JPH1129511A - ３，５−ジメチルフェノールの製造方法 - Google Patents
３，５−ジメチルフェノールの製造方法Info
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- JPH1129511A JPH1129511A JP10137663A JP13766398A JPH1129511A JP H1129511 A JPH1129511 A JP H1129511A JP 10137663 A JP10137663 A JP 10137663A JP 13766398 A JP13766398 A JP 13766398A JP H1129511 A JPH1129511 A JP H1129511A
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- dimethylphenol
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 長い反応器運転時間、低い残留イソホロン量
（３％未満）、それに関連するより高い３，５−ジメチ
ルフェノールの収率、及び触媒使用量の減少を可能とす
る３，５−ジメチルフェノールの製造方法を提供する。 【解決手段】 金属又は合金を含む触媒の存在下で、気
相中にて、イソホロンの触媒的ジメチル化により、３，
５−ジメチルフェノールを製造する方法であって、イソ
ホロン含有プロセス流を、前記触媒を含む反応領域に案
内し、前記触媒の反応性が反応領域中で変化し、そして
前記プロセス流の温度が前記反応領域間で温度調整され
ている、前記の製造方法。
（３％未満）、それに関連するより高い３，５−ジメチ
ルフェノールの収率、及び触媒使用量の減少を可能とす
る３，５−ジメチルフェノールの製造方法を提供する。 【解決手段】 金属又は合金を含む触媒の存在下で、気
相中にて、イソホロンの触媒的ジメチル化により、３，
５−ジメチルフェノールを製造する方法であって、イソ
ホロン含有プロセス流を、前記触媒を含む反応領域に案
内し、前記触媒の反応性が反応領域中で変化し、そして
前記プロセス流の温度が前記反応領域間で温度調整され
ている、前記の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属触媒の存在下
での気相中でのイソホロンの触媒的ジメチル化（ｃａｔ
ａｌｙｔｉｃ ｄｉｍｅｔｈｙｌａｔｉｏｎ）による
３，５−ジメチルフェノールの製造方法に関する。
での気相中でのイソホロンの触媒的ジメチル化（ｃａｔ
ａｌｙｔｉｃ ｄｉｍｅｔｈｙｌａｔｉｏｎ）による
３，５−ジメチルフェノールの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】前記の方法に相当する方法が、ドイツ連
邦共和国ＤＥ１７６８８７５Ｂ１号公報に記載されてお
り、その方法では、約１３５秒の接触時間の後で粗生成
物中に残留イソホロン４〜１７％が見られる。実験室反
応器におけるその最長運転時間は、１３５時間であっ
た。前記特許公報記載の方法を、循環ガス加熱−管状反
応器を用いて大規模にした場合には、４１秒という比較
的短い接触時間でのみ、１５００〜２０００時間という
長い反応器運転時間を達成することできることが示され
ている。前記触媒上の炭素形成による反応器運転時間の
更なる短縮を回避するには、新鮮な触媒を用いる必要が
ある。供給速度を４５０リットル／時間にし、反応温度
を５５０℃にし、そして圧力を１０バールにする場合に
は、粗生成物中の残留イソホロンは約９％である。
邦共和国ＤＥ１７６８８７５Ｂ１号公報に記載されてお
り、その方法では、約１３５秒の接触時間の後で粗生成
物中に残留イソホロン４〜１７％が見られる。実験室反
応器におけるその最長運転時間は、１３５時間であっ
た。前記特許公報記載の方法を、循環ガス加熱−管状反
応器を用いて大規模にした場合には、４１秒という比較
的短い接触時間でのみ、１５００〜２０００時間という
長い反応器運転時間を達成することできることが示され
ている。前記触媒上の炭素形成による反応器運転時間の
更なる短縮を回避するには、新鮮な触媒を用いる必要が
ある。供給速度を４５０リットル／時間にし、反応温度
を５５０℃にし、そして圧力を１０バールにする場合に
は、粗生成物中の残留イソホロンは約９％である。
【０００３】粗生成物中のイソホロン濃度が前記のよう
に高い点は、その粗製３，５−ジメチルフェノールを、
更なる工程において、結晶化によって精製する場合に、
非常に不利であることが分かる。前記のイソホロンを母
液中に通過させ、母液を精留して、それらの中に含まれ
る３，５−ジメチルフェノールを得る。イソホロン及び
３，５−ジメチルフェノールは共沸混合物を形成するの
で、イソホロンの存在は、蒸留の収率を低下させる。収
率の低下を回避するためには、３，５−ジメチルフェノ
ール／イソホロン画分に特別な処理を行う必要がある。
リーチング（浸出）及び蒸留の後に、３，５−ジメチル
フェノールが９６％の純度で得られる。この方法による
３，５−ジメチルフェノールの収率は、イソホロンの使
用量に対して５５〜６０％の間で変化する。
に高い点は、その粗製３，５−ジメチルフェノールを、
更なる工程において、結晶化によって精製する場合に、
非常に不利であることが分かる。前記のイソホロンを母
液中に通過させ、母液を精留して、それらの中に含まれ
る３，５−ジメチルフェノールを得る。イソホロン及び
３，５−ジメチルフェノールは共沸混合物を形成するの
で、イソホロンの存在は、蒸留の収率を低下させる。収
率の低下を回避するためには、３，５−ジメチルフェノ
ール／イソホロン画分に特別な処理を行う必要がある。
リーチング（浸出）及び蒸留の後に、３，５−ジメチル
フェノールが９６％の純度で得られる。この方法による
３，５−ジメチルフェノールの収率は、イソホロンの使
用量に対して５５〜６０％の間で変化する。
【０００４】更に、何回も前記反応器中へ入れて使用し
た再生触媒の再利用は、問題を引き起こす。なぜなら、
例えば、表面領域の増加によって前記触媒の反応性が大
きく増加し、そのことによって工程の制御が困難になる
からである。
た再生触媒の再利用は、問題を引き起こす。なぜなら、
例えば、表面領域の増加によって前記触媒の反応性が大
きく増加し、そのことによって工程の制御が困難になる
からである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決すべき課
題は、長い反応器運転時間、低い残留イソホロン量（３
％未満）、それに関連するより高い３，５−ジメチルフ
ェノールの収率、及び触媒使用量の減少を可能とする方
法を提供することにある。
題は、長い反応器運転時間、低い残留イソホロン量（３
％未満）、それに関連するより高い３，５−ジメチルフ
ェノールの収率、及び触媒使用量の減少を可能とする方
法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記の課題は、触媒とし
ての金属又は合金の存在下で、気相中にて、イソホロン
の触媒的ジメチル化により、３，５−ジメチルフェノー
ルを製造する方法であって、イソホロン含有プロセス流
を、前記触媒を含む反応領域に案内し、前記触媒の反応
性が反応領域中で変化し、そして前記プロセス流の温度
が前記反応領域間で温度調整されている、前記の製造方
法により解決される。
ての金属又は合金の存在下で、気相中にて、イソホロン
の触媒的ジメチル化により、３，５−ジメチルフェノー
ルを製造する方法であって、イソホロン含有プロセス流
を、前記触媒を含む反応領域に案内し、前記触媒の反応
性が反応領域中で変化し、そして前記プロセス流の温度
が前記反応領域間で温度調整されている、前記の製造方
法により解決される。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明において、各反応領域中の
触媒の反応性が変化することは、反応器中の各反応領域
が、種々の活性度を有する触媒を含んでいることを意味
する。種々の程度の触媒反応性は、新鮮な触媒若しくは
使用済触媒、又はそれらの混合物を用いることによって
得ることができる。好ましい態様の一つでは、前記のプ
ロセス流は、順々に、新鮮な触媒、再生触媒、そしても
う一度新鮮な触媒に案内される。更に、再生触媒を含
み、冷却領域によって区切られている２つの反応領域
を、新鮮な触媒を含む反応領域の間に配置することがで
きる。
触媒の反応性が変化することは、反応器中の各反応領域
が、種々の活性度を有する触媒を含んでいることを意味
する。種々の程度の触媒反応性は、新鮮な触媒若しくは
使用済触媒、又はそれらの混合物を用いることによって
得ることができる。好ましい態様の一つでは、前記のプ
ロセス流は、順々に、新鮮な触媒、再生触媒、そしても
う一度新鮮な触媒に案内される。更に、再生触媒を含
み、冷却領域によって区切られている２つの反応領域
を、新鮮な触媒を含む反応領域の間に配置することがで
きる。
【０００８】前記のプロセス流は、触媒含有反応領域の
間において温度調整され、前記冷却領域中で反応熱を放
出する。冷却領域で化学反応を行わず、従って、最終生
成物含有プロセス流を更に加熱しないことによって温度
調整を達成することができる。
間において温度調整され、前記冷却領域中で反応熱を放
出する。冷却領域で化学反応を行わず、従って、最終生
成物含有プロセス流を更に加熱しないことによって温度
調整を達成することができる。
【０００９】前記の反応は、発熱反応である。反応器と
しては、循環ガスによって加熱することのできる管状反
応器を用いることが好ましい。前記の管状反応器に、触
媒充填領域と触媒不在領域とが交互になるように触媒を
充填する。適当な触媒は、金属触媒及び合金触媒、例え
ば鋼合金である。好ましい触媒は、クロム−ニッケル−
鋼合金、例えば、合金Ｘ１２ ＣｒＮｉ １８ ９（Ｄ
ＩＮ１７００６）である。本発明方法の反応温度は、好
ましくは４５０〜６００℃である。
しては、循環ガスによって加熱することのできる管状反
応器を用いることが好ましい。前記の管状反応器に、触
媒充填領域と触媒不在領域とが交互になるように触媒を
充填する。適当な触媒は、金属触媒及び合金触媒、例え
ば鋼合金である。好ましい触媒は、クロム−ニッケル−
鋼合金、例えば、合金Ｘ１２ ＣｒＮｉ １８ ９（Ｄ
ＩＮ１７００６）である。本発明方法の反応温度は、好
ましくは４５０〜６００℃である。
【００１０】本発明の方法によると、前記の粗生成物
は、残留イソホロンを１．５％しか含まない。これは、
従来法に対して収率において５％の改良に相当する。運
転時間は、２０００時間である。更に、何回か再生し、
新鮮な触媒の反応性よりも係数で１０以下で大きい反応
性を有する触媒は、運転時間を約６０％まで減少させる
という不利をもたらすことなく使用することができる。
これは、触媒消費に関して明確にコストを抑える。
は、残留イソホロンを１．５％しか含まない。これは、
従来法に対して収率において５％の改良に相当する。運
転時間は、２０００時間である。更に、何回か再生し、
新鮮な触媒の反応性よりも係数で１０以下で大きい反応
性を有する触媒は、運転時間を約６０％まで減少させる
という不利をもたらすことなく使用することができる。
これは、触媒消費に関して明確にコストを抑える。
【００１１】以下、実施例によって本発明による方法を
より具体的に説明するが、これらは本発明の範囲を限定
するものではない。
より具体的に説明するが、これらは本発明の範囲を限定
するものではない。
【００１２】
【実施例】同じ材料のカラムパッキングを有し、クロム
／ニッケル鋼合金製の管状反応器を用いた。この反応器
への充填は以下のとおりに行った。すなわち、管状反応
器中の第一反応領域に新鮮な触媒を配置し、その次に触
媒不在領域を続けた。続いて、再生触媒を有する反応領
域、触媒不在領域、そして次に再生触媒を有する反応領
域を続けた。その反応領域の次に、新鮮な触媒を有する
反応領域を直接続けた。
／ニッケル鋼合金製の管状反応器を用いた。この反応器
への充填は以下のとおりに行った。すなわち、管状反応
器中の第一反応領域に新鮮な触媒を配置し、その次に触
媒不在領域を続けた。続いて、再生触媒を有する反応領
域、触媒不在領域、そして次に再生触媒を有する反応領
域を続けた。その反応領域の次に、新鮮な触媒を有する
反応領域を直接続けた。
【００１３】前記反応器の各領域中における再生触媒の
活性は、反応器中の新鮮な触媒の活性の約４倍であっ
て、これは、約１８００時間の運転時間に相当する。前
記の反応器の容量は、４５０リットルであった。
活性は、反応器中の新鮮な触媒の活性の約４倍であっ
て、これは、約１８００時間の運転時間に相当する。前
記の反応器の容量は、４５０リットルであった。
【００１４】処理量は、５５２℃及び９．５バールにお
いて、１時間当たりイソホロン４５８ｋｇであった。滞
留時間は７２秒であり、そして試験期間は１６００時間
であった。新鮮な触媒を有する前記領域の有効容量は各
々７５リットルであり、再生触媒を有する領域のそれは
５６リットルであり、そして触媒不在領域のそれは９４
リットルであった。
いて、１時間当たりイソホロン４５８ｋｇであった。滞
留時間は７２秒であり、そして試験期間は１６００時間
であった。新鮮な触媒を有する前記領域の有効容量は各
々７５リットルであり、再生触媒を有する領域のそれは
５６リットルであり、そして触媒不在領域のそれは９４
リットルであった。
【００１５】粗生成物中の残留イソホロンは、１．５％
であった。３，５−ジメチルフェノールの収率は、イソ
ホロンの使用重量に関して、６３％であった。
であった。３，５−ジメチルフェノールの収率は、イソ
ホロンの使用重量に関して、６３％であった。
Claims (2)
- 【請求項１】 金属又は合金を含む触媒の存在下で、気
相中にて、イソホロンの触媒的ジメチル化により、３，
５−ジメチルフェノールを製造する方法であって、イソ
ホロン含有プロセス流を、前記触媒を含む反応領域に案
内し、前記触媒の反応性が反応領域中で変化し、そして
前記プロセス流の温度が前記反応領域間で温度調整され
ている、前記の製造方法。 - 【請求項２】 反応器の入口領域及び出口領域に新鮮な
触媒を加え、そして前記反応器の中間部分に再生反応性
触媒を加える、請求項１に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19718852.4 | 1997-05-03 | ||
| DE19718852A DE19718852C1 (de) | 1997-05-03 | 1997-05-03 | Verfahren zur Herstellung von 3,5-Dimethylphenol |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1129511A true JPH1129511A (ja) | 1999-02-02 |
| JP3919044B2 JP3919044B2 (ja) | 2007-05-23 |
Family
ID=7828614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13766398A Expired - Fee Related JP3919044B2 (ja) | 1997-05-03 | 1998-05-01 | ３，５−ジメチルフェノールの製造方法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5969196A (ja) |
| EP (1) | EP0875494B1 (ja) |
| JP (1) | JP3919044B2 (ja) |
| CN (1) | CN1092629C (ja) |
| AT (1) | ATE207860T1 (ja) |
| CZ (1) | CZ293996B6 (ja) |
| DE (2) | DE19718852C1 (ja) |
| DK (1) | DK0875494T3 (ja) |
| ES (1) | ES2167035T3 (ja) |
| PL (1) | PL188711B1 (ja) |
| SK (1) | SK283432B6 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106492818B (zh) * | 2015-09-07 | 2019-04-23 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种非均相催化剂及其制备方法，及利用该催化剂制备3,5-二甲基苯酚的方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE176875C (ja) * | ||||
| DE1768875B1 (de) * | 1968-07-10 | 1972-02-10 | Ruetgerswerke Ag | Verfahren zur Herstellung von 3,5-Dimethylphenol |
| GB2166365A (en) * | 1984-11-01 | 1986-05-08 | British Gas Corp | Methanation reactor |
-
1997
- 1997-05-03 DE DE19718852A patent/DE19718852C1/de not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-04-27 US US09/067,301 patent/US5969196A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-04-28 DE DE59801918T patent/DE59801918D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-04-28 DK DK98107697T patent/DK0875494T3/da active
- 1998-04-28 EP EP98107697A patent/EP0875494B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-04-28 AT AT98107697T patent/ATE207860T1/de not_active IP Right Cessation
- 1998-04-28 ES ES98107697T patent/ES2167035T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-04-30 CZ CZ19981342A patent/CZ293996B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1998-04-30 CN CN98101685A patent/CN1092629C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1998-04-30 PL PL98326110A patent/PL188711B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1998-04-30 SK SK576-98A patent/SK283432B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1998-05-01 JP JP13766398A patent/JP3919044B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5969196A (en) | 1999-10-19 |
| DE19718852C1 (de) | 1998-11-05 |
| JP3919044B2 (ja) | 2007-05-23 |
| CN1092629C (zh) | 2002-10-16 |
| DE59801918D1 (de) | 2001-12-06 |
| CN1198430A (zh) | 1998-11-11 |
| CZ134298A3 (cs) | 1998-11-11 |
| ES2167035T3 (es) | 2002-05-01 |
| CZ293996B6 (cs) | 2004-09-15 |
| SK57698A3 (en) | 1999-02-11 |
| ATE207860T1 (de) | 2001-11-15 |
| DK0875494T3 (da) | 2002-02-18 |
| EP0875494B1 (de) | 2001-10-31 |
| EP0875494A1 (de) | 1998-11-04 |
| PL188711B1 (pl) | 2005-04-29 |
| PL326110A1 (en) | 1998-11-09 |
| SK283432B6 (sk) | 2003-07-01 |
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