JPH11258792A - 感放射線性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 保護膜として従来から要求される諸特性、具
体的には、密着性、表面硬度、透明性、耐熱性、耐熱変
色性を満たすと共に、下地基板であるカラーフィルター
の段差を平坦化することが可能であり、さらに放射線照
射、および現像によって不要な部分（例えばカラーフィ
ルター以外の部分）の塗膜を容易に除去することができ
る、光デバイス用保護膜形成材料として好適な感放射線
性樹脂組成物を提供すること。 【解決手段】 不飽和カルボン酸および／または不飽和
カルボン酸無水物、エポキシ基含有不飽和化合物および
これらの化合物以外のオレフィン系不飽和化合物の共重
合体、下記式（１） 【化１】 ここで、Ｒ₁およびＲ₂は、同一もしくは異なり、下記式 【化２】 で表される基であり、Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は水素原子、
炭素数１〜５の炭化水素基またはハロゲン原子である、
で示されるエチレン性不飽和結合を有する重合性化合
物、ならびに感放射線重合開始剤を含有する感放射線性
樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光デバイス用保護膜形
成材料として好適な感放射線性樹脂組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子、固体撮像素子などの光デ
バイスは、製造工程中に、例えば溶剤、酸、アルカリ溶
液などに浸漬処理されたり、配線電極層を製膜する際に
スパッタリングにより表面が局部的に高温加熱されるな
どの苛酷な処理を受けることがある。このため、これら
素子には、製造時の変質を防ぐためにその表面に保護膜
が設けられる場合がある。

【０００３】この保護膜には、上記のような処理に耐え
うる諸特性が要求され、具体的には、基体または下層と
の密着性に優れていること、平滑で表面硬度が高いこ
と、透明性に優れていること、長期に亘って着色、黄
変、白化等の変質がないように耐熱性および耐光性に優
れていること、耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ性などの
耐薬品性や耐水性に優れていることなどが要求される。

【０００４】一方、このような保護膜をカラー液晶表示
素子のカラーフィルターに適用する場合には、一般的に
下地基板であるカラーフィルターの段差を平坦化できる
ことが望まれている。特にＳＴＮ方式のカラー液晶表示
素子を製造する際には、カラーフィルターと対向基板と
の張り合わせの精度を非常に厳密に行わなければなら
ず、基板間のセルギャップを均一にすることが必要不可
欠になっている。

【０００５】また、近年、カラー液晶表示素子の実装方
式として、小型化に適したＣＯＧ（ＣＨＩＰ ＯＮ Ｇ
ＬＡＳＳ）方式が注目されているが、このＣＯＧ方式に
よってカラー液晶表示素子を製造する際には、カラーフ
ィルター以外の部分に保護膜が残存しないようにする必
要がある。

【０００６】従来、カラーフィルター以外の部分に保護
膜が残存しないようにカラーフィルター上に保護膜を設
けるには、形成された保護膜上に、レジストパターンを
形成し、このレジストパターンをマスクとして保護膜を
ドライエッチングして、カラーフィルター以外の部分の
保護膜をドライエッチングで除去する方法が採用されて
いる。しかしながら、このドライエッチング方法では、
使用したレジストパターンをドライエッチング後に除去
しなければならず、工程が煩雑であるとともにドライエ
ッチングによってカラー液晶表示素子に欠陥を生じる恐
れもあった。このため保護膜に要求される上記のような
諸特性を満たすと共に、下地基板であるカラーフィルタ
ー表面の段差を平坦化することが可能であり、さらに露
光および現像によって不要な部分（例えばカラーフィル
ター以外の部分）の保護膜を容易に除去することが可能
な材料が望まれていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、保護
膜として従来から要求される諸特性、具体的には、密着
性、表面硬度、透明性、耐熱性、耐光性、耐薬品性、耐
水性などを備えた保護膜を与えることのできる感放射線
性樹脂組成物を提供することにある。本発明の他の目的
は、下地基板であるカラーフィルターの段差を平坦化す
ることが可能であり、さらに放射線照射および現像によ
って不要な部分（例えばカラーフィルター以外の部分）
を容易に除去することができる感放射線性樹脂組成物を
提供することにある。本発明のさらに他の目的は、光デ
バイス用保護膜形成材料として好適な感放射線性樹脂組
成物を提供することにある。本発明のさらに他の目的お
よび利点は、以下の説明から明らかになろう。

【０００８】本発明によれば、本発明の上記目的および
利点は、［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／また
は不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基含有不
飽和化合物、（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外
のオレフィン系不飽和化合物の共重合体、［Ｂ］下記式
（１）

【化３】 ここで、Ｒ₁およびＲ₂は、同一もしくは異なり、下記式

【化４】 で表される基であり、Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は水素原子、
炭素数１〜５の炭化水素基またはハロゲン原子である、
で示されるエチレン性不飽和結合を有する重合性化合
物、ならびに［Ｃ］感放射線重合開始剤を含有すること
を特徴とする感放射線性樹脂組成物によって達成され
る。

【０００９】以下、本発明の感放射線性樹脂組成物につ
いて詳述する。本発明の感放射線性樹脂組成物は、共重
合体［Ａ］、重合性化合物［Ｂ］および重合開始剤
［Ｃ］からなることを特徴とする。

【００１０】共重合体［Ａ］ 共重合体［Ａ］は、化合物（ａ１）、化合物（ａ２）、
および化合物（ａ３）を溶媒中で、重合開始剤の存在下
にラジカル重合することによって合成することができ
る。

【００１１】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、化
合物（ａ１）から誘導される構成単位を、好ましくは５
〜４０重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％含有し
ている。この構成単位が５重量％未満である共重合体
は、アルカリ水溶液に溶解しにくくなり、一方４０重量
％を超える共重合体はアルカリ水溶液に対する溶解性が
大きくなりすぎる傾向にある。化合物（ａ１）として
は、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸など
のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン
酸、メサコン酸、イタコン酸などのジカルボン酸；およ
びこれらジカルボン酸の無水物が挙げられる。これらの
うち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸など
が共重合反応性、アルカリ水溶液に対する溶解性および
入手が容易である点から好ましく用いられる。これら
は、単独であるいは組み合わせて用いられる。

【００１２】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、化
合物（ａ２）から誘導される構成単位を、好ましくは１
０〜７０重量％、特に好ましくは２０〜６０重量％含有
している。この構成単位が１０重量％未満の場合は得ら
れる保護膜の耐熱性、硬度が低下する傾向にあり、一方
７０重量％を超える場合は共重合体の保存安定性が低下
する傾向にある。

【００１３】化合物（ａ２）としては、例えばアクリル
酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルア
クリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリ
シジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリ
ル酸−３,４−エポキシブチル、メタクリル酸−３,４−
エポキシブチル、アクリル酸−６,７−エポキシヘプチ
ル、メタクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、α−エ
チルアクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグ
リシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエー
テルなどが挙げられる。これらのうち、メタクリル酸グ
リシジル、メタクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、
ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベ
ンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシ
ジルエーテルなどが共重合反応性および得られる保護膜
の耐熱性、硬度を高める点から好ましく用いられる。こ
れらは、単独であるいは組み合わせて用いられる。

【００１４】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、化
合物（ａ３）から誘導される構成単位を、好ましくは１
０〜７０重量％、特に好ましくは２０〜５０重量％含有
している。この構成単位が１０重量％未満の場合は、共
重合体［Ａ］の保存安定性が低下する傾向にあり、一方
７０重量％を超える場合は共重合体［Ａ］がアルカリ水
溶液に溶解しにくくなる。

【００１５】化合物（ａ３）としては、例えばメチルメ
タクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチ
ルメタクリレートなどのメタクリル酸アルキルエステ
ル；メチルアクリレート、イソプロピルアクリレートな
どのアクリル酸アルキルエステル；シクロヘキシルメタ
クリレート、２−メチルシクロヘキシルメタクリレー
ト、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペン
タニルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタ
クリレートなどのメタクリル酸環状アルキルエステル；
シクロヘキシルアクリレート、２−メチルシクロヘキシ
ルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジ
シクロペンタオキシエチルアクリレート、イソボロニル
アクリレートなどのアクリル酸環状アルキルエステル；
フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレートなど
のメタクリル酸アリールエステル；フェニルアクリレー
ト、ベンジルアクリレートなどのアクリル酸アリールエ
ステル；マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタ
コン酸ジエチルなどのジカルボン酸ジエステル；２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ルメタクリレートなどのヒドロキシアルキルエステル；
およびスチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチ
レン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メト
キシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、酢酸ビニル、１,３−ブタジエン、イ
ソプレン、２,３−ジメチル−１,３−ブタジエンなどが
挙げられる。これらのうち、スチレン、ｔ−ブチルメタ
クリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ｐ−
メトキシスチレン、２−メチルシクロヘキシルアクリレ
ート、１,３−ブタジエンなどが共重合反応性およびア
ルカリ水溶液に対する溶解性の点から好ましい。これら
は、単独であるいは組み合わせて用いられる。

【００１６】上記のように本発明で用いられる共重合体
［Ａ］は、カルボキシル基および／またはカルボン酸無
水物基ならびにエポキシ基とを有しており、アルカリ水
溶液に対して適切な溶解性を有するとともに、特別な硬
化剤を併用しなくとも加熱により容易に硬化させること
ができる。

【００１７】上記の共重合体［Ａ］を含む感放射線性樹
脂組成物は、現像する際に現像残りを生じることなく、
また膜べりすることなく、容易に所定パターンの保護膜
を形成することができる。

【００１８】共重合体［Ａ］の合成に用いられる溶媒と
しては、具体的には、例えばメタノール、エタノールな
どのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル
類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテ
ル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテル
アセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチ
ルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロピレン
グリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチ
ルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、
プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピレン
グリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコ
ールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
エチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロ
ピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチル
エーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキ
ルエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチル
エーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチル
エーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピ
ルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチ
ルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコール
アルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノ
ン、メチルイソアミルケトンなどのケトン類；および酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２
−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２
−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メ
チルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒド
ロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒド
ロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン
酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−
ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−
メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ
酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチ
ル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキ
シ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸
メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピ
ル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブト
キシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸
ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキ
シプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロ
ピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシ
プロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチ
ル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシ
プロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチ
ル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプ
ロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチ
ル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプ
ロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピ
ル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプ
ロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、
３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロ
ピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、
３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプ
ロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチ
ル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプ
ロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピ
ル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル類
が挙げられる。

【００１９】共重合体［Ａ］の製造に用いられる重合開
始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知ら
れているものが使用でき、例えば２,２’−アゾビスイ
ソブチロニトリル、２,２’−アゾビス−（２,４−ジメ
チルバレロニトリル）、２,２’−アゾビス−（４−メ
トキシ−２,４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ
化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキ
シド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１,１’−ビ
ス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有
機過酸化物；および過酸化水素が挙げられる。ラジカル
重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物
を還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよ
い。共重合体［Ａ］のポリスチレン換算重量平均分子量
（以下、「Ｍｗ」ともいう）は、通常２,０００〜１０
０,０００、好ましくは５,０００〜５０,０００であ
る。分子量が２,０００未満では、得られる被膜の残膜
率が低下したり、耐熱性が劣ったりする場合があり、１
００,０００を超えると、現像性が低下する場合があ
る。

【００２０】重合性化合物［Ｂ］ 本発明で用いられる重合性化合物［Ｂ］としては、上記
（１）で表される化合物が用いられる。かかる化合物と
しては下記化合物を例示することができる。

【００２１】

【化５】

【００２２】

【化６】

【００２３】重合開始剤［Ｃ］ 本発明で用いられる重合開始剤［Ｃ］としては、感放射
線ラジカル重合開始剤、感放射線カチオン重合開始剤な
どを使用することができる。

【００２４】感放射線ラジカル重合開始剤としては、例
えばベンジル、ジアセチルなどのα−ジケトン類；ベン
ゾインなどのアシロイン類；ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテルなどのアシロインエーテル類；チオキサント
ン、２,４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン
−４−スルホン酸、ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノ
ン類；アセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェ
ノン、α,α’−ジメトキシアセトキシベンゾフェノ
ン、２,２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プ
ロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなど
のアセトフェノン類；アントラキノン、１,４−ナフト
キノンなどのキノン類；フェナシルクロライド、トリブ
ロモメチルフェニルスルホン、トリス（トリクロロメチ
ル）−Ｓ−トリアジンなどのハロゲン化合物；２,４,６
-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイ
ドなどのアシルホスフィンオキサイド；およびジ−ｔ−
ブチルパーオキサイドなどの過酸化物が挙げられる。

【００２５】この感放射線ラジカル重合開始剤の市販品
としては、たとえばＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、同３６
９、同５００、同６５１、同９０７、同１７００、Ｄａ
ｒｏｃｕｒ−１１７３、同１１１６、同２９５９、同１
６６４、同４０４３（チバ−ガイギー社製）、ＫＡＹＡ
ＣＵＲＥ−ＤＥＴＸ 、同 ＭＢＰ、同 ＤＭＢＩ、同
ＥＰＡ、同 ＯＡ （日本化薬（株）製）、ＶＩＣＵ
ＲＥ−１０、同５５（ＳＴＡＵＦＦＥＲ Ｃｏ．ＬＴＤ
製）、ＴＲＩＧＯＮＡＬＰ１（ＡＫＺＯＣｏ．ＬＴＤ
製）、ＳＡＮＤＯＲＡＹ １０００ （ＳＡＮＤＯＺ
Ｃｏ．ＬＴＤ 製）、ＤＥＡＰ（ＡＰＪＯＨＮ Ｃ
ｏ．ＬＴＤ 製）、ＱＵＡＮＴＡＣＵＲＥ−ＰＤＯ、同
ＩＴＸ、同 ＥＰＤ（ＷＡＲＤ ＢＬＥＫＩＮＳＯＰ
Ｃｏ．ＬＴＤ 製）等が挙げられる。

【００２６】さらに、感放射線カチオン重合開始剤とし
ては、例えばフェニルジアゾニウムテトラフルオロボレ
ート、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスホネー
ト、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、フェニルジアゾニウムトリフルオロメタンスルホナ
ート、フェニルジアゾニウムトリフルオロアセテート、
フェニルジアゾニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４
−メトキシフェニルジアゾニウムテトラフルオロボレー
ト、４−メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフルオロ
ホスホネート、４−メトキシフェニルジアゾニウムヘキ
サフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジアゾ
ニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシ
フェニルジアゾニウムトリフルオロアセテート、４−メ
トキシフェニルジアゾニウム−ｐ−トルエンスルホナー
ト、４−ｔｅｒ−ブチルフェニルジアゾニウムテトラフ
ルオロボレート、４−ｔｅｒ−ブチルフェニルジアゾニ
ウムヘキサフルオロホスホネート、４−ｔｅｒ−ブチル
フェニルジアゾニウムヘキサフルオロアルセネート、４
−ｔｅｒ−ブチルフェニルジアゾニウムトリフルオロメ
タンスルホナート、４−ｔｅｒ−ブチルフェニルジアゾ
ニウムトリフルオロアセテート、４−ｔｅｒ−ブチルフ
ェニルジアゾニウム−ｐ−トルエンスルホナートなどの
ジアゾニウム塩類；ジフェニルヨードニウムテトラフル
オロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロ
ホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロ
アルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメ
タンスルホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオ
ロアセテート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエン
スルホナート４−メトキシフェニルフェニルヨードニウ
ムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェ
ニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メ
トキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロア
ルセネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウ
ムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェ
ニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４
−メトキシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエ
ンスルホナート、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）
ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅ
ｒ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホス
ホネート、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒ
−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンス
ルホナート、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウムトリフルオロアセテート、ビス（４−ｔｅｒ−
ブチルフェニル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナ
ートなどのヨードニウム塩類；トリフェニルスルホニウ
ムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニ
ウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルス
ルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスル
ホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフ
ェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレー
ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルジフェ
ニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メ
トキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルス
ルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェ
ニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナー
ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルテトラフルオ
ロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキ
サフルオロホスホネート、４−フェニルチオフェニルジ
フェニルヘキサフルオロアルセネート、４−フェニルチ
オフェニルジフェニルトリフルオロメタンスルホナー
ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルトリフルオロ
アセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニル−ｐ
−トルエンスルホナートなどのスルホニウム塩類；およ
び（１−６−η−クメン）（η−シクロペンタジエニ
ル）鉄（１＋）六フッ化リン酸（１−）などのメタロセ
ン化合物が挙げられる。

【００２７】この感放射線カチオン重合開始剤の市販品
としては、例えばジアゾニウム塩であるアデカウルトラ
セットＰＰ−３３（旭電化工業(株)製）、スルホニウム
塩であるＯＰＴＯＭＥＲ ＳＰ−１５０、同−１７０
（旭電化工業(株)製）およびメタロセン化合物であるＩ
ｒｇａｃｕｒｅ２６１（チバガイギー社製）などが挙げ
られる。

【００２８】また、これら感放射線ラジカル重合開始剤
または感放射線カチオン重合開始剤を感放射線増感剤と
併用することによって酸素による失活の少ない、高感度
の感放射線性樹脂組成物を得ることも可能である。

【００２９】感放射線性樹脂組成物 本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の共重合体
［Ａ］、重合性化合物［Ｂ］および重合開始剤［Ｃ］の
各成分を均一に混合することによって調製される。通
常、本発明の感放射線性樹脂組成物は、適当な溶媒に溶
解されて溶液状態で用いられる。例えば共重合体
［Ａ］、重合性化合物［Ｂ］、重合開始剤［Ｃ］および
その他の配合剤を、所定の割合で混合することにより、
溶液状態の感放射線性樹脂組成物を調製することができ
る。

【００３０】本発明で用いられる重合性化合物［Ｂ］は
単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレー
トと混合して使用することもできる。上記単官能（メ
タ）アクリレートとしては、例えば２−ヒドロキシエチ
ル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリ
レート、イソボロニル（メタ）アクリレート、３−メト
キシブチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリ
ロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレー
トなどが挙げられる。その市販品としては、例えばアロ
ニックスＭ−１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（東
亜合成化学工業(株)製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ−１１
０Ｓ、同ＴＣ−１２０Ｓ（日本化薬(株)製）、ビスコー
ト１５８、同２３１１（大阪有機化学工業(株)製）が挙
げられる。

【００３１】上記２官能（メタ）アクリレートとして
は、例えばエチレングリコール（メタ）アクリレート、
１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１,
９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキ
シエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられ
る。その市販品としては、例えばアロニックスＭ−２１
０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（東亜合成化学工業
(株)製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２
０、同Ｒ−６０４（日本化薬(株)製）、ビスコート２６
０、同３１２、同３３５ＨＰ（大阪有機化学工業(株)
製）などが挙げられる。

【００３２】上記３官能以上の（メタ）アクリレートと
しては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォ
スフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アク
リレートなどが挙げられる。その市販品としては、例え
ばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０
５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、
同Ｍ−８０６０（東亜合成化学工業(株)製）、ＫＡＹＡ
ＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、
同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１
２０（日本化薬(株)製）、ビスコート２９５、同３０
０、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（大阪有
機化学工業(株)製）などが挙げられる。これらの単官
能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート
は、重合性化合物［Ｂ］と単独であるいは組み合わせて
用いられる。

【００３３】本発明の感放射線性樹脂組成物は、共重合
体［Ａ］１００重量部に対して、重合性化合物［Ｂ］
を、好ましくは４０〜２００重量部、より好ましくは６
０〜１５０重量部および重合開始剤［Ｃ］を、好ましく
は１〜５０重量部、特に好ましくは５〜３０重量部の割
合で含有している。重合性化合物［Ｂ］が４０重量部未
満の場合は得られる保護膜の膜べりや耐熱性、硬度の低
下を生じやすく、２００重量部を超える場合は得られる
保護膜の密着性が低下しやすい。また重合開始剤［Ｃ］
の量が１重量部未満の場合は得られる保護膜の膜べりや
耐熱性、硬度の低下を生じやすく、５０重量部を超える
場合は液晶中への溶出物が増加し電圧保持率が低下しや
すい。

【００３４】本発明の感放射線性樹脂組成物の調製に用
いられる溶媒としては、共重合体［Ａ］、重合性化合物
［Ｂ］および重合開始剤［Ｃ］の各成分を均一に溶解し
且つ各成分と反応しないものが用いられる。具体的に
は、例えばメタノール、エタノールなどのアルコール
類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテルなどのグリコールエーテル類；メチルセ
ロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなど
のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロ
ピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコー
ルエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエー
テル、プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロ
ピレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレン
グリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリ
コールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコール
ブチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコール
アルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコール
メチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコール
エチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコール
プロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコー
ルブチルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリ
コールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペ
ンタノン、メチルイソアミルケトンなどのケトン類；お
よび酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−
２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチ
ル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳
酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３
−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロ
ピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピ
ル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキ
シ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、
メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ
酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチ
ル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロ
ポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ
酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メ
チル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブ
トキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、
２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピ
オン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２
−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオ
ン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−
エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン
酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブト
キシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸
ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキ
シプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロ
ピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシ
プロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチ
ル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシ
プロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキ
シプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸
ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキ
シプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロ
ピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル
類が挙げられる。

【００３５】これらの溶剤の中で、溶解性、各成分との
反応性および塗膜の形成のしやすさから、グリコールエ
ーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテ
ート類、エステル類およびジエチレングリコール類が好
ましく用いられる。

【００３６】さらに前記溶媒とともに高沸点溶媒を併用
することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例
えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセト
アミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエー
テル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソ
ホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、
１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、
安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチ
ル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレ
ン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。

【００３７】本発明の感放射線性樹脂組成物は、本発明
の目的を損なわない範囲で、必要に応じて上記以外に他
の成分を含有していてもよい。

【００３８】ここで、他の成分としては、塗布性を向上
するための界面活性剤を挙げることができる。その市販
品としては、例えばＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００
（ＢＭＣＨＥＭＩＥ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、
同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３（大日本インキ化
学工業(株)製）、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１
７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（住友スリー
エム(株)製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、
同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３
８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０
３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６
（旭硝子(株)製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、
同３５２（新秋田化成（株）製）、ＳＨ−２８ＰＡ、Ｓ
Ｈ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８
４２８、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（東レシリコーン
（株）製）などフッ素およびシリコーン系界面活性剤が
挙げられる。

【００３９】その他にも、ポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポ
リオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエ
チレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチ
ルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニ
ルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル
類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチ
レンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキ
ルエステル類などのノニオン系界面活性剤；オルガノシ
ロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）
製）、（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローNo. ５
７、９５（共栄社油脂化学工業（株）製）などが挙げら
れる。

【００４０】これらの界面活性剤は、共重合体［Ａ］１
００重量部に対して、好ましくは５重量部以下、より好
ましくは２重量部以下で用いられる。界面活性剤の量が
５重量部を超える場合は、塗布時の膜あれが生じやすく
なる。

【００４１】また基体との接着性を向上させるために接
着助剤を使用することもできる。このような接着助剤と
しては、官能性シランカップリング剤が好ましく使用さ
れ、例えばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシ
アネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシ
ランカップリング剤が挙げられ、具体的にはトリメトキ
シシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルト
リメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、β−（３,４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリメトキシシランなどが挙げられる。

【００４２】このような接着助剤は、共重合体［Ａ］１
００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、より
好ましくは１０重量部以下の量で用いられる。接着助剤
の量が２０重量部を超える場合は、現像残りが生じやす
くなる。

【００４３】また上記のように調製された組成物溶液
は、孔径０.２〜０.５μｍ程度のミリポアフィルタなど
を用いて濾過した後、使用に供することもできる。

【００４４】保護膜の形成 本発明の感放射線性樹脂組成物は、下地基板表面に塗布
し、プレベークにより溶媒を除去することによって塗膜
とすることができる。塗布方法として、例えばスプレー
法、ロールコート法、回転塗布法などの各種の方法を採
用することができる。また、プレベークの条件は、各成
分の種類、配合割合などによっても異なるが、通常７０
〜９０℃で１〜１５分間程度である。次にプレベークさ
れた塗膜に所定パターンマスクを介して紫外線などの放
射線を照射し、さらに現像液により現像し、不要な部分
を除去して所定パターンを形成する。現像方法は液盛り
法、ディッピング法、シャワー法などのいずれでも良
く、現像時間は通常３０〜１８０秒間である。

【００４５】上記現像液としては、アルカリ水溶液、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモ
ニアなどの無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピ
ルアミンなどの１級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ
−プロピルアミンなどの２級アミン類；トリメチルアミ
ン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、ト
リエチルアミンなどの３級アミン類；ジメチルエタノー
ルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノール
アミンなどの３級アミン類；ピロール、ピペリジン、Ｎ
−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、１,８−
ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン、１,５
−ジアザビシクロ［４.３.０］−５−ノネンなどの環状
３級アミン類；ピリジン、コリジン、ルチジン、キノリ
ンなどの芳香族３級アミン類；テトラメチルアンモニウ
ムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシ
ドなどの４級アンモニウム塩の水溶液を使用することが
できる。また上記アルカリ水溶液に、メタノール、エタ
ノールなどの水溶性有機溶媒および／または界面活性剤
を適当量添加した水溶液を現像液として使用することも
できる。

【００４６】現像後、流水洗浄を３０〜９０秒間行い、
不要な部分を除去し、さらに圧縮空気や圧縮窒素で風乾
させることによって、パターンが形成される。その後こ
のパターンを、ホットプレート、オーブンなどの加熱装
置により、所定温度、例えば１５０〜２５０℃で、所定
時間、例えばホットプレート上なら５〜３０分間、オー
ブン中では３０〜９０分間加熱処理をすることにより目
的とする保護膜を得ることができる。

【００４７】

【実施例】以下に合成例、実施例および比較例を示し
て、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下
の実施例に限定されるものではない。なお各種特性の評
価は以下の方法によって行った。

【００４８】透明性の評価 分光光度計（１５０−２０型ダブルビーム（日立製作所
(株)製））を用いて４００〜８００ｎｍの透過率を測定
した。このとき最低透過率が９５％を超えた場合を
［○］、９０〜９５％の場合を［△］、９０％未満の場
合を［×］とした。

【００４９】耐熱性の評価 パターンを形成した基板を２５０℃のホットプレートを
用いて１時間加熱し、加熱前後の膜厚を測定することに
より、耐熱性を評価した。残膜率が９５％を超えた場合
を［○］、９０〜９５％の場合を［△］、９０％未満の
場合を［×］とした。

【００５０】耐熱変色性の評価 測定基板を２５０℃のホットプレートで１時間加熱し、
加熱前後の透過率の変化により耐熱性を評価した。この
ときの変化率が５％未満である場合を［○］、５〜１０
％である場合を［△］、１０％を超えた場合を［×］と
した。なお透過率は透明性の評価と同様にして求め
た。

【００５１】表面硬度の測定 ＪＩＳ Ｋ−５４００−１９９０の８.４.１鉛筆引っか
き試験により表面硬度を測定した。

【００５２】平坦化性の評価 触針式の膜厚測定装置を用いて基板の段差を測定した。

【００５３】密着性の評価 プレッシャークッカー試験（１２０℃、湿度１００％、
４時間）後の碁盤目テープ剥離試験により評価した。評
価結果は碁盤目１００個中、残った碁盤目の数で表し
た。

【００５４】現像性の評価 所定パターンマスクを用いて露光した後、現像により不
要な部分の除去し、２０μｍ×２０μｍのパターン（残
し）を解像することができた場合を［○］、現像残りか
生じた場合を［×］とした。

【００５５】合成例１ 冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５重量部および
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００重量
部を仕込んだ。引き続きスチレン２５重量部、メタクリ
ル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル４５重量部お
よびジシクロペンタニルメタクリレート１０重量部を仕
込み窒素置換した後、ゆるやかに攪拌を始めた。溶液の
温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重
合体［Ａ−１］を含む重合体溶液を得た。得られた重合
体溶液の固形分濃度は３３.０％、重合体のＭｗの値は
１８,０００であった。

【００５６】合成例２ 冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５重量部および
プロピレングリコールメチルエーテルアセテート２００
重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２０重量部、メタ
クリル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル３０重量
部およびｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル３０重
量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに攪拌を始め
た。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間
保持し共重合体［Ａ−２］を含む重合体溶液を得た。得
られた重合体溶液の固形分濃度は３３.１％、重合体の
Ｍｗの値は１５,０００であった。

【００５７】合成例３ 冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５重量部および
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００重量
部を仕込んだ。引き続きスチレン５重量部、メタクリル
酸１６重量部、メタクリル酸グリシジル４０重量部およ
びジシクロペンタニルメタクリレート３４重量部を仕込
み窒素置換した。その後さらに１,３−ブタジエン５重
量部を仕込みゆるやかに攪拌を始めた。溶液の温度を７
０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体［Ａ
−３］を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の
固形分濃度は３３.３％、重合体のＭｗの値は１６０,０
００であった。

【００５８】実施例１ 感放射線性樹脂組成物の調製 合成例１で得られた共重合体[Ａ−１] １００重量部
（固形分）と、重合性化合物［Ｂ―１］ １００重量部
と、成分［Ｃ］としての２−ベンジル−２−ジメチルア
ミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１
−オン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９；ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧ
Ｙ社製）２５重量部と接着助剤としてγ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン１０重量部および界面活性
剤としてＳＨ−２８ＰＡ（東レシリコーン(株)製）０.
１重量部を溶解しを混合し、固形分濃度が３５重量％に
なるようにジエチレングリコールジメチルエーテルに溶
解させた後、孔径０.５μｍのミリポアフィルタで濾過
して感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−１）を調製し
た。

【００５９】（ｉ）塗膜の形成 ＳｉＯ₂ディップガラス基板上にスピンナーを用いて、
上記組成物溶液（Ｓ−１）を塗布した後、８０℃で５分
間ホットプレート上でプレベークして膜厚２.０μｍの
塗膜を形成した。

【００６０】（ｉｉ）露光および現像による不要な部分
の除去 上記（ｉ）で得られた塗膜に所定パターンマスクを用い
て、３６５ｎｍでの光強度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫
外線を３０秒間照射した。この際の紫外線照射は酸素雰
囲気下（空気中）で行った。次いでテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド０.１４重量％水溶液で２５℃で１
分間現像した後、純水で１分間リンスした。これらの操
作により、不要な部分を除去し、２０μｍ×２０μｍの
パターン（残し）を解像することができた。

【００６１】（ｉｉｉ）塗膜の硬化 上記（ｉｉ）で得られたパターンを有する塗膜を、ホッ
トプレート上で２００℃で２０分間加熱し、塗膜を硬化
させた。ここで得られた硬化させた塗膜を有する基板を
用いて耐熱性を評価した。結果を表１に示す。

【００６２】（ｉｖ）透明性、耐熱変色性および表面硬
度の評価 上記（ｉ）において、ＳｉＯ₂ディップガラス基板の代
わりにコーニング７０５９（コーニング社製）基板を用
いた以外は（ｉ）と同様にして組成物溶液の塗膜を形成
した。次いで３０秒間全面露光し、テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド０.１４重量％水溶液で現像処理し
た後、超純水で１分間リンスした。次いでホットプレー
ト上で２００℃で２０分間加熱した。得られた塗膜を有
するコーニング７０５９基板を用いて透明性、耐熱変色
性および表面硬度を評価した。結果を表１に示す。

【００６３】（ｖ）平坦化性の評価 上記（ｉ）で使用したＳｉＯ₂ガラス基板の代わりに、
１.０μｍの段差を有するＳｉＯ₂ウエハーを用いた以外
は、上記（ｉ）〜（ｉｉｉ）と同様にして、硬化させた
パターンを有する塗膜を形成させた。これを用いて基板
の段差を測定した。結果を表１に示す。

【００６４】（ｖｉ）密着性の評価 上記（ｉｖ）で使用したコーニング７０５９（コーニン
グ社製）基板の代わりに、ＳｉＯ₂ディップガラス基板
を用いた以外は、上記（ｉｖ）と同様にして、硬化塗膜
を形成させた。これを用いて密着性の評価を行った。結
果を表１に示す。

【００６５】実施例２ 実施例１において、重合性化合物（Ｂ−１）の代わりに
（Ｂ−５）を使用した他は、実施例１と同様にして組成
物溶液（Ｓ−２）を調製し評価した。結果を表１に示
す。

【００６６】実施例３ 実施例１において、重合性化合物（Ｂ−１）１００重量
部の代わりに重合性化合物（Ｂ−１）５０重量部とＫＡ
ＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡを５０重量部用いた他は、実施例
２と同様にして組成物溶液（Ｓ−３）を調製し、評価し
た。結果を表１に示す。

【００６７】実施例４ 実施例３において、Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９の代わりに
Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、３０重量部を用いた他は、実
施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−４）を調製し評価
した。結果を表１に示す。

【００６８】実施例５ 実施例２において、共重合体［Ａ−１］の代わりに共重
合体［Ａ−２］を用いた他は、実施例２と同様にして組
成物溶液（Ｓ−５）を調製し評価した。結果を表１に示
す。

【００６９】実施例６ 実施例２において、共重合体［Ａ−１］の代わりに共重
合体［Ａ−３］を用いた他は、実施例２と同様にして組
成物溶液（Ｓ−６）を調製し評価した。結果を表１に示
す。

【００７０】

【表１】

【００７１】

【発明の効果】本発明によれば、保護膜として従来から
要求される諸特性、具体的には、密着性、表面硬度、透
明性、耐熱性、耐熱変色性を満たすと共に、下地基板で
あるカラーフィルターの段差を平坦化することが可能で
あり、さらに放射線照射、および現像によって不要な部
分（例えばカラーフィルター以外の部分）の塗膜を容易
に除去することができる、光デバイス用保護膜形成材料
として好適な感放射線性樹脂組成物を得ることができ
る。さらに本発明による組成物は、表示パネルスペーサ
ーや層間絶縁膜形成用材料としても好適に使用すること
ができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および
   ／または不飽和カルボン酸無水物、 （ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物、 （ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン
   系不飽和化合物の共重合体、［Ｂ］下記式（１） 【化１】 ここで、Ｒ₁およびＲ₂は、同一もしくは異なり、下記式 【化２】 で表される基であり、Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は水素原子、
   炭素数１〜５の炭化水素基またはハロゲン原子である、
   で示されるエチレン性不飽和結合を有する重合性化合
   物、ならびに［Ｃ］感放射線重合開始剤を含有すること
   を特徴とする感放射線性樹脂組成物。