JPH11252464A - Cmosイメージャ用ピクセル補正システム及び方法 - Google Patents

Cmosイメージャ用ピクセル補正システム及び方法

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JPH11252464A
JPH11252464A JP10314211A JP31421198A JPH11252464A JP H11252464 A JPH11252464 A JP H11252464A JP 10314211 A JP10314211 A JP 10314211A JP 31421198 A JP31421198 A JP 31421198A JP H11252464 A JPH11252464 A JP H11252464A
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pixels
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Application number
JP10314211A
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Inventor
Roberto Rambaldi
ランバルディ ロベルト
Marco Tartagni
タルターニ マルコ
Alan H Kramer
エイチ. クレイマー アラン
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Original Assignee
ST MICROELECTRONICS Inc
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    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/60Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
    • H04N25/68Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise applied to defects
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors

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  • Multimedia (AREA)
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  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 センサを製造後及びその寿命期間中に欠陥性
のピクセルをマスク又は補正の可能な画像センサを提供
する。 【解決手段】 欠陥許容性CMOSイメージセンサは、
画像発生中に、欠陥ピクセルを識別し且つそれをマスク
するか又は補正する回路を有し、与えられたピクセルの
出力を、周りの欠陥性でないピクセルの出力の平均で置
換させ、イメージセンサが幾つかの欠陥ピクセルを伴う
場合であっても、不所望に明るいか又は暗いスポットの
画像を発生しない。本センサは、一つ又はそれ以上のピ
クセルの各々が露光された照射量を表わす出力を与える
1個又はそれ以上のピクセルを有すると共に、それらの
ピクセルへ電気的に結合されており且つCMOSイメー
ジャ内の欠陥ピクセルを識別し且つ補正する形態の1個
又はそれ以上の回路要素を有し、ピクセルの各々は、ウ
エル内に形成されているホトダイオード拡散部とウエル
内に形成されているパワー又は接地へのタップとを有す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、CMOSイメージ
ャ用の集積回路アーキテクチャに関するものであって、
更に詳細には、CMOSイメージャの個別的なピクセル
における欠陥をマスクし又は補正する方法及び装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】CMOSイメージセンサは、現在、電荷
結合素子(CCD)アレイイメージセンサと競争力のあ
るものとなりつつある。潜在的な適用例としては、デジ
タルカメラ、自動車用の夜間運転用ディスプレイ、文書
キャプチャ及び視覚的通信用のコンピュータ周辺機器な
どがある。
【0003】1970年代以来、CCDアレイは、電子
的イメージセンサ市場を支配している。CCDアレイ
は、量子効率、光学的フィルファクタ(検知用に使用さ
れるピクセルの割合)、電荷転送効率、読取り速度、読
取りノイズ及びダイナミックレンジなどを包含するほと
んどの分野においてCMOSアレイセンサよりも性能が
優れていた。しかしながら、CMOS技術における着実
な改良(装置寸法が益々小型化することを包含してい
る)は、CMOSイメージセンサを競争力のあるものと
している。更に、CCD技術と比較して、CMOS技術
は、電力消費が低く、機能性が増加されており、且つ潜
在的に低コストである。開発者は、現在、(a)集積化
したタイミング・制御エレクトロニクス、(b)センサ
アレイ、(c)信号処理エレクトロニクス、(d)アナ
ログ・デジタル変換器、(e)インターフェースエレク
トロニクスを具備する単一チップのCMOSカメラをも
くろんでいる。例えば、Fossum「CMOSイメー
ジセンサ:単一チップ上の電子カメラ(CMOS Im
age Sensors: Electronic C
amera On A Chip)」、1995IED
Mテクニカル・ダイジェスト、ワシントンDC、199
5年12月10−13日、17−25頁の文献を参照す
るとよく、その文献を引用によって本明細書に取込む。
【0004】CCDアレイは、ピクセル毎に周辺部内部
のCCDアレイからアナログ電荷パケットをシフトさせ
ることによって全ての画像データを読取るという点で制
限されている。しかしながら、CCDアレイのピクセル
は、ランダムにアクセス可能なものではない。更に、電
圧、容量、処理上の拘束条件のために、CCDアレイは
CMOS集積回路において可能なレベルにおいて集積化
に適したものではない。従って、CCDセンサのために
必要な何らかの補充的な処理回路(例えば、センサに関
連する情報を格納するためのメモリ)は、通常、別個の
チップ上に設けねばならない。このことは、勿論、シス
テムのコストを増加させる。
【0005】CMOS及びCCDの両方のイメージセン
サ技術の厄介な問題は、欠陥ピクセルに起因する画像劣
化である。この様な欠陥ピクセルは、多数のセンサチッ
プを製造する場合に本来的に発生する処理変動から発生
する。ピクセルの欠陥は、ピクセルに付与された実際の
照射露光を正確に反映するものではない照射露光を表わ
す出力によって示される場合がある。例えば、特定の量
の照射に対する露光の後に予測されるものよりもより多
くの電荷を出力するピクセルは、画像内において明るい
スポットとして表われる。同様に、予測されるものより
もより少ない電荷を出力するピクセルは暗いスポットと
して表われる。
【0006】典型的に、欠陥ピクセルが含まれる数を識
別するために製造後にイメージセンサのテストが行われ
る。センサが特定した数を超える数の欠陥ピクセルを有
する場合には、それは拒否されねばならない。従って、
センサの歩留りは、典型的にチップ上において製造され
る欠陥ピクセルの数によって制限される。驚くべきこと
ではないが、多数のピクセルを有する広い面積のセンサ
は、比較的低い歩留りを有している。なぜならば、それ
らは、より多くの欠陥ピクセルを有する傾向があるから
である(ピクセル総数に対する欠陥ピクセルの数は与え
られた製造技術に対してほぼ一定である)。
【0007】製造した後にイメージセンサを注意深くス
クリーニングすることによって欠陥アレイを見付けるこ
とが可能であるが、そのことは、通常の使用期間中にセ
ンサが劣化することを阻止することが可能なものではな
い。ピクセルは、ときたま、通常動作期間中にこの様な
欠陥を発生する場合がある。しかしながら、この様な欠
陥を識別し且つ補正する効果的な技術は存在していな
い。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の点に
鑑みなされたものであって、上述した如き従来技術の欠
点を解消し、センサが製造された直後に且つその寿命期
間中において欠陥性ピクセルをマスクするか又は補正す
ることが可能な技術を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、例えばCMO
Sイメージャなどの欠陥許容性のラジエーション(照
射)イメージャを提供している。この様なイメージセン
サは、イメージ(画像)発生期間中に欠陥ピクセルをマ
スク及び/又は補正する回路を有している。マスキング
即ちマスクを行う場合の一つの例においては、与えれた
ピクセルの出力を周りの欠陥性でないピクセルの出力の
平均で置換させる。補正を行う場合には、補正すべきピ
クセルからの出力レベルを増加させるか又は減少させる
ことが可能である。従って、イメージセンサがある数の
欠陥ピクセルと共に製造される場合があるが、この様な
センサによって発生される画像は、この様なマスキング
又は補正機構を有するものでないセンサによって発生さ
れる画像と比較して優れたものである。更に、センサの
歩留りを改善することが可能である。なぜならば、従来
割当てられたものを超える数の欠陥を有するセンサであ
っても使用することが可能だからである(欠陥ピクセル
が適宜マスクされ又は補正される限り)。一つの好適実
施例においては、初期的に良好であり且つ後に欠陥性の
ものとなるピクセルは、それが欠陥性のものとなる時に
識別することが可能である。その様にして識別された新
たに欠陥性となったピクセルは、適宜マスクするか又は
補正して、CMOS検知器の寿命を増加させることが可
能である。
【0010】本発明の一つの側面は、欠陥ピクセルをマ
スクする方法を提供しており、その方法は、(a)イメ
ージャ(撮像器)へラジエーション(照射)を付与し、
(b)該イメージャ内の欠陥ピクセルを識別し、(c)
該欠陥ピクセルの周りに位置している複数個のその他の
ピクセルの出力を決定し、(d)前記複数個のその他の
ピクセルの出力を使用して前記欠陥ピクセルの出力をマ
スクする、上記各ステップを有している。従って、欠陥
ピクセルのマスクした出力は、本イメージャによって発
生されるイメージ(画像)内に与えることが可能であ
る。好適には、本システムは、該イメージャと関連して
いるメモリへアクセスすることによって欠陥ピクセルを
識別し、イメージャ内の欠陥ピクセルの位置を決定す
る。次いで、欠陥ピクセルに対して補正したイメージ即
ち画像を発生するために、本方法は、更に、該ピクセル
の出力(マスクされた出力を含む)を、該ピクセルの出
力をマスクする前に、アナログ形態からデジタル形態へ
変換することを必要とする場合がある。
【0011】一実施例においては、欠陥ピクセルの出力
をマスクする場合に、その出力を専ら複数個の周りのピ
クセルの出力に基づく出力値で置換する。例えば、補正
した出力は、少なくとも1個の欠陥ピクセルを取囲む少
なくとも2個のピクセルの出力値を補間することによっ
て得ることが可能である。カラーイメージャにおいて
は、イメージャのピクセルは、複数個のカラーの間を区
別することが可能であり、従って欠陥ピクセルは単一の
カラーのラジエーション即ち照射を検知するために指定
される。好適には、この様な場合には、欠陥ピクセルの
出力をマスクするために選択される複数個のその他のピ
クセルは、欠陥ピクセルと同一のカラーの照射を検知す
るために指定されている周りのピクセルのみである。
【0012】欠陥ピクセルの各々の出力を完全にマスク
することは必要でない場合がある。例えば、幾つかのピ
クセルは完全に崩壊していない場合があり、その場合に
は、それらの出力はマスクするのではなく補正すること
が可能である。ある場合には、欠陥ピクセルが、適切な
ものより20%低い出力を有するものであることを知る
ことが可能である場合がある。従って、そのピクセルの
出力は、単に、画像を発生する前に25%だけ増加する
ことが可能である。
【0013】勿論、欠陥ピクセルを識別するある技術を
最初に(イメージャが発生される場合)実行するか又は
その寿命に亘り周期的に実行せねばならない。一実施例
においては、本システムは、次のシーケンス、即ち
(i)選択したピクセルを所定の電荷(例えば、画像内
の暗所値に関連する電荷)へ電子的にリセットし、(i
i)選択したピクセルの出力を読取り、(iii)選択
したピクセルへ与えられた所定の電荷に基づいて選択し
たピクセルの出力を予定値と比較する上記各シーケンス
に従って、選択したピクセルを電子的にテストする。選
択したピクセルの出力が予定値から著しく逸れている場
合には、本システムは、その選択したピクセルを欠陥性
のものとして指定する。一方、実行したテストは、イメ
ージャが既知の期間に亘り既知の強度の照射に対して露
光される光学的テストとすることも可能である。次い
で、該ピクセルの出力は上述したように予定値と比較さ
れる。
【0014】電子的テストの場合であって且つ選択した
ピクセルがNウエルとP拡散ホトダイオードとを有して
いる場合には、選択したピクセルを電子的にリセットす
ることは、P拡散部内にある量の負の電荷を注入するこ
とを必要とする。反対導電型のホトダイオードにおいて
は、リセット期間中にN型拡散部から負の電荷が除去さ
れる。
【0015】テスト結果は次のようにして解釈すること
が可能である。即ち、選択したピクセルの出力が予定値
から著しく逸れている場合には、本システムは、その選
択したピクセルが部分的又は完全に崩壊しているか否か
を決定する。その後に、選択したピクセルの出力のマス
ク又は補正を行う場合に、部分的に崩壊したピクセルに
対しては第一技術を使用し且つ完全に崩壊したピクセル
に対しては第二技術を使用する。第二技術は完全に崩壊
したピクセルを取扱うので、そのピクセルの出力からの
情報はほとんど使用することはない。従って、第二技術
は、完全に崩壊したピクセルの周りのピクセルの出力の
補間又はその他の平均化などを行うことが可能である。
第一技術は、単に、所定の百分率又は大きさだけその出
力を増加させるか又は減少させることによって、該ピク
セルからの出力を使用することが可能である。
【0016】画像を発生する前に欠陥ピクセルの同一性
即ち識別を自動的にリコールするために、本テスト方法
は、メモリ内に1個又はそれ以上の欠陥ピクセルの位置
を格納することによって終了することが可能である。適
切な場合においては、一つ又はそれ以上の欠陥ピクセル
の各々が部分的に又は完全に崩壊しているか否かを特定
するデータを格納することも可能である。
【0017】本発明の別の側面は、次のような特徴を有
するイメージャ(撮像器)を提供するものであり、即
ち、(a)1個又はそれ以上のピクセルであって、その
各々に付与される照射の量又はタイプ又は量とタイプの
両方を表わす出力を与えることの可能な1個又はそれ以
上のピクセル、(b)前記1個又はそれ以上のピクセル
へ電気的に結合されており且つイメージャにおける欠陥
ピクセルをマスク又は補正するような形態とされている
1個又はそれ以上の回路要素、(c)欠陥ピクセルの位
置を格納する形態とされているメモリを有するイメージ
ャを提供している。好適には、これらの種々の要素は、
単一の集積回路チップ上に設けられている。
【0018】本イメージャは、更に、1個又はそれ以上
のピクセル(典型的には、ピクセルの状態をリセットす
るため)のホトダイオード拡散部へ電圧を供給すること
の可能な1個又はそれ以上の電圧供給源を有することが
可能である。それは、更に、ピクセルの出力を測定する
ことの可能な1個又はそれ以上の電荷積分器を有するこ
とが可能である。更に、それは、1個又はそれ以上のピ
クセルからのアナログ出力を受取り、該アナログ出力を
デジタル信号へ変換し、且つ該デジタル信号を1個又は
それ以上の回路要素が欠陥ピクセルを識別することが可
能であるように1個又はそれ以上の回路要素へ供給する
ことの可能なアナログ・デジタル変換器を有することが
可能である。特に好適な実施例においては、該複数個の
ピクセルは、アレイ形態に配列されており、従って複数
個のピクセルにおける各ピクセルは別個にアドレスする
ことが可能である。
【0019】多くのCMOSイメージャにおいては、一
つ又はそれ以上のピクセルの各々が、ウエル内に形成さ
れているホトダイオード拡散部を有しており、且つウエ
ル内に形成されているパワー又は接地へのタップを有し
ている。この様なピクセルは、能動的な構成又は受動的
な構成のものとすることが可能である。
【0020】本発明の別の側面は、物体の画像を発生す
るシステムを提供している。本システムは、上述したタ
イプのイメージャ及び一つ又はそれ以上のピクセルの出
力から得られる画像を出力する一つ又はそれ以上の構成
要素を有している。その画像は、例えば、デジタルカメ
ラの場合においては写真とすることが可能である。
【0021】
【発明の実施の形態】本発明を、以下に説明する幾つか
の好適実施例を参照して説明する。特に、本発明は、空
乏モードホトダイオードを使用する特定のCMOSセン
サを参照して説明する。理解すべきことであるが、本発
明はこれらの実施例に特に制限されるべきものではな
い。例えば、本明細書に記載する方法及びシステムは、
ホトゲートアレイ、CCDアレイ、及び事実上任意のタ
イプの照射画像形成アレイへ有益的に適用することが可
能である。更に、本明細書において説明するCMOSホ
トダイオードアレイ構成は「受動的」構成のものである
が、本発明の原理は、例えば能動的ピクセル構成のよう
なその他の構成のものにも適用可能である。
【0022】図1は本発明に基づいてCMOSイメージ
ャを実現する一つの好適なシステムアーキテクチャを提
供している。好適には、図示したシステムの全ての要素
は単一の集積回路チップ上に設けられている。図1は、
4個の主要な要素、即ち、ピクセルアレイエリアセンサ
12、アナログ・デジタル変換器18、欠陥解析・補正
ブロック24、欠陥及び補正データを格納するためのメ
モリ26を有するイメージャ(撮像器)10を示してい
る。
【0023】エリアセンサ(面積検知器)12は、複数
個の規則的に配列したピクセルを有しており、各ピクセ
ルはセンサへ入射されるラジエーション即ち照射に応答
することが可能である。しばしば、ほとんどのデジタル
カメラの場合におけるように、該照射は、可視的電磁照
射、即ち可視光である。その他のタイプの照射の検知も
本発明の技術的範囲内のものである。各ピクセルは、そ
のピクセルに入射するある時間に亘っての照射強度(時
間に関しての強度の積分)を表わす出力を発生する。一
つの特定の実施例においては、エリアセンサ12は、
1,024(垂直方向)×1,024(水平方向)個の
ピクセルからなるアレイを有しているが、勿論、実際の
アレイ寸法は適用例及びIC製造技術のスケールに依存
する。動作について説明すると、光学的画像をエリアセ
ンサ12上へ指向させることが可能であり、従って光強
度(又は例えば波長などのその他の何らかの照射の特
徴)における空間的及び/又は時間的変化を、センサ1
2を構成している個別的なピクセルによって一時的に記
録することが可能である。
【0024】センサ12の個別的なピクセルからの信号
はアナログ信号16として1個又はそれ以上のライン1
4を介して出力される。これらのアナログ信号16は、
アナログ・デジタル変換器18によって受取られ、該変
換器18は、それらをデジタル信号22へ変換し且つラ
イン20を介してこの様なデジタル信号を出力する。次
いで、デジタル信号22は欠陥解析・補正ブロック24
によって受取られ、該ブロック24は、エリアセンサ1
2における欠陥ピクセルの出力を適宜マスクするために
メモリ接続部28(例えば、バス)を介してメモリ26
と通信を行う。欠陥解析・補正ブロック24は、それに
より、補正した組の出力ピクセルを発生し、ライン30
を介して画像ディスプレイ回路へ送給される。
【0025】システム10の個別的な要素は異なる物理
的構成体の上に構成することが可能であるが、エリアセ
ンサ12と、アナログ・デジタル変換器18と、欠陥解
析・補正ブロック24とは、好適には、単一の集積回路
チップ上に設けられる。更に、同一のチップ上にメモリ
26を設けることが望ましい場合がある。メモリ26
は、可及的に小型のものであるが、尚且つ、各欠陥ピク
セルの補正/マスク用の必要な情報の全てを格納するの
に充分に大きなものとすべきである。ほとんどのセンサ
は単に数個の欠陥ピクセルを有するに過ぎないものと予
測することが可能であるので、メモリ26は、典型的に
は、非常に大型のものとすることは必要ではない。その
寸法は、ほぼ、ピクセルアレイ自身の寸法に依存する。
典型的には、ピクセルの0.1%を超えるものが機能的
なイメージャにおいて欠陥性のものであることはないと
いうことを予測することが可能である。各欠陥ピクセル
に関連する位置及び補正情報を格納するために2バイト
又は3バイトを超えるものを揃えておくことは必要では
ないことが予測される。この論理に基づいて、メモリ2
6は、典型的に、約10キロビットと1メガビットとの
間とすることが可能である。更に、メモリ26は、例え
ば、SRAM、ROM(EEPROM)、フラッシュメ
モリ(又はEPROM)、DRAMなどの形態をとるこ
とが可能である。
【0026】CMOSをベースとしたイメージセンサの
最も顕著な利点のうちの一つは、オンチップのアナログ
・デジタル変換器でその積分を容易に行うことが可能で
あるということである。好適には、アナログ・デジタル
変換器は、ほとんど電力を消費することがなく且つほと
んど面積を専有することもなく、それにも拘らず、シス
テムの適用例で必要とされる分解能におけるピクセル処
理速度を充足する。アレイ全体に対する単一のアナログ
・デジタル変換器(ピクセルレートで動作)、各ピクセ
ルに対する単一の変換器(フレームレートで動作)、ア
レイの各コラムに対する変換器(ラインレートで動
作)、又は何らかのその他の動作分割に対して単一のア
ナログ・デジタル変換器を有することが可能である。
【0027】図2A及び2Bは単一の受動的ピクセルの
概略断面図を示している。図2Aにおいて、ピクセルは
テストのためにリセットされており、且つ図2Bにおい
ては、ピクセルの蓄積した電荷が、該ピクセルが崩壊し
ているか否かを判別するために測定される。図2Bも、
その出力が通常の画像形成のために読取られる場合にお
けるピクセルの状態を示している。
【0028】図2A及び2Bに示したように、ピクセル
200は半導体基板202の上に形成されている。Nウ
エル204が基板202の上部部分の上の層として形成
されており、それは、例えば、エピタキシャル層とする
ことが可能である。好適実施例においては、ウエル20
4は二次元アレイにおいて複数個のピクセルに亘ってい
る。しかしながら、各ピクセルに対して別個のウエルを
有することは本発明の技術的範囲内のものである。各ピ
クセル内において、P型ホトダイオード拡散部206が
照射への露光により電荷を格納するために設けられてい
る。更に、各ピクセル200はウエル204を例えばV
ddなどの所定の電圧に保持するための基板タップ208
を有している。基板タップ208は、ウエル204に対
して低抵抗のオーミックコンタクトを与えるために高度
にドープしたN型領域とすることが可能である。基板タ
ップ208は、適宜のコンタクト又は相互接続体を介し
て適宜のパワー供給源へ接続する。
【0029】種々の光学的層/要素をピクセル200の
上、少なくとも拡散部206の上に設けることが可能で
ある。説明の便宜上、これらの付加的な要素は図2A及
び2Bには示していない。これらの光学的要素は、例え
ば、ホトンを光学的に回収するためのレンズ及びホトン
の波長を区別するためのフィルタ(カラーピクセルにお
いて使用される)などを包含することが可能である。
【0030】理解すべきことであるが、ピクセル200
はN型ウエルとP型ホトダイオード拡散部とを具備する
ものとして図示してあるが、本発明はこの様な構成にの
み制限されるべきものではない。従って、ウエル204
はP型領域とすることが可能であり且つ拡散部206は
N型領域とすることが可能である。何れの場合において
も、領域204及び206におけるドーパント原子の濃
度は、空乏モードホトダイオードを形成すべく選択され
るべきである。この様なホトダイオードにおいては、ホ
トダイオード拡散部206へ入射する照射は、空乏領域
内においてホールと電子とを発生させる。空乏領域は自
由電荷キャリアを包含するものではないので、これらの
新たに発生されたホール及び電子は反対電荷のキャリア
と結合することによってすぐさま消失されることはな
い。電子はウエル204へドリフトし且つホールはP型
拡散部206へドリフトし、それらはホトダイオード拡
散部206とウエル204との間のPN接合において画
定されているコンデンサCpw207上の自由電荷として
回収される。コンデンサCpwの容量は、しばしば、ホト
ダイオードの「内在的容量」と呼ばれる。
【0031】通常動作期間中に、ピクセル200は所定
の時間期間に亘り照射供給源へ露光される。露光時間の
長さに亘って積分される照射のフラックス(強度)は、
「積分照度(integrated illumina
tion)」を画定し、それは拡散部206とウエル2
04のPN接合によって画定されるコンデンサ上に蓄積
する電荷の量に関係している。ピクセル200を「読取
る」ために、格納された電荷の量を決定することが可能
であるように、ホトダイオード206を放電させる。こ
の電荷は、積分されたイルミネーション即ち照度を特定
し、それは既知の露光時間に基づいて平均照射強度へ変
換することが可能である。アレイ内の全てのピクセルの
出力を使用して照射強度分布即ち画像を形成する。
【0032】図示例においては、ピクセル出力が接続線
212及びトランジスタ214によって電荷積分器21
0へ結合される。ホトダイオード206が照射へ露光さ
れている間に、トランジスタ214をスイッチオフし、
従ってピクセル200内において電荷が蓄積する。ピク
セル200を読取るべき場合には、トランジスタ214
をスイッチオンし、従ってホトダイオード拡散部206
内に蓄積された電荷は電荷積分器210及びコンデンサ
222(増幅器210と並列接続されている)へ接続線
212を介して流れることが可能である。従って、電荷
積分器210は、コンデンサ222を横断しての電圧を
測定し且つホトダイオード206から受取った電荷の量
に対応する出力を発生する。注意すべきことであるが、
コンデンサ222と並列に設けられているスイッチ22
5は、読取りプロセス期間中にスイッチオフされ、従っ
てコンデンサ222のプレート間に電圧差を確立するこ
とが可能であるようにすべきである。
【0033】この読取りプロセスと同時的に、ホトダイ
オード206を「暗所」状態へ「リセット」し、それに
より、余分の電荷がほぼ除去される。一実施例において
は、Vddが5Vであり、ホトダイオード拡散部206は
暗所状態(即ち、ピクセル200によって検知される照
射と関連していない電圧)である1Vへリセットされ
る。リセット期間中に、スイッチ225は閉成され、従
ってリセット電圧(電荷積分器210の出力)をライン
212、従ってホトダイオード拡散部206へ印させる
ことが可能である。
【0034】欠陥解析・補正ブロック24は、与えられ
たピクセルが欠陥ピクセルであるか否かを電子的に決定
することが可能である。それは、種々の態様でこのこと
を行うことが可能である。例えば、ピクセルをリセット
した後に、そのピクセルを後の時間においてサンプル
し、その電圧が暗所状態の電圧から派生したものである
か否かを決定することが可能である。注意すべきことで
あるが、リセット時に、ピクセルホトダイオードは放電
され、従ってピクセルは暗所状態(例えば、約1V)と
関連する電圧をとる。リセットしたピクセルをサンプル
した場合に、ピクセル電圧がこの暗所状態と関連するも
のから逸れていることが判明した場合には、そのピクセ
ルは、欠陥解析・補正ブロック24によって欠陥である
と見なすことが可能である。この場合には、そのピクセ
ルの出力は爾後の画像期間中に補正又はマスクする。
【0035】図2Aを参照すると、ピクセルをテストす
るためのリセットメカニズムが示されている。ピクセル
200が光に露光されていない間は、電荷積分器210
はライン212を介してホトダイオード拡散部206を
リセット電圧Vrへ放電させる。注意すべきことである
が、このことは、トランジスタ214をスイッチオンさ
せることを必要とする。次いで、該ピクセルはトランジ
スタ214をターンオフさせることによって電荷積分器
210から切断され且つホトダイオード206は固定し
た時間長の間アイドル状態に止どまることが許容され
る。ホトダイオード拡散部206上の電荷が再度スイッ
チ214(図2B)を閉成することによって電荷積分器
210を介して読取られる。次いで、関連する検知回路
がピクセル200が崩壊しているか否かを決定する。
【0036】この技術は、ホトダイオード拡散部206
とウエル204との間において電荷がリークするか否か
を決定する。正の電荷が拡散部内へリークする場合には
(P型拡散部及びN型ウエルの場合には)、該ピクセル
は上述したテスト期間中に欠陥性であることが判明す
る。補正されていない場合には、その欠陥ピクセルは
「白色ピクセル」として表われる(即ち、それは不適切
に明るく表われる)。
【0037】これは、ここで関連性のある唯一のピクセ
ル欠陥のタイプではない。時折、ピクセルは製造から塵
埃粒子が存在することによってなど、部分的に又は完全
にブロックされる場合がある。又、CMOSイメージャ
の動作寿命期間中に新たな粒子がピクセルをブロックす
ることも可能である。又、ピクセル上の光学的要素(レ
ンズ、フィルタなど)が劣化し且つ照射に障害を与える
場合がある。これらのタイプの欠陥は、「暗所ピクセ
ル」となる(即ち、そのピクセルは画像中において不適
切に暗く表われる)。しかしながら、アレイへ光を供給
することなしに障害型の欠陥を検知することは不可能で
ある。従って、光学的テストを使用せねばならない。当
該技術分野において種々の光学的テストが公知であり且
つCMOSイメージャが配送する前に使用される。この
様なテストは、通常、上述したようにピクセルをリセッ
トし、ピクセルを既知の量の照射へ露光させ、次いでそ
れらの出力を読取ることによって行われる。この様なテ
ストの変形例は、その寿命に亘ってイメージャを周期的
にテストするために使用することが可能である。その様
にしてテストされた何れかのピクセルが予定されたもの
よりも少ない量の電荷を出力する場合には、そのピクセ
ルは欠陥性のものとされ且つ補正されねばならない。
【0038】更に別のタイプのピクセル欠陥は、ホトダ
イオード自身における種々の内在的な欠陥から発生す
る。これらは、ピクセルの照射回収領域が所望のものよ
りも一層大きいか又は一層小さい(即ち、ホトダイオー
ド拡散部の寸法が仕様を満足するものではない)、ホト
ダイオードにおけるドーパント濃度が所望の値から逸れ
ている、照射がピクセル近傍の金属から反射されるなど
の理由によって発生する場合がある。これらの利得不整
合欠陥の各々は、誤ったピクセルの読取りを発生させ
る。それらがホトダイオードにおいて過剰な電荷を蓄積
させる場合には、それらは白色ピクセルとなり、且つそ
れらがホトダイオード内に蓄積させる電荷が少なすぎる
場合には、それらは暗所ピクセルとなる。上述したよう
な光学的テストを使用して、この様な利得不整合をテス
トし且つ種類分けすることが可能である。
【0039】使用されるテストのタイプに拘らずに(光
学的か又は電子的か)、欠陥解析・補正ブロック24は
種々の態様で動作することが可能である。一実施例にお
いては、ブロック24は、単に、与えられたピクセルが
欠陥性であるか否かを決定する。より洗練したバージョ
ンにおいては、ブロック24は、ピクセルが欠陥性であ
るか否かを決定するのみならず、どの様なタイプの欠陥
が発生しているか且つそれがどの様な理由で実際に欠陥
性のものであるかということを決定する。例えば、一実
施例においては、本システムは、与えられたピクセルが
正しく動作しているか否かを決定し、部分的に崩壊して
いるか否か(白色又は暗所)、又は完全に崩壊している
か否かを決定する。どの程度予測されたピクセル強度
(ホトダイオード電圧)が予測値から逸れているかに依
存してこの決定を行うことが可能である。
【0040】この実施例を図3A及び3Bに模式的に示
してある。垂直軸は電荷積分器210によって出力され
るピクセル出力電圧を表わしている。注意すべきことで
あるが、P型ホトダイオード拡散部の場合には、ピクセ
ルに入射する照射量が大きければ大きいほど、電荷積分
器210による電圧出力はより低い。逆に、照度の大き
さが低いと、電荷積分器210においてより高い出力電
圧が発生する。N型ホトダイオード拡散部に対してはそ
の逆が成立する。図3Aにおいては、「暗所テスト」に
おいて遭遇するピクセル出力の種類を示してある。その
テストにおいては、それらの出力を読取る前に、ピクセ
ルをリセットし且つ所定の時間期間に亘って暗所状態に
保持される。図3Bにおいては、光学的テストにおいて
遭遇するピクセル出力の種類が示されている。このテス
トにおいては、それらの出力を読取る前に、ピクセルを
リセットし、次いで、所定の時間期間に亘って所定の量
の照度に露光される。
【0041】何れの場合においても、該テストは、ピク
セル200をトランジスタ214を介して図3に示した
予測値302へリセットすることによって開始される。
電荷積分器210における測定された出力が正しい作動
範囲304内に入ると、そのピクセルは正しく動作して
いるものと決定される。図3Aに示した暗所テストの場
合には、測定されたピクセル強度(電圧)が作動範囲3
04より下側に降下すると、そのピクセルは崩壊してい
るものと決定される。唯一の残存する問題は、その出力
を修正した態様で使用することが可能な「部分的に崩
壊」しているものか、又はその出力をどの様な状態でも
使用することが不可能な「完全に崩壊」しているか否か
を判別することである。テストピクセルの出力が部分的
に崩壊した範囲308内に該当する場合には、そのピク
セルは部分的に崩壊されているものと決定され且つそれ
に従って処理される。部分的に崩壊した範囲308より
低いピクセル電圧は完全に崩壊した範囲312に該当
し、そのピクセルは完全に崩壊しているものと決定され
且つそれに従って処理される。
【0042】次に、図3Bを参照すると、光学的テスト
が、テストピクセルの出力電圧が作動範囲304より高
いものであることを示す場合には、そのピクセルは障害
を受けているか又はその他の利得不整合が発生してい
る。その出力電圧が作動範囲304より僅かに高いもの
であるに過ぎず且つ範囲314内に存在する場合には、
そのピクセルは部分的に崩壊されているものとみなされ
る。その出力電圧が著しく高いものであり且つ範囲31
6内に存在している場合には、そのピクセルは完全に崩
壊しているものとみなされる。ある場合には、光学的テ
ストの結果、出力電圧が予測されたものよりも低いもの
であることを示す場合があり、その場合には、そのピク
セルは障害を受けているものではなく、その代わりに、
利得不整合が発生している。この様な利得不整合は、ピ
クセル上の過大寸法の光回収表面から発生する場合があ
る。何れの場合においても、この様な利得不整合は、不
整合の大きさに依存して、部分的又は完全に崩壊したピ
クセルを発生させる。
【0043】以下に更に詳細に説明するように、部分的
に崩壊したピクセルは、完全に崩壊したピクセルとは異
なって処理することが可能である。より簡単な実施例に
おいては、ピクセルは部分的に崩壊したものとして処理
されるものではなく、それらは正しく動作するものか又
は完全に崩壊したものの何れかである。
【0044】上述した如く、電荷積分器210の出力
は、現在解析されたピクセルの積分された照度を表わす
アナログ信号である。この信号を容易に解析し且つ任意
の必要な補正を行うために、該アナログ信号は、最初
に、デジタル信号へ変換されるべきである。このこと
は、上述した如くアナログ・デジタル変換器18で達成
される。好適には、アナログ・デジタル変換器18はピ
クセルアレイ12を具備する同一のチップ上に形成され
る。
【0045】図4Aはそれらが欠陥性のものであるか否
かを決定するためにピクセルをテストするために使用す
ることの可能な一般的な方法500の処理のフローチャ
ートを示している。該フローチャートは、光学的及び非
光学的の両方のテストに適用される。プロセス500
は、ステップ501において開始し、且つステップ50
2において、アレイ内のホトダイオードはリセット電圧
rへ設定される。前述した如く、この電圧はピクセル
に何ら照射が入射されない場合のピクセルの状態に対応
している。
【0046】次に、ステップ503において、そのテス
トが光学的テストであるか又は非光学的テストであるか
否かが決定される。それが光学的テストである場合に
は、ピクセルアレイをステップ504において所定量の
照射へ露呈される。その後に、処理制御はステップ50
6へ指向される(以下に述べる)。実行すべきテストが
非光学的テストである場合には、照射は供給されない。
その場合には、暗所電流テストが行われ、且つ次のステ
ップ(ステップ505)が、好適には、使用中のピクセ
ルの露光時間にほぼ対応する所定の時間長に亘りピクセ
ルの読取りを遅延させる。
【0047】この時点において、本プロセスはステップ
506へ移行し、そこで欠陥解析・補正ブロック24が
評価すべき最初のピクセルを選択する。評価は、ステッ
プ508においてそのピクセルの出力電圧を評価するこ
とを包含している。その後に、ステップ510におい
て、アナログ・デジタル変換器18がその出力電圧に対
するアナログ値をデジタル値へ変換する。このデジタル
値から、論理ブロック24が、そのピクセルが予定した
出力電圧から著しく逸れた実際の出力電圧を有している
か否かを決定する。この点についてはステップ512を
参照するとよい。次に、論理ブロック24は、オプショ
ンとして、予測されている出力電圧からの逸れに基づい
てそのピクセルが部分的に又は完全に崩壊しているか否
かを決定することが可能である。この点についてはステ
ップ514を参照するとよい。ブロック24は、更に、
図3A及び3Bに示した種類分けに従ってその崩壊の種
類分けを行うことが可能である。
【0048】本システムが、そのピクセルが少なくとも
部分的に崩壊していることを決定すると仮定すると、そ
れは崩壊したピクセルの位置及びその崩壊のタイプ(部
分的か又は完全か)をメモリ26内に格納する。このこ
とはステップ516において行われる。そのピクセルが
部分的に崩壊している場合には、本システムは、その崩
壊のタイプ及び程度に関する幾つかの情報を格納するこ
とも可能である。以下に更に詳細に説明するように、こ
の情報は、読取り期間中に部分的に崩壊されているピク
セルを補正するために使用される。崩壊されたピクセル
に関連する情報を格納した後に、ブロック24は、目下
考慮中のピクセルがステップ518においてアレイ内の
最後のピクセルであるか否かを決定する。そうである場
合には、本プロセスはステップ526において完了す
る。
【0049】決定ステップ518における回答が否定で
ある場合には(即ち、現在のピクセルがアレイ内の最後
のピクセルではない)、本システムはステップ522に
おいてアレイ内の次のピクセルへ移行する。その後に、
プロセス制御はステップ508へ復帰し、そこで本シス
テムはアレイ内の新たな現在のピクセルの出力電圧を評
価する。
【0050】注意すべきことであるが、決定ステップ5
14の回答が否定である場合には(即ち、目下検討中の
ピクセルが崩壊したものではない)、プロセス制御は決
定ステップ518へ移行し、そこで本システムは、目下
考慮中のピクセルが、実際には、アレイ内の最後のピク
セルであるか否かを決定する。
【0051】図4Bは、画像発生期間中に欠陥ピクセル
をマスクするための一つの方法530の処理の流れを示
している。プロセス530はステップ532において開
始し、且つステップ534において、アレイのピクセル
を画像を画定する照射パターンへ露光させる。このこと
は個別的なホトダイオードを充電させ、それにより、画
像を一時的に記録する。次に、処理ステップ536にお
いて、本システムは、解析のために現在のピクセルを特
定し且つそのピクセルに関する情報に関しメモリ26へ
アクセスする。メモリ内に格納されている情報から、欠
陥補正ブロック24が、現在のピクセルが決定ステップ
538において崩壊されているか否かを決定する。
【0052】現在のピクセルが崩壊されていないものと
仮定すると、本システムは、ステップ540においてそ
のピクセルの出力電圧を読取る。その後に、その出力電
圧はディスプレイ値へ変換され(多分、アナログ形態か
らデジタル形態へ変換した後に)且つ現在発生されてい
る画像へ付加される。このことは、ステップ542にお
いて行われる。
【0053】次いで、本システムは、現在のピクセル出
力が決定ステップ544において別のピクセルの補正を
行うことを可能とするのに充分な情報を供給するもので
あるか否かを決定することが可能である。以下に説明す
るように、欠陥ピクセルに対するあるマスク動作及び補
正動作技術は、隣接する(又は近くの)崩壊していない
ピクセルからの出力情報を必要とする。従って、目下考
慮中のピクセルが崩壊しているピクセルに隣接している
(又は少なくとも近傍にある)場合には、現在のピクセ
ルの出力情報は、その崩壊したピクセルのマスキングを
可能とするために使用することが可能である。そうであ
ると仮定すると(即ち、決定ステップ544の回答が肯
定)、本システムはステップ546において前に崩壊し
たピクセルに対するマスク値を計算する。その後に、本
システムは、そのマスク値を崩壊したピクセルの位置に
おける画像へ適用する。このことは、ステップ548に
おいて行われる。
【0054】決定ステップ538へ戻ると、その回答が
肯定である場合には(即ち、現在のピクセルが崩壊して
いる場合)、本システムは、次に、現在のピクセルをマ
スクするか又は補正するのに必要な充分な情報があるか
否かを決定する。このことは、決定ステップ550にお
いて行われる。現在のピクセルをマスクするために使用
可能な充分な情報がある場合には(例えば、充分な崩壊
していない周りのピクセルの出力値が既に既知であ
る)、本システムはステップ552においてそのピクセ
ルに対するマスク値を計算する。その後に、ステップ5
54において、発生中の画像に対してそのマスク値を適
用する(即ち、それは、崩壊したピクセルの出力を補正
した値か又はマスク値で置換する)。決定ステップ55
0の回答が否定である場合(即ち、現在のピクセルをマ
スクするのに充分な情報が存在しない場合)、本システ
ムは近くのピクセルから充分な情報が使用可能である場
合には、現在のピクセルがマスク値を必要としているこ
とをフラッグする。このことは処理ステップ556にお
いて行われる。
【0055】何れかの処理ステップ554又は556の
後に、本システムは、現在のピクセルがアレイ内の又は
アレイの適宜のサブセクション内において考慮中の最後
のピクセルであるか否かを決定する。このことは、処理
ステップ558において行われる。注意すべきことであ
るが、処理制御は処理ステップ548の後に決定ステッ
プ558へ指向される。更に、処理制御は、決定ステッ
プ544の回答が否定である場合には、決定ステップ5
58へ向けられる。
【0056】何れの場合においても、現在のピクセルが
アレイ内の最後のピクセルではないと仮定すると(即
ち、決定ステップ558の回答が否定)、本システム
は、ステップ560における評価のためにアレイ内の次
のステップへ移行する。次いで、処理制御はステップ5
36へ再指向され、そこでメモリ26が新たな現在のピ
クセルに関する情報に対して評価される。その後に、本
プロセスは上述した如くに進行する。
【0057】本システムが決定ステップ558におい
て、現在のピクセルが、実際には、アレイ内の最後のピ
クセルであることを決定すると仮定すると、それは、画
像を完成し且つその画像を出力に対して使用可能とさせ
る(完全な画像又はフレームバッファの場合)。一方、
本システムがラインバッファ又は画像全体より少ないも
のを保持するその他の何らかのバッファを使用している
場合には、決定ステップ558は、現在のピクセルがラ
イン内の最後のピクセルであるか否かを決定する。そう
である場合には、そのラインが出力に対して使用可能と
される。バッファの詳細に拘らず、適宜のピクセル(ラ
イン、フレームなど)が処理ステップ562において出
力される。次いで、本プロセスはステップ564におい
て完了する。
【0058】ステップ552(又は546)において1
個のピクセルが補正される一般的なプロセスを図4Cに
詳細に示してある。本プロセスは、ステップ570にお
いて開始し、次いで、決定ステップ572において、本
システムは、現在のピクセルが完全に崩壊しているか否
かを決定する。この様な情報は、メモリ26から得るこ
とが可能であり且つステップ536期間中に得られる
(図4B)。
【0059】現在のピクセルが完全に崩壊しているもの
とみなされるものと仮定すると、本システムは、処理ス
テップ574においてそのピクセルに対する補正した出
力値を発生する。注意すべきことであるが、図3A及び
3Bに示した実施例においては、完全に崩壊したピクセ
ルは、範囲312及び316のうちの一方の中に存在す
る。図4Cに示した実施例においては、本システムは、
周りのピクセルの出力値を補間することによって補正し
た出力値を発生することが可能である(これらの出力値
が使用可能なものであると仮定する)。周りのピクセル
の全てが未だに評価されていない場合には、問題となる
ピクセルに対する最終的な補間した補正は、隣接する崩
壊していないピクセルの出力値を待たねばならない。ス
テップ574が完了した後に、本プロセスはステップ5
78において終了する。
【0060】カラーイメージャの場合には、マスキング
操作は、補正されるピクセルのカラーを認識可能なもの
でなければならない。図5は、従来の原色カラーピクセ
ルアレイ(赤、緑、青)のレイアウトを示している。理
解すべきことであるが、本発明は、例えば相補的カラー
フィルタを使用するものなどのその他のカラーピクセル
アレイと共に実施することも可能である。図5の実施例
においては、緑ピクセルは「G」として示してあり、赤
ピクセルは「R」として示してあり、且つ青ピクセルは
「B」として示してある。完全に崩壊されていると考え
られるピクセルが緑である場合には、そのマスクを与え
るためには緑ピクセルのみが選択されるべきである。同
一のことが、赤ピクセル及び青ピクセルについても言え
る。欠陥ピクセルに対して最も近い隣のピクセルが緑で
ないので、次に最も近い緑のピクセルがマスク用に選択
されるべきである。それらは、欠陥ピクセルと同一のラ
イン及び/又は隣接のライン上において与えることが可
能である。非常に精密(しかしながら、計算的には高
価)な動作においては、最も近い隣のものだけではな
く、次に最も近い隣のピクセルも使用して補正を行う。
【0061】現在のピクセルが部分的に崩壊しているも
のとみなされるものと仮定する場合には(即ち、決定ス
テップ572の回答が否定)、本システムは、次に、そ
のピクセルが決定ステップ575において飽和されてい
るか否かを決定する。このことは、そのピクセルの出力
が最大であることを意味し且つさらなる照明はその拡散
部内に格納されている電荷の量を増加させることはな
い。従って、露光期間中に実際にどれほどの照射がその
ピクセルを照射したかを知ることは不可能である。その
ために、その出力は使用不可能であり且つ本システムは
他の(周りの)ピクセルの出力でそのピクセルをマスク
せねばならない。従って、飽和されており部分的に崩壊
しているピクセルは完全に崩壊しているピクセルとして
処理される。図4Cを参照すると、ステップ575にお
いてその回答が肯定である場合には、処理制御がステッ
プ574へ移行し、そこで欠陥ピクセルの出力は周りの
ピクセルからとられた補間された出力によってマスクさ
れる。
【0062】決定ステップ575の回答が否定である場
合には(即ち、部分的に崩壊しているピクセルが飽和し
ていない場合)、本システムは、現在のピクセルのテス
ト出力の予測されているテスト出力からの逸れに基づい
て補正された出力値を発生する。このことは、ステップ
576において補正モデルの助けを借りて行われる。注
意すべきことであるが、補正モデルに対する情報は、図
4Aに示したプロセス500のステップ508−514
において得ることが可能である。更に注意すべきことで
あるが、周りの崩壊されていないピクセルの出力値は、
ステップ576において補正した出力値を得るためにこ
の逸れの情報と共に使用することが可能である。ステッ
プ576を完了した後に、本プロセスはステップ578
において終了する。
【0063】最も簡単には、補正は、固定した量又は百
分率だけ部分的に補正されたピクセルの出力を調節する
ことによって行う場合がある。例えば、電子的テスト
は、あるピクセルが適切なものよりも30%だけ一層明
るいものであることを表わす場合がある。該補正は、単
に、そのピクセルの強度を画像を発生する場合に適宜の
百分率だけ減少させることによって行う。又は、光学的
テストが、あるピクセルが適切なものよりも20%だけ
より暗いものであることを表わす場合がある。この場合
には、該補正は、画像を発生する場合に適宜の量だけそ
のピクセルの強度を増加させることを必要とする場合が
ある。
【0064】一般的に、全ての必要な補正情報はメモリ
26内に格納される。その補正情報は、部分的に崩壊し
たピクセルの挙動をモデルし、従って適宜の補正係数又
はアペンド(付属物)が現在の動作条件に対して与えら
れる。従って、メモリは、種々の条件に対する正確な情
報を格納せねばならない場合がある。関連性のある条件
/パラメータとしては、アレイの動作温度、照射を行う
ための露光時間、などがある。
【0065】本発明のCMOSイメージャは、軍事的、
科学的、ビジネス、及び家庭適用例に対し種々のシステ
ムにおいて使用することが可能である。例えば、それら
は、デジタルカメラ、ビデオカメラ、夜間運転用ディス
プレイなどにおいて使用することが可能である。一般的
には、本システムは、CMOSイメージャチップに加え
て、画像をキャプチャし且つそれをCMOSアレイへ指
向させるための光学系を包含している。これは、画像キ
ャプチャシステムにおいて従来使用されているタイプの
1個又はそれ以上のレンズ、フィルタなどを包含するこ
とが可能である。該光学系及びCMOSイメージャは、
例えばカメラケースなどのケーシングに装着される。更
に、本システムは、後にディスプレイシステムへダウン
ロードするためのキャプチャした画像を一時的に格納す
るためのメモリを有することが可能である。ある場合に
おいては、ディスプレイシステム自身が全体的なイメー
ジャシステムの一部を形成する。
【0066】以上、本発明の具体的実施の態様について
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ制限
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。例えば、本明細書においては、受動的ピクセルにつ
いて説明したが、例えばオンピクセル増幅器を包含する
能動的ピクセル(ホトダイオード又はホトゲートタイプ
のもの)などのその他のタイプのピクセルを使用するこ
とも可能である。更に、本発明の広範な欠陥補正方法
は、例えばCCD技術などの非CMOS技術においても
適用可能なものであるが、種々のシステム特徴は別個の
チップ上に設けることが必要である場合がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の欠陥許容性イメージャを構成するC
MOSイメージャにおいて使用されているハイレベルの
機能的ブロックを示した概略ブロック図。
【図2A】 図1のCMOSイメージャと共に使用する
のに適したタイプのリセットされている受動的ホトダイ
オードピクセルを示した概略断面図。
【図2B】 図2Aに示したものと同一の概略断面図で
あるが、ピクセル上のリセット電荷がそのピクセルが欠
陥性であるか否かを決定するためにどの様にして読取ら
れるかを示した概略断面図。
【図3A】 本発明の一実施例に基づいてリーク性ダイ
オードに起因してピクセルを部分的又は完全に崩壊され
ているものとして本システムがどの様にして種類分けす
ることが可能であるかを示したグラフ図。
【図3B】 本発明の一実施例に基づいて障害物又は利
得不整合に起因してピクセルが部分的に又は完全に崩壊
しているかを本システムがどの様にして種類分けするこ
とが可能であるかを示したグラフ図。
【図4A】 アレイのピクセルが崩壊しているか否かを
決定するためにそれらをテストすることが可能な方法を
示したフローチャート。
【図4B】 本発明の一実施例に基づいて画像を発生す
る期間中にどの様にして崩壊されているピクセルを取扱
うかを示したフローチャート。
【図4C】 崩壊しているピクセルがそれらの出力をマ
スクするか又は補正してクリアな画像を発生することが
可能な一つの技術の詳細を示したフローチャート。
【図5】 カラーイメージャにおいてどの様にしてピク
セル補正を行うことが可能であるかを示すために提供し
たカラーイメージャ内のピクセル配置を示した説明図。
【符号の説明】
10 イメージャ 12 エリアセンサ 18 アナログ・デジタル変換器 24 欠陥解析・補正ブロック 26 メモリ 200 ピクセル 202 基板 204 ウエル 206 ホトダイオード拡散部 208 基板タップ 210 電荷積分器 212 接続線 214 トランジスタ 222 コンデンサ 225 スイッチ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マルコ タルターニ イタリア国, メルドーラ, アイ− 47014, ヴィア マストリ 17 (72)発明者 アラン エイチ. クレイマー アメリカ合衆国, カリフォルニア 94708, バークレー, ヒルデイル ア ベニュー 705

Claims (37)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 イメージャにおける欠陥ピクセルをマス
    クする方法において、 (a)イメージャへ照射を付与し、 (b)前記イメージャにおける欠陥ピクセルを識別し、 (c)前記欠陥ピクセルの周りに位置している複数個の
    その他のピクセルの出力を決定し、 (d)前記複数個のその他のピクセルの出力を使用して
    前記欠陥ピクセルの出力をマスクし、それにより前記欠
    陥ピクセルのマスクされた出力を前記イメージャによっ
    て発生される画像内に与えることが可能である、上記各
    ステップを有することを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、更に、 (e)前記イメージャにおける複数個のピクセルの出力
    から画像を発生し、その場合に前記画像が前記欠陥ピク
    セルのマスクされた出力を包含している、上記ステップ
    を有することを特徴とする方法。
  3. 【請求項3】 請求項1において、前記欠陥ピクセルを
    識別する場合に、前記イメージャと関連するメモリへア
    クセスし前記イメージャ内の欠陥ピクセルの位置を決定
    することを特徴とする方法。
  4. 【請求項4】 請求項1において、前記欠陥ピクセルの
    出力をマスクする場合に、前記欠陥ピクセルの出力を専
    ら前記少なくとも1個の欠陥ピクセルを取囲む複数個の
    ピクセルの出力に基づく出力値で置換させることを特徴
    とする方法。
  5. 【請求項5】 請求項4において、前記欠陥ピクセルの
    出力を置換させる場合に、前記少なくとも1個の欠陥ピ
    クセルを取囲む少なくとも2個のピクセルの出力値を補
    間することによって得られた出力値を前記欠陥ピクセル
    へ与えることを特徴とする方法。
  6. 【請求項6】 請求項1において、更に、前記イメージ
    ャにおけるピクセルの出力をイメージを発生する前にア
    ナログ形態からデジタル形態へ変換することを特徴とす
    る方法。
  7. 【請求項7】 請求項1において、更に、前記イメージ
    ャへ照射を付与する前に、前記イメージャからの選択し
    たピクセルをテストしてそれが欠陥性であるか否かを決
    定することを特徴とする方法。
  8. 【請求項8】 請求項1において、前記イメージャのピ
    クセルが複数個のカラーを区別することが可能であり且
    つ前記欠陥ピクセルが第一カラーの照射を検知すべく指
    定されており、且つ前記欠陥ピクセルの出力をマスクす
    べく選択されている複数個のその他のピクセルが全て前
    記第一カラーの照射を検知すべく指定されていることを
    特徴とする方法。
  9. 【請求項9】 イメージャにおける欠陥ピクセルを補正
    する方法において、 (a)イメージャへ照射を付与し、 (b)前記イメージャにおける欠陥ピクセルを識別し、 (c)前記欠陥ピクセルの出力を測定し、 (d)前記欠陥ピクセルが飽和しているか否かを決定
    し、 (e)飽和しているピクセル又は飽和していないピクセ
    ルの何れかを補正すべく特に適合されているピクセル補
    正技術で前記欠陥ピクセルを補正し、その場合に前記欠
    陥ピクセルの補正した出力を前記イメージャによって発
    生される画像内に与えることが可能である、上記各ステ
    ップを有することを特徴とする方法。
  10. 【請求項10】 請求項9において、前記欠陥ピクセル
    が飽和していると決定される場合に、前記ピクセル補正
    技術が複数個のその他のピクセルの出力を使用して前記
    欠陥ピクセルの出力をマスクすることを特徴とする方
    法。
  11. 【請求項11】 請求項10において、前記欠陥ピクセ
    ルの出力をマスクする場合に、前記少なくとも1個の欠
    陥ピクセルを取囲む少なくとも2個のピクセルの出力値
    を補間することによって得られた出力値を前記欠陥ピク
    セルへ与えることを特徴とする方法。
  12. 【請求項12】 請求項9において、前記欠陥ピクセル
    が飽和されていないと決定される場合に、前記ピクセル
    補正技術が前記出力に関する動作を実施することによっ
    て前記欠陥ピクセルの出力を補正することを特徴とする
    方法。
  13. 【請求項13】 請求項12において、前記動作が、前
    記出力の大きさを増加させるか又は減少させることを特
    徴とする方法。
  14. 【請求項14】 請求項9において、前記欠陥ピクセル
    を識別する場合に、前記イメージャに関連するメモリへ
    アクセスして前記イメージャ内の欠陥ピクセルの位置を
    決定することを特徴とする方法。
  15. 【請求項15】 請求項9において、更に、前記イメー
    ジャ内のピクセルの出力を画像を発生する前にアナログ
    形態からデジタル形態へ変換することを特徴とする方
    法。
  16. 【請求項16】 請求項9において、更に、前記イメー
    ジャへ照射を付与する前に、前記イメージャからの選択
    したピクセルをテストしてそれが欠陥性であるか否かを
    決定することを特徴とする方法。
  17. 【請求項17】 欠陥性であるか否かを決定するために
    選択したピクセルをテストする方法において、 (i)前記選択したピクセルを所定の電荷へ電子的にリ
    セットし、 (ii)前記選択したピクセルの出力を読取り、 (iii)前記選択したピクセルへ与えられた所定の電
    荷に基づいて前記選択したピクセルの出力を予定値と比
    較し、その場合に、前記選択したピクセルの出力が前記
    予定値から著しく逸れている場合に、前記選択したピク
    セルが欠陥性であると指定する、上記各ステップを有す
    ることを特徴とする方法。
  18. 【請求項18】 請求項17において、更に、前記選択
    したピクセルの出力が前記予定値から著しく逸れている
    場合に、前記選択したピクセルが部分的に又は完全に崩
    壊しているか否かを決定し、その場合に、前記選択した
    ピクセルが部分的に崩壊したピクセルである場合には、
    読取り期間中に第一技術によって画像形成を行い、且つ
    前記選択したピクセルが完全に崩壊している場合には、
    読取り期間中に第二技術によって画像形成を行うことを
    特徴とする方法。
  19. 【請求項19】 請求項18において、前記選択したピ
    クセルが部分的又は完全に崩壊しているか否かを決定す
    る場合に、前記選択したピクセルの出力が前記予定値か
    らどれほど逸れているかを決定し、前記選択したピクセ
    ルの出力が前記予定値から所定量を超えて逸れている場
    合には、前記選択したピクセルが完全に崩壊しているも
    のとし、且つ前記選択したピクセルが前記予定値から所
    定量を超えることなく逸れている場合には、前記選択し
    たピクセルが部分的に崩壊しているものとすることを特
    徴とする方法。
  20. 【請求項20】 請求項18において、前記第一補正技
    術が、前記選択したピクセルの出力を調節し、且つ前記
    第二補正技術が前記選択したピクセルの出力を前記選択
    したピクセルの周りに位置している複数個のピクセルの
    出力の平均で置換させることを特徴とする方法。
  21. 【請求項21】 請求項17において、更に、前記選択
    したピクセルが欠陥性のものであることが分かった場合
    に、その位置をメモリ内に格納することを特徴とする方
    法。
  22. 【請求項22】 請求項17において、更に、前記選択
    したピクセルを電気的にリセットした後で且つ前記選択
    したピクセルの出力を読取る前に、前記選択したピクセ
    ルへ所定量のテスト照射を付与することを特徴とする方
    法。
  23. 【請求項23】 イメージャにおいて、 (a)各々に付与される照射の量又はタイプ又は量とタ
    イプの両方を表わす出力を与えることの可能な1個又は
    それ以上のピクセル、 (b)前記1個又はそれ以上のピクセルへ電気的に結合
    されており且つ前記イメージャ内の欠陥性のピクセルを
    マスクするか又は補正すべく補正する形態とされている
    1個又はそれ以上の回路要素、 前記欠陥ピクセルの位置を格納する形態とされているメ
    モリ、を有することを特徴とするイメージャ。
  24. 【請求項24】 請求項23において、前記1個又はそ
    れ以上のピクセル、前記1個又はそれ以上の回路要素、
    前記メモリが単一の集積回路チップ上に設けられている
    ことを特徴とするイメージャ。
  25. 【請求項25】 請求項23において、本イメージャが
    CMOSイメージャであり、且つ前記1個又はそれ以上
    のピクセルの各々が、ウエル内に形成されているホトダ
    イオード拡散部及び前記ウエル内に形成されているパワ
    ー又は接地へのタップを有していることを特徴とするイ
    メージャ。
  26. 【請求項26】 請求項25において、更に、前記1個
    又はそれ以上のピクセルのホトダイオード拡散部へ前記
    ピクセルのリセット状態に対応する電圧を供給すること
    の可能な1個又はそれ以上の電圧供給源を有することを
    特徴とするイメージャ。
  27. 【請求項27】 請求項26において、更に、前記ピク
    セルの出力を測定することの可能な1個又はそれ以上の
    電荷積分器を有することを特徴とするイメージャ。
  28. 【請求項28】 請求項23において、更に、前記1個
    又はそれ以上のピクセルからアナログ出力を受取り、前
    記アナログ出力をデジタル信号へ変換し、且つ前記1個
    又はそれ以上の回路要素が欠陥ピクセルを識別すること
    が可能であるように前記デジタル信号を前記1個又はそ
    れ以上の回路要素へ供給することの可能なアナログ・デ
    ジタル変換器を有していることを特徴とするイメージ
    ャ。
  29. 【請求項29】 請求項23において、複数個の前記1
    個又はそれ以上のピクセルがアレイに配列されており、
    前記複数個のピクセルにおけるピクセルの各々が別々に
    アドレス可能であることを特徴とするイメージャ。
  30. 【請求項30】 請求項23において、前記1個又はそ
    れ以上のピクセルが能動的ピクセル及び受動的ピクセル
    からなるグループから選択されたものであることを特徴
    とするイメージャ。
  31. 【請求項31】 物体の画像を発生するシステムにおい
    て、 (a)イメージャであって、 (i)1個又はそれ以上のピクセルの各々へ付与される
    照射の量又はタイプ又は量とタイプの両方を表わす出力
    を与えることの可能な1個又はそれ以上のピクセル、 (ii)前記1個又はそれ以上のピクセルへ電気的に結
    合されており且つ前記イメージャにおける欠陥ピクセル
    をマスク又は補正する形態とされている1個又はそれ以
    上の回路要素、 (iii)前記欠陥ピクセルの位置を格納する形態とさ
    れているメモリであって、前記1個又はそれ以上のピク
    セルと、前記1個又はそれ以上の回路要素と、前記メモ
    リとが単一の集積回路チップ上に設けられているメモ
    リ、を具備しているイメージャ、 (b)前記1個又はそれ以上のピクセルの出力から発生
    する画像を出力する手段、を有することを特徴とするシ
    ステム。
  32. 【請求項32】 請求項31において、前記出力手段に
    よって出力される画像が写真であることを特徴とするシ
    ステム。
  33. 【請求項33】 請求項31において、前記出力手段が
    ディスプレイであることを特徴とするシステム。
  34. 【請求項34】 請求項31において、本イメージャが
    CMOSイメージャであり、且つ前記1個又はそれ以上
    のピクセルの各々がウエル内に形成されているホトダイ
    オード拡散部と前記ウエル内に形成されているパワー又
    は接地へのタップとを有していることを特徴とするシス
    テム。
  35. 【請求項35】 請求項31において、前記イメージャ
    が、更に、前記1個又はそれ以上のピクセルからのアナ
    ログ出力を受取り、前記アナログ出力をデジタル信号へ
    変換し、且つ前記1個又はそれ以上の回路要素が欠陥ピ
    クセルを識別することが可能であるように前記デジタル
    信号を前記1個又はそれ以上の回路要素へ供給すること
    の可能なアナログ・デジタル変換器を有していることを
    特徴とするシステム。
  36. 【請求項36】 請求項31において、複数個の前記1
    個又はそれ以上のピクセルがアレイに配列されており、
    前記複数個のピクセルにおけるピクセルの各々が別々に
    アドレス可能であることを特徴とするシステム。
  37. 【請求項37】 請求項31において、前記1個又はそ
    れ以上のピクセルが能動的ピクセルと受動的ピクセルと
    からなるグループから選択されたものであることを特徴
    とするシステム。
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