JPH11291495A - インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法Info
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Abstract
り、振動板の変位量の向上を図ったインクジェット式記
録ヘッドを提供する。 【解決手段】 ノズル開口に連通する圧力発生室12の
一部を構成する弾性膜50と、該弾性膜50上に設けら
れた下電極60と、この下電極60の上に形成された圧
電体層70と、該圧電体層70の表面に形成された上電
極80からなる圧電振動子を備え、前記圧力発生室12
に対向する領域に圧電体能動部320を形成したインク
ジェット式記録ヘッドにおいて、前記弾性膜50は、少
なくとも前記圧電体能動部320に対応する領域に、他
の部分と比較して前記圧電体能動部320側に突出され
た突出部51を有することにより、圧電体層の変位効率
が向上する。
Description
るノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構
成し、この振動板の表面に圧電体層を形成して、圧電体
層の変位によりインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッド及びその製造方法に関する。
る圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧
電振動子により変形させて圧力発生室のインクを加圧し
てノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット
式記録ヘッドには、圧電振動子の軸方向に伸長、収縮す
る縦振動モードの圧電振動子を使用したものと、たわみ
振動モードの圧電振動子を使用したものの2種類が実用
化されている。
せることにより圧力発生室の容積を変化させることがで
きて、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反
面、圧電振動子をノズル開口の配列ピッチに一致させて
櫛歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられ
た圧電振動子を圧力発生室に位置決めして固定する作業
が必要となり、製造工程が複雑であるという問題があ
る。
シートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼
成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電振動子を
作り付けることができるものの、たわみ振動を利用する
関係上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困
難であるという問題がある。
べく、特開平5−286131号公報に見られるよう
に、振動板の表面全体に亙って成膜技術により均一な圧
電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法に
より圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発生
室毎に独立するように圧電振動子を形成したものが提案
されている。
る作業が不要となって、リソグラフィ法という精密で、
かつ簡便な手法で圧電振動子を作り付けることができる
ばかりでなく、圧電振動子の厚みを薄くできて高速駆動
が可能になるという利点がある。なお、この場合、圧電
材料層は振動板の表面全体に設けたままで少なくとも上
電極のみを各圧力発生室毎に設けることにより、各圧力
発生室に対応する圧電振動子を駆動することができる。
用した記録ヘッドでは、一般には、各圧力発生室に対応
する圧電振動子は絶縁体層で覆われ、この絶縁体層には
各圧電振動子を駆動するための電圧を供給するリード電
極との接続部を形成するための窓(以下、コンタクトホ
ールという)が各圧力発生室に対応して設けられてお
り、各圧電振動子とリード電極との接続部がコンタクト
ホール内に形成される。
動子の駆動による振動板の変位が小さいという問題があ
る。そこで、圧電振動子の幅方向両側、いわゆる振動板
腕部において、振動板の一部を構成する下電極を除去
し、振動板の変位量の増大を図ることが考えられてい
る。
たような薄膜を用いた圧電振動子では、下電極に強い引
っ張りの残留応力が発生するため、上述のように、いわ
ゆる振動板腕部の下電極の少なくとも一部を除去する
と、振動板が大きく圧力発生室側に撓み、変位量が低下
してしまうという問題がある。
下電極を全部あるいは一部を除去する場合、この下電極
の除去プロセスが圧電体層にダメージを与えてしまうと
いう問題がある。
めに下電極の一部を残すようにする場合、下電極を上か
ら除去していくと、その厚さを管理するのが非常に困難
であるという問題もある。
の変位効率を向上させることにより、振動板の変位量の
向上を図ったインクジェット式記録ヘッドを提供するこ
とを課題とする。
明の第1の態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室の
一部を構成する弾性膜と、該弾性膜上に設けられた下電
極と、この下電極の上に形成された圧電体層と、該圧電
体層の表面に形成された上電極とからなる圧電振動子を
備え、前記圧力発生室に対向する領域に圧電体能動部を
形成したインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記弾
性膜は、少なくとも前記圧電体能動部に対応する領域
に、他の部分と比較して前記圧電体能動部側に突出され
た突出部を有することを特徴とするインクジェット式記
録ヘッドにある。
た突出部により、圧電体層の電圧印加による変位効率が
向上され、振動板の変位量が向上される。
て、前記圧電体能動部の幅方向両側で前記圧力発生室の
縁部に沿った部分に、前記弾性膜が除去された弾性膜除
去部を有することを特徴とするインクジェット式記録ヘ
ッドにある。
り、振動板の強度の低下を最小に抑えつつ、振動板の変
位量が向上される。
において、前記圧電体能動部の幅は、前記突出部の幅と
略同一又はそれ以下であることを特徴とするインクジェ
ット式記録ヘッドにある。
量が低く抑えられ、弾性膜の変位効率が向上される。
において、前記圧電体層の少なくとも一部は、前記圧力
発生室に対向する領域に亘って形成され、前記圧電体能
動部は、前記上電極のみ又は前記上電極及び前記圧電体
層の厚さ方向の一部をパターニングすることにより形成
されていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッ
ドにある。
上電極及び圧電体層の厚さ方向の一部をパターニングす
ることにより圧電体能動部が形成される。
の態様において、前記圧力発生室がシリコン単結晶基板
に異方性エッチングにより形成され、前記圧電体能動部
の各層が成膜及びリソグラフィ法により形成されたもの
であることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドに
ある。
口を有するインクジェット式記録ヘッドを大量に且つ比
較的容易に製造することができる。
る基板の一方面に設けられた弾性膜上に下電極、圧電体
層及び上電極を順次積層して各層をパターニングするこ
とにより前記圧力発生室に対向する領域に圧電体能動部
を形成するインクジェット式記録ヘッドの製造方法にお
いて、前記圧電体能動部に対応する領域の前記基板上に
前記圧電体能動部側に突出した凸部を形成するステップ
と、該凸部を設けた前記基板表面に前記弾性膜を形成す
ることにより前記凸部上の領域に前記弾性膜が他の部分
よりも前記圧電体能動部側に突出する突出部を形成する
ステップと、前記弾性膜上に下電極、圧電体層、及び上
電極を順次積層するステップと、少なくとも前記上電極
及び前記圧電体層の少なくとも一部をパターニングして
前記突出部上に前記圧電体能動部を形成するステップ
と、前記基板を前記凸部とは反対側の面からエッチング
して前記凸部まで除去することにより前記圧力発生室を
形成するステップとを有することを特徴とするインクジ
ェット式記録ヘッドの製造方法にある。
上に弾性膜を形成することにより、突出部が形成され
る。
て、前記凸部を形成するステップは、前記基板上に第1
の弾性膜を形成するステップと、前記圧電体能動部に対
応する領域以外の前記第1の弾性膜及び前記基板の一部
をパターニングして前記圧電体能動部に対応する領域に
前記凸部を形成するステップとを含み、前記弾性膜に前
記突出部を形成するステップは、前記凸部を設けた前記
基板表面に少なくとも前記第1の弾性膜の残留領域以外
に設けられて当該第1の弾性膜の残留部分を含む弾性膜
となる第2の弾性膜を形成するステップを含むことを特
徴とするインクジェット式記録ヘッドの製造方法にあ
る。
用して、基板表面に凸部をパターニングし、その上に第
2の弾性膜を形成することにより、突出部を形成する。
において、さらに、前記圧電体能動部の幅方向両側に対
応する領域の前記弾性膜を圧力発生室側からエッチング
により除去して弾性膜除去部を形成するステップを有す
ることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドの製造
方法にある。
方向両側の弾性膜のみが除去されて、変位効率がさらに
向上する。
いて詳細に説明する。
1に係るインクジェット式記録ヘッドを示す分解斜視図
であり、図2は、その1つの圧力発生室の長手方向にお
ける断面構造を示す図である。
実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板か
らなる。流路形成基板10としては、通常、150〜3
00μm程度の厚さのものが用いられ、望ましくは18
0〜280μm程度、より望ましくは220μm程度の
厚さのものが好適である。これは、隣接する圧力発生室
間の隔壁の剛性を保ちつつ、配列密度を高くできるから
である。
り、他方の面には予め熱酸化により形成した二酸化シリ
コンからなる、厚さ1〜2μmの弾性膜50が形成され
ている。また、この弾性膜50には、後述するように、
圧電体能動部に対応する領域に、他の部分の弾性膜50
よりも圧電体能動部側に突出された突出部51が形成さ
れている。
リコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより、
ノズル開口11、圧力発生室12が形成されている。
結晶基板をKOH等のアルカリ溶液に浸漬すると、徐々
に侵食されて(110)面に垂直な第1の(111)面
と、この第1の(111)面と約70度の角度をなし且
つ上記(110)面と約35度の角度をなす第2の(1
11)面とが出現し、(110)面のエッチングレート
と比較して(111)面のエッチングレートが約1/1
80であるという性質を利用して行われるものである。
かかる異方性エッチングにより、二つの第1の(11
1)面と斜めの二つの第2の(111)面とで形成され
る平行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工を行う
ことができ、圧力発生室12を高密度に配列することが
できる。
を第1の(111)面で、短辺を第2の(111)面で
形成している。この圧力発生室12は、流路形成基板1
0をほぼ貫通して弾性膜50に達するまでエッチングす
ることにより形成されている。なお、弾性膜50は、シ
リコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵さ
れる量がきわめて小さい。
各ノズル開口11は、圧力発生室12より幅狭で且つ浅
く形成されている。すなわち、ノズル開口11は、シリ
コン単結晶基板を厚さ方向に途中までエッチング(ハー
フエッチング)することにより形成されている。なお、
ハーフエッチングは、エッチング時間の調整により行わ
れる。
る圧力発生室12の大きさと、インク滴を吐出するノズ
ル開口11の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出
スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、
1インチ当たり360個のインク滴を記録する場合、ノ
ズル開口11は数十μmの溝幅で精度よく形成する必要
がある。
ンク室31とは、後述する封止板20の各圧力発生室1
2の一端部に対応する位置にそれぞれ形成されたインク
供給連通口21を介して連通されており、インクはこの
インク供給連通口21を介して共通インク室31から供
給され、各圧力発生室12に分配される。
対応したインク供給連通口21が穿設された、厚さが例
えば、0.1〜1mmで、線膨張係数が300℃以下
で、例えば2.5〜4.5[×10-6/℃]であるガラ
スセラミックスからなる。なお、インク供給連通口21
は、図3(a),(b)に示すように、各圧力発生室1
2のインク供給側端部の近傍を横断する一のスリット孔
21Aでも、あるいは複数のスリット孔21Bであって
もよい。封止板20は、一方の面で流路形成基板10の
一面を全面的に覆い、シリコン単結晶基板を衝撃や外力
から保護する補強板の役目も果たす。また、封止板20
は、他面で共通インク室31の一壁面を構成する。
室31の周壁を形成するものであり、ノズル開口数、イ
ンク滴吐出周波数に応じた適正な厚みのステンレス板を
打ち抜いて作製されたものである。本実施形態では、共
通インク室形成基板30の厚さは、0.2mmとしてい
る。
なり、一方の面で共通インク室31の一壁面を構成する
ものである。また、インク室側板40には、他方の面の
一部にハーフエッチングにより凹部40aを形成するこ
とにより薄肉壁41が形成され、さらに、外部からのイ
ンク供給を受けるインク導入口42が打抜き形成されて
いる。なお、薄肉壁41は、インク滴吐出の際に発生す
るノズル開口11と反対側へ向かう圧力を吸収するため
のもので、他の圧力発生室12に、共通インク室31を
経由して不要な正又は負の圧力が加わるのを防止する。
本実施形態では、インク導入口42と外部のインク供給
手段との接続時等に必要な剛性を考慮して、インク室側
板40を0.2mmとし、その一部を厚さ0.02mm
の薄肉壁41としているが、ハーフエッチングによる薄
肉壁41の形成を省略するために、インク室側板40の
厚さを初めから0.02mmとしてもよい。
側の弾性膜50上には、厚さが例えば、約0.5μm
で、弾性膜50と共に振動板として作用する下電極膜6
0と、厚さが例えば、約1μmの圧電体膜70と、厚さ
が例えば、約0.1μmの上電極膜80とが、後述する
プロセスで積層形成されて、弾性膜50の突出部51上
に圧電振動子(圧電素子)300を構成している。ここ
で、圧電振動子300は、下電極膜60、圧電体膜7
0、及び上電極膜80を含む部分をいう。一般的には、
圧電振動子300の何れか一方の電極を共通電極とし、
他方の電極及び圧電体膜70を各圧力発生室12毎にパ
ターニングして構成する。そして、ここではパターニン
グされた何れか一方の電極及び圧電体膜70から構成さ
れ、両電極への電圧の印加により圧電歪みが生じる部分
を圧電体能動部320という。
子300の共通電極とし、上電極膜80を圧電振動子3
00の個別電極としているが、駆動回路や配線の都合で
これを逆にしても支障はない。何れの場合においても、
各圧力発生室毎に圧電体能動部が形成されていることに
なる。
なくとも周縁、及び圧電体膜70の側面を覆うように電
気絶縁性を備えた絶縁体層90が形成されている。絶縁
体層90は、成膜法による形成やまたエッチングによる
整形が可能な材料、例えば酸化シリコン、窒化シリコ
ン、有機材料、好ましくは剛性が低く、且つ電気絶縁性
に優れた感光性ポリイミドで形成するのが好ましい。
対応する部分の上面を覆う部分の一部には後述するリー
ド電極100と接続するために上電極膜80の一部を露
出させるコンタクトホール90aが形成されている。そ
して、このコンタクトホール90aを介して各上電極膜
80に一端が接続し、また他端が接続端子部に延びるリ
ード電極100が形成されている。リード電極100
は、駆動信号を上電極膜80に確実に供給できる程度に
可及的に狭い幅となるように形成されている。
形成基板10上に、弾性膜50及び圧電体膜70等を形
成するプロセスを図4を参照しながら説明する。
基板10となるシリコン単結晶基板のウェハを約110
0℃の拡散炉で熱酸化して二酸化シリコンからなる弾性
膜50を形成する。
室に対向する領域の流路形成基板10に、他の部分より
も膜厚が大きい凸部13を形成する。この凸部13は、
凸部以外の弾性膜50を、例えば、イオンミリング、ウ
ェットエッチング等によりパターニングして除去した
後、この弾性膜50をマスクとして、流路形成基板10
を等方性エッチングすることにより形成される。
成基板10の弾性膜50側の表面を上述と同様に熱酸化
して、再度、弾性膜50を形成する。これにより、凸部
13に対応する部分の弾性膜50が、他の部分の弾性膜
50よりも圧電体能動部側に突出する突出部51とな
る。
れずに残留しており、その弾性膜50の上から熱酸化す
るため、突出部51は他の部分の弾性膜50よりも厚く
形成されることになる。なお、この凸部13上の弾性膜
50を一度除去してから、全面の厚さを一様に形成する
ようにしてもよいことは言うまでもない。
リングによって、下電極膜60を弾性膜50の表面形状
に沿って一様に形成する。下電極膜60の材料として
は、Pt等が好適である。これは、スパッタリングやゾ
ル−ゲル法で成膜する後述の圧電体膜70は、成膜後に
大気雰囲気下又は酸素雰囲気下で600〜1000℃程
度の温度で焼成して結晶化させる必要があるからであ
る。すなわち、下電極膜60の材料は、このような高
温、酸化雰囲気下で導電性を保持できなければならず、
殊に、圧電体膜70としてPZTを用いた場合には、P
bOの拡散による導電性の変化が少ないことが望まし
く、これらの理由からPtが好適である。
70を成膜する。この圧電体膜70の成膜にはスパッタ
リングを用いることもできるが、本実施形態では、金属
有機物を溶媒に溶解・分散したいわゆるゾルを塗布乾燥
してゲル化し、さらに高温で焼成することで金属酸化物
からなる圧電体膜70を得る、いわゆるゾル−ゲル法を
用いている。圧電体膜70の材料としては、チタン酸ジ
ルコン酸鉛(PZT)系の材料がインクジェット式記録
ヘッドに使用する場合には好適である。
80を成膜する。上電極膜80は、導電性の高い材料で
あればよく、Al、Au、Ni、Pt等の多くの金属
や、導電性酸化物等を使用できる。本実施形態では、P
tをスパッタリングにより成膜している。
圧電体膜70及び上電極膜80をパターニングする。
60、圧電体膜70及び上電極膜80を一緒にエッチン
グして下電極膜60の全体パターンをパターニングす
る。次いで、図5(b)に示すように、圧電体膜70及
び上電極膜80のみをエッチングして、弾性膜50の突
出部51に対応する領域のみに圧電体能動部320のパ
ターニングを行う。
のパターンを形成後、圧電体能動部320をパターニン
グすることによりパターニングが完了する。
ングした後には、好ましくは、各上電極膜80の上面の
少なくとも周縁、及び圧電体膜70および下電極膜60
の側面を覆うように電気絶縁性を備えた絶縁体層90を
形成する(図1参照)。
圧力発生室12の周壁上まで延設された上電極膜80に
対応する部分の絶縁体層90には、後述するリード電極
100と接続するために上電極膜80の一部を露出させ
るコンタクトホール90aが形成されている。そして、
このコンタクトホール90aを介して各上電極膜80に
一端が接続し、また他端が接続端子部に延びるリード電
極100が形成されている。リード電極100は、駆動
信号を上電極膜80に確実に供給できる程度に可及的に
狭い幅となるように形成されている。
に示す。
80の周縁部、圧電体膜70および下電極膜60の側面
を覆うように絶縁体層90を形成する。この絶縁体層9
0の好適な材料は上述した通りであるが、本実施形態で
はネガ型の感光性ポリイミドを用いている。
90をパターニングすることにより、各圧力発生室12
のインク供給側の端部近傍に対応する部分にコンタクト
ホール90aを形成する。このコンタクトホール90a
は、後述するリード電極100と上電極膜80との接続
をするためのものである。また、本実施形態では、コン
タクトホール90aを、圧力発生室12の長手方向一端
部の周壁に対向する領域に設けるようにしたが、圧力発
生室12の圧電体能動部320に対応する部分、例え
ば、中央部あるいはノズル側端部に設けてもよい。な
お、図6(b)には、説明の都合上、圧力発生室12の
周壁に対向する領域のコンタクトホール90a部分の断
面を示す。
全面に成膜した後、パターニングすることにより、リー
ド電極100を形成する。
して膜形成を行った後、図6(c)に示すように、前述
したアルカリ溶液によるシリコン単結晶基板の異方性エ
ッチングを行い、圧力発生室12等を形成する。また、
上述したように、流路形成基板10の弾性膜50側に凸
部13が形成されているが、本実施形態では、異方性エ
ッチングを行う際、この凸部13も完全に除去して圧力
発生室12を形成する。
性エッチングは、一枚のウェハ上に多数のチップを同時
に形成し、プロセス終了後、図1に示すような一つのチ
ップサイズの流路形成基板10毎に分割する。また、分
割した流路形成基板10を、封止板20、共通インク室
形成基板30、及びインク室側板40と順次接着して一
体化し、インクジェット式記録ヘッドとする。
録ヘッドの要部平面及び断面を図7に示す。
体膜70および上電極膜80からなる圧電体能動部32
0は、弾性膜50上に一様に形成された下電極膜60上
に形成され、基本的には圧力発生室12に対向する領域
内に設けられているが、圧電体膜70及び上電極膜80
が圧電体能動部320の一端部から圧力発生室12の長
手方向端部の周壁上まで延設されている。また、圧電体
能動部320に対応する領域の弾性膜50は、他の部分
よりも圧電体能動部320側に突出された突出部51と
なっている。したがって、逆に、圧力発生室12側の弾
性膜50には、凹部52が形成されている。しかしなが
ら、本願発明では、圧力発生室12側の形状は特に限定
されない。
は、他の部分の弾性膜50の表面からの高さが、弾性膜
50の厚さの1/5以上であることが好ましく、本実施
形態では、0.2〜10μm程度の高さに形成した。こ
れは、弾性膜50と圧電体膜70との距離が大きくなる
と、圧電体膜70の曲げモーメントも大きくなり、振動
板の変位を向上することができるためである。
加による変位効率を効果的に向上することができる。ま
た、振動板の初期変形量が低く抑えられ、振動板の変位
量を向上することができる。さらに、残留応力の大きい
下電極膜を薄くすることができるため、振動板に作用す
る応力を低く抑えることができ、振動板の破壊が抑えら
れる。また、下電極膜を一様に形成することにより、振
動板腕部の厚さを正確に形成することができるため、吐
出特性が安定する。
は、図示しない外部インク供給手段と接続したインク導
入口42からインクを取り込み、共通インク室31から
ノズル開口11に至るまで内部をインクで満たした後、
図示しない外部の駆動回路からの記録信号に従い、リー
ド電極100を介して下電極膜60と上電極膜80との
間に電圧を印加し、弾性膜50、下電極膜60及び圧電
体膜70をたわみ変形させることにより、圧力発生室1
2内の圧力が高まりノズル開口11からインク滴が吐出
する。
圧力発生室12に対応して個別に設けて圧電体能動部3
20を形成したが、これに限定されず、例えば、図8
(a)に示すように、圧電体膜を全体に設け、上電極膜
80を各圧力発生室12に対応するように個別に設ける
ようにしてもよい。この場合、上電極膜80のパターニ
ングにより圧電体膜70の厚さ方向の一部まで除去され
てもよく、さらに、例えば、図8(b)に示すように、
圧力発生室12対応する領域以外の圧電体膜70の厚さ
方向の一部まで積極的にパターニングするようにしても
よい。
体能動部320に対応する領域に設けるようにしたが、
これに限定されず、例えば、弾性膜50に圧電体能動部
320の長手方向に亘って設けるようにしてもよい。
性膜50上に一様に形成するようにしたが、これに限定
されず、例えば、圧電体能動部320の幅方向両側、い
わゆる振動板腕部の下電極膜を除去するようにしてもよ
い。このような構成によっても、振動板の変位量を向上
することができる。
ジェット式記録ヘッドの要部断面を図9に示す。
能動部の幅方向両側に対応する領域、いわゆる振動板腕
部に弾性膜50を除去した弾性膜除去部350を形成し
て、下電極膜60のみで構成するようにした以外は、実
施形態1と同様である。
を、圧力発生室12を形成後(図6(c))、圧力発生
室12側からパターニングすることにより形成した。
の効果を奏する。さらに、振動板の腕部に対応する領域
を強度の高い金属膜で形成することができるため、膜厚
を薄くしても、強度の低下を抑えることができる。これ
により、振動板の変位効率を向上することができる。
態を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的
構成は上述したものに限定されるものではない。
板10をパターニングして形成した凸部13上に弾性膜
50を形成して、突出部51を設けるようにしたが、こ
れに限定されず、例えば、凸部13をパターニングによ
り形成する代わりに、図10に示すように、流路形成基
板10上に、例えば、酸化シリコン膜、ポリシリコン等
の耐熱性のある材質で凸部13aを形成するようにして
もよい。この場合も、凸部13Aは、上述の実施形態同
様、圧力発生室12を形成する際に除去されればよい。
形成基板10に凸部13をエッチングにより形成した
後、再度、流路形成基板10の表面を熱酸化させること
により突出部51を有する弾性膜50を形成するように
したが、これに限定されず、例えば、凸部13を形成し
た後、ボロンドープからなる弾性膜を形成するようにし
てもよい。
他、共通インク室形成板30をガラスセラミックス製と
してもよく、さらには、薄肉膜41を別部材としてガラ
スセラミックス製としてもよく、材料、構造等の変更は
自由である。
を流路形成基板10の端面に形成しているが、面に垂直
な方向に突出するノズル開口を形成してもよい。
を図11、その流路の断面を図12にぞれぞれ示す。こ
の実施形態では、ノズル開口11が圧電振動子とは反対
のノズル基板120に穿設され、これらノズル開口11
と圧力発生室12とを連通するノズル連通口22が、封
止板20,共通インク室形成板30及び薄肉板41A及
びインク室側板40Aを貫通するように配されている。
Aとインク室側板40Aとを別部材とし、インク室側板
40に開口40bを形成した以外は、基本的に上述した
実施形態と同様であり、同一部材には同一符号を付して
重複する説明は省略する。
た実施形態と同様に、圧電体能動部に対応する弾性膜に
突出部を形成することにより、圧電体膜の変位効率が向
上され、振動板の変位量を向上することができる。
内に形成したタイプのインクジェット式記録ヘッドにも
同様に応用できる。
びリソグラフィプロセスを応用することにより製造でき
る薄膜型のインクジェット式記録ヘッドを例にしたが、
勿論これに限定されるものではなく、例えば、基板を積
層して圧力発生室を形成するもの、あるいはグリーンシ
ートを貼付もしくはスクリーン印刷等により圧電体膜を
形成するもの、又は結晶成長により圧電体膜を形成する
もの等、各種の構造のインクジェット式記録ヘッドに本
発明を採用することができる。
して下電極膜とは別に弾性膜を設けたが、下電極膜が弾
性膜を兼ねるようにしてもよい。
縁体層を設けた例を説明したが、これに限定されず、例
えば、絶縁体層を設けないで、各上電極に異方性導電膜
を熱溶着し、この異方性導電膜をリード電極と接続した
り、その他、ワイヤボンディング等の各種ボンディング
技術を用いて接続したりする構成としてもよい。
い限り、種々の構造のインクジェット式記録ヘッドに応
用することができる。
圧電体能動部に対応する領域の弾性膜に突出部を設ける
ようにしたので、圧電体膜の電圧印加による変形効率が
向上される。したがって、振動板の変位量を向上するこ
とができる。また、振動板の初期変形量が低く抑えら
れ、振動板の変位量を向上することができる。さらに、
残留応力の大きい下電極膜を薄くすることができるた
め、振動板に作用する応力を低く抑えることができ、振
動板の破壊が抑えられる。また、下電極膜を除去する必
要がないため、振動板腕部の厚さを正確に形成すること
ができ、吐出特性が安定するという効果を奏する。
録ヘッドの分解斜視図である。
録ヘッドを示す図であり、図1の平面図及び断面図であ
る。
ある。
ある。
ある。
録ヘッドの要部を示す平面図及び断面図である。
録ヘッドの変形例を示す断面図である。
録ヘッドの要部を示す断面図である。
を示す図である。
式記録ヘッドの分解斜視図である。
式記録ヘッドを示す断面図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 ノズル開口に連通する圧力発生室の一部
を構成する弾性膜と、該弾性膜上に設けられた下電極
と、この下電極の上に形成された圧電体層と、該圧電体
層の表面に形成された上電極からなる圧電振動子を備
え、前記圧力発生室に対向する領域に圧電体能動部を形
成したインクジェット式記録ヘッドにおいて、 前記弾性膜は、少なくとも前記圧電体能動部に対応する
領域に、他の部分と比較して前記圧電体能動部側に突出
された突出部を有することを特徴とするインクジェット
式記録ヘッド。 - 【請求項2】 請求項1において、前記圧電体能動部の
幅方向両側で前記圧力発生室の縁部に沿った部分に、前
記弾性膜が除去された弾性膜除去部を有することを特徴
とするインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項3】 請求項1又は2において、前記圧電体能
動部の幅は、前記突出部の幅と略同一又はそれ以下であ
ることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項4】 請求項1〜3の何れかにおいて、前記圧
電体層の少なくとも一部は、前記圧力発生室に対向する
領域に亘って形成され、前記圧電体能動部は、前記上電
極のみ又は前記上電極及び前記圧電体層の厚さ方向の一
部をパターニングすることにより形成されていることを
特徴とするインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項5】 請求項1〜4の何れかにおいて、前記圧
力発生室がシリコン単結晶基板に異方性エッチングによ
り形成され、前記圧電体能動部の各層が成膜及びリソグ
ラフィ法により形成されたものであることを特徴とする
インクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項6】 圧力発生室を有する基板の一方面に設け
られた弾性膜上に下電極、圧電体層及び上電極を順次積
層して各層をパターニングすることにより前記圧力発生
室に対向する領域に圧電体能動部を形成するインクジェ
ット式記録ヘッドの製造方法において、 前記圧電体能動部に対応する領域の前記基板上に前記圧
電体能動部側に突出した凸部を形成するステップと、該
凸部を設けた前記基板表面に前記弾性膜を形成すること
により前記凸部上の領域に前記弾性膜が他の部分よりも
前記圧電体能動部側に突出する突出部を形成するステッ
プと、前記弾性膜上に下電極、圧電体層、及び上電極を
順次積層するステップと、少なくとも前記上電極及び前
記圧電体層の少なくとも一部をパターニングして前記突
出部上に前記圧電体能動部を形成するステップと、前記
基板を前記凸部とは反対側の面からエッチングして前記
凸部まで除去することにより前記圧力発生室を形成する
ステップとを有することを特徴とするインクジェット式
記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項7】 請求項6において、前記凸部を形成する
ステップは、前記基板上に第1の弾性膜を形成するステ
ップと、前記圧電体能動部に対応する領域以外の前記第
1の弾性膜及び前記基板の一部をパターニングして前記
圧電体能動部に対応する領域に前記凸部を形成するステ
ップとを含み、前記弾性膜に前記突出部を形成するステ
ップは、前記凸部を設けた前記基板表面に少なくとも前
記第1の弾性膜の残留領域以外に設けられて当該第1の
弾性膜の残留部分とを含む弾性膜となる第2の弾性膜を
形成するステップを含むことを特徴とするインクジェッ
ト式記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項8】 請求項6又は7において、さらに、前記
圧電体能動部の幅方向両側に対応する領域の前記弾性膜
を圧力発生室側からエッチングにより除去して弾性膜除
去部を形成するステップを有することを特徴とするイン
クジェット式記録ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9900898A JPH11291495A (ja) | 1998-04-10 | 1998-04-10 | インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9900898A JPH11291495A (ja) | 1998-04-10 | 1998-04-10 | インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11291495A true JPH11291495A (ja) | 1999-10-26 |
Family
ID=14235041
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9900898A Pending JPH11291495A (ja) | 1998-04-10 | 1998-04-10 | インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11291495A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6712456B2 (en) | 2000-01-17 | 2004-03-30 | Seiko Epson Corporation | Ink-jet recording head, manufacturing method of the same and ink-jet recording apparatus |
US7654651B2 (en) | 2006-01-17 | 2010-02-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and manufacturing method of the same |
JP2012228843A (ja) * | 2011-04-27 | 2012-11-22 | Kyocera Corp | 圧電アクチュエータ、およびそれを用いた液体吐出ヘッドならびに記録装置 |
US8746857B2 (en) | 2011-10-14 | 2014-06-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Inkjet recording head |
US9415597B2 (en) | 2013-09-20 | 2016-08-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ink jet head having nozzle plate equipped with piezoelectric elements |
-
1998
- 1998-04-10 JP JP9900898A patent/JPH11291495A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US7135121B2 (en) | 2000-01-17 | 2006-11-14 | Seiko Epson Corporation | Ink-jet recording head, manufacturing method of the same and ink-jet recording apparatus |
US7654651B2 (en) | 2006-01-17 | 2010-02-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and manufacturing method of the same |
JP2012228843A (ja) * | 2011-04-27 | 2012-11-22 | Kyocera Corp | 圧電アクチュエータ、およびそれを用いた液体吐出ヘッドならびに記録装置 |
US8746857B2 (en) | 2011-10-14 | 2014-06-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Inkjet recording head |
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