JPH11283954A - 基板収納キャリア洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 使用処理液量を大幅に削減し、乾燥時の液残
りを防止してパーティクルの発生を防止可能な小型で省
スペースの基板収納キャリア洗浄装置を得る。 【解決手段】 搬送用キャリアＣ１の形状に沿った収納
凹部３１および収納凸部３２が搬送用キャリアＣ１を挟
み込んだ収納凹部３１および収納凸部３２と搬送用キャ
リアＣ１との収納空間３３内に洗浄用の処理液や乾燥用
の処理流体の流通経路３４を形成して洗浄処理や乾燥処
理を行うため、装置が小型化して省スペースとなると共
に、薬液洗浄処理および水洗洗浄処理さらには乾燥処理
を一つの装置で行うことができる。このため、洗浄用の
処理液や乾燥用の処理流体の使用量は、収納凹部３１お
よび収納凸部３２と搬送用キャリアＣ１との収納空間３
３内の最小限の容積であり、洗浄用の処理液量や乾燥用
の処理流体量も大幅に削減される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示パネル用ガラス基板などの複数の薄板状の被処理
基板（以下単に基板という）を処理液中に浸漬させて基
板に所定の処理を施す基板処理装置などに用いられ、複
数の基板を所定の並び方向で並べて収容可能な基板収納
キャリアを洗浄する基板収納キャリア洗浄装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体ウエハや液晶表示パネル用
ガラス基板などを用いた精密電子基板の製造プロセスに
おいては、基板を処理液に浸漬させて種々の表面処理を
施す基板処理装置が用いられている。このような基板の
表面処理においては、エッチング液（燐酸溶液など）な
どの薬液を貯留した薬液槽、さらに、リンス液である純
水を貯留した水洗槽に順次基板を浸漬させて、基板に所
定の薬液処理を施した後に、さらに、水洗槽にて基板に
付着した薬液やそれによって発生したパーティクルなど
の汚染物質を洗い流すリンス処理を行っている。

【０００３】これらの処理と並行して、搬送用キャリア
内の複数のウエハを処理用キャリア内に移し替えて空に
なった搬送用キャリアを洗浄して乾燥する基板収納キャ
リア洗浄工程がある。

【０００４】この基板収納キャリア洗浄工程において
は、その搬送用キャリアを洗浄して乾燥する基板収納キ
ャリア洗浄装置が設けられている。このような基板収納
キャリア洗浄装置として、その搬送用キャリアに薬液や
純水などの処理液をスプレーすることで搬送用キャリア
に付着していたパーティクルなどの汚染物質を流し取っ
て薬液洗浄処理や水洗処理をしたり、また、処理槽内の
処理液中に搬送用キャリアを浸漬することで搬送用キャ
リアに付着していたパーティクルなどの汚染物質を取り
去って洗薬液浄処理や水洗処理をしたりし、その後、薬
液洗浄および水洗処理済みの搬送用キャリアを乾燥処理
していた。

【０００５】その乾燥処理として、スピンドライ方式
や、引き上げ方式または引下げ方式がある。このスピン
ドライ方式では、薬液洗浄さらに水洗後の搬送用キャリ
アをスピンドライヤにセットし、回転による遠心力で搬
送用キャリアに付着している水滴などを振り切って乾燥
処理していた。

【０００６】また、搬送用キャリアは疎水性樹脂で構成
されており、搬送用キャリアに付着する水滴はその強い
表面張力ではじくため、搬送用キャリアに対してゆっく
りと液面を低下させると、搬送用キャリアに接触してい
る処理液は、処理槽内に戻る処理液と一緒に戻って搬送
用キャリアの表面における液残りが抑制されるのを利用
して、例えば引き上げ方式では、処理槽内の処理液中か
ら搬送用キャリアを載置したリフタ装置を徐々に引き上
げたり、引下げ方式では、処理槽内の処理液を徐々に排
液して搬送用キャリアを液面上に徐々に露出させたりし
た後に自然乾燥させていた。この自然乾燥の代りに、こ
れらの引き上げ方式または引下げ方式による処理後に、
ランプなどによる加熱乾燥処理を組み合わせて自然乾燥
よりも早く乾燥させるようにしていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の構成では、
搬送用キャリアに対する薬液や純水などの処理液のスプ
レーやディップによる薬液洗浄や水洗のため薬液や純水
などの使用処理液量が多く、また、洗浄処理後の乾燥処
理において、例えばスピンドライヤによる乾燥処理の場
合、搬送用キャリアは絶縁部材で構成されているため、
搬送用キャリアを高速回転させると、搬送用キャリアは
空気との摩擦によって帯電してパーティクルを引き寄せ
る原因になったり、搬送用キャリア内の複数の基板保持
溝部は側壁で囲まれているため、高速回転で処理液を振
り切っても、なお液残りが生じるという問題を有してい
た。また、このスピンドライヤは、高速回転機構を有し
ているために装置自体も大型化する。

【０００８】また、引き上げ方式や引下げ方式による乾
燥処理の場合には、搬送用キャリア内の複数の基板保持
溝部やその上端部分に多くの液残りが発生するという問
題を有していた。さらに、これらの引き上げや引下げの
後に、ランプなどのよる加熱乾燥を行う場合には、疎水
性の搬送用キャリアの表面では液残りした水滴はその表
面張力で丸くなっているために、加熱乾燥であっても乾
燥しにくく、乾燥処理にも比較的乾燥時間がかかるばか
りか、それによる電力消費も大きく、搬送用キャリアの
表面上の水滴の乾燥後にしみが発生しやすい。そのしみ
が原因となってパーティクルの原因になっていた。

【０００９】このように、搬送用キャリア内に液残りが
あると、それがパーティクルの原因となってウエハなど
の表面に付着してしまい、その付着したパーティクルに
よって製品品質に多大なる悪影響を与えてしまう。

【００１０】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、使用処理液量を大幅に削減すると共に、乾燥時の液
残りを防止してパーティクルの発生を防止することがで
きる小型で省スペースの基板収納キャリア洗浄装置を提
供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の基板収納キャリ
ア洗浄装置は、複数の基板を所定の並び方向で並べて収
容可能な基板収納キャリアを洗浄する基板収納キャリア
洗浄装置において、基板収納キャリアの形状に対応した
収納凹部および収納凸部が基板収納キャリアを挟み込ん
で収納凹部および収納凸部内に隙間を有した状態で収納
自在に設けられ、収納凹部および収納凸部内に対して洗
浄用の処理液および乾燥用の処理流体のうち少なくとも
洗浄用の処理液を供給すると共に収納凹部および収納凸
部内から処理液および処理流体のうち少なくとも処理液
を排出する流通経路が設けられたことを特徴とするもの
である。

【００１２】この構成により、洗浄時や乾燥時の周囲へ
の水滴などの飛び散り防止のために、基板収納キャリア
全体を単に覆って洗浄処理（洗浄処理とは薬液洗浄処理
および水洗処理を含む）および乾燥処理するのではな
く、基板収納キャリアの形状に対応した収納凹部および
収納凸部が基板収納キャリアを挟み込んで収納凹部およ
び収納凸部と基板収納キャリアとの隙間内に洗浄用の処
理液や乾燥用の処理流体の流通経路を形成して洗浄処理
や乾燥処理を行うので、装置が小型化して省スペースと
なると共に、薬液洗浄処理および水洗処理さらには乾燥
処理を一つの装置で一つのポジションで行うことが可能
となる。また、洗浄用の処理液や乾燥用の処理流体の量
は、収納凹部および収納凸部と基板収納キャリアとの隙
間内の流通経路内の最小限の容積であり、洗浄時に使用
する処理液量や、乾燥時に使用する処理流体量も大幅に
削減され得る。さらに、基板収納キャリアを収容した収
納凹部および収納凸部内との隙間を洗浄用の処理液さら
に乾燥用の処理流体が流れることで洗浄効果および洗浄
効率も向上し、さらに乾燥効果および乾燥効率も向上し
て液残りおよびそれによるしみの発生が防止されてパー
ティクルの発生も防止される。

【００１３】また、基板収納キャリアを収容した収納凹
部および収納凸部内との隙間を洗浄用の処理液が流れ、
その洗浄終了時に、その流通経路内をゆっくりと処理液
を排出させるようにすれば、搬送用キャリアに接触して
いる処理液は、排出される処理液と一緒に戻って搬送用
キャリアの表面における液残りが抑制されて、乾燥用の
処理流体を流さずとも、ある程度の乾燥効果があり、乾
燥用の処理流体を流せば更なる乾燥効果がある。

【００１４】また、好ましくは、本発明の基板収納キャ
リア洗浄装置において、収納凹部および収納凸部内の流
通経路は減圧可能な密閉構造である。

【００１５】この構成により、収納凹部および収納凸部
内の流通経路内をシール材などで密閉構造として減圧乾
燥すれば乾燥効果がよりいっそう向上する。

【００１６】さらに、好ましくは、本発明の基板収納キ
ャリア洗浄装置において、収納凹部および収納凸部内に
開口した流体導入口の略反対側に流体排出口が設けら
れ、流通経路は、流体導入口から供給された洗浄用の処
理液および乾燥用の処理流体のうち少なくとも処理液は
基板収納キャリアの基板保持溝の長手方向に沿って流れ
た後に流体排出口から排出する構成となっている。

【００１７】上記構成により、流体導入口からそれぞれ
複数の保持溝部に沿って流れる洗浄用の処理液や乾燥用
の処理流体は、複数の保持溝部などでパーティクルなど
の汚染物質を流し落して、複数の保持溝部内から排出口
を介して排出するので、洗浄用の処理液や乾燥用の処理
流体の流れは、隣接する他の保持溝部の方向へは流れに
くく、基板収納キャリアの保持溝内から流れ落ちた汚染
物質は隣の保持溝内や保持溝間などに周り込んで再び付
着するようなこともなく、洗浄用の処理液や乾燥用の処
理流体と共に各保持溝部から排出口を介してスムーズに
流れ出ることになる。このように、基板収納キャリアに
おける複数の保持溝部内から効率よく汚染物質が取り除
かれると共に、その汚染物質によるウエハなどの表面へ
の転写も抑制され、それによる製品品質に対する悪影響
を防止することが可能となる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照して説明するが、本発明は以下に示す実施形
態に限定されるものではない。

【００１９】（実施形態１）図１は本発明の実施形態１
における基板収納キャリア洗浄装置を組み込んでなる基
板処理装置の概略構成を示す平面図であり、矢印Ｆで示
される面が装置の正面である。

【００２０】図１において、基板処理装置１は、処理前
ウエハ搬入搬出機構部２の搬入台３上に載置され複数の
処理前ウエハが収容された搬送用キャリアＣ１を第１テ
ーブル４上に移送すると共に、この第１テーブル４上で
空となった処理用キャリアＣ１を処理前ウエハ搬入搬出
機構部２の搬出台５上に移送する搬送用キャリア移載装
置６と、搬送用キャリアＣ１内の複数の処理前ウエハを
処理用キャリアＣ２内に移し替える処理前ウエハの移し
替え機構部７と、複数の被処理ウエハに対して所要の表
面処理が施される表面処理部８と、搬送用キャリアＣ１
から複数の処理前ウエハを受け取った処理用キャリアＣ
２を表面処理部８内に搬送する処理用キャリア搬送装置
９と、本発明の一実施形態であって、空になった搬送用
キャリアＣ１に対して薬液洗浄処理、水洗処理および乾
燥処理が施される基板収納キャリア洗浄装置１０と、搬
出台５上の空の搬送用キャリアＣ１を基板収納キャリア
洗浄装置１０まで搬送する洗浄前キャリア搬送装置１１
と、基板収納キャリア洗浄装置１０から処理済みウエハ
搬入搬出機構部１２の搬入台１３上に搬送する洗浄済み
搬送用キャリア搬送装置１４と、搬入台１３上から第２
テーブル１５上に空の処理済みキャリアＣ１が移送され
ると共に、この第２テーブル１５上において、複数の処
理済みウエハが収容された処理用キャリアＣ１を処理済
みウエハ搬入搬出機構部１２の搬出台１６上に移送する
搬送用キャリア移載装置１７と、第１テーブル１８上の
処理用キャリアＣ２から第２テーブル１５上の空の搬送
用キャリアＣ１内に複数の処理済みウエハを移し替える
処理済みウエハ移し替え機構部１９と、表面処理部８に
おける搬送方向とは反対方向に空の処理用キャリアＣ２
を搬送する処理用キャリア搬送コンベア装置２０と、第
１テーブル１８上で空となった処理用キャリアＣ２を処
理用キャリア搬送コンベア装置２０上に移送する処理用
キャリア移載装置２１と、処理用キャリア搬送コンベア
装置２０上の空の処理用キャリアＣ２を第２テーブル２
２上に移送する処理用キャリア移載装置２３とを有して
いる。

【００２１】この表面処理部８は、薬液または純水であ
る各種処理液をそれぞれ貯留した複数の処理槽にわたっ
て複数の被処理ウエハを順次浸漬させることにより複数
の被処理ウエハに薬液処理や水洗処理などの一連の各種
処理が施され、処理後の複数の被処理ウエハをスピン乾
燥させるようになっている。

【００２２】図２は図１の基板収納キャリア洗浄装置１
０の概略要部構成を示す模式図であり、図３は図２の基
板収納キャリア洗浄部３０のＡＡ線の横断面図である。

【００２３】図２および図３において、基板収納キャリ
ア洗浄装置１０は、複数のウエハを所定の並び方向で並
べて収容可能な空の基板収納キャリアとしての搬送用キ
ャリアＣ１をキャリア洗浄部３０で洗浄処理（洗浄処理
とは薬液洗浄処理および水洗処理を含む）した後に乾燥
処理するものである。この基板収納キャリア洗浄装置１
０のキャリア洗浄部３０は、搬送用キャリアＣ１の形状
に対応した収納凹部３１および収納凸部３２が搬送用キ
ャリアＣ１を上下方向から挟み込んで収納凹部３１およ
び収納凸部３２内に収納空間３３を有した状態で収納自
在に設けられている。これらの収納凹部３１および収納
凸部３２内に対して洗浄用の処理液（薬液や純水など）
さらに乾燥用の処理流体（高温の窒素とＩＰＡベーパな
ど）を供給すると共に、これらの収納凹部３１および収
納凸部３２内から処理液および処理流体をそれぞれ排出
する流通経路３４が設けられている。また、この収納凸
部３２はシリンダなどの駆動手段によって上下に移動自
在で開閉自在に構成されており、収納凹部３１および収
納凸部３２内の流通経路３４は分離部分にシール材３２
ｂを介して減圧可能な密閉構造としている。

【００２４】また、このキャリア洗浄部３０は、収納凹
部３１および収納凸部３２内に開口した流体導入口３５
の略反対側に流体排出口３６が設けられ、流体導入口３
５から供給された洗浄用の処理液さらに乾燥用の処理流
体が収納空間３３内の搬送用キャリアＣ１の複数の基板
保持溝３７の長手方向に沿って流れた後に流体排出口３
６から排出する構成となっている。

【００２５】この流体導入口３５には、流量調整用のエ
アオペレートバルブ３８を介して洗浄用の処理液供給ラ
インの混合部３９が配管接続されていると共に、流量調
整用のエアオペレートバルブ４０を介して乾燥用の処理
流体供給ラインに配管接続されている。また、流体排出
口３６には、流量調整用のエアオペレートバルブ４１，
４２と、これらのエアオペレートバルブ４１，４２を介
した減圧ポンプ４３とが配管接続されていると共に、流
量調整用のエアオペレートバルブ４４，４５が配管接続
されており、エアオペレートバルブ４４を開状態にする
と共にエアオペレートバルブ４５を絞ることによってゆ
っくりと流体排出口３６から排液可能なようになってい
る。

【００２６】また、エアオペレートバルブ４１，４２の
間の管路には、その管路内を流れる純水の比抵抗を計測
する比抵抗計測器４６が配設されており、比抵抗計測器
４６による比抵抗値が所定値以上となったときに水洗を
完了するようになっている。また、エアオペレートバル
ブ４１，４２の間の管路には排液ラインが分岐されてお
り、この分岐した排液ラインに流量調整用のエアオペレ
ートバルブ４７が介装されている。

【００２７】さらに、洗浄用の処理液供給ラインの混合
部３９には、流量調整用のエアオペレートバルブ４８を
介して第１薬液ラインが接続され、流量調整用のエアオ
ペレートバルブ４９を介して第２薬液ラインが接続さ
れ、流量調整用のエアオペレートバルブ５０を介してメ
ガソニックラインが接続され、さらに流量調整用のエア
オペレートバルブ５１を介して純水供給源が接続されて
いる。

【００２８】さらに、制御部５２はマイクロコンピュー
タやシーケンサなどで構成されており、流量調整用のエ
アオペレートバルブ３８，４０，４１，４２，４４，４
７，４８，４９，５０，５１の開閉を制御すると共に、
減圧ポンプ４３の駆動を制御して、搬送用キャリアＣ１
を収容した収納凹部３１および収納凸部３２内との収納
空間３３内に対して洗浄用の処理液を供給する洗浄処
理、収納空間３３内に対して純水を供給する水洗処理、
純水をゆっくりと排水し乾燥用の処理流体を供給するス
ロードレインおよび処理流体供給処理、収納空間３３内
を減圧して乾燥させる減圧処理さらに、収納空間３３内
を大気圧に戻す常圧処理を行うようになっている。

【００２９】また、制御部５２は、比抵抗計測器４６に
よって、管路内を流れる純水の比抵抗が所定値以上にな
ったかどうかを監視しており、純水の比抵抗が所定値以
上になった場合に水洗完了と判定して次のスロードレイ
ンおよび処理流体供給処理に移行するように制御が為さ
れるようになっている。このように、比抵抗測定によっ
て搬送用キャリアＣ１の洗浄による清浄度を測定するこ
とができるようになっている。搬送用キャリアＣ１がそ
のまま入ってしまうような大きなチャンバではその比抵
抗の差は判らない。

【００３０】さらに、制御部５２は、図示しない搬送ロ
ボットのハンド部で空の搬送用キャリアＣ１を収納凹部
３１内に挿入してセットして、その上方から収納凸部３
２をシリンダなどの駆動手段（図示せず）によって蓋を
するキャリア導入制御と、収納凸部３２をシリンダなど
の駆動手段（図示せず）によって上降させて収納凹部３
１の上方を開口させ、収納凹部３１内の搬送用キャリア
Ｃ１を、図示しない搬送ロボットのハンド部で取り出す
キャリア取出制御とを行うようになっている。

【００３１】上記構成により、以下、その動作を説明す
る。まず、クリーンルーム内に基板処理装置１が設置さ
れており、正面方向からこのウエハ搬入側の搬入台３上
に搬送用キャリアＣ１が載置される。その後、搬入台３
上に載置された搬送用キャリアＣ１は、搬送用キャリア
移載装置６によって、搬入台３から処理前ウエハの移し
替え機構部７の第１テーブル４上へ移送される。この移
し替え機構部７の第１テーブル４に対向配設された第２
テーブル２２上には空の処理用キャリアＣ２が載置され
ている。

【００３２】この処理前ウエハの移し替え機構部７にお
いて、搬送用キャリアＣ１内の複数の処理前ウエハが処
理用キャリアＣ２内に移し替えられる。搬送用キャリア
Ｃ１内に処理前ウエハを移し替えて空になった搬送用キ
ャリアＣ１は、搬送用キャリア移載装置６によって複数
の処理前ウエハの移し替え機構部７の第１テーブル４か
ら搬出機構部２の搬出台５上に移載される。また、搬送
用キャリアＣ１から複数の処理前ウエハを受け取った処
理用キャリアＣ２は、処理用キャリア搬送装置９によっ
て表面処理部８内に搬送され、その間で、複数の被処理
ウエハに対して所要の表面処理が施される。さらに、そ
の表面処理を終えた複数のウエハを収容した処理用キャ
リアＣ２は処理済みウエハの移し替え機構部１９の第１
テーブル１８上に載置されることになる。

【００３３】さらに、搬出機構部２の搬出台５上に搬送
用キャリア移載装置６によって移載された空の搬送用キ
ャリアＣ１は、図示しないコンベア装置や搬送ロボット
などの洗浄前キャリア搬送装置１１によって基板収納キ
ャリア洗浄装置１０に搬送され、その基板収納キャリア
洗浄装置１０で搬送用キャリアＣ１が洗浄処理された後
に乾燥処理される。

【００３４】ここで、基板収納キャリア洗浄装置による
搬送用キャリアＣ１の洗浄処理および乾燥処理につい
て、以下に詳細に説明する。

【００３５】まず、キャリア導入工程で、図３に示すよ
うに上方が矩形状に開口した収納凹部３１内に、図示し
ない搬送ロボットのハンド部などで空の搬送用キャリア
Ｃ１を挿入してセットし、その上方から収納凸部３２を
シリンダなどの駆動手段（図示せず）によって下降させ
て空の搬送用キャリアＣ１内の空間部分にその凸部３２
ａを挿入して埋めて蓋をする。これらの収納凹部３１と
収納凸部３２との分離部分は矩形状であり、この矩形状
の分離部分は弾性体よりなるシール部材３２ｂを介して
収納凹部３１と収納凸部３２内を密閉構造としている。

【００３６】次に、洗浄工程で、制御部５２はエアオペ
レートバルブ３８，４１，４７，４８，５１を開状態に
制御すると共に、エアオペレートバルブ４０，４２，４
４，４９，５０を閉状態に制御することで、洗浄用の薬
液と純水を混合部３９で所定の混合比で混合した処理液
はエアオペレートバルブ３８を介して導入口３５から、
搬送用キャリアＣ１を収容した収納凹部３１および収納
凸部３２内との収納空間３３内を洗浄用の処理液が搬送
用キャリアＣ１の表面を上から下に流れて搬送用キャリ
アＣ１の表面に付着していたパーティクルなどの汚染物
質を洗い落しつつ排出口３６からエアオペレートバルブ
４１，４７を介して排液される。このとき、エアオペレ
ートバルブ５０を開状態に制御して超音波洗浄のメガソ
ニックを加えることもできる。

【００３７】さらに、水洗工程で、上記洗浄工程の状態
から、制御部５２は薬液用のエアオペレートバルブ４８
を開状態から閉状態に制御して、導入口３５から、搬送
用キャリアＣ１を収容した収納凹部３１および収納凸部
３２内との収納空間３３内を純水が搬送用キャリアＣ１
の表面を上から下に流れて搬送用キャリアＣ１の表面に
付着していた薬液やその薬液によって流れ落ちたパーテ
ィクルなどの汚染物質を水洗しつつ排出口３６からエア
オペレートバルブ４１，４７を介して排水される。この
ときにも、エアオペレートバルブ５０を開状態に制御し
て超音波洗浄のメガソニックを加えることもできる。

【００３８】さらに、この水洗工程で、制御部５２は、
比抵抗計測器４６による管路内の純水の比抵抗を監視し
ており、この排水における比抵抗が所定値以上になった
ときに水洗が完了したことを検知して、次のスロードレ
インおよび乾燥用処理流体供給工程に移行するように制
御する。

【００３９】さらに、このスロードレインおよび乾燥用
処理流体供給工程で、制御部５２はエアオペレートバル
ブ４０，４４を開状態に制御すると共に、エアオペレー
トバルブ３８，４１，４２，４７，４８，４９，５０，
５１を閉状態に制御することで、乾燥用の高温窒素とＩ
ＰＡ（イソプロピルアルコール）ベーパとをエアオペレ
ートバルブ４０を介して導入口３５から、搬送用キャリ
アＣ１を収容した収納凹部３１および収納凸部３２内と
の収納空間３３内に供給しつつ、収納凹部３１および収
納凸部３２内との収納空間３３内の純水を搬送用キャリ
アＣ１の表面を上から下に沿うようにゆっくりと流して
排出口３６からエアオペレートバルブ４４さらにエアオ
ペレートバルブ４５を介して排液する。エアオペレート
バルブ４５による流量の調整によって排水する早さが決
定され最適な早さに設定する。このように、搬送用キャ
リアＣ１に対してゆっくりと液面を低下させることによ
って、疎水性樹脂の搬送用キャリアＣ１に付着する水滴
はその強い表面張力ではじかれるため、搬送用キャリア
Ｃ１に接触している純水は、低下する水面と一緒に戻っ
て搬送用キャリアＣ１の表面における液残りは抑制され
ることになる。

【００４０】さらに、搬送用キャリアＣ１を収容した収
納凹部３１および収納凸部３２内との収納空間３３内
を、乾燥用の高温窒素とＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）ベーパで所定時間充満させる乾燥工程の後に減圧工
程を行う。

【００４１】さらに、この減圧工程で、制御部５２はエ
アオペレートバルブ４１，４２を開状態に制御すると共
に、減圧ポンプ４３を駆動させるように制御し、かつ、
他のエアオペレートバルブ３８，４０，４４，４７，４
８，４９，５０，５１を閉状態に制御することで、搬送
用キャリアＣ１を収容した収納凹部３１および収納凸部
３２内との収納空間３３内を減圧して乾燥させる。

【００４２】さらに、収納凹部３１および収納凸部３２
内（流体経路３４内）の常圧工程で、制御部５２はエア
オペレートバルブ４０，４４を開状態に制御すると共
に、他のエアオペレートバルブ３８，４１，４２，４
７，４８，４９，５０，５１を閉状態に制御すること
で、搬送用キャリアＣ１を収容した収納凹部３１および
収納凸部３２内の収納空間３３内にエアオペレートバル
ブ４０を介して導入口３５から窒素を供給して大気圧に
戻す。

【００４３】さらに、キャリア取出工程で、収納凸部３
２をシリンダなどの駆動手段（図示せず）によって上降
させて、収納凹部３１の上方を開口させ、収納凹部３１
内の搬送用キャリアＣ１を、図示しない搬送ロボットの
ハンド部で取り出す。

【００４４】次に、基板収納キャリア洗浄装置１０によ
る洗浄済み搬送用キャリアＣ１は、図示しないコンベア
装置や搬送ロボットなどの洗浄済み搬送用キャリア搬送
装置１４によって処理済みウエハの搬出機構部１６へ搬
送され、その搬入台１３上に載置される。

【００４５】この搬入台１３上に載置された洗浄済み搬
送用キャリアＣ１は、キャリア移載装置１７によって搬
入台１３上から処理済みウエハの移し替え機構部１９の
第２テーブル１５上に移送される。処理済みウエハの移
し替え機構部１９によって、複数の処理済みウエハは、
第１テーブル１８上の処理用キャリアＣ２から第２テー
ブル１５上の搬送用キャリアＣ１に移し替えられて、複
数の処理済みウエハを収容した搬送用キャリアＣ１は、
搬送用キャリア移載装置１７により第２テーブル１５上
から搬出台１６上に移送された後に、図示しない外部の
キャリア搬送装置によって後段の処理装置に搬送され
る。

【００４６】また、処理済みウエハの移し替え機構部１
９によって、複数の処理済みウエハを搬送用キャリアＣ
１に移し替えて空になった処理用キャリアＣ２は、処理
用キャリア移載装置２１により第１テーブル１８上から
処理用キャリア搬送コンベア装置２０上に移送され、こ
の搬送コンベア装置２０によって表面処理部８における
搬送方向とは反対方向に搬送される。この搬送コンベア
装置２０の先端部分まで搬送された空の処理用キャリア
Ｃ２は、処理用キャリア移載装置２３により搬送コンベ
ア装置２０上から処理前ウエハの移し替え機構部７の第
２テーブル２２上に移送されることになる。

【００４７】したがって、本実施形態によれば、基板収
納キャリアである搬送用キャリアＣ１の形状に沿った収
納凹部３１および収納凸部３２が搬送用キャリアＣ１を
挟み込んで収納凹部３１および収納凸部３２と搬送用キ
ャリアＣ１との収納空間３３内に洗浄用（洗浄用とは薬
液洗浄用と水洗用を含む）の処理液や乾燥用の処理流体
の流通経路３４を形成して洗浄処理や乾燥処理を行う。
このように、搬送用キャリアＣ１に合った形状のチャン
バであってチャンバ内の空間が小さいため、装置自体が
小型化して省スペースで短時間処理が可能になると共
に、薬液洗浄処理および水洗洗浄処理さらには乾燥処理
を一つの装置で一つのポジションで行うことができる。
このため、洗浄用の処理液や乾燥用の処理流体の使用量
はそれぞれ、収納凹部３１および収納凸部３２と搬送用
キャリアＣ１との収納空間３３内の流通経路３４内の最
小限の容積であり、その内容積が小さく、洗浄時に使用
する処理液量や、乾燥時に使用する処理流体量も大幅に
削減することができる。さらに、搬送用キャリアＣ１を
収容した収納凹部３１および収納凸部３２内との収納空
間３３を洗浄用の処理液さらに乾燥用の処理流体が流れ
汚染物質を取り除くことで洗浄効果および洗浄効率も向
上し、さらに乾燥効果および乾燥効率も向上して液残り
およびそれによるしみの発生が防止されてパーティクル
の発生も防止することができる。

【００４８】また、収納凹部３１および収納凸部３２内
の流通経路３４内をシール材３２ｂなどで密閉構造とし
て減圧ポンプ４３で減圧乾燥すれば、乾燥効果をよりい
っそう向上させることができる。また、収納凹部３１お
よび収納凸部３２内の流通経路３４内が密閉構造であれ
ば、窒素雰囲気で待ち時間など放置するような雰囲気制
御を行うことができ、外部からの汚染もない。

【００４９】さらに、流体導入口３５からそれぞれ複数
の保持溝３７に沿って流れる洗浄用の処理液や乾燥用の
処理流体は、複数の保持溝３７などでパーティクルなど
の汚染物質を効率よく落して、複数の保持溝３７内から
流体排出口３６を介して排出するため、洗浄用の処理液
や乾燥用の処理流体の流れは、隣接する他の保持溝３７
の方向へは流れにくく、搬送用キャリアＣ１の保持溝３
７内から流れ落ちた汚染物質は隣の保持溝３７内や保持
溝３７間などに周り込んで再び付着するようなこともな
く、洗浄用の処理液や乾燥用の処理流体と共に各保持溝
３７から流体排出口３６を介して効率よく排出させるこ
とができる。このように、搬送用キャリアＣ１における
複数の保持溝３７内から効率よく汚染物質を取り除くこ
とができて、その汚染物質によるウエハなどの表面への
転写も抑制でき、それによる製品品質に対する悪影響を
防止することができる。

【００５０】さらに、制御部５２による各電磁バルブの
開閉制御であり、搬送用キャリアＣ１が動かない静止洗
浄および静止乾燥であるため、搬送用キャリアＣ１にか
かる負荷が小さい。

【００５１】なお、本実施形態の基板処理装置１は、多
槽式基板処理装置の一例であって、その具体的な構成
は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能であ
る。例えば、多槽式基板処理装置だけではなく、単槽式
基板処理装置に対しても適用可能なことはいうまでもな
いことである。また、上記実施形態の表面処理部８で
は、一連の各種薬液処理として、燐酸溶液による窒化膜
除去のエッチング処理、レジスト膜剥離処理、酸化膜エ
ッチング処理、ライトエッチング処理および拡散前洗浄
処理などの各種薬液処理がある。

【００５２】また、本実施形態では、流体導入口３５を
搬送用キャリアＣ１の上端部上方に設けたが、その上端
部上方以外に、最も汚れ易いキャリアスロット毎、つま
り基板保持溝３７毎にそれぞれ対向するように複数の流
体導入口３５をそれぞれ設けてもよい。また、本実施形
態では特に説明していないが、流体導入口３５は搬送用
キャリアＣ１の上端部に沿って複数設けられている。

【００５３】さらに、本実施形態では特に説明していな
いが、流通経路３４内で処理液をフィルタなどを介して
リサイクルさせつつ循環させれば、更なる使用処理液量
の削減が可能となる。

【００５４】

【発明の効果】以上のように本発明の請求項１によれ
ば、基板収納キャリアの形状に対応した収納凹部および
収納凸部が基板収納キャリアを挟み込んで収納凹部およ
び収納凸部と基板収納キャリアとの隙間内に洗浄用の処
理液や乾燥用の処理流体の流通経路を形成して洗浄処理
や乾燥処理を行うため、装置が小型化して省スペースと
なると共に、薬液洗浄処理および水洗洗浄処理さらには
乾燥処理を一つの装置で行うことができる。このため、
洗浄用の処理液や乾燥用の処理流体の使用量は、収納凹
部および収納凸部と基板収納キャリアとの隙間内の流通
経路内の最小限の容積だけであり、洗浄時に使用する処
理液量や、乾燥時に使用する処理流体量も大幅に削減す
ることができる。さらに、基板収納キャリアを収容した
収納凹部および収納凸部内との隙間を洗浄用の処理液さ
らに乾燥用の処理流体が流れることで洗浄効果および洗
浄効率も向上し、さらに乾燥効果および乾燥効率も向上
して液残りおよびそれによるしみの発生が防止されてパ
ーティクルの発生も防止することができる。

【００５５】また、本発明の請求項２によれば、収納凹
部および収納凸部内の流通経路内をシール材などで密閉
構造として減圧乾燥すれば、その乾燥効果および乾燥効
率をよりいっそう向上させることができる。

【００５６】さらに、本発明の請求項３によれば、流体
導入口からそれぞれ複数の保持溝に沿って流れる洗浄用
の処理液や乾燥用の処理流体は、複数の保持溝などでパ
ーティクルなどの汚染物質を効率よく落して、複数の保
持溝内から排出口を介して排出されるため、洗浄用の処
理液や乾燥用の処理流体の流れは、隣接する他の保持溝
部の方向へは流れにくく、基板収納キャリアの保持溝内
などから流れ落ちた汚染物質は隣の保持溝内や保持溝間
などに周り込んで再び付着するようなこともなく、洗浄
用の処理液や乾燥用の処理流体と共に各保持溝部から排
出口を介して効率よく排出させることができる。このよ
うにして、基板収納キャリアにおける複数の保持溝内か
ら効率よく汚染物質を取り除くことができて、その汚染
物質によるウエハなどの表面への転写も抑制でき、それ
による製品品質に対する悪影響も防止することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１における基板収納キャリア
洗浄装置を組み込んでなる基板処理装置の概略構成を示
す平面図である。

【図２】図１の基板収納キャリア洗浄装置の概略要部構
成を示す模式図である。

【図３】図２の基板収納キャリア洗浄部のＡＡ線の横断
面図である。

【符号の説明】

１ 基板処理装置 １０ 基板収納キャリア洗浄装置 ３０ キャリア洗浄部 ３１ 収納凹部 ３２ 収納凸部 ３２ａ 凸部 ３２ｂ シール材 ３３ 収納空間 ３４ 流通経路 ３５ 流体導入口 ３６ 流体排出口 ３７ 基板保持溝 ３８，４０，４１，４２，４４，４７，４８，４９，５
０，５１ エアオペレートバルブ ４３ 減圧ポンプ ４６ 比抵抗計測器 ５２ 制御部

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の基板を所定の並び方向で並べて収
   容可能な基板収納キャリアを洗浄する基板収納キャリア
   洗浄装置において、 前記基板収納キャリアの形状に対応した収納凹部および
   収納凸部が前記基板収納キャリアを挟み込んで前記収納
   凹部および収納凸部内に隙間を有した状態で収納自在に
   設けられ、前記収納凹部および収納凸部内に対して洗浄
   用の処理液および乾燥用の処理流体のうち少なくとも洗
   浄用の処理液を供給すると共に前記収納凹部および収納
   凸部内から前記処理液および処理流体のうち少なくとも
   前記処理液を排出する流通経路が設けられたことを特徴
   とする基板収納キャリア洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記収納凹部および収納凸部内の前記流
   通経路は減圧可能な密閉構造であることを特徴とする請
   求項１に記載の基板収納キャリア洗浄装置。
3. 【請求項３】 前記収納凹部および収納凸部内に開口し
   た流体導入口の略反対側に流体排出口が設けられ、前記
   流通経路は、前記流体導入口から供給された洗浄用の処
   理液および乾燥用の処理流体のうち少なくとも前記処理
   液は前記隙間内の前記基板収納キャリアの基板保持溝の
   長手方向に沿って流れた後に前記流体排出口から排出す
   る構成となっていることを特徴とする請求項１または２
   に記載の基板収納キャリア洗浄装置。