JPH11258609A - ラビング装置 - Google Patents
ラビング装置Info
- Publication number
- JPH11258609A JPH11258609A JP6012398A JP6012398A JPH11258609A JP H11258609 A JPH11258609 A JP H11258609A JP 6012398 A JP6012398 A JP 6012398A JP 6012398 A JP6012398 A JP 6012398A JP H11258609 A JPH11258609 A JP H11258609A
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- Japan
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- static electricity
- rubbing
- substrate
- conductive layer
- roll
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ラビング処理の際の静電気の発生を抑制する
ことのできるラビング装置を提供する。 【解決手段】 本発明のラビング装置は、軸表面に絶縁
層が形成され、この絶縁層上に導電層が形成され、この
導電層上にラビング用布が巻回されたロールと、このロ
ールの導電層に電圧を印加する電源部と、ラビング処理
を行うべき基板を載置してロールの近傍で移動させるス
テージと、ラビング時の基板表面の静電気を測定する静
電気測定部と、この静電気測定部で測定された静電気を
打ち消すように電源部の電圧を制御する制御部とを具備
することを特徴とする。
ことのできるラビング装置を提供する。 【解決手段】 本発明のラビング装置は、軸表面に絶縁
層が形成され、この絶縁層上に導電層が形成され、この
導電層上にラビング用布が巻回されたロールと、このロ
ールの導電層に電圧を印加する電源部と、ラビング処理
を行うべき基板を載置してロールの近傍で移動させるス
テージと、ラビング時の基板表面の静電気を測定する静
電気測定部と、この静電気測定部で測定された静電気を
打ち消すように電源部の電圧を制御する制御部とを具備
することを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はラビング装置に関
し、特にラビング処理の際に静電気による影響を被処理
物に与え難いように対策を施したラビング装置に関す
る。
し、特にラビング処理の際に静電気による影響を被処理
物に与え難いように対策を施したラビング装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の液晶表示装置に使用する液晶セル
は、２枚のガラス基板の間に液晶層が挟み込まれ、液晶
層とガラス基板の間には透明電極、絶縁膜、配向膜等の
薄膜が設けられて概略構成されている。このうち、配向
膜は液晶層と接する位置に設けられ、液晶分子が配向膜
表面に対して一定の配向状態をとるように液晶分子の方
向を整える役割を果たしている。配向膜の代表的な形成
方法にラビング法がある。ラビング法は、配向膜となる
ポリイミド等の高分子膜の表面をナイロンやポリエステ
ル等の繊維で一方向にこすり方向付けをするものであ
る。
は、２枚のガラス基板の間に液晶層が挟み込まれ、液晶
層とガラス基板の間には透明電極、絶縁膜、配向膜等の
薄膜が設けられて概略構成されている。このうち、配向
膜は液晶層と接する位置に設けられ、液晶分子が配向膜
表面に対して一定の配向状態をとるように液晶分子の方
向を整える役割を果たしている。配向膜の代表的な形成
方法にラビング法がある。ラビング法は、配向膜となる
ポリイミド等の高分子膜の表面をナイロンやポリエステ
ル等の繊維で一方向にこすり方向付けをするものであ
る。
【０００３】このラビング処理を行う時、繊維と高分子
膜がこすれあうことで静電気が発生しやすかった。この
静電気が発生すると、その放電によって例えば薄膜トラ
ンジスタ（以下、ＴＦＴと略記する）の絶縁体や半導体
が破壊され、またはその発熱によって回路配線が損傷
し、配線基板の歩留まりを低下させる可能性があった。
特に、ＳＴＮ型配線基板においては３００Ｖ以上、ＴＦ
Ｔ型配線基板においては１００Ｖ以上の電圧の発生によ
り基板が静電破壊される恐れがあった。
膜がこすれあうことで静電気が発生しやすかった。この
静電気が発生すると、その放電によって例えば薄膜トラ
ンジスタ（以下、ＴＦＴと略記する）の絶縁体や半導体
が破壊され、またはその発熱によって回路配線が損傷
し、配線基板の歩留まりを低下させる可能性があった。
特に、ＳＴＮ型配線基板においては３００Ｖ以上、ＴＦ
Ｔ型配線基板においては１００Ｖ以上の電圧の発生によ
り基板が静電破壊される恐れがあった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このため、従来のラビ
ング装置においても静電防止対策がとられていた。代表
的な方法として、ラビング装置自体を加湿条件下にお
き、静電気の発生を防止する方法を挙げることができ
る。しかし、この方法においては、ラビング装置が高湿
度状態におかれるためサビが発生しやすく、このサビが
剥離し基板に付着する等の問題があった。他の方法とし
て、除電バーにより基板にプラスイオン、マイナスイオ
ンを吹き付けるという方法を挙げることができる。しか
し、この方法においては、基板の帯電量が湿度等の影響
を受けるので、プラスとマイナスのバランスをとるのが
難しいという問題点があった。上記の点に鑑み、本発明
は、ラビング処理の際の静電気の発生を抑制することの
できるラビング装置を提供することを目的とする。
ング装置においても静電防止対策がとられていた。代表
的な方法として、ラビング装置自体を加湿条件下にお
き、静電気の発生を防止する方法を挙げることができ
る。しかし、この方法においては、ラビング装置が高湿
度状態におかれるためサビが発生しやすく、このサビが
剥離し基板に付着する等の問題があった。他の方法とし
て、除電バーにより基板にプラスイオン、マイナスイオ
ンを吹き付けるという方法を挙げることができる。しか
し、この方法においては、基板の帯電量が湿度等の影響
を受けるので、プラスとマイナスのバランスをとるのが
難しいという問題点があった。上記の点に鑑み、本発明
は、ラビング処理の際の静電気の発生を抑制することの
できるラビング装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係るラビング装
置は、軸表面に絶縁層が形成され、この絶縁層上に導電
層が形成され、この導電層上にラビング用布が巻回され
たロールと、このロールの導電層に電圧を印加する電源
部と、ラビング処理を行うべき基板を載置してロールの
近傍で移動させるステージと、ラビング時の基板表面の
静電気を測定する静電気測定部と、この静電気測定部で
測定された静電気を打ち消すように電源部の電圧を制御
する制御部とを具備することを特徴とする。
置は、軸表面に絶縁層が形成され、この絶縁層上に導電
層が形成され、この導電層上にラビング用布が巻回され
たロールと、このロールの導電層に電圧を印加する電源
部と、ラビング処理を行うべき基板を載置してロールの
近傍で移動させるステージと、ラビング時の基板表面の
静電気を測定する静電気測定部と、この静電気測定部で
測定された静電気を打ち消すように電源部の電圧を制御
する制御部とを具備することを特徴とする。
【０００６】すなわち、このラビング装置は、ラビング
時の基板表面の静電気をモニタリングし、これを打ち消
すように、ラビング用布を巻きつけたロールに電圧を印
加し、ラビング布の誘導帯電量を制御することで、基板
上における静電気の発生を抑えることができる。このモ
ニタリングはラビング処理中継続して行われ、基板の静
電気量の変化に応じてロールに印加する電圧や極性を変
化させることができる。このため、基板に発生する静電
気を効果的に抑えることができる。
時の基板表面の静電気をモニタリングし、これを打ち消
すように、ラビング用布を巻きつけたロールに電圧を印
加し、ラビング布の誘導帯電量を制御することで、基板
上における静電気の発生を抑えることができる。このモ
ニタリングはラビング処理中継続して行われ、基板の静
電気量の変化に応じてロールに印加する電圧や極性を変
化させることができる。このため、基板に発生する静電
気を効果的に抑えることができる。
【０００７】このラビング装置において、ロールに設け
られる導電層は、ニッケル電鋳あるいはレイデント処理
により形成されることが好ましい。ニッケル電鋳あるい
はレイデント処理により、耐食性、耐摩耗性に優れた、
本発明のラビング装置に好適な導電層を形成することが
できる。
られる導電層は、ニッケル電鋳あるいはレイデント処理
により形成されることが好ましい。ニッケル電鋳あるい
はレイデント処理により、耐食性、耐摩耗性に優れた、
本発明のラビング装置に好適な導電層を形成することが
できる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図面により本発明について
詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態例のみに
限定されるものではない。図１は本実施の形態のラビン
グ装置を示す概略構成図、図２は本実施の形態のラビン
グ装置に用いられるロールの斜視図である。図１に示す
ように、このラビング装置１は、ロール２、電源部３、
ラビング用布４、ロール用安全カバー５、ステージ６、
静電気測定用プローブ（静電気測定部）７、制御部８か
ら概略構成されている。
詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態例のみに
限定されるものではない。図１は本実施の形態のラビン
グ装置を示す概略構成図、図２は本実施の形態のラビン
グ装置に用いられるロールの斜視図である。図１に示す
ように、このラビング装置１は、ロール２、電源部３、
ラビング用布４、ロール用安全カバー５、ステージ６、
静電気測定用プローブ（静電気測定部）７、制御部８か
ら概略構成されている。
【０００９】図２に示すように、ロール２は円柱状であ
り、中心部の軸１１の周囲に絶縁層１２が積層され、そ
の外側に導電層１３が積層されて構成されている。この
軸１１はステンレス製であり、軸１１を陽極酸化してそ
の表面に形成される酸化膜を絶縁層１２としている。導
電層１３はレイデント処理により形成される皮膜であ
る。このレイデント処理とは、金属母材表面を多重超微
粒子状に化析するもので、得られる皮膜は１ないし２μ
ｍ程度の密着性の高い薄膜である。このレイデント皮膜
は比抵抗７０Ωｃｍと導電性を有しており、耐食性、耐
摩耗性に優れるとともに、非常に薄く形成することがで
きるので、導電層１３として好適である。導電層１３に
は電源部３が電気的に接続され、電源部３は導電層１３
に電圧を印加するようになっている。
り、中心部の軸１１の周囲に絶縁層１２が積層され、そ
の外側に導電層１３が積層されて構成されている。この
軸１１はステンレス製であり、軸１１を陽極酸化してそ
の表面に形成される酸化膜を絶縁層１２としている。導
電層１３はレイデント処理により形成される皮膜であ
る。このレイデント処理とは、金属母材表面を多重超微
粒子状に化析するもので、得られる皮膜は１ないし２μ
ｍ程度の密着性の高い薄膜である。このレイデント皮膜
は比抵抗７０Ωｃｍと導電性を有しており、耐食性、耐
摩耗性に優れるとともに、非常に薄く形成することがで
きるので、導電層１３として好適である。導電層１３に
は電源部３が電気的に接続され、電源部３は導電層１３
に電圧を印加するようになっている。
【００１０】図１に示すように、ロール２の外周面には
ラビング用布４が巻きつけられており、ロール２および
ラビング用布４は矢印Ａ方向に回転するようになってい
る。また、ロール２はロール用安全カバー５で覆われ、
塵埃等が付着しにくくなっているとともに、手等が触れ
にくいようにされている。ロール２の近傍にはステージ
６が設けられている。ステージ６はラビング処理を行う
基板１０を載置した状態で、ラビング用布４の動く方向
とは反対の矢印Ｂ方向に移動するようになっている。
ラビング用布４が巻きつけられており、ロール２および
ラビング用布４は矢印Ａ方向に回転するようになってい
る。また、ロール２はロール用安全カバー５で覆われ、
塵埃等が付着しにくくなっているとともに、手等が触れ
にくいようにされている。ロール２の近傍にはステージ
６が設けられている。ステージ６はラビング処理を行う
基板１０を載置した状態で、ラビング用布４の動く方向
とは反対の矢印Ｂ方向に移動するようになっている。
【００１１】ラビング用布４と基板１０の接触部分の近
傍には静電気測定用プローブ７が設けられ、ラビング時
の基板１０表面の静電気を測定するようになっている。
この静電気測定用プローブ７で測定されたデータは制御
部８に送られる。制御部８では静電気測定用プローブ７
で測定されたデータをもとに電源部３から出力される電
圧を制御し、それにより誘導され発生するラビング布の
帯電を制御することにより基板１０に発生している静電
気を打ち消すようにする。
傍には静電気測定用プローブ７が設けられ、ラビング時
の基板１０表面の静電気を測定するようになっている。
この静電気測定用プローブ７で測定されたデータは制御
部８に送られる。制御部８では静電気測定用プローブ７
で測定されたデータをもとに電源部３から出力される電
圧を制御し、それにより誘導され発生するラビング布の
帯電を制御することにより基板１０に発生している静電
気を打ち消すようにする。
【００１２】この静電気測定用プローブ７による基板１
０の静電気測定は、ラビング装置１のラビング処理中継
続して行われる。基板１０の静電気量の変化は静電気測
定用プローブ７で検知され、制御部８にフィードバック
される。制御部８は、この変化をもとに電源部３の電圧
を変更することで、基板１０の静電気量をゼロに近づけ
ていくように構成されている。
０の静電気測定は、ラビング装置１のラビング処理中継
続して行われる。基板１０の静電気量の変化は静電気測
定用プローブ７で検知され、制御部８にフィードバック
される。制御部８は、この変化をもとに電源部３の電圧
を変更することで、基板１０の静電気量をゼロに近づけ
ていくように構成されている。
【００１３】例えば、静電気測定用プローブ７で測定し
た結果、基板１０にマイナス１００Ｖの静電気が発生し
ているとすると、制御部８はこれを打ち消すべく、電源
部３に対しロール２の導電層１３にプラス１００Ｖの電
圧を加えるように指示を出す。その結果、基板１０の静
電気がマイナス２０Ｖに減少したとすると、制御部８は
これに応じて電源部３にプラス２０Ｖの電圧を出力する
ように指示する。この静電気量測定、電圧指示、電圧印
加のサイクルを繰り返すことで、基板１０の静電気量を
低減することができる。
た結果、基板１０にマイナス１００Ｖの静電気が発生し
ているとすると、制御部８はこれを打ち消すべく、電源
部３に対しロール２の導電層１３にプラス１００Ｖの電
圧を加えるように指示を出す。その結果、基板１０の静
電気がマイナス２０Ｖに減少したとすると、制御部８は
これに応じて電源部３にプラス２０Ｖの電圧を出力する
ように指示する。この静電気量測定、電圧指示、電圧印
加のサイクルを繰り返すことで、基板１０の静電気量を
低減することができる。
【００１４】なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態
に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない
範囲において種々の変更を加えることが可能である。例
えば本実施の形態ではロール２の導電層１３をニッケル
電鋳により形成しても差し支えない。
に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない
範囲において種々の変更を加えることが可能である。例
えば本実施の形態ではロール２の導電層１３をニッケル
電鋳により形成しても差し支えない。
【００１５】
【発明の効果】以上詳細に説明した通り、本発明のラビ
ング装置はラビング時の基板表面の静電気をモニタリン
グし、これを打ち消すように、ラビング用布を巻きつけ
るロールに電圧を印加し、ラビング布の誘導帯電を制御
することにより、基板表面の静電気の発生を抑えること
ができる。このモニタリングはラビング処理中継続して
行われ、基板の静電気量の変化に応じてロールに印加す
る電圧や極性を変化させることができる。このため、基
板に発生する静電気を効果的に抑制することができ、基
板の静電破壊が防止され、歩留まりを向上させることが
できる。
ング装置はラビング時の基板表面の静電気をモニタリン
グし、これを打ち消すように、ラビング用布を巻きつけ
るロールに電圧を印加し、ラビング布の誘導帯電を制御
することにより、基板表面の静電気の発生を抑えること
ができる。このモニタリングはラビング処理中継続して
行われ、基板の静電気量の変化に応じてロールに印加す
る電圧や極性を変化させることができる。このため、基
板に発生する静電気を効果的に抑制することができ、基
板の静電破壊が防止され、歩留まりを向上させることが
できる。
【図１】 本実施の形態のラビング装置を示す概略構成
図である。
図である。
【図２】 本実施の形態のラビング装置１に用いられる
ロール２の斜視図である。
ロール２の斜視図である。
１ ラビング装置 ２ ロール ３ 電源部 ４ ラビング用布 ５ ロール用安全カバー ６ ステージ ７ 静電気測定用プローブ（静電気測定部） ８ 制御部 １０ 基板 １１ 軸 １２ 絶縁層 １３ 導電層
Claims (3)
- 【請求項１】 軸表面に絶縁層が形成され、該絶縁層上
に導電層が形成され、該導電層上にラビング用布が巻回
されたロールと、 該ロールの導電層に電圧を印加する電源部と、 ラビング処理を行うべき基板を載置して前記ロールの近
傍で移動させるステージと、 ラビング時の基板表面の静電気を測定する静電気測定部
と、 該静電気測定部で測定された静電気を打ち消すように前
記電源部の電圧を制御する制御部と、を具備することを
特徴とするラビング装置。 - 【請求項２】 前記導電層が導電性を有するレイデント
皮膜からなることを特徴とする請求項１記載のラビング
装置。 - 【請求項３】 前記導電層がニッケル電鋳により形成さ
れることを特徴とする請求項１記載のラビング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6012398A JPH11258609A (ja) | 1998-03-11 | 1998-03-11 | ラビング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6012398A JPH11258609A (ja) | 1998-03-11 | 1998-03-11 | ラビング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11258609A true JPH11258609A (ja) | 1999-09-24 |
Family
ID=13133049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6012398A Withdrawn JPH11258609A (ja) | 1998-03-11 | 1998-03-11 | ラビング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11258609A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6853426B2 (en) * | 2001-03-14 | 2005-02-08 | Hitachi, Ltd. | Method for manufacturing liquid crystal display |
| KR20190085205A (ko) * | 2018-01-09 | 2019-07-18 | 주식회사 하이퍼플렉스 | 러빙포 제전장치 및 이를 갖는 액정표시장치 제조용 러빙 시스템 |
-
1998
- 1998-03-11 JP JP6012398A patent/JPH11258609A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6853426B2 (en) * | 2001-03-14 | 2005-02-08 | Hitachi, Ltd. | Method for manufacturing liquid crystal display |
| KR20190085205A (ko) * | 2018-01-09 | 2019-07-18 | 주식회사 하이퍼플렉스 | 러빙포 제전장치 및 이를 갖는 액정표시장치 제조용 러빙 시스템 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041201 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20041214 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Effective date: 20050210 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 |