤判定されることを防止することが
できる。

【００５２】

【発明の効果】本発明によれば、シャドウマスクの透孔
等に付着した有機系の異物等の存在による誤判定を防止
し、シャドウマスクの欠陥検査の正確性及び効率向上を
図ることができるシャドウマスクの欠陥検査装置を提供
することができる。

【００５３】また、本発明によれば、簡略な工程で、撮
像手段による画像データのみの画像処理の場合に生じる
シャドウマスクの透孔等に存在する蛍光を発する異物等
の有機物の存在による孔欠陥という誤判定を回避し、シ
ャドウマスクの欠陥検査の正確性及び効率向上を図るこ
とが可能なシャドウマスクの欠陥検査方法を提供するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態のシャドウマスクの検査装
置の概略図である。

【図２】本発明の実施の形態のシャドウマスクの検査装
置の欠陥検出の原理を説明する図である。

【図３】従来のシャドウマスクの検査装置の概略図であ
る。

【図４】従来のシャドウマスクの検査装置の欠陥検出の
原理を説明するための図である。

【図５】従来のシャドウマスクの検査装置の欠陥検出の
誤判定例を説明する図である。

【図６】異物が存在するシャドウマスクの透孔部分の拡
大図である。

【符号の説明】

１ シャドウマスク ２ 透孔 １７ 透過照明用水銀ランプ １８ 光学フィルター １９ 蛍光発光用光源 ２０ 蛍光受光部 ３１ シャドウマスク ３１Ａ 画像データ ３２ 照明用光源 ３３ 受光部 ３４ 画像処理ユニット ３５ コンピュータ ４３ 異物

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 シャドウマスクの一方の面側に設けら
   れ、シャドウマスクの一方の面側に照明光を照射する照
   明用光源と、前記シャドウマスクの他方の面側に設けら
   れ、シャドウマスクに設けた透孔を通過した通過光を受
   光してシャドウマスクの画像データを収集する受光部と
   からなる撮像手段と、 この撮像手段の受光部にて収集した画像データを処理し
   てシャドウマスクの欠陥の有無を判別する画像処理手段
   と、 を少なくとも有するシャドウマスクの欠陥検出装置にお
   いて、 前記撮像手段の前段若しくは後段においてシャドウマス
   クの一方の面側に配置され、シャドウマスクの一方の面
   に有機物が蛍光を発する波長域の光を照射する蛍光発光
   用光源と、前記シャドウマスクの他方の面側に配置さ
   れ、前記蛍光発光用光源からの光がシャドウマスクの透
   孔に存在する有機物に当って生じる蛍光を受光してシャ
   ドウマスクの蛍光像データを収集し、前記画像処理手段
   に送る蛍光受光部とからなる蛍光画像撮像手段を備えた
   こと、 を特徴とするシャドウマスクの欠陥検査装置。
2. 【請求項２】 シャドウマスクの一方の面側に設けら
   れ、シャドウマスクの一方の面側に照明光を照射する照
   明用光源と、前記シャドウマスクの他方の面側に設けら
   れ、シャドウマスクに設けた透孔を通過した通過光を受
   光してシャドウマスクの画像データを収集する受光部と
   からなる撮像手段と、 この撮像手段の受光部にて収集した画像データを処理し
   てシャドウマスクの欠陥の有無を判別する画像処理手段
   と、 を少なくとも有するシャドウマスクの欠陥検出装置にお
   いて、 前記撮像手段の前段若しくは後段においてシャドウマス
   クの一方の面側に配置され、シャドウマスクの一方の面
   に有機物が蛍光を発する波長域の光を照射する蛍光発光
   用光源と、前記シャドウマスクの他方の面側に配置さ
   れ、前記蛍光発光用光源からの光がシャドウマスクの透
   視孔に存在する有機物に当って生じる蛍光を受光してシ
   ャドウマスクの蛍光像データを収集し、前記画像処理手
   段に送る蛍光受光部とからなる蛍光画像撮像手段を備
   え、 画像処理手段により前記撮像手段の受光部にて収集した
   画像データと、蛍光受光部にて収集した蛍光像データと
   の合成処理及びシャドウマスクに設けた隣り合う透孔同
   士の各画像データの前記透孔に存在する有機物による蛍
   光像データを加味した演算処理を行って、シャドウマス
   クの欠陥検出を行うこと、 を特徴とするシャドウマスクの欠陥検査装置。
3. 【請求項３】 前記蛍光画像撮像手段に用いる照射によ
   り有機物が蛍光を発する波長域の光を発光する透過照明
   用光源には、所定波長域の光を通過させる光学フィルタ
   ーを用いていることを特徴とする請求項１又は２記載の
   シャドウマスクの欠陥検査装置。
4. 【請求項４】 前記蛍光画像撮像手段に用いる照射によ
   り有機物が蛍光を発する波長域の光を発光する透過照明
   用光源は、所定波長のレーザー光を発光するレーザー光
   源であることを特徴とする請求項１又は２記載のシャド
   ウマスクの欠陥検査装置。
5. 【請求項５】 シャドウマスクの一方の面側に設けられ
   た照明用光源により、シャドウマスクの一方の面側に照
   明光を照射し、前記シャドウマスクの他方の面側に設け
   られた受光部により前記シャドウマスクに設けた透孔を
   通過した通過光を受光してシャドウマスクの画像データ
   を収集し、画像処理手段により受光部にて収集した画像
   データを処理してシャドウマスクの欠陥の有無を検査す
   るシャドウマスクの欠陥検査方法において、 前記撮像手段の前段若しくは後段においてシャドウマス
   クの一方の面側に配置した蛍光発光用光源により、シャ
   ドウマスクの一方の面に有機物が蛍光を発する波長域の
   光を照射し、前記シャドウマスクの他方の面側に配置し
   た蛍光画像撮像手段の蛍光受光部により、前記蛍光発光
   用光源からの光がシャドウマスクの透孔に存在する有機
   物に当って生じる蛍光を受光してシャドウマスクの透孔
   の蛍光像データを収集し、 この蛍光像データを前記画像処理手段に送って、前記画
   像処理手段において所定のアルゴリズムに従った前記画
   像データ及び蛍光像データの演算処理によりシャドウマ
   スクの欠陥検出を行うこと、 を特徴とするシャドウマスクの欠陥検査方法。
6. 【請求項６】 シャドウマスクの一方の面側に設けられ
   た照明用光源により、シャドウマスクの一方の面側に照
   明光を照射し、前記シャドウマスクの他方の面側に設け
   られた受光部により前記シャドウマスクに設けた透孔を
   通過した通過光を受光してシャドウマスクの画像データ
   を収集し、画像処理手段により受光部にて収集した画像
   データを処理してシャドウマスクの欠陥の有無を判別す
   るシャドウマスクの欠陥検査方法において、 前記撮像手段の前段若しくは後段においてシャドウマス
   クの一方の面側に配置した蛍光発光用光源により、シャ
   ドウマスクの一方の面に有機物が蛍光を発する波長域の
   光を照射し、前記シャドウマスクの他方の面側に配置し
   た蛍光画像撮像手段の蛍光受光部により、前記蛍光発光
   用光源からの光がシャドウマスクの透孔に存在する有機
   物に当って生じる蛍光を受光してシャドウマスクの透孔
   の蛍光像データを収集し、この蛍光像データを前記画像
   処理手段に送って、 前記画像処理手段により、前記画像データと、前記蛍光
   像データとの合成処理及びシャドウマスクに設けた隣り
   合う透孔同士の前記透孔に存在する有機物による蛍光像
   データを加味した所定のアルゴリズムに従った演算処理
   を行って、シャドウマスクの欠陥検出を行うこと、 を特徴とするシャドウマスクの欠陥検査方法。
7. 【請求項７】 前記画像処理手段による所定のアルゴリ
   ズムに従った演算処理により、蛍光を発する有機物のみ
   が存在する透孔の画像データと蛍光像データとを処理し
   て、該透孔の画像データを復元し、該透孔に孔欠陥無し
   と判定することを特徴とする請求項５又は６記載のシャ
   ドウマスクの欠陥検査方法。
8. 【請求項８】 前記蛍光画像撮像手段の透過照明用光源
   に光学フィルターを使用し、前記シャドウマスクに対し
   て波長５１０ｎｍ乃至５６０ｎｍの光を照射して、シャ
   ドウマスクの透孔に存在する有機物から蛍光を発生させ
   ることで蛍光像データを収集することを特徴とする請求
   項５乃至７のいずれかに記載のシャドウマスクの欠陥検
   査方法。