JPH11248924A - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
カラーフィルターの製造方法Info
- Publication number
- JPH11248924A JPH11248924A JP4840998A JP4840998A JPH11248924A JP H11248924 A JPH11248924 A JP H11248924A JP 4840998 A JP4840998 A JP 4840998A JP 4840998 A JP4840998 A JP 4840998A JP H11248924 A JPH11248924 A JP H11248924A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dispersion
- potential
- electrolytic
- pigment
- time
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ミセル電解法によるカラーフィルターの製造
において、分散液調整後の時間経過または電解成膜の繰
り返しによる変動が小さく、安定な電解成膜を可能とす
る方法を提供する。 【解決手段】 薄膜を形成する基板上に電解酸化成膜を
行う際、電解中における対極電位が該界面活性剤の標準
酸化還元電位を基準として、−０．２５Ｖから０Ｖの範
囲内とすることにより、前記課題は改善される。また、
ミセルコロイド分散液の調製時において、超音波印加部
における該ミセルコロイド分散液の温度を２５℃以下と
することにより、分散翌日より上記特性をもつミセル電
解液の製造が可能である。
において、分散液調整後の時間経過または電解成膜の繰
り返しによる変動が小さく、安定な電解成膜を可能とす
る方法を提供する。 【解決手段】 薄膜を形成する基板上に電解酸化成膜を
行う際、電解中における対極電位が該界面活性剤の標準
酸化還元電位を基準として、−０．２５Ｖから０Ｖの範
囲内とすることにより、前記課題は改善される。また、
ミセルコロイド分散液の調製時において、超音波印加部
における該ミセルコロイド分散液の温度を２５℃以下と
することにより、分散翌日より上記特性をもつミセル電
解液の製造が可能である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶テレビ、パソ
コン用ディスプレイ等に用いられるアクティブおよびパ
ッシブカラーパネルに用いるカラーフィルターの製造方
法に関している。
コン用ディスプレイ等に用いられるアクティブおよびパ
ッシブカラーパネルに用いるカラーフィルターの製造方
法に関している。
【０００２】
【従来の技術】電気化学的に酸化還元される界面活性剤
のミセル水溶液中に、顔料粒子を分散した後、該ミセル
水溶液を電解することにより基板上に顔料膜を形成する
手法を用いたカラーフィルターの製造方法については既
に特願しており（特開平２−２４６０３号公報）、この
カラーフィルターに疎水化した導電粒子を共析させるこ
とについても特願（特開平２−２６７２９８号公報）し
ている。
のミセル水溶液中に、顔料粒子を分散した後、該ミセル
水溶液を電解することにより基板上に顔料膜を形成する
手法を用いたカラーフィルターの製造方法については既
に特願しており（特開平２−２４６０３号公報）、この
カラーフィルターに疎水化した導電粒子を共析させるこ
とについても特願（特開平２−２６７２９８号公報）し
ている。
【０００３】該電解液の製造方法は、顔料および疎水化
処理を行った導電粒子を、超音波ホモジナイザー等によ
り機械的な力を与えることにより、分散させることによ
る。
処理を行った導電粒子を、超音波ホモジナイザー等によ
り機械的な力を与えることにより、分散させることによ
る。
【０００４】上記のようにして得られた電解液中で、電
解を行うことにより、顔料および疎水化処理した導電粒
子から界面活性剤が脱離し薄膜が形成される。
解を行うことにより、顔料および疎水化処理した導電粒
子から界面活性剤が脱離し薄膜が形成される。
【０００５】該電解液を安定に製造し、また安定に電解
成膜するための手段としては、ミセル分散液の平衡濃度
を管理する方法、分散粒径を管理する方法が知られてい
る（特開平５−１０３９７４号公報、特開平６−６７０
１４号公報、特開平６−３４６２８７号公報）。また、
該電解液の温度を、分散中は４５℃以下、保存および電
解時は３０℃以下で行うことにより、安定に電解成膜を
行う方法についても特願されている（特開平７−６８１
５６号公報）。
成膜するための手段としては、ミセル分散液の平衡濃度
を管理する方法、分散粒径を管理する方法が知られてい
る（特開平５−１０３９７４号公報、特開平６−６７０
１４号公報、特開平６−３４６２８７号公報）。また、
該電解液の温度を、分散中は４５℃以下、保存および電
解時は３０℃以下で行うことにより、安定に電解成膜を
行う方法についても特願されている（特開平７−６８１
５６号公報）。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】該電解液中において薄
膜の電解形成を行う場合、薄膜を形成する基板に該界面
活性剤の酸化還元電位以上の電位をかけることにより成
膜が可能となる。しかし、時間経過または電解成膜の繰
り返しともに対極の電位が変化し、電解条件を変更しな
ければ成膜不可能となる場合があることが判明した。
膜の電解形成を行う場合、薄膜を形成する基板に該界面
活性剤の酸化還元電位以上の電位をかけることにより成
膜が可能となる。しかし、時間経過または電解成膜の繰
り返しともに対極の電位が変化し、電解条件を変更しな
ければ成膜不可能となる場合があることが判明した。
【０００７】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
することであり、ミセル電解法によるカラーフィルタの
製造において、分散液調整後の時間経過又は電解成膜の
繰り返しによる変動が小さく安定な電解成膜を可能とす
ることである。
することであり、ミセル電解法によるカラーフィルタの
製造において、分散液調整後の時間経過又は電解成膜の
繰り返しによる変動が小さく安定な電解成膜を可能とす
ることである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記問題点は、以下の手
段で解決される。
段で解決される。
【０００９】（１） 湿式電解法によりアノード電極上
に薄膜を形成する方法で、顔料粒子あるいは顔料粒子と
疎水性表面を有する透明導電粒子を、電気化学的に酸化
還元される界面活性剤および支持塩を基本成分とし、超
音波ホモジナイザーにより分散処理を行うことにより、
該顔料粒子あるいは該顔料粒子と該透明導電粒子を該界
面活性剤で取り囲んだミセルコロイド分散液を調製し、
該ミセルを電解により破壊し、アノード電極上に顔料粒
子、あるいは顔料粒子と透明導電粒子からなる薄膜を析
出させるカラーフィルターの製造方法において、電解中
における対極電位が該界面活性剤の標準酸化還元電位を
基準として、−０．２５Ｖから０Ｖの範囲内であること
を特徴とするカラーフィルターの製造方法。
に薄膜を形成する方法で、顔料粒子あるいは顔料粒子と
疎水性表面を有する透明導電粒子を、電気化学的に酸化
還元される界面活性剤および支持塩を基本成分とし、超
音波ホモジナイザーにより分散処理を行うことにより、
該顔料粒子あるいは該顔料粒子と該透明導電粒子を該界
面活性剤で取り囲んだミセルコロイド分散液を調製し、
該ミセルを電解により破壊し、アノード電極上に顔料粒
子、あるいは顔料粒子と透明導電粒子からなる薄膜を析
出させるカラーフィルターの製造方法において、電解中
における対極電位が該界面活性剤の標準酸化還元電位を
基準として、−０．２５Ｖから０Ｖの範囲内であること
を特徴とするカラーフィルターの製造方法。
【００１０】（２） 前記ミセルコロイド分散液の調製
時において、超音波印加部における該ミセルコロイド分
散液の温度を２５℃以下で製造することを特徴とする手
段１記載のカラーフィルターの製造方法。
時において、超音波印加部における該ミセルコロイド分
散液の温度を２５℃以下で製造することを特徴とする手
段１記載のカラーフィルターの製造方法。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明を実施例および比較例に基
づいて、さらに詳しく説明する。
づいて、さらに詳しく説明する。
【００１２】（実施例１）ＩＴＯ粒子と、ＣＦ用の顔料
からなる以下の組成のミセル電解液を５００ｍｌ調製し
た。
からなる以下の組成のミセル電解液を５００ｍｌ調製し
た。
【００１３】フタロシアニンブルー ５．０ｇ／ｌ ジオキサジンバイオレット １．０ｇ／ｌ フェロセニルＰＥＧ ３．７ｇ／ｌ ＬｉＢｒ（支持塩） １０．５ｇ／ｌ 疎水化処理ＩＴＯ １８．０ｇ／ｌ 原料を計量、撹拌した後、超音波ホモジナイザー（日本
精機製作所，型式：RUS600T、出力：２０ｋＨｚ、６０
０Ｗ）により９０分間分散処理を９０分間行った。この
ときの超音波印加部における処理液温度は摂氏１５．６
±１．０度であった。
精機製作所，型式：RUS600T、出力：２０ｋＨｚ、６０
０Ｗ）により９０分間分散処理を９０分間行った。この
ときの超音波印加部における処理液温度は摂氏１５．６
±１．０度であった。
【００１４】分散１日後に該ミセル電解液中に、ＩＴＯ
電極パターンを持ったガラス基板と、対極としてチタン
/白金めっき電極基板を浸漬させ、＋０．４Ｖの定電圧
で１５分電解を行った。この際、対極は、ＩＴＯ電極パ
ターン面積の４倍の面積とし、十分な大きさとした。こ
の結果ＩＴＯ電極上に青色の顔料膜が０．８７マイクロ
メートル形成された。
電極パターンを持ったガラス基板と、対極としてチタン
/白金めっき電極基板を浸漬させ、＋０．４Ｖの定電圧
で１５分電解を行った。この際、対極は、ＩＴＯ電極パ
ターン面積の４倍の面積とし、十分な大きさとした。こ
の結果ＩＴＯ電極上に青色の顔料膜が０．８７マイクロ
メートル形成された。
【００１５】さらに、分散７日後に、同一の電解条件で
成膜を行った。この結果ＩＴＯ電極上に青色の顔料膜が
０．８７マイクロメートル形成された。
成膜を行った。この結果ＩＴＯ電極上に青色の顔料膜が
０．８７マイクロメートル形成された。
【００１６】図１は、上記成膜時の薄膜を形成する基
板、および対極の電気化学的ポテンシャルを示す。図中
１１１は分散１日後の薄膜を形成する基板、１１２は対
極の電位を示す。また、図中１７１は分散７日後の薄膜
を形成する基板、１７２は対極の電位を示す。該対極電
位は、分散１日後、７日後ともに０．１９Ｖvs. SCEで
あり、界面活性剤の酸化還元電位より、０．０４Ｖ卑な
電位であった。
板、および対極の電気化学的ポテンシャルを示す。図中
１１１は分散１日後の薄膜を形成する基板、１１２は対
極の電位を示す。また、図中１７１は分散７日後の薄膜
を形成する基板、１７２は対極の電位を示す。該対極電
位は、分散１日後、７日後ともに０．１９Ｖvs. SCEで
あり、界面活性剤の酸化還元電位より、０．０４Ｖ卑な
電位であった。
【００１７】（実施例２）実施例１と同様に製造したミ
セル電解液中において、分散１日後に、ＩＴＯ電極パタ
ーンを持ったガラス基板と、対極としてチタン/白金め
っき電極基板を浸漬させ、＋０．２Ｖの定電圧で１５分
電解を行った。この際、対極は、ＩＴＯ電極パターン面
積の４倍の面積とし、十分な大きさとした。この結果Ｉ
ＴＯ電極上に青色の顔料膜が０．８４マイクロメートル
形成された。
セル電解液中において、分散１日後に、ＩＴＯ電極パタ
ーンを持ったガラス基板と、対極としてチタン/白金め
っき電極基板を浸漬させ、＋０．２Ｖの定電圧で１５分
電解を行った。この際、対極は、ＩＴＯ電極パターン面
積の４倍の面積とし、十分な大きさとした。この結果Ｉ
ＴＯ電極上に青色の顔料膜が０．８４マイクロメートル
形成された。
【００１８】さらに、分散７日後に、同一の電解条件で
成膜を行った。この結果ＩＴＯ電極上に青色の顔料膜が
０．７９マイクロメートル形成された。わずかながら成
膜速度の低下が見られたため、電解時間を１８分にした
ところ、膜厚は０．８４マイクロメーターとなり、電解
時間をわずかに変更することのみで、分散１日後と同一
の膜厚を得ることができた。
成膜を行った。この結果ＩＴＯ電極上に青色の顔料膜が
０．７９マイクロメートル形成された。わずかながら成
膜速度の低下が見られたため、電解時間を１８分にした
ところ、膜厚は０．８４マイクロメーターとなり、電解
時間をわずかに変更することのみで、分散１日後と同一
の膜厚を得ることができた。
【００１９】図２は、上記成膜時の薄膜を形成する基
板、および対極の電気化学的ポテンシャルを示す。図中
２１１は分散１日後の薄膜を形成する基板、２１２は分
散１日後の対極の電位を示す。また、図中２７１は分散
７日後の薄膜を形成する基板、２７２は分散１日後の対
極の電位を示す。該対極電位は、分散１日後、７日後と
もに０．１９Ｖvs. SCE であり、界面活性剤の酸化還
元電位より、０．０４Ｖ卑な電位であった。
板、および対極の電気化学的ポテンシャルを示す。図中
２１１は分散１日後の薄膜を形成する基板、２１２は分
散１日後の対極の電位を示す。また、図中２７１は分散
７日後の薄膜を形成する基板、２７２は分散１日後の対
極の電位を示す。該対極電位は、分散１日後、７日後と
もに０．１９Ｖvs. SCE であり、界面活性剤の酸化還
元電位より、０．０４Ｖ卑な電位であった。
【００２０】（実施例３）実施例１と同様にミセル電解
液を製造した。但し、このときの超音波印加部における
処理液温度は摂氏２４．３±１．０度であった。
液を製造した。但し、このときの超音波印加部における
処理液温度は摂氏２４．３±１．０度であった。
【００２１】分散１日後に、ＩＴＯ電極パターンを持っ
たガラス基板と、対極としてチタン/白金めっき電極基
板を浸漬させ、＋０．４Ｖの定電圧で１５分電解を行っ
た。この際、対極は、ＩＴＯ電極パターン面積の４倍の
面積とし、十分な大きさとした。この結果ＩＴＯ電極上
に青色の顔料膜が０．７５マイクロメートル形成され
た。
たガラス基板と、対極としてチタン/白金めっき電極基
板を浸漬させ、＋０．４Ｖの定電圧で１５分電解を行っ
た。この際、対極は、ＩＴＯ電極パターン面積の４倍の
面積とし、十分な大きさとした。この結果ＩＴＯ電極上
に青色の顔料膜が０．７５マイクロメートル形成され
た。
【００２２】さらに、分散５日後に、同一の電解条件で
成膜を行った。この結果ＩＴＯ電極上に青色の顔料膜が
０．７６マイクロメートル形成された。
成膜を行った。この結果ＩＴＯ電極上に青色の顔料膜が
０．７６マイクロメートル形成された。
【００２３】該対極電位は、分散１日後は、−０．０１
Ｖvs. SCE 、すなわち界面活性剤の酸化還元電位より、
０．２４Ｖ卑な電位であった。５日後においては、０．
００Ｖvs. SCE 、すなわち界面活性剤の酸化還元電位よ
り、０．２３Ｖ卑な電位であった。
Ｖvs. SCE 、すなわち界面活性剤の酸化還元電位より、
０．２４Ｖ卑な電位であった。５日後においては、０．
００Ｖvs. SCE 、すなわち界面活性剤の酸化還元電位よ
り、０．２３Ｖ卑な電位であった。
【００２４】（比較例１）実施例１と同様にミセル電解
液を製造した。但し、このときの超音波印加部における
処理液温度は摂氏２８．２±１．１度であった。
液を製造した。但し、このときの超音波印加部における
処理液温度は摂氏２８．２±１．１度であった。
【００２５】分散１日後に該ミセル電解液中に、ＩＴＯ
電極パターンを持ったガラス基板と、対極としてチタン
/白金めっき電極基板を浸漬させ、＋０．４Ｖの定電圧
で１５分電解を行ったが、ＩＴＯ電極上には膜厚０．４
５マイクロメーターの薄い膜しか形成出来なかった。さ
らに、電解時間を２０分にのばしたが、膜厚の上昇は見
られず、かえって溶出が起き、膜厚は０．４２マイクロ
メーターに減少した。
電極パターンを持ったガラス基板と、対極としてチタン
/白金めっき電極基板を浸漬させ、＋０．４Ｖの定電圧
で１５分電解を行ったが、ＩＴＯ電極上には膜厚０．４
５マイクロメーターの薄い膜しか形成出来なかった。さ
らに、電解時間を２０分にのばしたが、膜厚の上昇は見
られず、かえって溶出が起き、膜厚は０．４２マイクロ
メーターに減少した。
【００２６】分散４日後に同一の電解条件で成膜を行っ
た。この結果ＩＴＯ電極上に青色の顔料膜が０．６０マ
イクロメートル形成された。さらに分散７日後に同一の
電解条件で成膜を行った。この結果ＩＴＯ電極上に青色
の顔料膜が０．６５マイクロメートル形成された。
た。この結果ＩＴＯ電極上に青色の顔料膜が０．６０マ
イクロメートル形成された。さらに分散７日後に同一の
電解条件で成膜を行った。この結果ＩＴＯ電極上に青色
の顔料膜が０．６５マイクロメートル形成された。
【００２７】このように、分散１日後においては、成膜
時間をのばしても膜厚の上昇が見られないため、膜厚の
制御が不可能となり、カラーフィルターの製造は不可能
であった。また、時間経過とともに同一電解条件におい
ても、成膜される膜厚が大きく変化し、安定なカラーフ
ィルター製造は不可能であった。
時間をのばしても膜厚の上昇が見られないため、膜厚の
制御が不可能となり、カラーフィルターの製造は不可能
であった。また、時間経過とともに同一電解条件におい
ても、成膜される膜厚が大きく変化し、安定なカラーフ
ィルター製造は不可能であった。
【００２８】図３は、上記成膜時の薄膜を形成する基
板、および対極の電気化学的ポテンシャルを示す。図中
３１１は分散１日後の薄膜を形成する基板、３１２は分
散１日後の対極の電位、図中３４１は分散４日後の薄膜
を形成する基板、３４２は分散４日後の対極の電位、図
中３７１は分散７日後の薄膜を形成する基板、３７２は
分散７日後の対極の電位を示す。
板、および対極の電気化学的ポテンシャルを示す。図中
３１１は分散１日後の薄膜を形成する基板、３１２は分
散１日後の対極の電位、図中３４１は分散４日後の薄膜
を形成する基板、３４２は分散４日後の対極の電位、図
中３７１は分散７日後の薄膜を形成する基板、３７２は
分散７日後の対極の電位を示す。
【００２９】該対極電位は、分散１日後は、−０．０８
から０．０１Ｖvs. SCE 、すなわち界面活性剤の酸化還
元電位より、最大０．３１Ｖ卑な電位であった。４日後
においては、−０．０３から０．０５Ｖvs. SCE 、すな
わち界面活性剤の酸化還元電位より、最大０．２６Ｖ卑
な電位であった。７日後においては、０．０４から０．
１０Ｖvs. SCE 、すなわち界面活性剤の酸化還元電位よ
り、最大０．１９Ｖ卑な電位であった。
から０．０１Ｖvs. SCE 、すなわち界面活性剤の酸化還
元電位より、最大０．３１Ｖ卑な電位であった。４日後
においては、−０．０３から０．０５Ｖvs. SCE 、すな
わち界面活性剤の酸化還元電位より、最大０．２６Ｖ卑
な電位であった。７日後においては、０．０４から０．
１０Ｖvs. SCE 、すなわち界面活性剤の酸化還元電位よ
り、最大０．１９Ｖ卑な電位であった。
【００３０】
【発明の効果】以上のごとく、本発明の方法によれば、
分散翌日から同一電解条件で、電解時間のわずかな調整
のみにより、安定にカラーフィルターの製造が可能とな
る。
分散翌日から同一電解条件で、電解時間のわずかな調整
のみにより、安定にカラーフィルターの製造が可能とな
る。
【図１】実施例１における、薄膜を電解形成する電極お
よび対極の電位を示す図。
よび対極の電位を示す図。
【図２】実施例２における、薄膜を電解形成する電極お
よび対極の電位を示す図。
よび対極の電位を示す図。
【図３】比較例１における、薄膜を電解形成する電極お
よび対極の電位を示す図。
よび対極の電位を示す図。
１１１ 実施例１における、分散１日後の電解成膜時の
薄膜を電解形成する電極の電位。 １１２ 実施例１における、分散１日後の電解成膜時の
対極の電位。 １７１ 実施例１における、分散７日後の電解成膜時の
薄膜を電解形成する電極の電位。 １７２ 実施例１における、分散７日後の電解成膜時の
対極の電位。 ２１１ 実施例２における、分散１日後の電解成膜時の
薄膜を電解形成する電極の電位。 ２１２ 実施例２における、分散１日後の電解成膜時の
対極の電位。 ２７１ 実施例２における、分散７日後の電解成膜時の
薄膜を電解形成する電極の電位。 ２７２ 実施例２における、分散７日後の電解成膜時の
対極の電位。 ３１１ 比較例１における、分散１日後の電解成膜時の
薄膜を電解形成する電極の電位。 ３１２ 比較例１における、分散１日後の電解成膜時の
対極の電位。 ３４１ 比較例１における、分散４日後の電解成膜時の
薄膜を電解形成する電極の電位。 ３４２ 比較例１における、分散４日後の電解成膜時の
対極の電位。 ３７１ 比較例１における、分散７日後の電解成膜時の
薄膜を電解形成する電極の電位。 ３７２ 比較例１における、分散７日後の電解成膜時の
対極の電位。
薄膜を電解形成する電極の電位。 １１２ 実施例１における、分散１日後の電解成膜時の
対極の電位。 １７１ 実施例１における、分散７日後の電解成膜時の
薄膜を電解形成する電極の電位。 １７２ 実施例１における、分散７日後の電解成膜時の
対極の電位。 ２１１ 実施例２における、分散１日後の電解成膜時の
薄膜を電解形成する電極の電位。 ２１２ 実施例２における、分散１日後の電解成膜時の
対極の電位。 ２７１ 実施例２における、分散７日後の電解成膜時の
薄膜を電解形成する電極の電位。 ２７２ 実施例２における、分散７日後の電解成膜時の
対極の電位。 ３１１ 比較例１における、分散１日後の電解成膜時の
薄膜を電解形成する電極の電位。 ３１２ 比較例１における、分散１日後の電解成膜時の
対極の電位。 ３４１ 比較例１における、分散４日後の電解成膜時の
薄膜を電解形成する電極の電位。 ３４２ 比較例１における、分散４日後の電解成膜時の
対極の電位。 ３７１ 比較例１における、分散７日後の電解成膜時の
薄膜を電解形成する電極の電位。 ３７２ 比較例１における、分散７日後の電解成膜時の
対極の電位。
Claims (2)
- 【請求項１】 湿式電解法によりアノード電極上に薄膜
を形成する方法で、顔料粒子あるいは顔料粒子と疎水性
表面を有する透明導電粒子を、電気化学的に酸化還元さ
れる界面活性剤および支持塩を基本成分とし、超音波ホ
モジナイザーにより分散処理を行うことにより、該顔料
粒子あるいは該顔料粒子と該透明導電粒子を該界面活性
剤で取り囲んだミセルコロイド分散液を調製し、該ミセ
ルを電解により破壊し、アノード電極上に顔料粒子、あ
るいは顔料粒子と透明導電粒子からなる薄膜を析出させ
るカラーフィルターの製造方法において、電解中におけ
る対極電位が該界面活性剤の標準酸化還元電位を基準と
して、−０．２５Ｖから０Ｖの範囲内であることを特徴
とするカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２】 前記ミセルコロイド分散液の調製時にお
いて、超音波印加部における該ミセルコロイド分散液の
温度を２５℃以下で製造することを特徴とする請求項１
記載のカラーフィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4840998A JPH11248924A (ja) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | カラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4840998A JPH11248924A (ja) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | カラーフィルターの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11248924A true JPH11248924A (ja) | 1999-09-17 |
Family
ID=12802514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4840998A Withdrawn JPH11248924A (ja) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | カラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11248924A (ja) |
-
1998
- 1998-02-27 JP JP4840998A patent/JPH11248924A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Velichenko et al. | Electrodeposition PbO2–TiO2 and PbO2–ZrO2 and its physicochemical properties | |
| DE60304227T2 (de) | Elektrosynthese von nanofasern und nanokomposit-filme | |
| EP2663394B1 (fr) | Procede de synthese de particules dissymetriques (particules de janus) par electrochimie bipolaire | |
| JPH02133599A (ja) | 酸化イリジウム膜の製造方法 | |
| JP2002506485A (ja) | 多孔質フィルムとその調製方法 | |
| JPH0359998B2 (ja) | ||
| Garjonyte et al. | Investigation of electrochemical properties of FMN and FAD adsorbed on titanium electrode | |
| Steinmiller et al. | Anodic construction of lamellar structured ZnO films using basic media via interfacial surfactant templating | |
| JPH11248924A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| Shchegolkov et al. | On the Mechanism of Formation of Electrochromic WO3 Films on the Surface of Sn, Ti, ITO Electrodes in the Process of Cathodic Electrodeposition | |
| Nieto-Mendoza et al. | Investigations on electromigration phenomena for protein crystallization using crystal growth cells with multiple electrodes: effect of the potential control | |
| Shahizuan et al. | Influence of pH solution on the electrodeposition of tungsten oxide (WO3) films onto indium tin oxide (ITO)-glass substrate | |
| JP2707704B2 (ja) | 薄膜の形成方法および液晶装置用カラーフィルターおよび液晶装置 | |
| CN107857484A (zh) | 具有高光谱调节范围的钨基氧化物电致变色薄膜及其制备方法 | |
| JPH11211909A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPH03293634A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPH03293635A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| Dechen et al. | Synthesis and Characterization of Gold Nanoparticles Synthesized in Gel and Paper by Electrolysis | |
| JP3887926B2 (ja) | 透明厚膜の製造方法 | |
| JPS6343472B2 (ja) | ||
| JPH0634809A (ja) | 液晶パネル用カラーフィルタ及びその製造方法 | |
| JPH09263997A (ja) | 電解液の製造方法およびその電解液中における薄膜の製造方法並びに薄膜、ディスプレイ、電子機器 | |
| JPH09278487A (ja) | 導電粒子の製造方法およびそれを用いたカラーフィルタの製造方法およびそれを用いたカラーフィルタ並びにディスプレイパネルおよび電子機器 | |
| JP2021071556A (ja) | エレクトロクロミック素子 | |
| TWI454514B (zh) | Ａｇ－ＩＰＭＣ材料之製作方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050510 |