JPH0560602A - 光強度分布測定装置 - Google Patents
光強度分布測定装置Info
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- JPH0560602A JPH0560602A JP3220422A JP22042291A JPH0560602A JP H0560602 A JPH0560602 A JP H0560602A JP 3220422 A JP3220422 A JP 3220422A JP 22042291 A JP22042291 A JP 22042291A JP H0560602 A JPH0560602 A JP H0560602A
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- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光光線の空間的なパワーのばらつきによる
影響を補償することにより、露光面における光強度分布
の測定の精度を向上させることができる光強度分布測定
装置を提供することである。 【構成】 光源部からの光束で最大転写可能領域の中の
一部の転写領域で露光面を照明しかつ光源部と露光面の
間の少なくとも１か所に前記露光面と共役な位置を設け
た照明光学系と、該照明光学系の前記共役な位置で前記
光源からの光束を受光するように配置された第１受光部
と、前記露光面上で前記光源からの光束を受光する第２
受光部と、前記第１受光部の信号と第２受光部の信号と
から露光面の光強度分布を求める光強度測定部とから構
成したものである。
影響を補償することにより、露光面における光強度分布
の測定の精度を向上させることができる光強度分布測定
装置を提供することである。 【構成】 光源部からの光束で最大転写可能領域の中の
一部の転写領域で露光面を照明しかつ光源部と露光面の
間の少なくとも１か所に前記露光面と共役な位置を設け
た照明光学系と、該照明光学系の前記共役な位置で前記
光源からの光束を受光するように配置された第１受光部
と、前記露光面上で前記光源からの光束を受光する第２
受光部と、前記第１受光部の信号と第２受光部の信号と
から露光面の光強度分布を求める光強度測定部とから構
成したものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光強度分布測定装置に
関し、特に、ウェハ面上の露光強度を精度良く測定でき
るようにした光強度分布測定装置に関する。
関し、特に、ウェハ面上の露光強度を精度良く測定でき
るようにした光強度分布測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＬＳＩ等を製造するための露光装
置では、一般に、集積回路を描いたレチクルパターンを
照明光学系によって照明し、レチクルパターンを露光機
構部内の投影光学系によりシリコンウェハ面上に投影す
ることによって、露光を行っている。また、昨今のＬＳ
Ｉ等の集積度の増大に伴い、露光装置の露光光線はより
短波長化へと進んでおり、そのような露光光線として、
エキシマレーザ光がよく用いられるようになっている。
エキシマレーザ光は、波長が短く高出力が得られる反
面、パルスレーザであるため、パルスごとにあるいは同
じパルスでも空間的に、そのパワーにはかなりばらつき
がある。
置では、一般に、集積回路を描いたレチクルパターンを
照明光学系によって照明し、レチクルパターンを露光機
構部内の投影光学系によりシリコンウェハ面上に投影す
ることによって、露光を行っている。また、昨今のＬＳ
Ｉ等の集積度の増大に伴い、露光装置の露光光線はより
短波長化へと進んでおり、そのような露光光線として、
エキシマレーザ光がよく用いられるようになっている。
エキシマレーザ光は、波長が短く高出力が得られる反
面、パルスレーザであるため、パルスごとにあるいは同
じパルスでも空間的に、そのパワーにはかなりばらつき
がある。
【０００３】一方、レチクルパターンを照明する際に
は、±２〜３％の照明の均一性が要求される。このよう
な照明の均一性を実現するために、露光面の光強度分布
を測定することが、従来行われている。図６は、エキシ
マレーザ光を光源とする従来の露光装置及び光強度分布
測定装置の全体構成を示す。同図のエキシマレーザ光源
１００から出たビーム１０１は、ミラー１０７で反射さ
れ、照明の均一化を図るためのオプティカルインテグレ
ータ１０３とレンズ１０４を通った後に、ミラー１０９
で反射され、次いで、コンデンサレンズ１１０を通り、
レチクル１１１面上を照明する。ビーム１０１は、レチ
クル１１１を通った後、縮小投影レンズ１１２を通っ
て、ウェハ１１３面上にレチクル１１１のパターンを投
影する。
は、±２〜３％の照明の均一性が要求される。このよう
な照明の均一性を実現するために、露光面の光強度分布
を測定することが、従来行われている。図６は、エキシ
マレーザ光を光源とする従来の露光装置及び光強度分布
測定装置の全体構成を示す。同図のエキシマレーザ光源
１００から出たビーム１０１は、ミラー１０７で反射さ
れ、照明の均一化を図るためのオプティカルインテグレ
ータ１０３とレンズ１０４を通った後に、ミラー１０９
で反射され、次いで、コンデンサレンズ１１０を通り、
レチクル１１１面上を照明する。ビーム１０１は、レチ
クル１１１を通った後、縮小投影レンズ１１２を通っ
て、ウェハ１１３面上にレチクル１１１のパターンを投
影する。
【０００４】露光面、すなわちウェハ１１３面上の光強
度分布は、ウェハ１１３面と同一高さ位置に設けられた
光量センサ１１８を、ウェハ１１３面に沿って転写領域
内で移動させながら、複数の位置で順次、光強度ＩWiを
測定することによって行われる。また、ビーム１０１
は、エキシマレーザ光源１００の近傍に設けられたビー
ムスプリッタ６０６によって、少量の光量だけ参照光６
０５として分離され、ウェハ１１３面上の光強度ＩWiを
測定するのと同時に、参照光６０５の光強度ＩRiが光量
センサ６０２によって測定される。そして、ウェハ１１
３面上の光強度と参照光６０５の光強度との比ＩWi／Ｉ
Riを算出して無次元化することにより、ビーム１０１の
パルスごとのパワーのばらつきによる影響をできるだけ
除去して、光強度の測定を安定して行うようにしてい
る。
度分布は、ウェハ１１３面と同一高さ位置に設けられた
光量センサ１１８を、ウェハ１１３面に沿って転写領域
内で移動させながら、複数の位置で順次、光強度ＩWiを
測定することによって行われる。また、ビーム１０１
は、エキシマレーザ光源１００の近傍に設けられたビー
ムスプリッタ６０６によって、少量の光量だけ参照光６
０５として分離され、ウェハ１１３面上の光強度ＩWiを
測定するのと同時に、参照光６０５の光強度ＩRiが光量
センサ６０２によって測定される。そして、ウェハ１１
３面上の光強度と参照光６０５の光強度との比ＩWi／Ｉ
Riを算出して無次元化することにより、ビーム１０１の
パルスごとのパワーのばらつきによる影響をできるだけ
除去して、光強度の測定を安定して行うようにしてい
る。
【０００５】あるいは、同図に示すように、光量センサ
６０２の代わりに、レチクル１１１の近傍に光量センサ
６０３を設け、参照光の光強度として、この位置でビー
ム１０１の光強度ＩRiを、ウェハ１１３面上の光強度Ｉ
Wiと同時に測定し、上述と同様に光強度ＩWiとＩRiを処
理して、光強度分布を測定するようにしたものも知られ
ている。
６０２の代わりに、レチクル１１１の近傍に光量センサ
６０３を設け、参照光の光強度として、この位置でビー
ム１０１の光強度ＩRiを、ウェハ１１３面上の光強度Ｉ
Wiと同時に測定し、上述と同様に光強度ＩWiとＩRiを処
理して、光強度分布を測定するようにしたものも知られ
ている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の装置による測定では、前述したエキシマレー
ザ光のパワーの空間的なばらつきによる影響を補償でき
ず、したがって、露光面における光強度分布を精度良く
測定することができないという問題があった。すなわ
ち、エキシマレーザ光にはパワーの空間的なばらつきが
あるため、光路中の位置によっては、その位置における
光強度分布特性と露光面における光強度分布特性の間に
大きな隔たりが生じ、そのような位置から参照光を取り
出して光強度を測定しても、露光面の光強度を精度良く
求めることはできない。
うな従来の装置による測定では、前述したエキシマレー
ザ光のパワーの空間的なばらつきによる影響を補償でき
ず、したがって、露光面における光強度分布を精度良く
測定することができないという問題があった。すなわ
ち、エキシマレーザ光にはパワーの空間的なばらつきが
あるため、光路中の位置によっては、その位置における
光強度分布特性と露光面における光強度分布特性の間に
大きな隔たりが生じ、そのような位置から参照光を取り
出して光強度を測定しても、露光面の光強度を精度良く
求めることはできない。
【０００７】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであり、露光光線の空間的なパワーの
ばらつきによる影響を補償することにより、露光面にお
ける光強度分布の測定の精度を向上させることができる
光強度分布測定装置を提供することを目的とする。
めになされたものであり、露光光線の空間的なパワーの
ばらつきによる影響を補償することにより、露光面にお
ける光強度分布の測定の精度を向上させることができる
光強度分布測定装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、光源部からの光束で最大転写可能領域の中
の一部の転写領域で露光面を照明しかつ光源部と露光面
の間の少なくとも１か所に前記露光面と共役な位置を設
けた照明光学系と、該照明光学系の前記共役な位置で前
記光源からの光束を受光するように配置された第１受光
部と、前記露光面上で前記光源からの光束を受光する第
２受光部と、前記第１受光部の信号と第２受光部の信号
とから露光面の光強度分布を求める光強度測定部と、を
有する構成としたものである。
成するため、光源部からの光束で最大転写可能領域の中
の一部の転写領域で露光面を照明しかつ光源部と露光面
の間の少なくとも１か所に前記露光面と共役な位置を設
けた照明光学系と、該照明光学系の前記共役な位置で前
記光源からの光束を受光するように配置された第１受光
部と、前記露光面上で前記光源からの光束を受光する第
２受光部と、前記第１受光部の信号と第２受光部の信号
とから露光面の光強度分布を求める光強度測定部と、を
有する構成としたものである。
【０００９】
【作用】上記構成によれば、光強度分布特性に近似した
光強度分布特性をもつ、露光面と共役な位置から、参照
光が取り出されるので、露光光線の空間的なパワーのば
らつきによる影響が少なくなる。
光強度分布特性をもつ、露光面と共役な位置から、参照
光が取り出されるので、露光光線の空間的なパワーのば
らつきによる影響が少なくなる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例を、図面を参照して説
明する。図１は、本発明の光強度分布測定装置の第１実
施例を、露光装置とともに示す図である。同図中、従来
の光強度分布測定装置を示した図６と同一の部分につい
ては、同一の番号を付し、その詳細な説明を省略するも
のとする。
明する。図１は、本発明の光強度分布測定装置の第１実
施例を、露光装置とともに示す図である。同図中、従来
の光強度分布測定装置を示した図６と同一の部分につい
ては、同一の番号を付し、その詳細な説明を省略するも
のとする。
【００１１】エキシマレーザ光源１００から出たビーム
１０１は、まずミラー１０２で反射され、オプティカル
インテグレータ１０３を通った後、レンズ１０４、１０
５を経てミラー１０７で反射され、次いで、レンズ１０
８を通った後に、ミラー１０９に至る。レンズ１０５の
直後には、レチクル絞り１０６が設けられている。ミラ
ー１０９からウェハ１１３までの構成は、図６に示した
従来の装置と同様であり、露光面、すなわちウェハ１１
３面上の光強度分布は、ウェハ１１３面と同一高さ位置
に配置された、例えばピンホールの受光部をもつ光量セ
ンサ１１８によって、複数の位置で光強度ＩWiを検出す
ることによって、測定される。また、レチクル絞り１０
６の直前の後述する位置に、光量センサ２０１が配置さ
れている。光量センサ２０１は、光量センサ１１８によ
るウェハ１１３面上の光強度ＩWiの検出と同時に、参照
光の光強度ＩRiを検出する。また、光強度ＩWiを表す信
号と光強度ＩRiを表す信号は、図１（ｂ）に示す光強度
測定部１２０に送られ、ここで両者の比ＩWi／ＩRiが算
出されるようになっている。
１０１は、まずミラー１０２で反射され、オプティカル
インテグレータ１０３を通った後、レンズ１０４、１０
５を経てミラー１０７で反射され、次いで、レンズ１０
８を通った後に、ミラー１０９に至る。レンズ１０５の
直後には、レチクル絞り１０６が設けられている。ミラ
ー１０９からウェハ１１３までの構成は、図６に示した
従来の装置と同様であり、露光面、すなわちウェハ１１
３面上の光強度分布は、ウェハ１１３面と同一高さ位置
に配置された、例えばピンホールの受光部をもつ光量セ
ンサ１１８によって、複数の位置で光強度ＩWiを検出す
ることによって、測定される。また、レチクル絞り１０
６の直前の後述する位置に、光量センサ２０１が配置さ
れている。光量センサ２０１は、光量センサ１１８によ
るウェハ１１３面上の光強度ＩWiの検出と同時に、参照
光の光強度ＩRiを検出する。また、光強度ＩWiを表す信
号と光強度ＩRiを表す信号は、図１（ｂ）に示す光強度
測定部１２０に送られ、ここで両者の比ＩWi／ＩRiが算
出されるようになっている。
【００１２】図２は、図１のオプティカルインテグレー
タ１０３からレチクル絞り１０６までの部分を詳細に示
す図である。同図において、エキシマレーザ光源１００
からのほぼ平行なビーム１０１は、オプティカルインテ
グレータ１０３に入射し、その直後に多数個の２次光源
２０２を形成する。この２次光源２０２から出た光がレ
ンズ１０４、１０５を通ることによって、このレンズ１
０５の後ろ側に、ウェハ１１３面、すなわち露光面と共
役な位置が形成され、この共役な位置に、前述したレチ
クル絞り１０６が設けられている。このレチクル絞り１
０６の位置は、もちろん、レチクル１１１とも共役な関
係になっている。
タ１０３からレチクル絞り１０６までの部分を詳細に示
す図である。同図において、エキシマレーザ光源１００
からのほぼ平行なビーム１０１は、オプティカルインテ
グレータ１０３に入射し、その直後に多数個の２次光源
２０２を形成する。この２次光源２０２から出た光がレ
ンズ１０４、１０５を通ることによって、このレンズ１
０５の後ろ側に、ウェハ１１３面、すなわち露光面と共
役な位置が形成され、この共役な位置に、前述したレチ
クル絞り１０６が設けられている。このレチクル絞り１
０６の位置は、もちろん、レチクル１１１とも共役な関
係になっている。
【００１３】この共役な位置では、ウェハ１１３面の位
置と空間的なレーザパワーの相違が少ないので、レチク
ル絞り１０６の近傍に前述した光量センサ２０１を配置
して、参照光の光強度ＩRiとすることにより、ウェハ１
１３面の光強度分布を精度良く測定することができる。
また、従来と同様に、ウェハ１１３面の光強度との比Ｉ
Wi／ＩRiを算出して無次元化することによって、レーザ
パワーのパルスごとのばらつきによる影響をほとんど除
去することができる。
置と空間的なレーザパワーの相違が少ないので、レチク
ル絞り１０６の近傍に前述した光量センサ２０１を配置
して、参照光の光強度ＩRiとすることにより、ウェハ１
１３面の光強度分布を精度良く測定することができる。
また、従来と同様に、ウェハ１１３面の光強度との比Ｉ
Wi／ＩRiを算出して無次元化することによって、レーザ
パワーのパルスごとのばらつきによる影響をほとんど除
去することができる。
【００１４】また、図２の構成によれば、２次光源２０
２から出た多数個の光は、すべて、レチクル絞り１０６
の位置で、最大転写可能領域として重ね合わされる。最
大転写可能領域とは、照明光束によりマスクを転写する
ことが可能な最大の範囲をいい、図２では、レチクル絞
り１０６の位置における実線で示す光束間の範囲（Ａの
範囲）、図３では、３０１で示される円形の範囲であ
る。２次光源２０２から出た多数個の光がレチクル絞り
１０６によって絞られることにより、最大転写可能領域
３０１の中に、転写領域が決定される。転写領域とは、
照明光束によりマスクが実際に転写される範囲をいい、
図２では、レチクル絞り１０６の位置における破線で示
す光束間の範囲（Ｂの範囲）、図３では、３０２で示さ
れる正方形の範囲である。そして、前述した光量センサ
２０１は、最大転写可能領域３０１のうちの転写領域３
０２以外の領域、すなわち、図２では、実線と破線の間
の範囲（Ｃの範囲）、図３では、３０３で示される斜線
の領域内に配置されている。前述したように、最大転写
可能領域３０１には、２次光源２０２からの多数個の光
が、すべて必ず到達するため、最大転写可能領域３０１
内のどの位置でも、ビーム１０１の全光束を反映してお
り、かつその光強度は一定である。したがって、光量セ
ンサ２０１を上述した位置に配置することにより、レチ
クル絞り１０６がどのように絞られても、すなわちどの
ようなチップサイズであっても、一定の光強度をもつ光
を参照光として受光することができるとともに、光量セ
ンサ２０１が転写領域３０２内に入り込んでビームをけ
ることによる転写領域３０２内への光学的影響をまった
くなくすことができる。
２から出た多数個の光は、すべて、レチクル絞り１０６
の位置で、最大転写可能領域として重ね合わされる。最
大転写可能領域とは、照明光束によりマスクを転写する
ことが可能な最大の範囲をいい、図２では、レチクル絞
り１０６の位置における実線で示す光束間の範囲（Ａの
範囲）、図３では、３０１で示される円形の範囲であ
る。２次光源２０２から出た多数個の光がレチクル絞り
１０６によって絞られることにより、最大転写可能領域
３０１の中に、転写領域が決定される。転写領域とは、
照明光束によりマスクが実際に転写される範囲をいい、
図２では、レチクル絞り１０６の位置における破線で示
す光束間の範囲（Ｂの範囲）、図３では、３０２で示さ
れる正方形の範囲である。そして、前述した光量センサ
２０１は、最大転写可能領域３０１のうちの転写領域３
０２以外の領域、すなわち、図２では、実線と破線の間
の範囲（Ｃの範囲）、図３では、３０３で示される斜線
の領域内に配置されている。前述したように、最大転写
可能領域３０１には、２次光源２０２からの多数個の光
が、すべて必ず到達するため、最大転写可能領域３０１
内のどの位置でも、ビーム１０１の全光束を反映してお
り、かつその光強度は一定である。したがって、光量セ
ンサ２０１を上述した位置に配置することにより、レチ
クル絞り１０６がどのように絞られても、すなわちどの
ようなチップサイズであっても、一定の光強度をもつ光
を参照光として受光することができるとともに、光量セ
ンサ２０１が転写領域３０２内に入り込んでビームをけ
ることによる転写領域３０２内への光学的影響をまった
くなくすことができる。
【００１５】図４は、本発明の光強度分布測定装置の第
２実施例を、露光装置とともに示す図である。同図中、
図１と同一の部分については、同一の番号を付し、その
詳細な説明を省略するものとする。本実施例では、ミラ
ー１０７は、１〜２パーセント程度の光透過率を有す
る。ミラー１０７を透過したビームの全光束は、レンズ
４１５によって集光され、この集光点に、光量センサ４
１７が配置されている。光量センサ４１７の手前には、
光強度を調節するためのＮＤフィルタ４１６が配置され
ている。他の構成は、前述した第１実施例と同様であ
る。
２実施例を、露光装置とともに示す図である。同図中、
図１と同一の部分については、同一の番号を付し、その
詳細な説明を省略するものとする。本実施例では、ミラ
ー１０７は、１〜２パーセント程度の光透過率を有す
る。ミラー１０７を透過したビームの全光束は、レンズ
４１５によって集光され、この集光点に、光量センサ４
１７が配置されている。光量センサ４１７の手前には、
光強度を調節するためのＮＤフィルタ４１６が配置され
ている。他の構成は、前述した第１実施例と同様であ
る。
【００１６】この第２実施例の構成でも、光量センサ４
１７が、露光面であるウェハ１１３面と共役な位置に配
置され、この共役な位置の光を参照光としているので、
第１実施例の場合と同様に、ウェハ１１３面の光強度分
布を精度良く測定することができる。また、本実施例で
は、露光光束の全光束を参照光としているので、従来の
ような露光光束の一部を参照光として取り出している場
合と異なり、レーザパワーの変動のすべての情報が得ら
れ、これに対応した参照光の光強度ＩRiを測定でき、し
たがって、レーザパワーの変動による影響をより消去す
ることができる。
１７が、露光面であるウェハ１１３面と共役な位置に配
置され、この共役な位置の光を参照光としているので、
第１実施例の場合と同様に、ウェハ１１３面の光強度分
布を精度良く測定することができる。また、本実施例で
は、露光光束の全光束を参照光としているので、従来の
ような露光光束の一部を参照光として取り出している場
合と異なり、レーザパワーの変動のすべての情報が得ら
れ、これに対応した参照光の光強度ＩRiを測定でき、し
たがって、レーザパワーの変動による影響をより消去す
ることができる。
【００１７】また、変形例として、図４の破線で示す、
ウェハ１１３面と共役な位置に、ハーフミラー４１９を
設けて、参照光を取り出し、上述のレンズ４１５と光量
センサ４１７のような装置によって、参照光の全光束を
集めて、光強度を測定するようにしてもよい。なお、光
量センサ１１８は、ウェハ１１３面の転写領域内を移動
させながら、その光強度を検出できれば任意の形式のも
のでよく、実施例に示すようなピンホールの受光部を移
動させて検出する形式の他、例えば、図５(a) に示すラ
インセンサ５０１でスキャンする形式や、転写領域より
も小さな同図 (b)に示すエリアセンサ５０２でスキャン
する形式を用いることが可能である。
ウェハ１１３面と共役な位置に、ハーフミラー４１９を
設けて、参照光を取り出し、上述のレンズ４１５と光量
センサ４１７のような装置によって、参照光の全光束を
集めて、光強度を測定するようにしてもよい。なお、光
量センサ１１８は、ウェハ１１３面の転写領域内を移動
させながら、その光強度を検出できれば任意の形式のも
のでよく、実施例に示すようなピンホールの受光部を移
動させて検出する形式の他、例えば、図５(a) に示すラ
インセンサ５０１でスキャンする形式や、転写領域より
も小さな同図 (b)に示すエリアセンサ５０２でスキャン
する形式を用いることが可能である。
【００１８】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
露光光線の空間的なパワーのばらつきによる影響を補償
することにより、露光面における光強度分布の測定の精
度を向上させることができる等の効果を奏する。
露光光線の空間的なパワーのばらつきによる影響を補償
することにより、露光面における光強度分布の測定の精
度を向上させることができる等の効果を奏する。
【図１】本発明の第１実施例による光強度分布測定装置
を、露光装置とともに示す基本構成図
を、露光装置とともに示す基本構成図
【図２】図１の一部を拡大して示す詳細図
【図３】レチクル絞り１０６の位置における最大転写可
能領域と転写領域との関係を示す図
能領域と転写領域との関係を示す図
【図４】本発明の第２実施例を示す、図１と同様の図
【図５】ウェハ面上に配置される光量センサの変形例を
示す図
示す図
【図６】従来の光強度分布測定装置を示す、図１と同様
の図
の図
１００ エキシマレーザ光源（光源部） １０１ ビーム（光束） １１３ ウェハ面（露光面） １１８ 光量センサ（第２受光部） １２０ 光強度測定部 ２０１ 光量センサ（第１受光部） ３０１ 最大転写可能領域 ３０２ 転写領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芳野 寿和 東京都板橋区蓮沼町75番１号 株式会社ト プコン内 (72)発明者 鳥海 正樹 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式会 社東芝内 (72)発明者 西坂 武士 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式会 社東芝内 (72)発明者 桑原 理 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式会 社東芝内 (72)発明者 東条 徹 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式会 社東芝内 (72)発明者 田畑 光雄 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式会 社東芝内
Claims (5)
- 【請求項１】 光源部からの光束で最大転写可能領域の
中の一部の転写領域で露光面を照明しかつ光源部と露光
面の間の少なくとも１か所に前記露光面と共役な位置を
設けた照明光学系と、 該照明光学系の前記共役な位置で前記光源からの光束を
受光するように配置された第１受光部と、 前記露光面上で前記光源からの光束を受光する第２受光
部と、 前記第１受光部の信号と第２受光部の信号とから露光面
の光強度分布を求める光強度測定部と、 を有することを特徴とする光強度分布測定装置。 - 【請求項２】 前記第１受光部は、前記照明光学系の前
記共役な位置で最大転写可能領域の中の転写領域以外の
領域の一部の光束を受光するように配置されていること
を特徴とする、請求項１に記載の光強度分布測定装置。 - 【請求項３】 前記照明光学系の光路中に前記光源から
の光束の一部を取り出すビームスプリッタを設け、前記
第１受光部はビームスプリッタで取り出された前記光源
からの光束の一部を受光するように構成されていること
を特徴とする、請求項１に記載の光強度分布測定装置。 - 【請求項４】 前記光強度測定部は、前記第１受光部の
信号と第２受光部の信号との比をとり前記露光面の光強
度分布を求めることを特徴とする、請求項１に記載の光
強度分布測定装置。 - 【請求項５】 前記光源部は、パルスレーザであること
を特徴とする、請求項１に記載の光強度分布測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3220422A JPH0560602A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 光強度分布測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3220422A JPH0560602A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 光強度分布測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0560602A true JPH0560602A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=16750864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3220422A Pending JPH0560602A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 光強度分布測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0560602A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100649719B1 (ko) * | 1999-09-22 | 2006-11-24 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 노광기 초점 조절장치 |
| CN1313805C (zh) * | 2003-08-22 | 2007-05-02 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 强激光脉冲光强分布测试系统 |
| CN103969960A (zh) * | 2013-02-04 | 2014-08-06 | 上海微电子装备有限公司 | 一种套刻测量的装置和方法 |
-
1991
- 1991-08-30 JP JP3220422A patent/JPH0560602A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100649719B1 (ko) * | 1999-09-22 | 2006-11-24 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 노광기 초점 조절장치 |
| CN1313805C (zh) * | 2003-08-22 | 2007-05-02 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 强激光脉冲光强分布测试系统 |
| CN103969960A (zh) * | 2013-02-04 | 2014-08-06 | 上海微电子装备有限公司 | 一种套刻测量的装置和方法 |
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