JPH11287631A - 観測装置 - Google Patents
観測装置Info
- Publication number
- JPH11287631A JPH11287631A JP10103878A JP10387898A JPH11287631A JP H11287631 A JPH11287631 A JP H11287631A JP 10103878 A JP10103878 A JP 10103878A JP 10387898 A JP10387898 A JP 10387898A JP H11287631 A JPH11287631 A JP H11287631A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- objective lens
- light
- observation
- reflected
- observation target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Studio Devices (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な構成により、対物レンズの反射光の影
響を防止する。 【解決手段】 発光部１３からの光をハーフミラー９お
よび対物レンズ１１を介して観測対象３ａに照射し、観
測対象３ａからの反射光を対物レンズ１１およびハーフ
ミラー９を介して受光部７ａで受光して観測対象３ａを
観測する。対物レンズ１１を傾斜させ、対物レンズ１１
からの反射光１１ｂが受光部７ａにおいて観測対象３ａ
の像に干渉しないようにする。
響を防止する。 【解決手段】 発光部１３からの光をハーフミラー９お
よび対物レンズ１１を介して観測対象３ａに照射し、観
測対象３ａからの反射光を対物レンズ１１およびハーフ
ミラー９を介して受光部７ａで受光して観測対象３ａを
観測する。対物レンズ１１を傾斜させ、対物レンズ１１
からの反射光１１ｂが受光部７ａにおいて観測対象３ａ
の像に干渉しないようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、観測装置に関し、
特に、半導体ウェハ、ガラス、セラミックなど絶縁体基
板の表面または表面付近に形成された回路や文字などの
パターンを観測するための観測装置に関する。
特に、半導体ウェハ、ガラス、セラミックなど絶縁体基
板の表面または表面付近に形成された回路や文字などの
パターンを観測するための観測装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体集積回路等の製造工程
において、半導体ウェハ、液晶基板、ガラス、セラミッ
ク、または樹脂などの対象物の表面に付された数字、文
字や回路等のパターンを、目視やカメラ、顕微鏡等で観
測することが行われている。たとえば、製造工程の中
で、ウェハに付された識別符号を読み取り、この識別符
号に応じて予め決められた加工が施される。
において、半導体ウェハ、液晶基板、ガラス、セラミッ
ク、または樹脂などの対象物の表面に付された数字、文
字や回路等のパターンを、目視やカメラ、顕微鏡等で観
測することが行われている。たとえば、製造工程の中
で、ウェハに付された識別符号を読み取り、この識別符
号に応じて予め決められた加工が施される。
【０００３】観測装置においては、発光部からの光をハ
ーフミラーおよび対物レンズを介して観測対象に照射
し、前記観測対象からの反射光を前記対物レンズおよび
ハーフミラーを介し受光部で受光して前記観測対象を観
測する観測装置が知られている。
ーフミラーおよび対物レンズを介して観測対象に照射
し、前記観測対象からの反射光を前記対物レンズおよび
ハーフミラーを介し受光部で受光して前記観測対象を観
測する観測装置が知られている。
【０００４】この種の観測装置においては、対物レンズ
の表面（両面）において発光部からの光が反射し、その
光が受光部に入射して観測対象の像と重なり、観測対象
の認識ができなくなるおそれがある。そこで、これを避
けるため、従来より反射防止膜をコーティングした対物
レンズを使用することが知られている。
の表面（両面）において発光部からの光が反射し、その
光が受光部に入射して観測対象の像と重なり、観測対象
の認識ができなくなるおそれがある。そこで、これを避
けるため、従来より反射防止膜をコーティングした対物
レンズを使用することが知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、対物レ
ンズに上記のような反射防止膜を形成すると、対物レン
ズの製造コストが上昇する。また、反射防止膜は一般に
多層に形成するためレンズの光透過率が低くなり、その
ため、照度を確保するために発光部が大型化したり、低
照度であっても認識できる高度な認識装置が必要となる
といった問題があった。
ンズに上記のような反射防止膜を形成すると、対物レン
ズの製造コストが上昇する。また、反射防止膜は一般に
多層に形成するためレンズの光透過率が低くなり、その
ため、照度を確保するために発光部が大型化したり、低
照度であっても認識できる高度な認識装置が必要となる
といった問題があった。
【０００６】本発明は上記の点にかんがみてなされたも
ので、簡単な構成により、対物レンズからの反射光によ
る影響を除去することを課題とする。
ので、簡単な構成により、対物レンズからの反射光によ
る影響を除去することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明においては、発光部からの光をハーフミラー
および対物レンズを介して観測対象に照射し、前記観測
対象からの反射光を前記対物レンズおよびハーフミラー
を介して受光部で受光して前記観測対象を観測する観測
装置であって、前記受光部において前記対物レンズによ
って反射された前記発光部からの光の像が前記観測対象
の像に干渉しない程度に、前記対物レンズを傾斜させる
ように構成した。
め、本発明においては、発光部からの光をハーフミラー
および対物レンズを介して観測対象に照射し、前記観測
対象からの反射光を前記対物レンズおよびハーフミラー
を介して受光部で受光して前記観測対象を観測する観測
装置であって、前記受光部において前記対物レンズによ
って反射された前記発光部からの光の像が前記観測対象
の像に干渉しない程度に、前記対物レンズを傾斜させる
ように構成した。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の形態の一例
を示す観測装置の全体構成図、図２は観測装置の光学系
の斜視図、図３は対物レンズの傾斜方向を説明する図で
ある。
を示す観測装置の全体構成図、図２は観測装置の光学系
の斜視図、図３は対物レンズの傾斜方向を説明する図で
ある。
【０００９】観測装置１は、半導体ウェハ３に形成され
た文字やパターンを観測する装置であり、例えば、英数
字などの文字コード等の一定の配列方向を有する観測対
象３ａを観測するのに好適な装置である。観測装置１の
各構成部分はボックス５内に収容され、ボックス５の上
方から下方に向けて、画像検出手段としてのＣＣＤカメ
ラ７、ハーフミラー９、カメラに対する対物レンズ１１
が配置されている。ハーフミラー９は入射光量の一部を
反射し、他の一部を透過する光学素子である。対物レン
ズ１１の前焦点位置には発光部１３が配置され、発光部
１３からの光はハーフミラー９で下方に反射され対物レ
ンズ１１で集光され観測対象３ａへ照射される。
た文字やパターンを観測する装置であり、例えば、英数
字などの文字コード等の一定の配列方向を有する観測対
象３ａを観測するのに好適な装置である。観測装置１の
各構成部分はボックス５内に収容され、ボックス５の上
方から下方に向けて、画像検出手段としてのＣＣＤカメ
ラ７、ハーフミラー９、カメラに対する対物レンズ１１
が配置されている。ハーフミラー９は入射光量の一部を
反射し、他の一部を透過する光学素子である。対物レン
ズ１１の前焦点位置には発光部１３が配置され、発光部
１３からの光はハーフミラー９で下方に反射され対物レ
ンズ１１で集光され観測対象３ａへ照射される。
【００１０】カメラ７は、絞り１５および結像レンズ１
７を備え、観測対象３ａからの反射光はハーフミラー９
を通過し、結像レンズ１７、絞り１５を経てカメラ７の
受光部７ａ（ＣＣＤ素子等）上に結像する。
７を備え、観測対象３ａからの反射光はハーフミラー９
を通過し、結像レンズ１７、絞り１５を経てカメラ７の
受光部７ａ（ＣＣＤ素子等）上に結像する。
【００１１】発光部１３は基板に複数の発光体（ＬＥＤ
等）を取り付けられて成り、発光体１３ａを中心にその
周りに複数の発光体１３ｂが配置されている。発光部１
３の発光体は単数であってもよい。発光部１３の前には
ディフューザ３３が配置されている。対物レンズ１１
は、発光部１３から発光された光を集光する集光レンズ
と、発光部１３から観測対象３ａに照射され反射した光
を結像用レンズ１７を通してカメラの受光部７ａに像を
結像させるための対物レンズとの両方の機能を有してい
る。なお、結像用レンズ１７の光軸を１７ａ、発光部１
３の中心発光体１３ａの光軸を１３ｃ、対物レンズ１１
の光軸を１１ａとする。また、発光部からの光が対物レ
ンズ１１で反射された反射光を１１ｂとする。
等）を取り付けられて成り、発光体１３ａを中心にその
周りに複数の発光体１３ｂが配置されている。発光部１
３の発光体は単数であってもよい。発光部１３の前には
ディフューザ３３が配置されている。対物レンズ１１
は、発光部１３から発光された光を集光する集光レンズ
と、発光部１３から観測対象３ａに照射され反射した光
を結像用レンズ１７を通してカメラの受光部７ａに像を
結像させるための対物レンズとの両方の機能を有してい
る。なお、結像用レンズ１７の光軸を１７ａ、発光部１
３の中心発光体１３ａの光軸を１３ｃ、対物レンズ１１
の光軸を１１ａとする。また、発光部からの光が対物レ
ンズ１１で反射された反射光を１１ｂとする。
【００１２】図１の１９は、対物レンズ１１を通さずに
観測対象３ａを照明する発光体（ＬＥＤ等）であり、発
光体１９からの光は、ディフューザ２５を介して観測対
象３ａへ照射される。
観測対象３ａを照明する発光体（ＬＥＤ等）であり、発
光体１９からの光は、ディフューザ２５を介して観測対
象３ａへ照射される。
【００１３】発光部１３の各発光体および発光体１９
は、発光コントローラ３５によって制御される。発光コ
ントローラ３５は、ドライバ３６とグループ制御部４０
とで構成され、ドライバ３６は、個々の発光体のＯＮ、
ＯＦＦおよび発光強度の制御を行う。グループ制御部４
０は、各発光体をグループ分けし、観測対象に応じて発
光すべき発光体グループを指定する。発光コントローラ
３５は制御装置（コンピュータ等）３７によって制御さ
れる。制御装置３７はＯＣＲシステムやパターン検査シ
ステム等も備えている。カメラ７からの映像信号３８は
モニタ３９によって表示されるとともに、制御装置３７
へ出力され、制御装置３７において画像認識される。
は、発光コントローラ３５によって制御される。発光コ
ントローラ３５は、ドライバ３６とグループ制御部４０
とで構成され、ドライバ３６は、個々の発光体のＯＮ、
ＯＦＦおよび発光強度の制御を行う。グループ制御部４
０は、各発光体をグループ分けし、観測対象に応じて発
光すべき発光体グループを指定する。発光コントローラ
３５は制御装置（コンピュータ等）３７によって制御さ
れる。制御装置３７はＯＣＲシステムやパターン検査シ
ステム等も備えている。カメラ７からの映像信号３８は
モニタ３９によって表示されるとともに、制御装置３７
へ出力され、制御装置３７において画像認識される。
【００１４】図３（Ａ）は対物レンズ１１付近の正面
図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は観測対象３ａの平面
図である。対物レンズ１１は、ホルダ２１に保持され、
ホルダ２１は固定ねじ２３によりボックス５に取り付け
られている。対物レンズ１１は固定ねじ２３を軸として
回転可能である。
図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は観測対象３ａの平面
図である。対物レンズ１１は、ホルダ２１に保持され、
ホルダ２１は固定ねじ２３によりボックス５に取り付け
られている。対物レンズ１１は固定ねじ２３を軸として
回転可能である。
【００１５】観測対象３ａは、ここでは英数文字の配列
であり、図２，３に示すようにｘ0軸方向に一列に配列
されている。対物レンズ１１はｘ0軸に平行なｘ1軸を回
転軸として回転可能である。この対物レンズ１１を回転
させることにより、図３（Ｂ）に示すように、対物レン
ズ１１の光軸１１ａは、カメラ７の結像用レンズ１７の
光軸１７ａに対して角θだけ傾斜している。この傾斜角
θの大きさは、対物レンズ１１からの反射光が受光部７
ａにおいて観測対象３ａの像に干渉しない程度に組立工
程において調整される。好ましくは図１に示すように対
物レンズ１１からの反射光１１ｂが開口した絞り１５の
外側に照射するように対物レンズ１１の傾きを調整す
る。なお、説明の便宜上、図１における観測対象３ａの
配列方向は図２，３とは異なりｙ0軸方向とし、そのた
め図１における対物レンズ１１の傾斜方向も図２，３と
は異なっている。
であり、図２，３に示すようにｘ0軸方向に一列に配列
されている。対物レンズ１１はｘ0軸に平行なｘ1軸を回
転軸として回転可能である。この対物レンズ１１を回転
させることにより、図３（Ｂ）に示すように、対物レン
ズ１１の光軸１１ａは、カメラ７の結像用レンズ１７の
光軸１７ａに対して角θだけ傾斜している。この傾斜角
θの大きさは、対物レンズ１１からの反射光が受光部７
ａにおいて観測対象３ａの像に干渉しない程度に組立工
程において調整される。好ましくは図１に示すように対
物レンズ１１からの反射光１１ｂが開口した絞り１５の
外側に照射するように対物レンズ１１の傾きを調整す
る。なお、説明の便宜上、図１における観測対象３ａの
配列方向は図２，３とは異なりｙ0軸方向とし、そのた
め図１における対物レンズ１１の傾斜方向も図２，３と
は異なっている。
【００１６】以上のような構成の装置において、発光部
１３から出射された光はハーフミラー９で反射され、対
物レンズ１１を通って観測対象３ａに照射される。この
とき、発光部１３からの光の一部は対物レンズ１１の表
面で反射され、その反射光は受光部７ａ方向に入射され
る。しかし、対物レンズ１１は若干傾斜しており、それ
により、受光部７ａにおいて対物レンズ１１によって反
射された発光部１３からの光の像が観測対象１３ａの像
を干渉しないようになっている。したがって、対物レン
ズ１１からの反射光の影響を受けることなく、観測対象
３ａの認識を行うことができる。
１３から出射された光はハーフミラー９で反射され、対
物レンズ１１を通って観測対象３ａに照射される。この
とき、発光部１３からの光の一部は対物レンズ１１の表
面で反射され、その反射光は受光部７ａ方向に入射され
る。しかし、対物レンズ１１は若干傾斜しており、それ
により、受光部７ａにおいて対物レンズ１１によって反
射された発光部１３からの光の像が観測対象１３ａの像
を干渉しないようになっている。したがって、対物レン
ズ１１からの反射光の影響を受けることなく、観測対象
３ａの認識を行うことができる。
【００１７】以上のように、本発明による観測装置によ
れば、対物レンズ１１の表面に反射防止膜等のコーティ
ングを施す必要がなく、低コストの装置を提供すること
ができる。さらに、対物レンズ１１にコーティングをし
ないので、対物レンズが明るくなり、大きな光源がいら
なくなるので発光部１３を小型にすることができ、カメ
ラについても低照度用の廉価なものを使用することがで
きる。さらに、対物レンズが明るくなるので、十分な照
度で照明することができ、観測対象の認識率が向上す
る。
れば、対物レンズ１１の表面に反射防止膜等のコーティ
ングを施す必要がなく、低コストの装置を提供すること
ができる。さらに、対物レンズ１１にコーティングをし
ないので、対物レンズが明るくなり、大きな光源がいら
なくなるので発光部１３を小型にすることができ、カメ
ラについても低照度用の廉価なものを使用することがで
きる。さらに、対物レンズが明るくなるので、十分な照
度で照明することができ、観測対象の認識率が向上す
る。
【００１８】なお、対物レンズ１１を傾斜させると、受
光部１１における観測対象３ａの像が歪んでしまうこと
が考えられる。その歪は、対物レンズ１１の回転軸（図
２，３のｘ1軸）に沿って配列された観測対象３ａにつ
いては小さく、回転軸から離れるに従って大きくなる。
そこで、上記装置においては、対物レンズ１１の回転軸
（ｘ1軸）の方向を観測対象３ａの配列方向（ｘ0軸方
向）に合わせるようにした。それにより観測対象３ａの
像の歪は小さくなり、制御装置３７での認識の妨げにな
ることはない。
光部１１における観測対象３ａの像が歪んでしまうこと
が考えられる。その歪は、対物レンズ１１の回転軸（図
２，３のｘ1軸）に沿って配列された観測対象３ａにつ
いては小さく、回転軸から離れるに従って大きくなる。
そこで、上記装置においては、対物レンズ１１の回転軸
（ｘ1軸）の方向を観測対象３ａの配列方向（ｘ0軸方
向）に合わせるようにした。それにより観測対象３ａの
像の歪は小さくなり、制御装置３７での認識の妨げにな
ることはない。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
簡単な構成により、対物レンズによる反射光の影響を除
去することができる。
簡単な構成により、対物レンズによる反射光の影響を除
去することができる。
【図１】本発明の観測装置の一例の全体構成図
【図２】光学系の主要部を示す斜視図
【図３】対物レンズの傾斜方向を説明する図
３ａ 観測対象 １１ 対物レンズ １３ 発光部
Claims (3)
- 【請求項１】 発光部からの光をハーフミラーおよび対
物レンズを介して観測対象に照射し、前記観測対象から
の反射光を前記対物レンズおよびハーフミラーを介して
受光部で受光して前記観測対象を観測する観測装置であ
って、 前記受光部において前記対物レンズによって反射された
前記発光部からの光の像が前記観測対象の像に干渉しな
い程度に、前記対物レンズを傾斜させたことを特徴とす
る観測装置。 - 【請求項２】 前記観測対象が一定の配列方向に配列さ
れ前記配列方向に平行な方向にのびる回転軸を中心に前
記対物レンズを回転させて傾斜させる請求項１に記載の
観測装置。 - 【請求項３】 前記対物レンズの傾斜角が調整可能であ
る請求項１または２に記載の観測対象。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10103878A JPH11287631A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 観測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10103878A JPH11287631A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 観測装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11287631A true JPH11287631A (ja) | 1999-10-19 |
Family
ID=14365703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10103878A Pending JPH11287631A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 観測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11287631A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005531772A (ja) * | 2002-06-28 | 2005-10-20 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 高透過光学検査ツール |
| JP2008134214A (ja) * | 2006-11-01 | 2008-06-12 | Lasertec Corp | マスク検査装置 |
| US7405827B2 (en) | 2004-09-14 | 2008-07-29 | Vaisala Oyj | Gas content measuring apparatus and method |
| JP2017152664A (ja) * | 2016-02-26 | 2017-08-31 | 株式会社リコー | 回路基板用シート供給装置及び該回路基板用シート供給装置を備えるシステム |
-
1998
- 1998-03-31 JP JP10103878A patent/JPH11287631A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005531772A (ja) * | 2002-06-28 | 2005-10-20 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 高透過光学検査ツール |
| JP2012027039A (ja) * | 2002-06-28 | 2012-02-09 | Kla-Encor Corp | 高透過光学検査ツール |
| US7405827B2 (en) | 2004-09-14 | 2008-07-29 | Vaisala Oyj | Gas content measuring apparatus and method |
| JP2008134214A (ja) * | 2006-11-01 | 2008-06-12 | Lasertec Corp | マスク検査装置 |
| JP2017152664A (ja) * | 2016-02-26 | 2017-08-31 | 株式会社リコー | 回路基板用シート供給装置及び該回路基板用シート供給装置を備えるシステム |
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