JPH11274689A - 電子部品の製造方法 - Google Patents
電子部品の製造方法Info
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- JPH11274689A JPH11274689A JP7297398A JP7297398A JPH11274689A JP H11274689 A JPH11274689 A JP H11274689A JP 7297398 A JP7297398 A JP 7297398A JP 7297398 A JP7297398 A JP 7297398A JP H11274689 A JPH11274689 A JP H11274689A
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Abstract
減し、パターン精度の高い製品を提供する。 【解決手段】 無機質焼結体でなる絶縁基板1の一面上
に、導体ペーストを、網目状パターンとなるように塗布
して、n行及びm列の配列でなる導電性塗膜Q11〜Q
nmの群を形成し、次に、熱処理して、導電性塗膜Q1
1〜Qnmを絶縁基板1に焼き付ける。
Description
法に関する。
絶縁基板(元基板)の一面の全面に導体ペーストを塗布
し、かつ、焼き付けた後、個々の電子部品のためのパタ
ーンニングを行ない、最後の工程において、電子部品を
個別に切り出す製造方法が知られている。例えば、特開
平9−19985号公報には、電子部品である高周波イ
ンダクタを製造するにあたり、アルミナ等の絶縁基板上
に銀等の導体ペーストを全面塗布し、導体ペーストの焼
結処理後に、フォトリソグラフィ工程を実行することに
より、例えばスパイラル状の導体パターンを多数個形成
し、最後の工程において、スパイラル状の導体パターン
毎に、切り出す製造方法が開示されている。
成できる電子部品数が多い程、量産性が上がるので、量
産性を高めるためには、電子部品をできるだけ小型化す
ること、及び、絶縁基板の平面形状をできるだけ大きく
することが望ましい。
縁基板の一面の全面に導体ペーストを塗布してあったた
め、導体ペーストを絶縁基板に焼き付ける工程におい
て、絶縁基板に反りが発生してしまうという問題がある
ことが分かった。
である。導体膜6が絶縁基板1の一面の全面に塗布され
ている。このような構成であると、絶縁基板1に導体膜
6を焼き付ける工程において、導体膜6と、絶縁基板1
との界面に発生するストレスにより、反り△Gが生じ
る。
工程によってパターン化する際、フォトマスクと、絶縁
基板上のフォトレジストとの密着性を悪化させ、パター
ン精度を低下させる。
えばスピンコート法等によって塗布する場合、フォトレ
ジストの塗布厚みが絶縁基板上で変動し、やはり、パタ
ーン精度及び安定度を低下させる。
に、絶縁基板の平面積を増大させる程顕著に現れる。こ
のため、絶縁基板の大型化による量産性向上に限界があ
った。
さえることができる。しかし、電子部品の形状を小さく
して行く程に、平面で見た横幅または縦幅と、厚みとが
近似してしまい、回路基板に実装した時の安定性(俗に
いう座り)が悪くなる。また、絶縁基板が厚くなると、
絶縁基板を切断して電子部品を個別に取り出し工程に長
時間を要し、量産性が低下する 更に、電子部品としての機能を確保するための導体パタ
ーンは、小面積であるのに、絶縁基板の全面に導体を形
成し、導体パターンを除く大部分をエッチングで除去し
てしまうため、無駄が多くなる。
基板に反りが発生するのを抑制し得る電子部品の製造方
法を提供することである。
細なパターンを形成し得る電子部品の製造方法を提供す
ることである。
基板、及び、平面積の大きい絶縁基板を用いても、反り
が発生するのを抑制し得る電子部品の製造方法を提供す
ることである。
優れた電子部品の製造方法を提供することである。
ため、本発明に係る電子部品の製造方法は、無機質焼結
体でなる絶縁基板の一面上に、導体ペーストを、網目状
パターンとなるように塗布して、複数行及び複数列の配
列でなる導電性塗膜の群を形成し、次に、熱処理して、
前記導電性塗膜を前記絶縁基板に焼き付ける工程を含
む。
板の一面上に、導体ペーストを、網目状パターンとなる
ように塗布して、複数行及び複数列の配列でなる導電性
塗膜の群を形成してあると、導電性塗膜を絶縁基板に焼
き付ける熱処理を施しても、絶縁基板に反りを生じない
ことが確認された。その理由は、導電性塗膜が複数行及
び複数列に分離して配列されているため、導電性塗膜を
絶縁基板に焼き付ける熱処理工程において、熱応力が、
導電性塗膜のそれぞれに個別的に発生するためと推測さ
れる。
絶縁基板を薄型化することができる。このため、回路基
板に実装したときの安定性(座り)が良好な電子部品を
製造できる。
るため、絶縁基板の切断加工等に要する作業時間を短縮
し、量産性を向上させることができる。
品の製造方法に含まれる工程を示す図である。まず、図
1に示すように、無機質焼結体でなる絶縁基板1を準備
する。絶縁基板1については、導体ペーストが焼成可能
な絶縁基板であればよく、セラミツク材料が適当であ
る。特に、セラミック成分と、ガラス成分との複合組成
になる無機質焼結体が望ましい。
面上に、導体ペーストを、網目状パターンとなるように
塗布して、複数nの行及び複数mの列の配列でなる導電
性塗膜Q11〜Qnmの群を形成する。導体ペースト
は、導電成分と、ガラスフリットと、有機質ビヒクルと
溶剤とを混合して塗料化したものである。この導体ペー
ストの塗布手段としては、スクリーン印刷法が適してい
る。複数nの各行間及び複数mの各列間には、導体ペー
ストの塗布されず、絶縁基板1の面が露出する領域3が
条状に設けられている。
り捨てられる部分となるため、導電性塗膜Q11〜Qn
mは形成されていない。電子部品を製造していく工程上
で、この領域4が得られるので、例えば位置決めするた
めの基準となるマーカー5を付与することにより、画像
処理による自動化工程に付することができる。本実施例
では、マーカー5は各行及び列間に付されているので、
マーカー5の部分で切断して、個々の電子部品を得るこ
とができる。
nmを絶縁基板1に焼き付ける。焼き付け処理前に、塗
布した導体ペーストの乾燥を行うことが望ましい。
り、例えば、600〜900℃の範囲に選定される。セ
ラミック材料、特に、セラミック成分と、ガラス成分と
の複合組成になる無機質焼結体でなる絶縁基板1は、導
電性塗膜Q11〜Qnmの焼き付け熱処理時に、軟化す
る傾向があり、このため、前述した反りを生じていた。
これに対して、本発明においては、無機質焼結体でなる
絶縁基板1の一面上に、導体ペーストを、網目状パター
ンとなるように塗布して、複数nの行及び複数mの列の
配列でなる導電性塗膜Q11〜Qnmの群を形成してあ
るので、導電性塗膜Q11〜Qnmを絶縁基板1に焼き
付ける熱処理を施しても、絶縁基板1に反りを生じない
ことが確認された。その理由は、導電性塗膜Q11〜Q
nmが複数nの行及び複数mの列に分離して配列されて
いるため、導電性塗膜Q11〜Qnmを絶縁基板1に焼
き付ける熱処理工程において、熱応力が、導電性塗膜Q
11〜Qnmのそれぞれに個別的に発生するためと推測
される。
に、絶縁基板1を薄型化することができる。このため、
回路基板に実装したときの安定性(座り)が良好な電子
部品を製造できる。
きるため、絶縁基板1の切断加工等に要する作業時間を
短縮し、量産性を向上させることができる。
11〜Qnmの表面は通常粗い状態になっているため、
バフ研磨の弱い研磨を行うことが好ましい。これにより
導電性塗膜Q11〜Qnmの表面を平滑化し、極めて精
細なパターンを高精度で形成できる。
ーン化工程に付される。パターン化工程は、フォトリソ
グラフィ工程と、化学的エッチング工程とを含む。
精細なパターンを形成するのに適している。フォトリソ
グラフィ工程では、まず、図3に示すように、フォトレ
ジスト6を塗布する。具体的には、絶縁基板1にスピン
コート法により、感光性レジスト6を、導電性塗膜Q1
1〜Qnmを含む絶縁基板1の全面に塗布する。塗布し
た後、通常の工程に従って、フォトレジストを熱処理し
て一次硬化させる。
に塗布されたフォトレジスト6の表面に、フオトマスク
7を接触させ、露光し、現像する。これにより、フォト
レジスト6には、図5に示すように、フォトマスク7の
パターンに従って露光、現像された部分D1が生じる。
この場合、本発明において、絶縁基板1の反りが極めて
小さいので、フォトマスク7を、フォトレジスト6の表
面に、確実に接触させ、パターン精度を向上させるとと
もに、安定化することができる。
Q11〜Qnmの表面をバフ研磨する工程を含んでいて
もよい。このような工程を経ることにより、フォトレジ
スト6とフォトマスクとをより確実に密着させ、得られ
るパターン精度を向上させることができる。
対して、二次硬化処理を行なった後、化学的エッチング
処理を行ない、目的のパターンを形成する。化学的エッ
チング処理に当たっては、絶縁基板1をエッチング液に
浸漬し、またはエッチング液のシャワー洗浄槽に入れ
る。エッチング液は導電性塗膜Q11〜Qnmの構成材
料に対応して選択される。導電性塗膜Q11〜Qnmが
銅を主成分とする場合は、エッチング液として、塩化第
二鉄溶液が用いられる。
を強固にするために、導電ペ−スト中にガラスフリット
を混入してある。このガラスフリットは酸に侵食される
ので、酸性のエッチング溶液は使えない。銅を主成分と
する導体ペーストを用いて導電性塗膜Q11〜Qnmを
形成した場合は、アルカリ性溶液である塩化第二鉄溶液
を用いることができるので、ガラスフリットの劣化それ
に伴う密着強度の劣化を回避できる。
6に示すように、各列及び行の間の領域3に表示された
切断線XーXに沿い、絶縁基板1を切断し、個別の電子
部品を得る。切断工程はマーカー5を基準として行な
う。
6を用いた場合を例にとって説明したが、ネガタイプの
フォトレジストを用いてもよい。
のそれぞれが最終的に得られる電子部品のそれぞれに対
応するまで細分化されているが、このような例に限定さ
れない。導電性塗膜Q11〜Qnmのいくつかを含む導
電性塗膜としてもよい。図7にその一例を示す。図7の
例では、導電性塗膜Q11〜Qnmの9片を含む広い導
電性塗膜R11〜R33を、3行、3列の網目状パター
ンとなるように配置してある。
のような効果を得ることができる。 (a)絶縁基板に反りが発生するのを抑制し得る電子部
品の製造方法を提供することができる (b)高精度、高精細なパターンを形成し得る電子部品
の製造方法を提供することができる。 (c)薄い絶縁基板、及び、平面積の大きい絶縁基板を
用いても、反りが発生するのを抑制し得る電子部品の製
造方法を提供することができる。 (d)量産性に優れた電子部品の製造方法を提供するこ
とができる。
程の一つを示す斜視図である。
を示す図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 電子部品の製造方法であって、 無機質焼結体でなる絶縁基板の一面上に、導体ペースト
を、網目状パターンとなるように塗布して、複数行及び
複数列の配列でなる導電性塗膜の群を形成し、 次に、熱処理して、前記導電性塗膜を前記絶縁基板に焼
き付ける工程を含む電子部品の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1に記載された電子部品の製造方
法であって、 前記絶縁基板は、セラミック成分と、ガラス成分とを含
む電子部品の製造方法。 - 【請求項3】 請求項1または2の何れかに記載された
電子部品の製造方法であって、 前記導電ぺーストは、スクリーン印刷法を用いて塗布す
る電子部品の製造方法。 - 【請求項4】 請求項1、2または3の何れかに記載さ
れた電子部品の製造方法であって、 前記導電性塗膜を前記絶縁基板に焼き付けた後、前記導
電性塗膜のそれぞれをパターン化する工程を含む電子部
品の製造方法。 - 【請求項5】 請求項4に記載された電子部品の製造方
法であって、 前記導電性塗膜のそれぞれをパターン化する工程は、フ
ォトリソグラフィ工程と、化学的エッチング工程とを含
む電子部品の製造方法。 - 【請求項6】 請求項5に記載された電子部品の製造方
法であって、 前記導電性塗膜のそれぞれをパターン化する前に、前記
導電性塗膜の表面をバフ研磨する工程を含む電子部品の
製造方法。 - 【請求項7】 請求項5または6の何れかに記載された
電子部品の製造方法であって、 前記導体ペーストは、銅を主成分とし、ガラスフリット
を含有し、 前記化学的エッチング工程は、塩化第二鉄溶液を用いて
行なう電子部品の製造方法。 - 【請求項8】 請求項4、5、6または7の何れかに記
載された電子部品の製造方法であって、 前記導電性塗膜のそれぞれをパターン化した後に、前記
絶縁基板を、前記導電性塗膜の群の行間及び列間におい
て切断する工程を含む電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07297398A JP3982655B2 (ja) | 1998-03-23 | 1998-03-23 | 電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07297398A JP3982655B2 (ja) | 1998-03-23 | 1998-03-23 | 電子部品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11274689A true JPH11274689A (ja) | 1999-10-08 |
JP3982655B2 JP3982655B2 (ja) | 2007-09-26 |
Family
ID=13504853
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP07297398A Expired - Lifetime JP3982655B2 (ja) | 1998-03-23 | 1998-03-23 | 電子部品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3982655B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012142318A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Mitsuboshi Belting Ltd | パターン基板の製造方法 |
CN110898672A (zh) * | 2019-10-22 | 2020-03-24 | 浙江省北大信息技术高等研究院 | 多孔薄膜、多孔薄膜的制作方法及电渗微泵装置 |
-
1998
- 1998-03-23 JP JP07297398A patent/JP3982655B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2012142318A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Mitsuboshi Belting Ltd | パターン基板の製造方法 |
CN110898672A (zh) * | 2019-10-22 | 2020-03-24 | 浙江省北大信息技术高等研究院 | 多孔薄膜、多孔薄膜的制作方法及电渗微泵装置 |
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JP3982655B2 (ja) | 2007-09-26 |
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