JPH11311608A - 検査装置 - Google Patents

検査装置

Info

Publication number
JPH11311608A
JPH11311608A JP10118255A JP11825598A JPH11311608A JP H11311608 A JPH11311608 A JP H11311608A JP 10118255 A JP10118255 A JP 10118255A JP 11825598 A JP11825598 A JP 11825598A JP H11311608 A JPH11311608 A JP H11311608A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
light source
image
optical system
tdi
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10118255A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPH11311608A5 (enExample
Inventor
Hiroshi Chiba
洋 千葉
Kinya Kato
欣也 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP10118255A priority Critical patent/JPH11311608A/ja
Publication of JPH11311608A publication Critical patent/JPH11311608A/ja
Publication of JPH11311608A5 publication Critical patent/JPH11311608A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
JP10118255A 1998-04-28 1998-04-28 検査装置 Pending JPH11311608A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10118255A JPH11311608A (ja) 1998-04-28 1998-04-28 検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10118255A JPH11311608A (ja) 1998-04-28 1998-04-28 検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11311608A true JPH11311608A (ja) 1999-11-09
JPH11311608A5 JPH11311608A5 (enExample) 2005-09-29

Family

ID=14732098

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10118255A Pending JPH11311608A (ja) 1998-04-28 1998-04-28 検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11311608A (enExample)

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003130808A (ja) * 2001-10-29 2003-05-08 Hitachi Ltd 欠陥検査方法及びその装置
US6909501B2 (en) 2000-09-28 2005-06-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Pattern inspection apparatus and pattern inspection method
JP2006046947A (ja) * 2004-07-30 2006-02-16 Shinshu Univ 環状発光装置
JP2006250944A (ja) * 2006-04-17 2006-09-21 Hitachi High-Technologies Corp 欠陥検査方法及びその装置
JP2008249921A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Advanced Mask Inspection Technology Kk レチクル欠陥検査装置およびレチクル欠陥検査方法
JP2009025131A (ja) * 2007-07-19 2009-02-05 Mitsubishi Materials Techno Corp 缶のピンホール検査方法及び検査装置
JP2009075068A (ja) * 2007-08-08 2009-04-09 Nuflare Technology Inc パターン検査装置及びパターン検査方法
WO2010098000A1 (ja) * 2009-02-27 2010-09-02 株式会社日立製作所 基板表面のパターン検査装置およびパターン検査方法
WO2010113228A1 (ja) * 2009-03-31 2010-10-07 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 検査装置及び検査方法
CN102549733A (zh) * 2009-08-20 2012-07-04 克拉-坦科股份有限公司 图像采集
JP2014035307A (ja) * 2012-08-10 2014-02-24 Hitachi High-Technologies Corp 欠陥検査装置、及び欠陥検査方法
JP2015513111A (ja) * 2012-04-12 2015-04-30 ケーエルエー−テンカー コーポレイション サンプル検査とレビューのためのシステム及び方法
JP2019120506A (ja) * 2017-12-28 2019-07-22 レーザーテック株式会社 検出方法、検査方法、検出装置及び検査装置
JP2019191195A (ja) * 2011-07-12 2019-10-31 ケーエルエー コーポレイション ウェハ検査システム
JP2020016606A (ja) * 2018-07-27 2020-01-30 株式会社ニューフレアテクノロジー 検査装置
US10712287B2 (en) 2018-03-08 2020-07-14 Lasertec Corporation Inspection device and inspection method
CN111982927A (zh) * 2015-05-12 2020-11-24 东京毅力科创株式会社 基板处理系统
CN112119297A (zh) * 2018-05-30 2020-12-22 株式会社日立高新技术 晶片检查装置和晶片检查方法

Cited By (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6909501B2 (en) 2000-09-28 2005-06-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Pattern inspection apparatus and pattern inspection method
US7161671B2 (en) 2001-10-29 2007-01-09 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for inspecting defects
US7299147B2 (en) 2001-10-29 2007-11-20 Hitachi, Ltd. Systems for managing production information
JP2003130808A (ja) * 2001-10-29 2003-05-08 Hitachi Ltd 欠陥検査方法及びその装置
JP2006046947A (ja) * 2004-07-30 2006-02-16 Shinshu Univ 環状発光装置
JP2006250944A (ja) * 2006-04-17 2006-09-21 Hitachi High-Technologies Corp 欠陥検査方法及びその装置
US7911599B2 (en) 2007-03-30 2011-03-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Reticle defect inspection apparatus and reticle defect inspection method
JP2008249921A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Advanced Mask Inspection Technology Kk レチクル欠陥検査装置およびレチクル欠陥検査方法
US8072592B2 (en) 2007-03-30 2011-12-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Reticle defect inspection apparatus and reticle defect inspection method
JP2009025131A (ja) * 2007-07-19 2009-02-05 Mitsubishi Materials Techno Corp 缶のピンホール検査方法及び検査装置
JP2009075068A (ja) * 2007-08-08 2009-04-09 Nuflare Technology Inc パターン検査装置及びパターン検査方法
WO2010098000A1 (ja) * 2009-02-27 2010-09-02 株式会社日立製作所 基板表面のパターン検査装置およびパターン検査方法
JP2010197347A (ja) * 2009-02-27 2010-09-09 Hitachi Ltd 基板表面のパターン検査装置およびパターン検査方法
US8593625B2 (en) 2009-03-31 2013-11-26 Hitachi High-Technologies Corporation Examining apparatus and examining method
WO2010113228A1 (ja) * 2009-03-31 2010-10-07 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 検査装置及び検査方法
JP2010256340A (ja) * 2009-03-31 2010-11-11 Hitachi High-Technologies Corp 高速検査方法とその装置
JP2015172585A (ja) * 2009-08-20 2015-10-01 ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation 検査システム
CN102549733A (zh) * 2009-08-20 2012-07-04 克拉-坦科股份有限公司 图像采集
JP2013502586A (ja) * 2009-08-20 2013-01-24 ケーエルエー−テンカー・コーポレーション 画像収集
JP2019191195A (ja) * 2011-07-12 2019-10-31 ケーエルエー コーポレイション ウェハ検査システム
JP2015513111A (ja) * 2012-04-12 2015-04-30 ケーエルエー−テンカー コーポレイション サンプル検査とレビューのためのシステム及び方法
US9939386B2 (en) 2012-04-12 2018-04-10 KLA—Tencor Corporation Systems and methods for sample inspection and review
JP2014035307A (ja) * 2012-08-10 2014-02-24 Hitachi High-Technologies Corp 欠陥検査装置、及び欠陥検査方法
CN111982927A (zh) * 2015-05-12 2020-11-24 东京毅力科创株式会社 基板处理系统
CN111982927B (zh) * 2015-05-12 2023-12-15 东京毅力科创株式会社 基板处理系统
JP2019120506A (ja) * 2017-12-28 2019-07-22 レーザーテック株式会社 検出方法、検査方法、検出装置及び検査装置
US10539511B2 (en) 2017-12-28 2020-01-21 Lasertec Corporation Detection method, inspection method, detection apparatus, and inspection apparatus
US10712287B2 (en) 2018-03-08 2020-07-14 Lasertec Corporation Inspection device and inspection method
CN112119297A (zh) * 2018-05-30 2020-12-22 株式会社日立高新技术 晶片检查装置和晶片检查方法
JP2020016606A (ja) * 2018-07-27 2020-01-30 株式会社ニューフレアテクノロジー 検査装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH11311608A (ja) 検査装置
JP4704040B2 (ja) 光学的検査のための照明システム
JP2933736B2 (ja) 表面状態検査装置
US7378201B2 (en) Method for repairing a photomask, method for inspecting a photomask, method for manufacturing a photomask, and method for manufacturing a semiconductor device
US7218389B2 (en) Method and apparatus for inspecting pattern defects
US4645924A (en) Observation apparatus with selective light diffusion
US6909501B2 (en) Pattern inspection apparatus and pattern inspection method
JPH10326587A (ja) 電動スキャニングテーブル付き共焦点顕微鏡
JPH04232951A (ja) 面状態検査装置
US6943876B2 (en) Method and apparatus for detecting pattern defects
JPH0743313A (ja) 異物検査装置及びそれを用いた半導体デバイスの 製造方法
JP2019120506A (ja) 検出方法、検査方法、検出装置及び検査装置
JP3612903B2 (ja) 収差測定方法及び収差測定装置並びにそれを備えた露光装置及びデバイス製造方法
JP3938785B2 (ja) 欠陥検査方法及びその装置
US20140036942A1 (en) Method and system for coherence reduction
TW382738B (en) Optical inspection device and lithographic apparatus provided with such a device
JPH0477653A (ja) 表面状態検査装置及びこれを備える露光装置
JP3708929B2 (ja) パターン欠陥検査方法及びパターン欠陥検査装置
JP4325909B2 (ja) 欠陥検査装置、欠陥検査方法、光学式走査装置、半導体デバイス製造方法
JP3282790B2 (ja) 位相シフトマスクの欠陥検査装置
JP5777068B2 (ja) マスク評価装置
US12204226B2 (en) Metrology system configured to illuminate and measure apertures of workpieces
JPH11260689A (ja) 均一光学系、パターン検査装置及びパターン検査方法
JP2002287328A (ja) 位相シフトマスクの欠陥検査装置
CN121141679A (zh) 颗粒物检测装置、方法以及计算机可读存储介质

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050425

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050425

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070118

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070227

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070522