JPH1129584A - アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有クロロシランの製造方法 - Google Patents
アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有クロロシランの製造方法Info
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- -1 acryloxy Chemical group 0.000 title claims abstract description 46
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 title claims abstract description 14
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 9
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 14
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 6
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 241000233855 Orchidaceae Species 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 abstract description 25
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 abstract 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract 1
- 230000033444 hydroxylation Effects 0.000 abstract 1
- 238000005805 hydroxylation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 48
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 39
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 22
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- GBAQKTTVWCCNHH-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCOC(=O)C=C GBAQKTTVWCCNHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- DOGMJCPBZJUYGB-UHFFFAOYSA-N 3-trichlorosilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOGMJCPBZJUYGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 6
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 6
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 6
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSBJCQMIXISILC-UHFFFAOYSA-N 3-[chloro(dimethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCCOC(=O)C=C CSBJCQMIXISILC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 4
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 4
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNURKXXMYARGAY-UHFFFAOYSA-N 2,6-Di-tert-butyl-4-hydroxymethylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CO)=CC(C(C)(C)C)=C1O HNURKXXMYARGAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-5-ethyl-2-hydroxyphenyl)methyl]-4-ethylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC)=CC(CC=2C(=C(C=C(CC)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEPRPXBFZRAOGU-UHFFFAOYSA-N 3-trichlorosilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCCOC(=O)C=C LEPRPXBFZRAOGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 4-[[3,5-bis[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]-2,4,6-trimethylphenyl]methyl]-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC1=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C1CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNVPGBIHGALKRR-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(Cl)Cl GNVPGBIHGALKRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 2
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 2
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-Tetramethylpiperidine Substances CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IETZBBKUXMQBHX-UHFFFAOYSA-N 2,6-ditert-butyl-4-(dimethylaminomethylidene)cyclohexa-1,5-dien-1-ol Chemical compound CN(C)C=C1CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IETZBBKUXMQBHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDFARPRXWMDFQU-UHFFFAOYSA-N 2,6-ditert-butyl-4-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methylsulfanylmethyl]phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CSCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 UDFARPRXWMDFQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKQXCDUCLYWRHA-UHFFFAOYSA-N 3-[chloro(dimethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(C)Cl OKQXCDUCLYWRHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXKMQBOTKLTKOE-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(Cl)Cl QXKMQBOTKLTKOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005703 Trimethylamine hydrochloride Substances 0.000 description 1
- NSWGBUVHSQEDRN-UHFFFAOYSA-L acetonitrile;platinum(2+);dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Pt+2].CC#N.CC#N NSWGBUVHSQEDRN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000006136 alcoholysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUZYBYIOAZTMGC-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 UUZYBYIOAZTMGC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- LDKSTCHEYCNPDS-UHFFFAOYSA-L carbon monoxide;dichloroplatinum Chemical compound O=C=[Pt](Cl)(Cl)=C=O LDKSTCHEYCNPDS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOUQIAGHKFLHIA-UHFFFAOYSA-L copper;n,n-dimethylcarbamodithioate Chemical compound [Cu+2].CN(C)C([S-])=S.CN(C)C([S-])=S ZOUQIAGHKFLHIA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 description 1
- VVAOPCKKNIUEEU-PHFPKPIQSA-L dichloro(cycloocta-1,5-diene)platinum(ii) Chemical compound Cl[Pt]Cl.C\1C\C=C/CC\C=C/1 VVAOPCKKNIUEEU-PHFPKPIQSA-L 0.000 description 1
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M methyltrioctylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DNJDQMRARVPSHZ-UHFFFAOYSA-N n,n,n',n'-tetrabutylethane-1,2-diamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCN(CCCC)CCCC DNJDQMRARVPSHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIXSDMKDSYXUMJ-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylcyclohexanamine Chemical compound CCN(CC)C1CCCCC1 CIXSDMKDSYXUMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N oxoplatinum Chemical compound [Pt]=O MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)C DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M tetrapropylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FBEVECUEMUUFKM-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC FBEVECUEMUUFKM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KLBOFRLEHJAXIU-UHFFFAOYSA-N tributylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCCCN(CCCC)CCCC KLBOFRLEHJAXIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZYJELPVAFJOGJ-UHFFFAOYSA-N trimethylamine hydrochloride Chemical compound Cl.CN(C)C SZYJELPVAFJOGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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Abstract
nは1〜3の整数である。)で示されるヒドロクロロシ
ランとアリルアクリレート又はアリルメタクリレートと
を、白金族触媒及び補触媒として3級アミンもしくはそ
の塩酸塩又は4級アンモニウム塩の存在下でヒドロシリ
ル化反応せしめることを特徴とする下記一般式(I) CH2=CR1COOCH2CH2CH2SiClnR2 3-n (I) (式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2及びn
は上記と同じ意味を示す。)で示されるアクリロキシ基
又はメタクリロキシ基含有クロロシランの製造方法。 【効果】 本発明により、従来から問題であった副反応
を十分に抑制できることから、従来よりも高純度・高収
率で目的のアクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有ク
ロロシランを得ることができる。
Description
グ剤やケイ素含有ポリマーを得るための重合性モノマー
などとして産業上広く用いられているアクリロキシ基又
はメタクリロキシ基含有アルコキシシランの原料となる
アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有クロロシラン
の製造方法に関する。
般式(I)で示されるアクリロキシ基又はメタクリロキ
シ基含有クロロシランは、重合性官能基のアクリロキシ
基又はメタクリロキシ基を構造中に有することを特徴と
し、シランカップリング剤やケイ素含有ポリマーを得る
ための重合性モノマーなどとして産業上広く用いられて
いるアクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有アルコキ
シシランの原料として有用である。
6の1価炭化水素基を示し、nは1〜3の整数であ
る。)
般的には、下記一般式(II) H SiClnR2 3-n (II) (式中、R2及びnは上記と同じ意味を示す。)で示さ
れるヒドロクロロシラン及びアリルアクリレート又はア
リルメタクリレートとを、白金族触媒の存在下で、ヒド
ロシリル化反応せしめることにより合成されるが、同反
応はヒドロクロロシランが不飽和結合に付加するという
特徴の反応であり、反応原料であるアリルアクリレート
又はアリルメタクリレートが共に2種類の不飽和結合を
有しているため、両者の競争反応となってしまうことか
ら、目的以外の不飽和結合に付加するという望ましくな
い副反応が生じるという問題が従来から知られていた。
同反応においては、通常は目的の一般式(I)の化合物
が生成する反応、即ちアリル基の不飽和結合にヒドロク
ロロシランが付加する反応が優勢に起こるが、もう一方
の不飽和結合、即ちカルボニル基に結合する重合性の不
飽和結合にも少なからずヒドロクロロシランが付加して
しまう副反応が生じる。この副反応では、目的物の異性
体の生成、更には目的物に更に付加してしまうビス付加
体の生成が起こってしまう。前者の異性体は分子量が目
的物と全く同じで沸点も近く、蒸留等の操作では目的物
と分離し難いため目的物の高純度化を困難としていた。
一方、異性体は重合性をもたないため、重合性用途にお
いては反応率の低下を招き、またビス付加体の生成は目
的物の収量に制限を加えるという問題があった。
示すが、両者にはそれぞれ更に異性体が存在するため、
以下、本文中の記載においては、いずれも両異性体を区
別せず、総和の形で表わすものとする。
リロキシ基含有クロロシランの製造方法における上記副
反応を抑制する手段についてはこれまで何ら知られてお
らず、目的物の高純度化及び収量増加のために、上記問
題を解決する手段が切望されていた。
もので、上記副反応を抑制して上記式(I)のアクリロ
キシ基又はメタクリロキシ基含有クロロシランを製造す
る方法を提供することを目的とする。
発明者らは前記の課題を解決するため鋭意検討を行った
結果、3級アミンもしくは3級アミンの塩酸塩もしくは
4級アンモニウム塩の中から選ばれる少なくとも一つの
化合物を補触媒として存在させて、下記一般式(II)
で示されるヒドロクロロシランとアリルアクリレート又
はアリルメタクリレートとを、白金族触媒の存在下でヒ
ドロキシシリル化反応せしめることにより、下記一般式
(I)で示されるアクリロキシ基又はメタクリロキシ基
含有クロロシランを製造すると、全く驚くべきことにこ
れまで何ら抑制することができなかった副反応、即ちヒ
ドロクロロシランが反応原料及び目的物のカルボニル基
に結合する重合性の不飽和結合に付加する反応を十分に
抑制できる効果が得られることを見出し、本発明をなす
に至ったものである。
nは1〜3の整数である。)で示されるヒドロクロロシ
ランとアリルアクリレート又はアリルメタクリレートと
を、白金族触媒及び補触媒として3級アミンもしくはそ
の塩酸塩又は4級アンモニウム塩の存在下でヒドロシリ
ル化反応せしめることを特徴とする下記一般式(I)で
示されるアクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有クロ
ロシランの製造方法を提供する。
は上記と同じ意味を示す。)
本発明の上記一般式(I)で示されるアクリロキシ基又
はメタクリロキシ基含有クロロシランの製造方法は、下
記一般式(II) H SiClnR2 3-n (II) で示されるヒドロクロロシランとアリルアクリレート又
はアリルメタクリレートとをヒドロシリル化反応させる
ものである。
数1〜6の1価炭化水素基であり、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等
のアルキル基などが挙げられ、特にはメチル基が好まし
い。なお、nは1、2又は3であり、ヒドロクロロシラ
ンとして具体的には、トリクロロシラン、メチルジクロ
ロシラン、ジメチルクロロシランなどが例示される。
リルアクリレート又はアリルメタクリレートとをヒドロ
シリル化反応させて得られるアクリロキシ基又はメタク
リロキシ基含有クロロシランは、一般式(I)で示され
るものであるが、具体的には3−メタクリロキシプロピ
ルトリクロロシラン、3−メタクリロキシプロピルメチ
ルジクロロシラン、3−メタクリロキシプロピルジメチ
ルクロロシラン、3−アクリロキシプロピルトリクロロ
シラン、3−アクリロキシプロピルメチルジクロロシラ
ン、3−アクリロキシプロピルジメチルクロロシラン等
が例示できる。
メタクリロキシ基含有クロロシランの製造方法では、ヒ
ドロクロロシランとアリルアクリレート又はアリルメタ
クリレートとは、モル比で0.5〜2.0、好ましくは
0.8〜1.2の量比で用いられる。
とアリルアクリレート又はアリルメタクリレートとのヒ
ドロシリル化反応は、白金族触媒及び補触媒の存在下に
行う。
て、ヒドロシリル化反応に従来公知のものはいずれを用
いてもかまわないが、具体的には下記のものを例示でき
る。即ち、塩化白金酸、塩化白金酸六水和物、Spei
erの白金触媒(即ち、塩化白金酸のアルコール溶
液)、Karstedtの白金触媒(即ち、塩化白金酸
とsym−ジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯
体)、塩化白金酸のTHF溶液、担持された白金触媒
(白金活性炭、白金アルミナなど)、ジクロロ(1,5
−シクロオクタジエン)白金(II)、ジクロロジエチ
レン白金(II)、ジクロロビス(アセトニトリル)白
金(II)、ジカルボニルジクロロ白金(II)、酸化
白金などを用いることができる。
てアリルアクリレート又はアリルメタクリレート1モル
に対して通常1×10-7〜1×10-3モル、好ましくは
1×10-6〜1×10-4モルの量で用いられる。
ン、3級アミンの塩酸塩、及び4級アンモニウム塩の中
から選ばれる少なくとも一つの化合物であり、具体的に
下記のものを例示することができる。
トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルア
ミン、テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチレン
トリアミン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ピ
リジン、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデ
セン−7(DBU)、N−メチル−1,1,5,5−テ
トラメチルピペリジン、ジエチルアミノエチルメタクリ
レート、ジエチルアミノシクロヘキサンなどが挙げられ
る。
アミン塩酸塩、トリエチルアミン塩酸塩、トリブチルア
ミン塩酸塩のほか上記3級アミンの塩酸塩などが挙げら
れる。
ルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブ
ロミド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラエ
チルアンモニウムブロミド、テトラプロピルアンモニウ
ムクロリド、テトラプロピルアンモニウムブロミド、テ
トラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモ
ニウムブロミド、トリメチルベンジルアンモニウムクロ
リド、トリメチルベンジルアンモニウムブロミド、トリ
オクチルメチルクロリド、テトラブチルアンモニウムヨ
ーダイドなどが挙げられる。
2種以上を組み合わせて使用することができる。これら
の使用量は、反応原料であるアリルアクリレート又はア
リルメタクリレート1重量部当たり1×10-6〜10重
量%の範囲が好ましいが、特に制限はなく、一般式(I
I)で示されるヒドロクロロシランの種類、アリルアク
リレート又はアリルメタクリレートの選択、白金族触媒
の種類と量、反応温度、溶媒の有無などの要素の組み合
わせにより適正条件が種々異なることから、使用にあた
っては、上記要素の組み合わせに応じた適正添加量を任
意に選択すればよい。
てもよいが、反応溶媒を用いる場合、反応溶媒としては
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリ
ンなどの芳香族化合物、ヘキサン、イソオクタン、デカ
ン、ヘプタンなどの脂肪族化合物、THFなどのエーテ
ル化合物を例示することができる。
害しないならば、従来公知の重合禁止剤を反応時に存在
させてもかまわない。
ノンモノメチルエーテルなどのフェノール性化合物、
2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−
6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビ
ス(6−t−ブチル−m−クレゾール)、1,3,5−
トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
イソシアヌレイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)スルフィド、2,6−ジ−t−ブチ
ル−4−ジメチルアミノメチレンフェノール、2,6−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシメチルフェノール、2
−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ
−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレ
ート、t−ブチルカテコールなどのヒンダードフェノー
ル系化合物、フェノチアジンなどが挙げられる。これら
の添加量には特に制限はなく、一般式(I)で示される
化合物に対して重量基準で1ppm〜10重量%の範囲
で1種を単独で又は2種以上を組み合わせて添加するこ
とができる。
温度は20〜150℃、好ましくは40〜120℃であ
る。また、圧力には制限はなく、常圧でも加圧でもかま
わない。雰囲気は、窒素雰囲気であっても、酸素(空
気)を吹き込んだ条件であってもかまわない。
る態様には特に制限はなく、バッチ反応として、半連続
反応として、あるいは連続反応として行うことができ
る。また、本発明では、反応原料、白金族触媒、補触
媒、重合禁止剤の添加順序に特に制限はなく、アリルア
クリレート又はアリルメタクリレートとヒドロクロロシ
ランとを同時に添加することもかまわないが、バッチ法
により合成される場合には、より好ましくは重合禁止剤
→反応原料(アリルアクリレート又はアリルメタクリレ
ート)→白金族触媒→補触媒→反応原料(ヒドロクロロ
シラン)の順序で添加することが推奨される。
化合物は、次いで連続式で、または塩酸キャッチャーと
しての塩基存在下に回分式でアルコールと反応させるこ
とにより、アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有ア
ルコキシシランに転化され、更に蒸留精製することによ
り、従来よりも高純度かつ高収率で最終目的のアクリロ
キシ基又はメタクリロキシ基含有アルコキシシランを得
ることができる。なお、アルコリシス反応や蒸留精製の
際には、従来公知の重合禁止剤を任意に選択して添加し
て行えばよい。具体的には上記したフェノール性化合物
やヒンダードフェノール系化合物、フェノチアジン、塩
化第一銅、塩化第二銅、酸化第一銅、酸化第二銅、ジメ
チルジチオカルバミン酸銅などの銅化合物やリンもしく
はイオウ含有化合物などが挙げられる。
反応を十分に抑制できることから、従来よりも高純度・
高収率で目的のアクリロキシ基又はメタクリロキシ基含
有クロロシランを得ることができる。
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。
凝縮器、撹拌機、温度計を備えた200mlの四つ口フ
ラスコを十分窒素置換した。次いで、アリルアクリレー
ト49.4g(0.44mol)、ハイドロキノン0.
05g(アリルアクリレートに対して1000pp
m)、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.12g
(アリルアクリレートに対して2500ppm)、塩化
白金(VI)酸の2−エチルヘキサノール溶液0.08
6g(Pt9×10-6molを含む)及びトリブチルア
ミン0.025g(アリルアクリレートに対して500
ppm)を仕込み、凝縮器の通気口に窒素通気をしつ
つ、50℃までフラスコの内容物を加熱した。次いで、
メチルジクロロシラン50.6g(0.44mol)を
液中にフィードした。滴下開始後直ちに鋭敏な発熱が観
察され、ヒドロシリル化反応がスムースに開始したこと
が確認された。その後、反応温度を50〜60℃に維持
するように滴下速度や熱媒による調整をしながら、7〜
8時間かけて全量を滴下した。滴下終了後、混合物を5
0〜60℃で1時間熟成した。その後、室温まで冷却
し、ガスクロマトグラフィーで組成を調べると、異性体
はトレース量、3−アクリロキシプロピルメチルジクロ
ロシランは82.09%、ビス付加体は2.40%であ
り、副反応が極めて抑制されていた。
い以外は実施例1と同様に反応を行ったところ、反応が
転化率約70%で失活してしまい、かつガスクロマトグ
ラフィーで組成を調べると、異性体は5.64%、3−
アクリロキシプロピルメチルジクロロシランは53.7
2%、ビス付加体は5.66%であり、目的物に対して
副反応がかなりの割合で生じていた。
0.1g(アリルアクリレートに対して2000pp
m)とした以外は実施例1と同様に反応を行ったとこ
ろ、ガスクロマトグラフィーで組成を調べると、異性体
はトレース量、3−アクリロキシプロピルメチルジクロ
ロシランは84.70%、ビス付加体は2.26%であ
り、副反応が極めて抑制されていた。
チルエチレンジアミンとした以外は、実施例2と同様に
反応を行ったところ、ガスクロマトグラフィーで組成を
調べると、異性体はトレース量、3−アクリロキシプロ
ピルメチルジクロロシランは82.70%、ビス付加体
は5.88%であり、副反応が極めて抑制されていた。
ルアミンとした以外は、実施例2と同様に反応を行った
ところ、ガスクロマトグラフィーで組成を調べると、異
性体は0.31%、3−アクリロキシプロピルメチルジ
クロロシランは79.33%、ビス付加体は5.70%
であり、副反応が極めて抑制されていた。
凝縮器、撹拌機、温度計を備えた3Lの四つ口フラスコ
を十分窒素置換した。次いで、アリルアクリレート50
4.9g(4.5mol)、ハイドロキノン0.50g
(アリルアクリレートに対して1000ppm)、ハイ
ドロキノンモノメチルエーテル1.26g(アリルアク
リレートに対して2500ppm)、塩化白金(VI)
酸の2−エチルヘキサノール溶液0.88g(Pt90
×10-6molを含む)及びトリブチルアミン2.52
g(アリルアクリレートに対して5000ppm)を仕
込み、凝縮器の通気口に窒素通気をしつつ、30℃まで
フラスコの内容物を加熱した。次いで、メチルジクロロ
シラン569.3g(4.95mol)を液中にフィー
ドした。滴下開始後直ちに発熱が観察され、ヒドロシリ
ル化反応が開始したことが確認された。その後、反応温
度を30〜40℃に維持するように滴下速度や熱媒によ
る調整をしながら、5.7時間かけて全量を滴下した。
滴下終了後、混合物を30〜40℃で3時間熟成した。
その後、室温まで冷却し、ガスクロマトグラフィーで組
成を調べると、異性体はトレース量、3−アクリロキシ
プロピルメチルジクロロシランは87.84%、ビス付
加体は2.15%であり、副反応が極めて抑制されてい
た。
凝縮器、撹拌機、温度計を備えた200mlの四つ口フ
ラスコを十分窒素置換した。次いで、アリルアクリレー
ト49.4g(0.44mol)、2,2’−メチレン
ビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)0.1
5g(アリルアクリレートに対して3000ppm)、
1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン
0.15g(アリルアクリレートに対して3000pp
m)、塩化白金(VI)酸の2−エチルヘキサノール溶
液0.086g(Pt9×10-6molを含む)及びト
リエチルアミン塩酸塩0.1g(アリルアクリレートに
対して2000ppm)を仕込み、凝縮器の通気口に窒
素通気をしつつ、50℃までフラスコの内容物を加熱し
た。次いで、メチルジクロロシラン50.6g(0.4
4mol)を液中にフィードした。滴下開始後直ちに鋭
敏な発熱が観察され、ヒドロシリル化反応がスムースに
開始したことが確認された。その後、反応温度を50〜
60℃に維持するように滴下速度や熱媒による調整をし
ながら、3〜4時間かけて全量を滴下した。滴下終了
後、混合物を50〜60℃で1時間熟成した。その後、
室温まで冷却し、ガスクロマトグラフィーで組成を調べ
ると、異性体は0.30%、3−アクリロキシプロピル
メチルジクロロシランは78.48%、ビス付加体は
5.43%であり、副反応が極めて抑制されていた。
トラブチルアンモニウムブロミドとした以外は、実施例
6と同様に反応を行ったところ、ガスクロマトグラフィ
ーで組成を調べると、異性体は0.34%、3−アクリ
ロキシプロピルメチルジクロロシランは84.04%、
ビス付加体は3.00%であり、副反応が極めて抑制さ
れていた。
リオクチルメチルアンモニウムクロライドとした以外
は、実施例6と同様に反応を行ったところ、ガスクロマ
トグラフィーで組成を調べると、異性体は0.64%、
3−アクリロキシプロピルメチルジクロロシランは8
1.05%、ビス付加体は5.34%であり、副反応が
極めて抑制されていた。
1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン−7
(DBU)とした以外は、実施例6と同様に反応を行っ
たところ、ガスクロマトグラフィーで組成を調べると、
異性体は0.12%、3−アクリロキシプロピルメチル
ジクロロシランは81.13%、ビス付加体は5.55
%であり、副反応が極めて抑制されていた。
冷凝縮器、撹拌機、温度計を備えた100mlの四つ口
フラスコを十分窒素置換した。次いで、アリルアクリレ
ート22.4g(0.20mol)、ハイドロキノン
0.022g(アリルアクリレートに対して1000p
pm)、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.056
g(アリルアクリレートに対して2500ppm)、塩
化白金(VI)酸の2−エチルヘキサノール溶液0.1
g(Pt10×10-6molを含む)及びトリオクチル
アミン1.8g(アリルアクリレートに対して8重量
%)を仕込み、凝縮器の通気口に窒素通気をしつつ、5
0℃までフラスコの内容物を加熱した。次いで、ジメチ
ルクロロシラン19.9g(0.17mol)を液中に
フィードした。滴下開始後直ちに発熱が観察され、ヒド
ロシリル化反応が開始したことが確認された。その後、
反応温度を50〜60℃に維持するように滴下速度や熱
媒による調整をしながら、5時間かけて全量を滴下し
た。滴下終了後、混合物を50〜60℃で3時間熟成し
た。その後、室温まで冷却し、ガスクロマトグラフィー
で組成を調べると、異性体は4.15%、3−アクリロ
キシプロピルジメチルクロロシランは56.08%、ビ
ス付加体は4.38%であり、副反応が極めて抑制され
ていた。
ブチルアミンとした以外は、実施例10と同様に反応を
行ったところ、ガスクロマトグラフィーで組成を調べる
と、異性体は7.93%、3−アクリロキシプロピルジ
メチルクロロシランは39.13%、ビス付加体は8.
85%であり、副反応が極めて抑制されていた。
ない以外は実施例10と同様に反応を行ったところ、ガ
スクロマトグラフィーで組成を調べると、異性体は1
3.86%、3−アクリロキシプロピルジメチルクロロ
シランは33.28%、ビス付加体は16.55%であ
り、目的物に対して副反応がかなりの割合で生じてい
た。
冷凝縮器、撹拌機、温度計を備えた300mlの四つ口
フラスコを十分窒素置換した。次いで、アリルアクリレ
ート112.0g(1.0mol)、ハイドロキノン
0.11g(アリルアクリレートに対して1000pp
m)、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.28g
(アリルアクリレートに対して2500ppm)、塩化
白金(VI)酸の2−エチルヘキサノール溶液0.20
g(Pt20×10-6molを含む)及びトリブチルア
ミン0.0028g(アリルアクリレートに対して25
ppm)を仕込み、凝縮器の通気口に窒素通気をしつ
つ、80℃までフラスコの内容物を加熱した。次いで、
トリクロロシラン138.2g(1.02mol)を液
中にフィードした。滴下開始後直ちに鋭敏な発熱が観察
され、ヒドロシリル化反応がスムースに開始したことが
確認された。その後、反応温度を80〜90℃に維持す
るように滴下速度や熱媒による調整をしながら、4時間
かけて全量を滴下した。滴下終了後、混合物を80〜9
0℃で2時間熟成した。その後、室温まで冷却し、ガス
クロマトグラフィーで組成を調べると、異性体はゼロ、
3−アクリロキシプロピルトリクロロシランは86.2
7%、ビス付加体は5.09%であり、副反応が極めて
抑制されていた。
冷凝縮器、撹拌機、温度計を備えた300mlの四つ口
フラスコを十分窒素置換した。次いで、アリルメタクリ
レート126.2g(1.0mol)、ハイドロキノン
0.13g(アリルメタクリレートに対して1000p
pm)、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.32g
(アリルメタクリレートに対して2500ppm)、塩
化白金(VI)酸の2−エチルヘキサノール溶液0.0
5g(Pt5×10-6molを含む)及びトリブチルア
ミン0.01g(アリルメタクリレートに対して80p
pm)を仕込み、凝縮器の通気口に窒素通気をしつつ、
100℃までフラスコの内容物を加熱した。次いで、ト
リクロロシラン135.5g(1.0mol)を液中に
フィードした。滴下開始後直ちに鋭敏な発熱が観察さ
れ、ヒドロシリル化反応がスムースに開始したことが確
認された。その後、反応温度を100〜110℃に維持
するように滴下速度や熱媒による調整をしながら、3時
間かけて全量を滴下した。滴下終了後、混合物を100
〜110℃で2.5時間熟成した。その後、室温まで冷
却し、ガスクロマトグラフィーで組成を調べると、異性
体はゼロ、3−メタクリロキシプロピルトリクロロシラ
ンは94.56%、ビス付加体はゼロであり、副反応が
極めて抑制されていた。
い以外は実施例13と同様に反応を行ったところ、ガス
クロマトグラフィーで組成を調べると、異性体は1.2
3%、3−メタクリロキシプロピルトリクロロシランは
88.61%、ビス付加体は1.59%であり、目的物
に対して副反応がかなりの割合で生じていた。
冷凝縮器、撹拌機、温度計を備えた300mlの四つ口
フラスコを十分窒素置換した。次いで、アリルメタクリ
レート126.2g(1.0mol)、ハイドロキノン
0.13g(アリルメタクリレートに対して1000p
pm)、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.32g
(アリルメタクリレートに対して2500ppm)、塩
化白金(VI)酸の2−エチルヘキサノール溶液0.1
8g(Pt18×10-6molを含む)及びトリエチル
アミン0.01g(アリルメタクリレートに対して80
ppm)を仕込み、凝縮器の通気口に窒素通気をしつ
つ、110℃までフラスコの内容物を加熱した。次い
で、トリクロロシラン135.5g(1.0mol)を
液中にフィードした。滴下開始後直ちに鋭敏な発熱が観
察され、ヒドロシリル化反応がスムースに開始したこと
が確認された。その後、反応温度を110〜120℃に
維持するように滴下速度や熱媒による調整をしながら、
3〜4時間かけて全量を滴下した。滴下終了後、混合物
を110〜120℃で1〜2時間熟成した。その後、室
温まで冷却し、ガスクロマトグラフィーで組成を調べる
と、異性体はゼロ、3−メタクリロキシプロピルトリク
ロロシランは95.52%、ビス付加体はゼロであり、
副反応が極めて抑制されていた。
い以外は実施例14と同様に反応を行ったところ、ガス
クロマトグラフィーで組成を調べると、異性体は2.4
1%、3−メタクリロキシプロピルトリクロロシランは
86.80%、ビス付加体は1.91%であり、目的物
に対して副反応がかなりの割合で生じていた。
冷凝縮器、撹拌機、温度計を備えた100mlの四つ口
フラスコを十分窒素置換した。次いで、アリルメタクリ
レート31.9g(0.253mol)、ハイドロキノ
ン0.03g(アリルメタクリレートに対して1000
ppm)、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.08
g(アリルメタクリレートに対して2500ppm)、
塩化白金(VI)酸の2−エチルヘキサノール溶液0.
12g(Pt12×10-6molを含む)及びトリエチ
ルアミン0.016g(アリルメタクリレートに対して
500ppm)を仕込み、凝縮器の通気口に窒素通気を
しつつ、80℃までフラスコの内容物を加熱した。次い
で、トリクロロシラン34.4g(0.254mol)
を液中にフィードした。滴下開始後直ちに発熱が観察さ
れ、ヒドロシリル化反応が開始したことが確認された。
その後、反応温度を80〜90℃に維持するように滴下
速度や熱媒による調整をしながら、2時間かけて全量を
滴下した。滴下終了後、混合物を80〜90℃で2時間
熟成した。その後、室温まで冷却し、ガスクロマトグラ
フィーで組成を調べると、異性体はゼロ、3−メタクリ
ロキシプロピルトリクロロシランは95.13%、ビス
付加体はゼロであり、副反応が極めて抑制されていた。
チルアミンとした以外は、実施例15と同様に反応を行
ったところ、ガスクロマトグラフィーで組成を調べる
と、異性体はゼロ、3−メタクリロキシプロピルトリク
ロロシランは91.97%、ビス付加体はゼロであり、
副反応が極めて抑制されていた。
い以外は実施例15と同様に反応を行ったところ、ガス
クロマトグラフィーで組成を調べると、異性体は3.2
7%、3−メタクリロキシプロピルトリクロロシランは
69.31%、ビス付加体は4.64%であり、目的物
に対して副反応がかなりの割合で生じていた。
ニルフォスフィンとした以外は実施例15と同様に反応
を行ったところ、反応が全く進行せず、原料が回収され
ただけであった。
冷凝縮器、撹拌機、温度計を備えた1000mlの四つ
口フラスコを十分窒素置換した。次いで、アリルメタク
リレート212.5g(1.684mol)、2,6−
ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール0.21g(ア
リルメタクリレートに対して1000ppm)、1,
3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン0.
42g(アリルメタクリレートに対して2000pp
m)、塩化白金(VI)酸のイソプロパノール溶液0.
80g(Pt80×10-6molを含む)及びトリエチ
ルアミン塩酸塩0.11g(アリルメタクリレートに対
して500ppm)を仕込み、凝縮器の通気口に窒素通
気をしつつ、90℃までフラスコの内容物を加熱した。
次いで、トリクロロシラン229.3g(1.692m
ol)を液中にフィードした。滴下開始後直ちに発熱が
観察され、ヒドロシリル化反応が開始したことが確認さ
れた。その後、反応温度を90〜100℃に維持するよ
うに滴下速度や熱媒による調整をしながら、3時間かけ
て全量を滴下した。滴下終了後、混合物を90〜100
℃で3時間熟成した。その後、室温まで冷却し、ガスク
ロマトグラフィーで組成を調べると、異性体はゼロ、3
−メタクリロキシプロピルトリクロロシランは94.9
2%、ビス付加体はゼロであり、副反応が極めて抑制さ
れていた。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(II) H SiClnR2 3-n (II) (式中、R2は炭素数1〜6の1価炭化水素基を示し、
nは1〜3の整数である。)で示されるヒドロクロロシ
ランとアリルアクリレート又はアリルメタクリレートと
を、白金族触媒及び補触媒として3級アミンもしくはそ
の塩酸塩又は4級アンモニウム塩の存在下でヒドロシリ
ル化反応せしめることを特徴とする下記一般式(I) 【化1】 (式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2及びn
は上記と同じ意味を示す。)で示されるアクリロキシ基
又はメタクリロキシ基含有クロロシランの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20385397A JP3555646B2 (ja) | 1997-07-14 | 1997-07-14 | アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有クロロシランの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20385397A JP3555646B2 (ja) | 1997-07-14 | 1997-07-14 | アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有クロロシランの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1129584A true JPH1129584A (ja) | 1999-02-02 |
JP3555646B2 JP3555646B2 (ja) | 2004-08-18 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country | Link |
---|---|
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1306381A1 (de) * | 2001-10-10 | 2003-05-02 | Degussa AG | Verfahren zur Hydrosilylierung ungesättigter aliphatischer Verbindungen |
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CN106542994A (zh) * | 2016-10-09 | 2017-03-29 | 烟台德邦先进硅材料有限公司 | 一种丙烯酸烯丙酯的合成方法 |
JP2021075476A (ja) * | 2019-11-07 | 2021-05-20 | 信越化学工業株式会社 | アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を有する有機ケイ素化合物の製造方法 |
KR20220148112A (ko) | 2021-04-28 | 2022-11-04 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 할로실란 화합물의 제조 방법 |
-
1997
- 1997-07-14 JP JP20385397A patent/JP3555646B2/ja not_active Expired - Fee Related
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US9156864B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
US9163037B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-10-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
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