JPH0985482A - レーザ加工機 - Google Patents
レーザ加工機Info
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- JPH0985482A JPH0985482A JP8189146A JP18914696A JPH0985482A JP H0985482 A JPH0985482 A JP H0985482A JP 8189146 A JP8189146 A JP 8189146A JP 18914696 A JP18914696 A JP 18914696A JP H0985482 A JPH0985482 A JP H0985482A
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- optical axis
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- laser beam
- laser
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 汚れた外気を吸い込まず、塵埃などの侵入を
防止するようにする。 【解決手段】 加工ヘッド１３に備えられたベンドミラ
ー２３の入口側に光軸ジャバラ２７を、反対側に定容量
ジャバラ２９を設け、この光軸ジャバラ２７と定容量ジ
ャバラ２９とをエルボなどの連通部材３１で連通せしめ
ると共に、光軸ジャバラ２７，定容量ジャバラ２９の端
部にそれぞれフィルタ３３，３５を設けた。その結果、
汚れた外気の吸い込みをなくすることができて、内部の
環境を低下させることがなくなり、ベンドミラー２３を
汚すことをなくすることができる。しかも、クリーンな
エアをパージする必要がない。
防止するようにする。 【解決手段】 加工ヘッド１３に備えられたベンドミラ
ー２３の入口側に光軸ジャバラ２７を、反対側に定容量
ジャバラ２９を設け、この光軸ジャバラ２７と定容量ジ
ャバラ２９とをエルボなどの連通部材３１で連通せしめ
ると共に、光軸ジャバラ２７，定容量ジャバラ２９の端
部にそれぞれフィルタ３３，３５を設けた。その結果、
汚れた外気の吸い込みをなくすることができて、内部の
環境を低下させることがなくなり、ベンドミラー２３を
汚すことをなくすることができる。しかも、クリーンな
エアをパージする必要がない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はレーザ加工機に係
り、さらに詳しくは、レーザビームの光路を外部から保
護すると共に、外部の塵埃等の侵入を防止するようにし
たレーザ加工機に関する。
り、さらに詳しくは、レーザビームの光路を外部から保
護すると共に、外部の塵埃等の侵入を防止するようにし
たレーザ加工機に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のレーザ加工機において、レーザビ
ームの光路を外部から保護する保護手段としては、例え
ば、特公昭６２−１１２９５３号公報や、実開平５−４
４３８７号公報などが知られている。
ームの光路を外部から保護する保護手段としては、例え
ば、特公昭６２−１１２９５３号公報や、実開平５−４
４３８７号公報などが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の保護手段では、ベンドミラーが移動すると、密封さ
れたジャバラの中で内部の気体がベンドミラーと相対的
に移動するが、内部のボリュームはジャバラの断面変化
の差しか変化しないので、外気を吸い込む量が少ない。
パージを行えば、変化を埋めることは可能である。
来の保護手段では、ベンドミラーが移動すると、密封さ
れたジャバラの中で内部の気体がベンドミラーと相対的
に移動するが、内部のボリュームはジャバラの断面変化
の差しか変化しないので、外気を吸い込む量が少ない。
パージを行えば、変化を埋めることは可能である。
【０００４】しかしながら、ベンドミラーが移動するの
で、投影面積分の抵抗となり、ベンドミラーの両側にお
ける圧力に差が生じ、外気の吸い込みが生じてしまい、
防塵効果がない。
で、投影面積分の抵抗となり、ベンドミラーの両側にお
ける圧力に差が生じ、外気の吸い込みが生じてしまい、
防塵効果がない。
【０００５】そこで、光軸のどこかにフィルタを取付
け、ジャバラのフィゴ状態に対応し、内部の空気を積極
的に外部と交換しようとするが、光路には必ず光の入っ
てくる穴があり、特にフィルタが目づまりしてくると、
フィルタは抵抗を持っているので、汚れた外気の侵入を
受けることになり、防塵効果がない。
け、ジャバラのフィゴ状態に対応し、内部の空気を積極
的に外部と交換しようとするが、光路には必ず光の入っ
てくる穴があり、特にフィルタが目づまりしてくると、
フィルタは抵抗を持っているので、汚れた外気の侵入を
受けることになり、防塵効果がない。
【０００６】この発明の目的は、汚れた外気を吸い込ま
ず、塵埃などの侵入を防止するようにしたレーザ加工機
を提供することにある。
ず、塵埃などの侵入を防止するようにしたレーザ加工機
を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１によるこの発明のレーザ加工機は、レーザ加
工機におけるベンドミラーを備えた加工ヘッドを移動自
在に設け、この加工ヘッドのベンドミラーの入口側に、
このベンドミラーに導かれるレーザビームの光路を外部
から保護する光軸ジャバラを設けると共に、前記ベンド
ミラーの反対側に定容量ジャバラを設け、前記光軸ジャ
バラと定容量ジャバラとを前記加工ヘッドに一体化され
た連通部材で接続せしめ、前記光軸ジャバラおよび定容
量ジャバラの端部にフィルタを設けてなることを特徴と
するものである。
に請求項１によるこの発明のレーザ加工機は、レーザ加
工機におけるベンドミラーを備えた加工ヘッドを移動自
在に設け、この加工ヘッドのベンドミラーの入口側に、
このベンドミラーに導かれるレーザビームの光路を外部
から保護する光軸ジャバラを設けると共に、前記ベンド
ミラーの反対側に定容量ジャバラを設け、前記光軸ジャ
バラと定容量ジャバラとを前記加工ヘッドに一体化され
た連通部材で接続せしめ、前記光軸ジャバラおよび定容
量ジャバラの端部にフィルタを設けてなることを特徴と
するものである。
【０００８】請求項２によるこの発明のレーザ加工機
は、請求項１のレーザ加工機において、前記連通部材が
エルボであることを特徴とするものである。
は、請求項１のレーザ加工機において、前記連通部材が
エルボであることを特徴とするものである。
【０００９】上記請求項１，２によるこの発明のレーザ
加工機では、レーザ加工ヘッドが例えば左側へ移動する
ことによって、光軸ジャバラと定容量ジャバラとの間で
流れが生じ、連通部材としてのエルボの管内抵抗が発生
する。その結果、外気圧Ｐ0より定容量ジャバラ内の圧
力Ｐ1 が高く、逆に光軸ジャバラ内の圧力Ｐ2 が低くな
る。そして、Ｐ0 ＜Ｐ1 の差圧は定容量ジャバラの端部
に設けたフィルタにより圧力が逃げてＰ0 ＝Ｐ1 とな
る。また、Ｐ0 ＞Ｐ2 の圧力差は光軸ジャバラの端部に
設けたフィルタによりクリーンな空気が吸い込まれてＰ
0 ＝Ｐ1 となり、常に光軸ジャバラ内の圧力と定容量ジ
ャバラ内の圧力は等しく保持される。レーザ加工ヘッド
が例えば右側へ移動すると、上述の動作と逆となって動
作される。
加工機では、レーザ加工ヘッドが例えば左側へ移動する
ことによって、光軸ジャバラと定容量ジャバラとの間で
流れが生じ、連通部材としてのエルボの管内抵抗が発生
する。その結果、外気圧Ｐ0より定容量ジャバラ内の圧
力Ｐ1 が高く、逆に光軸ジャバラ内の圧力Ｐ2 が低くな
る。そして、Ｐ0 ＜Ｐ1 の差圧は定容量ジャバラの端部
に設けたフィルタにより圧力が逃げてＰ0 ＝Ｐ1 とな
る。また、Ｐ0 ＞Ｐ2 の圧力差は光軸ジャバラの端部に
設けたフィルタによりクリーンな空気が吸い込まれてＰ
0 ＝Ｐ1 となり、常に光軸ジャバラ内の圧力と定容量ジ
ャバラ内の圧力は等しく保持される。レーザ加工ヘッド
が例えば右側へ移動すると、上述の動作と逆となって動
作される。
【００１０】したがって、汚れた外気の吸い込みをなく
することができるので、光軸ジャバラおよび定容量ジャ
バラにおける内部の環境を低下させることがなくなり、
クリーンなエアをパージする必要がない。
することができるので、光軸ジャバラおよび定容量ジャ
バラにおける内部の環境を低下させることがなくなり、
クリーンなエアをパージする必要がない。
【００１１】請求項３によるこの発明のレーザ加工機
は、レーザ加工機におけるベンドミラーを備えた加工ヘ
ッドを移動自在に設け、この加工ヘッドのベンドミラー
の入口側に、このベンドミラーに導かれるレーザビーム
の光路を外部から保護する光軸ジャバラを設け、この光
軸ジャバラの端部にフィルタを設けてなることを特徴と
するものである。
は、レーザ加工機におけるベンドミラーを備えた加工ヘ
ッドを移動自在に設け、この加工ヘッドのベンドミラー
の入口側に、このベンドミラーに導かれるレーザビーム
の光路を外部から保護する光軸ジャバラを設け、この光
軸ジャバラの端部にフィルタを設けてなることを特徴と
するものである。
【００１２】請求項３によるこの発明のレーザ加工機で
は、加工ヘッドが例えば左側へ移動することによって、
光軸ジャバラが伸びて外気圧Ｐ0 より光軸ジャバラ内の
圧力Ｐ2 が低くなるが（Ｐ2 ＜Ｐ0 ）、フィルタにより
クリーンな空気が吸い込まれてＰ2 ＝Ｐ0 となる。また
レーザ加工ヘッドが例えば右側へ移動することによって
光軸ジャバラが縮んで外気圧Ｐ0 より光軸ジャバラの圧
力Ｐ2 が高くなるが（Ｐ2 ＜Ｐ0 ）、フィルタから光軸
ジャバラ内の圧力が逃げてＰ2 ＝Ｐ0 となる。
は、加工ヘッドが例えば左側へ移動することによって、
光軸ジャバラが伸びて外気圧Ｐ0 より光軸ジャバラ内の
圧力Ｐ2 が低くなるが（Ｐ2 ＜Ｐ0 ）、フィルタにより
クリーンな空気が吸い込まれてＰ2 ＝Ｐ0 となる。また
レーザ加工ヘッドが例えば右側へ移動することによって
光軸ジャバラが縮んで外気圧Ｐ0 より光軸ジャバラの圧
力Ｐ2 が高くなるが（Ｐ2 ＜Ｐ0 ）、フィルタから光軸
ジャバラ内の圧力が逃げてＰ2 ＝Ｐ0 となる。
【００１３】したがって、汚れた外気の吸い込みをなく
することができるので、光軸ジャバラにおける内部の環
境を低下させることがなくなり、塵埃などの侵入が防止
される。
することができるので、光軸ジャバラにおける内部の環
境を低下させることがなくなり、塵埃などの侵入が防止
される。
【００１４】請求項４によるこの発明のレーザ加工機
は、レーザ加工機におけるベンドミラーを備えたベンド
ミラー保持装置を移動自在に設け、このベンドミラー保
持装置の入口側および／または出口側に、前記ベンドミ
ラーに導かれるレーザビームの光路を外部から保護する
光軸ジャバラを設け、この光軸ジャバラの伸縮部をフィ
ルタ素材で形成せしめてなることを特徴とするものであ
る。
は、レーザ加工機におけるベンドミラーを備えたベンド
ミラー保持装置を移動自在に設け、このベンドミラー保
持装置の入口側および／または出口側に、前記ベンドミ
ラーに導かれるレーザビームの光路を外部から保護する
光軸ジャバラを設け、この光軸ジャバラの伸縮部をフィ
ルタ素材で形成せしめてなることを特徴とするものであ
る。
【００１５】請求項４によるこの発明のレーザ加工機で
は、ベンドミラーを備えたベンドミラー保持装置が左右
方向へ移動したときに光軸ジャバラが伸縮されるが、光
軸ジャバラの伸縮部をフィルタ素子で形成せしめてある
から、微少隙間と吸気抵抗の差が著しくできるための汚
染された外気を吸い込む可能が低くなる。また、ベンド
ミラーの表面を通過せずに体積変化を救出できるため、
よりベンドミラーの汚れに対して良好な環境が得られ
る。
は、ベンドミラーを備えたベンドミラー保持装置が左右
方向へ移動したときに光軸ジャバラが伸縮されるが、光
軸ジャバラの伸縮部をフィルタ素子で形成せしめてある
から、微少隙間と吸気抵抗の差が著しくできるための汚
染された外気を吸い込む可能が低くなる。また、ベンド
ミラーの表面を通過せずに体積変化を救出できるため、
よりベンドミラーの汚れに対して良好な環境が得られ
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態の例
を図面に基いて詳細に説明する。
を図面に基いて詳細に説明する。
【００１７】図３を参照するに、レーザ加工機１におい
ては、ベース３が長手方向を前後方向（以下、Ｘ軸方向
という）へ延伸して設置されている。このベース３の略
中央部付近には、ベース３に跨がった門型フレーム５が
立設されている。この門型フレーム５の一部を構成する
上部フレーム７には、左右方向（以下、Ｙ軸方向とい
う）へ移動自在なＹ軸キャレッジ９が設けられている。
ては、ベース３が長手方向を前後方向（以下、Ｘ軸方向
という）へ延伸して設置されている。このベース３の略
中央部付近には、ベース３に跨がった門型フレーム５が
立設されている。この門型フレーム５の一部を構成する
上部フレーム７には、左右方向（以下、Ｙ軸方向とい
う）へ移動自在なＹ軸キャレッジ９が設けられている。
【００１８】このＹ軸キャレッジ９の下部には、上下方
向（以下、Ｚ軸方向という）へ移動自在なＺ軸キャレッ
ジ１１が設けられている。このＺ軸キャレッジ１１の下
部には、図示省略のレーザ発振器から発振されたレーザ
ビームＬＢを照射するための加工ヘッド１３が設けられ
ており、この加工ヘッド１３には集光レンズ１５（図
１，図２参照）が備えられている。しかも加工ヘッド１
３の先端にはノズル１７が装備されている。
向（以下、Ｚ軸方向という）へ移動自在なＺ軸キャレッ
ジ１１が設けられている。このＺ軸キャレッジ１１の下
部には、図示省略のレーザ発振器から発振されたレーザ
ビームＬＢを照射するための加工ヘッド１３が設けられ
ており、この加工ヘッド１３には集光レンズ１５（図
１，図２参照）が備えられている。しかも加工ヘッド１
３の先端にはノズル１７が装備されている。
【００１９】上記構成により、加工ヘッド１３はＹ軸キ
ャレッジ９によりＹ軸方向へ移動位置決めされると共
に、Ｚ軸キャレッジ１１によりＺ軸方向へ移動されるこ
とになる。
ャレッジ９によりＹ軸方向へ移動位置決めされると共
に、Ｚ軸キャレッジ１１によりＺ軸方向へ移動されるこ
とになる。
【００２０】前記ベース３上には、図示省略のＸ軸方向
へ複数のガイドレールが延伸して設けられており、この
ガイドレールに沿って箱型形状のワークテーブル１９が
設けられている。このワークテーブル１９上には図示省
略のパレットがクランプされ、このパレット上に加工す
べきワークが載置支持される。
へ複数のガイドレールが延伸して設けられており、この
ガイドレールに沿って箱型形状のワークテーブル１９が
設けられている。このワークテーブル１９上には図示省
略のパレットがクランプされ、このパレット上に加工す
べきワークが載置支持される。
【００２１】従って、門型フレーム５に取付けられてい
るＮＣ装置２１が、ワークテーブル１９をＸ軸方向へ移
動位置決めすると共に、加工ヘッド１３をＹ軸方向へ移
動位置決めすることによって、ワークは相対的にＸ，Ｙ
軸方向へ移動することになり、加工ヘッド１３が照射さ
れるレーザビームＬＢによって所定のレーザ加工を施す
ことができる。
るＮＣ装置２１が、ワークテーブル１９をＸ軸方向へ移
動位置決めすると共に、加工ヘッド１３をＹ軸方向へ移
動位置決めすることによって、ワークは相対的にＸ，Ｙ
軸方向へ移動することになり、加工ヘッド１３が照射さ
れるレーザビームＬＢによって所定のレーザ加工を施す
ことができる。
【００２２】図１を参照するに、前記加工ヘッド１３の
上部にはベンドミラー２３を備えたベンドミラー保持装
置２５が一体的に設けられている。このベンドミラー保
持装置２５に備えられたベンドミラー２３の入口側（図
１において右側）には伸縮自在な光軸ジャバラ２７が設
けられていると共に、前記ベンドミラー２３の反対側
（図１において左側）には伸縮自在な定容量ジャバラ２
９が設けられている。
上部にはベンドミラー２３を備えたベンドミラー保持装
置２５が一体的に設けられている。このベンドミラー保
持装置２５に備えられたベンドミラー２３の入口側（図
１において右側）には伸縮自在な光軸ジャバラ２７が設
けられていると共に、前記ベンドミラー２３の反対側
（図１において左側）には伸縮自在な定容量ジャバラ２
９が設けられている。
【００２３】前記光軸ジャバラ２７の左端と定容量ジャ
バラ２９の右端とが連通部材としてのエルボ３１で接続
されている。しかも、このエルボ３１の左側下部には前
記ベンドミラー保持装置２５が一体化されている。前記
光軸ジャバラ２７の右端にはフィルタ３３が設けられて
いると共に、定容量ジャバラ２９の左端にはフィルタ３
５が設けられている。前記フィルタ３３の右側にはレー
ザ発振器３７（図２参照）から発振されたレーザビーム
ＬＢを前記ベンドミラー２５に折り曲げるための別のベ
ンドミラー３９を備えたベンドミラー保持装置４１が一
体化されている。
バラ２９の右端とが連通部材としてのエルボ３１で接続
されている。しかも、このエルボ３１の左側下部には前
記ベンドミラー保持装置２５が一体化されている。前記
光軸ジャバラ２７の右端にはフィルタ３３が設けられて
いると共に、定容量ジャバラ２９の左端にはフィルタ３
５が設けられている。前記フィルタ３３の右側にはレー
ザ発振器３７（図２参照）から発振されたレーザビーム
ＬＢを前記ベンドミラー２５に折り曲げるための別のベ
ンドミラー３９を備えたベンドミラー保持装置４１が一
体化されている。
【００２４】上記構成により、レーザ発振器３７から発
振されたレーザビームＬＢはベンドミラー３９で９０度
に反射され、さらに加工ヘッド１３に備えられたベンド
ミラー２３で９０度に反射されて集光レンズ１５に集光
された後、ワークへ向けて照射されてワークにレーザ加
工が行われることになる。
振されたレーザビームＬＢはベンドミラー３９で９０度
に反射され、さらに加工ヘッド１３に備えられたベンド
ミラー２３で９０度に反射されて集光レンズ１５に集光
された後、ワークへ向けて照射されてワークにレーザ加
工が行われることになる。
【００２５】ワークにレーザ加工を行う際には、図２に
示されているように、加工ヘッド１３がＹ軸方向へ移動
される。例えば、図２において加工ヘッド１３を左側へ
移動せしめると、ベンドミラー２３も一緒に同方向へ移
動することにより、光軸ジャバラ２７と定容量ジャバラ
との間に流れが生じ、エルボ３１の管内抵抗が発生す
る。
示されているように、加工ヘッド１３がＹ軸方向へ移動
される。例えば、図２において加工ヘッド１３を左側へ
移動せしめると、ベンドミラー２３も一緒に同方向へ移
動することにより、光軸ジャバラ２７と定容量ジャバラ
との間に流れが生じ、エルボ３１の管内抵抗が発生す
る。
【００２６】このことにより、外気圧Ｐ0 の値より定容
量ジャバラ２９内の圧力Ｐ1 が高く、逆に光軸ジャバラ
２７内の圧力Ｐ2 が低くなる。このＰ0 ＜Ｐ1 の差圧
は、フィルタ３５より外部へ逃げることで、Ｐ0 ＝Ｐ1
となり、また、Ｐ0 ＞Ｐ2 の差圧はフィルタ３３より外
部からクリーンな空気を吸い込むことでＰ0 ＝Ｐ2 とな
る。
量ジャバラ２９内の圧力Ｐ1 が高く、逆に光軸ジャバラ
２７内の圧力Ｐ2 が低くなる。このＰ0 ＜Ｐ1 の差圧
は、フィルタ３５より外部へ逃げることで、Ｐ0 ＝Ｐ1
となり、また、Ｐ0 ＞Ｐ2 の差圧はフィルタ３３より外
部からクリーンな空気を吸い込むことでＰ0 ＝Ｐ2 とな
る。
【００２７】また、加工ヘッド１３を図２において右側
へ移動せしめると、ベンドミラー２３も一緒に同方向へ
移動される。この場合における光軸ジャバラ２７および
定容量ジャバラ２９内の圧力の作用は、上述した場合と
全く逆となり、Ｐ1 ，Ｐ2 はいずれもＰ0 と等しくなる
ように作用する。
へ移動せしめると、ベンドミラー２３も一緒に同方向へ
移動される。この場合における光軸ジャバラ２７および
定容量ジャバラ２９内の圧力の作用は、上述した場合と
全く逆となり、Ｐ1 ，Ｐ2 はいずれもＰ0 と等しくなる
ように作用する。
【００２８】したがって、汚れた外気の吸い込みをなく
すことができるので、光軸ジャバラ２７，定容量ジャバ
ラ２９の内部の環境を低下させることがないので、ベン
ドミラー２３を汚すことがなくなる。しかも、クリーン
なエアをパージする必要がない。
すことができるので、光軸ジャバラ２７，定容量ジャバ
ラ２９の内部の環境を低下させることがないので、ベン
ドミラー２３を汚すことがなくなる。しかも、クリーン
なエアをパージする必要がない。
【００２９】而して、ベンドミラー２３が汚れないの
で、クリーニングの必要がなくなると共に、エアパージ
の必要がなくなりコストダウンを図ることができる。
で、クリーニングの必要がなくなると共に、エアパージ
の必要がなくなりコストダウンを図ることができる。
【００３０】図４および図５には別の実施の形態の例が
示されている。図４においては、光軸ジャバラ２７と定
容量ジャバラ２９とを連通せしめる連通部材４３が、光
軸ジャバラ２７と定容量ジャバラ２９を同軸上で連通さ
せ、この連通部材４３内にベンドミラー２３を備えたベ
ンドミラー保持装置２５を備えたものてある。
示されている。図４においては、光軸ジャバラ２７と定
容量ジャバラ２９とを連通せしめる連通部材４３が、光
軸ジャバラ２７と定容量ジャバラ２９を同軸上で連通さ
せ、この連通部材４３内にベンドミラー２３を備えたベ
ンドミラー保持装置２５を備えたものてある。
【００３１】図５においては、連通部材４５として図１
におけるエルボ３１を光軸ジャバラ２７の左側に設ける
と共に、定容量ジャバラ２９の右側に別の連通部材４７
を設け、この連通部材４７とエルボ３１とを互いに連結
管４９で連結せしめたものである。
におけるエルボ３１を光軸ジャバラ２７の左側に設ける
と共に、定容量ジャバラ２９の右側に別の連通部材４７
を設け、この連通部材４７とエルボ３１とを互いに連結
管４９で連結せしめたものである。
【００３２】したがって、図４，図５に示したように、
光軸ジャバラ２７と定容量ジャバラ２９とを連通せしめ
るようにしても、図１と同様の効果を奏するものであ
る。
光軸ジャバラ２７と定容量ジャバラ２９とを連通せしめ
るようにしても、図１と同様の効果を奏するものであ
る。
【００３３】図６には図１に代る他の実施の形態の例が
示されている。図６において図１における部品と同じ部
品には同一の符号を符し、重複する部分の説明を省略す
る。すなわち、図６においてベンドミラー２３の左側に
エルボ３１，定容量ジャバラ２９、フィルタ３５を設け
ずに、ベンドミラー２３の入口側に光軸ジャバラ２７を
設け、この光軸ジャバラ２７の端部にフィルタ３３を設
けるようにしたものである。
示されている。図６において図１における部品と同じ部
品には同一の符号を符し、重複する部分の説明を省略す
る。すなわち、図６においてベンドミラー２３の左側に
エルボ３１，定容量ジャバラ２９、フィルタ３５を設け
ずに、ベンドミラー２３の入口側に光軸ジャバラ２７を
設け、この光軸ジャバラ２７の端部にフィルタ３３を設
けるようにしたものである。
【００３４】上記構成により、ワークにレーザ加工を行
う際には、加工ヘッド１３がＹ軸方向へ移動される。例
えば図６において加工ヘッド１３を左側へ移動せしめる
と、ベンドミラー２３も一緒に同方向へ移動することに
より、光軸ジャバラ２７が伸びて外気圧Ｐ0 より光軸ジ
ャバラ２７内の圧力Ｐ2 が低くなる（Ｐ2 ＜Ｐ0 ）。し
かし、フィルタ３３によりクリーンな空気が吸い込まれ
てＰ2 ＝Ｐ0 となる。
う際には、加工ヘッド１３がＹ軸方向へ移動される。例
えば図６において加工ヘッド１３を左側へ移動せしめる
と、ベンドミラー２３も一緒に同方向へ移動することに
より、光軸ジャバラ２７が伸びて外気圧Ｐ0 より光軸ジ
ャバラ２７内の圧力Ｐ2 が低くなる（Ｐ2 ＜Ｐ0 ）。し
かし、フィルタ３３によりクリーンな空気が吸い込まれ
てＰ2 ＝Ｐ0 となる。
【００３５】また、加工ヘッド１３を図６において右側
へ移動せしめると、光軸ジャバラ２７が縮んで外気圧Ｐ
0 より光軸ジャバラ２７の圧力Ｐ2 が高くなる（Ｐ2 ＞
Ｐ0）。フィルタ３３から光軸ジャバラ２７内の圧力が
逃げてＰ2 ＝Ｐ0 となる。
へ移動せしめると、光軸ジャバラ２７が縮んで外気圧Ｐ
0 より光軸ジャバラ２７の圧力Ｐ2 が高くなる（Ｐ2 ＞
Ｐ0）。フィルタ３３から光軸ジャバラ２７内の圧力が
逃げてＰ2 ＝Ｐ0 となる。
【００３６】而して、汚れた外気の吸い込みをなくすこ
とができるので、光軸ジャバラ２７における内部の環境
を低下させることがなくなり、塵埃などの侵入を防止す
ることができる。
とができるので、光軸ジャバラ２７における内部の環境
を低下させることがなくなり、塵埃などの侵入を防止す
ることができる。
【００３７】図７には図１に代る他の実施の形態の例が
示されている。図７において図１における部品と同じ部
品には同一の符号をして重複する部分の説明を省略す
る。
示されている。図７において図１における部品と同じ部
品には同一の符号をして重複する部分の説明を省略す
る。
【００３８】図７において、ベンドミラー２３を備えた
ベンドミラー保持装置２５の入口側および出口側にそれ
ぞれ光軸ジャバラ２７，４１を設け、各光軸ジャバラ２
７，４１の伸縮部を例えば炭素繊維からなるフィルタ素
材４３で形成せしめたものである。
ベンドミラー保持装置２５の入口側および出口側にそれ
ぞれ光軸ジャバラ２７，４１を設け、各光軸ジャバラ２
７，４１の伸縮部を例えば炭素繊維からなるフィルタ素
材４３で形成せしめたものである。
【００３９】光軸ジャバラ２７，４１内の体積変化を吸
収するため、空気透過性のある炭素繊維からなるフィル
タ素材４３で光軸ジャバラ２７，４１の伸縮部を形成せ
しめると、例えば光軸ジャバラ２７，４１内の容積変化
は、約３０Ｌ、透過面積を２．２ｍ2 とし、変化時間を
Ｘ軸移動速度４０ｍ／ｍｉｎ、移動距離２５３０ｍｍと
して約４秒した場合、４５０Ｌ／ｍｉｎの体積変化を表
面積２１６５ｃｍ2 で受ける分けで、単位面積当り（ｃ
ｍ2 ）流速は０．２Ｌ／ｍｉｎとなり微少であることが
わかる。
収するため、空気透過性のある炭素繊維からなるフィル
タ素材４３で光軸ジャバラ２７，４１の伸縮部を形成せ
しめると、例えば光軸ジャバラ２７，４１内の容積変化
は、約３０Ｌ、透過面積を２．２ｍ2 とし、変化時間を
Ｘ軸移動速度４０ｍ／ｍｉｎ、移動距離２５３０ｍｍと
して約４秒した場合、４５０Ｌ／ｍｉｎの体積変化を表
面積２１６５ｃｍ2 で受ける分けで、単位面積当り（ｃ
ｍ2 ）流速は０．２Ｌ／ｍｉｎとなり微少であることが
わかる。
【００４０】したがって、ベンドミラー２３を備えたベ
ンドミラー保持装置２５が図７において左右方向へ移動
したときに光軸ジャバラ２７が伸縮されるが、光軸ジャ
バラ２７の伸縮部をフィルタ素子４３で形成せしめてあ
るから、微少隙間と吸気抵抗の差が著しくできるため汚
染された外気を吸い込む可能性が低くなる。また、ベン
ドミラーの表面を通過せずに体積変化を吸出できるた
め、よりベンドミラー２３の汚れに対して良好な環境を
得ることができる。
ンドミラー保持装置２５が図７において左右方向へ移動
したときに光軸ジャバラ２７が伸縮されるが、光軸ジャ
バラ２７の伸縮部をフィルタ素子４３で形成せしめてあ
るから、微少隙間と吸気抵抗の差が著しくできるため汚
染された外気を吸い込む可能性が低くなる。また、ベン
ドミラーの表面を通過せずに体積変化を吸出できるた
め、よりベンドミラー２３の汚れに対して良好な環境を
得ることができる。
【００４１】なお、前述した実施の形態の例に限定され
ることなく、適宜な変更を行うことにより、その他の態
様で実施し得るものである。
ることなく、適宜な変更を行うことにより、その他の態
様で実施し得るものである。
【００４２】
【発明の効果】以上のごとき実施の形態の例より理解さ
れるように、請求項１，２の発明によれば、加工ヘッド
に備えられたベンドミラーの入口側に光軸ジャバラを、
反対側に定容量ジャバラを設け、この光軸ジャバラと定
容量ジャバラとをエルボなどの連通部材で連通せしめる
と共に、光軸ジャバラ，定容量ジャバラの端部にそれぞ
れフィルタを設けたので、汚れた外気の吸い込みをなく
することができて、内部の環境を低下させることがなく
なり、ベンドミラーを汚すことをなくすことができる。
しかもクリーンなエアをパージする必要がない。
れるように、請求項１，２の発明によれば、加工ヘッド
に備えられたベンドミラーの入口側に光軸ジャバラを、
反対側に定容量ジャバラを設け、この光軸ジャバラと定
容量ジャバラとをエルボなどの連通部材で連通せしめる
と共に、光軸ジャバラ，定容量ジャバラの端部にそれぞ
れフィルタを設けたので、汚れた外気の吸い込みをなく
することができて、内部の環境を低下させることがなく
なり、ベンドミラーを汚すことをなくすことができる。
しかもクリーンなエアをパージする必要がない。
【００４３】而して、ベンドミラーが汚れないのでクリ
ーニングする必要がなくなると共に、エアパージをする
必要がなく、コストダウンを図ることができる。
ーニングする必要がなくなると共に、エアパージをする
必要がなく、コストダウンを図ることができる。
【００４４】請求項３の発明によれば、加工ヘッドが例
えば左側へ移動することによって、光軸ジャバラが伸び
て外気圧Ｐ0 より光軸ジャバラ内の圧力Ｐ2 が低くなる
が（Ｐ2 ＜Ｐ0 ）、フィルタによりクリーンな空気が吸
い込まれてＰ2 ＝Ｐ0 となる。またレーザ加工ヘッドが
例えば右側へ移動することによって光軸ジャバラが縮ん
で外気圧Ｐ0 より光軸ジャバラの圧力Ｐ2 が高くなるが
（Ｐ2 ＜Ｐ0 ）、フィルタから光軸ジャバラ内の圧力が
逃げてＰ2 ＝Ｐ0 となる。
えば左側へ移動することによって、光軸ジャバラが伸び
て外気圧Ｐ0 より光軸ジャバラ内の圧力Ｐ2 が低くなる
が（Ｐ2 ＜Ｐ0 ）、フィルタによりクリーンな空気が吸
い込まれてＰ2 ＝Ｐ0 となる。またレーザ加工ヘッドが
例えば右側へ移動することによって光軸ジャバラが縮ん
で外気圧Ｐ0 より光軸ジャバラの圧力Ｐ2 が高くなるが
（Ｐ2 ＜Ｐ0 ）、フィルタから光軸ジャバラ内の圧力が
逃げてＰ2 ＝Ｐ0 となる。
【００４５】したがって、汚れた外気の吸い込みをなく
することができるので、光軸ジャバラにおける内部の環
境を低下させることがなくなり、塵埃などの侵入を防止
することができる。
することができるので、光軸ジャバラにおける内部の環
境を低下させることがなくなり、塵埃などの侵入を防止
することができる。
【００４６】請求項４の発明によれば、ベンドミラーを
備えたベンドミラー保持装置が左右方向へ移動したとき
に光軸ジャバラが伸縮されるが、光軸ジャバラの伸縮部
をフィルタ素子で形成せしめてあるから、微少隙間と吸
気抵抗の差が著しくできるための汚染された外気を吸い
込む可能を低くすることができる。また、ベンドミラー
の表面を通過せずに体積変化を救出できるため、よりベ
ンドミラーの汚れに対して良好な環境を得ることができ
る。
備えたベンドミラー保持装置が左右方向へ移動したとき
に光軸ジャバラが伸縮されるが、光軸ジャバラの伸縮部
をフィルタ素子で形成せしめてあるから、微少隙間と吸
気抵抗の差が著しくできるための汚染された外気を吸い
込む可能を低くすることができる。また、ベンドミラー
の表面を通過せずに体積変化を救出できるため、よりベ
ンドミラーの汚れに対して良好な環境を得ることができ
る。
【図１】この発明の主要部を示す加工ヘッド部分の拡大
説明図である。
説明図である。
【図２】この発明の動作を説明する説明図である。
【図３】この発明を実施する一実施の形態の例のレーザ
加工機の斜視図である。
加工機の斜視図である。
【図４】図１に代る他の実施の形態の例を示す説明図で
ある。
ある。
【図５】図１に代る他の実施の形態の例を示す説明図で
ある。
ある。
【図６】図１に代る他の実施の形態の例を示す説明図で
ある。
ある。
【図７】図１に代る他の実施の形態の例を示す説明図で
ある。
ある。
１ レーザ加工機 １３ 加工ヘッド １５ 集光レンズ １７ ノズル ２３ ベンドミラー ２５ ベンドミラー保持装置 ２７ 光軸ジャバラ ２９ 定容量ジャバラ ３１ エルボ（連通部材） ３３，３５ フィルタ ３７ レーザ発振器 ３９ ベンドミラー ４１ ベンドミラー保持装置 ＬＢ レーザビーム
Claims (4)
- 【請求項１】 レーザ加工機におけるベンドミラーを備
えた加工ヘッドを移動自在に設け、この加工ヘッドのベ
ンドミラーの入口側に、このベンドミラーに導かれるレ
ーザビームの光路を外部から保護する光軸ジャバラを設
けると共に、前記ベンドミラーの反対側に定容量ジャバ
ラを設け、前記光軸ジャバラと定容量ジャバラとを前記
加工ヘッドに一体化された連通部材で接続せしめ、前記
光軸ジャバラおよび定容量ジャバラの端部にフィルタを
設けてなることを特徴とするレーザ加工機。 - 【請求項２】 前記連通部材がエルボであることを特徴
とする請求項１記載のレーザ加工機。 - 【請求項３】 レーザ加工機におけるベンドミラーを備
えた加工ヘッドを移動自在に設け、この加工ヘッドのベ
ンドミラーの入口側に、このベンドミラーに導かれるレ
ーザビームの光路を外部から保護する光軸ジャバラを設
け、この光軸ジャバラの端部にフィルタを設けてなるこ
とを特徴とするレーザ加工機。 - 【請求項４】 レーザ加工機におけるベンドミラーを備
えたベンドミラー保持装置を移動自在に設け、このベン
ドミラー保持装置の入口側および／または出口側に、前
記ベンドミラーに導かれるレーザビームの光路を外部か
ら保護する光軸ジャバラを設け、この光軸ジャバラの伸
縮部をフィルタ素材で形成せしめてなることを特徴とす
るレーザ加工機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8189146A JPH0985482A (ja) | 1995-07-20 | 1996-07-18 | レーザ加工機 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18429995 | 1995-07-20 | ||
| JP7-184299 | 1995-07-20 | ||
| JP8189146A JPH0985482A (ja) | 1995-07-20 | 1996-07-18 | レーザ加工機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0985482A true JPH0985482A (ja) | 1997-03-31 |
Family
ID=26502424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8189146A Pending JPH0985482A (ja) | 1995-07-20 | 1996-07-18 | レーザ加工機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0985482A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11114688A (ja) * | 1997-08-13 | 1999-04-27 | Trumpf Gmbh & Co | ガス量調整装置を備えたレーザ加工機 |
| CN103212810A (zh) * | 2012-01-19 | 2013-07-24 | 昆山思拓机器有限公司 | 带空气过滤装置的伸缩管防尘机构的安装方法 |
| CN104028897A (zh) * | 2014-05-20 | 2014-09-10 | 广东大族粤铭激光科技股份有限公司 | 全封闭激光打标机 |
-
1996
- 1996-07-18 JP JP8189146A patent/JPH0985482A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11114688A (ja) * | 1997-08-13 | 1999-04-27 | Trumpf Gmbh & Co | ガス量調整装置を備えたレーザ加工機 |
| CN103212810A (zh) * | 2012-01-19 | 2013-07-24 | 昆山思拓机器有限公司 | 带空气过滤装置的伸缩管防尘机构的安装方法 |
| CN104028897A (zh) * | 2014-05-20 | 2014-09-10 | 广东大族粤铭激光科技股份有限公司 | 全封闭激光打标机 |
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