JPH11310561A - 光学異性体の製造法 - Google Patents
光学異性体の製造法Info
- Publication number
- JPH11310561A JPH11310561A JP20258398A JP20258398A JPH11310561A JP H11310561 A JPH11310561 A JP H11310561A JP 20258398 A JP20258398 A JP 20258398A JP 20258398 A JP20258398 A JP 20258398A JP H11310561 A JPH11310561 A JP H11310561A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- methoxy
- formula
- acetamide
- added
- ring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】アミロイドβ蛋白産生・分泌阻害作用を有しア
ルツハイマー病予防・治療剤として有用な縮合芳香族誘
導体の光学異性体を製造するための合成中間体の製造法
の提供。 【解決手段】式 【化１】 〔式中、環Ａは置換基を有していてもよい芳香環、Ｘは
−(CH2)2−、−(CH2)3−、−O−(CH2)2−、−O−CH
2−、−NR1−CH2−または−NR1−(CH2)2− (Ｒ1はＨ、
アルキル、アルキルカルボニルまたはアルコキシカルボ
ニルを示す)、ｍは１〜３、Ｔはヒドロキシまたはアシ
ルをそれぞれ示す〕で表される化合物またはその塩を遷
移金属−光学活性ホスフィン錯体存在下に不斉水素化反
応に付すことにより、式 【化２】 〔式中、＊は不斉炭素原子の位置、他の各記号は前記と
同意義を示す〕で表される化合物の光学異性体またはそ
の塩を製造する。
ルツハイマー病予防・治療剤として有用な縮合芳香族誘
導体の光学異性体を製造するための合成中間体の製造法
の提供。 【解決手段】式 【化１】 〔式中、環Ａは置換基を有していてもよい芳香環、Ｘは
−(CH2)2−、−(CH2)3−、−O−(CH2)2−、−O−CH
2−、−NR1−CH2−または−NR1−(CH2)2− (Ｒ1はＨ、
アルキル、アルキルカルボニルまたはアルコキシカルボ
ニルを示す)、ｍは１〜３、Ｔはヒドロキシまたはアシ
ルをそれぞれ示す〕で表される化合物またはその塩を遷
移金属−光学活性ホスフィン錯体存在下に不斉水素化反
応に付すことにより、式 【化２】 〔式中、＊は不斉炭素原子の位置、他の各記号は前記と
同意義を示す〕で表される化合物の光学異性体またはそ
の塩を製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬品等の合成原
料として有用な光学異性体またはその塩の製造法に関す
る。
料として有用な光学異性体またはその塩の製造法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】縮合芳香族誘導体として、例えば特開平
２−９６５５２号公報において、セロトニン受容体に対
する作用薬あるいは拮抗薬の作用を有し中枢神経の疾患
等の処置に適する化合物およびその光学異性体が記載さ
れているが、光学異性体は光学分割して得られている。
特開平４−３３８３５８号公報には、置換ベンゾシクロ
アルカノイル−２−酢酸誘導体の合成法が開示されてい
るが、光学異性体の製法には言及されていない。また、
ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー(Journal
of Medicinal Chemistry), 37巻, 2071−2078頁, 1994
年 に記載の新規なプロリルエンドペプチダーゼ阻害薬
の合成には、光学活性な２−テトラリン酢酸およびその
類縁体が用いられている。しかしながら、該文献では、
光学活性な２−テトラリン酢酸は１−(１−ナフチル)エ
チルアミンを使った光学分割法によって製造されてい
る。特開昭６３−７７８４２号公報には、心拍数低下作
用および心臓の酸素要求量の減少作用を有し洞性頻拍の
治療および虚血性心臓疾患の予防ならびに治療に適した
縮合芳香族誘導体が記載されているが、光学異性体につ
いての具体的記載例はない。
２−９６５５２号公報において、セロトニン受容体に対
する作用薬あるいは拮抗薬の作用を有し中枢神経の疾患
等の処置に適する化合物およびその光学異性体が記載さ
れているが、光学異性体は光学分割して得られている。
特開平４−３３８３５８号公報には、置換ベンゾシクロ
アルカノイル−２−酢酸誘導体の合成法が開示されてい
るが、光学異性体の製法には言及されていない。また、
ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー(Journal
of Medicinal Chemistry), 37巻, 2071−2078頁, 1994
年 に記載の新規なプロリルエンドペプチダーゼ阻害薬
の合成には、光学活性な２−テトラリン酢酸およびその
類縁体が用いられている。しかしながら、該文献では、
光学活性な２−テトラリン酢酸は１−(１−ナフチル)エ
チルアミンを使った光学分割法によって製造されてい
る。特開昭６３−７７８４２号公報には、心拍数低下作
用および心臓の酸素要求量の減少作用を有し洞性頻拍の
治療および虚血性心臓疾患の予防ならびに治療に適した
縮合芳香族誘導体が記載されているが、光学異性体につ
いての具体的記載例はない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】医薬品においては、ラ
セミ体よりも光学異性体の方が薬効がさらに際立って発
揮されることがある。光学異性体を得る方法として以下
に示す方法があるが、工業的には適していない。すなわ
ち、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）を用いる
光学分割により光学異性体を得る方法では、大量処理は
困難であり、製造コストも高く工業的製造法としては適
していない。また、光学活性な酸または塩基を用いる光
学分割法では、理論収率が最大でも５０％を超えること
ができず、また操作も煩雑であるため工業的製造法とし
ては好ましくない。従って、有用な光学異性体の、収
率、純度、簡便性、経済性などの条件を満たす工業的に
実施可能な製造法の確立が望まれている。
セミ体よりも光学異性体の方が薬効がさらに際立って発
揮されることがある。光学異性体を得る方法として以下
に示す方法があるが、工業的には適していない。すなわ
ち、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）を用いる
光学分割により光学異性体を得る方法では、大量処理は
困難であり、製造コストも高く工業的製造法としては適
していない。また、光学活性な酸または塩基を用いる光
学分割法では、理論収率が最大でも５０％を超えること
ができず、また操作も煩雑であるため工業的製造法とし
ては好ましくない。従って、有用な光学異性体の、収
率、純度、簡便性、経済性などの条件を満たす工業的に
実施可能な製造法の確立が望まれている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、縮合芳香
族誘導体の光学異性体の製造法として、不斉水素化反応
を種々検討したところ、遷移金属−光学活性ホスフィン
錯体を用いると、効率的に目的とする光学異性体が選択
的に得られることを見いだし、さらに鋭意研究した結
果、本発明を完成するに至った。
族誘導体の光学異性体の製造法として、不斉水素化反応
を種々検討したところ、遷移金属−光学活性ホスフィン
錯体を用いると、効率的に目的とする光学異性体が選択
的に得られることを見いだし、さらに鋭意研究した結
果、本発明を完成するに至った。
【０００５】即ち、本発明は（１）式
【化７】 〔式中、環Ａは置換基を有していてもよい芳香環、Ｘは
−(ＣＨ2)2−、−(ＣＨ2)3−、−Ｏ−(ＣＨ2)2−、−
Ｏ−ＣＨ2−、−ＮＲ1−ＣＨ2− または −ＮＲ1−(Ｃ
Ｈ2)2− (式中、Ｒ1は水素原子、アルキル、アルキル
カルボニルまたはアルコキシカルボニルを示す）、ｍは
１ないし３の整数、Ｔはヒドロキシまたはアシルをそれ
ぞれ示す。ただし、式
−(ＣＨ2)2−、−(ＣＨ2)3−、−Ｏ−(ＣＨ2)2−、−
Ｏ−ＣＨ2−、−ＮＲ1−ＣＨ2− または −ＮＲ1−(Ｃ
Ｈ2)2− (式中、Ｒ1は水素原子、アルキル、アルキル
カルボニルまたはアルコキシカルボニルを示す）、ｍは
１ないし３の整数、Ｔはヒドロキシまたはアシルをそれ
ぞれ示す。ただし、式
【化８】 （式中の各記号は前記と同意義を示す）で表される環が
式
式
【化９】 （式中、Ｒa は水素原子、アミノ、アセチルアミノ、ｔ
−ブトキシカルボニルアミノまたはｐ−シアノベンゾイ
ルアミノ、Ｘa は Ｏ または ＣＨ2 を示す）で表され
る環、およびＴがカルボキシの場合、ｍは２または３で
ある。〕で表される化合物〔以下、化合物（II）と略記
することがある〕またはその塩を、遷移金属−光学活性
ホスフィン錯体存在下に不斉水素化反応に付すことを特
徴とする式
−ブトキシカルボニルアミノまたはｐ−シアノベンゾイ
ルアミノ、Ｘa は Ｏ または ＣＨ2 を示す）で表され
る環、およびＴがカルボキシの場合、ｍは２または３で
ある。〕で表される化合物〔以下、化合物（II）と略記
することがある〕またはその塩を、遷移金属−光学活性
ホスフィン錯体存在下に不斉水素化反応に付すことを特
徴とする式
【化１０】 〔式中、＊は不斉炭素原子（不斉が誘起される炭素原
子）の位置、各記号は前記と同意義をそれぞれ示す〕で
表される化合物〔以下、化合物（I）と略記することも
ある〕の光学異性体またはその塩の製造法、
子）の位置、各記号は前記と同意義をそれぞれ示す〕で
表される化合物〔以下、化合物（I）と略記することも
ある〕の光学異性体またはその塩の製造法、
【０００６】（２）Ｘが −(ＣＨ2)2−、Ｔがアシル、
および環Ａが置換基を有していてもよいベンゼン環であ
る上記（１）記載の製造法、（３）式（II）で表される
化合物がＮ,Ｎ−ジメチル−［６−メトキシ−２−（３,
４−ジヒドロナフタレン）］アセトアミド、および式
（I）で表される化合物がＮ,Ｎ−ジメチル−（６−メト
キシ−２−テトラリン）アセトアミドである上記（１）
記載の製造法、（４）式（II）で表される化合物がＮ,
Ｎ−ジエチル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジヒド
ロナフタレン）］アセトアミド、および式（I）で表さ
れる化合物がＮ,Ｎ−ジエチル−（６−メトキシ−２−
テトラリン）アセトアミドである上記（１）記載の製造
法、（５）遷移金属がルテニウム(Ｒｕ)である上記
（１）記載の製造法、
および環Ａが置換基を有していてもよいベンゼン環であ
る上記（１）記載の製造法、（３）式（II）で表される
化合物がＮ,Ｎ−ジメチル−［６−メトキシ−２−（３,
４−ジヒドロナフタレン）］アセトアミド、および式
（I）で表される化合物がＮ,Ｎ−ジメチル−（６−メト
キシ−２−テトラリン）アセトアミドである上記（１）
記載の製造法、（４）式（II）で表される化合物がＮ,
Ｎ−ジエチル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジヒド
ロナフタレン）］アセトアミド、および式（I）で表さ
れる化合物がＮ,Ｎ−ジエチル−（６−メトキシ−２−
テトラリン）アセトアミドである上記（１）記載の製造
法、（５）遷移金属がルテニウム(Ｒｕ)である上記
（１）記載の製造法、
【０００７】（６）光学活性ホスフィンが式
【化１１】 〔式中、環Ｂはベンゼンまたはシクロヘキサン、Ｙは１
ないし３個のアルキルまたはアルコキシで置換されてい
てもよいフェニルをそれぞれ示す〕で表される化合物で
ある上記（１）記載の製造法、（７）遷移金属−光学活
性ホスフィン錯体が（Ｒ）配置または（Ｓ）配置のビス
[[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−１,１'−ビナ
フチル]ジクロロルテニウム]トリエチルアミンである上
記（１）記載の製造法、および
ないし３個のアルキルまたはアルコキシで置換されてい
てもよいフェニルをそれぞれ示す〕で表される化合物で
ある上記（１）記載の製造法、（７）遷移金属−光学活
性ホスフィン錯体が（Ｒ）配置または（Ｓ）配置のビス
[[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−１,１'−ビナ
フチル]ジクロロルテニウム]トリエチルアミンである上
記（１）記載の製造法、および
【０００８】（８）式
【化１２】 〔式中、＊は不斉炭素原子（不斉が誘起される炭素原
子）の位置、環Ａ'はハロゲン、ヒドロキシ、アルキ
ル、アルコキシおよび置換基を有していてもよいアラル
キルオキシから選ばれる置換基を有していてもよいベン
ゼン環、ｍ'は１または２、Ｒ2およびＲ3は同一または
異なって水素原子またはアルキルをそれぞれ示す〕で表
わされる化合物の光学異性体またはその塩等に関する。
子）の位置、環Ａ'はハロゲン、ヒドロキシ、アルキ
ル、アルコキシおよび置換基を有していてもよいアラル
キルオキシから選ばれる置換基を有していてもよいベン
ゼン環、ｍ'は１または２、Ｒ2およびＲ3は同一または
異なって水素原子またはアルキルをそれぞれ示す〕で表
わされる化合物の光学異性体またはその塩等に関する。
【０００９】上記式中、環Ａで示される「置換基を有し
ていてもよい芳香環」における「芳香環」としては、例
えば、芳香族同素環、芳香族複素環などが挙げられる。
該「芳香族同素環」としては、例えば、Ｃ6-14単環式ま
たは縮合多環式（２または３環式）芳香族同素環（例、
ベンゼン、ナフタレン、インデン、アントラセンなど）
などが挙げられる。なかでも、ベンゼンが好ましい。該
「芳香族複素環」としては、例えば炭素原子以外に窒素
原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれるヘテロ原子
１個以上（例えば１〜４個）を含む５ないし１４員、好
ましくは５ないし１０員の芳香族複素環などが挙げられ
る。具体的には、チオフェン、ベンゾチオフェン、ベン
ゾフラン、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、
ベンゾチアゾール、ベンズイソチアゾール、ナフト
［２，３−ｂ］チオフェン、フラン、フェノキサチイ
ン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサジア
ゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジ
ン、インドール、イソインドール、１Ｈ−インダゾー
ル、プリン、４Ｈ−キノリジン、イソキノリン、キノリ
ン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾ
リン、シンノリン、カルバゾール、β−カルボリン、フ
ェナントリジン、アクリジン、フェナジン、チアゾー
ル、イソチアゾール、フェノチアジン、イソオキサゾー
ル、フラザン、フェノキサジン、フタルイミドなどの芳
香族複素環、またはこれらの環（好ましくは単環）が１
ないし複数個（好ましくは１または２個）の芳香環
（例、ベンゼン環等）と縮合して形成された環などが挙
げられる。なかでも、フラン、ピロール、インドールが
特に好ましい。
ていてもよい芳香環」における「芳香環」としては、例
えば、芳香族同素環、芳香族複素環などが挙げられる。
該「芳香族同素環」としては、例えば、Ｃ6-14単環式ま
たは縮合多環式（２または３環式）芳香族同素環（例、
ベンゼン、ナフタレン、インデン、アントラセンなど）
などが挙げられる。なかでも、ベンゼンが好ましい。該
「芳香族複素環」としては、例えば炭素原子以外に窒素
原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれるヘテロ原子
１個以上（例えば１〜４個）を含む５ないし１４員、好
ましくは５ないし１０員の芳香族複素環などが挙げられ
る。具体的には、チオフェン、ベンゾチオフェン、ベン
ゾフラン、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、
ベンゾチアゾール、ベンズイソチアゾール、ナフト
［２，３−ｂ］チオフェン、フラン、フェノキサチイ
ン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサジア
ゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジ
ン、インドール、イソインドール、１Ｈ−インダゾー
ル、プリン、４Ｈ−キノリジン、イソキノリン、キノリ
ン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾ
リン、シンノリン、カルバゾール、β−カルボリン、フ
ェナントリジン、アクリジン、フェナジン、チアゾー
ル、イソチアゾール、フェノチアジン、イソオキサゾー
ル、フラザン、フェノキサジン、フタルイミドなどの芳
香族複素環、またはこれらの環（好ましくは単環）が１
ないし複数個（好ましくは１または２個）の芳香環
（例、ベンゼン環等）と縮合して形成された環などが挙
げられる。なかでも、フラン、ピロール、インドールが
特に好ましい。
【００１０】該「置換基を有していてもよい芳香環」に
おける「置換基」としては、例えば(1)ハロゲン原子
(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など)、(2)ハロゲン
化されていてもよいＣ1-6アルキル、(3)ハロゲン化され
ていてもよいＣ3-6シクロアルキル、(4)ハロゲン化され
ていてもよいＣ1-6アルコキシ、(5)アシル、(6)アシル
オキシ、(7)Ｃ6-10アリールオキシ(例、フェニルオキ
シ、ナフチルオキシなど)、(8)ヒドロキシ、(9)アミ
ノ、(10)Ｃ1-3アルキレンジオキシ(例、メチレンジオキ
シ、エチレンジオキシなど)、(11)ニトロ、(12)シア
ノ、(13)モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ(例、メチルアミ
ノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミ
ノ、ブチルアミノなど)、(14)ジ−Ｃ1-6アルキルアミノ
(例、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルア
ミノ、ジブチルアミノ、エチルメチルアミノなど)、(1
5)５ないし７員飽和環状アミノ、(16)アシルアミノ、(1
7)置換基を有していてもよいアラルキルオキシなどが挙
げられる。該芳香環は、例えば上記置換基を、置換可能
な位置に１ないし４個、好ましくは１ないし３個有して
いてもよく、置換基数が２個以上の場合、各置換基は同
一または異なっていてもよい。
おける「置換基」としては、例えば(1)ハロゲン原子
(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など)、(2)ハロゲン
化されていてもよいＣ1-6アルキル、(3)ハロゲン化され
ていてもよいＣ3-6シクロアルキル、(4)ハロゲン化され
ていてもよいＣ1-6アルコキシ、(5)アシル、(6)アシル
オキシ、(7)Ｃ6-10アリールオキシ(例、フェニルオキ
シ、ナフチルオキシなど)、(8)ヒドロキシ、(9)アミ
ノ、(10)Ｃ1-3アルキレンジオキシ(例、メチレンジオキ
シ、エチレンジオキシなど)、(11)ニトロ、(12)シア
ノ、(13)モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ(例、メチルアミ
ノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミ
ノ、ブチルアミノなど)、(14)ジ−Ｃ1-6アルキルアミノ
(例、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルア
ミノ、ジブチルアミノ、エチルメチルアミノなど)、(1
5)５ないし７員飽和環状アミノ、(16)アシルアミノ、(1
7)置換基を有していてもよいアラルキルオキシなどが挙
げられる。該芳香環は、例えば上記置換基を、置換可能
な位置に１ないし４個、好ましくは１ないし３個有して
いてもよく、置換基数が２個以上の場合、各置換基は同
一または異なっていてもよい。
【００１１】前記「ハロゲン化されていてもよいＣ1-6
アルキル」としては、例えば１ないし５個、好ましくは
１ないし３個のハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素など)を有していてもよいＣ1-6アルキル
(例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシルなど)が挙げられる。具体例としては、メ
チル、クロロメチル、ジフルオロメチル、トリクロロメ
チル、トリフルオロメチル、２−ブロモエチル、２,２,
２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、プロ
ピル、３,３,３−トリフルオロプロピル、イソプロピ
ル、ブチル、４,４,４−トリフルオロブチル、イソブチ
ル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペン
チル、ネオペンチル、５,５,５−トリフルオロペンチ
ル、ヘキシル、６,６,６−トリフルオロヘキシルなどが
挙げられる。前記「ハロゲン化されていてもよいＣ3-6
シクロアルキル」としては、例えば１ないし５個、好ま
しくは１ないし３個のハロゲン原子(例、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素など)を有していてもよいＣ3-6シクロ
アルキル(例、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシルなど)などが挙げられる。具
体例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、４,４−ジクロロシクロヘ
キシル、２,２,３,３−テトラフルオロシクロペンチ
ル、４−クロロシクロヘキシルなどが挙げられる。前記
「ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキシ」とし
ては、例えば１ないし５個、好ましくは１ないし３個の
ハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など)を
有していてもよいＣ1-6アルコキシ(例、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブ
トキシ、sec−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオ
キシなど)などが挙げられる。具体例としては、例えば
メトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキ
シ、エトキシ、２,２,２−トリフルオロエトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、４,４,４−トリフ
ルオロブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、ペン
チルオキシ、ヘキシルオキシなどが挙げられる。
アルキル」としては、例えば１ないし５個、好ましくは
１ないし３個のハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素など)を有していてもよいＣ1-6アルキル
(例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシルなど)が挙げられる。具体例としては、メ
チル、クロロメチル、ジフルオロメチル、トリクロロメ
チル、トリフルオロメチル、２−ブロモエチル、２,２,
２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、プロ
ピル、３,３,３−トリフルオロプロピル、イソプロピ
ル、ブチル、４,４,４−トリフルオロブチル、イソブチ
ル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペン
チル、ネオペンチル、５,５,５−トリフルオロペンチ
ル、ヘキシル、６,６,６−トリフルオロヘキシルなどが
挙げられる。前記「ハロゲン化されていてもよいＣ3-6
シクロアルキル」としては、例えば１ないし５個、好ま
しくは１ないし３個のハロゲン原子(例、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素など)を有していてもよいＣ3-6シクロ
アルキル(例、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシルなど)などが挙げられる。具
体例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、４,４−ジクロロシクロヘ
キシル、２,２,３,３−テトラフルオロシクロペンチ
ル、４−クロロシクロヘキシルなどが挙げられる。前記
「ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキシ」とし
ては、例えば１ないし５個、好ましくは１ないし３個の
ハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など)を
有していてもよいＣ1-6アルコキシ(例、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブ
トキシ、sec−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオ
キシなど)などが挙げられる。具体例としては、例えば
メトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキ
シ、エトキシ、２,２,２−トリフルオロエトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、４,４,４−トリフ
ルオロブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、ペン
チルオキシ、ヘキシルオキシなどが挙げられる。
【００１２】前記「アシル」、「アシルオキシ」および
「アシルアミノ」における「アシル」としては、後述の
Ｔで示される「アシル」と同様のものが挙げられる。
「アシル」の好ましい例も、後述のＴで示される「アシ
ル」の好ましいものと同様のものが挙げられる。前記
「アシルアミノ」としては、例えば、上記「アシル」で
１ないし２個置換されたアミノが挙げられ、好ましく
は、式：−ＮＲ6ＣＯＲ7、−ＮＲ6ＣＯＯＲ7a または
−ＮＲ6ＳＯ2Ｒ7a〔式中、Ｒ6は水素原子またはＣ1-6ア
ルキル、Ｒ7は水素原子、置換基を有していてもよい炭
化水素基または置換基を有していてもよい複素環基、Ｒ
7aは置換基を有していてもよい炭化水素基または置換基
を有していてもよい複素環基を示す〕で表されるアシル
アミノなどが挙げられる。Ｒ6で示される「Ｃ1-6アルキ
ル」は、後述のＲ5で示される「Ｃ1-6アルキル」と同様
のものが挙げられる。Ｒ7またはＲ7aで示される「置換
基を有していてもよい炭化水素基」および「置換基を有
していてもよい複素環基」は、後述のＲ4で示される
「置換基を有していてもよい炭化水素基」および「置換
基を有していてもよい複素環基」と同様のものがそれぞ
れ挙げられる。該「アシルアミノ」の好ましいものとし
ては、ホルミルアミノ、Ｃ1-6アルキル−カルボキサミ
ド（例、アセタミドなど）、Ｃ6-10アリール−カルボキ
サミド（例、フェニルカルボキサミド、ナフチルカルボ
キサミドなど）、Ｃ1-6アルコキシ−カルボキサミド
（例、メトキシカルボキサミド、エトキシカルボキサミ
ド、プロポキシカルボキサミド、ブトキシカルボキサミ
ドなど）、Ｃ1-6アルキルスルホニルアミノ（例、メチ
ルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノなど）な
どが挙げられる。
「アシルアミノ」における「アシル」としては、後述の
Ｔで示される「アシル」と同様のものが挙げられる。
「アシル」の好ましい例も、後述のＴで示される「アシ
ル」の好ましいものと同様のものが挙げられる。前記
「アシルアミノ」としては、例えば、上記「アシル」で
１ないし２個置換されたアミノが挙げられ、好ましく
は、式：−ＮＲ6ＣＯＲ7、−ＮＲ6ＣＯＯＲ7a または
−ＮＲ6ＳＯ2Ｒ7a〔式中、Ｒ6は水素原子またはＣ1-6ア
ルキル、Ｒ7は水素原子、置換基を有していてもよい炭
化水素基または置換基を有していてもよい複素環基、Ｒ
7aは置換基を有していてもよい炭化水素基または置換基
を有していてもよい複素環基を示す〕で表されるアシル
アミノなどが挙げられる。Ｒ6で示される「Ｃ1-6アルキ
ル」は、後述のＲ5で示される「Ｃ1-6アルキル」と同様
のものが挙げられる。Ｒ7またはＲ7aで示される「置換
基を有していてもよい炭化水素基」および「置換基を有
していてもよい複素環基」は、後述のＲ4で示される
「置換基を有していてもよい炭化水素基」および「置換
基を有していてもよい複素環基」と同様のものがそれぞ
れ挙げられる。該「アシルアミノ」の好ましいものとし
ては、ホルミルアミノ、Ｃ1-6アルキル−カルボキサミ
ド（例、アセタミドなど）、Ｃ6-10アリール−カルボキ
サミド（例、フェニルカルボキサミド、ナフチルカルボ
キサミドなど）、Ｃ1-6アルコキシ−カルボキサミド
（例、メトキシカルボキサミド、エトキシカルボキサミ
ド、プロポキシカルボキサミド、ブトキシカルボキサミ
ドなど）、Ｃ1-6アルキルスルホニルアミノ（例、メチ
ルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノなど）な
どが挙げられる。
【００１３】前記「アシルオキシ」としては、例えば、
上記「アシル」１個で置換されたオキシが挙げられ、好
ましくは、式：−Ｏ−ＣＯＲ8、−Ｏ−ＣＯＯＲ8 また
は −Ｏ−ＣＯＮＨＲ8〔式中、Ｒ8は置換基を有してい
てもよい炭化水素基または置換基を有していてもよい複
素環基を示す〕で表されるアシルオキシなどが挙げられ
る。Ｒ8で示される「置換基を有していてもよい炭化水
素基」および「置換基を有していてもよい複素環基」
は、後述のＲ4で示される「置換基を有していてもよい
炭化水素基」および「置換基を有していてもよい複素環
基」と同様のものがそれぞれ挙げられる。該「アシルオ
キシ」の好ましい例としては、Ｃ1-6アルキル−カルボ
ニルオキシ（例、アセトキシ、プロパノイルオキシな
ど）、Ｃ6-10アリール−カルボニルオキシ（例、ベンゾ
イルオキシ、１−ナフトイルオキシ、２−ナフトイルオ
キシなど）、Ｃ1-6アルコキシ−カルボニルオキシ
（例、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニル
オキシ、プロポキシカルボニルオキシ、ブトキシカルボ
ニルオキシなど）、モノ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイ
ルオキシ（例、メチルカルバモイルオキシ、エチルカル
バモイルオキシなど）、ジ−Ｃ1-6アルキル−カルバモ
イルオキシ（例、ジメチルカルバモイルオキシ、ジエチ
ルカルバモイルオキシなど）、Ｃ6-10アリール−カルバ
モイルオキシ（例、フェニルカルバモイルオキシ、ナフ
チルカルバモイルオキシなど）、ニコチノイルオキシな
どが挙げられる。
上記「アシル」１個で置換されたオキシが挙げられ、好
ましくは、式：−Ｏ−ＣＯＲ8、−Ｏ−ＣＯＯＲ8 また
は −Ｏ−ＣＯＮＨＲ8〔式中、Ｒ8は置換基を有してい
てもよい炭化水素基または置換基を有していてもよい複
素環基を示す〕で表されるアシルオキシなどが挙げられ
る。Ｒ8で示される「置換基を有していてもよい炭化水
素基」および「置換基を有していてもよい複素環基」
は、後述のＲ4で示される「置換基を有していてもよい
炭化水素基」および「置換基を有していてもよい複素環
基」と同様のものがそれぞれ挙げられる。該「アシルオ
キシ」の好ましい例としては、Ｃ1-6アルキル−カルボ
ニルオキシ（例、アセトキシ、プロパノイルオキシな
ど）、Ｃ6-10アリール−カルボニルオキシ（例、ベンゾ
イルオキシ、１−ナフトイルオキシ、２−ナフトイルオ
キシなど）、Ｃ1-6アルコキシ−カルボニルオキシ
（例、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニル
オキシ、プロポキシカルボニルオキシ、ブトキシカルボ
ニルオキシなど）、モノ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイ
ルオキシ（例、メチルカルバモイルオキシ、エチルカル
バモイルオキシなど）、ジ−Ｃ1-6アルキル−カルバモ
イルオキシ（例、ジメチルカルバモイルオキシ、ジエチ
ルカルバモイルオキシなど）、Ｃ6-10アリール−カルバ
モイルオキシ（例、フェニルカルバモイルオキシ、ナフ
チルカルバモイルオキシなど）、ニコチノイルオキシな
どが挙げられる。
【００１４】前記「５ないし７員飽和環状アミノ」とし
ては、例えば炭素原子以外に少なくとも１個の窒素原子
を含み窒素原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれる
１ないし３個のヘテロ原子を含んでいてもよい５ないし
７員飽和環状アミノが挙げられ、例えば、モルホリノ、
チオモルホリノ、ピペラジン−１−イル、４−置換ピペ
ラジン−１−イル、ピペリジノ、ピロリジン−１−イ
ル、ヘキサメチレンイミン−１−イルなどが挙げられ
る。該「４−置換ピペラジン−１−イル」における「置
換基」としては、例えばＣ1-6アルキル、置換基を有し
ていてもよいＣ6-14アリール、置換基を有していてもよ
いＣ7-19アラルキル、置換基を有していてもよい５ない
し１０員芳香族複素環基、アシルなどが挙げられる。該
「置換基を有していてもよいＣ6-14アリール」の「Ｃ
6-14アリール」としては、例えば、フェニル、１−ナフ
チル、２−ナフチル、２−インデニル、２−アンスリル
などが挙げられる。好ましくはＣ6-10アリール、さらに
好ましくはフェニルなどである。該「置換基を有してい
てもよいＣ7-19アラルキル」の「Ｃ7-19アラルキル」と
しては、例えば、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメ
チル、トリフェニルメチル、１−ナフチルメチル、２−
ナフチルメチル、２,２−ジフェニルエチル、３−フェ
ニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペン
チルなどが挙げられる。好ましくはベンジルなどであ
る。
ては、例えば炭素原子以外に少なくとも１個の窒素原子
を含み窒素原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれる
１ないし３個のヘテロ原子を含んでいてもよい５ないし
７員飽和環状アミノが挙げられ、例えば、モルホリノ、
チオモルホリノ、ピペラジン−１−イル、４−置換ピペ
ラジン−１−イル、ピペリジノ、ピロリジン−１−イ
ル、ヘキサメチレンイミン−１−イルなどが挙げられ
る。該「４−置換ピペラジン−１−イル」における「置
換基」としては、例えばＣ1-6アルキル、置換基を有し
ていてもよいＣ6-14アリール、置換基を有していてもよ
いＣ7-19アラルキル、置換基を有していてもよい５ない
し１０員芳香族複素環基、アシルなどが挙げられる。該
「置換基を有していてもよいＣ6-14アリール」の「Ｃ
6-14アリール」としては、例えば、フェニル、１−ナフ
チル、２−ナフチル、２−インデニル、２−アンスリル
などが挙げられる。好ましくはＣ6-10アリール、さらに
好ましくはフェニルなどである。該「置換基を有してい
てもよいＣ7-19アラルキル」の「Ｃ7-19アラルキル」と
しては、例えば、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメ
チル、トリフェニルメチル、１−ナフチルメチル、２−
ナフチルメチル、２,２−ジフェニルエチル、３−フェ
ニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペン
チルなどが挙げられる。好ましくはベンジルなどであ
る。
【００１５】該「置換基を有していてもよい５ないし１
０員芳香族複素環基」の「５ないし１０員芳香族複素環
基」としては、例えば炭素原子以外に窒素原子、硫黄原
子および酸素原子から選ばれる１ないし４個のヘテロ原
子を含む５ないし１０員芳香族複素環基が挙げられ、具
体例として、例えば２−，３−または４−ピリジル、１
−，２−または３−インドリル、２−または３−チエニ
ルなどが挙げられる。好ましくは、２−，３−または４
−ピリジルなどである。これらの「置換基を有していて
もよいＣ6-14アリール」、「置換基を有していてもよい
Ｃ7-19アラルキル」および「置換基を有していてもよい
５ないし１０員芳香族複素環基」がそれぞれ有していて
もよい「置換基」としては、例えばハロゲン原子（例、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、Ｃ1-3アルキレン
ジオキシ（例、メチレンジオキシ、エチレンジオキシな
ど）、ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ
1-6アルキル、ハロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロ
アルキル、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキ
シ、ヒドロキシ、アミノ、モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ
（例、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、
イソプロピルアミノ、ブチルアミノなど）、ジ−Ｃ1-6
アルキルアミノ（例、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、エチルメチル
アミノなど）、カルボキシなどが１〜５個挙げられる。
「ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキル」、「ハ
ロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロアルキル」およ
び「ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキシ」
は、前記と同様のものが挙げられる。前記「４−置換ピ
ペラジン−１−イル」の「置換基」としての「アシル」
としては、前述のアシルと同様のもの（後述のＴにおけ
るアシルと同様のもの）が挙げられる。前記「置換基を
有していてもよいアラルキルオキシ」の「アラルキルオ
キシ」としては、例えば、ベンジルオキシ、フェネチル
オキシ、１−ナフチルメチルオキシ、２−ナフチルメチ
ルオキシ、２−アンスリルメチルオキシ、２−ビフェニ
リルメチルオキシ、３−ビフェニリルメチルオキシ、４
−ビフェニリルメチルオキシなどのＣ7-19アラルキルオ
キシが挙げられる。中でもベンジルオキシ、４−ビフェ
ニリルメチルオキシが好ましい。該「置換基を有してい
てもよいアラルキルオキシ」の「置換基」としては、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ、Ｃ1-3アルキル（例、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピルなど）、Ｃ1-3ア
ルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソ
プロポキシなど）などが１〜５個挙げられる。
０員芳香族複素環基」の「５ないし１０員芳香族複素環
基」としては、例えば炭素原子以外に窒素原子、硫黄原
子および酸素原子から選ばれる１ないし４個のヘテロ原
子を含む５ないし１０員芳香族複素環基が挙げられ、具
体例として、例えば２−，３−または４−ピリジル、１
−，２−または３−インドリル、２−または３−チエニ
ルなどが挙げられる。好ましくは、２−，３−または４
−ピリジルなどである。これらの「置換基を有していて
もよいＣ6-14アリール」、「置換基を有していてもよい
Ｃ7-19アラルキル」および「置換基を有していてもよい
５ないし１０員芳香族複素環基」がそれぞれ有していて
もよい「置換基」としては、例えばハロゲン原子（例、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、Ｃ1-3アルキレン
ジオキシ（例、メチレンジオキシ、エチレンジオキシな
ど）、ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ
1-6アルキル、ハロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロ
アルキル、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキ
シ、ヒドロキシ、アミノ、モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ
（例、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、
イソプロピルアミノ、ブチルアミノなど）、ジ−Ｃ1-6
アルキルアミノ（例、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、エチルメチル
アミノなど）、カルボキシなどが１〜５個挙げられる。
「ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキル」、「ハ
ロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロアルキル」およ
び「ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキシ」
は、前記と同様のものが挙げられる。前記「４−置換ピ
ペラジン−１−イル」の「置換基」としての「アシル」
としては、前述のアシルと同様のもの（後述のＴにおけ
るアシルと同様のもの）が挙げられる。前記「置換基を
有していてもよいアラルキルオキシ」の「アラルキルオ
キシ」としては、例えば、ベンジルオキシ、フェネチル
オキシ、１−ナフチルメチルオキシ、２−ナフチルメチ
ルオキシ、２−アンスリルメチルオキシ、２−ビフェニ
リルメチルオキシ、３−ビフェニリルメチルオキシ、４
−ビフェニリルメチルオキシなどのＣ7-19アラルキルオ
キシが挙げられる。中でもベンジルオキシ、４−ビフェ
ニリルメチルオキシが好ましい。該「置換基を有してい
てもよいアラルキルオキシ」の「置換基」としては、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ、Ｃ1-3アルキル（例、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピルなど）、Ｃ1-3ア
ルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソ
プロポキシなど）などが１〜５個挙げられる。
【００１６】環Ａとして好ましくは、環Ａ'である。環
Ａ'で示される「ハロゲン、ヒドロキシ、アルキル、ア
ルコキシおよび置換基を有していてもよいアラルキルオ
キシなどから選ばれる置換基１ないし３個を有していて
もよいベンゼン環」について以下に述べる。該「ハロゲ
ン原子」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素などが挙げられる。該「アルキル」としては、Ｃ1-6
アルキルが好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられ
る。なかでも、Ｃ1-3アルキル（例、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピルなど）が好ましい。該「アルコ
キシ」としては、Ｃ1-6アルコキシが好ましく、例え
ば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−
ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどが挙げ
られる。なかでも、Ｃ1-3アルコキシ（例、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシなど）が好まし
い。該「置換基を有していてもよいアラルキルオキシ」
としては、前記と同様のものが挙げられる。
Ａ'で示される「ハロゲン、ヒドロキシ、アルキル、ア
ルコキシおよび置換基を有していてもよいアラルキルオ
キシなどから選ばれる置換基１ないし３個を有していて
もよいベンゼン環」について以下に述べる。該「ハロゲ
ン原子」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素などが挙げられる。該「アルキル」としては、Ｃ1-6
アルキルが好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられ
る。なかでも、Ｃ1-3アルキル（例、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピルなど）が好ましい。該「アルコ
キシ」としては、Ｃ1-6アルコキシが好ましく、例え
ば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−
ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどが挙げ
られる。なかでも、Ｃ1-3アルコキシ（例、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシなど）が好まし
い。該「置換基を有していてもよいアラルキルオキシ」
としては、前記と同様のものが挙げられる。
【００１７】上記式中、ＸにおけるＲ1で示される「ア
ルキル」としては、Ｃ1-6アルキルが好ましく、その例
としては、上記したものと同様のものが挙げられる。な
かでも、Ｃ1-3アルキルが好ましい。Ｒ1で示される「ア
ルキルカルボニル」における「アルキル」としては、Ｃ
1-6アルキルが好ましく、その具体例としては、上記し
たものと同様のものが挙げられ、なかでも、Ｃ1-3アル
キルが好ましい。該アルキルカルボニルとしては、例え
ば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ペンチルカ
ルボニル、ヘキシルカルボニルなどのＣ1-6アルキル−
カルボニルが挙げられる。上記式中、Ｒ1で示される
「アルコキシカルボニル」における「アルコキシ」とし
ては、Ｃ1-6アルコキシが好ましく、その例としては、
上記したものが挙げられる。なかでも、Ｃ1-3アルキル
が好ましい。該アルコキシカルボニルとしては、例え
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシ
カルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどのＣ1-6
アルコキシ−カルボニルが挙げられる。Ｘとして好まし
くは −(ＣＨ2)2− および −(ＣＨ2)3− である。さら
に好ましくは −(ＣＨ2)2− である。ｍは、１ないし３
の整数を示し、特に、１または２が好ましい。ｍ'は、
１または２を示し、特に、１が好ましい。
ルキル」としては、Ｃ1-6アルキルが好ましく、その例
としては、上記したものと同様のものが挙げられる。な
かでも、Ｃ1-3アルキルが好ましい。Ｒ1で示される「ア
ルキルカルボニル」における「アルキル」としては、Ｃ
1-6アルキルが好ましく、その具体例としては、上記し
たものと同様のものが挙げられ、なかでも、Ｃ1-3アル
キルが好ましい。該アルキルカルボニルとしては、例え
ば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ペンチルカ
ルボニル、ヘキシルカルボニルなどのＣ1-6アルキル−
カルボニルが挙げられる。上記式中、Ｒ1で示される
「アルコキシカルボニル」における「アルコキシ」とし
ては、Ｃ1-6アルコキシが好ましく、その例としては、
上記したものが挙げられる。なかでも、Ｃ1-3アルキル
が好ましい。該アルコキシカルボニルとしては、例え
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシ
カルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどのＣ1-6
アルコキシ−カルボニルが挙げられる。Ｘとして好まし
くは −(ＣＨ2)2− および −(ＣＨ2)3− である。さら
に好ましくは −(ＣＨ2)2− である。ｍは、１ないし３
の整数を示し、特に、１または２が好ましい。ｍ'は、
１または２を示し、特に、１が好ましい。
【００１８】Ｔで示される「アシル」としては、例え
ば、式：−(Ｃ＝Ｏ)−Ｒ4、−(Ｃ＝Ｏ)−ＯＲ4、−(Ｃ
＝Ｏ)−ＮＲ4Ｒ5、−(Ｃ＝Ｓ)−ＮＨＲ4、−ＳＯ2−Ｒ
4a または −ＳＯ−Ｒ4a〔式中、Ｒ4は水素原子、置換
基を有していてもよい炭化水素基または置換基を有して
いてもよい複素環基、Ｒ4aは置換基を有していてもよい
炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基、
Ｒ4およびＲ5は同一または異なって、水素原子またはＣ
1-6アルキルを示すか、あるいはＲ4とＲ5とは隣接する
窒素原子と共に含窒素複素環を形成していてもよい〕で
表されるアシルなどが挙げられる。
ば、式：−(Ｃ＝Ｏ)−Ｒ4、−(Ｃ＝Ｏ)−ＯＲ4、−(Ｃ
＝Ｏ)−ＮＲ4Ｒ5、−(Ｃ＝Ｓ)−ＮＨＲ4、−ＳＯ2−Ｒ
4a または −ＳＯ−Ｒ4a〔式中、Ｒ4は水素原子、置換
基を有していてもよい炭化水素基または置換基を有して
いてもよい複素環基、Ｒ4aは置換基を有していてもよい
炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基、
Ｒ4およびＲ5は同一または異なって、水素原子またはＣ
1-6アルキルを示すか、あるいはＲ4とＲ5とは隣接する
窒素原子と共に含窒素複素環を形成していてもよい〕で
表されるアシルなどが挙げられる。
【００１９】Ｒ4またはＲ4aで示される「置換基を有し
ていてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」は、炭化水
素化合物から水素原子を１個取り除いた基を示し、例え
ば、鎖状または環状炭化水素基（例、アルキル、アルケ
ニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、アラル
キルなど）などが挙げられる。このうち、以下のような
炭素数１ないし１９個の鎖状または環状炭化水素基など
が好ましい。 （ａ）Ｃ1-6アルキル（例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシルなど）、（ｂ）
Ｃ2-6アルケニル（例えば、ビニル、アリル、イソプロ
ペニル、２−ブテニルなど）、（ｃ）Ｃ2-6アルキニル
（例えば、エチニル、プロパルギル、２−ブチニルな
ど）、 （ｄ）Ｃ3-6シクロアルキル（例えば、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルな
ど）、該Ｃ3-6シクロアルキルは、１個のベンゼン環と
縮合していてもよい、（ｅ）Ｃ6-14アリール（例えば、
フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、２−インデニ
ル、２−アンスリルなど）、好ましくはフェニル、
（ｆ）Ｃ7-19アラルキル（例えば、ベンジル、フェネチ
ル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、１−ナフ
チルメチル、２−ナフチルメチル、２,２−ジフェニル
チル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５
−フェニルペンチルなど）、好ましくはベンジル。この
うち、Ｃ1-6アルキル、Ｃ6-14アリール、Ｃ7-19アラル
キルなどが好ましい。
ていてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」は、炭化水
素化合物から水素原子を１個取り除いた基を示し、例え
ば、鎖状または環状炭化水素基（例、アルキル、アルケ
ニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、アラル
キルなど）などが挙げられる。このうち、以下のような
炭素数１ないし１９個の鎖状または環状炭化水素基など
が好ましい。 （ａ）Ｃ1-6アルキル（例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシルなど）、（ｂ）
Ｃ2-6アルケニル（例えば、ビニル、アリル、イソプロ
ペニル、２−ブテニルなど）、（ｃ）Ｃ2-6アルキニル
（例えば、エチニル、プロパルギル、２−ブチニルな
ど）、 （ｄ）Ｃ3-6シクロアルキル（例えば、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルな
ど）、該Ｃ3-6シクロアルキルは、１個のベンゼン環と
縮合していてもよい、（ｅ）Ｃ6-14アリール（例えば、
フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、２−インデニ
ル、２−アンスリルなど）、好ましくはフェニル、
（ｆ）Ｃ7-19アラルキル（例えば、ベンジル、フェネチ
ル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、１−ナフ
チルメチル、２−ナフチルメチル、２,２−ジフェニル
チル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５
−フェニルペンチルなど）、好ましくはベンジル。この
うち、Ｃ1-6アルキル、Ｃ6-14アリール、Ｃ7-19アラル
キルなどが好ましい。
【００２０】前記「アシル」としては、前記の式：−
(Ｃ＝Ｏ)−Ｒ4、−(Ｃ＝Ｏ)−ＯＲ4、−(Ｃ＝Ｏ)−ＮＲ
4Ｒ5、−(Ｃ＝Ｓ)−ＮＨＲ4、−ＳＯ2−Ｒ4a または −
ＳＯ−Ｒ4a において、Ｒ4が（i）水素原子、（ii）置
換基としてハロゲン原子、Ｃ1-3アルキレンジオキシ、
ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6ア
ルキル、ハロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロアル
キル、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキシ、
ヒドロキシ、アミノ、モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ、ジ
−Ｃ1-6アルキルアミノまたはスルホを１ないし５個有
していてもよい炭化水素基、または（iii）置換基とし
てハロゲン原子、Ｃ1-3アルキレンジオキシ、ニトロ、
シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキル、
ハロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロアルキル、ハ
ロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキシ、ヒドロキ
シ、アミノ、モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ、ジ−Ｃ1-6ア
ルキルアミノまたはＣ6-10アリールオキシを１ないし５
個有していてもよい複素環基、Ｒ4aが（i）置換基とし
てハロゲン原子、Ｃ1-3アルキレンジオキシ、ニトロ、
シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキル、
ハロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロアルキル、ハ
ロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキシ、ヒドロキ
シ、アミノ、モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ、ジ−Ｃ1-6ア
ルキルアミノまたはスルホを１ないし５個有していても
よい炭化水素基、または（ii）置換基としてハロゲン原
子、Ｃ1-3アルキレンジオキシ、ニトロ、シアノ、ハロ
ゲン化されていてもよいＣ1-6アルキル、ハロゲン化さ
れていてもよいＣ3-6シクロアルキル、ハロゲン化され
ていてもよいＣ1-6アルコキシ、ヒドロキシ、アミノ、
モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ、ジ−Ｃ1-6アルキルアミノ
またはＣ6-10アリールオキシを１ないし５個有していて
もよい複素環基である場合が好ましい。
(Ｃ＝Ｏ)−Ｒ4、−(Ｃ＝Ｏ)−ＯＲ4、−(Ｃ＝Ｏ)−ＮＲ
4Ｒ5、−(Ｃ＝Ｓ)−ＮＨＲ4、−ＳＯ2−Ｒ4a または −
ＳＯ−Ｒ4a において、Ｒ4が（i）水素原子、（ii）置
換基としてハロゲン原子、Ｃ1-3アルキレンジオキシ、
ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6ア
ルキル、ハロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロアル
キル、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキシ、
ヒドロキシ、アミノ、モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ、ジ
−Ｃ1-6アルキルアミノまたはスルホを１ないし５個有
していてもよい炭化水素基、または（iii）置換基とし
てハロゲン原子、Ｃ1-3アルキレンジオキシ、ニトロ、
シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキル、
ハロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロアルキル、ハ
ロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキシ、ヒドロキ
シ、アミノ、モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ、ジ−Ｃ1-6ア
ルキルアミノまたはＣ6-10アリールオキシを１ないし５
個有していてもよい複素環基、Ｒ4aが（i）置換基とし
てハロゲン原子、Ｃ1-3アルキレンジオキシ、ニトロ、
シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキル、
ハロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロアルキル、ハ
ロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキシ、ヒドロキ
シ、アミノ、モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ、ジ−Ｃ1-6ア
ルキルアミノまたはスルホを１ないし５個有していても
よい炭化水素基、または（ii）置換基としてハロゲン原
子、Ｃ1-3アルキレンジオキシ、ニトロ、シアノ、ハロ
ゲン化されていてもよいＣ1-6アルキル、ハロゲン化さ
れていてもよいＣ3-6シクロアルキル、ハロゲン化され
ていてもよいＣ1-6アルコキシ、ヒドロキシ、アミノ、
モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ、ジ−Ｃ1-6アルキルアミノ
またはＣ6-10アリールオキシを１ないし５個有していて
もよい複素環基である場合が好ましい。
【００２１】該「置換基を有していてもよい炭化水素
基」の「置換基」としては、例えばハロゲン原子(例、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など)、Ｃ1-3アルキレンジ
オキシ(例、メチレンジオキシ、エチレンジオキシな
ど)、ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ
1-6アルキル、ハロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロ
アルキル、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキ
シ、ヒドロキシ、アミノ、モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ
(例、メチルアミノ、エチルアミノなど)、ジ−Ｃ1-6ア
ルキルアミノ(例、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、
エチルメチルアミノなど)、スルホ、ホルミル、カルボ
キシ、カルバモイル、Ｃ1-6アルキル−カルボニル(例、
アセチル、プロピオニルなど)、Ｃ1-6アルコキシ−カル
ボニル(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル
など)、Ｃ6-10アリール−カルボニル(例、ベンゾイル、
１−ナフトイル、２−ナフトイルなど)、Ｃ6-10アリー
ルオキシ−カルボニル(例、フェノキシカルボニルな
ど)、Ｃ7-16アラルキルオキシ−カルボニル(例、ベンジ
ルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニルな
ど)、５〜６員複素環カルボニル(例、ニコチノイル、イ
ソニコチノイル、２−テノイル、３−テノイル、２−フ
ロイル、３−フロイル、モルホリノカルボニル、ピペリ
ジノカルボニル、１−ピロリジニルカルボニルなど)、
モノ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイル(例、メチルカルバ
モイル、エチルカルバモイルなど)、ジ−Ｃ1-6アルキル
−カルバモイル(例、ジメチルカルバモイル、ジエチル
カルバモイル、エチルメチルカルバモイルなど)、Ｃ
6-10アリール−カルバモイル(例、フェニルカルバモイ
ル、１−ナフチルカルバモイル、２−ナフチルカルバモ
イルなど)、５〜６員複素環カルバモイル(例、２−ピリ
ジルカルバモイル、３−ピリジルカルバモイル、４−ピ
リジルカルバモイル、２−チエニルカルバモイル、３−
チエニルカルバモイルなど)、Ｃ1-6アルキルスルホニル
(例、メチルスルホニル、エチルスルホニルなど)、Ｃ
6-10アリールスルホニル(例、ベンゼンスルホニル、１
−ナフタレンスルホニル、２−ナフタレンスルホニルな
ど)、ホルミルアミノ、Ｃ1-6アルキル−カルボキサミド
(例、アセタミドなど)、Ｃ6-10アリール−カルボキサミ
ド(例、フェニルカルボキサミド、ナフチルカルボキサ
ミドなど)、Ｃ1-6アルコキシ−カルボキサミド(例、メ
トキシカルボキサミド、エトキシカルボキサミド、プロ
ポキシカルボキサミド、ブトキシカルボキサミドな
ど)、Ｃ1-6アルキルスルホニルアミノ(例、メチルスル
ホニルアミノ、エチルスルホニルアミノなど)、Ｃ1-6ア
ルキル−カルボニルオキシ(例、アセトキシ、プロパノ
イルオキシなど)、Ｃ6-10アリールカルボニルオキシ
(例、ベンゾイルオキシ、１−ナフトイルオキシ、２−
ナフトイルオキシなど)、Ｃ1-6アルコキシ−カルボニル
オキシ(例、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカル
ボニルオキシ、プロポキシカルボニルオキシ、ブトキシ
カルボニルオキシなど)、モノ−Ｃ1-6アルキル−カルバ
モイルオキシ(例、メチルカルバモイルオキシ、エチル
カルバモイルオキシなど)、ジ−Ｃ1-6アルキル−カルバ
モイルオキシ(例、ジメチルカルバモイルオキシ、ジエ
チルカルバモイルオキシなど)、Ｃ6-10アリール−カル
バモイルオキシ(例、フェニルカルバモイルオキシ、ナ
フチルカルバモイルオキシなど)、ニコチノイルオキシ
などが挙げられる。該「炭化水素基」は、例えば上記置
換基を、炭化水素基の置換可能な位置に１ないし５個、
好ましくは１ないし３個有していてもよく、置換基数が
２個以上の場合、各置換基は同一または異なっていても
よい。前記「ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキ
ル」、「ハロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロアル
キル」および「ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アル
コキシ」は、前記したものと同様のものが挙げられる。
基」の「置換基」としては、例えばハロゲン原子(例、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など)、Ｃ1-3アルキレンジ
オキシ(例、メチレンジオキシ、エチレンジオキシな
ど)、ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ
1-6アルキル、ハロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロ
アルキル、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキ
シ、ヒドロキシ、アミノ、モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ
(例、メチルアミノ、エチルアミノなど)、ジ−Ｃ1-6ア
ルキルアミノ(例、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、
エチルメチルアミノなど)、スルホ、ホルミル、カルボ
キシ、カルバモイル、Ｃ1-6アルキル−カルボニル(例、
アセチル、プロピオニルなど)、Ｃ1-6アルコキシ−カル
ボニル(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル
など)、Ｃ6-10アリール−カルボニル(例、ベンゾイル、
１−ナフトイル、２−ナフトイルなど)、Ｃ6-10アリー
ルオキシ−カルボニル(例、フェノキシカルボニルな
ど)、Ｃ7-16アラルキルオキシ−カルボニル(例、ベンジ
ルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニルな
ど)、５〜６員複素環カルボニル(例、ニコチノイル、イ
ソニコチノイル、２−テノイル、３−テノイル、２−フ
ロイル、３−フロイル、モルホリノカルボニル、ピペリ
ジノカルボニル、１−ピロリジニルカルボニルなど)、
モノ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイル(例、メチルカルバ
モイル、エチルカルバモイルなど)、ジ−Ｃ1-6アルキル
−カルバモイル(例、ジメチルカルバモイル、ジエチル
カルバモイル、エチルメチルカルバモイルなど)、Ｃ
6-10アリール−カルバモイル(例、フェニルカルバモイ
ル、１−ナフチルカルバモイル、２−ナフチルカルバモ
イルなど)、５〜６員複素環カルバモイル(例、２−ピリ
ジルカルバモイル、３−ピリジルカルバモイル、４−ピ
リジルカルバモイル、２−チエニルカルバモイル、３−
チエニルカルバモイルなど)、Ｃ1-6アルキルスルホニル
(例、メチルスルホニル、エチルスルホニルなど)、Ｃ
6-10アリールスルホニル(例、ベンゼンスルホニル、１
−ナフタレンスルホニル、２−ナフタレンスルホニルな
ど)、ホルミルアミノ、Ｃ1-6アルキル−カルボキサミド
(例、アセタミドなど)、Ｃ6-10アリール−カルボキサミ
ド(例、フェニルカルボキサミド、ナフチルカルボキサ
ミドなど)、Ｃ1-6アルコキシ−カルボキサミド(例、メ
トキシカルボキサミド、エトキシカルボキサミド、プロ
ポキシカルボキサミド、ブトキシカルボキサミドな
ど)、Ｃ1-6アルキルスルホニルアミノ(例、メチルスル
ホニルアミノ、エチルスルホニルアミノなど)、Ｃ1-6ア
ルキル−カルボニルオキシ(例、アセトキシ、プロパノ
イルオキシなど)、Ｃ6-10アリールカルボニルオキシ
(例、ベンゾイルオキシ、１−ナフトイルオキシ、２−
ナフトイルオキシなど)、Ｃ1-6アルコキシ−カルボニル
オキシ(例、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカル
ボニルオキシ、プロポキシカルボニルオキシ、ブトキシ
カルボニルオキシなど)、モノ−Ｃ1-6アルキル−カルバ
モイルオキシ(例、メチルカルバモイルオキシ、エチル
カルバモイルオキシなど)、ジ−Ｃ1-6アルキル−カルバ
モイルオキシ(例、ジメチルカルバモイルオキシ、ジエ
チルカルバモイルオキシなど)、Ｃ6-10アリール−カル
バモイルオキシ(例、フェニルカルバモイルオキシ、ナ
フチルカルバモイルオキシなど)、ニコチノイルオキシ
などが挙げられる。該「炭化水素基」は、例えば上記置
換基を、炭化水素基の置換可能な位置に１ないし５個、
好ましくは１ないし３個有していてもよく、置換基数が
２個以上の場合、各置換基は同一または異なっていても
よい。前記「ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキ
ル」、「ハロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロアル
キル」および「ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アル
コキシ」は、前記したものと同様のものが挙げられる。
【００２２】Ｒ4またはＲ4aで示される「置換基を有し
ていてもよい複素環基」の「複素環基」としては、例え
ば炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子および酸素原子か
ら選ばれる１または２種、１ないし４個のヘテロ原子を
含む５ないし１４員（単環、２環または３環式）複素
環、好ましくは（i）５ないし１４員（好ましくは５な
いし１０員）芳香族複素環、（ii）５ないし１０員非芳
香族複素環または（iii）７ないし１０員複素架橋環か
ら任意の１個の水素原子を除いてできる１価基などが挙
げられる。上記「５ないし１４員（好ましくは５ないし
１０員）の芳香族複素環」としては、例えば、チオフェ
ン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、ベンズイミダゾ
ール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンズ
イソチアゾール、ナフト［2,3−b］チオフェン、フラ
ン、フェノキサチイン、ピロール、イミダゾール、ピラ
ゾール、オキサジアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリ
ミジン、ピリダジン、インドール、イソインドール、１
Ｈ−インダゾール、プリン、４Ｈ−キノリジン、イソキ
ノリン、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキ
サリン、キナゾリン、シンノリン、カルバゾール、β−
カルボリン、フェナントリジン、アクリジン、フェナジ
ン、チアゾール、イソチアゾール、フェノチアジン、イ
ソオキサゾール、フラザン、フェノキサジン、フタルイ
ミドなどの芳香族複素環、またはこれらの環（好ましく
は単環）が１ないし複数個（好ましくは１または２個）
の芳香環（例、ベンゼン環等）と縮合して形成された環
などが挙げられる。上記「５ないし１０員非芳香族複素
環」としては、例えば、ピロリジン、イミダゾリン、ピ
ラゾリジン、ピラゾリン、ピペリジン、ピペラジン、モ
ルホリン、チオモルホリンなどが挙げられる。上記「７
ないし１０員複素架橋環」としては、例えば、キヌクリ
ジン、７−アザビシクロ［２.２.１］ヘプタンなどが挙
げられる。
ていてもよい複素環基」の「複素環基」としては、例え
ば炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子および酸素原子か
ら選ばれる１または２種、１ないし４個のヘテロ原子を
含む５ないし１４員（単環、２環または３環式）複素
環、好ましくは（i）５ないし１４員（好ましくは５な
いし１０員）芳香族複素環、（ii）５ないし１０員非芳
香族複素環または（iii）７ないし１０員複素架橋環か
ら任意の１個の水素原子を除いてできる１価基などが挙
げられる。上記「５ないし１４員（好ましくは５ないし
１０員）の芳香族複素環」としては、例えば、チオフェ
ン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、ベンズイミダゾ
ール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンズ
イソチアゾール、ナフト［2,3−b］チオフェン、フラ
ン、フェノキサチイン、ピロール、イミダゾール、ピラ
ゾール、オキサジアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリ
ミジン、ピリダジン、インドール、イソインドール、１
Ｈ−インダゾール、プリン、４Ｈ−キノリジン、イソキ
ノリン、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキ
サリン、キナゾリン、シンノリン、カルバゾール、β−
カルボリン、フェナントリジン、アクリジン、フェナジ
ン、チアゾール、イソチアゾール、フェノチアジン、イ
ソオキサゾール、フラザン、フェノキサジン、フタルイ
ミドなどの芳香族複素環、またはこれらの環（好ましく
は単環）が１ないし複数個（好ましくは１または２個）
の芳香環（例、ベンゼン環等）と縮合して形成された環
などが挙げられる。上記「５ないし１０員非芳香族複素
環」としては、例えば、ピロリジン、イミダゾリン、ピ
ラゾリジン、ピラゾリン、ピペリジン、ピペラジン、モ
ルホリン、チオモルホリンなどが挙げられる。上記「７
ないし１０員複素架橋環」としては、例えば、キヌクリ
ジン、７−アザビシクロ［２.２.１］ヘプタンなどが挙
げられる。
【００２３】該「複素環基」として好ましくは、炭素原
子以外に窒素原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれ
る１または２種、好ましくは、１ないし４個のヘテロ原
子を含む５ないし１０員の（単環式または２環式）複素
環基が挙げられる。具体的には、例えば２−または３−
チエニル、２−，３−または４−ピリジル、２−または
３−フリル、２−，３−，４−，５−または８−キノリ
ル、４−イソキノリル、ピラジニル、２−または４−ピ
リミジニル、３−ピロリル、２−イミダゾリル、３−ピ
リダジニル、３−イソチアゾリル、３−イソオキサゾリ
ル、１−インドリル、２−インドリル、２−イソインド
リニルなどの芳香族複素環基、例えば１−，２−または
３−ピロリジニル、２−または４−イミダゾリニル、２
−，３−または４−ピラゾリジニル、ピペリジノ、２
−，３−または４−ピペリジル、１−または２−ピペラ
ジニル、モルホリノ、チオモルホリノなどの非芳香族複
素環基などである。このうち、例えば炭素原子以外に窒
素原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれる１ないし
３個のヘテロ原子を含む５ないし６員の複素環基等がさ
らに好ましい。具体的には、２−チエニル、３−チエニ
ル、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、２−
フリル、３−フリル、ピラジニル、２−ピリミジニル、
３−ピロリル、３−ピリダジニル、３−イソチアゾリ
ル、３−イソオキサゾリル、１−，２−または３−ピロ
リジニル、２−または４−イミダゾリニル、２−，３−
または４−ピラゾリジニル、ピペリジノ、２−，３−ま
たは４−ピペリジル、１−または２−ピペラジニル、モ
ルホリノなどが挙げられる。
子以外に窒素原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれ
る１または２種、好ましくは、１ないし４個のヘテロ原
子を含む５ないし１０員の（単環式または２環式）複素
環基が挙げられる。具体的には、例えば２−または３−
チエニル、２−，３−または４−ピリジル、２−または
３−フリル、２−，３−，４−，５−または８−キノリ
ル、４−イソキノリル、ピラジニル、２−または４−ピ
リミジニル、３−ピロリル、２−イミダゾリル、３−ピ
リダジニル、３−イソチアゾリル、３−イソオキサゾリ
ル、１−インドリル、２−インドリル、２−イソインド
リニルなどの芳香族複素環基、例えば１−，２−または
３−ピロリジニル、２−または４−イミダゾリニル、２
−，３−または４−ピラゾリジニル、ピペリジノ、２
−，３−または４−ピペリジル、１−または２−ピペラ
ジニル、モルホリノ、チオモルホリノなどの非芳香族複
素環基などである。このうち、例えば炭素原子以外に窒
素原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれる１ないし
３個のヘテロ原子を含む５ないし６員の複素環基等がさ
らに好ましい。具体的には、２−チエニル、３−チエニ
ル、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、２−
フリル、３−フリル、ピラジニル、２−ピリミジニル、
３−ピロリル、３−ピリダジニル、３−イソチアゾリ
ル、３−イソオキサゾリル、１−，２−または３−ピロ
リジニル、２−または４−イミダゾリニル、２−，３−
または４−ピラゾリジニル、ピペリジノ、２−，３−ま
たは４−ピペリジル、１−または２−ピペラジニル、モ
ルホリノなどが挙げられる。
【００２４】該「置換基を有していてもよい複素環基」
は、例えば前記「置換基を有していてもよい芳香環」が
有していてもよい置換基を１〜５個、好ましくは１〜３
個有していてもよい。置換基数が２個以上の場合、各置
換基は同一または異なっていてもよい。前記「置換基を
有していてもよい複素環基」の「置換基」が「アシ
ル」、「アシルアミノ」または「アシルオキシ」の場
合、該「アシル」、「アシルアミノ」および「アシルオ
キシ」における「アシル」としては、前述のものと同様
のものが挙げられる。Ｒ4とＲ5とが隣接する窒素原子と
共に形成する「含窒素複素環」としては、例えば炭素原
子以外に少なくとも１個の窒素原子を含み窒素原子、硫
黄原子および酸素原子から選ばれる１ないし３個のヘテ
ロ原子を含んでいてもよい５ないし７員含窒素複素環な
どが挙げられ、例えば、ピペリジン、モルホリン、チオ
モルホリン、ピペラジン、ピロリジンなどが挙げられ
る。
は、例えば前記「置換基を有していてもよい芳香環」が
有していてもよい置換基を１〜５個、好ましくは１〜３
個有していてもよい。置換基数が２個以上の場合、各置
換基は同一または異なっていてもよい。前記「置換基を
有していてもよい複素環基」の「置換基」が「アシ
ル」、「アシルアミノ」または「アシルオキシ」の場
合、該「アシル」、「アシルアミノ」および「アシルオ
キシ」における「アシル」としては、前述のものと同様
のものが挙げられる。Ｒ4とＲ5とが隣接する窒素原子と
共に形成する「含窒素複素環」としては、例えば炭素原
子以外に少なくとも１個の窒素原子を含み窒素原子、硫
黄原子および酸素原子から選ばれる１ないし３個のヘテ
ロ原子を含んでいてもよい５ないし７員含窒素複素環な
どが挙げられ、例えば、ピペリジン、モルホリン、チオ
モルホリン、ピペラジン、ピロリジンなどが挙げられ
る。
【００２５】上記「アシル」として好ましくは、ホルミ
ル、カルボキシ、カルバモイル、Ｃ1-6アルキル−カル
ボニル（例、アセチル、プロピオニルなど）、Ｃ1-6ア
ルコキシ−カルボニル（例、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、tert−ブトキ
シカルボニルなど）、Ｃ6-10アリール−カルボニル
（例、ベンゾイル、１−ナフトイル、２−ナフトイルな
ど）、Ｃ6-10アリールオキシ−カルボニル（例、フェノ
キシカルボニルなど）、Ｃ7-16アラルキルオキシ−カル
ボニル（例、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオ
キシカルボニルなど）、５〜６員複素環カルボニル
（例、ニコチノイル、イソニコチノイル、２−テノイ
ル、３−テノイル、２−フロイル、３−フロイル、モル
ホリノカルボニル、ピペリジノカルボニル、１−ピロリ
ジニルカルボニルなど）、モノ−Ｃ1-6アルキル−カル
バモイル（例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイ
ルなど）、ジ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイル（例、ジ
メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、エチルメ
チルカルバモイルなど）、Ｃ6-10アリール−カルバモイ
ル（例、フェニルカルバモイル、１−ナフチルカルバモ
イル、２−ナフチルカルバモイルなど）、５〜６員複素
環カルバモイル（例、２−ピリジルカルバモイル、３−
ピリジルカルバモイル、４−ピリジルカルバモイル、２
−チエニルカルバモイル、３−チエニルカルバモイルな
ど）、Ｃ1-6アルキルスルホニル（例、メチルスルホニ
ル、エチルスルホニルなど）、Ｃ6-10アリールスルホニ
ル（例、ベンゼンスルホニル、１−ナフタレンスルホニ
ル、２−ナフタレンスルホニルなど）などである。
ル、カルボキシ、カルバモイル、Ｃ1-6アルキル−カル
ボニル（例、アセチル、プロピオニルなど）、Ｃ1-6ア
ルコキシ−カルボニル（例、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、tert−ブトキ
シカルボニルなど）、Ｃ6-10アリール−カルボニル
（例、ベンゾイル、１−ナフトイル、２−ナフトイルな
ど）、Ｃ6-10アリールオキシ−カルボニル（例、フェノ
キシカルボニルなど）、Ｃ7-16アラルキルオキシ−カル
ボニル（例、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオ
キシカルボニルなど）、５〜６員複素環カルボニル
（例、ニコチノイル、イソニコチノイル、２−テノイ
ル、３−テノイル、２−フロイル、３−フロイル、モル
ホリノカルボニル、ピペリジノカルボニル、１−ピロリ
ジニルカルボニルなど）、モノ−Ｃ1-6アルキル−カル
バモイル（例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイ
ルなど）、ジ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイル（例、ジ
メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、エチルメ
チルカルバモイルなど）、Ｃ6-10アリール−カルバモイ
ル（例、フェニルカルバモイル、１−ナフチルカルバモ
イル、２−ナフチルカルバモイルなど）、５〜６員複素
環カルバモイル（例、２−ピリジルカルバモイル、３−
ピリジルカルバモイル、４−ピリジルカルバモイル、２
−チエニルカルバモイル、３−チエニルカルバモイルな
ど）、Ｃ1-6アルキルスルホニル（例、メチルスルホニ
ル、エチルスルホニルなど）、Ｃ6-10アリールスルホニ
ル（例、ベンゼンスルホニル、１−ナフタレンスルホニ
ル、２−ナフタレンスルホニルなど）などである。
【００２６】Ｔで示される「アシル」のさらに好ましい
例としては、ホルミル、カルボキシ、カルバモイル、Ｃ
1-6アルキル−カルボニル(例、アセチル、プロピオニル
など)、Ｃ1-6アルコキシ−カルボニル(例、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、ロポキシカルボニル、
tert−ブトキシカルボニルなど)、モノ−Ｃ1-6アルキル
−カルバモイル(例、メチルカルバモイル、エチルカル
バモイルなど)、ジ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイル
(例、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、
エチルメチルカルバモイルなど)、Ｃ6-10アリールカル
バモイル(例、フェニルカルバモイル、１−ナフチルカ
ルバモイル、２−ナフチルカルバモイルなど)などであ
る。中でも、モノ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイル(例、
メチルカルバモイル、エチルカルバモイルなど)、ジ−
Ｃ1-6アルキル−カルバモイル(例、ジメチルカルバモイ
ル、ジエチルカルバモイル、エチルメチルカルバモイル
など)が挙げられる。Ｔとしては、アシルが好ましい。
なかでも、モノ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイル、ジ−
Ｃ1-6アルキル−カルバモイルなどが好ましい。Ｒ2およ
びＲ3で示されるアルキルとしては、同一または異なっ
て、Ｃ1-6アルキル（例は上記と同様）が好ましい。化
合物（I）として好ましくは、Ｎ,Ｎ−ジメチル−（６−
メトキシ−２−テトラリン）アセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジ
エチル−（６−メトキシ−２−テトラリン）アセトアミ
ドなどである。化合物（II）として好ましくは、Ｎ,Ｎ
−ジメチル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジヒドロ
ナフタレン）］アセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジエチル−［６
−メトキシ−２−（３,４−ジヒドロナフタレン）］ア
セトアミドなどである。化合物（III）として好ましく
は、Ｎ,Ｎ−ジメチル−（６−メトキシ−２−テトラリ
ン）アセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジエチル−（６−メトキシ
−２−テトラリン）アセトアミドなどである。
例としては、ホルミル、カルボキシ、カルバモイル、Ｃ
1-6アルキル−カルボニル(例、アセチル、プロピオニル
など)、Ｃ1-6アルコキシ−カルボニル(例、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、ロポキシカルボニル、
tert−ブトキシカルボニルなど)、モノ−Ｃ1-6アルキル
−カルバモイル(例、メチルカルバモイル、エチルカル
バモイルなど)、ジ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイル
(例、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、
エチルメチルカルバモイルなど)、Ｃ6-10アリールカル
バモイル(例、フェニルカルバモイル、１−ナフチルカ
ルバモイル、２−ナフチルカルバモイルなど)などであ
る。中でも、モノ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイル(例、
メチルカルバモイル、エチルカルバモイルなど)、ジ−
Ｃ1-6アルキル−カルバモイル(例、ジメチルカルバモイ
ル、ジエチルカルバモイル、エチルメチルカルバモイル
など)が挙げられる。Ｔとしては、アシルが好ましい。
なかでも、モノ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイル、ジ−
Ｃ1-6アルキル−カルバモイルなどが好ましい。Ｒ2およ
びＲ3で示されるアルキルとしては、同一または異なっ
て、Ｃ1-6アルキル（例は上記と同様）が好ましい。化
合物（I）として好ましくは、Ｎ,Ｎ−ジメチル−（６−
メトキシ−２−テトラリン）アセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジ
エチル−（６−メトキシ−２−テトラリン）アセトアミ
ドなどである。化合物（II）として好ましくは、Ｎ,Ｎ
−ジメチル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジヒドロ
ナフタレン）］アセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジエチル−［６
−メトキシ−２−（３,４−ジヒドロナフタレン）］ア
セトアミドなどである。化合物（III）として好ましく
は、Ｎ,Ｎ−ジメチル−（６−メトキシ−２−テトラリ
ン）アセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジエチル−（６−メトキシ
−２−テトラリン）アセトアミドなどである。
【００２７】本発明の製造法においては、化合物（II）
またはその塩を、遷移金属−光学活性ホスフィン錯体存
在下に不斉水素化反応に付すことにより、化合物（I）
の光学異性体またはその塩を選択的に製造する。
またはその塩を、遷移金属−光学活性ホスフィン錯体存
在下に不斉水素化反応に付すことにより、化合物（I）
の光学異性体またはその塩を選択的に製造する。
【００２８】
【化１３】
【００２９】本発明において用いられる「遷移金属−光
学活性ホスフィン錯体」としては、例えば、ルテニウム
−光学活性ホスフィン錯体、ロジウム−光学活性ホスフ
ィン錯体、イリジウム−光学活性ホスフィン錯体、パラ
ジウム−光学活性ホスフィン錯体、ニッケル−光学活性
ホスフィン錯体などが挙げられる。中でもルテニウム−
光学活性ホスフィン錯体が好ましい。光学活性ホスフィ
ンとしては、式
学活性ホスフィン錯体」としては、例えば、ルテニウム
−光学活性ホスフィン錯体、ロジウム−光学活性ホスフ
ィン錯体、イリジウム−光学活性ホスフィン錯体、パラ
ジウム−光学活性ホスフィン錯体、ニッケル−光学活性
ホスフィン錯体などが挙げられる。中でもルテニウム−
光学活性ホスフィン錯体が好ましい。光学活性ホスフィ
ンとしては、式
【化１４】 〔式中、各記号は前記と同意義を示す〕で表される化合
物が好ましい。Ｙで示される「１ないし３個のアルキル
またはアルコキシで置換されていてもよいフェニル」に
おける「アルキル」としては、Ｃ1-4アルキルが好まし
い。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブ
チルが挙げられる。Ｙで示される「１ないし３個のアル
キルまたはアルコキシで置換されていてもよいフェニ
ル」における「アルコキシ」としては、Ｃ1-4アルコキ
シが好ましい。例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、se
c−ブトキシ、tert−ブトキシが挙げられる。光学活性
ホスフィンの例としては、例えば、特開昭６１−６３６
９０号公報に記載の (Ｒ)−２,２'−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)−１,１'−ビナフチル[(Ｒ)−(ＢＩＮＡ
Ｐ)]、(Ｓ)−２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−
１,１'−ビナフチル[(Ｓ)−(ＢＩＮＡＰ)]、(Ｒ)−２,
２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)−１,１'−ビナ
フチル[(Ｒ)−(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)]、(Ｓ)−２,
２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)−１,１'−ビナ
フチル[(Ｓ)−(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)]；特開平３−
２５５０９０号公報に記載の (Ｒ)−２,２'−ビス[ジ−
(３,５−ジメチルフェニル)ホスフィノ]−１,１'−ビナ
フチル[(Ｒ)−(３,５−キシリル−ＢＩＮＡＰ)]、(Ｓ)
−２,２'−ビス[ビス(３,５−ジメチルフェニル)ホスフ
ィノ]−１,１'−ビナフチル[(Ｓ)−(３,５−キシリル−
ＢＩＮＡＰ)]；特開平４−１３９１４０号公報に記載の
(Ｒ)−２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',
６,６',７,７',８,８'−オクタヒドロ−１,１'−ビナフ
チル[(Ｒ)−(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)]、(Ｓ)−２,２'−ビス
(ジフェニルホスフィノ)−５,５',６,6',７,７',８,８'
−オクタヒドロ−１,１'−ビナフチル[(Ｓ)−(Ｈ8−Ｂ
ＩＮＡＰ)]等が挙げられる。上記式中、(Ｒ)ならびに
(Ｓ)は上記光学活性ホスフィンの絶対配置を示す。
物が好ましい。Ｙで示される「１ないし３個のアルキル
またはアルコキシで置換されていてもよいフェニル」に
おける「アルキル」としては、Ｃ1-4アルキルが好まし
い。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブ
チルが挙げられる。Ｙで示される「１ないし３個のアル
キルまたはアルコキシで置換されていてもよいフェニ
ル」における「アルコキシ」としては、Ｃ1-4アルコキ
シが好ましい。例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、se
c−ブトキシ、tert−ブトキシが挙げられる。光学活性
ホスフィンの例としては、例えば、特開昭６１−６３６
９０号公報に記載の (Ｒ)−２,２'−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)−１,１'−ビナフチル[(Ｒ)−(ＢＩＮＡ
Ｐ)]、(Ｓ)−２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−
１,１'−ビナフチル[(Ｓ)−(ＢＩＮＡＰ)]、(Ｒ)−２,
２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)−１,１'−ビナ
フチル[(Ｒ)−(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)]、(Ｓ)−２,
２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)−１,１'−ビナ
フチル[(Ｓ)−(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)]；特開平３−
２５５０９０号公報に記載の (Ｒ)−２,２'−ビス[ジ−
(３,５−ジメチルフェニル)ホスフィノ]−１,１'−ビナ
フチル[(Ｒ)−(３,５−キシリル−ＢＩＮＡＰ)]、(Ｓ)
−２,２'−ビス[ビス(３,５−ジメチルフェニル)ホスフ
ィノ]−１,１'−ビナフチル[(Ｓ)−(３,５−キシリル−
ＢＩＮＡＰ)]；特開平４−１３９１４０号公報に記載の
(Ｒ)−２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',
６,６',７,７',８,８'−オクタヒドロ−１,１'−ビナフ
チル[(Ｒ)−(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)]、(Ｓ)−２,２'−ビス
(ジフェニルホスフィノ)−５,５',６,6',７,７',８,８'
−オクタヒドロ−１,１'−ビナフチル[(Ｓ)−(Ｈ8−Ｂ
ＩＮＡＰ)]等が挙げられる。上記式中、(Ｒ)ならびに
(Ｓ)は上記光学活性ホスフィンの絶対配置を示す。
【００３０】遷移金属−光学活性ホスフィン錯体は、通
常、ハロゲン(例、クロル等)、アミン(例、トリエチル
アミン等)、有機酸(例、酢酸等)、アリール(例、ベンゼ
ン等)などを配位子としてさらに有している場合もあ
る。これらの錯体は調製後、単離精製することなく使用
することもできる。ルテニウム−光学活性ホスフィン錯
体の好ましい例としてはルテニウムと（Ｒ）配置または
（Ｓ）配置のどちらか一方の光学活性ホスフィンからな
る以下の錯体が挙げられる。本明細書において、Ｅｔは
エチルを示す。ビス[[(Ｒ)または(Ｓ)−[２,２'−ビス
(ジフェニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル]]ジクロ
ロルテニウム]トリエチルアミン:[ＲｕＣｌ2[(Ｒ)また
は(Ｓ)−(ＢＩＮＡＰ)]]2ＮＥｔ3と略す。ビス[[(Ｒ)ま
たは(Ｓ)−[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)
−１,１'−ビナフチル]]ジクロロルテニウム]トリエチ
ルアミン：[ＲｕＣｌ2[(Ｒ)または(Ｓ)−(ｐ−トリル−
ＢＩＮＡＰ)]]2ＮＥｔ3と略す。 ビス[[(Ｒ)または(Ｓ)−[２,２'−ビス(ジ−(３,５−ジ
メチルフェニル)ホスフィノ)−１,１'−ビナフチル]]ジ
クロロルテニウム]トリエチルアミン：[ＲｕＣｌ2[(Ｒ)
または(Ｓ)−(３,５−キシリル−ＢＩＮＡＰ)]]2ＮＥｔ
3と略す。 ビス[[(Ｒ)または(Ｓ)−[２,２'−ビス(ジフェニルホス
フィノ)−５,５',６,６',７,７',８,８'−オクタヒドロ
−１,１'−ビナフチル]]ジクロロルテニウム]トリエチ
ルアミン：[ＲｕＣｌ2[(Ｒ)または(Ｓ)−(Ｈ8−ＢＩＮ
ＡＰ)]]2ＮＥｔ3と略す。 [(Ｒ)または(Ｓ)−[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)−１,１'−ビナフチル]]ルテニウムジアセテ−ト：
Ｒｕ(ＣＨ3ＣＯ2)2[(ＢＩＮＡＰ)]と略す。[(Ｒ)または
(Ｓ)−[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)−１,
１'−ビナフチル]]ルテニウムジアセテ−ト：Ｒｕ(ＣＨ
3ＣＯ2)2[(Ｒ)または(Ｓ)−(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)]
と略す。[(Ｒ)または(Ｓ)−[２,２'−ビス[ジ−(３,５
−ジメチルフェニル)ホスフィノ]−１,１'−ビナフチ
ル]]ルテニウムジアセテ−ト：Ｒｕ(ＣＨ3ＣＯ2)
2［(Ｒ)または(Ｓ)−(３,５−キシリル−ＢＩＮＡＰ)]
と略す。[(Ｒ)または(Ｓ)−[２,２'−ビス(ジフェニル
ホスフィノ)−５,５',６,６',７,７',８,８'−オクタヒ
ドロ−1,１'−ビナフチル]]ルテニウムジアセテ−ト：
Ｒｕ(ＣＨ3ＣＯ2)[(Ｒ)または(Ｓ)−(Ｈ8−ＢＩＮＡ
Ｐ)]と略す。
常、ハロゲン(例、クロル等)、アミン(例、トリエチル
アミン等)、有機酸(例、酢酸等)、アリール(例、ベンゼ
ン等)などを配位子としてさらに有している場合もあ
る。これらの錯体は調製後、単離精製することなく使用
することもできる。ルテニウム−光学活性ホスフィン錯
体の好ましい例としてはルテニウムと（Ｒ）配置または
（Ｓ）配置のどちらか一方の光学活性ホスフィンからな
る以下の錯体が挙げられる。本明細書において、Ｅｔは
エチルを示す。ビス[[(Ｒ)または(Ｓ)−[２,２'−ビス
(ジフェニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル]]ジクロ
ロルテニウム]トリエチルアミン:[ＲｕＣｌ2[(Ｒ)また
は(Ｓ)−(ＢＩＮＡＰ)]]2ＮＥｔ3と略す。ビス[[(Ｒ)ま
たは(Ｓ)−[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)
−１,１'−ビナフチル]]ジクロロルテニウム]トリエチ
ルアミン：[ＲｕＣｌ2[(Ｒ)または(Ｓ)−(ｐ−トリル−
ＢＩＮＡＰ)]]2ＮＥｔ3と略す。 ビス[[(Ｒ)または(Ｓ)−[２,２'−ビス(ジ−(３,５−ジ
メチルフェニル)ホスフィノ)−１,１'−ビナフチル]]ジ
クロロルテニウム]トリエチルアミン：[ＲｕＣｌ2[(Ｒ)
または(Ｓ)−(３,５−キシリル−ＢＩＮＡＰ)]]2ＮＥｔ
3と略す。 ビス[[(Ｒ)または(Ｓ)−[２,２'−ビス(ジフェニルホス
フィノ)−５,５',６,６',７,７',８,８'−オクタヒドロ
−１,１'−ビナフチル]]ジクロロルテニウム]トリエチ
ルアミン：[ＲｕＣｌ2[(Ｒ)または(Ｓ)−(Ｈ8−ＢＩＮ
ＡＰ)]]2ＮＥｔ3と略す。 [(Ｒ)または(Ｓ)−[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)−１,１'−ビナフチル]]ルテニウムジアセテ−ト：
Ｒｕ(ＣＨ3ＣＯ2)2[(ＢＩＮＡＰ)]と略す。[(Ｒ)または
(Ｓ)−[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)−１,
１'−ビナフチル]]ルテニウムジアセテ−ト：Ｒｕ(ＣＨ
3ＣＯ2)2[(Ｒ)または(Ｓ)−(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)]
と略す。[(Ｒ)または(Ｓ)−[２,２'−ビス[ジ−(３,５
−ジメチルフェニル)ホスフィノ]−１,１'−ビナフチ
ル]]ルテニウムジアセテ−ト：Ｒｕ(ＣＨ3ＣＯ2)
2［(Ｒ)または(Ｓ)−(３,５−キシリル−ＢＩＮＡＰ)]
と略す。[(Ｒ)または(Ｓ)−[２,２'−ビス(ジフェニル
ホスフィノ)−５,５',６,６',７,７',８,８'−オクタヒ
ドロ−1,１'−ビナフチル]]ルテニウムジアセテ−ト：
Ｒｕ(ＣＨ3ＣＯ2)[(Ｒ)または(Ｓ)−(Ｈ8−ＢＩＮＡ
Ｐ)]と略す。
【００３１】（Ｒ）配置または（Ｓ）配置の光学活性ホ
スフィンを用いた以下のルテニウム−光学活性ホスフィ
ン錯体も用いられる。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス
(ジフェニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ベンゼ
ン)]クロリド：[ＲｕＣｌ(ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｃｌと略
す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリル
ホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]クロリ
ド：[ＲｕＣｌ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ）(Ｐｈ)]Ｃｌ
と略す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジ−(３,５
−ジメチルフェニル)ホスフィノ)−1,１'−ビナフチル]
(ベンゼン)]クロリド：[ＲｕＣｌ(３,５−キシリル−Ｂ
ＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｃｌと略す。[ルテニウムクロロ[２,
２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',６,６',７,
７',８,８'−オクタヒドロ−１,１'−ビナフチル](ベン
ゼン)]クロリド：[ＲｕＣｌ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]
Ｃｌと略す。[ルテニウムブロモ[２,２'−ビス(ジフェ
ニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]ブ
ロミド：[ＲｕＢｒ(ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂｒと略す。
[ルテニウムブロモ[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホス
フィノ)−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]ブロミド：
[ＲｕＢｒ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂｒと略
す。[ルテニウムブロモ[２,２'−ビス(ジ−(３,５−ジ
メチルフェニル)ホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ベ
ンゼン)] ブロミド：[ＲｕＢｒ(３,５−キシリル−ＢＩ
ＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂｒと略す。[ルテニウムブロモ[２,２'
−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',６,６',７,7',
８,８'−オクタヒドロ−１,１'−ビナフチル](ベンゼ
ン)] ブロミド：[ＲｕＢｒ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂ
ｒと略す。[ルテニウムヨード[２,２'−ビス(ジフェニ
ルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]ヨー
ジド：[ＲｕＩ(ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｉと略す。[ルテニ
ウムヨード[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)
−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]ヨージド：[ＲｕＩ
(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｉと略す。
スフィンを用いた以下のルテニウム−光学活性ホスフィ
ン錯体も用いられる。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス
(ジフェニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ベンゼ
ン)]クロリド：[ＲｕＣｌ(ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｃｌと略
す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリル
ホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]クロリ
ド：[ＲｕＣｌ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ）(Ｐｈ)]Ｃｌ
と略す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジ−(３,５
−ジメチルフェニル)ホスフィノ)−1,１'−ビナフチル]
(ベンゼン)]クロリド：[ＲｕＣｌ(３,５−キシリル−Ｂ
ＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｃｌと略す。[ルテニウムクロロ[２,
２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',６,６',７,
７',８,８'−オクタヒドロ−１,１'−ビナフチル](ベン
ゼン)]クロリド：[ＲｕＣｌ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]
Ｃｌと略す。[ルテニウムブロモ[２,２'−ビス(ジフェ
ニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]ブ
ロミド：[ＲｕＢｒ(ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂｒと略す。
[ルテニウムブロモ[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホス
フィノ)−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]ブロミド：
[ＲｕＢｒ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂｒと略
す。[ルテニウムブロモ[２,２'−ビス(ジ−(３,５−ジ
メチルフェニル)ホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ベ
ンゼン)] ブロミド：[ＲｕＢｒ(３,５−キシリル−ＢＩ
ＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂｒと略す。[ルテニウムブロモ[２,２'
−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',６,６',７,7',
８,８'−オクタヒドロ−１,１'−ビナフチル](ベンゼ
ン)] ブロミド：[ＲｕＢｒ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂ
ｒと略す。[ルテニウムヨード[２,２'−ビス(ジフェニ
ルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]ヨー
ジド：[ＲｕＩ(ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｉと略す。[ルテニ
ウムヨード[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)
−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]ヨージド：[ＲｕＩ
(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｉと略す。
【００３２】[ルテニウムヨード[２,２'−ビス(ジ−
(３,５−ジメチルフェニル)ホスフィノ)−１,１'−ビナ
フチル](ベンゼン)] ヨージド：[ＲｕＩ(３,５−キシリ
ル−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｉと略す。[ルテニウムヨード
[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',６,
６',７,７',８,８'−オクタヒドロ−１,１'−ビナフチ
ル](ベンゼン)] ヨージド：[ＲｕＩ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)
(Ｐｈ)]Ｉと略す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジ
フェニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ｐ−シメ
ン)]クロリド：[ＲｕＣｌ(ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｃ
ｌと略す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジ−ｐ−
トリルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ｐ−シメ
ン)]クロリド：[ＲｕＣｌ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(ｐ
−シメン)]Ｃｌと略す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビ
ス(ジ−(３,５−ジメチルフェニル)ホスフィノ)−１,
１'−ビナフチル](ｐ−シメン)]クロリド：[ＲｕＣｌ
(３,５−キシリル−ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｃｌと略
す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジフェニルホス
フィノ)−５,５',６,６',７,７',８,８'−オクタヒドロ
−１,１'−ビナフチル](ｐ−シメン)]クロリド：[Ｒｕ
Ｃｌ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｃｌと略す。[ル
テニウムブロモ[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)
−１,１'−ビナフチル](ｐ−シメン)]ブロミド：[Ｒｕ
Ｂｒ(ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｂｒと略す。[ルテニウ
ムブロモ[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)−
１,１'−ビナフチル](ｐ−シメン)]ブロミド：[ＲｕＢ
ｒ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｂｒと略
す。[ルテニウムブロモ[２,２'−ビス(ジ−(３,５−ジ
メチルフェニル)ホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ｐ
−シメン)]ブロミド：[ＲｕＢｒ(３,５−キシリル−Ｂ
ＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｂｒと略す。[ルテニウムブロ
モ[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',６,
６',７,７',８,８'−オクタヒドロ−１,１'−ビナフチ
ル](ｐ−シメン)]ブロミド：[ＲｕＢｒ(Ｈ8−ＢＩＮＡ
Ｐ)(ｐ−シメン)]Ｂｒと略す。
(３,５−ジメチルフェニル)ホスフィノ)−１,１'−ビナ
フチル](ベンゼン)] ヨージド：[ＲｕＩ(３,５−キシリ
ル−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｉと略す。[ルテニウムヨード
[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',６,
６',７,７',８,８'−オクタヒドロ−１,１'−ビナフチ
ル](ベンゼン)] ヨージド：[ＲｕＩ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)
(Ｐｈ)]Ｉと略す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジ
フェニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ｐ−シメ
ン)]クロリド：[ＲｕＣｌ(ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｃ
ｌと略す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジ−ｐ−
トリルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ｐ−シメ
ン)]クロリド：[ＲｕＣｌ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(ｐ
−シメン)]Ｃｌと略す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビ
ス(ジ−(３,５−ジメチルフェニル)ホスフィノ)−１,
１'−ビナフチル](ｐ−シメン)]クロリド：[ＲｕＣｌ
(３,５−キシリル−ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｃｌと略
す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジフェニルホス
フィノ)−５,５',６,６',７,７',８,８'−オクタヒドロ
−１,１'−ビナフチル](ｐ−シメン)]クロリド：[Ｒｕ
Ｃｌ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｃｌと略す。[ル
テニウムブロモ[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)
−１,１'−ビナフチル](ｐ−シメン)]ブロミド：[Ｒｕ
Ｂｒ(ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｂｒと略す。[ルテニウ
ムブロモ[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)−
１,１'−ビナフチル](ｐ−シメン)]ブロミド：[ＲｕＢ
ｒ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｂｒと略
す。[ルテニウムブロモ[２,２'−ビス(ジ−(３,５−ジ
メチルフェニル)ホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ｐ
−シメン)]ブロミド：[ＲｕＢｒ(３,５−キシリル−Ｂ
ＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｂｒと略す。[ルテニウムブロ
モ[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',６,
６',７,７',８,８'−オクタヒドロ−１,１'−ビナフチ
ル](ｐ−シメン)]ブロミド：[ＲｕＢｒ(Ｈ8−ＢＩＮＡ
Ｐ)(ｐ−シメン)]Ｂｒと略す。
【００３３】[ルテニウムヨード[２,２'−ビス(ジフェ
ニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ｐ−シメン)]
ヨージド：[ＲｕＩ(ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｉと略
す。[ルテニウムヨード[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリル
ホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ｐ−シメン)]ヨー
ジド：[ＲｕＩ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]
Ｉと略す。[ルテニウムヨード[２,２'−ビス(ジ−(３,
５−ジメチルフェニル)ホスフィノ)−１,１'−ビナフチ
ル](ｐ−シメン)] ヨージド：[ＲｕＩ(３,５−キシリル
−ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｉと略す。[ルテニウムヨ
ード[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',
６,６',７,７',８,８'−オクタヒドロ-１,１'−ビナフ
チル](ｐ−シメン)] ヨージド：［ＲｕＩ(Ｈ8−ＢＩＮ
ＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｉと略す。[ルテニウムクロロ[２,
２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチ
ル](ベンゼン)]テトラフルオロボレート：[ＲｕＣｌ(Ｂ
ＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]ＢＦ4と略す。[ルテニウムクロロ[２,
２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)−１,１'−ビナ
フチル](ベンゼン)]テトラフルオロボレート：[ＲｕＣ
ｌ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]ＢＦ4と略す。[ル
テニウムクロロ[２,２'−ビス(ジ−(３,５−ジメチルフ
ェニル)ホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]
テトラフルオロボレート：[ＲｕＣｌ(３,５−キシリル
−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]ＢＦ4と略す。[ルテニウムクロロ
[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',６,
６',７,7',８,８'−オクタヒドロ−１,１'−ビナフチ
ル](ベンゼン)] テトラフルオロボレート：[ＲｕＣｌ
(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]ＢＦ4と略す。[ルテニウムク
ロロ[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−１,１'−
ビナフチル](ベンゼン)]テトラフェニルボレート：[Ｒ
ｕＣｌ(ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂ(Ｐｈ)4と略す。[ルテニ
ウムクロロ[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)
−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]テトラフェニルボレ
ート：[ＲｕＣｌ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂ
(Ｐｈ)4と略す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジ−
(３,５−ジメチルフェニル)ホスフィノ−１,１'−ビナ
フチル](ベンゼン)] テトラフェニルボレート：[ＲｕＣ
ｌ(３,５−キシリル−ＢＩＮＡＰ)（Ｐｈ)]Ｂ(Ｐｈ)4と
略す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)−５,５',６,６',７,７',８,８'−オクタヒド
ロ−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)] テトラフェニル
ボレート：[ＲｕＣｌ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂ(Ｐ
ｈ)4と略す。
ニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ｐ−シメン)]
ヨージド：[ＲｕＩ(ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｉと略
す。[ルテニウムヨード[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリル
ホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ｐ−シメン)]ヨー
ジド：[ＲｕＩ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]
Ｉと略す。[ルテニウムヨード[２,２'−ビス(ジ−(３,
５−ジメチルフェニル)ホスフィノ)−１,１'−ビナフチ
ル](ｐ−シメン)] ヨージド：[ＲｕＩ(３,５−キシリル
−ＢＩＮＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｉと略す。[ルテニウムヨ
ード[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',
６,６',７,７',８,８'−オクタヒドロ-１,１'−ビナフ
チル](ｐ−シメン)] ヨージド：［ＲｕＩ(Ｈ8−ＢＩＮ
ＡＰ)(ｐ−シメン)]Ｉと略す。[ルテニウムクロロ[２,
２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチ
ル](ベンゼン)]テトラフルオロボレート：[ＲｕＣｌ(Ｂ
ＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]ＢＦ4と略す。[ルテニウムクロロ[２,
２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)−１,１'−ビナ
フチル](ベンゼン)]テトラフルオロボレート：[ＲｕＣ
ｌ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]ＢＦ4と略す。[ル
テニウムクロロ[２,２'−ビス(ジ−(３,５−ジメチルフ
ェニル)ホスフィノ)−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]
テトラフルオロボレート：[ＲｕＣｌ(３,５−キシリル
−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]ＢＦ4と略す。[ルテニウムクロロ
[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−５,５',６,
６',７,7',８,８'−オクタヒドロ−１,１'−ビナフチ
ル](ベンゼン)] テトラフルオロボレート：[ＲｕＣｌ
(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]ＢＦ4と略す。[ルテニウムク
ロロ[２,２'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−１,１'−
ビナフチル](ベンゼン)]テトラフェニルボレート：[Ｒ
ｕＣｌ(ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂ(Ｐｈ)4と略す。[ルテニ
ウムクロロ[２,２'−ビス(ジ−ｐ−トリルホスフィノ)
−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)]テトラフェニルボレ
ート：[ＲｕＣｌ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂ
(Ｐｈ)4と略す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジ−
(３,５−ジメチルフェニル)ホスフィノ−１,１'−ビナ
フチル](ベンゼン)] テトラフェニルボレート：[ＲｕＣ
ｌ(３,５−キシリル−ＢＩＮＡＰ)（Ｐｈ)]Ｂ(Ｐｈ)4と
略す。[ルテニウムクロロ[２,２'−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)−５,５',６,６',７,７',８,８'−オクタヒド
ロ−１,１'−ビナフチル](ベンゼン)] テトラフェニル
ボレート：[ＲｕＣｌ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(Ｐｈ)]Ｂ(Ｐ
ｈ)4と略す。
【００３４】ＲｕＣｌ2(ＢＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)2、[Ｒｕ
Ｃｌ2(ＢＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)]n、ＲｕＣｌ2(ｐ−トリル
−ＢＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)2、[ＲｕＣｌ2(ｐ−トリル−Ｂ
ＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)]n、ＲｕＣｌ2(３,５−キシリル−Ｂ
ＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)2、[ＲｕＣｌ2(３,５−キシリル−Ｂ
ＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)]n、ＲｕＣｌ2(Ｈ8-ＢＩＮＡＰ)(Ｄ
ＭＦ)2、[ＲｕＣｌ2(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)]n、[Ｒ
ｕＣｌ(ＢＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)3]Ｃｌ、[Ｒｕ(ＢＩＮＡ
Ｐ)(ＤＭＦ)4]Ｃｌ2、[ＲｕＣｌ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡ
Ｐ)(ＤＭＦ)3]Ｃｌ、[Ｒｕ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)
(ＤＭＦ)4]Ｃｌ2、[ＲｕＣｌ(３,５−キシリル−ＢＩＮ
ＡＰ)(ＤＭＦ)3]Ｃｌ、[Ｒｕ(３,５−キシリル−ＢＩＮ
ＡＰ)(ＤＭＦ)4]Ｃｌ2、[ＲｕＣｌ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)
(ＤＭＦ)3]Ｃｌ、[Ｒｕ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)4]Ｃ
ｌ2。上記式中、Ｒｕはルテニウム、Ｂはボラン、ＣＨ3
ＣＯ2は酢酸イオン、ＤＭＦはＮ,Ｎ-ジメチルホルムア
ミド、ＮＥｔ3はトリエチルアミン、Ｐｈはベンゼン、
ｎは１ないし３の整数、ＢＩＮＡＰは２,２'−ビス(ジ
フェニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチルをそれぞれ
示す。
Ｃｌ2(ＢＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)]n、ＲｕＣｌ2(ｐ−トリル
−ＢＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)2、[ＲｕＣｌ2(ｐ−トリル−Ｂ
ＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)]n、ＲｕＣｌ2(３,５−キシリル−Ｂ
ＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)2、[ＲｕＣｌ2(３,５−キシリル−Ｂ
ＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)]n、ＲｕＣｌ2(Ｈ8-ＢＩＮＡＰ)(Ｄ
ＭＦ)2、[ＲｕＣｌ2(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)]n、[Ｒ
ｕＣｌ(ＢＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)3]Ｃｌ、[Ｒｕ(ＢＩＮＡ
Ｐ)(ＤＭＦ)4]Ｃｌ2、[ＲｕＣｌ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡ
Ｐ)(ＤＭＦ)3]Ｃｌ、[Ｒｕ(ｐ−トリル−ＢＩＮＡＰ)
(ＤＭＦ)4]Ｃｌ2、[ＲｕＣｌ(３,５−キシリル−ＢＩＮ
ＡＰ)(ＤＭＦ)3]Ｃｌ、[Ｒｕ(３,５−キシリル−ＢＩＮ
ＡＰ)(ＤＭＦ)4]Ｃｌ2、[ＲｕＣｌ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)
(ＤＭＦ)3]Ｃｌ、[Ｒｕ(Ｈ8−ＢＩＮＡＰ)(ＤＭＦ)4]Ｃ
ｌ2。上記式中、Ｒｕはルテニウム、Ｂはボラン、ＣＨ3
ＣＯ2は酢酸イオン、ＤＭＦはＮ,Ｎ-ジメチルホルムア
ミド、ＮＥｔ3はトリエチルアミン、Ｐｈはベンゼン、
ｎは１ないし３の整数、ＢＩＮＡＰは２,２'−ビス(ジ
フェニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチルをそれぞれ
示す。
【００３５】本発明において用いられる遷移金属−光学
活性ホスフィン錯体としては、中でも、（Ｒ）配置また
は（Ｓ）配置のビス[[２,２'−ビス(ジフェニルホスフ
ィノ)−１,１'−ビナフチル]ジクロロルテニウム]トリ
エチルアミン：[ＲｕＣｌ2[(Ｒ)または(Ｓ)−(ＢＩＮＡ
Ｐ)]]2ＮＥｔ3と略す、が最も好ましい。前記ルテニウ
ム−光学活性ホスフィン錯体中の光学活性なホスフィン
には（Ｒ）配置および（Ｓ）配置の２種の光学異性体が
存在する。本発明において光学活性なホスフィンの
（Ｒ）配置および（Ｓ）配置のどちらかの光学異性体を
適宜選択すれば、目的とする式（I）で示される化合物
の光学異性体〔以下、光学異性体（I）と略記すること
がある〕を選択的に得ることができる。
活性ホスフィン錯体としては、中でも、（Ｒ）配置また
は（Ｓ）配置のビス[[２,２'−ビス(ジフェニルホスフ
ィノ)−１,１'−ビナフチル]ジクロロルテニウム]トリ
エチルアミン：[ＲｕＣｌ2[(Ｒ)または(Ｓ)−(ＢＩＮＡ
Ｐ)]]2ＮＥｔ3と略す、が最も好ましい。前記ルテニウ
ム−光学活性ホスフィン錯体中の光学活性なホスフィン
には（Ｒ）配置および（Ｓ）配置の２種の光学異性体が
存在する。本発明において光学活性なホスフィンの
（Ｒ）配置および（Ｓ）配置のどちらかの光学異性体を
適宜選択すれば、目的とする式（I）で示される化合物
の光学異性体〔以下、光学異性体（I）と略記すること
がある〕を選択的に得ることができる。
【００３６】本発明方法である不斉水素化反応は、自体
公知の方法に従えばよく、例えば以下のオートクレーブ
中水素加圧下で撹拌する方法などが挙げられる。該反応
は、不活性な有機溶媒中で行うことができる。該有機溶
媒としては、炭化水素系溶媒(例、ヘキサン、ペンタ
ン、シクロヘキサンなど)、アミド系溶媒(例、Ｎ,Ｎ−
ジメチルホルムアミド(ＤＭＦ)、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセ
トアミド、Ｎ−メチルピロリドンなど) 、芳香族炭化水
素系溶媒(例、トルエン、ベンゼン、クロロベンゼン
等)、脂肪族エステル系溶媒(例、酢酸エチル、酢酸ｎ−
プロピル、酢酸ｎ−ブチル等)、エーテル系溶媒(例、ジ
イソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン(ＴＨＦ)、１,４−ジオキサン、１,２−ジメト
キシエタンなど)、ハロゲン化炭化水素系溶媒(例、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタン、
四塩化炭素類など)、アルコール系溶媒(例、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、tert−ブタノール
など)、ケトン系溶媒(例、アセトン、エチルメチルケト
ンなど)、スルホキシド系溶媒(例、ジメチルスルホキシ
ドなど)、ニトリル系溶媒(例、アセトニトリル、プロピ
オニトリルなど)等が挙げられる。これらの溶媒は単独
で用いても、また混合溶媒として用いてもよい。好まし
い溶媒はアルコール系溶媒である。さらに好ましくはエ
タノールである。該反応において、原料化合物(基質)で
ある化合物（II）またはその塩の反応液中の濃度は１〜
１０００mg／ml、好ましくは５０〜３００mg／mlであ
る。該反応において用いる遷移金属−光学活性ホスフィ
ン錯体の量は、原料化合物（基質）１モルに対して０.
００００１〜１モル、好ましくは０.００１〜０.１モル
である。該反応における反応温度は、室温（０℃〜３０
℃）〜１００℃、好ましくは５０〜８０℃である。該反
応における水素圧は、５〜１００kg／cm2、好ましくは
５０〜１００kg／cm2である。該反応における反応時間
は、１〜４８時間、好ましくは１〜６時間である。該反
応においては反応液中に、所望により、ルイス酸(例、
三フッ化ホウ素−エーテル錯体、塩化アルミニウム、四
塩化チタン、塩化コバルトなど)、鉱酸(例、塩酸、臭化
水素酸、ヨウ化水素酸など)を適当量添加してもよい。
本発明の製造法で得られる光学異性体には、プラスの旋
光度を示す化合物［(＋)体］とマイナスの旋光度を示す
化合物［(−)体］がある。
公知の方法に従えばよく、例えば以下のオートクレーブ
中水素加圧下で撹拌する方法などが挙げられる。該反応
は、不活性な有機溶媒中で行うことができる。該有機溶
媒としては、炭化水素系溶媒(例、ヘキサン、ペンタ
ン、シクロヘキサンなど)、アミド系溶媒(例、Ｎ,Ｎ−
ジメチルホルムアミド(ＤＭＦ)、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセ
トアミド、Ｎ−メチルピロリドンなど) 、芳香族炭化水
素系溶媒(例、トルエン、ベンゼン、クロロベンゼン
等)、脂肪族エステル系溶媒(例、酢酸エチル、酢酸ｎ−
プロピル、酢酸ｎ−ブチル等)、エーテル系溶媒(例、ジ
イソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン(ＴＨＦ)、１,４−ジオキサン、１,２−ジメト
キシエタンなど)、ハロゲン化炭化水素系溶媒(例、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタン、
四塩化炭素類など)、アルコール系溶媒(例、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、tert−ブタノール
など)、ケトン系溶媒(例、アセトン、エチルメチルケト
ンなど)、スルホキシド系溶媒(例、ジメチルスルホキシ
ドなど)、ニトリル系溶媒(例、アセトニトリル、プロピ
オニトリルなど)等が挙げられる。これらの溶媒は単独
で用いても、また混合溶媒として用いてもよい。好まし
い溶媒はアルコール系溶媒である。さらに好ましくはエ
タノールである。該反応において、原料化合物(基質)で
ある化合物（II）またはその塩の反応液中の濃度は１〜
１０００mg／ml、好ましくは５０〜３００mg／mlであ
る。該反応において用いる遷移金属−光学活性ホスフィ
ン錯体の量は、原料化合物（基質）１モルに対して０.
００００１〜１モル、好ましくは０.００１〜０.１モル
である。該反応における反応温度は、室温（０℃〜３０
℃）〜１００℃、好ましくは５０〜８０℃である。該反
応における水素圧は、５〜１００kg／cm2、好ましくは
５０〜１００kg／cm2である。該反応における反応時間
は、１〜４８時間、好ましくは１〜６時間である。該反
応においては反応液中に、所望により、ルイス酸(例、
三フッ化ホウ素−エーテル錯体、塩化アルミニウム、四
塩化チタン、塩化コバルトなど)、鉱酸(例、塩酸、臭化
水素酸、ヨウ化水素酸など)を適当量添加してもよい。
本発明の製造法で得られる光学異性体には、プラスの旋
光度を示す化合物［(＋)体］とマイナスの旋光度を示す
化合物［(−)体］がある。
【００３７】本発明の製造法において用いられる化合物
（II）またはその塩は、自体公知の反応を組み合わせる
ことにより容易に製造することができる。または、次に
挙げる方法、あるいはこれらに準じた方法により製造す
ることができる。その具体例としては以下の工程に記載
の方法などが挙げられる。
（II）またはその塩は、自体公知の反応を組み合わせる
ことにより容易に製造することができる。または、次に
挙げる方法、あるいはこれらに準じた方法により製造す
ることができる。その具体例としては以下の工程に記載
の方法などが挙げられる。
【００３８】
【化１５】
【００３９】化合物（V）は容易に入手可能であり、自
体公知の方法、例えば、置換ベンゾシクロアルカノイル
−２−酢酸の合成例を開示している特開平４−３３８３
５８号公報記載の方法に準じて製造してもよい。該置換
ベンゾシクロアルカノイル−２−酢酸は自体公知の方法
により、置換基Ｔの異なる化合物（V）に導くことがで
きる。例えば、Ｔが、モノ−Ｃ1-6アルキル−カルバモ
イル(例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイルな
ど)、ジ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイル(例、ジメチル
カルバモイル、ジエチルカルバモイル、エチルメチルカ
ルバモイルなど)、Ｃ6-10アリールカルバモイル(例、フ
ェニルカルバモイル、１−ナフチルカルバモイル、２−
ナフチルカルバモイルなど)、５〜６員複素環カルバモ
イル(例、２−ピリジルカルバモイル、３−ピリジルカ
ルバモイル、４−ピリジルカルバモイル、２−チエニル
カルバモイル、３−チエニルカルバモイルなど)である
化合物（V）は、該置換ベンゾシクロアルカノイル−２
−酢酸を自体公知のアミド化反応[例えば、オーガニッ
ク ファンクショナル グループ プレパレーションズ
(ORGANIC FUNCTIONAL GROUP PREPARATIONS)第2版、アカ
デミックプレス社(ACADEMIC PRESS, INC.)1989年刊等に
記載の方法]に準じて反応させることにより得ることが
できる。
体公知の方法、例えば、置換ベンゾシクロアルカノイル
−２−酢酸の合成例を開示している特開平４−３３８３
５８号公報記載の方法に準じて製造してもよい。該置換
ベンゾシクロアルカノイル−２−酢酸は自体公知の方法
により、置換基Ｔの異なる化合物（V）に導くことがで
きる。例えば、Ｔが、モノ−Ｃ1-6アルキル−カルバモ
イル(例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイルな
ど)、ジ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイル(例、ジメチル
カルバモイル、ジエチルカルバモイル、エチルメチルカ
ルバモイルなど)、Ｃ6-10アリールカルバモイル(例、フ
ェニルカルバモイル、１−ナフチルカルバモイル、２−
ナフチルカルバモイルなど)、５〜６員複素環カルバモ
イル(例、２−ピリジルカルバモイル、３−ピリジルカ
ルバモイル、４−ピリジルカルバモイル、２−チエニル
カルバモイル、３−チエニルカルバモイルなど)である
化合物（V）は、該置換ベンゾシクロアルカノイル−２
−酢酸を自体公知のアミド化反応[例えば、オーガニッ
ク ファンクショナル グループ プレパレーションズ
(ORGANIC FUNCTIONAL GROUP PREPARATIONS)第2版、アカ
デミックプレス社(ACADEMIC PRESS, INC.)1989年刊等に
記載の方法]に準じて反応させることにより得ることが
できる。
【００４０】（工程１） ケトンの還元工程 化合物（V）および金属水素化物を還元反応に付して化
合物（VI）を得る。還元反応は、自体公知の方法、例え
ば、オーガニック・ファンクショナル・グループ・プレ
パレーションズ(ORGANIC FUNCTIONAL GROUP PREPARATIO
NS)第２版、アカデミックプレス社(ACADEMIC PRESS, IN
C.)1989年刊等に記載の方法に準じて行うことができ
る。具体的には、化合物（V）および約１〜２０当量(好
ましくは約１〜６当量)の金属水素化物を不活性溶媒中
で反応させる。該金属水素化物としては、例えば、水素
化アルミニウム、水素化アルミニウムチウム、水素化ホ
ウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、シアノ水素化
ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素リチウム、ボラ
ン錯体(例、ボラン−ＴＨＦ錯体、カテコールボランな
ど)、ジブチルアルミニウムヒドリド、およびこれら金
属水素化物とルイス酸(例、塩化アルミニウム、四塩化
チタン、塩化コバルトなど)またはオキシ塩化リンとの
混合物などが挙げられる。好ましい金属水素化物として
は、水素化ホウ素ナトリウムあるいは水素化アルミニウ
ムリチウムが挙げられる。不活性溶媒としては、例え
ば、水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合はアルコール
系溶媒（例、メタノール、エタノール、プロパノール、
tert−ブタノール等）が好ましく、水素化アルミニウム
リチウムを用いる場合にはエーテル系溶媒（例、ジイソ
プロピルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、１,４−ジオキサン、１,２−ジメトキシエタン
等）が好ましい。反応温度は、用いる金属水素化物によ
り異なるが、通常は室温〜約５０℃である。反応時間
は、約０.１〜１８時間である。
合物（VI）を得る。還元反応は、自体公知の方法、例え
ば、オーガニック・ファンクショナル・グループ・プレ
パレーションズ(ORGANIC FUNCTIONAL GROUP PREPARATIO
NS)第２版、アカデミックプレス社(ACADEMIC PRESS, IN
C.)1989年刊等に記載の方法に準じて行うことができ
る。具体的には、化合物（V）および約１〜２０当量(好
ましくは約１〜６当量)の金属水素化物を不活性溶媒中
で反応させる。該金属水素化物としては、例えば、水素
化アルミニウム、水素化アルミニウムチウム、水素化ホ
ウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、シアノ水素化
ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素リチウム、ボラ
ン錯体(例、ボラン−ＴＨＦ錯体、カテコールボランな
ど)、ジブチルアルミニウムヒドリド、およびこれら金
属水素化物とルイス酸(例、塩化アルミニウム、四塩化
チタン、塩化コバルトなど)またはオキシ塩化リンとの
混合物などが挙げられる。好ましい金属水素化物として
は、水素化ホウ素ナトリウムあるいは水素化アルミニウ
ムリチウムが挙げられる。不活性溶媒としては、例え
ば、水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合はアルコール
系溶媒（例、メタノール、エタノール、プロパノール、
tert−ブタノール等）が好ましく、水素化アルミニウム
リチウムを用いる場合にはエーテル系溶媒（例、ジイソ
プロピルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、１,４−ジオキサン、１,２−ジメトキシエタン
等）が好ましい。反応温度は、用いる金属水素化物によ
り異なるが、通常は室温〜約５０℃である。反応時間
は、約０.１〜１８時間である。
【００４１】（工程２） 脱水工程 化合物（VI）を脱水反応に付して、化合物（II）を得
る。該反応は通常の脱水反応(例えば、上記文献オーガ
ニック・ファンクショナル・グループ・プレパレーショ
ンズ(ORGANIC FUNCTIONAL GROUP PREPARATIONS)第２
版、アカデミックプレス社(ACADEMIC PRESS, INC.)1989
年刊等に記載の方法)に準じて行う。その具体例とし
て、酸を用いる方法が挙げられる。具体的には、化合物
（VI）および触媒量〜約２０当量(好ましくは、触媒量
〜６当量)の酸を無溶媒中あるいは、不活性溶媒中で反
応させる。酸としては、例えば、鉱酸(例、塩酸、臭化
水素酸、ヨウ化水素酸など)、有機酸(ｐ−トルエンスル
ホン酸、カンファースルホン酸、酢酸、プロピオン酸、
メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸など)、ルイス酸(例、塩化アルミニウ
ム、三臭化ホウ素など)、ハロゲン化ケイ素試薬(例、ヨ
ードトリメチルシラン、ブロモトリメチルシランなど)
などが挙げられる。不活性溶媒としては、例えば、水、
芳香族炭化水素系溶媒（例、ベンゼン、トルエン、クロ
ロベンゼン等）、脂肪族エステル系溶媒(例、酢酸エチ
ル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル等)、エーテル
系溶媒(例、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、１,４−ジオキサン、１,２−
ジメトキシエタンなど)、ハロゲン化炭化水素系溶媒
（クロロホルム、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエ
タン、四塩化炭素等）、酢酸などの単独またはこれらの
二種以上を混合溶媒として用いる。好ましくは、化合物
（VI）および触媒量のｐ−トルエンスルホン酸をトルエ
ン中、約１００℃〜１３０℃、約０.１〜５時間反応さ
せる。このようにして得られた化合物は、所望により、
自体公知のアルキル化反応、アシル化反応、アミノ化反
応、加水分解反応、還元反応等に付すことにより、目的
とする化合物（II）を得る。
る。該反応は通常の脱水反応(例えば、上記文献オーガ
ニック・ファンクショナル・グループ・プレパレーショ
ンズ(ORGANIC FUNCTIONAL GROUP PREPARATIONS)第２
版、アカデミックプレス社(ACADEMIC PRESS, INC.)1989
年刊等に記載の方法)に準じて行う。その具体例とし
て、酸を用いる方法が挙げられる。具体的には、化合物
（VI）および触媒量〜約２０当量(好ましくは、触媒量
〜６当量)の酸を無溶媒中あるいは、不活性溶媒中で反
応させる。酸としては、例えば、鉱酸(例、塩酸、臭化
水素酸、ヨウ化水素酸など)、有機酸(ｐ−トルエンスル
ホン酸、カンファースルホン酸、酢酸、プロピオン酸、
メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸など)、ルイス酸(例、塩化アルミニウ
ム、三臭化ホウ素など)、ハロゲン化ケイ素試薬(例、ヨ
ードトリメチルシラン、ブロモトリメチルシランなど)
などが挙げられる。不活性溶媒としては、例えば、水、
芳香族炭化水素系溶媒（例、ベンゼン、トルエン、クロ
ロベンゼン等）、脂肪族エステル系溶媒(例、酢酸エチ
ル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル等)、エーテル
系溶媒(例、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、１,４−ジオキサン、１,２−
ジメトキシエタンなど)、ハロゲン化炭化水素系溶媒
（クロロホルム、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエ
タン、四塩化炭素等）、酢酸などの単独またはこれらの
二種以上を混合溶媒として用いる。好ましくは、化合物
（VI）および触媒量のｐ−トルエンスルホン酸をトルエ
ン中、約１００℃〜１３０℃、約０.１〜５時間反応さ
せる。このようにして得られた化合物は、所望により、
自体公知のアルキル化反応、アシル化反応、アミノ化反
応、加水分解反応、還元反応等に付すことにより、目的
とする化合物（II）を得る。
【００４２】化合物（II）の具体例としては、例えば、
Ｎ,Ｎ−ジメチル−[６−メトキシ−２−(３,４−ジヒド
ロナフタレン)]アセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジエチル−[６−
メトキシ−２−(３,４−ジヒドロナフタレン)]アセトア
ミド、Ｎ,Ｎ−ジプロピル−[６−メトキシ−２−(３,４
−ジヒドロナフタレン)]アセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジブチ
ル−[６−メトキシ−２−(３,４−ジヒドロナフタレ
ン)]アセトアミド、２−[６−メトキシ−２−(３,４−
ジヒドロナフタレン)]−１−(１−ピロリジニル)−１−
エタノン、２−[６−メトキシ−２−(３,４−ジヒドロ
ナフタレン)]−１−ピペリジノ−１−エタノン、[６−
(４−ビフェニリル)メトキシ−２−（３,４−ジヒドロ
ナフタレン)]−Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミドなどが挙
げられる。
Ｎ,Ｎ−ジメチル−[６−メトキシ−２−(３,４−ジヒド
ロナフタレン)]アセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジエチル−[６−
メトキシ−２−(３,４−ジヒドロナフタレン)]アセトア
ミド、Ｎ,Ｎ−ジプロピル−[６−メトキシ−２−(３,４
−ジヒドロナフタレン)]アセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジブチ
ル−[６−メトキシ−２−(３,４−ジヒドロナフタレ
ン)]アセトアミド、２−[６−メトキシ−２−(３,４−
ジヒドロナフタレン)]−１−(１−ピロリジニル)−１−
エタノン、２−[６−メトキシ−２−(３,４−ジヒドロ
ナフタレン)]−１−ピペリジノ−１−エタノン、[６−
(４−ビフェニリル)メトキシ−２−（３,４−ジヒドロ
ナフタレン)]−Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミドなどが挙
げられる。
【００４３】本製造に用いられる原料化合物、中間体、
および本発明方法により製造される化合物の塩として
は、例えば無機塩基との塩、アンモニウム塩、有機塩基
との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性または酸
性アミノ酸との塩などが挙げられる。無機塩基との塩の
好適な例としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩な
どのアルカリ金属塩;カルシウム塩、マグネシウム塩、
バリウム塩などのアルカリ土類金属塩；アルミニウム
塩、アンモニウム塩などが挙げられる。有機塩基との塩
の好適な例としては、例えばトリメチルアミン、トリエ
チルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン
などとの塩が挙げられる。無機酸との塩の好適な例とし
ては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸な
どとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例として
は、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマル酸、
シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、
リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ
−トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。塩基性
アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアルギニ
ン、リジン、オルニチンなどとの塩が挙げられ、酸性ア
ミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアスパラギン
酸、グルタミン酸などとの塩が挙げられる。このうち、
薬学的に許容し得る塩が好ましい。例えば、化合物内に
酸性官能基を有する場合にはアルカリ金属塩(例、ナト
リウム塩、カリウム塩など)、アルカリ土類金属塩(例、
カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩など)など
の無機塩、アンモニウム塩など、また、化合物内に塩基
性官能基を有する場合には塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、
臭化水素酸塩などの無機塩または、酢酸塩、マレイン酸
塩、フマル酸塩、コハク酸塩、メタンスルホン酸塩、ｐ
−トルエンスルホン酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩などの
有機塩が挙げられる。
および本発明方法により製造される化合物の塩として
は、例えば無機塩基との塩、アンモニウム塩、有機塩基
との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性または酸
性アミノ酸との塩などが挙げられる。無機塩基との塩の
好適な例としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩な
どのアルカリ金属塩;カルシウム塩、マグネシウム塩、
バリウム塩などのアルカリ土類金属塩；アルミニウム
塩、アンモニウム塩などが挙げられる。有機塩基との塩
の好適な例としては、例えばトリメチルアミン、トリエ
チルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン
などとの塩が挙げられる。無機酸との塩の好適な例とし
ては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸な
どとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例として
は、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマル酸、
シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、
リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ
−トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。塩基性
アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアルギニ
ン、リジン、オルニチンなどとの塩が挙げられ、酸性ア
ミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアスパラギン
酸、グルタミン酸などとの塩が挙げられる。このうち、
薬学的に許容し得る塩が好ましい。例えば、化合物内に
酸性官能基を有する場合にはアルカリ金属塩(例、ナト
リウム塩、カリウム塩など)、アルカリ土類金属塩(例、
カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩など)など
の無機塩、アンモニウム塩など、また、化合物内に塩基
性官能基を有する場合には塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、
臭化水素酸塩などの無機塩または、酢酸塩、マレイン酸
塩、フマル酸塩、コハク酸塩、メタンスルホン酸塩、ｐ
−トルエンスルホン酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩などの
有機塩が挙げられる。
【００４４】本発明の製造法により得られる光学異性体
（I）および式（III）で表される化合物の光学異性体
〔以下、光学異性体（III）と略記することがある〕ま
たはその塩は、例えば、ジャーナル・オブ・メディシナ
ル・ケミストリー（J. Med. Chem.)、37巻、2071〜2078
頁、1994年に記載のプロリルエンドペプチダーゼ阻害薬
等の合成原料として用いることができる。さらに、本発
明の製造法により得られる光学異性体（I）もしくは（I
II）またはそれらの塩を、自体公知の還元反応およびア
ルキル化反応等の組み合わせに付すことにより、特開昭
６３−７７８４２号公報に記載の化合物の光学異性体を
製造することができる。また、光学異性体（I）、（II
I）またはそれらの塩は、アルキル化反応、アシル化反
応、アミノ化反応、アミド化反応または還元反応等に付
し、優れたアミロイドβ蛋白産生・分泌阻害作用を有す
る光学活性な縮合芳香族誘導体を製造する際の合成原料
として用いることができる。例えば、式
（I）および式（III）で表される化合物の光学異性体
〔以下、光学異性体（III）と略記することがある〕ま
たはその塩は、例えば、ジャーナル・オブ・メディシナ
ル・ケミストリー（J. Med. Chem.)、37巻、2071〜2078
頁、1994年に記載のプロリルエンドペプチダーゼ阻害薬
等の合成原料として用いることができる。さらに、本発
明の製造法により得られる光学異性体（I）もしくは（I
II）またはそれらの塩を、自体公知の還元反応およびア
ルキル化反応等の組み合わせに付すことにより、特開昭
６３−７７８４２号公報に記載の化合物の光学異性体を
製造することができる。また、光学異性体（I）、（II
I）またはそれらの塩は、アルキル化反応、アシル化反
応、アミノ化反応、アミド化反応または還元反応等に付
し、優れたアミロイドβ蛋白産生・分泌阻害作用を有す
る光学活性な縮合芳香族誘導体を製造する際の合成原料
として用いることができる。例えば、式
【化１６】 〔式中、環Ａ''はアルコキシ等のスペーサーとなりうる
基を置換基として有するベンゼン環、他の各記号は前記
と同意義を示す〕で表される化合物を還元反応、脱Ｏ−
アルキル反応次いでアルキル化反応に付すことにより、
優れたアミロイドβ蛋白産生・分泌阻害作用を有する医
薬品として有用な式
基を置換基として有するベンゼン環、他の各記号は前記
と同意義を示す〕で表される化合物を還元反応、脱Ｏ−
アルキル反応次いでアルキル化反応に付すことにより、
優れたアミロイドβ蛋白産生・分泌阻害作用を有する医
薬品として有用な式
【化１７】 〔Ａr は環集合芳香族基（例、２−、３−または４−ビ
フェニリル等）、環Ａ'''は環Ａ''と同意義、Ｗは −Ｃ
Ｈ2−Ｏ− 等の原子数１〜６のスペーサー、他の各記号
は前記と同意義を示す〕で表される化合物またはその塩
〔以下、化合物（IV'）と略記することがある〕を製造
することができる。
フェニリル等）、環Ａ'''は環Ａ''と同意義、Ｗは −Ｃ
Ｈ2−Ｏ− 等の原子数１〜６のスペーサー、他の各記号
は前記と同意義を示す〕で表される化合物またはその塩
〔以下、化合物（IV'）と略記することがある〕を製造
することができる。
【００４５】上記化合物（IV'）は、優れたアミロイド
β蛋白産生・分泌阻害作用および分泌型ＡＰＰの分泌促
進作用を有し、毒性も低く、優れた脳内移行性を有する
ため、神経変性疾患；アミロイドアンジオパシー：脳血
管障害による、頭部外傷による、または、脊髄損傷によ
る神経障害などの予防・治療剤として、さらに、神経変
性および神経障害によって惹起される種々の精神障害
（例、うつ、不安、脅迫神経症、睡眠障害など）の改善
剤としても有用である。好ましくは、神経変性疾患
（例、アルツハイマー病、ダウン症、老年期痴呆、パー
キンソン病、クロイツフェルト・ヤコブ病、筋萎縮性脊
髄側索硬化症、糖尿病性ニューロパシー、ハンチントン
舞踏病、多発性硬化症など）の予防・治療剤として、さ
らに好ましくは、アミロイドβ蛋白に起因する神経変性
疾患（例、アルツハイマー病、ダウン症等）などの予防
・治療剤として、特に好ましくは、アルツハイマーの予
防・治療剤として有用である。化合物（IV'）は、自体
公知の手段に従って製剤化することができる。化合物
（IV'）そのままあるいは薬理学的に許容される自体公
知の担体を、製剤化工程において適宜、適量混合するこ
とにより医薬組成物、例えば錠剤、散剤、顆粒剤、カプ
セル剤、液剤、注射剤、坐剤、徐放剤などとして、経口
的または非経口的（例、局所、直腸、静脈投与等）に安
全に投与することができる。化合物（IV'）の投与量
は、投与対象、投与ルート、疾患などにより異なるが、
例えばアルツハイマー病治療薬として、成人（約６０k
g）に対し、経口剤として、１回当たり、有効成分（化
合物（IV'））として約０.１〜５００mg、好ましくは約
１〜１００mg、さらに好ましくは５〜１００mgであり、
１日１〜数回に分けて投与することができる。
β蛋白産生・分泌阻害作用および分泌型ＡＰＰの分泌促
進作用を有し、毒性も低く、優れた脳内移行性を有する
ため、神経変性疾患；アミロイドアンジオパシー：脳血
管障害による、頭部外傷による、または、脊髄損傷によ
る神経障害などの予防・治療剤として、さらに、神経変
性および神経障害によって惹起される種々の精神障害
（例、うつ、不安、脅迫神経症、睡眠障害など）の改善
剤としても有用である。好ましくは、神経変性疾患
（例、アルツハイマー病、ダウン症、老年期痴呆、パー
キンソン病、クロイツフェルト・ヤコブ病、筋萎縮性脊
髄側索硬化症、糖尿病性ニューロパシー、ハンチントン
舞踏病、多発性硬化症など）の予防・治療剤として、さ
らに好ましくは、アミロイドβ蛋白に起因する神経変性
疾患（例、アルツハイマー病、ダウン症等）などの予防
・治療剤として、特に好ましくは、アルツハイマーの予
防・治療剤として有用である。化合物（IV'）は、自体
公知の手段に従って製剤化することができる。化合物
（IV'）そのままあるいは薬理学的に許容される自体公
知の担体を、製剤化工程において適宜、適量混合するこ
とにより医薬組成物、例えば錠剤、散剤、顆粒剤、カプ
セル剤、液剤、注射剤、坐剤、徐放剤などとして、経口
的または非経口的（例、局所、直腸、静脈投与等）に安
全に投与することができる。化合物（IV'）の投与量
は、投与対象、投与ルート、疾患などにより異なるが、
例えばアルツハイマー病治療薬として、成人（約６０k
g）に対し、経口剤として、１回当たり、有効成分（化
合物（IV'））として約０.１〜５００mg、好ましくは約
１〜１００mg、さらに好ましくは５〜１００mgであり、
１日１〜数回に分けて投与することができる。
【００４６】
【発明の実施の形態】以下に実施例および参考例を挙げ
て、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。以下の実施例および参考例
中で使用するエタノールはマグネシウムエトキシド存在
下で、還流後、蒸留し、さらに脱気して用いた。化学収
率は、単離収率または高速液体クロマトグラフィーで得
られた収率である。光学活性体の光学純度（不斉収率）
は鏡像体過剰率(％ｅ.ｅ.)で示した。該鏡像体過剰率は
高速液体クロマトグラフィーにおける各鏡像体[(＋)体
と(−)体]の面積比から計算により導き出した。以下の
実施例および参考例において示す高速液体クロマトグラ
フィーの条件は、特記しない限り次のとおりである。 カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ(ダイセル化学工業
株式会社製、粒径:１０μm、カラム径:４.６ｍｍ、カラ
ム長：２５０ｍｍ) 移動層：ヘキサン／エタノール＝９７.５／２.５（ｖ／
ｖ） 流速：１.０ｍｌ／ｍｉｎ． 温度：３０℃ 検出：ＵＶ２２０ｎｍ 以下の実施例および参考例において示すプロトンＮＭＲ
（1Ｈ−ＮＭＲ）は、フリー体の重クロロホルム溶液と
して測定した。その他の本文中で用いられている略号は
下記の意味を示す。 ｓ：シングレット（singlet） ｔ：トリプレット（triplet） ｍ：マルチプレット（multiplet） Ｊ：カップリング定数（coupling constant） Ｈｚ：ヘルツ（Hertz） Ｍｅ：メチル Ｅｔ：エチル ＴＨＦ：テトラヒドロフラン ＷＳＣ：１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピ
ル）カルボジイミド塩酸塩 ＨＯＢＴ：１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
て、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。以下の実施例および参考例
中で使用するエタノールはマグネシウムエトキシド存在
下で、還流後、蒸留し、さらに脱気して用いた。化学収
率は、単離収率または高速液体クロマトグラフィーで得
られた収率である。光学活性体の光学純度（不斉収率）
は鏡像体過剰率(％ｅ.ｅ.)で示した。該鏡像体過剰率は
高速液体クロマトグラフィーにおける各鏡像体[(＋)体
と(−)体]の面積比から計算により導き出した。以下の
実施例および参考例において示す高速液体クロマトグラ
フィーの条件は、特記しない限り次のとおりである。 カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ(ダイセル化学工業
株式会社製、粒径:１０μm、カラム径:４.６ｍｍ、カラ
ム長：２５０ｍｍ) 移動層：ヘキサン／エタノール＝９７.５／２.５（ｖ／
ｖ） 流速：１.０ｍｌ／ｍｉｎ． 温度：３０℃ 検出：ＵＶ２２０ｎｍ 以下の実施例および参考例において示すプロトンＮＭＲ
（1Ｈ−ＮＭＲ）は、フリー体の重クロロホルム溶液と
して測定した。その他の本文中で用いられている略号は
下記の意味を示す。 ｓ：シングレット（singlet） ｔ：トリプレット（triplet） ｍ：マルチプレット（multiplet） Ｊ：カップリング定数（coupling constant） Ｈｚ：ヘルツ（Hertz） Ｍｅ：メチル Ｅｔ：エチル ＴＨＦ：テトラヒドロフラン ＷＳＣ：１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピ
ル）カルボジイミド塩酸塩 ＨＯＢＴ：１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
【００４７】
【実施例】参考例１ Ｎ,Ｎ−ジメチル−（６−メトキシ−１−オキソ−２−
テトラリン）アセトアミド
テトラリン）アセトアミド
【化１８】 （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）酢酸
（Eur. J. Med. Chem.,25巻、765頁、1990年に記載、５
３.８ｇ, ２３０mmol）のアセトニトリル溶液（１Ｌ）
にジメチルアミン塩酸塩（２４.３ｇ, ２９８mmol）、
１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カル
ボジイミド塩酸塩（６６.０g, ３４４mmol）、１−ヒド
ロキシベンズトリアゾール水和物（３５.１ｇ, ２３０m
mol）を加えた。反応液に氷冷下、トリエチルアミン
（９６ml, ６８９mmol）を加え、室温で４８時間撹拌し
た。反応液を減圧下濃縮し、残渣に水および１Ｎ塩酸を
加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水およ
び飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、減圧下濃縮した。残渣
を酢酸エチル／トルエンで再結晶し、標題化合物（３４
ｇ）を得た。 融点：１０２−１０４℃
（Eur. J. Med. Chem.,25巻、765頁、1990年に記載、５
３.８ｇ, ２３０mmol）のアセトニトリル溶液（１Ｌ）
にジメチルアミン塩酸塩（２４.３ｇ, ２９８mmol）、
１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カル
ボジイミド塩酸塩（６６.０g, ３４４mmol）、１−ヒド
ロキシベンズトリアゾール水和物（３５.１ｇ, ２３０m
mol）を加えた。反応液に氷冷下、トリエチルアミン
（９６ml, ６８９mmol）を加え、室温で４８時間撹拌し
た。反応液を減圧下濃縮し、残渣に水および１Ｎ塩酸を
加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水およ
び飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、減圧下濃縮した。残渣
を酢酸エチル／トルエンで再結晶し、標題化合物（３４
ｇ）を得た。 融点：１０２−１０４℃
【００４８】参考例２ Ｎ,Ｎ−ジメチル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジヒ
ドロナフタレン）］アセトアミド
ドロナフタレン）］アセトアミド
【化１９】 参考例１で得られたＮ,Ｎ−ジメチル−（６−メトキシ
−１−オキソ−２−テトラリン）アセトアミド（４４.
７ｇ，１８０mmol）のメタノール溶液（１Ｌ）に水素化
ホウ素ナトリウム（１５ｇ，３９７mmol）を氷冷下３回
に分けて加えた。反応液を室温で２時間撹拌後、１Ｎ塩
酸で中和し、反応液の量が３分の１程度になるまで減圧
下濃縮し、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を
水および飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、減圧下濃縮し
た。残渣のトルエン溶液（７００ml）にアルゴン気流
下、ｐ−トルエンスルホン酸・水和物（７００mg，４.
０６mmol）を加え、３０分間加熱還流した。反応液を飽
和重曹水および飽和食塩水で洗浄し、燥後、減圧下濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展
開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１〜酢酸エチル）
で精製し標題化合物（３７.５ｇ）を油状物として得
た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ；2.30(2H, t, J=8.0Hz), 2.83(2H, t,
J=8.0Hz), 2.99 and 3.04(3H×2, s), 3.26(2H, s),
3.79(3H, s), 6.21(1H, s), 6.62-6.72(2H, m), 6.86-
6.96(1H, m)
−１−オキソ−２−テトラリン）アセトアミド（４４.
７ｇ，１８０mmol）のメタノール溶液（１Ｌ）に水素化
ホウ素ナトリウム（１５ｇ，３９７mmol）を氷冷下３回
に分けて加えた。反応液を室温で２時間撹拌後、１Ｎ塩
酸で中和し、反応液の量が３分の１程度になるまで減圧
下濃縮し、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を
水および飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、減圧下濃縮し
た。残渣のトルエン溶液（７００ml）にアルゴン気流
下、ｐ−トルエンスルホン酸・水和物（７００mg，４.
０６mmol）を加え、３０分間加熱還流した。反応液を飽
和重曹水および飽和食塩水で洗浄し、燥後、減圧下濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展
開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１〜酢酸エチル）
で精製し標題化合物（３７.５ｇ）を油状物として得
た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ；2.30(2H, t, J=8.0Hz), 2.83(2H, t,
J=8.0Hz), 2.99 and 3.04(3H×2, s), 3.26(2H, s),
3.79(3H, s), 6.21(1H, s), 6.62-6.72(2H, m), 6.86-
6.96(1H, m)
【００４９】実施例１ (−)−Ｎ,Ｎ−ジメチル−（６−メトキシ−２−テトラ
リン）アセトアミドの製造
リン）アセトアミドの製造
【化２０】 参考例２で得られたＮ,Ｎ−ジメチル−［６−メトキシ
−２−（３,４−ジヒドロナフタレン）］アセトアミド
（１８.０３g, ７３.５０mmol）と［ＲｕＣｌ2［(Ｒ)−
ＢＩＮＡＰ］］2ＮＥｔ3（１.２４g, ０.７３４mmol）
にエタノール１６０mlを加えた溶液をオートクレーブに
移し、水素圧１００kg／cm2、７０℃で６時間撹拌し
た。反応液を減圧下で濃縮乾固し、残渣をシリカゲルカ
ラム（展開溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）に付
し、標題化合物（１５.５g, ９８.３％ｅ.ｅ.）を得
た。 融点：７０−７１℃（再結晶溶媒：酢酸エチル／ヘキサ
ン） [α]D 25＝−６１.３°(ｃ＝１.００, クロロホルム)
−２−（３,４−ジヒドロナフタレン）］アセトアミド
（１８.０３g, ７３.５０mmol）と［ＲｕＣｌ2［(Ｒ)−
ＢＩＮＡＰ］］2ＮＥｔ3（１.２４g, ０.７３４mmol）
にエタノール１６０mlを加えた溶液をオートクレーブに
移し、水素圧１００kg／cm2、７０℃で６時間撹拌し
た。反応液を減圧下で濃縮乾固し、残渣をシリカゲルカ
ラム（展開溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）に付
し、標題化合物（１５.５g, ９８.３％ｅ.ｅ.）を得
た。 融点：７０−７１℃（再結晶溶媒：酢酸エチル／ヘキサ
ン） [α]D 25＝−６１.３°(ｃ＝１.００, クロロホルム)
【００５０】参考例３ (−)−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］
−６−メトキシテトラリン 塩酸塩の製造
−６−メトキシテトラリン 塩酸塩の製造
【化２１】 実施例１で得られた(−)−Ｎ,Ｎ−ジメチル−（６−メ
トキシ−２−テトラリン）アセトアミド（０.８０７
ｇ）のＴＨＦ溶液（１５ml）に、水素化アルミニウムリ
チウム（０.１３０ｇ）を加えた。反応液を室温で１５
分間撹拌し、１５分間加熱還流後、放冷した。反応液に
水を加え、反応液から不溶物をろ別後、ろ液を濃縮し
た。残渣をアルミナカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒；ヘキサン〜酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）で精製
後、４Ｎ塩酸−酢酸エチル溶液で処理し、生成した塩を
メタノール／ジイソプロピルエーテルより再結晶し、標
題化合物（０.６８３ｇ）を得た。 融点：１９３−１９５℃ ［α］D 20＝−６８.０°(ｃ＝０.４９，メタノール)
トキシ−２−テトラリン）アセトアミド（０.８０７
ｇ）のＴＨＦ溶液（１５ml）に、水素化アルミニウムリ
チウム（０.１３０ｇ）を加えた。反応液を室温で１５
分間撹拌し、１５分間加熱還流後、放冷した。反応液に
水を加え、反応液から不溶物をろ別後、ろ液を濃縮し
た。残渣をアルミナカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒；ヘキサン〜酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）で精製
後、４Ｎ塩酸−酢酸エチル溶液で処理し、生成した塩を
メタノール／ジイソプロピルエーテルより再結晶し、標
題化合物（０.６８３ｇ）を得た。 融点：１９３−１９５℃ ［α］D 20＝−６８.０°(ｃ＝０.４９，メタノール)
【００５１】参考例４ (−)−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］
−６−ヒドロキシテトラリン 塩酸塩の製造
−６−ヒドロキシテトラリン 塩酸塩の製造
【化２２】 参考例３で得られた(−)−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルアミノ）エチル］−６−メトキシテトラリン 塩酸塩
（０.５６３ｇ）を４８％臭化水素酸（１０ml）に加え
た。反応液を４時間加熱還流後、放冷した。反応液を１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で中性とし、１０％炭酸カリ
ウム溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和
食塩水で洗浄し、乾燥後、濃縮した。残渣を４Ｎ塩酸−
酢酸エチル溶液で処理し、生成した塩をメタノール／ジ
イソプロピルエーテルより再結晶し、標題化合物（０.
４８０ｇ）を得た。 融点：２１３−２１５℃ ［α］D 20＝−６９.９°(ｃ＝０.５５，メタノール)
ルアミノ）エチル］−６−メトキシテトラリン 塩酸塩
（０.５６３ｇ）を４８％臭化水素酸（１０ml）に加え
た。反応液を４時間加熱還流後、放冷した。反応液を１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で中性とし、１０％炭酸カリ
ウム溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和
食塩水で洗浄し、乾燥後、濃縮した。残渣を４Ｎ塩酸−
酢酸エチル溶液で処理し、生成した塩をメタノール／ジ
イソプロピルエーテルより再結晶し、標題化合物（０.
４８０ｇ）を得た。 融点：２１３−２１５℃ ［α］D 20＝−６９.９°(ｃ＝０.５５，メタノール)
【００５２】参考例５ (−)−６−（４−ビフェニリル）メトキシ−２−［２−
（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］テトラリン 塩酸
塩の製造
（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］テトラリン 塩酸
塩の製造
【化２３】 参考例４で得られた(−)−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルアミノ）エチル］−６−ヒドロキシテトラリン 塩酸
塩（０.４３７ｇ）をフリー体とした後、ＤＭＦ（１０m
l）に溶かし、６０％油状水素化ナトリウム（０.１２２
mg）を室温で加えた。反応液を５０℃に昇温し、１時間
撹拌した。反応液を０℃に冷却し、４−（クロロメチ
ル）ビフェニル（０.３４４ｇ）のＤＭＦ溶液（５ml）
を加え、室温で２時間撹拌した。反応液に水を加え、酢
酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗
浄し、乾燥後、濃縮した。残渣をアルミナカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル／ヘキサン＝１／
１０〜１／４）で精製し、４Ｎ塩酸−酢酸エチルで処理
した後、生成した塩をメタノール／ジイソプロピルエー
テルより再結晶して、標題化合物（０.４７１ｇ）を得
た 融点：２１９−２２５℃（分解） ［α］D 20＝−４５.２°(ｃ＝０.５２，メタノール) 光学純度：９９％ｅ.ｅ．以上。
ルアミノ）エチル］−６−ヒドロキシテトラリン 塩酸
塩（０.４３７ｇ）をフリー体とした後、ＤＭＦ（１０m
l）に溶かし、６０％油状水素化ナトリウム（０.１２２
mg）を室温で加えた。反応液を５０℃に昇温し、１時間
撹拌した。反応液を０℃に冷却し、４−（クロロメチ
ル）ビフェニル（０.３４４ｇ）のＤＭＦ溶液（５ml）
を加え、室温で２時間撹拌した。反応液に水を加え、酢
酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗
浄し、乾燥後、濃縮した。残渣をアルミナカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル／ヘキサン＝１／
１０〜１／４）で精製し、４Ｎ塩酸−酢酸エチルで処理
した後、生成した塩をメタノール／ジイソプロピルエー
テルより再結晶して、標題化合物（０.４７１ｇ）を得
た 融点：２１９−２２５℃（分解） ［α］D 20＝−４５.２°(ｃ＝０.５２，メタノール) 光学純度：９９％ｅ.ｅ．以上。
【００５３】実施例２ (＋)−Ｎ,Ｎ−ジメチル−（６−メトキシ−２−テトラ
リン）アセトアミドの製造
リン）アセトアミドの製造
【化２４】 参考例２で得られたＮ,Ｎ−ジメチル−［６−メトキシ
−２−（３,４−ジヒドロナフタレン）］アセトアミド
（１８.０６g, ７３.５０mmol）と［ＲｕＣｌ2［(Ｓ)−
ＢＩＮＡＰ］］2ＮＥt3（１.２４g, ０.７３４mmol）と
を用い、実施例１と同様の反応および処理を行ない、標
題化合物（１５.８g, ９８.７％ｅ.ｅ.）を得た。 融点：７１−７２℃（再結晶溶媒：酢酸エチル／ヘキサ
ン） ［α］D 25＝＋６３.７°（ｃ＝１.００, クロロホル
ム）
−２−（３,４−ジヒドロナフタレン）］アセトアミド
（１８.０６g, ７３.５０mmol）と［ＲｕＣｌ2［(Ｓ)−
ＢＩＮＡＰ］］2ＮＥt3（１.２４g, ０.７３４mmol）と
を用い、実施例１と同様の反応および処理を行ない、標
題化合物（１５.８g, ９８.７％ｅ.ｅ.）を得た。 融点：７１−７２℃（再結晶溶媒：酢酸エチル／ヘキサ
ン） ［α］D 25＝＋６３.７°（ｃ＝１.００, クロロホル
ム）
【００５４】参考例６ (＋)−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］
−６−メトキシテトラリン 塩酸塩の製造
−６−メトキシテトラリン 塩酸塩の製造
【化２５】 実施例２で得られた(＋)−Ｎ,Ｎ−ジメチル−（６−メ
トキシ−２−テトラリン）アセトアミド（０.８７０
ｇ）のＴＨＦ溶液（１５ml）に、水素化アルミニウムリ
チウム(０.２０３ｇ)を加えた。混合液を室温で５０分
間撹拌し、３０分間加熱還流後放冷した。反応液を参考
例３と同様に処理して、標題化合物（０.７４９ｇ）を
得た。 融点：１９５−１９７℃ ［α］D 20＝＋６８.２°（ｃ＝０.５５，メタノール）
トキシ−２−テトラリン）アセトアミド（０.８７０
ｇ）のＴＨＦ溶液（１５ml）に、水素化アルミニウムリ
チウム(０.２０３ｇ)を加えた。混合液を室温で５０分
間撹拌し、３０分間加熱還流後放冷した。反応液を参考
例３と同様に処理して、標題化合物（０.７４９ｇ）を
得た。 融点：１９５−１９７℃ ［α］D 20＝＋６８.２°（ｃ＝０.５５，メタノール）
【００５５】参考例７ (＋)−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］
−６−ヒドロキシテトラリン 塩酸塩の製造
−６−ヒドロキシテトラリン 塩酸塩の製造
【化２６】 参考例６で得られた(＋)−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルアミノ）エチル］−６−メトキシテトラリン 塩酸塩
（０.６０２ｇ）を４８％臭化水素酸（１０ml）に加
え、混合液を３.５時間加熱還流後、放冷した。反応液
を参考例４と同様に処理して、標題化合物（０.４９０
ｇ）を得た。 融点：２１３−２１５℃ ［α］D 20＝＋６９.１°（ｃ＝０.５２，メタノール）
ルアミノ）エチル］−６−メトキシテトラリン 塩酸塩
（０.６０２ｇ）を４８％臭化水素酸（１０ml）に加
え、混合液を３.５時間加熱還流後、放冷した。反応液
を参考例４と同様に処理して、標題化合物（０.４９０
ｇ）を得た。 融点：２１３−２１５℃ ［α］D 20＝＋６９.１°（ｃ＝０.５２，メタノール）
【００５６】参考例８ (＋)−６−（４−ビフェニリル）メトキシ−２−［２−
（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］テトラリン 塩酸
塩の製造
（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］テトラリン 塩酸
塩の製造
【化２７】 参考例７で得られた(＋)−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルアミノ）エチル］−６−ヒドロキシテトラリン 塩酸
塩（０.４２４ｇ）をフリー体とした後、ＤＭＦ（１０m
l）に溶かし、６０％油状水素化ナトリウム（０.１０６
mg）を室温で加え、４５分間撹拌した。反応液を５０℃
に昇温し、４５分間撹拌した。反応液を０℃に冷却し、
４−（クロロメチル）ビフェニル（０.３６７ｇ）のＤ
ＭＦ溶液（５ml）を加え、室温で２時間撹拌した。得ら
れた反応液を参考例５と同様に処理して、標題化合物
（０.４８４ｇ）を得た。 融点：２２０−２２６℃（分解） ［α］D 20＝＋４６.０°（ｃ＝０.５４，メタノール） 光学純度：９９％ｅ.ｅ．以上
ルアミノ）エチル］−６−ヒドロキシテトラリン 塩酸
塩（０.４２４ｇ）をフリー体とした後、ＤＭＦ（１０m
l）に溶かし、６０％油状水素化ナトリウム（０.１０６
mg）を室温で加え、４５分間撹拌した。反応液を５０℃
に昇温し、４５分間撹拌した。反応液を０℃に冷却し、
４−（クロロメチル）ビフェニル（０.３６７ｇ）のＤ
ＭＦ溶液（５ml）を加え、室温で２時間撹拌した。得ら
れた反応液を参考例５と同様に処理して、標題化合物
（０.４８４ｇ）を得た。 融点：２２０−２２６℃（分解） ［α］D 20＝＋４６.０°（ｃ＝０.５４，メタノール） 光学純度：９９％ｅ.ｅ．以上
【００５７】参考例９ Ｎ,Ｎ−ジエチル−（６−メトキシ−１−オキソ−２−
テトラリン）アセトアミド （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）酢酸
（３０ｇ）のアセトニトリル（５００ml）溶液にジエチ
ルアミン（１８.７ｇ）、ＷＳＣ（３６.８ｇ）、１−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール（１９.６ｇ）を加えた。
反応液を室温で２日間撹拌後、濃縮した。残さを酢酸エ
チルで希釈後、有機層を０.５Ｎ塩酸、飽和重曹水、飽
和食塩水で順次洗浄した。有機層を乾燥後、濃縮した。
残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、さらに
酢酸エチル−ジイソプロピルエーテルから再結晶して標
題化合物（２６.８ｇ）を得た。 融点：８８−８９℃
テトラリン）アセトアミド （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）酢酸
（３０ｇ）のアセトニトリル（５００ml）溶液にジエチ
ルアミン（１８.７ｇ）、ＷＳＣ（３６.８ｇ）、１−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール（１９.６ｇ）を加えた。
反応液を室温で２日間撹拌後、濃縮した。残さを酢酸エ
チルで希釈後、有機層を０.５Ｎ塩酸、飽和重曹水、飽
和食塩水で順次洗浄した。有機層を乾燥後、濃縮した。
残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、さらに
酢酸エチル−ジイソプロピルエーテルから再結晶して標
題化合物（２６.８ｇ）を得た。 融点：８８−８９℃
【００５８】参考例１０ Ｎ,Ｎ−ジエチル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジヒ
ドロナフタレン）］アセトアミド Ｎ,Ｎ−ジエチル−（６−メトキシ−１−オキソ−２−
テトラリン）アセトアミド（２５ｇ）のメタノール（４
００ml）溶液に氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（６.
５４ｇ）を加えた。室温で３０分間撹拌後、反応液に１
Ｎ塩酸を滴下し、中和した。反応液を濃縮後、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を水、飽和重曹水、飽和食塩水で
順次洗浄し、乾燥後、濃縮した。残さを脱気したトルエ
ン（３００ml）に溶かし、ｐ−トルエンスルホン酸一水
和物（２０mg）を加えた。反応液を１時間加熱還流後、
室温まで冷却した。反応液に酢酸エチルを加え、飽和重
曹水で洗浄後、乾燥し、濃縮した。残さをシリカゲルク
ロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
１：１）で精製し、標題化合物（２３.１ｇ）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ：1.10-1.25(6H, m), 2.31(2H, t, J=7.
6 Hz), 2.82(2H, t, J=7.6 Hz), 3.23(2H, s), 3.26-3.
48(4H, m), 3.78(3H, s), 6.22(1H, s), 6.62-6.72(2H,
m), 6.84-6.96(1H, m).
ドロナフタレン）］アセトアミド Ｎ,Ｎ−ジエチル−（６−メトキシ−１−オキソ−２−
テトラリン）アセトアミド（２５ｇ）のメタノール（４
００ml）溶液に氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（６.
５４ｇ）を加えた。室温で３０分間撹拌後、反応液に１
Ｎ塩酸を滴下し、中和した。反応液を濃縮後、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を水、飽和重曹水、飽和食塩水で
順次洗浄し、乾燥後、濃縮した。残さを脱気したトルエ
ン（３００ml）に溶かし、ｐ−トルエンスルホン酸一水
和物（２０mg）を加えた。反応液を１時間加熱還流後、
室温まで冷却した。反応液に酢酸エチルを加え、飽和重
曹水で洗浄後、乾燥し、濃縮した。残さをシリカゲルク
ロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
１：１）で精製し、標題化合物（２３.１ｇ）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ：1.10-1.25(6H, m), 2.31(2H, t, J=7.
6 Hz), 2.82(2H, t, J=7.6 Hz), 3.23(2H, s), 3.26-3.
48(4H, m), 3.78(3H, s), 6.22(1H, s), 6.62-6.72(2H,
m), 6.84-6.96(1H, m).
【００５９】参考例１１ （＋）−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）エチ
ル］−６−メトキシテトラリン 塩酸塩 （＋）−Ｎ,Ｎ−ジエチル−（６−メトキシ−２−テト
ラリン）アセトアミド（８.８ｇ）のＴＨＦ溶液（１５
０ml）に水素化アルミニウムリチウム（１.４５ｇ）を
加えた。反応液を室温で２時間撹拌した後、反応液に１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えた。不溶物をろ別し、
ろ液を濃縮した。残さをアルミナカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で
精製後、塩酸塩とし、メタノール−ジイソプロピルエー
テルから再結晶して標題化合物（５.４ｇ）を得た。 融点：１４４−１４５℃ ［α］D 20＝＋６１.５°（ｃ＝１．０００，メタノー
ル）
ル］−６−メトキシテトラリン 塩酸塩 （＋）−Ｎ,Ｎ−ジエチル−（６−メトキシ−２−テト
ラリン）アセトアミド（８.８ｇ）のＴＨＦ溶液（１５
０ml）に水素化アルミニウムリチウム（１.４５ｇ）を
加えた。反応液を室温で２時間撹拌した後、反応液に１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えた。不溶物をろ別し、
ろ液を濃縮した。残さをアルミナカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で
精製後、塩酸塩とし、メタノール−ジイソプロピルエー
テルから再結晶して標題化合物（５.４ｇ）を得た。 融点：１４４−１４５℃ ［α］D 20＝＋６１.５°（ｃ＝１．０００，メタノー
ル）
【００６０】参考例１２ （−）−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）エチ
ル］−６−メトキシテトラリン 塩酸塩 参考例１１と同様の方法で標題化合物を得た。 融点：１４４−１４５℃（再結晶溶媒：メタノール−ジ
イソプロピルエーテル） ［α］D 20＝−６０.８°（ｃ＝０.０５５，メタノー
ル）
ル］−６−メトキシテトラリン 塩酸塩 参考例１１と同様の方法で標題化合物を得た。 融点：１４４−１４５℃（再結晶溶媒：メタノール−ジ
イソプロピルエーテル） ［α］D 20＝−６０.８°（ｃ＝０.０５５，メタノー
ル）
【００６１】参考例１３ （＋）−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）エチ
ル］−６−ヒドロキシテトラリン （＋）−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）エチ
ル］−６−メトキシテトラリン 塩酸塩（５.２ｇ）を
４８％臭化水素酸（１０ml）に加え、反応液を４時間加
熱還流後、放冷した。反応液を１Ｎ水酸化ナトリウム水
溶液で中性とし、１０％炭酸カリウム水溶液を加え、酢
酸エチル：ＴＨＦ＝１：１の溶液で抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、濃縮した。残さをメタノ
ール−ジイソプロピルエーテルから再結晶して標題化合
物（４.５ｇ）を得た。 融点：１０２−１０４℃ ［α］D 20＝＋７３.８°（ｃ＝０.２２６，メタノー
ル）
ル］−６−ヒドロキシテトラリン （＋）−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）エチ
ル］−６−メトキシテトラリン 塩酸塩（５.２ｇ）を
４８％臭化水素酸（１０ml）に加え、反応液を４時間加
熱還流後、放冷した。反応液を１Ｎ水酸化ナトリウム水
溶液で中性とし、１０％炭酸カリウム水溶液を加え、酢
酸エチル：ＴＨＦ＝１：１の溶液で抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、濃縮した。残さをメタノ
ール−ジイソプロピルエーテルから再結晶して標題化合
物（４.５ｇ）を得た。 融点：１０２−１０４℃ ［α］D 20＝＋７３.８°（ｃ＝０.２２６，メタノー
ル）
【００６２】参考例１４ （−）−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）エチ
ル］−６−ヒドロキシテトラリン 標題化合物は参考例１２と同様にして、参考例４の化合
物から合成した。 融点：１０３−１０４℃（再結晶溶媒：メタノール−ジ
イソプロピルエーテル） ［α］D 20＝−７３.４°（ｃ＝１.００１，メタノー
ル）
ル］−６−ヒドロキシテトラリン 標題化合物は参考例１２と同様にして、参考例４の化合
物から合成した。 融点：１０３−１０４℃（再結晶溶媒：メタノール−ジ
イソプロピルエーテル） ［α］D 20＝−７３.４°（ｃ＝１.００１，メタノー
ル）
【００６３】参考例１５ （＋）−６−（４−ビフェニリル）メトキシ−２−［２
−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）エチル］テトラリン 塩
酸塩 （＋）−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）エチ
ル］−６−ヒドロキシテトラリン（４.５ｇ）のＤＭＦ
（６０ml）溶液に０℃で６０％油状水素化ナトリウム
（１.４６ｇ）を加えた。反応液を室温で３０分間撹拌
後、氷冷下４−クロロメチルビフェニル（４.０８ｇ）
のＤＭＦ（４０ml）溶液を滴下した。反応液を２時間撹
拌後、水に注ぎ、１Ｎ塩酸水溶液で中和し、飽和重曹水
（５０ml）を加え、酢酸エチル：ＴＨＦ＝１：１の溶液
で抽出した。有機層を乾燥後、濃縮した。残さをシリカ
ゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル〜酢酸
エチル：トリエチルアミン＝４：１）で精製後、塩酸塩
とし、さらにエタノール−ジイソプロピルエーテルより
再結晶し、標題化合物（６ｇ）を得た。 融点：１５１−１５３℃ ［α］D 20＝＋４２.１゜（ｃ＝０.５０４，メタノー
ル） 光学純度：９７.６％ｅ.ｅ.（ＨＰＬＣにより決定）
−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）エチル］テトラリン 塩
酸塩 （＋）−２−［２−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）エチ
ル］−６−ヒドロキシテトラリン（４.５ｇ）のＤＭＦ
（６０ml）溶液に０℃で６０％油状水素化ナトリウム
（１.４６ｇ）を加えた。反応液を室温で３０分間撹拌
後、氷冷下４−クロロメチルビフェニル（４.０８ｇ）
のＤＭＦ（４０ml）溶液を滴下した。反応液を２時間撹
拌後、水に注ぎ、１Ｎ塩酸水溶液で中和し、飽和重曹水
（５０ml）を加え、酢酸エチル：ＴＨＦ＝１：１の溶液
で抽出した。有機層を乾燥後、濃縮した。残さをシリカ
ゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル〜酢酸
エチル：トリエチルアミン＝４：１）で精製後、塩酸塩
とし、さらにエタノール−ジイソプロピルエーテルより
再結晶し、標題化合物（６ｇ）を得た。 融点：１５１−１５３℃ ［α］D 20＝＋４２.１゜（ｃ＝０.５０４，メタノー
ル） 光学純度：９７.６％ｅ.ｅ.（ＨＰＬＣにより決定）
【００６４】参考例１６ （−）−６−（４−ビフェニリル）メトキシ−２−［２
−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）エチル］テトラリン 塩
酸塩 参考例１５と同様の方法で標題化合物を合成した。 再結晶溶媒；エタノール−ジイソプロピルエーテル 融点：１５１−１５３℃ ［α］D 20＝−４０.６゜（ｃ＝０.５００，メタノー
ル） 光学純度：９８.９％ｅ.ｅ.（ＨＰＬＣにより決定） 参考例１７ ２−（６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２
−イル）エタノール（６−メトキシ−１−オキソ−２−
テトラリン）酢酸（１ｇ）のＴＨＦ溶液（２０ml）に氷
冷下、水素化アルミニウムリチウム（０．４ｇ）を加え
た。室温で１時間撹拌後、反応液に氷冷下、飽和ロッシ
ェル塩水溶液を徐々に加えた。試薬由来の無機物が沈殿
後、上清をデカンテーションで分離した。有機層を乾燥
後、濃縮した。残さをトルエン（２０ml）に溶かし、ｐ
−トルエンスルホン酸一水和物（０．１ｇ）を加え、９
０℃で１時間、加熱撹拌した。反応液を冷却後、水洗・
乾燥し、減圧濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにて精製し（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキ
サン＝１：１）、標題化合物（０．８ｇ）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ：2.25(2H,t), 2.45(2H,t), 2.80(2H,
t), 3.77(2H,t), 3.79(3H,s), 6.28(1H,s), 6.70(2H,
m), 6.93(1H,d).
−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）エチル］テトラリン 塩
酸塩 参考例１５と同様の方法で標題化合物を合成した。 再結晶溶媒；エタノール−ジイソプロピルエーテル 融点：１５１−１５３℃ ［α］D 20＝−４０.６゜（ｃ＝０.５００，メタノー
ル） 光学純度：９８.９％ｅ.ｅ.（ＨＰＬＣにより決定） 参考例１７ ２−（６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２
−イル）エタノール（６−メトキシ−１−オキソ−２−
テトラリン）酢酸（１ｇ）のＴＨＦ溶液（２０ml）に氷
冷下、水素化アルミニウムリチウム（０．４ｇ）を加え
た。室温で１時間撹拌後、反応液に氷冷下、飽和ロッシ
ェル塩水溶液を徐々に加えた。試薬由来の無機物が沈殿
後、上清をデカンテーションで分離した。有機層を乾燥
後、濃縮した。残さをトルエン（２０ml）に溶かし、ｐ
−トルエンスルホン酸一水和物（０．１ｇ）を加え、９
０℃で１時間、加熱撹拌した。反応液を冷却後、水洗・
乾燥し、減圧濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにて精製し（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキ
サン＝１：１）、標題化合物（０．８ｇ）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ：2.25(2H,t), 2.45(2H,t), 2.80(2H,
t), 3.77(2H,t), 3.79(3H,s), 6.28(1H,s), 6.70(2H,
m), 6.93(1H,d).
【００６５】参考例１８ Ｎ−イソプロピル−（６−メトキシ−１−オキソ−２−
テトラリン）アセトアミド （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）酢酸
（２．４ｇ）のＴＨＦ溶液（３０ml）にＷＳＣ（２．２
ｇ）、ＨＯＢＴ（１．６ｇ）を加えた。反応液にイソプ
ロピルアミン（１ml）とトリエチルアミン（１ml）を加
えた。室温で２４時間撹拌後、反応液に酢酸エチルを加
え、２Ｎ塩酸、飽和重曹水で洗浄、乾燥後濃縮した。残
さを酢酸エチル／ヘキサンから再結晶して標題化合物
（２．７ｇ）を得た。 融点：１４４−１４５℃． 参考例１９ Ｎ−エチル−（６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラ
リン）アセトアミド（６−メトキシ−１−オキソ−２−
テトラリン）酢酸（２．４ｇ）のＴＨＦ溶液（３０ml）
にＷＳＣ（２．２ｇ）、ＨＯＢＴ（１．６ｇ）を加え
た。反応液にエチルアミン水溶液（７０％、２ml）を加
えた。室温で３時間撹拌後、反応液に酢酸エチルを加
え、水、飽和重曹水で洗浄、乾燥後濃縮した。残さをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；
酢酸エチル）し、さらに酢酸エチル／ヘキサンから再結
晶して標題化合物（１．８ｇ）を得た。 融点：１１５−１１６℃．
テトラリン）アセトアミド （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）酢酸
（２．４ｇ）のＴＨＦ溶液（３０ml）にＷＳＣ（２．２
ｇ）、ＨＯＢＴ（１．６ｇ）を加えた。反応液にイソプ
ロピルアミン（１ml）とトリエチルアミン（１ml）を加
えた。室温で２４時間撹拌後、反応液に酢酸エチルを加
え、２Ｎ塩酸、飽和重曹水で洗浄、乾燥後濃縮した。残
さを酢酸エチル／ヘキサンから再結晶して標題化合物
（２．７ｇ）を得た。 融点：１４４−１４５℃． 参考例１９ Ｎ−エチル−（６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラ
リン）アセトアミド（６−メトキシ−１−オキソ−２−
テトラリン）酢酸（２．４ｇ）のＴＨＦ溶液（３０ml）
にＷＳＣ（２．２ｇ）、ＨＯＢＴ（１．６ｇ）を加え
た。反応液にエチルアミン水溶液（７０％、２ml）を加
えた。室温で３時間撹拌後、反応液に酢酸エチルを加
え、水、飽和重曹水で洗浄、乾燥後濃縮した。残さをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；
酢酸エチル）し、さらに酢酸エチル／ヘキサンから再結
晶して標題化合物（１．８ｇ）を得た。 融点：１１５−１１６℃．
【００６６】参考例２０ ６−メトキシ−２−［２−オキソ−２−（１−ピロリジ
ニル）エチル］−１−テトラロン （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）酢酸
（２．４ｇ）のアセトニトリル溶液（３０ml）にＷＳＣ
（２．２ｇ）、ＨＯＢＴ（１．６ｇ）を加えた。反応液
にピロリジン（１ml）を加えた。室温で１８時間撹拌
後、反応液に酢酸エチルを加え、２Ｎ塩酸、飽和重曹水
で洗浄、乾燥後濃縮した。残さをアルミナカラムクロマ
トグラフィーで精製（展開溶媒：酢酸エチル）し、標題
化合物（２．５ｇ）を油状物として得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ：1.6-2.2(5H,m), 2.2-2.41(2H,m), 2.8
-3.34(4H,m), 3.3-3.7(4H,m) 3.85(3H,s), 6.69(1H,m),
6.84(1H,d), 7.93(1H,d). 参考例２１ Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−（６−メトキシ−１−オキソ−
２−テトラリン）プロピオンアミド ３−（６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）プ
ロピオン酸から参考例２０記載の方法と同様にして製造
した。 融点：１０４−１０５℃（再結晶溶媒：酢酸エチル／ヘ
キサン）． 参考例２２ Ｎ−イソプロピル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジ
ヒドロナフタレン）］アセトアミド Ｎ−イソプロピル−（６−メトキシ−１−オキソ−２−
テトラリン）アセトアミド（２．６ｇ）のエタノール溶
液（５０ml）に氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（１
ｇ）を加えた。反応液を室温で１４時間撹拌後濃縮し
た。残さに水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗い、乾燥後濃縮した。残さにトルエン
（１００ml）とｐ−トルエンスルホン酸一水和物（０．
３ｇ）を加えた。反応液を１２０℃で２時間加熱撹拌し
た。反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和重曹水で洗浄、
乾燥後濃縮した。残さを酢酸エチル／ヘキサンから再結
晶し標題化合物（１．４ｇ）を得た。 融点：１４６−１４８℃．
ニル）エチル］−１−テトラロン （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）酢酸
（２．４ｇ）のアセトニトリル溶液（３０ml）にＷＳＣ
（２．２ｇ）、ＨＯＢＴ（１．６ｇ）を加えた。反応液
にピロリジン（１ml）を加えた。室温で１８時間撹拌
後、反応液に酢酸エチルを加え、２Ｎ塩酸、飽和重曹水
で洗浄、乾燥後濃縮した。残さをアルミナカラムクロマ
トグラフィーで精製（展開溶媒：酢酸エチル）し、標題
化合物（２．５ｇ）を油状物として得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ：1.6-2.2(5H,m), 2.2-2.41(2H,m), 2.8
-3.34(4H,m), 3.3-3.7(4H,m) 3.85(3H,s), 6.69(1H,m),
6.84(1H,d), 7.93(1H,d). 参考例２１ Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−（６−メトキシ−１−オキソ−
２−テトラリン）プロピオンアミド ３−（６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）プ
ロピオン酸から参考例２０記載の方法と同様にして製造
した。 融点：１０４−１０５℃（再結晶溶媒：酢酸エチル／ヘ
キサン）． 参考例２２ Ｎ−イソプロピル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジ
ヒドロナフタレン）］アセトアミド Ｎ−イソプロピル−（６−メトキシ−１−オキソ−２−
テトラリン）アセトアミド（２．６ｇ）のエタノール溶
液（５０ml）に氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（１
ｇ）を加えた。反応液を室温で１４時間撹拌後濃縮し
た。残さに水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗い、乾燥後濃縮した。残さにトルエン
（１００ml）とｐ−トルエンスルホン酸一水和物（０．
３ｇ）を加えた。反応液を１２０℃で２時間加熱撹拌し
た。反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和重曹水で洗浄、
乾燥後濃縮した。残さを酢酸エチル／ヘキサンから再結
晶し標題化合物（１．４ｇ）を得た。 融点：１４６−１４８℃．
【００６７】参考例２３ Ｎ−エチル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジヒドロ
ナフタレン）］アセトアミド Ｎ−エチル−（６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラ
リン）アセトアミド（１．０ｇ）のエタノール溶液（２
０ml）に水素化ホウ素ナトリウム（０．３ｇ）を加え
た。反応液を室温で４８時間撹拌後水にあけ、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を水洗、乾燥後、濃縮し、残さを
トルエン（５０ml）に溶かし、ｐ−トルエンスルホン酸
一水和物（０．２ｇ）と共に１２０℃で２時間撹拌し
た。冷却後、反応液を飽和重曹水で洗い、乾燥後濃縮し
た。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
（展開溶媒；酢酸エチル）し、さらに酢酸エチル／ヘキ
サンから再結晶して標題化合物（０．３ｇ）を得た。 融点：９６−９７℃． 参考例２４ ２−（６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２
−イル）−１−（１−ピロリジニル）−１−エタノン ６−メトキシ−２−［２−オキソ−２−（１−ピロリジ
ニル）エチル］−１−テトラロン（２．０ｇ）のエタノ
ール（２０ml）に水素化ホウ素ナトリウム（０．６ｇ）
を加えた。反応液を室温で２４時間撹拌後水にあけ、酢
酸エチルで抽出した。有機層を水洗、乾燥後、濃縮し、
残さをトルエン（５０ml）に溶かし、ｐ−トルエンスル
ホン酸一水和物（０．２ｇ）と共に１２０℃で２時間撹
拌した。冷却後、反応液を飽和重曹水で洗い、乾燥後濃
縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製（展開溶媒；酢酸エチル）し、標題化合物（１．３
ｇ）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ：1.6-2.1(4H,m), 2.2-2.4(2H,m), 2.7-
2.9(2H,m), 3.1-3.2(2H,m), 3.3-3.7(4H,m) 3.77(3H,
s), 6.20(1H,m), 6.65(2H,m), 7.00(1H,m). 参考例２５ Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−［６−メトキシ−２−（３,４
−ジヒドロナフタレン）］プロピオンアミド Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−（６−メトキシ−１−オキソ−
２−テトラリン）プロピオンアミド（１ｇ）のメタノー
ル（２０ml）溶液に氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム
（０．３ｇ）を加えた。室温で３０分撹拌後、反応液に
１Ｎ塩酸水溶液を滴下し、中和した。反応液を減圧下留
去後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和重曹
水、飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥後、濃縮した。残さ
を脱気したトルエン（３０ml）に溶かし、加熱還流し
た。加熱還流中の溶液の中にｐ−トルエンスルホン酸一
水和物（１０mg）を加えた。反応液を１時間加熱還流
後、室温まで冷却した。反応液を飽和重曹水で洗浄後、
減圧下留去した。残さをシリカゲルクロマトグラフィー
で精製（展開溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）
し、標題化合物（０．６７ｇ）を得た。 融点：４７−４８℃（再結晶溶媒：酢酸エチル／ヘキサ
ン）．
ナフタレン）］アセトアミド Ｎ−エチル−（６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラ
リン）アセトアミド（１．０ｇ）のエタノール溶液（２
０ml）に水素化ホウ素ナトリウム（０．３ｇ）を加え
た。反応液を室温で４８時間撹拌後水にあけ、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を水洗、乾燥後、濃縮し、残さを
トルエン（５０ml）に溶かし、ｐ−トルエンスルホン酸
一水和物（０．２ｇ）と共に１２０℃で２時間撹拌し
た。冷却後、反応液を飽和重曹水で洗い、乾燥後濃縮し
た。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
（展開溶媒；酢酸エチル）し、さらに酢酸エチル／ヘキ
サンから再結晶して標題化合物（０．３ｇ）を得た。 融点：９６−９７℃． 参考例２４ ２−（６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２
−イル）−１−（１−ピロリジニル）−１−エタノン ６−メトキシ−２−［２−オキソ−２−（１−ピロリジ
ニル）エチル］−１−テトラロン（２．０ｇ）のエタノ
ール（２０ml）に水素化ホウ素ナトリウム（０．６ｇ）
を加えた。反応液を室温で２４時間撹拌後水にあけ、酢
酸エチルで抽出した。有機層を水洗、乾燥後、濃縮し、
残さをトルエン（５０ml）に溶かし、ｐ−トルエンスル
ホン酸一水和物（０．２ｇ）と共に１２０℃で２時間撹
拌した。冷却後、反応液を飽和重曹水で洗い、乾燥後濃
縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製（展開溶媒；酢酸エチル）し、標題化合物（１．３
ｇ）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ：1.6-2.1(4H,m), 2.2-2.4(2H,m), 2.7-
2.9(2H,m), 3.1-3.2(2H,m), 3.3-3.7(4H,m) 3.77(3H,
s), 6.20(1H,m), 6.65(2H,m), 7.00(1H,m). 参考例２５ Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−［６−メトキシ−２−（３,４
−ジヒドロナフタレン）］プロピオンアミド Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−（６−メトキシ−１−オキソ−
２−テトラリン）プロピオンアミド（１ｇ）のメタノー
ル（２０ml）溶液に氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム
（０．３ｇ）を加えた。室温で３０分撹拌後、反応液に
１Ｎ塩酸水溶液を滴下し、中和した。反応液を減圧下留
去後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和重曹
水、飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥後、濃縮した。残さ
を脱気したトルエン（３０ml）に溶かし、加熱還流し
た。加熱還流中の溶液の中にｐ−トルエンスルホン酸一
水和物（１０mg）を加えた。反応液を１時間加熱還流
後、室温まで冷却した。反応液を飽和重曹水で洗浄後、
減圧下留去した。残さをシリカゲルクロマトグラフィー
で精製（展開溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）
し、標題化合物（０．６７ｇ）を得た。 融点：４７−４８℃（再結晶溶媒：酢酸エチル／ヘキサ
ン）．
【００６８】参考例２６ Ｎ−イソプロピル−（６−メトキシ−２−テトラリン）
アセトアミド Ｎ−イソプロピル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジ
ヒドロナフタレン）］アセトアミド（１ｇ）をエタノー
ル（３０ml）に溶かし、１０％ Ｐｄ−Ｃ（０．２ｇ）
と共に室温、１気圧で終夜接触還元した。触媒をろ別
後、ろ液を濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製（展開溶媒；酢酸エチル）し、さらに
酢酸エチル／ヘキサンから再結晶して、標題化合物
（０．７ｇ）を得た。 融点：１０７−１０８℃． 参考例２７ Ｎ−エチル−（６−メトキシ−２−テトラリン）アセト
アミド Ｎ−エチル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジヒドロ
ナフタレン）］アセトアミド（０．１ｇ）をエタノール
（１０ml）に溶かし、１０％ Ｐｄ−Ｃ（０．２ｇ）と
共に室温、１気圧で５時間接触還元した。触媒をろ別
後、ろ液を濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製（展開溶媒；酢酸エチル）し、さらに
酢酸エチル／ヘキサンから再結晶して、標題化合物
（０．０８ｇ）を得た。 融点：９６−９７℃． 参考例２８ （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）酢酸 （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）カルボ
ン酸メチル（５ｇ）のトルエン（６０ml）溶液にナトリ
ウムメチラート（２８％メタノール溶液；８．３ml）を
加え、１．５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却
し、ブロモ酢酸エチル（２．４ml）を加え、１２時間撹
拌した。反応液に氷水を加えトルエンで抽出した。トル
エン層を濃縮し、残さに濃塩酸（５０ml）、酢酸（５０
ml）、水（５ml）を加え２時間加熱還流した。反応液を
室温まで冷却し、水を加えトルエンで抽出した。トルエ
ン層を１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で逆抽出した。水層
をトルエンで洗浄後、１Ｎ塩酸水溶液を加え酸性とし酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、シリカゲルカラ
ムを通し原点物質を除いた後濃縮した。析出した結晶を
ジイソプロピルエーテルで洗浄し、標題化合物（１．３
ｇ）を得た。 融点１６３−１６５℃．
アセトアミド Ｎ−イソプロピル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジ
ヒドロナフタレン）］アセトアミド（１ｇ）をエタノー
ル（３０ml）に溶かし、１０％ Ｐｄ−Ｃ（０．２ｇ）
と共に室温、１気圧で終夜接触還元した。触媒をろ別
後、ろ液を濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製（展開溶媒；酢酸エチル）し、さらに
酢酸エチル／ヘキサンから再結晶して、標題化合物
（０．７ｇ）を得た。 融点：１０７−１０８℃． 参考例２７ Ｎ−エチル−（６−メトキシ−２−テトラリン）アセト
アミド Ｎ−エチル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジヒドロ
ナフタレン）］アセトアミド（０．１ｇ）をエタノール
（１０ml）に溶かし、１０％ Ｐｄ−Ｃ（０．２ｇ）と
共に室温、１気圧で５時間接触還元した。触媒をろ別
後、ろ液を濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製（展開溶媒；酢酸エチル）し、さらに
酢酸エチル／ヘキサンから再結晶して、標題化合物
（０．０８ｇ）を得た。 融点：９６−９７℃． 参考例２８ （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）酢酸 （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）カルボ
ン酸メチル（５ｇ）のトルエン（６０ml）溶液にナトリ
ウムメチラート（２８％メタノール溶液；８．３ml）を
加え、１．５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却
し、ブロモ酢酸エチル（２．４ml）を加え、１２時間撹
拌した。反応液に氷水を加えトルエンで抽出した。トル
エン層を濃縮し、残さに濃塩酸（５０ml）、酢酸（５０
ml）、水（５ml）を加え２時間加熱還流した。反応液を
室温まで冷却し、水を加えトルエンで抽出した。トルエ
ン層を１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で逆抽出した。水層
をトルエンで洗浄後、１Ｎ塩酸水溶液を加え酸性とし酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、シリカゲルカラ
ムを通し原点物質を除いた後濃縮した。析出した結晶を
ジイソプロピルエーテルで洗浄し、標題化合物（１．３
ｇ）を得た。 融点１６３−１６５℃．
【００６９】参考例２９ ［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−１−オキソ−２
−テトラリン］酢酸メチル （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）酢酸
（１５ｇ）の４８％臭化水素酸（９０ml）溶液を５時間
加熱還流した。反応液を濃縮し、残さをメタノール（１
５０ml）に溶解後、氷冷下塩化チオニル（３．５ml）を
滴下した。室温で２時間撹拌後、濃縮し水を加え酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄後、
乾燥し濃縮した。残さをＤＭＦ（７０ml）に溶解し、炭
酸カリウム（１６．８ｇ）、４−ビフェニルメチルクロ
リド（１２．９ｇ）を加え５０℃で１２時間撹拌した。
反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層
は、水で３回、飽和食塩水で２回洗浄後、乾燥し濃縮し
た。析出した結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄し、
標題化合物（１８ｇ）を得た。 融点１１７．５−１１９℃． 参考例３０ ［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−１−オキソ−２
−テトラリン］酢酸 ［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−１−オキソ−２
−テトラリン］酢酸メチル（１８ｇ）のメタノール（１
００ml）−ＴＨＦ（２５０ml）溶液に１Ｎ水酸化ナトリ
ウム水溶液を加え、１２時間加熱還流した。反応液を濃
縮し１Ｎ塩酸水溶液」を加え酸性とし、酢酸エチル−Ｔ
ＨＦの混合で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、
乾燥し濃縮した。析出した結晶をジイソプロピルエーテ
ルで洗浄し、標題化合物（１７ｇ）を得た。 融点：１７２−１７３．５℃． 参考例３１ ［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−１−オキソ−２
−テトラリン］−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド ［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−１−オキソ−２
−テトラリン］酢酸（１７ｇ）のＴＨＦ（２５０ml）−
アセトニトリル（２５０ml）懸濁液にジメチルアミン塩
酸塩（４．７ｇ）、ＷＳＣ（１３．２ｇ）、ＨＯＢＴ
（６．８ｇ）、トリエチルアミン（１８．４ml） を加
えた。反応液を室温で１２時間撹拌後、不溶物をろ別
し、ろ液を濃縮した。残さに水を加え酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層を１Ｎ塩酸、水、飽和重曹水、水、
飽和食塩水で順次洗浄後、アルミナカラムで原点物質を
除いた後、濃縮した。析出した結晶をジイソプロピルエ
ーテルで洗浄し、標題化合物（１８ｇ）を得た。 融点：１３７．５−１３９．５℃．
−テトラリン］酢酸メチル （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）酢酸
（１５ｇ）の４８％臭化水素酸（９０ml）溶液を５時間
加熱還流した。反応液を濃縮し、残さをメタノール（１
５０ml）に溶解後、氷冷下塩化チオニル（３．５ml）を
滴下した。室温で２時間撹拌後、濃縮し水を加え酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄後、
乾燥し濃縮した。残さをＤＭＦ（７０ml）に溶解し、炭
酸カリウム（１６．８ｇ）、４−ビフェニルメチルクロ
リド（１２．９ｇ）を加え５０℃で１２時間撹拌した。
反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層
は、水で３回、飽和食塩水で２回洗浄後、乾燥し濃縮し
た。析出した結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄し、
標題化合物（１８ｇ）を得た。 融点１１７．５−１１９℃． 参考例３０ ［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−１−オキソ−２
−テトラリン］酢酸 ［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−１−オキソ−２
−テトラリン］酢酸メチル（１８ｇ）のメタノール（１
００ml）−ＴＨＦ（２５０ml）溶液に１Ｎ水酸化ナトリ
ウム水溶液を加え、１２時間加熱還流した。反応液を濃
縮し１Ｎ塩酸水溶液」を加え酸性とし、酢酸エチル−Ｔ
ＨＦの混合で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、
乾燥し濃縮した。析出した結晶をジイソプロピルエーテ
ルで洗浄し、標題化合物（１７ｇ）を得た。 融点：１７２−１７３．５℃． 参考例３１ ［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−１−オキソ−２
−テトラリン］−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド ［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−１−オキソ−２
−テトラリン］酢酸（１７ｇ）のＴＨＦ（２５０ml）−
アセトニトリル（２５０ml）懸濁液にジメチルアミン塩
酸塩（４．７ｇ）、ＷＳＣ（１３．２ｇ）、ＨＯＢＴ
（６．８ｇ）、トリエチルアミン（１８．４ml） を加
えた。反応液を室温で１２時間撹拌後、不溶物をろ別
し、ろ液を濃縮した。残さに水を加え酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層を１Ｎ塩酸、水、飽和重曹水、水、
飽和食塩水で順次洗浄後、アルミナカラムで原点物質を
除いた後、濃縮した。析出した結晶をジイソプロピルエ
ーテルで洗浄し、標題化合物（１８ｇ）を得た。 融点：１３７．５−１３９．５℃．
【００７０】参考例３２ ［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−２−（３，４−
ジヒドロナフタレン）］−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド ［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−１−オキソ−２
−テトラリン］−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１７
ｇ）のメタノール（３７０ml）−酢酸エチル（３７０m
l）懸濁液に氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（３．３
ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液を１Ｎ塩酸
で中和した後、濃縮した。残さに水を加え酢酸エチルで
抽出した。酢酸エチル層を飽和重曹水、飽和食塩水で順
次洗浄後、乾燥し濃縮した。残さをトルエン（５５０m
l）に溶解しｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩
（０．５５ｇ）を加え、２時間加熱還流した。反応液を
室温まで冷却し、水、飽和食塩水で洗浄し乾燥後、濃縮
した。析出した結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄
し、標題化合物（１５．４ｇ）を得た。 融点：１２５−１３０℃． 参考例３３ （６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２−イ
ル）酢酸 （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）酢酸
（２．３８２ｇ）のエタノール溶液（６０ml）に室温
で、水素化ホウ素ナトリウム（０．７ｇ）を加えた。反
応液を１時間加熱還流後、放冷した。反応液に水を加え
たのち、１Ｎ塩酸を加え酸性とし、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、濃縮した。
残さのトルエン溶液（５０ml）にｐ−トルエンスルホン
酸一水和物（０．１２ｇ）を加え、反応液を１時間加熱
還流後、放冷した。反応液に、１Ｎ塩酸を加え酸性と
し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、乾燥後、濃縮した。得られた粗結晶をジイソプロピ
ルエーテルで洗浄し、標題化合物（１．０４７ｇ）を得
た。 融点：１１２−１１５℃（再結晶溶媒：酢酸エチル／ジ
イソプロピルエーテル） 参考例３４ （６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２−イ
ル）アセトアミド （６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２−イ
ル）酢酸（０．８７６ｇ）およびトリエチルアミン
（０．６２ml）のＴＨＦ溶液（２０ml）に氷冷下、クロ
ロ炭酸エチル（０．５４ml）のＴＨＦ溶液（１０ml）を
滴下した。反応液を氷冷下３０分間撹拌後、２８％アン
モニア水（１５ml）を加えた。反応液を室温で終夜撹拌
した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機
層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、濃縮した。得られた
粗結晶をメタノール／ジイソプロピルエーテルより再結
晶し、標題化合物（０．４４３ｇ）を得た。 融点：１９１−１９３℃．
ジヒドロナフタレン）］−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド ［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−１−オキソ−２
−テトラリン］−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１７
ｇ）のメタノール（３７０ml）−酢酸エチル（３７０m
l）懸濁液に氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（３．３
ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液を１Ｎ塩酸
で中和した後、濃縮した。残さに水を加え酢酸エチルで
抽出した。酢酸エチル層を飽和重曹水、飽和食塩水で順
次洗浄後、乾燥し濃縮した。残さをトルエン（５５０m
l）に溶解しｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩
（０．５５ｇ）を加え、２時間加熱還流した。反応液を
室温まで冷却し、水、飽和食塩水で洗浄し乾燥後、濃縮
した。析出した結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄
し、標題化合物（１５．４ｇ）を得た。 融点：１２５−１３０℃． 参考例３３ （６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２−イ
ル）酢酸 （６−メトキシ−１−オキソ−２−テトラリン）酢酸
（２．３８２ｇ）のエタノール溶液（６０ml）に室温
で、水素化ホウ素ナトリウム（０．７ｇ）を加えた。反
応液を１時間加熱還流後、放冷した。反応液に水を加え
たのち、１Ｎ塩酸を加え酸性とし、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、濃縮した。
残さのトルエン溶液（５０ml）にｐ−トルエンスルホン
酸一水和物（０．１２ｇ）を加え、反応液を１時間加熱
還流後、放冷した。反応液に、１Ｎ塩酸を加え酸性と
し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、乾燥後、濃縮した。得られた粗結晶をジイソプロピ
ルエーテルで洗浄し、標題化合物（１．０４７ｇ）を得
た。 融点：１１２−１１５℃（再結晶溶媒：酢酸エチル／ジ
イソプロピルエーテル） 参考例３４ （６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２−イ
ル）アセトアミド （６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２−イ
ル）酢酸（０．８７６ｇ）およびトリエチルアミン
（０．６２ml）のＴＨＦ溶液（２０ml）に氷冷下、クロ
ロ炭酸エチル（０．５４ml）のＴＨＦ溶液（１０ml）を
滴下した。反応液を氷冷下３０分間撹拌後、２８％アン
モニア水（１５ml）を加えた。反応液を室温で終夜撹拌
した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機
層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、濃縮した。得られた
粗結晶をメタノール／ジイソプロピルエーテルより再結
晶し、標題化合物（０．４４３ｇ）を得た。 融点：１９１−１９３℃．
【００７１】参考例３５ Ｎ，Ｎ−ジメチル−（７−メトキシ−４，５−ジヒドロ
−３Ｈ−ベンゾシクロヘプテン−２−イル）アセトアミ
ド １）（７−メトキシ−１−オキソ−２，３，４，５−テ
トラヒドロベンゾ−１Ｈ−シクロヘプテン−２−イリデ
ン）酢酸 グリオキシル酸一水和物（１８ｇ）の水（４０ml）、
１，４−ジオキサン（５０ml）溶液に７−メトキシ−
２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾシクロヘ
プテン−１−オン（２５．０ｇ）を加えた。ついで、濃
硫酸（６．５ml）を加え、反応液を１６時間還流した。
反応液を冷却し、析出した結晶をろ取し、冷水、ジイソ
プロピルエーテルで洗浄して、標題化合物（２１．９
ｇ）を得た。 融点：１９６−１９８℃． ２）（７−メトキシ−１−オキソ−２，３，４，５−テ
トラヒドロ−１Ｈ−２−ベンゾシクロヘプテン）酢酸 （７−メトキシ−１−オキソ−２，３，４，５−テトラ
ヒドロ−１Ｈ−ベンゾシクロヘプテン−２−イリデン）
酢酸（２１．０ｇ）と亜鉛末（６．７ｇ）の酢酸（１５
０ml）、水（６０ml）の混合液を２時間還流した。反応
液を冷却し、不溶物をろ別した。ろ液に水を加え濃縮し
た。残さに水、塩化アンモニウム、酢酸エチルを加え、
分液抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水で洗浄
した後、乾燥、濃縮した。得られた結晶をジイソプロピ
ルエーテルで洗浄し、標題化合物（１８．９ｇ）を得
た。 融点：１３１−１３２℃． ３）Ｎ，Ｎ−ジメチル−（７−メトキシ−１−オキソ−
２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−２−ベンゾシク
ロヘプテン）アセトアミド （７−メトキシ−１−オキソ−２，３，４，５−テトラ
ヒドロ−１Ｈ−２−ベンゾシクロヘプテン）酢酸（１
８．５ｇ）、ジメチルアミン塩酸塩（７．９ｇ）、ＨＯ
ＢＴ（１１．４ｇ）、ＷＳＣ（２１．４ｇ）のアセトニ
トリル（５００ml）溶液に０℃でトリエチルアミン（３
１．２ml）を加えた。室温で３日間撹拌後、反応液に水
を加え、濃縮した。残さに酢酸エチルを加えて分液抽出
し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥、濃縮した。残
さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開
溶媒；酢酸エチル／ヘキサン＝１：２）した。得られた
結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して標題化合物（１８．１
ｇ）を得た。 融点：８９−９０℃． ４）Ｎ，Ｎ−ジメチル−（７−メトキシ−４，５−ジヒ
ドロ−３Ｈ−ベンゾクロヘプテン−２−イル）アセトア
ミド Ｎ，Ｎ−ジメチル−（７−メトキシ−１−オキソ−２，
３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−２−ベンゾシクロヘ
プテン）アセトアミド（１２．５ｇ）のメタノール（２
００ml）溶液に、０℃で水素化ホウ素ナトリウム（３．
４ｇ）を加えた。室温で１時間撹拌後、反応液にさらに
０℃で水素化ホウ素ナトリウム（１．７ｇ）を加え、室
温で１時間撹拌した。反応液を冷却した後に水を加え、
濃縮した。反応液に酢酸エチルを加えて分液抽出し、有
機層を飽和塩化アンモニウム水で洗浄した後、乾燥、濃
縮した。残さにトルエンを加えて、置換濃縮した。残さ
の無水トルエン（２００ml）溶液にｐ−トルエンスルホ
ン酸一水和物（４３２mg）を加えて、３０分間還流し
た。反応液にさらに、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物
（４３２mg）を加えて、３０分間還流した。反応液にさ
らに、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物（３．４５ｇ）
を加えて、１時間還流した。反応液を冷却した後に、飽
和重曹水を加えて分液抽出し、有機層を飽和塩化アンモ
ニウム水で洗浄した。有機層を乾燥、濃縮した。残さを
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶
媒；ヘキサン／酢酸エチル＝１：２）し、標題化合物
（３．３６ｇ）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ)δ： 1.98-2.01(2H, m),
2.32(2H, t, J=4Hz), 2.75-2.78(2H, m), 2.98(3H, s),
3.06(3H, s), 3.25(2H, s), 3.79(3H, s), 6.24(1H,
s), 6.65-6.69(2H, m), 7.02(1H, d, J=8Hz).
−３Ｈ−ベンゾシクロヘプテン−２−イル）アセトアミ
ド １）（７−メトキシ−１−オキソ−２，３，４，５−テ
トラヒドロベンゾ−１Ｈ−シクロヘプテン−２−イリデ
ン）酢酸 グリオキシル酸一水和物（１８ｇ）の水（４０ml）、
１，４−ジオキサン（５０ml）溶液に７−メトキシ−
２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾシクロヘ
プテン−１−オン（２５．０ｇ）を加えた。ついで、濃
硫酸（６．５ml）を加え、反応液を１６時間還流した。
反応液を冷却し、析出した結晶をろ取し、冷水、ジイソ
プロピルエーテルで洗浄して、標題化合物（２１．９
ｇ）を得た。 融点：１９６−１９８℃． ２）（７−メトキシ−１−オキソ−２，３，４，５−テ
トラヒドロ−１Ｈ−２−ベンゾシクロヘプテン）酢酸 （７−メトキシ−１−オキソ−２，３，４，５−テトラ
ヒドロ−１Ｈ−ベンゾシクロヘプテン−２−イリデン）
酢酸（２１．０ｇ）と亜鉛末（６．７ｇ）の酢酸（１５
０ml）、水（６０ml）の混合液を２時間還流した。反応
液を冷却し、不溶物をろ別した。ろ液に水を加え濃縮し
た。残さに水、塩化アンモニウム、酢酸エチルを加え、
分液抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水で洗浄
した後、乾燥、濃縮した。得られた結晶をジイソプロピ
ルエーテルで洗浄し、標題化合物（１８．９ｇ）を得
た。 融点：１３１−１３２℃． ３）Ｎ，Ｎ−ジメチル−（７−メトキシ−１−オキソ−
２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−２−ベンゾシク
ロヘプテン）アセトアミド （７−メトキシ−１−オキソ−２，３，４，５−テトラ
ヒドロ−１Ｈ−２−ベンゾシクロヘプテン）酢酸（１
８．５ｇ）、ジメチルアミン塩酸塩（７．９ｇ）、ＨＯ
ＢＴ（１１．４ｇ）、ＷＳＣ（２１．４ｇ）のアセトニ
トリル（５００ml）溶液に０℃でトリエチルアミン（３
１．２ml）を加えた。室温で３日間撹拌後、反応液に水
を加え、濃縮した。残さに酢酸エチルを加えて分液抽出
し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥、濃縮した。残
さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開
溶媒；酢酸エチル／ヘキサン＝１：２）した。得られた
結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して標題化合物（１８．１
ｇ）を得た。 融点：８９−９０℃． ４）Ｎ，Ｎ−ジメチル−（７−メトキシ−４，５−ジヒ
ドロ−３Ｈ−ベンゾクロヘプテン−２−イル）アセトア
ミド Ｎ，Ｎ−ジメチル−（７−メトキシ−１−オキソ−２，
３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−２−ベンゾシクロヘ
プテン）アセトアミド（１２．５ｇ）のメタノール（２
００ml）溶液に、０℃で水素化ホウ素ナトリウム（３．
４ｇ）を加えた。室温で１時間撹拌後、反応液にさらに
０℃で水素化ホウ素ナトリウム（１．７ｇ）を加え、室
温で１時間撹拌した。反応液を冷却した後に水を加え、
濃縮した。反応液に酢酸エチルを加えて分液抽出し、有
機層を飽和塩化アンモニウム水で洗浄した後、乾燥、濃
縮した。残さにトルエンを加えて、置換濃縮した。残さ
の無水トルエン（２００ml）溶液にｐ−トルエンスルホ
ン酸一水和物（４３２mg）を加えて、３０分間還流し
た。反応液にさらに、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物
（４３２mg）を加えて、３０分間還流した。反応液にさ
らに、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物（３．４５ｇ）
を加えて、１時間還流した。反応液を冷却した後に、飽
和重曹水を加えて分液抽出し、有機層を飽和塩化アンモ
ニウム水で洗浄した。有機層を乾燥、濃縮した。残さを
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶
媒；ヘキサン／酢酸エチル＝１：２）し、標題化合物
（３．３６ｇ）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ)δ： 1.98-2.01(2H, m),
2.32(2H, t, J=4Hz), 2.75-2.78(2H, m), 2.98(3H, s),
3.06(3H, s), 3.25(2H, s), 3.79(3H, s), 6.24(1H,
s), 6.65-6.69(2H, m), 7.02(1H, d, J=8Hz).
【００７２】参考例３６ （＋）−６−（４−ビフェニリル）メトキシ−２−［２
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］テトラリン 塩
酸塩 １水和物 （＋）−［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−２−テ
トラリン］−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（３ｇ）の
ＴＨＦ（６０ml）溶液に氷冷下、水素化リチウムアルミ
ニウム（０．３１ｇ）を加え、室温で２時間撹拌した。
１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加え、不溶物をろ別し、
ＴＨＦで洗浄した。ろ液と洗浄液を合わせ濃縮し、残さ
を酢酸エチルに溶解し飽和食塩水で洗浄後、乾燥し濃縮
した。残さをアルミナカラムクロマトグラフィーで精製
（展開溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：４）し、
塩酸塩としてエタノールで再結晶し、標題化合物（２．
３１ｇ）を得た。 融点：２１５−２１７℃（分解）． ［α］D 20＝＋４２．４°（ｃ＝１．００,メタノー
ル）．
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］テトラリン 塩
酸塩 １水和物 （＋）−［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−２−テ
トラリン］−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（３ｇ）の
ＴＨＦ（６０ml）溶液に氷冷下、水素化リチウムアルミ
ニウム（０．３１ｇ）を加え、室温で２時間撹拌した。
１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加え、不溶物をろ別し、
ＴＨＦで洗浄した。ろ液と洗浄液を合わせ濃縮し、残さ
を酢酸エチルに溶解し飽和食塩水で洗浄後、乾燥し濃縮
した。残さをアルミナカラムクロマトグラフィーで精製
（展開溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：４）し、
塩酸塩としてエタノールで再結晶し、標題化合物（２．
３１ｇ）を得た。 融点：２１５−２１７℃（分解）． ［α］D 20＝＋４２．４°（ｃ＝１．００,メタノー
ル）．
【００７３】実施例３ （＋）−Ｎ,Ｎ−ジエチル−（６−メトキシ−２−テト
ラリン）アセトアミドＮ,Ｎ−ジエチル−［６−メトキ
シ−２−（３,４−ジヒドロナフタレン）］アセトアミ
ド（１０.０ｇ）とＲｕ2Ｃl4［(Ｓ)−ＢＩＮＡＰ］2Ｎ
Ｅt3（６１８mg）に脱気したエタノール（１７０ml）を
加えた溶液をオートクレーブに移し、水素圧１００kg／
cm2、７０℃で６時間撹拌した。反応液を濃縮し、残さ
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘ
キサン：酢酸エチル＝２：１）およびアルミナカラムク
ロマトグラフィーで精製（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エ
チル＝４：１）し、標題化合物（８.８ｇ）を得た。 ［α］D 20＝＋５４.０°（ｃ＝１.０００，メタノー
ル）1 Ｈ−ＮＭＲ δ：1.00−1.22(6H, m), 1.30-1.56(1H,
m), 1.88-2.08(1H, m), 2.20-2.50(4H, m), 2.70-3.00
(3H, m), 3.26-3.46(4H, m), 3.77(3H, s), 6.60-6.75
(2H, m), 6.96(1H, d, J=8.0Hz). 光学純度：９４％ｅ.ｅ．（ＨＰＬＣにより決定） 実施例４ （−）−Ｎ,Ｎ−ジエチル−（６−メトキシ−２−テト
ラリン）アセトアミドＮ,Ｎ−ジエチル−［６−メトキ
シ−２−（３,４−ジヒドロナフタレン）］アセトアミ
ド（１０.０ｇ）とＲu2Ｃl4［(Ｒ)−ＢＩＮＡＰ］2ＮＥ
t3（６１８mg）に脱気したエタノール（１７０ml）を加
えた溶液をオートクレーブに移し、水素圧１００kg／cm
2、７０℃で６時間撹拌した。反応液を濃縮し、残さを
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶
媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）し、標題化合物
（８.８８ｇ）を得た。 ［α］D 20＝−５３.０°（ｃ＝０.７９９，メタノー
ル）1 Ｈ−ＮＭＲ δ：1.00−1.22(6H, m), 1.30-1.56(1H,
m), 1.88-2.08(1H, m), 2.20-2.50(4H, m), 2.70-3.00
(3H, m), 3.26-3.46(4H, m), 3.77(3H, s), 6.60-6.75
(2H, m), 6.96(1H, d, J=8.0Hz). 光学純度：９３.７％ｅ.ｅ. （ＨＰＬＣにより決定） 実施例５ Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−（６−メトキシ−２−テトラリ
ン）プロパンアミド
ラリン）アセトアミドＮ,Ｎ−ジエチル−［６−メトキ
シ−２−（３,４−ジヒドロナフタレン）］アセトアミ
ド（１０.０ｇ）とＲｕ2Ｃl4［(Ｓ)−ＢＩＮＡＰ］2Ｎ
Ｅt3（６１８mg）に脱気したエタノール（１７０ml）を
加えた溶液をオートクレーブに移し、水素圧１００kg／
cm2、７０℃で６時間撹拌した。反応液を濃縮し、残さ
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘ
キサン：酢酸エチル＝２：１）およびアルミナカラムク
ロマトグラフィーで精製（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エ
チル＝４：１）し、標題化合物（８.８ｇ）を得た。 ［α］D 20＝＋５４.０°（ｃ＝１.０００，メタノー
ル）1 Ｈ−ＮＭＲ δ：1.00−1.22(6H, m), 1.30-1.56(1H,
m), 1.88-2.08(1H, m), 2.20-2.50(4H, m), 2.70-3.00
(3H, m), 3.26-3.46(4H, m), 3.77(3H, s), 6.60-6.75
(2H, m), 6.96(1H, d, J=8.0Hz). 光学純度：９４％ｅ.ｅ．（ＨＰＬＣにより決定） 実施例４ （−）−Ｎ,Ｎ−ジエチル−（６−メトキシ−２−テト
ラリン）アセトアミドＮ,Ｎ−ジエチル−［６−メトキ
シ−２−（３,４−ジヒドロナフタレン）］アセトアミ
ド（１０.０ｇ）とＲu2Ｃl4［(Ｒ)−ＢＩＮＡＰ］2ＮＥ
t3（６１８mg）に脱気したエタノール（１７０ml）を加
えた溶液をオートクレーブに移し、水素圧１００kg／cm
2、７０℃で６時間撹拌した。反応液を濃縮し、残さを
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶
媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）し、標題化合物
（８.８８ｇ）を得た。 ［α］D 20＝−５３.０°（ｃ＝０.７９９，メタノー
ル）1 Ｈ−ＮＭＲ δ：1.00−1.22(6H, m), 1.30-1.56(1H,
m), 1.88-2.08(1H, m), 2.20-2.50(4H, m), 2.70-3.00
(3H, m), 3.26-3.46(4H, m), 3.77(3H, s), 6.60-6.75
(2H, m), 6.96(1H, d, J=8.0Hz). 光学純度：９３.７％ｅ.ｅ. （ＨＰＬＣにより決定） 実施例５ Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−（６−メトキシ−２−テトラリ
ン）プロパンアミド
【化２８】 Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−［６−メトキシ−２−（３,４
−ジヒドロナフタレン）］プロピオンアミド（２６２m
g，１mmol）とＲｕ2Ｃｌ4［（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ］2ＮＥ
ｔ3（１７mg，０．０１mmol）に脱気したエタノール
（７０ml）を加えた溶液をオートクレーブに移し、水素
圧１００ｋｇ／ｃｍ2、７０℃で６時間撹拌した。反応
液のキラルカラムを用いたＨＰＬＣによる分析の結果、
還元体の化学収率は８０．８％であった。得られたＮ，
Ｎ−ジメチル−３−（６−メトキシ−２−テトラリン）
プロパンアミドの光学異性体の混合物において各光学異
性体の生成比は２７．３３（３６．１ｍｉｎ）：７２．
６７（４５．３ｍｉｎ）であった。かっこ内の時間は、
各光学異性体の溶離時間を示す。 不斉収率（４５．３％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＪ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール／ジエチルアミン＝９７
／３／０．６ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ． 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ
−ジヒドロナフタレン）］プロピオンアミド（２６２m
g，１mmol）とＲｕ2Ｃｌ4［（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ］2ＮＥ
ｔ3（１７mg，０．０１mmol）に脱気したエタノール
（７０ml）を加えた溶液をオートクレーブに移し、水素
圧１００ｋｇ／ｃｍ2、７０℃で６時間撹拌した。反応
液のキラルカラムを用いたＨＰＬＣによる分析の結果、
還元体の化学収率は８０．８％であった。得られたＮ，
Ｎ−ジメチル−３−（６−メトキシ−２−テトラリン）
プロパンアミドの光学異性体の混合物において各光学異
性体の生成比は２７．３３（３６．１ｍｉｎ）：７２．
６７（４５．３ｍｉｎ）であった。かっこ内の時間は、
各光学異性体の溶離時間を示す。 不斉収率（４５．３％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＪ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール／ジエチルアミン＝９７
／３／０．６ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ． 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ
【００７４】実施例６ ２−［６−メトキシ−２−テトラリン］エタノール
【化２９】 ２−（６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２
−イル）エタノール（２０６mg，１mmol）とＲｕ2Ｃｌ4
［（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ］2ＮＥｔ3（１７mg，０．０１mm
ol）に脱気したエタノール（７０ml）を加えた溶液をオ
ートクレーブに移し、水素圧１００ｋｇ／ｃｍ2、７０
℃で６時間撹拌した。反応液のキラルカラムを用いたＨ
ＰＬＣによる分析の結果、還元体の化学収率は４９．６
％であった。得られた２−［６−メトキシ−２−テトラ
リン］エタノールの光学異性体の混合物において各光学
異性体の生成比は６４．０２（１７．８ｍｉｎ）：３
５．９８（２２．６ｍｉｎ）であった。かっこ内の時間
は、各光学異性体の溶離時間を示す。 不斉収率（２８．０％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＤ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝９７．５／２．５ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ 実施例７ Ｎ−イソプロピル−２−（６−メトキシ−２−テトラリ
ン）アセトアミド
−イル）エタノール（２０６mg，１mmol）とＲｕ2Ｃｌ4
［（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ］2ＮＥｔ3（１７mg，０．０１mm
ol）に脱気したエタノール（７０ml）を加えた溶液をオ
ートクレーブに移し、水素圧１００ｋｇ／ｃｍ2、７０
℃で６時間撹拌した。反応液のキラルカラムを用いたＨ
ＰＬＣによる分析の結果、還元体の化学収率は４９．６
％であった。得られた２−［６−メトキシ−２−テトラ
リン］エタノールの光学異性体の混合物において各光学
異性体の生成比は６４．０２（１７．８ｍｉｎ）：３
５．９８（２２．６ｍｉｎ）であった。かっこ内の時間
は、各光学異性体の溶離時間を示す。 不斉収率（２８．０％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＤ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝９７．５／２．５ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ 実施例７ Ｎ−イソプロピル−２−（６−メトキシ−２−テトラリ
ン）アセトアミド
【化３０】 Ｎ−イソプロピル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジ
ヒドロナフタレン）］アセトアミド（３８８mg，１．５
mmol）とＲｕ2Ｃｌ4［（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ］2ＮＥｔ
3（２５mg，０．０１５mmol）に脱気したエタノール１
８０mlを加えた溶液をオートクレーブに移し、水素圧１
００ｋｇ／ｃｍ2、７０℃で６時間撹拌した。反応液の
キラルカラムを用いたＨＰＬＣによる分析の結果、還元
体の化学収率は１００％であった。得られたＮ−イソプ
ロピル−２−（６−メトキシ−２−テトラリン）アセト
アミドの光学異性体の混合物において各光学異性体の生
成比は４．８６０（８．７ｍｉｎ）：９５．１４（１
２．８ｍｉｎ）であった。かっこ内の時間は、各光学異
性体の溶離時間を示す。 不斉収率（９０．３％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＪ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝９０／１０ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ
ヒドロナフタレン）］アセトアミド（３８８mg，１．５
mmol）とＲｕ2Ｃｌ4［（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ］2ＮＥｔ
3（２５mg，０．０１５mmol）に脱気したエタノール１
８０mlを加えた溶液をオートクレーブに移し、水素圧１
００ｋｇ／ｃｍ2、７０℃で６時間撹拌した。反応液の
キラルカラムを用いたＨＰＬＣによる分析の結果、還元
体の化学収率は１００％であった。得られたＮ−イソプ
ロピル−２−（６−メトキシ−２−テトラリン）アセト
アミドの光学異性体の混合物において各光学異性体の生
成比は４．８６０（８．７ｍｉｎ）：９５．１４（１
２．８ｍｉｎ）であった。かっこ内の時間は、各光学異
性体の溶離時間を示す。 不斉収率（９０．３％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＪ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝９０／１０ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ
【００７５】実施例８ Ｎ−エチル−２−（６−メトキシ−２−テトラリン）ア
セトアミド
セトアミド
【化３１】 Ｎ−エチル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジヒドロ
ナフタレン）］アセトアミド（１５０mg，０．６mmol）
とＲｕ2Ｃｌ4［（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ］2ＮＥｔ3（１０m
g，０．００６mmol）に脱気したエタノール（７０ml）
を加えた溶液をオートクレーブに移し、水素圧１００ｋ
ｇ／ｃｍ2、７０℃で６時間撹拌した。反応液のキラル
カラムを用いたＨＰＬＣによる分析の結果、還元体の化
学収率は１００％であった。得られたＮ−エチル−２−
（６−メトキシ−２−テトラリン）アセトアミドの光学
異性体の混合物において各光学異性体の生成比は１１．
７５（１０．１ｍｉｎ）：８８．２５（１４．７ｍｉ
ｎ）であった。かっこ内の時間は、各光学異性体の溶離
時間を示す。 不斉収率（７６．５％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＪ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝９０／１０ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ 実施例９ Ｎ，Ｎ−ジメチル−（７−メトキシ−２，３，４，５−
テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾシクロヘプテン−２−イ
ル）アセトアミド
ナフタレン）］アセトアミド（１５０mg，０．６mmol）
とＲｕ2Ｃｌ4［（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ］2ＮＥｔ3（１０m
g，０．００６mmol）に脱気したエタノール（７０ml）
を加えた溶液をオートクレーブに移し、水素圧１００ｋ
ｇ／ｃｍ2、７０℃で６時間撹拌した。反応液のキラル
カラムを用いたＨＰＬＣによる分析の結果、還元体の化
学収率は１００％であった。得られたＮ−エチル−２−
（６−メトキシ−２−テトラリン）アセトアミドの光学
異性体の混合物において各光学異性体の生成比は１１．
７５（１０．１ｍｉｎ）：８８．２５（１４．７ｍｉ
ｎ）であった。かっこ内の時間は、各光学異性体の溶離
時間を示す。 不斉収率（７６．５％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＪ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝９０／１０ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ 実施例９ Ｎ，Ｎ−ジメチル−（７−メトキシ−２，３，４，５−
テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾシクロヘプテン−２−イ
ル）アセトアミド
【化３２】 Ｎ，Ｎ−ジメチル−（７−メトキシ−４，５−ジヒドロ
−３Ｈ−ベンゾシクロヘプテン−２−イル）アセトアミ
ド（２５９mg，１mmol）とＲｕ2Ｃｌ4［（Ｓ）−ＢＩＮ
ＡＰ］2ＮＥｔ3（１７mg，０．０１mmol）に脱気したエ
タノール（７０ml）を加えた溶液をオートクレーブに移
し、水素圧１００ ｋｇ／ｃｍ2、７０℃で６時間撹拌
した。反応液のキラルカラムを用いたＨＰＬＣによる分
析の結果、還元体の化学収率は１００％であった。得ら
れたＮ，Ｎ−ジメチル−（７−メトキシ−２，３，４，
５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾシクロヘプテン−２−
イル）アセトアミドの光学異性体の混合物において各光
学異性体の生成比は４２．１４（１４．９ｍｉｎ）：５
７．８６（１８．２ｍｉｎ）であった。かっこ内の時間
は、各光学異性体の溶離時間を示す。 不斉収率（１５．７％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＤ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝９７．５／２．５ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ． 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ
−３Ｈ−ベンゾシクロヘプテン−２−イル）アセトアミ
ド（２５９mg，１mmol）とＲｕ2Ｃｌ4［（Ｓ）−ＢＩＮ
ＡＰ］2ＮＥｔ3（１７mg，０．０１mmol）に脱気したエ
タノール（７０ml）を加えた溶液をオートクレーブに移
し、水素圧１００ ｋｇ／ｃｍ2、７０℃で６時間撹拌
した。反応液のキラルカラムを用いたＨＰＬＣによる分
析の結果、還元体の化学収率は１００％であった。得ら
れたＮ，Ｎ−ジメチル−（７−メトキシ−２，３，４，
５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾシクロヘプテン−２−
イル）アセトアミドの光学異性体の混合物において各光
学異性体の生成比は４２．１４（１４．９ｍｉｎ）：５
７．８６（１８．２ｍｉｎ）であった。かっこ内の時間
は、各光学異性体の溶離時間を示す。 不斉収率（１５．７％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＤ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝９７．５／２．５ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ． 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ
【００７６】実施例１０ （６−メトキシ−２−テトラリン）アセトアミド
【化３３】 （６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２−イ
ル）アセトアミド（２１９mg，１mmol）とＲｕ2Ｃｌ
4［（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ］2ＮＥｔ3（１７mg，０．０１m
mol）に脱気したエタノール（７０ml）を加えた溶液を
オートクレーブに移し、水素圧１００ｋｇ／ｃｍ2、７
０℃で６時間撹拌した。反応液のキラルカラムを用いた
ＨＰＬＣによる分析の結果、還元体の化学収率は１００
％であった。得られた（６−メトキシ−２−テトラリ
ン）アセトアミドの光学異性体の混合物において各光学
異性体の生成比は２．２４５（１６．５ｍｉｎ）：９
７．７５（２５．８ｍｉｎ）であった。かっこ内の時間
は、各光学異性体の溶離時間を示す。 不斉収率（９５．５％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件: カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫＡＤ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝９０／１０ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ、検出器：ＵＶ２８０ｎｍ 実施例１１ ２−（６−メトキシ−２−テトラリン）−１−（１−ピ
ロリジニル）−１−エタノン
ル）アセトアミド（２１９mg，１mmol）とＲｕ2Ｃｌ
4［（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ］2ＮＥｔ3（１７mg，０．０１m
mol）に脱気したエタノール（７０ml）を加えた溶液を
オートクレーブに移し、水素圧１００ｋｇ／ｃｍ2、７
０℃で６時間撹拌した。反応液のキラルカラムを用いた
ＨＰＬＣによる分析の結果、還元体の化学収率は１００
％であった。得られた（６−メトキシ−２−テトラリ
ン）アセトアミドの光学異性体の混合物において各光学
異性体の生成比は２．２４５（１６．５ｍｉｎ）：９
７．７５（２５．８ｍｉｎ）であった。かっこ内の時間
は、各光学異性体の溶離時間を示す。 不斉収率（９５．５％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件: カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫＡＤ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝９０／１０ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ、検出器：ＵＶ２８０ｎｍ 実施例１１ ２−（６−メトキシ−２−テトラリン）−１−（１−ピ
ロリジニル）−１−エタノン
【化３４】 ２−（６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２
−イル）−１−（１−ピロリジニル）−１−エタノン
（２９３mg，１．０８mmol）とＲｕ2Ｃｌ4［（Ｓ）−Ｂ
ＩＮＡＰ］2ＮＥｔ3（１７mg，０．０１mmol）に脱気し
たエタノール（７０ml）を加えた溶液をオートクレーブ
に移し、水素圧１００ｋｇ／ｃｍ2、７０℃で６時間撹
拌した。反応液のキラルカラムを用いたＨＰＬＣによる
分析の結果、還元体の化学収率は１００％であった。得
られた２−（６−メトキシ−２−テトラリン）−１−
（１−ピロリジニル）−１−エタノンの光学異性体の混
合物において各光学異性体の生成比は９７．７２（１
８．１ｍｉｎ）：２．２８（２３．０ｍｉｎ）であっ
た。かっこ内の時間は、各光学異性体の溶離時間を示
す。 不斉収率（９５．４％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＤ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝９７．５／２．５ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ
−イル）−１−（１−ピロリジニル）−１−エタノン
（２９３mg，１．０８mmol）とＲｕ2Ｃｌ4［（Ｓ）−Ｂ
ＩＮＡＰ］2ＮＥｔ3（１７mg，０．０１mmol）に脱気し
たエタノール（７０ml）を加えた溶液をオートクレーブ
に移し、水素圧１００ｋｇ／ｃｍ2、７０℃で６時間撹
拌した。反応液のキラルカラムを用いたＨＰＬＣによる
分析の結果、還元体の化学収率は１００％であった。得
られた２−（６−メトキシ−２−テトラリン）−１−
（１−ピロリジニル）−１−エタノンの光学異性体の混
合物において各光学異性体の生成比は９７．７２（１
８．１ｍｉｎ）：２．２８（２３．０ｍｉｎ）であっ
た。かっこ内の時間は、各光学異性体の溶離時間を示
す。 不斉収率（９５．４％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＤ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝９７．５／２．５ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ
【００７７】実施例１２ （６−メトキシ−２−テトラリン）酢酸
【化３５】 （６−メトキシ−３，４−ジヒドロナフタレン−２−イ
ル）酢酸（２２０mg,１mmol）とＲｕ2Ｃｌ4[(Ｒ)ＢＩＮ
ＡＰ]2ＮＥｔ3（１７mg, ０．０１mmol）に、脱気した
エタノール（７０ml）を加えた溶液をオートクレーブに
移し、水素圧１００ｋｇ／ｃｍ2、７０℃で６時間撹拌
した。反応液のキラルカラムを用いたＨＰＬＣによる分
析の結果、還元体の化学収率は８３．４％であった。得
られた（６−メトキシ−２−テトラリン）酢酸の光学異
性体の混合物において各光学異性体の生成比は９１．５
７（８．７９ｍｉｎ）：８．４３１（１２．３ｍｉｎ）
であった。かっこ内の時間は、各光学異性体の溶離時間
を示す。 不斉収率（８３．１％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫＡＳ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール／トリフルオロ酢酸＝９
５／５／０．１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ． 検出器：ＵＶ２２０ｎｍ 実施例１３ （＋）−［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−２−テ
トラリン］−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
ル）酢酸（２２０mg,１mmol）とＲｕ2Ｃｌ4[(Ｒ)ＢＩＮ
ＡＰ]2ＮＥｔ3（１７mg, ０．０１mmol）に、脱気した
エタノール（７０ml）を加えた溶液をオートクレーブに
移し、水素圧１００ｋｇ／ｃｍ2、７０℃で６時間撹拌
した。反応液のキラルカラムを用いたＨＰＬＣによる分
析の結果、還元体の化学収率は８３．４％であった。得
られた（６−メトキシ−２−テトラリン）酢酸の光学異
性体の混合物において各光学異性体の生成比は９１．５
７（８．７９ｍｉｎ）：８．４３１（１２．３ｍｉｎ）
であった。かっこ内の時間は、各光学異性体の溶離時間
を示す。 不斉収率（８３．１％ ｅ．ｅ．）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫＡＳ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール／トリフルオロ酢酸＝９
５／５／０．１ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ． 検出器：ＵＶ２２０ｎｍ 実施例１３ （＋）−［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−２−テ
トラリン］−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
【化３６】 ［６−（４−ビフェニリル）メトキシ−２−（３，４−
ジヒドロナフタレン）］−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド（５．０ｇ，１２．６mmol）とＲｕ2Ｃｌ4［（Ｓ）−
ＢＩＮＡＰ］2ＮＥｔ3（２１３mg，０．１２mmol）に脱
気したエタノール（７０ml）を加えた溶液をオートクレ
ーブに移し、水素圧１００ｋｇ／ｃｍ2、７０℃で６時
間撹拌した。キラルカラムを用いた高速液体クロマトグ
ラフィーによる分析の結果、光学活性な（＋）−［６−
（４−ビフェニリル）メトキシ−２−テトラリン］−
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドの不斉収率は９３．１％
ｅ．ｅ．、化学収率は８２．５％であった。反応液を濃
縮乾固し、残さをシリカゲルクロマトグラフィー（展開
溶媒：クロロホルム）で精製した。得られた結晶をメタ
ノールで洗浄して標題化合物（３．５ｇ）を得た。 融点：１１９−１２０℃． 旋光度：［α］D 25＝＋４０．４゜（ｃ＝１．００，ク
ロロホルム）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＤ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝８０／２０ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ． 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ 溶離時間；９．７９ｍｉｎ．
ジヒドロナフタレン）］−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド（５．０ｇ，１２．６mmol）とＲｕ2Ｃｌ4［（Ｓ）−
ＢＩＮＡＰ］2ＮＥｔ3（２１３mg，０．１２mmol）に脱
気したエタノール（７０ml）を加えた溶液をオートクレ
ーブに移し、水素圧１００ｋｇ／ｃｍ2、７０℃で６時
間撹拌した。キラルカラムを用いた高速液体クロマトグ
ラフィーによる分析の結果、光学活性な（＋）−［６−
（４−ビフェニリル）メトキシ−２−テトラリン］−
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドの不斉収率は９３．１％
ｅ．ｅ．、化学収率は８２．５％であった。反応液を濃
縮乾固し、残さをシリカゲルクロマトグラフィー（展開
溶媒：クロロホルム）で精製した。得られた結晶をメタ
ノールで洗浄して標題化合物（３．５ｇ）を得た。 融点：１１９−１２０℃． 旋光度：［α］D 25＝＋４０．４゜（ｃ＝１．００，ク
ロロホルム）． ＨＰＬＣ条件： カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬＯＤ（４．６×２５０ｍ
ｍ） 移動層：ヘキサン／エタノール＝８０／２０ 流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ． 検出器：ＵＶ２８０ｎｍ 溶離時間；９．７９ｍｉｎ．
【００７８】
【発明の効果】本発明の製造法によれば、縮合芳香族誘
導体の光学異性体を高純度、高収率かつ簡便な方法で、
効率よく工業的大量規模で製造することができる。
導体の光学異性体を高純度、高収率かつ簡便な方法で、
効率よく工業的大量規模で製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 43/23 Ｃ０７Ｃ 43/23 Ａ 59/72 59/72 231/12 231/12 Ｃ０７Ｄ 311/58 Ｃ０７Ｄ 311/58 313/08 313/08 // Ａ６１Ｋ 31/135 ＡＡＭ Ａ６１Ｋ 31/135 ＡＡＭ Ｃ０７Ｃ 215/64 Ｃ０７Ｃ 215/64 217/74 217/74 Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (8)
- 【請求項１】式 【化１】 〔式中、環Ａは置換基を有していてもよい芳香環、Ｘは
−(ＣＨ2)2−、−(ＣＨ2)3−、−Ｏ−(ＣＨ2)2−、−
Ｏ−ＣＨ2−、−ＮＲ1−ＣＨ2− または−ＮＲ1−(ＣＨ
2)2− (式中、Ｒ1は水素原子、アルキル、アルキルカ
ルボニルまたはアルコキシカルボニルを示す)、ｍは１
ないし３の整数、Ｔはヒドロキシまたはアシルをそれぞ
れ示す。ただし、式 【化２】 （式中の各記号は前記と同意義を示す）で表される環が
式 【化３】 （式中、Ｒa は水素原子、アミノ、アセチルアミノ、ｔ
−ブトキシカルボニルアミノまたはｐ−シアノベンゾイ
ルアミノ、Ｘa は Ｏ または ＣＨ2 を示す）で表され
る環、およびＴがカルボキシの場合、ｍは２または３で
ある。〕で表される化合物またはその塩を、遷移金属−
光学活性ホスフィン錯体存在下に不斉水素化反応に付す
ことを特徴とする式 【化４】 〔式中、＊は不斉炭素原子の位置、各記号は前記と同意
義をそれぞれ示す〕で表される化合物の光学異性体また
はその塩の製造法。 - 【請求項２】Ｘが −(ＣＨ2)2−、Ｔがアシル、および
環Ａが置換基を有していてもよいベンゼン環である請求
項１記載の製造法。 - 【請求項３】式（II）で表される化合物がＮ,Ｎ−ジメ
チル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジヒドロナフタ
レン）］アセトアミド、および式（I）で表される化合
物がＮ,Ｎ−ジメチル−（６−メトキシ−２−テトラリ
ン）アセトアミドである請求項１記載の製造法。 - 【請求項４】式（II）で表される化合物がＮ,Ｎ−ジエ
チル−［６−メトキシ−２−（３,４−ジヒドロナフタ
レン）］アセトアミド、および式（I）で表される化合
物がＮ,Ｎ−ジエチル−（６−メトキシ−２−テトラリ
ン）アセトアミドである請求項１記載の製造法。 - 【請求項５】遷移金属がルテニウム(Ｒｕ)である請求項
１記載の製造法。 - 【請求項６】光学活性ホスフィンが式 【化５】 〔式中、環Ｂはベンゼンまたはシクロヘキサン、Ｙは１
ないし３個のアルキルまたはアルコキシで置換されてい
てもよいフェニルをそれぞれ示す〕で表される化合物で
ある請求項１記載の製造法。 - 【請求項７】遷移金属−光学活性ホスフィン錯体が
（Ｒ）配置または（Ｓ）配置のビス[[２,２'−ビス(ジ
フェニルホスフィノ)−１,１'−ビナフチル]ジクロロル
テニウム]トリエチルアミンである請求項１記載の製造
法。 - 【請求項８】式 【化６】 〔式中、＊は不斉炭素原子の位置、環Ａ'はハロゲン、
ヒドロキシ、アルキル、アルコキシおよび置換基を有し
ていてもよいアラルキルオキシから選ばれる置換基を有
していてもよいベンゼン環、ｍ'は１または２、Ｒ2およ
びＲ3は同一または異なって水素原子またはアルキルを
それぞれ示す〕で表わされる化合物の光学異性体または
その塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20258398A JP4367982B2 (ja) | 1997-07-18 | 1998-07-17 | 光学異性体の製造法 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19349697 | 1997-07-18 | ||
| JP10-44768 | 1998-02-26 | ||
| JP4476898 | 1998-02-26 | ||
| JP9-193496 | 1998-02-26 | ||
| JP20258398A JP4367982B2 (ja) | 1997-07-18 | 1998-07-17 | 光学異性体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11310561A true JPH11310561A (ja) | 1999-11-09 |
| JP4367982B2 JP4367982B2 (ja) | 2009-11-18 |
Family
ID=27292017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20258398A Expired - Fee Related JP4367982B2 (ja) | 1997-07-18 | 1998-07-17 | 光学異性体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4367982B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001074756A1 (fr) * | 2000-04-03 | 2001-10-11 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Procede de production de derives d'amine |
| JP2001348366A (ja) * | 2000-04-03 | 2001-12-18 | Takeda Chem Ind Ltd | アミン誘導体の製造法 |
| WO2009110002A1 (en) * | 2008-03-05 | 2009-09-11 | Council Of Scientific & Industrial Research | Novel efflux pump inhibitors |
| US8691718B2 (en) | 2005-09-20 | 2014-04-08 | Takeda Pharmaceutical Company Limited | Diphosphine ligand and transition metal complex using the same |
-
1998
- 1998-07-17 JP JP20258398A patent/JP4367982B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001074756A1 (fr) * | 2000-04-03 | 2001-10-11 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Procede de production de derives d'amine |
| JP2001348366A (ja) * | 2000-04-03 | 2001-12-18 | Takeda Chem Ind Ltd | アミン誘導体の製造法 |
| US6784314B2 (en) * | 2000-04-03 | 2004-08-31 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Process for producing amine derivatives |
| CN100349872C (zh) * | 2000-04-03 | 2007-11-21 | 武田药品工业株式会社 | 制备胺衍生物的方法 |
| US8691718B2 (en) | 2005-09-20 | 2014-04-08 | Takeda Pharmaceutical Company Limited | Diphosphine ligand and transition metal complex using the same |
| US8981147B2 (en) | 2005-09-20 | 2015-03-17 | Takeda Pharmaceutical Company Limited | Diphosphine ligand and transition metal complex using the same |
| WO2009110002A1 (en) * | 2008-03-05 | 2009-09-11 | Council Of Scientific & Industrial Research | Novel efflux pump inhibitors |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4367982B2 (ja) | 2009-11-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| HU225960B1 (en) | Amine compounds, their production and use | |
| WO2001087293A1 (fr) | Inhibiteurs de la ?-secretase | |
| JP2008519797A (ja) | アザインドールカルボキシアミド類 | |
| JP2010500345A (ja) | バニロイド受容体ＴＲＰＶｌ関連障害の処置において有用なベンゾイミダゾール誘導体 | |
| WO2008102348A1 (en) | Alpha-halo- and alpha-alkyl-cyclopropylcarboxy compounds and uses thereof | |
| CN107880040A (zh) | 一种四氢β－咔啉类衍生物及其制备方法与用途 | |
| AU2010335216B2 (en) | New aminotetraline derivatives | |
| US7420070B2 (en) | Process for preparing optically active 2,3-dihydrobenzofuran compounds | |
| EP0781271B1 (en) | Benzocycloalkene compounds, their production and use | |
| JP4367982B2 (ja) | 光学異性体の製造法 | |
| EP1270545B1 (en) | Process for producing amine derivatives | |
| JP3868096B2 (ja) | アミン誘導体、その製造法および剤 | |
| JP2009256355A (ja) | ベンゾフラン誘導体の製造法 | |
| JP4081161B2 (ja) | 光学活性化合物の製造法 | |
| JP2002037731A (ja) | βセクレターゼ阻害剤 | |
| JP7431155B2 (ja) | テトラヒドロナフチルウレア誘導体の製造方法 | |
| JP3868354B2 (ja) | アミン誘導体、その製造法および剤 | |
| EP0749957A1 (en) | Aromatic hydroxamic acid compounds, their production and use | |
| JP4242940B2 (ja) | 光学活性アミン誘導体の製造法 | |
| JP4434558B2 (ja) | ベンゾフラン誘導体の製造法 | |
| JP5010069B2 (ja) | アミン誘導体の製造法 | |
| US20030216398A1 (en) | Soluble beta amyloid precursor protein secretion promoters | |
| JP2001048784A (ja) | ミトコンドリア機能賦活剤 | |
| JP2002265460A (ja) | 光学活性２，３−ジヒドロベンゾフラン化合物の製造法 | |
| WO1998055474A1 (fr) | Derives de 5-naphtalen-1-yl-1,3-dioxane, leur preparation et leur application en therapeutique |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20050615 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20081203 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20090526 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090717 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Effective date: 20090818 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090825 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120904 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 3 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120904 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 3 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120904 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120904 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130904 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130904 Year of fee payment: 4 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |