JPH11277284A - レーザ加工機における外部ベンドミラーの保護方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カウンタジャバラを使用せずに、光軸内外部
ベンドミラーと発振器ミラーの汚れに対して保護を図
る。 【解決手段】 発振器５に外部ベンドミラー２１を備え
た加工ヘッド１を伸縮自在に設け、この加工ヘッド１に
通じる光軸Ｋを囲んで蛇腹３を設け、この蛇腹３と連通
する発振器カバー１１を発振器５を囲んで設け、発振器
カバー１１の一部に開口部１５を形成した。よって、加
工ヘッド１の伸縮により蛇腹３内の体積が変化するが、
開口部１５より外気を吸排出することで蛇腹３内は負圧
にならず、外部ベンドミラー２１と発振器ミラーの汚れ
に対して保護することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、レーザ加工機に
おける外部ベンドミラーの保護方法およびその装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来、発振器を搭載したレーザ加工機で
は、レーザ加工は発振器で発振された光をミラーを使用
して加工ヘッドまで導き、集光レンズにより集光されて
加工に用いられる。このミラーを保護し、また光を安全
のためカバーする目的で、光軸は外部と蛇腹やパイプで
遮断されていて光はこの内部を飛んで加工点まで導かれ
る。なお、光軸をカバーする目的で蛇腹が使用されるの
は、加工ヘッドが移動する場合で、被加工物が移動し加
工ヘッドが固定されている場合は光軸の外部との遮断は
パイプで行なわれているのが一般的である。

【０００３】なお、蛇腹等の伸縮する光軸カバーを使用
する場合には、その体積変化に見合うだけのきれいなガ
スを光軸内にパージする方法や、伸縮する光軸蛇腹と逆
位相で伸縮するカウンタジャバラと称される蛇腹により
体積変化をなくし、外気の浸入を防ぐ方法が採用されて
いる。

【０００４】カウンタジャバラについて、より詳細に説
明すると、図１１を参照するに、発振器１０１の前面側
（図１１において左側）に、先端にノズル１０３を備え
た加工ヘッド１０５が設けられ、この加工ヘッド１０５
には外部ベンドミラー１０７と内部に集光レンズ１０９
が設けられ、光軸Ｋの外周を囲む蛇腹１１１Ａが設けら
れている。また、前記発振器１０１の後面側（図１１に
おいて右側）には、前記蛇腹１１１Ａに相対向して同一
構成の蛇腹１１１Ｂが設けられている。

【０００５】上記構成により、図１１は加工ヘッド１０
５が前進限にあり、この状態では蛇腹１１１Ａは伸びき
り、蛇腹１１１Ｂは縮少している。加工ヘッド１０５が
後退すると蛇腹１１１Ａ内の空気は圧縮されるが蛇腹１
１１Ｂが伸びて図１１に２点鎖線で示すごとく、蛇腹１
１１Ａ内の変化する体積Ｖだけ蛇腹１１１Ｂが伸びる。
このように体積変化をなくし、外気の浸入を防ぐ方法が
とられている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の光軸保護手段では、加工ヘッドが移動する場合、蛇
腹を使用すると加工ヘッドの移動に追従して蛇腹が伸縮
する。この場合、蛇腹の伸縮により蛇腹内の体積が変化
するため、外気を引き込んでしまい外気中のゴミや塵、
オイルミスト等が光軸内のミラーを汚してしまう。

【０００７】このため、蛇腹等の伸縮する光軸カバーを
使用する場合には、その体積変化に見合うだけのきれい
なガスを光軸内にパージする方法がとられていたが、基
本的に蛇腹の体積変化の量よりも多量にパージガスを光
軸内にパージすることで、常に光軸内のガス圧を外気よ
りも微少に高くし、外気の混入を防ぐことで成り立つ方
法である。従って軸移動速度（加工ヘッドの移動速度）
が早くなると、実用的でなくなるという問題があった。

【０００８】また、パージに使用するガスは消費量が多
い場合、購入ガス（圧縮空気ボンベや窒素ガス）では、
ランニングコストが上がってしまうため通常コンプレッ
サで作られた圧縮空気を使用する。この場合、オイルミ
ストの混入を防ぐためオイルミスト除去用のフィルタを
用いたり、オイルを使用しないコンプレッサを使用す
る。また、コンプレッサのエアーは通常冷凍式ドライヤ
を通過させて露点を下げて供給されるが、コンプレッサ
の起動時には多少の水分が混入し、ミラーを汚すことが
あるという問題もある。

【０００９】更に、図１１に示すカウンタジャバラ１１
１Ｂを採用した場合には、それを取り付けるスペースが
必要となるため加工機サイズが大きくなったり、原価が
上がる等のデメリットが生じる。また、加工ヘッド１０
５の上下移動に対し、カウンタジャバラ１１１Ｂを取り
付けるのは容積的に困難であり、カウンタジャバラ１１
１Ｂとパージの併用の場合には、原価の問題および取り
付け困難等の問題が発生する。

【００１０】この発明の目的は、カウンタジャバラを使
用せずに、外部ベンドミラーと発振器ミラーの汚れに対
して保護を図ったレーザ加工機における外部ベンドミラ
ーの保護方法およびその装置を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１によるこの発明のレーザ加工機における外部
ベンドミラーの保護方法は、外部ベンドミラーを備えた
加工ヘッドへ通じる光軸を囲んだ伸縮自在な伸縮部材内
の容積の変化に対応して、前記伸縮部材に接続した発振
器を囲んだ発振器カバーの一部に設けられ大気と連通す
る開口部より、前記伸縮部材内の空気を吸排気すること
を特徴とするものである。

【００１２】また、請求項６によるこの発明のレーザ加
工機における外部ベンドミラーの保護装置は、レーザ加
工機に搭載した発振器に発振器カバーを囲繞せしめ、こ
の発振器カバーと外部ベンドミラーを備えた加工ヘッド
とを光軸を囲んで伸縮自在な伸縮部材で接続せしめ、前
記発振器カバーの一部に開口部を設けてなることを特徴
とするものである。

【００１３】したがって、上述した請求項１，６による
レーザ加工機における外部ベンドミラーの保護方法およ
びその装置とすることにより、加工ヘッドに通じる光軸
を囲んだ伸縮部材と、この伸縮部材と発振器を囲んだ発
振器カバーとを連通せしめ、発振器カバーに開口部を設
けた。よって、加工ヘッドの移動により伸縮する伸縮部
材内の体積は変化するが、発振器カバーに設けた開口部
より外気を吸排気することにより対応している。

【００１４】而して、光軸を囲んだ伸縮部材内および発
振器カバー内が強い負圧になることがなく、発振器や光
軸を囲んだ伸縮部材等の微少な隙間からの外気混入を制
限でき、カウンタジャバラを使用せずに、光軸を囲んだ
伸縮部材内外部ベンドミラーと発振器ミラーの汚れに対
して保護することができる。

【００１５】請求項２によるこの発明のレーザ加工機に
おける外部ベンドミラーの保護方法は、請求項１のレー
ザ加工機における外部ベンドミラーの保護方法におい
て、前記開口部は前記光軸や、発振器に設けた光軸や共
振器より離れた場所に設けてあなることを特徴とするも
のである。

【００１６】また、請求項７によるこの発明のレーザ加
工機における外部ベンドミラーの保護装置は、請求項６
のレーザ工機における外部ベンドミラーの保護装置にお
いて、前記開口部を発振器内の光軸や共振器より離れた
場所に設けてなることを特徴とするものである。

【００１７】したがって、上述した請求項２，７による
レーザ加工機における外部ベンドミラーの保護方法およ
びその装置とすることにより、発振器カバーに設けた開
口部を発振器内の光軸や共振器より離れた位置に設けた
ことで、外気中に含まれたゴミや塵、オイルミスト等を
吸引することが少なく、光軸を囲んだ伸縮部材内外部ベ
ンドミラーと発振器ミラーの汚れを防ぐことができる。

【００１８】請求項３によるこの発明のレーザ加工機に
おける外部ベンドミラーの保護方法は、請求項１又は２
のレーザ加工機における外部ベンドミラーの保護方法に
おいて、前記開口部に設けた拡縮自在な空気袋により伸
縮部材の伸縮による体積変化を前記空気袋の容積変化に
て対応させることを特徴とするものである。

【００１９】また、請求項８によるこの発明のレーザ加
工機における外部ベンドミラーの保護装置は、請求項６
又は７の加工機における外部ベンドミラーの保護装置に
おいて、前記開口部に内部容量変化自在な空気袋を設け
てなることを特徴とするものである。

【００２０】したがって、上述した請求項３，８による
レーザ加工機における外部ベンドミラーの保護方法およ
びその装置とすることにより、発振器カバーの開口部に
空気袋を設けたことにより、光軸を囲んだ伸縮部材の伸
縮による体積変化を空気袋の容積変化にてカバーし、外
気を吸入しないので光軸を囲んだ伸縮部材内ベンドミラ
ーと発振器ミラーの汚れに対して保護することができ
る。

【００２１】請求項４によるこの発明のレーザ加工機に
おける外部ベンドミラーの保護方法は、請求項１又は２
のレーザ加工機におけ外部ベンドミラーの保護方法にお
いて、前記開口部に設けた圧損の少ないフィルタによ
り、汚れた外気を直接吸入しないことを特徴とするもの
である。

【００２２】また、請求項９によるこの発明のレーザ加
工機における外部ベンドミラーの保護装置は、請求項６
又は７のレーザ加工機における外部ベンドミラーの保護
装置において、前記開口部に圧損の少ないフィルタを設
けてなることを特徴とするものである。

【００２３】したがって、上述した請求項４，９による
レーザ加工機における外部ベンドミラーの保護方法およ
びその装置とすることにより、発振器カバーの開口部に
圧損の少ないフィルタを設けたので、汚れた外気を直接
吸入することがないので、光軸を囲んだ伸縮部材内ベン
ドミラーと発振器ミラーの汚れに対して保護することが
できる。

【００２４】請求項５によるこの発明のレーザ加工機に
おける外部ベンドミラーの保護方法は、外部ベンドミラ
ーを備えた加工ヘッドへ通じる光軸を囲んだ伸縮部材の
一端部に設けたパージガス導入口よりパージガスを光軸
内と発振器カバー内に貯蔵して、伸縮部材の伸縮に対し
て貯蔵したパージガスを前記発振器カバーの一部に設け
られ大気と連通する開口部より、伸縮部材内へ吸排気せ
しめることを特徴とするものである。

【００２５】また、請求項１０によるこの発明のレーザ
加工機における外部ベンドミラーの保護装置は、請求項
６又は７のレーザ加工機における外部ベンドミラーの保
護装置において、前記伸縮部材の一端にパージガスを導
入するためのパージガス導入口を設けてなることを特徴
とするものである。

【００２６】したがって、上述した請求項５，１０によ
るレーザ加工機における外部ベンドミラーの保護方法お
よびその装置とすることにより、伸縮部材の一端にパー
ジガスを導入するためのパージガス導入口を設け、この
パージガス導入口よりパージガスを伸縮部材内および発
振器カバー内に充填する。

【００２７】而して、パージガスの微少なパージ量によ
って発振器ミラー系および外部ベンドミラーの外気によ
る影響を受けない状態を作り出し、伸縮部材の伸縮に対
して貯蔵したパージガスが光軸を囲んだ伸縮部材内に導
入されるので、光軸内外部ベンドミラーや発振器ミラー
の汚れに対して保護することができる。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて詳細に説明する。なお、レーザ加工機は既
に公知の構成のものを採用しているので、図示と説明を
省略する。

【００２９】まず、加工ヘッドの移動により伸縮部材で
ある蛇腹内の体積変化状態について概略的に説明する。

【００３０】図４および図５を参照するに、図４（Ａ）
の状態は、加工ヘッド１が前進し伸びた状態であり、図
４（Ｂ）の状態は、加工ヘッド１が後退し縮少した状態
である。

【００３１】前記図４（Ａ）に示されている状態より図
４（Ｂ）に示された状態に加工ヘッド１が移動すると、
伸縮部材の一例として例えば蛇腹３の縮少により光軸Ｋ
を囲んだ蛇腹３内の体積が変化する。この変化量は図４
（Ｂ）の図中に示された変化する体積Ｖとなる。すなわ
ち、体積Ｖの光軸Ｋを囲んだ蛇腹３内の空気が外部へ排
出されることとなる。次に、図４（Ｂ）の状態から図４
（Ａ）の状態へ加工ヘッド１が移動した場合、排出され
た体積Ｖの空気を外気から吸い込む。

【００３２】図５に示されているごとく、加工ヘッド１
の反対側には発振器５がある。この発振器５も外気と遮
断するためカバーリングされているが、電源や信号の供
給用の配線とか、冷却用の配線が接続されているため、
必ず隙間が発生する。このため、加工ヘッド１の移動に
よる外気吸気は、発振器５のカバーの隙間から行なわれ
ることが多いが、この隙間まで完全に埋めることは原価
を上げ、また、光軸Ｋを囲った蛇腹３を負圧に耐え得る
ものを選定する必要が発生し、さらに原価が上がる。

【００３３】上述した蛇腹３の伸縮による体積Ｖの変化
状態を踏まえて、この発明の第１の実施の形態は、図１
を参照するに、レーザ加工機のフレーム７の適所に設け
た台座９上に発振器５が設けられ、この発振器５は若干
の隙間を保った発振器カバー１１で囲まれている。そし
て、発振器５の内部に設けられた共振器１３（ミラー
系）から十分に離れた場所に開口部１５が発振器カバー
１１に形成されている。

【００３４】前記発振器５を囲んだ発振器カバー１１の
一側にノズル１７を備えた加工ヘッド１が設けられ、加
工ヘッド１には集光レンズ１９と外部ベンドミラー２１
が設けられ、光軸Ｋを囲んで伸縮部材の一例として例え
ば蛇腹３が設けられている。この蛇腹３と前記発振器カ
バー１１とは一体的に設けられ、蛇腹３内の空気Ｅと発
振器カバー１１内の空気Ｅとは連通している。

【００３５】上記構成により、その作用としては、図２
および図３を参照するに、図２には加工ヘッド１が縮少
した状態を示し、図３には加工ヘッド１が伸びきった状
態を示す。

【００３６】加工ヘッド１が図２の状態、つまり縮少状
態より図３に示す伸びきった状態となると、吸気のほと
んどはすべて発振器カバー１１に設けた十分な大きさを
もつ開口部１５より行なわれ、外気Ｇ（図３に示す網の
目状の部分）が若干量開口部１５より侵入するので、光
軸Ｋを囲んだ蛇腹３内および発振器カバー１１内が強い
負圧になることがない。また、発振器カバー１１や光軸
Ｋを囲んだ蛇腹３内の微少な隙間からの外気Ｇの混入を
制限でき、外部ベンドミラー２１と共振器１３内ミラー
の汚れに対して保護することができる。

【００３７】次に、この発明の第２の実施の形態につい
て詳細に説明する。なお、第１の実施の形態で使用した
部材と同一部材に対しては同一符号を付して詳細な説明
を省略する。

【００３８】図６を参照するに、レーザ加工機のフレー
ム７の適所に発振器５が設けられ、この発振器５は若干
の隙間を保った発振器カバー１１で囲まれている。そし
て、発振器５の内部に設けられた共振器１３（ミラー
系）から十分に離れた場所に開口部１５が発振器カバー
１１に形成されている。

【００３９】前記発振器５を囲んだ発振器カバー１１の
一側に加工ヘッド１が設けられ、光軸Ｋを囲んで伸縮部
材の一例として例えば蛇腹２３が設けられている。この
蛇腹２３の一端部にきれいなパージガスＰを導入するパ
ージガス導入口２５が設けられている。なお、前記蛇腹
２３と発振器カバー１１とは一体的に設けられ、自在に
パージガスＰは流通可能となっている。

【００４０】上記構成により、その作用としては、図７
および図８を参照するに、図７には加工ヘッド１が縮少
した状態を示し、図８には加工ヘッド１が伸びきった状
態を示す。

【００４１】まず、図７に示す状態にて、きれいなパー
ジガスＰをパージガス導入口２５より蛇腹２３と発振器
カバー１１内へ充填すると、発振器がは１１内の隙間の
空間もパージガスで満される。

【００４２】この状態より、図８に示されているごと
く、加工ヘッド１を延伸し伸びきった状態とすると、発
振器カバー１１に設けた開口部１５より外気Ｇが入り込
み、外気Ｇと混ざったパージガスＰの層ＰＧを介してパ
ージガスＰが充填された状態となる。

【００４３】このため、蛇腹２３，発振器カバー１１内
が強い負圧になることなく、発振器カバー１１が蛇腹２
３の微少な隙間からの外気混入を制限でき、外部ベンド
ミラー２１と共振器１３内ミラーの汚れに対して保護す
ることができる。

【００４４】更に、この発明の第３の実施の形態につい
て詳細に説明する。なお、第１の実施の形態で使用した
部材と同一部材に対しては同一符号を付して詳細な説明
を省略する。

【００４５】図９を参照するに、レーザ加工機のフレー
ム７の適所に発振器５が設けられ、この発振器５は若干
の隙間を保った発振器カバー１１で囲まれている。そし
て、発振器５の内部に設けられた共振器１３（ミラー
系）から十分に離れた場所に開口部１５が発振器カバー
１１に形成されている。前記開口部１５には拡縮自在な
例えばゴム製の空気袋２７が一体的に設けられ、この空
気袋２７と前記発振器カバー１１の内部とは連通してい
る。

【００４６】前記発振器５を囲んだ発振器カバー１１の
一側に加工ヘッド１が設けられ、光軸Ｋを囲んで伸縮部
材の一例として例えば蛇腹３が設けられている。この蛇
腹３と前記発振器カバー１１とは一体的に設けられ、自
在に内部空気Ｅは流通可能となっている。

【００４７】上記構成により、図９に示されている加工
ヘッド１が伸びきった状態より縮少すると、発振器カバ
ー１１内の余分な空気Ｅは空気袋２７へ流入し、図９の
図中に２点鎖線で示されているごとく、空気袋２７をふ
くらませて余分な空気Ｋを貯蔵する。そして、加工ヘッ
ド１が延伸した際、空気袋２７内の空気Ｅをはき出し
て、蛇腹３の伸縮により体積変化を空気袋２７の容積変
化にてカバーし、外気Ｇを吸入しないようにした。

【００４８】このため、外部ベンドミラー２１と共振器
１３内ミラーの汚れに対して保護することができる。

【００４９】なお更に、この発明の第４の実施の形態に
ついて詳細に説明する。なお、第１の実施の形態で使用
した部材と同一部材に対しては同一符号を付して詳細な
説明を省略する。

【００５０】図１０を参照するに、レーザ加工機のフレ
ーム７の適所に発振器５が設けられ、この発振器５は若
干の隙間を保った発振器カバー１１で囲まれている。そ
して、発振器５の内部に設けられた共振器１３（ミラー
系）から十分に離れた場所に開口部１５が発振器カバー
１１に形成されている。前記開口部１５には圧損の少な
いフィルタ２９が設けられている。

【００５１】前記発振器５を囲んだ発振器カバー１１の
一側に加工ヘッド１が設けられ、光軸Ｋを囲んで伸縮部
材の一例として例えば蛇腹３が設けられている。この蛇
腹３と前記発振器カバー１１とは一体的に設けられ、自
在に内部空気Ｅは流通可能となっている。

【００５２】上記構成により、図１０に示されている加
工ヘッド１が伸びきった状態より縮少すると、発振器カ
バー１１内の余分な空気Ｅはフィルタ２９より外部へ放
出される。そして、加工ヘッド１が延伸した際、外気Ｇ
をフィルタ２９より吸入するが、フィルタ２９により外
気Ｇに含まれているゴミとか塵、オイルミスト等の汚れ
たものを濾過し、きれいな空気Ｅを吸入する。

【００５３】このため、外部ベンドミラー２１と共振器
１３内のミラーの汚れに対して保護することができる。

【００５４】なお、この発明は前述した発明の実施の形
態に限定されることなく、適宜な変更を行なうことによ
り、その他の態様で実施し得るものである。

【００５５】

【発明の効果】以上のごとき実施の形態の説明より理解
されるように、請求項１，６によるこの発明によれば、
加工ヘッドに通じる光軸を囲んだ伸縮部材と、この伸縮
部材と発振器を囲んだ発振器カバーとを連通せしめ、発
振器カバーに開口部を設けた。よって、加工ヘッドの移
動により伸縮する伸縮部材内の体積は変化するが、発振
器カバーに設けた開口部より外気を吸排気することによ
り対応している。

【００５６】而して、光軸を囲んだ伸縮部材内および発
振器カバー内が強い負圧になることがなく、発振器や光
軸を囲んだ伸縮部材等の微少な隙間からの外気混入を制
限でき、カウンタジャバラを使用せずに、光軸を囲んだ
伸縮部材内外部ベンドミラーと発振器ミラーの汚れに対
して保護することができる。

【００５７】請求項２，７によるこの発明によれば、発
振器カバーに設けた開口部を発振器内の光軸や共振器よ
り離れた位置に設けたことで、外気中に含まれたゴミや
塵、オイルミスト等を吸引することが少なく、光軸を囲
んだ伸縮部材内外部ベンドミラーと発振器ミラーの汚れ
を防ぐことができる。

【００５８】請求項３，８によるこの発明によれば、発
振器カバーの開口部に空気袋を設けたことにより、光軸
を囲んだ伸縮部材の伸縮による体積変化を空気袋の容積
変化にてカバーし、外気を吸入しないので光軸内ベンド
ミラーと発振器ミラーの汚れに対して保護することがで
きる。

【００５９】請求項４，９によるこの発明によれば、発
振器カバーの開口部に圧損の少ないフィルタを設けたの
で、汚れた外気を直接吸入することがないので、光軸を
囲んだ伸縮部材内ベンドミラーと発振器ミラーの汚れに
対して保護することができる。

【００６０】請求項５，１０によるこの発明によれば、
伸縮部材の一端にパージガスを導入するためのパージガ
ス導入口を設け、このパージガス導入口よりパージガス
を伸縮部材内および発振器カバー内に充填する。

【００６１】而して、パージガスの微少なパージ量によ
って発振器ミラー系および外部ベンドミラーの外気によ
る影響を受けない状態を作り出し、伸縮部材の伸縮に対
して貯蔵したパージガスが光軸を囲んだ伸縮部材内に導
入されるので、光軸内外部ベンドミラーや発振器ミラー
の汚れに対して保護することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１実施の形態を示し、発振器と加
工ヘッドの断面説明図である。

【図２】作用説明図である。

【図３】作用説明図である。

【図４】加工ヘッドの伸縮状態を示す説明図である。

【図５】発振器に設けた加工ヘッドの伸びきった状態を
示す説明図である。

【図６】この発明の第２の実施の形態を示し、発振器と
加工ヘッドの断面説明図である。

【図７】作用説明図である。

【図８】作用説明図である。

【図９】この発明の第３の実施の形態を示し、発振器と
加工ヘッドの断面説明図である。

【図１０】この発明の第４の実施の形態を示し、発振器
と加工ヘッドの断面説明図である。

【図１１】従来例を示し、カウンタジャバラを備えた発
振器と加工ヘッドの断面図である。

【符号の説明】

１ 加工ヘッド ３，２３ 蛇腹（伸縮部材） ５ 発振器 １１ 発振器カバー １３ 共振器 １５ 開口部 ２１ 外部ベンドミラー ２５ パージガス導入口 ２７ 空気袋 ２９ フィルタ Ｋ 光軸

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 外部ベンドミラーを備えた加工ヘッドへ
   通じる光軸を囲んだ伸縮自在な伸縮部材内の容積の変化
   に対応して、前記伸縮部材に接続した発振器を囲んだ発
   振器カバーの一部に設けられ大気と連通する開口部よ
   り、前記伸縮部材内の空気を吸排気することを特徴とす
   るレーザ加工機における外部ベンドミラーの保護方法。
2. 【請求項２】 前記開口部は前記光軸や、発振器に設け
   た共振器より離れた場所に設けてあることを特徴とする
   請求項１記載のレーザ加工機における外部ベンドミラー
   の保護方法。
3. 【請求項３】 前記開口部に設けた拡縮自在な空気袋に
   より伸縮部材の伸縮による体積変化を前記空気袋の容積
   変化にて対応させることを特徴とする請求項１又は２記
   載のレーザ加工機における外部ベンドミラーの保護方
   法。
4. 【請求項４】 前記開口部に設けた圧損の少ないフィル
   タにより、汚れた外気を直接吸入しないことを特徴とす
   る請求項１又は２記載のレーザ加工機における外部ベン
   ドミラーの保護方法。
5. 【請求項５】 外部ベンドミラーを備えた加工ヘッドへ
   通じる光軸を囲んだ伸縮部材の一端部に設けたパージガ
   ス導入口よりパージガスを光軸内と発振器カバー内に貯
   蔵して、伸縮部材の伸縮に対して貯蔵したパージガスを
   前記発振器カバーの一部に設けられ大気と連通する開口
   部より、伸縮部材内へ吸排気せしめることを特徴とする
   レーザ加工機における外部ベンドミラーの保護方法。
6. 【請求項６】 レーザ加工機に搭載した発振器に発振器
   カバーを囲繞せしめ、この発振器カバーと外部ベンドミ
   ラーを備えた加工ヘッドとを光軸を囲んで伸縮自在な伸
   縮部材で接続せしめ、前記発振器カバーの一部に開口部
   を設けてなることを特徴とするレーザ加工機における外
   部ベンドミラーの保護装置。
7. 【請求項７】 前記開口部を発振器内の光軸や共振器よ
   り離れた場所に設けてなることを特徴とする請求項６記
   載のレーザ加工機における外部ベンドミラーの保護装
   置。
8. 【請求項８】 前記開口部に内部容量変化自在な空気袋
   を設けてなることを特徴とする請求項６又は７記載のレ
   ーザ加工機における外部ベンドミラーの保護装置。
9. 【請求項９】 前記開口部に圧損の少ないフィルタを設
   けてなることを特徴とする請求項６又は７記載のレーザ
   加工機における外部ベンドミラーの保護装置。
10. 【請求項１０】 前記伸縮部材の一端にパージガスを導
    入するためのパージガス導入口を設けてなることを特徴
    とする請求項６又は７記載のレーザ加工機における外部
    ベンドミラーの保護装置。