JPH11319680A - 高粘度物質の供給方法及び装置 - Google Patents

高粘度物質の供給方法及び装置

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JPH11319680A
JPH11319680A JP15213098A JP15213098A JPH11319680A JP H11319680 A JPH11319680 A JP H11319680A JP 15213098 A JP15213098 A JP 15213098A JP 15213098 A JP15213098 A JP 15213098A JP H11319680 A JPH11319680 A JP H11319680A
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mask
opening
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mask opening
substrate
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Kiyofumi Bessho
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板から印刷マスクを浮かせた状態で基板上
の複数の塗布点に半田ペ−スト等の高粘度物質を多点同
時に供給できる手法で、印刷マスクのマスク開口部から
基板上の塗布点へと高粘度物質を安定供給できるようす
ること。 【解決手段】 高粘度物質の供給対象となる基板から印
刷マスクを浮かせた状態で、当該印刷マスクのマスク開
口部に高粘度物質を充填する工程と、前記マスク開口部
に圧縮気体を吹き付けて当該マスク開口部に充填されて
いる高粘度物質を吹き飛ばす工程と、を実施し、前記マ
スク開口部から前記基板上の塗布点へと吹き飛ばしによ
り高粘度物質を供給することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板から印刷マスクを
浮かせた状態で基板上の複数の塗布点に半田ペースト等
の高粘度物質を多点同時に供給できる高粘度物質供給方
法及び装置に係り、特に、高粘度物質を基板上の塗布点
へ安定供給できるようにした高粘度物質の供給方法及び
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、基板上の複数の塗布点へと高粘度
物質を供給するため、例えば、実公平6−2775号公
報に開示されている技術等が利用された。この開示され
た従来技術は、図9に示されるように、基板101上の
複数の塗布点に対応する各位置に透孔が明けられたプレ
ート102と、プレート102の透孔に対し上端をプレ
ート面と同一面とし、プレート下面から所定の長さで突
出するごとく取り付けられた中空のスリーブ状のノズル
103と、プレート102上に置かれた高粘度物質10
4をノズル103に押し込むスキージ105とを、備え
ている。
【0003】この構成において、プレート102上に置
いた高粘度物質104を押し付けながら移動させて、ノ
ズル103の下端より高粘度物質104を塗布しようと
するものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来装置の場合においては、プレート102からの
ノズル103の突き出し長さが、常に一定長さになるた
め、図10に示されるように、高粘度物質104の供給
先である基板101面に反りや捻じれが生じていると、
ノズル103の先端が基板101面に密接されない。こ
のため、高粘度物質104の供給量が適宜選定しておい
た所定量よりも過多になり、安定した高粘度物質104
の供給ができないという問題点がある。
【0005】また、従来、基板上の塗布点に高粘度物質
を供給する方法として、図11に示されるように、基板
201上に印刷マスク202を密着配置し、印刷マスク
202上に置かれた高粘度物質203を、スキージ20
4によりマスク開口部205に押し込む印刷手法があ
る。
【0006】しかし、この印刷手法は、基板201に対
し印刷マスク202を密着させて基板201上の塗布点
206に高粘度物質203を供給するものであるため、
既に電子部品が実装されている基板には適用し難いとい
う問題点がある。加えて、印刷マスクの厚みに比べてマ
スク開口部が微細な場合には、版抜け性が悪くなるた
め、目詰まりを生じやすく、塗布点への高粘度物質の供
給量がばらつきやすくなるという問題点がある。
【0007】本発明は、前記した各問題点に着目してな
されたものであり、その目的とするところは、基板から
印刷マスクを浮かせた状態で基板上の複数の塗布点に半
田ペースト等の高粘度物質を多点同時に供給できる手法
で、印刷マスクのマスク開口部から基板上の塗布点へと
高粘度物質を安定供給できるようにした高粘度物質供給
方法及び装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】この出願の請求項1に記
載の発明は、高粘度物質の供給対象となる基板から印刷
マスクを浮かせた状態で、当該印刷マスクのマスク開口
部に高粘度物質を充填する工程と、前記マスク開口部に
圧縮気体を吹き付けて当該マスク開口部に充填されてい
る高粘度物質を吹き飛ばす工程と、を実施し、前記マス
ク開口部から前記基板上の塗布点へと吹き飛ばしにより
高粘度物質を供給することを特徴とする高粘度物質の供
給方法にある。
【0009】そして、この出願の請求項1に記載の発明
によれば、基板に対し、印刷マスクを浮かせた状態で、
印刷マスクのマスク開口部に高粘度物質を充填するた
め、既に電子部品が実装されているプリント回路基板等
が高粘度物質の供給対象にできよう。また、高粘度物質
が充填されたマスク開口部に圧縮気体を吹き付けて、マ
スク開口部から基板上の塗布点へと高粘度物質を供給す
ることになるので、マスク開口部での高粘度物質の版抜
け性が向上し、また、印刷マスクのマスク開口部から基
板上の塗布点へと高粘度物質をばらつきが少なくなるよ
うに安定供給できよう。
【0010】この出願の請求項2に記載の発明は、印刷
マスクのマスク開口部に高粘度物質を充填する物質充填
手段と、前記マスク開口部に高粘度物質が充填された状
態を保持するために当該マスク開口部を一時的に遮蔽す
る開口部開閉手段と、前記マスク開口部に圧縮気体を吹
き付ける気体噴射手段と、を具備し、高粘度物質の供給
対象となる基板から印刷マスクを浮かせた状態で、前記
気体噴射手段の噴射口が前記マスク開口部上に到来した
ときに、前記開口部開閉手段による前記マスク開口部の
遮蔽解除と、前記噴射口からの圧縮気体の吹き付けと
を、同期して行うことにより、前記マスク開口部から前
記基板上の塗布点へと吹き飛ばしにより高粘度物質を供
給することを特徴とする高粘度物質の供給装置にある。
【0011】そして、この出願の請求項2に記載の発明
によれば、基板に対し、印刷マスクを浮かせた状態で、
印刷マスクのマスク開口部に高粘度物質を充填するた
め、既に電子部品が実装されているプリント回路基板等
を高粘度物質の供給対象にすることができよう。
【0012】また、気体噴射手段によってなされるマス
ク開口部への圧縮気体の吹き付けと、開口部開閉手段に
よってなされるマスク開口部の遮蔽解除とを同期させ
て、マスク開口部から基板上の塗布点へと高粘度物質を
供給することになるので、圧縮気体の吹き付け前にマス
ク開口部での高粘度物質のだれが未然に防止されよう。
【0013】また、高粘度物質のだれが未然に防止され
た状態のまま、マスク開口部から基板上の塗布点へと吹
き飛ばしにより高粘度物質を供給することになるから、
マスク開口部での高粘度物質の版抜け性の向上や、印刷
マスクのマスク開口部から基板上の塗布点への高粘度物
質の安定供給が、確実に達成されよう。
【0014】この出願の請求項3に記載の発明は、複数
の印刷マスクを並べて搭載できるパレットと、前記パレ
ット上に搭載した各印刷マスクを対象に、当該各印刷マ
スクのマスク開口部に高粘度物質を一括充填するスキー
ジと、前記マスク開口部に高粘度物質が充填された状態
を保持するために、前記パレット下部にて当該マスク開
口部を一時的に遮蔽するシャッタと、前記パレットから
の印刷マスクの取り出しと、当該印刷マスクの取り出し
後、高粘度物質の供給対象となる基板に対する前記印刷
マスクの位置決め移動と、前記基板に対する前記印刷マ
スクの位置決め移動が完了したとき、これに同期して、
前記基板から前記印刷マスクを浮かせた状態で、前記マ
スク開口部への圧縮気体の吹き付けとを行えるマスタホ
ルダと、を具備し、前記マスク開口部から前記基板上の
塗布点へと吹き飛ばしにより高粘度物質を供給すること
を特徴とする高粘度物質の供給装置にある。
【0015】そして、この出願の請求項3に記載の発明
によれば、パレット上でスキージを移動させて複数の印
刷マスクの各マスク開口部に高粘度物質を一括充填し、
この高粘度物質の充填状態をシャッタで保持することが
できよう。
【0016】また、各印刷マスクの中から所望の印刷マ
スクをマスクホルダで取り出し、この取り出した印刷マ
スクを、基板に対し、マスクホルダで浮かせた状態で、
このマスクホルダからマスク開口部へと圧縮気体を吹き
付けることができるので、既に電子部品が実装されてい
るプリント回路基板等が高粘度物質の供給対象にでき、
また、マスク開口部での高粘度物質の版抜け性が向上さ
れよう。
【0017】また、高粘度物質が充填されたマスク開口
部に圧縮気体を吹き付けて、マスク開口部から基板上の
塗布点へと吹き飛ばしにより高粘度物質を供給すること
になるので、印刷マスクのマスク開口部から基板上の塗
布点へと高粘度物質をばらつきが少なくなるように安定
供給できよう。
【0018】また、各印刷マスクの中から所望の印刷マ
スクを取り出し、この取り出した印刷マスクを用いて基
板上の塗布点へと高粘度物質を供給することになるの
で、多品種少量生産に適合されよう。
【0019】
【発明の実施形態】以下、本発明にかかる、高粘度物質
の供給方法及び装置の好ましい実施形態について、図面
に基づいて詳細に説明する。
【0020】図1は本発明にかかる高粘度物質供給装置
の一実施形態の構成説明図、図2は本発明にかかる高粘
度物質供給装置の一実施形態による半田ペーストの供給
工程を示す工程説明図である。同図において、1は物質
充填手段としてのスキージ、2は開口部開閉手段として
のシャッタ、3はシャッタ開口部、4は気体噴射手段の
気体噴射口、5はプリント回路基板、6は電子部品、7
はランド、8は印刷マスク、9はマスク開口部、10は
高粘度物質である半田ペースト、11はコンベアベル
ト、12は気体供給チューブである。
【0021】この高粘度物質供給装置は、印刷マスク8
のマスク開口部9に半田ペースト10を押し込み充填す
るスキージ1と、マスク開口部9に半田ペースト10が
充填された状態を保持するために、このマスク開口部9
を一時的に遮蔽するシャッタ2と、マスク開口部9に圧
縮気体を吹き付ける気体噴射口4と、を備えている。ま
た、プリント回路基板5上に印刷マスク8を配置させる
ための公知の保持手段(不図示)がプリント回路基板5か
ら印刷マスク8を浮かせた状態にする手段として用いら
れる。なお、本実施形態では、スキージ1と気体噴射口
4とを一体構造のものにしている。
【0022】この高粘度物質供給装置は、コンベアベル
ト11により所定位置まで搬送されてきたプリント回路
基板5のランド7に対し、図2(a)〜(d)に示され
る過程を経て半田ペースト10を供給する。同図(a)
に示されるように、プリント回路基板5から印刷マスク
8を浮かせた状態で、印刷マスク8のマスク開口部9に
半田ペースト10を押し込むようにスキージ1を矢印方
向へ移動させる。
【0023】このスキージ1の移動で印刷マスク8のマ
スク開口部9に半田ペースト10を押し込むことによ
り、同図(b)に示されるように、マスク開口部9に半
田ペースト10が充填される。この過程において、マス
ク開口部9の下端位置は、シャッタ2のシャッタ開口部
3が位置決め移動されておらず、シャッタ2により遮蔽
されている。なお、図3に示されるように、スキージ1
と気体噴射口4との一体構造のものを、各組毎に交互に
印刷マスク8のマスク面に沿わせてスライド移動できる
構成を用い、印刷マスク8の両側から半田ペースト10
の押し込み動作を可能にすることもできる。
【0024】マスク開口部9上をスキージ1が通り過ぎ
た後も、気体噴射口4がマスク開口部9の位置に到達す
るまでは、同図(c)に示されるように、シャッタ2に
よるマスク開口部9の下端位置の遮蔽状態が続き、マス
ク開口部9からの半田ペースト10のだれを防止でき
る。よって、印刷マスク8下面への半田ペースト10の
回り込みが回避され、印刷マスク8下面での半田ペース
ト10の付着を防止できる。
【0025】その後、同図(d)に示されるように、気
体噴射口4がマスク開口部9上に到来したときに、シャ
ッタ2によるマスク開口部9の遮蔽解除と、気体噴射口
4からの圧縮気体の吹き付けとを、同期して行う。これ
により、マスク開口部9からプリント回路基板5上のラ
ンド7へと半田ペースト10を吹き飛ばしにより供給で
きる。なお、シャッタ2によるマスク開口部9の遮蔽解
除は、マスク開口部9の下端位置に、シャッタ2のシャ
ッタ開口部3が位置決め移動されてマスク開口部9が開
放されることによりなされる。
【0026】前述の如く、プリント回路基板5に対し、
印刷マスク8を浮かせた状態で、印刷マスク8のマスク
開口部9に半田ペースト10を充填するため、既に電子
部品7が実装されているプリント回路基板5を半田ペー
スト10の供給対象にすることができる。
【0027】また、気体噴射口4からマスク開口部9へ
の圧縮気体の吹き付け前は、シャッタ2によってマスク
開口部9が遮蔽されているいる。このため、マスク開口
部9からプリント回路基板5上のランド7へと半田ペー
スト10を供給する前に、マスク開口部9での半田ペー
スト10のだれが未然に防止される。
【0028】また、半田ペースト10のだれが防止され
ている状態をシャッタ2の開放で解除した直後、マスク
開口部9からプリント回路基板5上のランド7へと吹き
飛ばしにより半田ペースト10を供給することになるか
ら、マスク開口部9での半田ペースト10の版抜け性の
向上や、マスク開口部9からプリント回路基板5上のラ
ンド7への半田ペースト10の安定供給を、確実に達成
できる。
【0029】図4は、本発明にかかる高粘度物質供給装
置の他の一実施形態の構成説明図である。同図におい
て、13はパレットであり、このパレット13は、ガイ
ド(不図示)によって保持され、図5に示されるよう
に、自身の厚さに等しい複数の印刷マスク8がはめ込ま
れて搭載されており、また、パレット13の下部にはシ
ャッタ14が設けられている。また、回転駆動機構15
により水平面に沿って回転される回転パレット搬送アー
ム16の各アーム片16a〜16dにそれぞれ取り付け
られている。
【0030】回転パレット搬送アーム16の各アーム片
16a〜16dは、マスク取り出し位置(1),印刷準
備位置(2),印刷位置(3),マスク取り出し準備位
置(4)の順に繰り返し回転移動されて、その各位置で
一定時間停止される。印刷位置(3)では、図6(a)
に示されるように、印刷枠17とパレット13との何れ
か一方を移動させて互いに密接配置し、この状態でパレ
ット13上にはめ込んで搭載した各印刷マスク8のマス
ク開口部9に、スキージ1aで半田ペースト10を押し
込む。なお、同図(b)に示されるように、2つのスキ
ージ1aを用いるダブルスキージ方式で、パレット13
上にはめ込み搭載した各印刷マスク8のマスク開口部9
に、スキージ1aで半田ペースト10を押し込んでもよ
い。
【0031】また、18はマスクホルダであり、このマ
スクホルダ18は、図7に示されるように、先端部18
a〜が吐出口19及び電磁石20を有する中空構造のも
ので、3次元に自在に移動できるものであり、パレット
13からの印刷マスク8の取り出しと、印刷マスク8の
取り出し後、半田ペースト10の供給対象となるプリン
ト回路基板5に対する印刷マスク8の位置決め移動と、
プリント回路基板5に対する印刷マスク8の位置決め移
動とを行えると共に、プリント回路基板5に対する印刷
マスク8の位置決め移動が完了したとき、これに同期し
て、プリント回路基板5から印刷マスク8を浮かせた状
態で、印刷マスク8のマスク開口部9への圧縮気体の吹
き付けを行えるものである。
【0032】この高粘度物質供給装置は、図6で説明し
たように、パレット13上でスキージ1aを移動させて
複数の印刷マスク8の各マスク開口部9に半田ペースト
10を一括充填した後、コンベアベルト11により所定
位置まで搬送されてきたプリント回路基板5(5a,5
B等)のランド7に対し、図8(a)〜(d)に示され
る過程を経て半田ペースト10を供給することができ
る。
【0033】まず、同図(a)に示されるように、電磁
石20で印刷マスク8を吸着固定する。この時点では、
印刷マスク8のマスク開口部9は、シャッタ2aにより
下部が閉じられている。次に、同図(b)に示されるよ
うに、シャッタ2aをスライドさせてマスク開口部9の
下部を開放し、この状態でパレット13にはめ込み搭載
した各印刷マスク8の中から所望の印刷マスク8を、同
図(c)に示されるように、マスクホルダ18で取り出
す。なお、半田ペースト10の粘度にもよるが、マスク
開口部9から半田ペースト10がだれ落ちるような場合
は、吐出口19側を負圧状態にすればだれ落ちを防止で
きる。
【0034】次に、同図(d)に示されるように、プリ
ント回路基板5に対し、マスクホルダ17で印刷マスク
8を浮かせた状態で、このマスクホルダ17からマスク
開口部9へと矢印で示す如く圧縮気体を吹き付ける。こ
のため、既に電子部品6が実装されているプリント回路
基板5を半田ペースト10の供給対象にすることがで
き、また、マスク開口部9での半田ペースト10の版抜
け性が向上される。
【0035】また、半田ペースト10が充填されたマス
ク開口部9にマスクホルダ18により圧縮気体を吹き付
けて、マスク開口部9からプリント回路基板5上のラン
ド6へと吹き飛ばしにより半田ペースト10を供給する
ことになるので、マスク開口部9からプリント回路基板
5上のランド7へと半田ペースト10をばらつきが少な
くなるように安定供給できる。
【0036】また、各印刷マスク8の中から所望の印刷
マスク8を取り出し、この取り出した印刷マスク8を用
いてプリント回路基板5上のランド7へと半田ペースト
10を供給することになるので、例えば各種機器用のプ
リント回路基板(図4の5A,5B等)の製品を少量づ
つ製作する多品種少量生産に適合されることになる。
【0037】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、基板から印刷マスクを浮かせた状態で基板上
の複数の塗布点に半田ペースト等の高粘度物質を多点同
時に供給できる手法で、印刷マスクのマスク開口部から
基板上の塗布点へと高粘度物質を安定供給できるように
した高粘度物質供給方法及び装置を提供することができ
る。
【0038】
【図面の間単な説明】
【図1】本発明にかかる高粘度物質供給装置の一実施形
態の構成説明図である。
【0039】
【図2】本発明にかかる高粘度物質供給装置の一実施形
態による半田ペーストの供給工程を示す工程説明図であ
る。
【0040】
【図3】本発明の一実施形態で採用した印刷マスクへの
半田ペーストの充填手法の変形例を説明するために用い
た図である。
【0041】
【図4】本発明にかかる高粘度物質供給装置の他の一実
施形態の構成説明図である。
【0042】
【図5】印刷マスクをはめ込み搭載したパレットを示す
斜視図である。
【0043】
【図6】本発明の他の一実施形態で採用した印刷マスク
への半田ペーストの充填手法を説明するために用いた図
である。
【0044】
【図7】マスクホルダの先端部の断面図である。
【0045】
【図8】本発明にかかる高粘度物質供給装置の他の一実
施形態による半田ペーストの供給工程を示す工程説明図
である。
【0046】
【図9】従来の高粘度物質供給方法の一例を説明するた
めに用いた図である。
【0047】
【図10】従来の高粘度物質供給方法の一例での不具合
を説明するために用いた図である。
【0048】
【図11】従来の高粘度物質供給方法の他の一例を説明
するために用いた図である。
【0049】
【符号の説明】
1,1a 物質充填手段としてのスキージ 2,2a 開口部開閉手段としてのシャッタ 3 シャッタ開口部 4 気体噴射手段の気体噴射口 5 プリント回路基板 6 電子部品 7 ランド 8 印刷マスク 9 マスク開口部 10 高粘度物質である半田ペースト 11 コンベアベルト 12 気体供給チューブ 13 パレット 14 シャッタ 15 回転駆動機構 16 回転パレット搬送アーム 16a〜16d アーム片 17 印刷枠 18 マスクホルダ 19 吐出口 20 電磁石

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高粘度物質の供給対象となる基板から印
    刷マスクを浮かせた状態で、 当該印刷マスクのマスク開口部に高粘度物質を充填する
    工程と、 前記マスク開口部に圧縮気体を吹き付けて当該マスク開
    口部に充填されている高粘度物質を吹き飛ばす工程と、 を実施し、 前記マスク開口部から前記基板上の塗布点へと吹き飛ば
    しにより高粘度物質を供給することを特徴とする高粘度
    物質の供給方法。
  2. 【請求項2】 印刷マスクのマスク開口部に高粘度物質
    を充填する物質充填手段と、 前記マスク開口部に高粘度物質が充填された状態を保持
    するために当該マスク開口部を一時的に遮蔽する開口部
    開閉手段と、 前記マスク開口部に圧縮気体を吹き付ける気体噴射手段
    と、 を具備し、 高粘度物質の供給対象となる基板から印刷マスクを浮か
    せた状態で、前記気体噴射手段の噴射口が前記マスク開
    口部上に到来したときに、前記開口部開閉手段による前
    記マスク開口部の遮蔽解除と、前記噴射口からの圧縮気
    体の吹き付けとを、同期して行うことにより、 前記マスク開口部から前記基板上の塗布点へと吹き飛ば
    しにより高粘度物質を供給することを特徴とする高粘度
    物質の供給装置。
  3. 【請求項3】 複数の印刷マスクを並べて搭載できるパ
    レットと、 前記パレット上に搭載した各印刷マスクを対象に、当該
    各印刷マスクのマスク開口部に高粘度物質を一括充填す
    るスキージと、 前記マスク開口部に高粘度物質が充填された状態を保持
    するために、前記パレット下部にて当該マスク開口部を
    一時的に遮蔽するシャッタと、 前記パレットからの印刷マスクの取り出しと、当該印刷
    マスクの取り出し後、高粘度物質の供給対象となる基板
    に対する前記印刷マスクの位置決め移動と、前記基板に
    対する前記印刷マスクの位置決め移動が完了したとき、
    これに同期して、前記基板から前記印刷マスクを浮かせ
    た状態で、前記マスク開口部への圧縮気体の吹き付けと
    を行えるマスタホルダと、 を具備し、 前記マスタホルダにより前記マスク開口部から前記基板
    上の塗布点へと吹き飛ばしにより高粘度物質を供給する
    ことを特徴とする高粘度物質の供給装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN103861772A (zh) * 2014-03-12 2014-06-18 王元 一种涂胶方法及装置

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CN103861772A (zh) * 2014-03-12 2014-06-18 王元 一种涂胶方法及装置
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