JPS639175A - 縦型エキシマレ−ザのレ−ザヘツド - Google Patents
縦型エキシマレ−ザのレ−ザヘツドInfo
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- JPS639175A JPS639175A JP15139886A JP15139886A JPS639175A JP S639175 A JPS639175 A JP S639175A JP 15139886 A JP15139886 A JP 15139886A JP 15139886 A JP15139886 A JP 15139886A JP S639175 A JPS639175 A JP S639175A
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- laser head
- window
- laser
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Links
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- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 11
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 abstract 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
- H01S3/0346—Protection of windows or mirrors against deleterious effects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、光軸が縦状となるようにした縦型エキシマレ
ーザのレーザヘッドに関するものである。
ーザのレーザヘッドに関するものである。
縦型エキシマレーザの使用例を第５図に示す。
この図はエキシマレーザステッパを示すもので、レーザ
ヘッドａは機枠すに光軸が縦状になるようにして着脱可
能に装着きれる。そしてこのレーザヘッドａの光軸方向
両端にはウィンドウｃ、ｄが装着してあり、レーザヘッ
ドａ内で励起されたレーザ光は上記両ウィンドウｃ、ｄ
から増り出されるようになっている。一方上記機枠すの
下側には上記レーザヘッドαの下側のウィンドウＣから
出たレーザ光を全反射するりアミラー−とソリッドエタ
ロンｆが、また上側圧は部分反射するフロントミラーダ
が装着されていて、上記レーザヘッドａからのレーザ光
を共振するようＫなっている。そしてこの共振によって
得られたレーザ光はミラーん、インチグレーダｔ１コン
デンサレンズにルチクル６１投影レンズ？７！を弁して
ウニハル上に投射されるようになっている。
ヘッドａは機枠すに光軸が縦状になるようにして着脱可
能に装着きれる。そしてこのレーザヘッドａの光軸方向
両端にはウィンドウｃ、ｄが装着してあり、レーザヘッ
ドａ内で励起されたレーザ光は上記両ウィンドウｃ、ｄ
から増り出されるようになっている。一方上記機枠すの
下側には上記レーザヘッドαの下側のウィンドウＣから
出たレーザ光を全反射するりアミラー−とソリッドエタ
ロンｆが、また上側圧は部分反射するフロントミラーダ
が装着されていて、上記レーザヘッドａからのレーザ光
を共振するようＫなっている。そしてこの共振によって
得られたレーザ光はミラーん、インチグレーダｔ１コン
デンサレンズにルチクル６１投影レンズ？７！を弁して
ウニハル上に投射されるようになっている。
上記のような縦型レーザヘッドａにあっては、放電によ
って生じた塵（倣紛宋）が、レーザ媒質ガスを放電部に
循環するガス循環装置を停止すると、東方によって下降
し、下側のウィンドウｄの内側１に堆積する、ウィンド
ウｄに農が付着するとウィンドウの透過率が低下し、レ
ーザパワーの低下を招く。
って生じた塵（倣紛宋）が、レーザ媒質ガスを放電部に
循環するガス循環装置を停止すると、東方によって下降
し、下側のウィンドウｄの内側１に堆積する、ウィンド
ウｄに農が付着するとウィンドウの透過率が低下し、レ
ーザパワーの低下を招く。
従来の技術 。
従来は特開昭５８−１８６９８５号公報に示されるよう
に、ガス清浄器にて清浄したガスをウィンドウの内側！
に吹きつけて、このウィンドウに塵がつかないようにし
ていた。
に、ガス清浄器にて清浄したガスをウィンドウの内側！
に吹きつけて、このウィンドウに塵がつかないようにし
ていた。
発明が解決しようとする問題点
上記従来の手段ではレーザヘッドが横型である場合には
ある程度効果があるが、縦型の場合あまり効果がなかっ
た。すなわち、縦型の場合重力のため罠、下側のウイシ
ドウにダストがたまりやすく、これを吹き飛はしてもウ
ィンドウの近くに舞いあがるだけで下側のウィンド付近
の塵をなくすことはむずかしかったなおレーザヘッド内
のガスはその循環中にフィルタやガス純化装置等で清浄
化してし、るが、ウィンドウ付近のガスはなかなか清浄
化されなかつｆＣ。
ある程度効果があるが、縦型の場合あまり効果がなかっ
た。すなわち、縦型の場合重力のため罠、下側のウイシ
ドウにダストがたまりやすく、これを吹き飛はしてもウ
ィンドウの近くに舞いあがるだけで下側のウィンド付近
の塵をなくすことはむずかしかったなおレーザヘッド内
のガスはその循環中にフィルタやガス純化装置等で清浄
化してし、るが、ウィンドウ付近のガスはなかなか清浄
化されなかつｆＣ。
問題点を解決するための手段及び作用
本発明は上記のことにかんがみなされたもので、縦型に
したレーザヘッドのウィンドウで、特に下側のウィンド
ウの内面側のダストをすばやく取り除くことができ、長
時間にわたって安定した出力を得ることができると共に
、ウィンドウのメンテナンスを非常に少なくすることが
できるようにしｌａｆ型エキシマレーザのレーザヘッド
を提供しようとするもので、その構成は、光軸が綾状に
なるようにした縦型エキシマレーザのレーザヘッドにお
いて、このレーザヘット−の光軸方向両端に設けたウィ
ンドウのうち、下側のウィンドウの内側付近に吸引管を
開口し、この吸引管をフィルタを介して吸引ポンプに接
続した構成となっており、吸引ポンプの作動により、下
＠１のウィンドウの内９１＋１にたまり、わるいは浮遊
しているダストは、吸引管より吸引され、フィルタにて
集ａされる。
したレーザヘッドのウィンドウで、特に下側のウィンド
ウの内面側のダストをすばやく取り除くことができ、長
時間にわたって安定した出力を得ることができると共に
、ウィンドウのメンテナンスを非常に少なくすることが
できるようにしｌａｆ型エキシマレーザのレーザヘッド
を提供しようとするもので、その構成は、光軸が綾状に
なるようにした縦型エキシマレーザのレーザヘッドにお
いて、このレーザヘット−の光軸方向両端に設けたウィ
ンドウのうち、下側のウィンドウの内側付近に吸引管を
開口し、この吸引管をフィルタを介して吸引ポンプに接
続した構成となっており、吸引ポンプの作動により、下
＠１のウィンドウの内９１＋１にたまり、わるいは浮遊
しているダストは、吸引管より吸引され、フィルタにて
集ａされる。
実施例
本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図では、元軸が綾状になるように配置されるエキシ
マレーザのレーザヘッド１が略示されており、このレー
ザヘッド１にはレーザ媒質ガスが充填されていて、この
レーザ媒質ガスは図示しないガス循環装置にて循環され
ていて放電々極（図示せず）の対向間を所定の速度で通
過するようになっている。レーザヘッド１の光軸方向両
端にはウィンドウ２．３が設けられている。そしてその
下側のウィンドウ３の内側付近にガスの吸引管４が開口
されている。この吸引管４はフィルタ５を弁して吸引ポ
ンプ６に接続しである。そしてこの吸引ポンプ６の出口
＠１はレーザヘッド１内に開口されている。
マレーザのレーザヘッド１が略示されており、このレー
ザヘッド１にはレーザ媒質ガスが充填されていて、この
レーザ媒質ガスは図示しないガス循環装置にて循環され
ていて放電々極（図示せず）の対向間を所定の速度で通
過するようになっている。レーザヘッド１の光軸方向両
端にはウィンドウ２．３が設けられている。そしてその
下側のウィンドウ３の内側付近にガスの吸引管４が開口
されている。この吸引管４はフィルタ５を弁して吸引ポ
ンプ６に接続しである。そしてこの吸引ポンプ６の出口
＠１はレーザヘッド１内に開口されている。
上記構成において、吸引ポンプ６の作動により下ｉｌｌ
のウィンドウ３の内側付近にあるダストは吸引されてフ
ィルタ５にて集塵され、清浄になったガスは書びレーザ
ヘッドＩ内に戻される。
のウィンドウ３の内側付近にあるダストは吸引されてフ
ィルタ５にて集塵され、清浄になったガスは書びレーザ
ヘッドＩ内に戻される。
なおこのガスの循環路内にガス純化装置を弁装してもよ
い。
い。
第２図から第４図は本発明の池の実施例を示すＯ
第２図に示す実施例Ｖｉ吸引ボン１６からの出口管７を
上側のウィンドウ２の内側に向け、この付近のダストを
吹きとばすようにした例である。
上側のウィンドウ２の内側に向け、この付近のダストを
吹きとばすようにした例である。
第３図に示す実施例は上記出口管７を分岐し、この分岐
管ｇを下側のウィンドウ３の内側付近に開口し、この下
側のウィンドウ３の内側のダストを吸引と共に吹きとば
すようにした例でるる。
管ｇを下側のウィンドウ３の内側付近に開口し、この下
側のウィンドウ３の内側のダストを吸引と共に吹きとば
すようにした例でるる。
第４図に示す実施例は上記第１の実施例による吸引作用
のほかに、レーザヘッド（内のガスを循環するガス循環
！ｔｉｉｔ９のプロア１０の排圧を利用して、上、下の
ウィンドウ２．３の内側に吹き出し管１１ 、１２にて
ガスを吹きつけるようにした例でるる。
のほかに、レーザヘッド（内のガスを循環するガス循環
！ｔｉｉｔ９のプロア１０の排圧を利用して、上、下の
ウィンドウ２．３の内側に吹き出し管１１ 、１２にて
ガスを吹きつけるようにした例でるる。
発明の効果
本発明によれば、縦型にしたレーザヘッドのウィンドウ
２．３で、特に下側のウィンドウ３の内面側のダストを
吸引によりすばやく取り除くことができ、長時間にわた
って安定した出力を得ることができる。またウィンドウ
２．３のメンテナンスを非常に少なくすることができる
。
２．３で、特に下側のウィンドウ３の内面側のダストを
吸引によりすばやく取り除くことができ、長時間にわた
って安定した出力を得ることができる。またウィンドウ
２．３のメンテナンスを非常に少なくすることができる
。
第１図から第４図は本発明の実施例を示す概略的な構成
説明図、第５図はエキシマレーザステッパを示す概略的
な構成説明図である。 １はレーザヘッド、２，３はウィンドウ、４は吸引管、
５はフィルタ、６は吸引ポンプ。
説明図、第５図はエキシマレーザステッパを示す概略的
な構成説明図である。 １はレーザヘッド、２，３はウィンドウ、４は吸引管、
５はフィルタ、６は吸引ポンプ。
Claims (1)
- 光軸が縦状になるようにした縦型エキシマレーザのレー
ザヘッドにおいて、このレーザヘッドヘッド１の光軸方
向両端に設けたウィンドウ２、３のうち、下側のウィン
ドウ３の内側付近に吸引管４を開口し、この吸引管４を
フィルタ５を介して吸引ポンプ６に接続したことを特徴
とする縦型エキシマレーザのレーザヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15139886A JPS639175A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 縦型エキシマレ−ザのレ−ザヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15139886A JPS639175A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 縦型エキシマレ−ザのレ−ザヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS639175A true JPS639175A (ja) | 1988-01-14 |
Family
ID=15517716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15139886A Pending JPS639175A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 縦型エキシマレ−ザのレ−ザヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS639175A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0326750A2 (en) * | 1988-01-30 | 1989-08-09 | Eev Limited | Lasers |
| US5001873A (en) * | 1989-06-26 | 1991-03-26 | American Air Liquide | Method and apparatus for in situ cleaning of excimer laser optics |
| EP0459491A2 (en) * | 1990-06-01 | 1991-12-04 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Gas laser apparatus |
| US5812314A (en) * | 1996-02-29 | 1998-09-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Lens contamination preventive device of light-beam heater |
| WO2023040226A1 (zh) * | 2021-09-14 | 2023-03-23 | 北京科益虹源光电技术有限公司 | 一种激光器出光窗片防尘结构和激光器 |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP15139886A patent/JPS639175A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0326750A2 (en) * | 1988-01-30 | 1989-08-09 | Eev Limited | Lasers |
| EP0326750A3 (en) * | 1988-01-30 | 1989-11-15 | Eev Limited | Lasers |
| US5001873A (en) * | 1989-06-26 | 1991-03-26 | American Air Liquide | Method and apparatus for in situ cleaning of excimer laser optics |
| EP0459491A2 (en) * | 1990-06-01 | 1991-12-04 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Gas laser apparatus |
| US5812314A (en) * | 1996-02-29 | 1998-09-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Lens contamination preventive device of light-beam heater |
| WO2023040226A1 (zh) * | 2021-09-14 | 2023-03-23 | 北京科益虹源光电技术有限公司 | 一种激光器出光窗片防尘结构和激光器 |
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