JPH11276971A - スピン処理装置 - Google Patents
スピン処理装置Info
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- JPH11276971A JPH11276971A JP8349198A JP8349198A JPH11276971A JP H11276971 A JPH11276971 A JP H11276971A JP 8349198 A JP8349198 A JP 8349198A JP 8349198 A JP8349198 A JP 8349198A JP H11276971 A JPH11276971 A JP H11276971A
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- Japan
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- cup
- space
- substrate
- exhaust
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- Granted
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- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
処理する際に、その基板にミストなどが付着するのを防
止したいスピン処理装置を提供することにある。 【解決手段】 カップ2と、このカップの底部中心部か
ら内部へ挿通された回転駆動される取付体6と、この取
付体に連結されて回転させられるとともに上面に基板1
が保持される回転テーブル7と、上記カップの内底部に
設けられこのカップ内部を上記回転テーブルの下面側
で、かつ上記カップの内底部付近の第1の空間部21お
よびそれ以外の第2の空間部22とに隔別するとともに
上面が上記カップの径方向中心部に向かって低く傾斜し
た傾斜面に形成された仕切り体15と、上記カップの底
部に上記第1の空間部と第2の空間部との両方に連通し
て設けられ上記回転テーブルの回転によって発生する空
気流を排出する排気管24とを具備したことを特徴とす
る。
Description
って基板を回転させて処理するスピン処理装置に関す
る。
ては、ワークとしてのガラス製の基板に回路パターンを
形成するための成膜プロセスやフォトプロセスがある。
これらのプロセスでは、上記基板の処理と洗浄とが繰り
返し行われる。洗浄された基板を乾燥させたり、基板に
レジストを均一に塗布するためには、上記基板を回転テ
ーブルに保持し、この回転テーブルとともに回転させ、
それによって生じる遠心力を利用する、スピン処理装置
が用いられている。
る。このカップは上面が開放したお椀状に形成され、そ
の底部中心部分には通孔が形成されている。上記カップ
の底部に形成された通孔からそのカップの内部へはモー
タの駆動軸が挿通されている。この駆動軸の上端には十
字状の回転テーブルが取付けられている。この回転テー
ブルの上面には支持ピンおよびガイドピンが設けられ、
上記支持ピンには回転テーブルの上面に供給される、矩
形状のガラス基板の下面四隅部が支持され、上記ガイド
ピンは上記ガラス基板の四隅部の外周面に係合してその
ガラス基板が回転テーブル上で動くのを阻止している。
複数の排気口が形成され、各排気口には図示しない吸引
ポンプに連通した排気管が接続されている。このような
構成のスピン処理装置によれば、上記ガラス基板をたと
えば乾燥処理する場合、上記モータに通電し、その駆動
軸に取付けられた回転テーブルを回転させる。
せれば、その遠心力によってガラス基板の上面に付着し
た洗浄液が飛散するから、そのガラス基板を乾燥処理す
ることができる。
その回転によって遠心力が発生するだけでなく、カップ
内には回転テーブルの回転にともない空気の流れが生じ
ることが避けられない。その空気流はカップ内の径方向
周辺部からその底部に設けられた排気口へ向かう円滑な
流れだけでなく、カップの径方向内方で、上記回転テー
ブルの下面側において渦を巻く乱気流も発生する。
によってガラス基板からカップの内底部に滴下する洗浄
液が巻き込まれ、ミストとなって上記ガラス基板の下面
に付着することがある。
ピン処理装置においては、回転テーブルの下面側におい
て乱気流が発生すると、その乱気流によって上記回転テ
ーブルに保持された基板の下面にミストが付着し、基板
が汚染されるということがあった。
とで、この回転テーブルの下面側に乱気流が発生して
も、その乱気流で基板の下面をミストなどによって汚染
するのを防止できるようにしたスピン処理装置を提供す
ることにある。
に請求項1の発明は、基板を回転させることで、この基
板に所定の処理を行うスピン処理装置において、カップ
と、このカップの底部中心部から内部へ挿通された回転
駆動される駆動軸と、この駆動軸に連結されて回転され
るとともに上面に上記基板が保持される回転テーブル
と、上記カップの内底部に設けられこのカップ内部を上
記回転テーブルの下面側で、かつ上記カップの内底部付
近の第1の空間部およびそれ以外の第2の空間部とに隔
別するとともに上面が上記カップの径方向中心部に向か
って低く傾斜した傾斜面に形成された仕切り体と、上記
カップの底部に上記第1の空間部と第2の空間部との両
方に連通して設けられ上記回転テーブルの回転によって
発生する空気流を排出する排出手段とを具備したことを
特徴とする。
て、上記排出手段は、上記第1の空間部と第2の空間部
とに連通する排気管を有し、この排気管内には上記第1
の空間部あるいは第2の空間部に連通する制御管が収納
され、この制御管には上記各空間部からの排気量を調整
する制御弁が設けられていることを特徴とする。
の空間部と第2の空間部とに隔別する仕切り体の上面を
カップの径方向中心部に向かって低く傾斜した傾斜面に
形成したことで、カップ内の回転テーブルの下面側に滴
下する洗浄液を上記仕切り体の傾斜面に沿って円滑に流
すことができるから、その洗浄液が回転テーブルの下面
側で発生する乱気流に巻き込まれてミストとなり、基板
の下面に付着するのを防止することができ、また第1の
空間部と第2の空間部とは、これらの両方に排気手段が
連通して設けられているから、各空間部で発生するミス
トが確実に排出されるばかりか、2つの空間部を同時に
排気できるため、別々に排気する場合に比べて構成を簡
略化することができる。
第2の空間部とに連通する排気管に、どちらか一方の空
間部に連通する制御管を設け、その制御管に排気量を調
整する制御弁を設けることで排気手段を構成したから、
第1の空間部と第2の空間部とからの排気量を最適な割
合になるよう調整することができる。
図2を参照して説明する。図1に示すスピン処理装置
は、たとえば液晶表示装置のガラス製の基板1を乾燥処
理するためのもので、その装置はベースB上に配置され
たカップ2を備えている。このカップ2は下カップ2a
およびこの下カップ2aの上端に連結された上カップ2
bによって上面が開放したお椀状に形成されている。
が形成されている。この通孔3には、モータ4の回転軸
5に連結された取付体6が挿通され、カップ2内に突出
した上記取付体6の上端は平面形状がT字状をなした回
転テーブル7の下面中心部分に連結されている。この回
転テーブル7には、上記基板1の下面を支持する支持ピ
ン7aと、上記基板1の周辺部に係合する係合ピン7b
とが突設されている。
の発明の駆動体を構成している。上記通孔3は周壁がカ
ップ2の中心部から径方向外方に向かって低く傾斜した
第1の傾斜面9に形成された断面形状が円錐台状のカバ
ー11によって覆われている。このカバー11は上記回
転テーブル7の中心部の下面側をシールするシール部材
12に取付けられている。
支持柱16によって保持されている。この仕切り体15
は環状の周壁17およびこの周壁17の上端に折曲形成
された上部壁18とから形成されている。この上部壁1
8の上面はカップ2の径方向中心に向かって低く傾斜し
た第2の傾斜面19となっており、その先端は上記第1
の傾斜面9とわずかな隙間を介して対向している。
間部は、上記仕切り体15の内面側、つまり上記回転テ
ーブル7の下面側で、カップ2の内底部の部分となる第
1の空間部21と、それ以外の部分である第2の空間部
22とに隔別している。第2の空間部22は上記カップ
2の上面開口に連通している。
隔、この実施の形態では90度間隔で4つの排気口23
(2つのみ図示)が形成されている。各排気口23は上
記第1の空間部21と第2の空間部22との両方にまた
がって開口形成されている。つまり、仕切り体15の側
壁17の下端が上記排気口23を分割する状態で位置し
ている。
付板31を介して接続されている。この排気管24は上
記取付板31を介して上記第1 の空間部21に連通して
いる。この取付板31には図2に示すように上記排気口
23と対応する通孔31aが形成されている。
21に連通する短管状の制御管25が図示しない支持部
材によって支持されている。この制御管25には上記排
気管24の外部から角度調整可能な制御弁26が設けら
れている。
の一端が接続され、この排気ホース27の他端は図示し
ない排気ポンプに連通している。したがって、上記排気
ポンプが作動すれば、上記排気管24を介して上記第1
の空間部21と第2の空間部22とに吸引力を作用さ
せ、これら空間部内の雰囲気を排出できるようになって
いる。その際、上記制御弁26の開き角度を変えること
で、第1の空間部21と第2の空間部22からの排気量
を制御できるようになっている。
て洗浄後の基板1を乾燥処理する場合について説明す
る。回転テーブル7に洗浄液によって洗浄処理されて濡
れた状態にある基板1が供給されると、モータ4に通電
されて上記回転テーブル7が回転駆動される。それによ
って、基板20に付着した洗浄液に遠心力が作用し、そ
の遠心力で洗浄液が飛散し、基板1が乾燥処理される。
は、排気ホース27に接続された排気ポンプを作動させ
てカップ2内の雰囲気を排気する。つまり、回転テーブ
ル7を回転させることでカップ1内に気流が生じるとと
もに、基板1に付着した洗浄液が回転にともなう遠心力
でカップ2の内面に衝突することでミストが発生するか
ら、ミストを含む第2の空間部22内の雰囲気が排気管
24を通じて上記排気ホース27から排出されることに
なる。
1の空間部21と第2の空間部22とに隔別されてい
る。上記仕切り体15の上記第1の空間部21を覆う上
部壁18はカップ2の径方向内方に向かって低く傾斜し
た第2の傾斜面19に形成されている。
板1からその下面側に滴下する洗浄液は上記仕切り体1
5の第2の傾斜面19に沿って円滑に流れ、この第2の
傾斜面19からカバー11の第1の傾斜面9を伝わって
第1の空間部21へ滴下し、この第1の空間部21から
排気管24へ排出されることになる。
ることで、この回転テーブル7の下面側に乱気流が発生
しても、回転テーブル7の下面側に滴下する洗浄液は、
仕切り体15によって覆われた第1の空間部21に円滑
に流入するから、第1 の空間部21へ流入した洗浄液が
上記乱気流によってミスト化されて基板1の下面に付着
するのを防止することができる。
によって覆われているため、その第1の空間部21に滴
下した洗浄液が仕切りたい15の上面側で発生する乱気
流によってミスト化されるということがほとんどない。
囲に飛散する洗浄液はカップ2の内周面に衝突してミス
ト化するものの、上記カップ2内の周辺部、つまり第2
の空間部22には排気ポンプの吸引力が確実に作用す
る。
ストが回転テーブル7の下面側に回り込むのが阻止され
るばかりか、仕切り体15の周壁17によっても回転テ
ーブル7の下面側に回り込むのが阻止されるから、基板
1から飛散する洗浄液がカップ2の内周面に衝突するこ
とでミストが発生しても、そのミストが回転テーブル7
に保持された基板1の下面側に回り込んで付着するとい
うことも防止される。
は、第1の空間部21と第2の空間部22との両方に連
通している。そのため、カップ2内を仕切り体15によ
って2つの空間部21,22に分けても、各空間部2
1,22を排気するために別々に排気管を接続するとい
うことをせずにすむから、その分、排気管24や排気ホ
ース27の数を少なくし、構成の簡略化を計ることがで
きる。
5には制御弁26が設けられ、この制御弁26の開度を
調整することで、上記制御管25からの排気量、つまり
第1の空間部21の排気量を制御することができる。
って覆われた閉塞空間であり、第2の空間部22はカッ
プ2の上面開口に連通した開放空間であるから、第1の
空間部21からの排気量が第2の空間部22からの排気
量よりも少なくなるよう上記制御管25の制御弁26の
開度を制御することで、各空間部21,22からの排気
度合(各空間部の雰囲気の置換度合)が同じようになる
よう制御できる。また、第1の空間部21と第2の空間
部22におけるミストの発生度合に応じて制御弁26の
開度を設定し、それによって各空間部からの排気度合を
設定することもできる。
ず、種々変形可能である。たとえば、上記一実施の形態
では制御管を第1の空間部に連通させて設けたが、第2
の空間部に連通させて設けてもよく、要は第1の空間部
と第2の空間部からの排気量を制御できる構成であれば
よい。
1の空間部と第2の空間部とに隔別する仕切り体の上面
をカップの径方向中心部に向かって低く傾斜した傾斜面
に形成した。
側に滴下する洗浄液を上記仕切り体の傾斜面に沿って上
記仕切りたいで覆われた第1の空間部へ円滑に流すこと
ができるから、回転テーブルの下面側で乱気流が発生し
ても、その乱気流によって回転テーブルの下方の第1の
空間部に流入した洗浄液がミスト化されて基板の下面に
付着するのを防止することができる。
は、これらの両方にわたる排気手段が連通して設けられ
ているから、各空間部で発生するミストが確実に排出さ
れるばかりか、2つの空間部を同時に排気できるため、
別々に排気する場合に比べて構成を簡略化することがで
きる。
第2の空間部とに連通する排気管およびどちらか一方の
空間部に連通する制御管、さらにその制御管に排気量を
調整する制御弁を設けることで排気手段を構成した。
とで、第1の空間部と第2の空間部とからの排気量が最
適な割合になるよう制御できるから、それぞれの空間部
にミストを含む雰囲気が滞留するのを防止することがで
きる。
図。
Claims (2)
- 【請求項1】 基板を回転させることで、この基板に所
定の処理を行うスピン処理装置において、 カップと、 このカップの底部中心部から内部へ挿通された回転駆動
される駆動体と、 この駆動体に連結されて回転されるとともに上面に上記
基板が保持される回転テーブルと、 上記カップの内底部に設けられこのカップ内部を上記回
転テーブルの下面側で、かつ上記カップの内底部付近の
第1の空間部およびそれ以外の第2の空間部とに隔別す
るとともに上面が上記カップの径方向中心部に向かって
低く傾斜した傾斜面に形成された仕切り体と、 上記カップの底部に上記第1の空間部と第2の空間部と
の両方に連通して設けられ上記回転テーブルの回転によ
って発生する空気流を排出する排出手段とを具備したこ
とを特徴とするスピン処理装置。 - 【請求項2】 上記排出手段は、上記第1の空間部と第
2の空間部とに連通する排気管を有し、この排気管内に
は上記第1の空間部あるいは第2の空間部に連通する制
御管が収納され、この制御管には上記各空間部からの排
気量を調整する制御弁が設けられていることを特徴とす
る請求項1記載のスピン処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8349198A JP4025414B2 (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | スピン処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8349198A JP4025414B2 (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | スピン処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11276971A true JPH11276971A (ja) | 1999-10-12 |
JP4025414B2 JP4025414B2 (ja) | 2007-12-19 |
Family
ID=13803960
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8349198A Expired - Fee Related JP4025414B2 (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | スピン処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4025414B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101677037B1 (ko) * | 2015-10-16 | 2016-11-17 | 주식회사 케이씨텍 | 스핀식 헹굼 건조 장치 |
-
1998
- 1998-03-30 JP JP8349198A patent/JP4025414B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101677037B1 (ko) * | 2015-10-16 | 2016-11-17 | 주식회사 케이씨텍 | 스핀식 헹굼 건조 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4025414B2 (ja) | 2007-12-19 |
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