JPH11290874A - 有機物の超臨界・水熱反応処理方法及びその処理プラント - Google Patents
有機物の超臨界・水熱反応処理方法及びその処理プラントInfo
- Publication number
- JPH11290874A JPH11290874A JP10103179A JP10317998A JPH11290874A JP H11290874 A JPH11290874 A JP H11290874A JP 10103179 A JP10103179 A JP 10103179A JP 10317998 A JP10317998 A JP 10317998A JP H11290874 A JPH11290874 A JP H11290874A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- supercritical
- hydrothermal reaction
- treatment
- separated
- inorganic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 原料や反応処理物に無機分が存在する場合に
おいても超臨界・水熱反応処理を容易にし、超臨界・水
熱反応を円滑に継続処理するとともに、無機分の排出撤
去や有用物と不要物との分離回収性を向上させる。 【解決手段】 被処理物を、超臨界・水熱反応処理手
段に送り込んで水熱反応させ、生成された反応処理物
を、分離器に送って超臨界・・水熱反応処理手段と切り
離した状態で、無機分と液分とに分離するとともに、分
離した無機分の取り出しを間欠的に行なう技術が採用さ
れる。
おいても超臨界・水熱反応処理を容易にし、超臨界・水
熱反応を円滑に継続処理するとともに、無機分の排出撤
去や有用物と不要物との分離回収性を向上させる。 【解決手段】 被処理物を、超臨界・水熱反応処理手
段に送り込んで水熱反応させ、生成された反応処理物
を、分離器に送って超臨界・・水熱反応処理手段と切り
離した状態で、無機分と液分とに分離するとともに、分
離した無機分の取り出しを間欠的に行なう技術が採用さ
れる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機物の超臨界・
水熱反応処理方法及びその処理プラントに関するもので
ある。
水熱反応処理方法及びその処理プラントに関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】超臨界条件下の水により人畜に有害な有
機物を分解して、無害化状態にする技術として、技術例
１：特開平０７−２７５８７０号公報「有害有機物の超
臨界水酸化処理装置および処理方法」や、技術例２：特
開平０７−２７５８７１号公報「有害物質の超臨界水酸
化処理方法及び処理装置」が提案されている。
機物を分解して、無害化状態にする技術として、技術例
１：特開平０７−２７５８７０号公報「有害有機物の超
臨界水酸化処理装置および処理方法」や、技術例２：特
開平０７−２７５８７１号公報「有害物質の超臨界水酸
化処理方法及び処理装置」が提案されている。
【０００３】前記技術例１は、水の超臨界条件下に、有
害有機物の分解処理をする反応器と、分解生成物の気液
分離をする気液分離器とを備えるとともに、被処理物と
は別個に、反応器に対して水を加圧送給する第１加圧送
給手段と、気液分離器の分離液体を第１加圧送給手段に
還流する戻し手段とを備える構成を採用としており、そ
して、前記技術例２は、予熱器，反応器および冷却器並
びに気液分離器を備えるとともに、水の超臨界条件下
に、有害物質の分解処理を行なった後に、分解生成物の
気液分離を行ない、水溶液を予熱器に送給して予熱し、
予熱水溶液と有害物質とを反応器の入口において混合す
る技術を採用している。
害有機物の分解処理をする反応器と、分解生成物の気液
分離をする気液分離器とを備えるとともに、被処理物と
は別個に、反応器に対して水を加圧送給する第１加圧送
給手段と、気液分離器の分離液体を第１加圧送給手段に
還流する戻し手段とを備える構成を採用としており、そ
して、前記技術例２は、予熱器，反応器および冷却器並
びに気液分離器を備えるとともに、水の超臨界条件下
に、有害物質の分解処理を行なった後に、分解生成物の
気液分離を行ない、水溶液を予熱器に送給して予熱し、
予熱水溶液と有害物質とを反応器の入口において混合す
る技術を採用している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、超臨界・水熱
反応時の生成物に含まれる無機分や、超臨界・水熱反応
処理される原料に含まれる無機分中には、堆積し易い無
機物等が多く含まれるために、超臨界・水熱反応処理を
実施する場合に、原料や反応処理物中の無機分（無機懸
濁物等）が分離堆積して、配管やバルブ類を閉塞する現
象の対策を考慮しておく必要がある。
反応時の生成物に含まれる無機分や、超臨界・水熱反応
処理される原料に含まれる無機分中には、堆積し易い無
機物等が多く含まれるために、超臨界・水熱反応処理を
実施する場合に、原料や反応処理物中の無機分（無機懸
濁物等）が分離堆積して、配管やバルブ類を閉塞する現
象の対策を考慮しておく必要がある。
【０００５】本発明は、このような課題に鑑みてなされ
たものであり、以下の目的を達成するものである。 原料や反応処理物中の無機分が存在する場合における
超臨界・水熱反応処理への影響を低減すること。 超臨界・水熱反応を実質的に停止することなく円滑に
継続処理すること。 無機分を水熱反応処理プラントから切り離して系外に
排出撤去すること。 無機分中の有用物と不要物とを分離回収すること。
たものであり、以下の目的を達成するものである。 原料や反応処理物中の無機分が存在する場合における
超臨界・水熱反応処理への影響を低減すること。 超臨界・水熱反応を実質的に停止することなく円滑に
継続処理すること。 無機分を水熱反応処理プラントから切り離して系外に
排出撤去すること。 無機分中の有用物と不要物とを分離回収すること。
【０００６】
【課題を解決するための手段】有機物を含有する液状化
した被処理物を、超臨界・水熱反応処理手段に送り込ん
で、超臨界雰囲気で水熱反応させ、該超臨界・水熱反応
処理手段において生成された反応処理物を、分離器に送
って超臨界・水熱反応処理手段と切り離した状態で、無
機分と液分とに分離するとともに、該分離器に、排出手
段を接続して分離した無機分の取り出しを間欠的に行な
う技術が採用される。被処理物を予熱する予熱器と、該
予熱器に接続されて予熱時に分離した無機分を除去する
分離器とを有し、無機分を除去した状態の被処理物を超
臨界・水熱反応処理手段に供給して超臨界・水熱反応処
理することが行なわれる。超臨界・水熱反応処理手段の
間には、分離器が介在状態に配され無機分を除いた状態
の被処理物を、再度、超臨界・水熱反応処理手段に送り
込んで処理することが、必要に応じて繰り返される。分
離器と排出手段との間には、制御弁が配されて間欠的な
接続の制御が行なわれる。排出手段には、無機分を受け
入れる懸濁物処理手段と、分離したガス分を受け入れる
ガス処理手段とが接続状態に配され、必要に応じてこれ
らの処理が行なわれる。
した被処理物を、超臨界・水熱反応処理手段に送り込ん
で、超臨界雰囲気で水熱反応させ、該超臨界・水熱反応
処理手段において生成された反応処理物を、分離器に送
って超臨界・水熱反応処理手段と切り離した状態で、無
機分と液分とに分離するとともに、該分離器に、排出手
段を接続して分離した無機分の取り出しを間欠的に行な
う技術が採用される。被処理物を予熱する予熱器と、該
予熱器に接続されて予熱時に分離した無機分を除去する
分離器とを有し、無機分を除去した状態の被処理物を超
臨界・水熱反応処理手段に供給して超臨界・水熱反応処
理することが行なわれる。超臨界・水熱反応処理手段の
間には、分離器が介在状態に配され無機分を除いた状態
の被処理物を、再度、超臨界・水熱反応処理手段に送り
込んで処理することが、必要に応じて繰り返される。分
離器と排出手段との間には、制御弁が配されて間欠的な
接続の制御が行なわれる。排出手段には、無機分を受け
入れる懸濁物処理手段と、分離したガス分を受け入れる
ガス処理手段とが接続状態に配され、必要に応じてこれ
らの処理が行なわれる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る有機物の超臨
界・水熱反応処理方法及びその処理プラントの第１実施
形態について、図面を参照して説明する。図１及び図２
は、液状有機物の超臨界・水熱反応処理プラントの全体
構成を示している。
界・水熱反応処理方法及びその処理プラントの第１実施
形態について、図面を参照して説明する。図１及び図２
は、液状有機物の超臨界・水熱反応処理プラントの全体
構成を示している。
【０００８】超臨界・水熱反応処理プラントＸは、図１
及び図２に示すように、被処理液状有機物ａを超臨界・
水熱反応処理時に必要な圧力：例えば２０ＭＰａまで加
圧した状態にして供給するための原液供給手段１と、該
原液供給手段１に接続され予め予熱を行なうための予熱
器２と、該予熱器２に接続され被処理液状有機物ａを超
臨界条件雰囲気として水熱反応を行なうための超臨界・
水熱反応処理手段３Ａ，３Ｂと、予熱器２及び超臨界・
水熱反応処理手段３Ａ，３Ｂに接続され超臨界・水熱反
応処理物を無機分（無機懸濁物）と液分とに分離するた
めの分離器４Ａ，４Ｂ，４Ｃと、該分離器４Ａ，４Ｂ，
４Ｃに接続され無機分（無機懸濁物）を減圧状態に戻し
て排出するための排出手段５と、該排出手段５に接続さ
れ無機分を引き取って処理するための懸濁物処理手段６
と、最下流位置の分離器４Ｃに接続され液分を引き取っ
て処理するための処理水処理手段７とを具備しており、
排出手段５には冷却水供給手段８Ａ，冷却水処理手段８
Ｂ及びガス処理手段９が接続される。
及び図２に示すように、被処理液状有機物ａを超臨界・
水熱反応処理時に必要な圧力：例えば２０ＭＰａまで加
圧した状態にして供給するための原液供給手段１と、該
原液供給手段１に接続され予め予熱を行なうための予熱
器２と、該予熱器２に接続され被処理液状有機物ａを超
臨界条件雰囲気として水熱反応を行なうための超臨界・
水熱反応処理手段３Ａ，３Ｂと、予熱器２及び超臨界・
水熱反応処理手段３Ａ，３Ｂに接続され超臨界・水熱反
応処理物を無機分（無機懸濁物）と液分とに分離するた
めの分離器４Ａ，４Ｂ，４Ｃと、該分離器４Ａ，４Ｂ，
４Ｃに接続され無機分（無機懸濁物）を減圧状態に戻し
て排出するための排出手段５と、該排出手段５に接続さ
れ無機分を引き取って処理するための懸濁物処理手段６
と、最下流位置の分離器４Ｃに接続され液分を引き取っ
て処理するための処理水処理手段７とを具備しており、
排出手段５には冷却水供給手段８Ａ，冷却水処理手段８
Ｂ及びガス処理手段９が接続される。
【０００９】前記被処理液状有機物ａは、例えば技術例
１，２に記載されているフロン，ＰＣＢ等の有害有機物
や、汚泥，パルプスラッジ等の有機廃棄物に、超臨界・
水熱反応処理時に必要な適量の水を添加調整してなるも
のである。
１，２に記載されているフロン，ＰＣＢ等の有害有機物
や、汚泥，パルプスラッジ等の有機廃棄物に、超臨界・
水熱反応処理時に必要な適量の水を添加調整してなるも
のである。
【００１０】前記原液供給手段１は、図１に示すよう
に、被処理液状有機物ａを例えば大気圧あるいは比較的
低圧で貯留しておく原液槽１１と、該原液槽１１から被
処理液状有機物ａを吸引して例えば前述の２０ＭＰａ程
度の圧力まで加圧して供給するための供給ポンプ１２と
を有している。
に、被処理液状有機物ａを例えば大気圧あるいは比較的
低圧で貯留しておく原液槽１１と、該原液槽１１から被
処理液状有機物ａを吸引して例えば前述の２０ＭＰａ程
度の圧力まで加圧して供給するための供給ポンプ１２と
を有している。
【００１１】前記予熱器２は、図１に示すように、原液
供給手段１と超臨界・水熱反応処理手段３Ａとの間に介
在して、被処理液状有機物ａを例えば２００℃程度まで
予熱した状態にして、通常の場合に超臨界・水熱反応処
理手段３Ａに送り出し、無機分が多い場合に被処理液状
有機物ａを、下流の分離器４Ａに送り出すものである。
供給手段１と超臨界・水熱反応処理手段３Ａとの間に介
在して、被処理液状有機物ａを例えば２００℃程度まで
予熱した状態にして、通常の場合に超臨界・水熱反応処
理手段３Ａに送り出し、無機分が多い場合に被処理液状
有機物ａを、下流の分離器４Ａに送り出すものである。
【００１２】前記超臨界・水熱反応処理手段３Ａ，３Ｂ
は、予熱器２の下流に直列状態に配される第１の反応槽
３１Ａ及び第２の反応槽３１Ｂと、該第１の反応槽３１
Ａ及び第２の反応槽３１Ｂを例えば３５０℃程度の温度
まで加熱することによりその内部の被処理液状有機物ａ
を超臨界条件雰囲気として水熱反応を生じさせるための
加熱炉３２とを有している。
は、予熱器２の下流に直列状態に配される第１の反応槽
３１Ａ及び第２の反応槽３１Ｂと、該第１の反応槽３１
Ａ及び第２の反応槽３１Ｂを例えば３５０℃程度の温度
まで加熱することによりその内部の被処理液状有機物ａ
を超臨界条件雰囲気として水熱反応を生じさせるための
加熱炉３２とを有している。
【００１３】前記分離器４Ａは、図１に示すように、予
熱器２の下流と第１の反応槽３１Ａの上流とに対して接
続され、分離器４Ｂは、第１の反応槽３１Ａの下流と第
２の反応槽３１Ｂの上流とに対して接続され、分離器４
Ｃは、第２の反応槽３１Ｂの下流に対して接続されてい
る。
熱器２の下流と第１の反応槽３１Ａの上流とに対して接
続され、分離器４Ｂは、第１の反応槽３１Ａの下流と第
２の反応槽３１Ｂの上流とに対して接続され、分離器４
Ｃは、第２の反応槽３１Ｂの下流に対して接続されてい
る。
【００１４】前記排出手段５は、図１に示すように、各
分離器４Ａ，４Ｂ，４Ｃの下流に接続状態に配され、無
機分（無機懸濁物）を間欠的に大気圧程度まで減圧状態
に戻して排出する機能を有している。
分離器４Ａ，４Ｂ，４Ｃの下流に接続状態に配され、無
機分（無機懸濁物）を間欠的に大気圧程度まで減圧状態
に戻して排出する機能を有している。
【００１５】排出手段５の詳細について、図２を参照し
て説明する。排出手段５は、分離器４Ａ，４Ｂ，４Ｃに
接続して超臨界及び高圧（例えば２０ＭＰａ程度の圧
力）状態の無機分（無機懸濁物）が被処理物入口５ａを
介して投入される排出槽５１と、該排出槽５１を囲んだ
状態のジャケット５２と、排出槽５１とジャケット５２
との間に介在状態に形成される熱交換室５３と、排出槽
５１の下部に配され無機分を懸濁物処理手段６に落とし
込む懸濁物排出口５ｂと、冷却水供給手段８Ａに接続さ
れ冷却水を受け入れる冷却水入口５ｃと、熱交換後の冷
却水を冷却水処理手段８Ｂに送り出すための冷却水出口
５ｄと、排出槽５１の内部で分離したガス成分をガス処
理手段９に送り出すためのガス排出口５ｅとを有してい
る。
て説明する。排出手段５は、分離器４Ａ，４Ｂ，４Ｃに
接続して超臨界及び高圧（例えば２０ＭＰａ程度の圧
力）状態の無機分（無機懸濁物）が被処理物入口５ａを
介して投入される排出槽５１と、該排出槽５１を囲んだ
状態のジャケット５２と、排出槽５１とジャケット５２
との間に介在状態に形成される熱交換室５３と、排出槽
５１の下部に配され無機分を懸濁物処理手段６に落とし
込む懸濁物排出口５ｂと、冷却水供給手段８Ａに接続さ
れ冷却水を受け入れる冷却水入口５ｃと、熱交換後の冷
却水を冷却水処理手段８Ｂに送り出すための冷却水出口
５ｄと、排出槽５１の内部で分離したガス成分をガス処
理手段９に送り出すためのガス排出口５ｅとを有してい
る。
【００１６】前記懸濁物処理手段６は、各排出手段５の
懸濁物排出口５ｂに接続されているとともに、排出槽５
１の内部が大気圧等の減圧状態である場合に、無機分を
引き取って処理する機能を有するものが適用される。
懸濁物排出口５ｂに接続されているとともに、排出槽５
１の内部が大気圧等の減圧状態である場合に、無機分を
引き取って処理する機能を有するものが適用される。
【００１７】前記処理水処理手段７は、図１に示すよう
に、最下流位置となっている分離器４Ｃに接続状態に配
され、分離器４Ｃで分離することにより生じた処理水等
の液分を吸引するポンプ機能を具備するものが適用され
るとともに、引き取った液分を貯留する機能を有するも
のが適用される。
に、最下流位置となっている分離器４Ｃに接続状態に配
され、分離器４Ｃで分離することにより生じた処理水等
の液分を吸引するポンプ機能を具備するものが適用され
るとともに、引き取った液分を貯留する機能を有するも
のが適用される。
【００１８】前記冷却水供給手段８Ａ及び冷却水処理手
段８Ｂは、図２に示すように、冷却水入口５ｃ及び冷却
水出口５ｄに接続され、排出手段５における熱交換室５
３に冷却水を供給して、排出槽５１を冷却することによ
り、その内部に貯留された無機分を例えば常温程度まで
温度低下させるとともに、熱交換後の冷却水を回収する
ものである。
段８Ｂは、図２に示すように、冷却水入口５ｃ及び冷却
水出口５ｄに接続され、排出手段５における熱交換室５
３に冷却水を供給して、排出槽５１を冷却することによ
り、その内部に貯留された無機分を例えば常温程度まで
温度低下させるとともに、熱交換後の冷却水を回収する
ものである。
【００１９】前記ガス処理手段９は、排出手段５のガス
排出口５ｅに接続され、排出槽５１の内部のガス分を吸
引して回収する機能や、回収したガスを貯留あるいは必
要な処理する機能を有するものが適用される。
排出口５ｅに接続され、排出槽５１の内部のガス分を吸
引して回収する機能や、回収したガスを貯留あるいは必
要な処理する機能を有するものが適用される。
【００２０】なお、図１及び図２において、ｂは切替
弁、ｃは制御弁、ｄは背圧弁を示している。
弁、ｃは制御弁、ｄは背圧弁を示している。
【００２１】このような水熱反応処理プラントＸでは、
原液供給手段１を作動させて、２０ＭＰａ程度の所望圧
力とした被処理液状有機物ａを予熱器２に供給し、例え
ば超臨界・状態となる前の温度（例えば２００℃程度）
まで加熱（予熱）してから、超臨界・水熱反応処理手段
３Ａに送り込んで、目的とする超臨界・水熱反応を発生
させる。
原液供給手段１を作動させて、２０ＭＰａ程度の所望圧
力とした被処理液状有機物ａを予熱器２に供給し、例え
ば超臨界・状態となる前の温度（例えば２００℃程度）
まで加熱（予熱）してから、超臨界・水熱反応処理手段
３Ａに送り込んで、目的とする超臨界・水熱反応を発生
させる。
【００２２】この際に、被処理液状有機物ａから無機物
が分離または析出した場合、あるいは無機分の分離量が
多い場合には、切替弁ｂの切り替えにより、分離器４Ａ
に予熱された被処理液状有機物ａを送り込んで、無機分
を沈降させるとともに、液状部分のみを超臨界・水熱反
応処理手段３Ａに送り込む工程が採用される。無機分の
分離が少ない場合や全くない場合には、分離器４Ａに送
り込むことなく、予熱された被処理液状有機物ａを直接
的に超臨界・水熱反応処理手段３Ａに送り込む工程が採
用される。
が分離または析出した場合、あるいは無機分の分離量が
多い場合には、切替弁ｂの切り替えにより、分離器４Ａ
に予熱された被処理液状有機物ａを送り込んで、無機分
を沈降させるとともに、液状部分のみを超臨界・水熱反
応処理手段３Ａに送り込む工程が採用される。無機分の
分離が少ない場合や全くない場合には、分離器４Ａに送
り込むことなく、予熱された被処理液状有機物ａを直接
的に超臨界・水熱反応処理手段３Ａに送り込む工程が採
用される。
【００２３】超臨界・水熱反応処理手段３Ａに送り込ま
れた予熱状態の被処理液状有機物ａは、加熱炉３２の作
動により、超臨界・水熱反応の発生適温（例えば前述の
２０ＭＰａの条件下で３５０℃程度の温度）まで加熱さ
れる。これらの高温高圧条件と、被処理液状有機物ａに
水が介在している（混入されている）条件とが重畳する
と、超臨界環境で水熱反応が発生し、有機物が組成的に
分解して水に溶解する現象が促進される。この際に、有
機物（前述したフロン，ＰＣＢ，汚泥，パルプスラッジ
等の炭素化合物）と水との混合体は、超臨界環境におい
て、水に対してほぼ均一に溶け込んだ状態となる。
れた予熱状態の被処理液状有機物ａは、加熱炉３２の作
動により、超臨界・水熱反応の発生適温（例えば前述の
２０ＭＰａの条件下で３５０℃程度の温度）まで加熱さ
れる。これらの高温高圧条件と、被処理液状有機物ａに
水が介在している（混入されている）条件とが重畳する
と、超臨界環境で水熱反応が発生し、有機物が組成的に
分解して水に溶解する現象が促進される。この際に、有
機物（前述したフロン，ＰＣＢ，汚泥，パルプスラッジ
等の炭素化合物）と水との混合体は、超臨界環境におい
て、水に対してほぼ均一に溶け込んだ状態となる。
【００２４】１段目の超臨界・水熱反応処理手段３Ａに
おいて、十分な温度が得られず、臨界状態に達しない場
合や、無機物の分解析出が多い場合には、超臨界・水熱
反応処理手段３Ａの下流の切替弁ｂを切り替えて、分離
器４Ｂから次段の超臨界・水熱反応処理手段３Ｂに液分
を送り込むようにして、超臨界・水熱反応処理を行な
う。したがって、超臨界・水熱反応処理手段３Ａ，３Ｂ
は、３段以上とすることができる。
おいて、十分な温度が得られず、臨界状態に達しない場
合や、無機物の分解析出が多い場合には、超臨界・水熱
反応処理手段３Ａの下流の切替弁ｂを切り替えて、分離
器４Ｂから次段の超臨界・水熱反応処理手段３Ｂに液分
を送り込むようにして、超臨界・水熱反応処理を行な
う。したがって、超臨界・水熱反応処理手段３Ａ，３Ｂ
は、３段以上とすることができる。
【００２５】超臨界・水熱反応によって生成された生成
物は、分離器４Ｂ，４Ｃに送り込まれることにより、減
圧された状態となり、超臨界水中の無機物（シリカ分や
塩分等）が析出して、分離器４Ｂ，４Ｃの底部に堆積す
る。この際に分離した上澄水は、次段の分離器４Ｃまた
は処理水処理手段７に送り込まれて処理される。
物は、分離器４Ｂ，４Ｃに送り込まれることにより、減
圧された状態となり、超臨界水中の無機物（シリカ分や
塩分等）が析出して、分離器４Ｂ，４Ｃの底部に堆積す
る。この際に分離した上澄水は、次段の分離器４Ｃまた
は処理水処理手段７に送り込まれて処理される。
【００２６】分離器４Ａ，４Ｂ，４Ｃで分離析出または
堆積した無機物は、分離器４Ａ，４Ｂ，４Ｃの上流の切
替弁ｂを閉塞して、高圧環境と切り離した状態で、排出
手段５との間の制御弁ｃを開放することにより、排出手
段５に移送される。該排出手段５にあっては、分離器４
Ａ，４Ｂ，４Ｃとの間の制御弁ｃを閉塞して切り離した
後、例えば大気圧程度の低圧環境に戻すとともに、冷却
水供給手段８Ａ及び冷却水処理手段８Ｂの作動により、
排出槽５１の貯留物を冷却する。
堆積した無機物は、分離器４Ａ，４Ｂ，４Ｃの上流の切
替弁ｂを閉塞して、高圧環境と切り離した状態で、排出
手段５との間の制御弁ｃを開放することにより、排出手
段５に移送される。該排出手段５にあっては、分離器４
Ａ，４Ｂ，４Ｃとの間の制御弁ｃを閉塞して切り離した
後、例えば大気圧程度の低圧環境に戻すとともに、冷却
水供給手段８Ａ及び冷却水処理手段８Ｂの作動により、
排出槽５１の貯留物を冷却する。
【００２７】その後、排出手段５におけるガス排出口５
ｅの下流の制御弁ｃを開放して、ＣＯ2 ，メタンガス，
水蒸気等をガス処理手段９に送り込んで回収するととも
に、排出槽５１の下流の制御弁ｃを開放して、無機物を
懸濁物処理手段６に送り込んで回収する。なお、排出槽
５１の内部温度を調整することにより、無機物中の有用
物（もしくは不要物）を再溶解させて、有用物と不要物
とを分離して回収することも可能である。
ｅの下流の制御弁ｃを開放して、ＣＯ2 ，メタンガス，
水蒸気等をガス処理手段９に送り込んで回収するととも
に、排出槽５１の下流の制御弁ｃを開放して、無機物を
懸濁物処理手段６に送り込んで回収する。なお、排出槽
５１の内部温度を調整することにより、無機物中の有用
物（もしくは不要物）を再溶解させて、有用物と不要物
とを分離して回収することも可能である。
【００２８】
【発明の効果】本発明に係る有機物の超臨界・水熱反応
処理方法及びその処理プラントによれば、以下の効果を
奏する。 （１） 被処理物の超臨界・水熱反応処理によって生成
された反応処理物を、超臨界・水熱反応処理手段と切り
離した状態で、無機分と液分とに分離することにより、
原料や反応処理物中の無機分が存在する場合にあって
も、その影響を低減した状態で超臨界・水熱反応処理を
行なって、有機物の分解作業を確実に実施することがで
きる。 （２） 分離器に、排出手段を接続して無機分の取り出
しを間欠的に行なう技術の採用により、超臨界・水熱反
応を実質的に停止することなく円滑に継続処理すること
ができる。 （３） 被処理物を予熱するとともに、その際に無機分
と液分とに分離してから、超臨界・水熱反応処理を実施
することにより、超臨界・水熱反応処理手段の負担を少
なくし、かつ無機分の堆積や目詰まりを防止して、プラ
ントの稼働性を高めることができる。 （４） 無機分を除いた状態の被処理物を、繰り返し超
臨界・水熱反応処理することにより、有機物の分解を確
実なものとし、フロン，ＰＣＢ等の有害有機物の無害化
に寄与することができる。 （５） 分離器と排出手段との間に制御弁を配して、接
続及び非接続制御を行なうことにより、プラントと系外
との接続や切り離しを容易にし、無機物の排出撤去を確
実にすることができる。 （６） 無機分について、ガス分との分離を行なうこと
により、有用物と不要物との分離回収性を高めることが
できる。
処理方法及びその処理プラントによれば、以下の効果を
奏する。 （１） 被処理物の超臨界・水熱反応処理によって生成
された反応処理物を、超臨界・水熱反応処理手段と切り
離した状態で、無機分と液分とに分離することにより、
原料や反応処理物中の無機分が存在する場合にあって
も、その影響を低減した状態で超臨界・水熱反応処理を
行なって、有機物の分解作業を確実に実施することがで
きる。 （２） 分離器に、排出手段を接続して無機分の取り出
しを間欠的に行なう技術の採用により、超臨界・水熱反
応を実質的に停止することなく円滑に継続処理すること
ができる。 （３） 被処理物を予熱するとともに、その際に無機分
と液分とに分離してから、超臨界・水熱反応処理を実施
することにより、超臨界・水熱反応処理手段の負担を少
なくし、かつ無機分の堆積や目詰まりを防止して、プラ
ントの稼働性を高めることができる。 （４） 無機分を除いた状態の被処理物を、繰り返し超
臨界・水熱反応処理することにより、有機物の分解を確
実なものとし、フロン，ＰＣＢ等の有害有機物の無害化
に寄与することができる。 （５） 分離器と排出手段との間に制御弁を配して、接
続及び非接続制御を行なうことにより、プラントと系外
との接続や切り離しを容易にし、無機物の排出撤去を確
実にすることができる。 （６） 無機分について、ガス分との分離を行なうこと
により、有用物と不要物との分離回収性を高めることが
できる。
【図１】 本発明に係る有機物の超臨界・水熱反応処理
方法及びその処理プラントの第１実施形態を示す結線図
である。
方法及びその処理プラントの第１実施形態を示す結線図
である。
【図２】 図１の排出手段を示すブロック図を併記した
正断面図である。
正断面図である。
Ｘ 超臨界・水熱反応処理プラント ａ 被処理物（被処理液状有機物） １ 原液供給手段 ２ 予熱器 ３Ａ，３Ｂ 超臨界・水熱反応処理手段 ４Ａ，４Ｂ，４Ｃ 分離器 ５ 排出手段 ６ 懸濁物処理手段 ７ 処理水処理手段 ８Ａ 冷却水供給手段 ８Ｂ 冷却水処理手段 ９ ガス処理手段 １１ 原液槽 １２ 供給ポンプ ３１Ａ 第１の反応槽 ３１Ｂ 第２の反応槽 ３２ 加熱炉 ５１ 排出槽 ５２ ジャケット ５３ 熱交換室 ｂ 切替弁 ｃ 制御弁 ｄ 背圧弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 11/06 Ｂ０９Ｂ 3/00 ３０３Ｈ
Claims (8)
- 【請求項１】 被処理物（ａ）を超臨界雰囲気で水熱反
応させる工程と、生成された反応処理物を無機分と液分
とに分離する工程とを有し、反応処理物の分離工程と切
り離した状態にして、分離した無機分の取り出しを間欠
的に行なうことを特徴とする有機物の超臨界・水熱反応
処理方法。 - 【請求項２】 被処理物（ａ）を予熱する工程と、予熱
時に分離した無機分を除去する工程と、無機分を除去し
た被処理物を超臨界・水熱反応処理する工程とを有する
ことを特徴とする請求項１記載の有機物の超臨界・水熱
反応処理方法。 - 【請求項３】 超臨界・水熱反応処理により生成された
無機分を除いた状態の被処理物（ａ）について、超臨界
・水熱反応処理を繰り返すことを特徴とする請求項１ま
たは２記載の有機物の超臨界・水熱反応処理方法。 - 【請求項４】 被処理物（ａ）を超臨界雰囲気で水熱反
応させる超臨界・水熱反応処理手段（３Ａ，３Ｂ）と、
該超臨界・水熱反応処理手段に接続され生成された反応
処理物を無機分と液分とに分離する分離器（４Ｂ，４
Ｃ）と、該分離器に接続され分離した無機分の取り出し
を間欠的に行なう排出手段（５）とを具備することを特
徴とする有機物の超臨界・水熱反応処理プラント。 - 【請求項５】 被処理物（ａ）を予熱する予熱器（２）
と、該予熱器に接続され予熱時に分離した無機分を除去
する分離器（４Ａ）とを有し、無機分を除去した状態の
被処理物を超臨界・水熱反応処理手段（３Ａ）に供給す
ることを特徴とする請求項４記載の有機物の超臨界・水
熱反応処理プラント。 - 【請求項６】 超臨界・水熱反応処理手段（３Ａ，３
Ｂ）の間に、無機分を除いた状態の被処理物（ａ）を供
給して、超臨界・水熱反応処理を繰り返すための分離器
（４Ｂ）が介在状態に配されることを特徴とする請求項
４または５記載の有機物の超臨界・水熱反応処理プラン
ト。 - 【請求項７】 排出手段（５）に、分離器（４Ａ，４
Ｂ，４Ｃ）と間欠的に接続する制御弁（ｃ）が配される
ことを特徴とする請求項５または６記載の有機物の超臨
界・水熱反応処理プラント。 - 【請求項８】 排出手段（５）に、無機分を受け入れる
懸濁物処理手段（６）と、分離したガス分を受け入れる
ガス処理手段（９）とが接続状態に配されることを特徴
とする請求項７記載の有機物の超臨界・水熱反応処理プ
ラント。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10317998A JP3887941B2 (ja) | 1998-04-14 | 1998-04-14 | 有機物の超臨界・水熱反応処理方法及びその処理プラント |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10317998A JP3887941B2 (ja) | 1998-04-14 | 1998-04-14 | 有機物の超臨界・水熱反応処理方法及びその処理プラント |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11290874A true JPH11290874A (ja) | 1999-10-26 |
| JP3887941B2 JP3887941B2 (ja) | 2007-02-28 |
Family
ID=14347295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10317998A Expired - Fee Related JP3887941B2 (ja) | 1998-04-14 | 1998-04-14 | 有機物の超臨界・水熱反応処理方法及びその処理プラント |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3887941B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11290678A (ja) * | 1998-04-15 | 1999-10-26 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 有機物の超臨界・水熱反応処理方法及びその処理プラント |
| JPH11290677A (ja) * | 1998-04-15 | 1999-10-26 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 有機物の超臨界・水熱反応処理方法及びその処理プラント |
| JP2001149767A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-06-05 | Japan Organo Co Ltd | 超臨界水処理装置及び超臨界水処理方法 |
| JP2005270816A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Ngk Insulators Ltd | 有機性廃棄物の高温高圧処理装置 |
| JP2006255620A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Ngk Insulators Ltd | 有機性廃棄物の高温高圧処理装置における残渣回収方法 |
| JP2006281096A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Osaka Gas Co Ltd | 汚泥処理装置及びそれを用いた汚泥処理方法 |
| CN114812251A (zh) * | 2022-04-29 | 2022-07-29 | 西安交通大学 | 一种用于超临界水处理技术的余热梯级利用系统 |
-
1998
- 1998-04-14 JP JP10317998A patent/JP3887941B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11290678A (ja) * | 1998-04-15 | 1999-10-26 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 有機物の超臨界・水熱反応処理方法及びその処理プラント |
| JPH11290677A (ja) * | 1998-04-15 | 1999-10-26 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 有機物の超臨界・水熱反応処理方法及びその処理プラント |
| JP2001149767A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-06-05 | Japan Organo Co Ltd | 超臨界水処理装置及び超臨界水処理方法 |
| JP2005270816A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Ngk Insulators Ltd | 有機性廃棄物の高温高圧処理装置 |
| JP2006255620A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Ngk Insulators Ltd | 有機性廃棄物の高温高圧処理装置における残渣回収方法 |
| JP4528173B2 (ja) * | 2005-03-18 | 2010-08-18 | メタウォーター株式会社 | 有機性廃棄物の高温高圧処理装置における残渣回収方法 |
| JP2006281096A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Osaka Gas Co Ltd | 汚泥処理装置及びそれを用いた汚泥処理方法 |
| CN114812251A (zh) * | 2022-04-29 | 2022-07-29 | 西安交通大学 | 一种用于超临界水处理技术的余热梯级利用系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3887941B2 (ja) | 2007-02-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6913700B2 (en) | Method of and arrangement for continuous hydrolysis of organic material | |
| WO2002085796A1 (en) | Process for hydrothermal treatment of materials | |
| JPH11290874A (ja) | 有機物の超臨界・水熱反応処理方法及びその処理プラント | |
| JP2011246721A (ja) | 炭化水素を含有する製品を処理する方法及び装置 | |
| US9611521B2 (en) | Extraction of gallium and/or arsenic from gallium arsenide | |
| JPH11290875A (ja) | 有機物の超臨界・水熱反応処理方法及びその処理プラント | |
| JP2003311141A (ja) | 有機物の処理方法及び処理装置 | |
| JPH11290876A (ja) | 有機物の超臨界・水熱反応処理方法及びその処理プラント | |
| JP3298863B2 (ja) | 超臨界水による連続処理装置および連続処理方法 | |
| JP2002102672A (ja) | 水熱反応装置および方法 | |
| JP3812135B2 (ja) | 有機物の超臨界・水熱反応処理方法及びその処理プラント | |
| JP4355246B2 (ja) | 有機性廃棄物の高温高圧処理装置 | |
| JPH11290820A (ja) | ダイオキシンの分解方法及びその分解処理プラント | |
| JP2004105820A (ja) | 水熱反応処理方法および装置 | |
| JP2004290819A (ja) | 高温高圧処理装置 | |
| JP2003340262A (ja) | 水熱反応処理装置及び水熱反応処理方法 | |
| JP4003084B2 (ja) | 浚渫土の無害化処理方法 | |
| JP2001149767A (ja) | 超臨界水処理装置及び超臨界水処理方法 | |
| JP2006068399A (ja) | 水熱分解装置及び方法 | |
| JP4062792B2 (ja) | 有機性廃棄物の処理方法及び装置 | |
| JP2003300099A (ja) | 水熱反応装置および方法 | |
| EP4172291B1 (en) | Treatment of mill scale containing hydrocarbons | |
| JP2003210969A (ja) | 超臨界水による連続処理装置および連続処理方法 | |
| JP2002355696A (ja) | 超臨界水酸化分解装置 | |
| JP2003300084A (ja) | 水熱反応処理方法および装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041122 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050926 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051004 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051128 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060314 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060515 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061107 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061120 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091208 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |