JPH11242212A

JPH11242212A - 透明電極基板

Info

Publication number: JPH11242212A
Application number: JP30232598A
Authority: JP
Inventors: Aritami Yonemura; 有民米村; Kaoru Iwata; 薫岩田; Hideaki Nitta; 英昭新田; Masanori Abe; 正典阿部
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1998-10-23
Filing date: 1998-10-23
Publication date: 1999-09-07

Abstract

(57)【要約】【課題】耐熱性に優れ、かつ、透明性、光学特性に優
れた光学用フイルムまたはシートを用いた液晶ディスプ
レー用基板として有用な透明電極基板を提供することを
目的とする。【解決手段】下記一般式［Ｉ］［式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は水素原子を表し、Ｘ
は炭素数５〜１０のシクロアルキレン基である。］で示
される繰り返し単位を３０モル％を越える割合で含有す
るポリカーボネート（共）重合体からなり、膜厚が５０
〜５００μmであり、かつリタデーション（Ｒｅ）が１
０ｎｍ以下である光学用フイルムまたはシートの上に透
明電極層が設けられてなる透明電極基板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、耐熱性、製膜性に
優れたポリカーボネート（共）重合体からなる光学用フ
イルムまたはシート、液晶ディスプレーに有用な新規位
相差板用配向フイルム、液晶ディスプレー用基板および
透明電極基板に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年液晶ディスプレーの進歩が著しい。
その中で、ＳＴＮ型液晶ディスプレーの進歩は、特に著
しい。このディスプレー素子において画像の視認性を向
上させるために液晶層と偏光板との間に位相差フイルム
が積層されている。この位相差フイルムは、液晶層を透
過した楕円偏光を直線偏光に変換する役割を担ってい
る。そして、その材質は主としてビスフェノール―Ａか
らなるポリカーボネートの一軸延伸フイルムが用いら
れ、実用化されている。その理由は、（１）透明性が高
い、（２）高い屈折率異方性を示す、（３）耐熱性が比
較的高いなど位相差板に要求される性質が優れているか
らである。

【０００３】しかし、ビスフェノール―Ａからなるポリ
カーボネートフイルムにも欠点がある。このフイルムは
一般にはビスフェノール―Ａからなるポリカーボネート
のジクロロメタン溶液からキャストされるが、位相差板
用や液晶基板用フイルムは厚膜であるため高濃度ドープ
からキャストする必要がある。しかしながら、このポリ
マーのジクロロメタン中での溶解度は高々、２０重量％
程度であり、溶解度は十分に高いとは言えない。しか
も、ドープではポリマーは安定せず、結晶化に伴う白濁
化やゲル化が生じる。また、製膜過程でも結晶化（白
濁）が生じる場合が多い。

【０００４】一方、ビスフェノール―Ａから得られるポ
リカーボネート以外にも、例えば特開昭５６―１３０７
０３号公報、同６３―１８９８０４号公報、特開平１―
２０１６０８号公報、同４―８４１０６号公報、同４―
８４１０７号公報などには４，４′―ジオキシジアリー
ルアルカンから得られるポリカーボネートまたは共重合
体が提案されている。さらに、特開平２―１２２０５号
公報、同２―５９７０２号公報などには４，４′―ジヒ
ドロキシジフェニルアルカンまたはこれらのハロゲン置
換体から得られるポリカーボネートが提案されている。
これらの４，４′―ジオキシジアリールアルカンあるい
は４，４′―ジヒドロキシジフェニルアルカンから得ら
れるポリカーボネートの一部は溶解性や非晶性の面では
ビスフェノール―Ａから得られるポリカーボネートより
優れているが、ガラス転移温度（以下Ｔｇと略記）が低
いために総合的に見るとビスフェノール―Ａより優れて
いるとは言えない。

【０００５】一方、液晶ディスプレーに用いる基板用フ
イルムまたはシートでは透明性、光学等方性以外に高い
耐熱性が要求される。これは、基板に透明電極用導電性
薄膜を蒸着やスパッタリング法により設けなければなら
ず、また、通常ポリイミドからなる液晶配向膜を形成し
なければならないためである。従って、従来提案されて
いるビスフェノール―Ａから得られるポリカーボネート
フイルムまたはシートでも耐熱性が十分とは言えない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、耐熱性に優
れ、かつ、透明性、光学特性に優れた光学用フイルムま
たはシートを用いた液晶ディスプレー用基板として有用
な透明電極基板を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる従
来技術の欠点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発
明に到達した。すなわち、下記一般式［Ｉ］

【０００８】

【化４】

【０００９】［式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一も
しくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｘは炭
素数５〜１０のシクロアルキレン基、炭素数７〜１５の
アラアルキレン基または炭素数１〜５のハロアルキレン
基である。］で示される繰り返し単位を３０モル％を越
える割合で含有するポリカーボネート（共）重合体を用
いることにより、かかる課題を一挙に解決することを見
いだした。

【００１０】本発明において用いられるポリカーボネー
ト（共）重合体は、前記式［Ｉ］で示される繰り返し単
位を必須成分とするものである。式中Ｒ₁〜Ｒ₄は水素原
子またはメチル基である。一般に、メチル基はＴｇを低
下させずに溶解性を上げる効果がある。式中Ｘは、炭素
数５〜１０のシクロアルキレン基、炭素数７〜１５のア
ラアルキレン基、炭素数１〜５のハロアルキレン基であ
る。

【００１１】一般に従来提案されている４，４′―ジオ
キシジアリールアルカンや４，４′―ジヒドロキシジフ
ェニルアルカンから得られるポリカーボネートは、その
具体例に見るようにＴｇはビスフェノール―Ａから得ら
れるポリカーボネートのＴｇ（１４９℃）より低い。例
えば、ビス（４―オキシフェニル）メタン（１４７
℃）、１，１―ビス（４―オキシフェニル）エタン（１
３０℃）、１，１―ビス（４―オキシフェニル）ブタン
（１２３℃）、２，２―ビス（４―オキシフェニル）ブ
タン（１３４℃）から得られるポリカーボネートのＴｇ
（括弧内の数値）からも明らかである。

【００１２】それに対して、本発明において用いられる
シクロアルキレン基を有するビスフェノールから得られ
るポリカーボネートは環構造に由来する剛直性のために
高Ｔｇが得られる。しかも、そのシクロアルカン構造に
起因する非対照性のために溶解性や非晶性はビスフェノ
ール―Ａからのポリカーボネートのそれより著しく高
い。

【００１３】本発明において用いられるＸの具体例は、
シクロアルキレン基として、１，１―シクロペンチレ
ン、１，１―シクロヘキシレン、１，１―（３，３，５
―トリメチル）シクロヘキシレン、ノルボルナン―２，
２―ジイル、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン
―８，８′―ジイル、特に原料の入手のし易さから１，
１―シクロヘキシレン、１，１―（３，３，５―トリメ
チル）シクロヘキシレンが好適に用いられる。また、ア
ラアルキレン基としては、フェニルメチレン、ジフェニ
ルメチレン、１，１―（１―フェニル）エチレン、９，
９―フルオレニレンが挙げられる。またハロアルキレン
基としては、２，２―ヘキサフルオロプロピレン、２，
２―（１，１，３，３―テトラフルオロ―１，３―ジク
ロロ）プロピレン等が好適に用いられる。これらは一種
でもよいし二種以上でもよい。

【００１４】本発明において用いられる前記式［Ｉ］で
示される構成単位以外の構成単位（共重合成分）として
は、下記一般式［ＩＩ］

【００１５】

【化５】

【００１６】［式中、Ｒａ，Ｒｂ，ＲｃおよびＲｄは同
一もしくは異なり水素原子またはメチル基であり、Ｙは
炭素数１〜６のアルキレン基である。］で示される繰り
返し単位が用いられる。Ｒａ，Ｒｂ，ＲｃおよびＲｄは
同一もしくは異なり、水素原子またはメチル基である。
Ｙは、炭素数１〜６のアルキレン基である。炭素数がそ
れを越えると溶解性や非晶性の上では有利にはたらく
が、耐熱性の上では不利になり好ましくない。好適な具
体例として、メチレン、１，１―エチレン、２，２―プ
ロピレン、２，２―ブチレン、２，２―（４―メチル）
ペンチレンが挙げられる。

【００１７】本発明においては、ポリカーボネートの総
繰り返し単位中にこれらの構成単位［Ｉ］が少なくとも
３０モル％を越える割合で含有する、好ましくは４０モ
ル％以上、さらに好ましくは５０モル％以上含まれる。
共重合比は、フイルム物性（Ｔｇ）、製膜性を勘案して
選択すればよいが、必須構成単位［Ｉ］の割合が３０モ
ル％以下ではフイルム物性や製膜性が低下するために好
ましくない。一般式（ＩＩ）で表わされる繰り返し単位
は７０モル％未満、好ましくは６０モル％以下、さらに
好ましくは５０モル％以下である。

【００１８】本発明において用いられるポリカーボネー
ト（共）重合体の分子量は特に限定はないが、一般に
は、濃度０．５ｇ／ｄｌのジクロロメタン溶液中２０℃
での粘度測定から求めた平均分子量で８，０００以上１
００，０００以下、好ましくは１０，０００以上７０，
０００以下の範囲が用いられる。それ未満では力学的強
度が十分でなく好ましくない。またそれを越えると高粘
度になりすぎて製膜性が著しく損なわれるので好ましく
ない。

【００１９】本発明において用いられるポリカーボネー
ト（共）重合体の製造法は特に限定はないが、通常用い
られているホスゲンと対応するビスフェノールとの界面
重合法、ジフェニルカーボネートとビスフェノールとの
溶融重合法が好適に用いられる。

【００２０】得られたポリカーボネートは、一般に溶液
からのキャスティング法や溶融押出法によりフイルムあ
るいはシート化される。しかし、光学用途は高度な均一
性を要求されるために、溶液からのキャスティング法が
好ましく用いられる。用いられる溶媒としては、特に限
定はないが、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２―
ジクロロエタンなどのハロアルカン類；テトラヒドロフ
ラン、１，３―ジオキソラン、１，４―ジオキサンなど
の環状エーテル類；メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、クロロ
ベンゼンなどの芳香族溶媒が用いられる。この内、ジク
ロロメタン、１，２―ジクロロエタン、テトラヒドロフ
ラン、１，３―ジオキソラン、１，４―ジオキサン、シ
クロヘキサノン、クロロベンゼン等が溶解性とドープ安
定性の上から特に好ましい。これらは一種でもよいし二
種以上の混合溶媒でもよい。濃度も特に限定はないが、
本発明の意図する位相差フイルムや液晶デイスプレー用
フイルムは厚膜にするために、１５重量％以上、好適に
は２０重量％以上の高濃度が用いられる。

【００２１】キャスティング法は、一般にはダイから溶
液を押し出すキャスティング法、ドクターナイフ法など
が好ましく用いられる。一方溶融法によるフイルムある
いはシート化は、一般の溶融押出成形法を用いればよ
い。

【００２２】膜厚は用途に応じて選択すればよいが、一
般には５０〜５００μｍ、好ましくは８０〜３００μｍ
の範囲が用いられる。それ未満では、位相差板の場合で
は屈折率異方性に基づく十分なリタデーション（複屈折
Δｎと膜厚ｄとの積）が得られないし、また液晶ディス
プレー用基板では十分に腰のある（剛直な）フイルムが
得られない。またそれを越えると製膜が困難になり好ま
しくない。それと共に位相差板用フイルムの場合は厚膜
になると僅かな延伸でリタデーションが目的地を越えて
しまうために、延伸精度が追いつかなくなり好ましくな
い。

【００２３】本発明のフイルムまたはシートはＴｇが１
５０℃以上であることが好ましい。Ｔｇが１５０℃より
低い場合には熱変形、熱収縮が大きく、剥離や像の歪、
耐久性の低下などの問題が発生する可能性がある。

【００２４】本発明の液晶ディスプレー用基板は光学等
方性が要求されために未延伸のまま用いられる。しかし
光学等方性さえ満足されれば二軸延伸してもよい。それ
に対して、位相差板は屈折率異方性を利用しているため
に一軸延伸フイルムが使用される。本発明においては一
軸延伸法としては縦一軸延伸法、テンター横一軸延伸
法、ロール延伸法などが用いられる。延伸温度は、使用
するフイルムのＴｇに依存し、一般にはＴｇ−５０℃以
上Ｔｇ＋２０℃以下、好ましくはＴｇ−３０℃以上Ｔｇ
＋１０℃以下が用いられる。それ未満では、ポリマー分
子の運動が凍結されているために均一配向が困難になり
好ましくない。また、それを越えるとポリマーの分子運
動が激しくなるために、延伸による配向の緩和が起こ
り、予期した配向度が得られないばかりか配向抑制が困
難になるために好ましくない。また、延伸倍率は、目的
とするフイルムのリターデーションの大きさに応じて適
宜選択すればよい。この値は、延伸温度、膜厚にも依存
する。一般に厚膜では、延伸倍率は小さくともよく、薄
膜では大きくとる必要がある。ＳＴＮ型液晶ディスプレ
ーに用いる位相差板のリターデーションの値は、一般に
は４００〜６５０ｎｍの範囲が用いられる。

【００２５】かくして得られた一軸延伸フイルムまたは
シートからなる位相差板は、偏光板と積層して実用に供
することが出来る。そして偏光板側に接着層を介して保
護フイルムを積層し、位相差板側は粘着層を介して離形
フイルムを積層して位相差板と偏光板が一体化した商品
形態にされる。また、ポリカーボネートは固有複屈折率
が正の樹脂であるので該一軸延伸フイルムまたはシート
と固有複屈折率が負の樹脂、例えばポリスチレン、ポリ
メチルメタクリレート等からなる一軸延伸フイルムまた
はシートとを積層して視野角依存性を増すことも出来
る。また、未延伸フイルムあるいはシートは液晶ディス
プレー用基板として用いられる。その際、その上に酸化
スズ・インジウムなどの透明電極層を積層し、その透明
電極層上に例えばポリイミド液晶配向薄膜をコーティン
グして使用される。液晶素子はこの配向膜をラビング処
理した後、二枚の積層基板を配向膜を内側にして液晶層
をサンドイッチすることにより液晶素子が完成する。

【００２６】

【発明の効果】本発明によれば、結晶化などによる濁り
のない、耐熱性の高い液晶ディスプレー用基板などの光
学フイルムやシートが提供される。また、かかるフイル
ムやシートの上に酸化スズ・インジウムなどの透明電極
層が設けられた透明電極基板が提供される。

【００２７】

【実施例】以下に、実施例により本発明を詳述する。但
し、本発明はこれに限定されるものではない。

【００２８】実施例において測定した物性は、下記の方
法により測定した。１）フイルムの機械特性：ＪＩＳＫ７１１３に準拠
して行った。２）粘度平均分子量：塩化メチレン溶液で測定した固
有粘度をＭａｒｋ―Ｈｏｕｗｉｎｋ―桜田の式に代入、
算出した。３）複屈折：神崎製紙（株）製自動複屈折計（ＫＯＢ
ＲＡ−２１ＡＤ）を使用し、５９０ｎｍの可視光におけ
る複屈折値を測定した。４）Ｔｇ：ＤｕＰｏｎｔ社製（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉ
ａｌＳｃａｎｎｉｎｇＣａｒｏｒｉｍｅｔｅｒ９１
０）を使用し昇温速度２０℃／ｍｉｎで測定した。５）光透過率：島津製作所（株）分光光度計（ＵＶ−
２４０）を使用した。

【００２９】［実施例１］１，１―シクロヘキシレンビ
ス（４―フェノール）をビスフェノール成分とするポリ
カーボネート樹脂（粘度平均分子量４５，０００）２０
重量部をジクロロメタン８０重量部に加えて、室温で５
時間攪拌することにより、透明粘ちょうな溶液を得た。
この溶液は３日間密閉状態で室温放置しても変化せず、
白濁現象やゲル化は認められなかった。得られた溶液を
ドクターナイフを用いてステンレス基板上にキャスト
し、風速２ｍ／秒の乾燥器の中で３０℃で１０分、５０
℃で３０分、１３０℃で３０分加熱して膜厚９３μｍの
透明未延伸フイルムを得た。そして得られたフイルムの
透過率は５００ｎｍの可視域で８９％であり極めて透明
性の高いものであった。また５９０ｎｍの可視光で測定
したリタデーション（Ｒｅ）は１０ｎｍ以下であり、光
学等方性が極めて高いものであった。このフイルムのＤ
ＳＣにより求めたＴｇは１７９℃であり高い耐熱性を示
した。得られたフイルムは破断強度６．８ｋｇ／ｍ
ｍ²、伸度９０％、初期モジュラスは１４５ｋｇ／ｍｍ²
であり極めて丈夫であった。こうして得られた未延伸フ
イルムをテンター法により１６５℃で１０％延伸して配
向フイルムを得た。この延伸フイルムのＲｅは４８５ｎ
ｍであり所望の複屈折性を示すフイルムを得た。

【００３０】また、上記一軸延伸フイルムを位相差板と
してＳＴＮ液晶セルの片側に適用し（図１）、白黒ディ
スプレーの液晶パネルを作成した。得られた液晶パネル
の駆動状態と非駆動状態におけるコントラスト比は１
２：１であった。

【００３１】［比較例１］２，２―プロピレンビス（４
―フェノール）（ビスフェノール―Ａ）から得られたポ
リカーボネート樹脂（分子量４３，０００）を用いて、
その他は実施例１と同様な方法で透明未延伸フイルムを
得た。このフイルムのＴｇは１４８℃であり、実施例１
で得たフイルムより低かった。

【００３２】［実施例２］１，１―シクロヘキシレンビ
ス（４―フェノール）／ビスフェノール―Ａのモル比＝
５０／５０をビスフェノール成分とするポリカーボネー
ト樹脂（粘度平均分子量３８，０００）２３重量部をジ
クロロメタン７７重量部に加えて、室温で５時間攪拌す
ることにより、透明粘ちょうな溶液を得た。この溶液は
３日間密閉状態で室温放置しても変化せず、白濁現象や
ゲル化は認められなかった。得られた溶液をドクターナ
イフを用いてステンレス基板上にキャストし、風速２ｍ
／秒の乾燥器の中で３０℃で１０分、５０℃で３０分、
１３０℃で３０分加熱乾燥して膜厚１０５μｍの透明未
延伸フイルムを得た。そして得られたフイルムの透過率
は５００ｎｍの可視域で８９％であり極めて透明性の高
いものであった。また５９０ｎｍの可視光で測定したリ
タデーション（Ｒｅ）は１０ｎｍ以下であり、光学等方
性が極めて高いものであった。このフイルムのＤＳＣに
より求めたＴｇは１６０℃であり高い耐熱性を示した。
こうして得られた未延伸フイルムをテンター法により１
４５℃で１０％延伸して配向フイルムを得た。この延伸
フイルムのＲｅは５００ｎｍであり所望の複屈折性を示
すフイルムを得た。

【００３３】［実施例３］実施例１の樹脂２３重量部を
７７重量部のジオキサンに加えて、５０℃で５時間加熱
攪拌して透明粘ちょう液を得た。このドープは３日間室
温その温度に放置しても白濁やゲル化は生じなかった。
またドクターナイフを用いてこの粘ちょう溶液からフイ
ルムをキャストして風速２ｍ／秒の乾燥器中４０℃で１
０分、６０℃で３０分、１４０℃で３０分乾燥して膜厚
１００μｍの透明未延伸フイルムを得た。そして得られ
たＴｇは１７７℃であり、実施例１で得た未延伸フイル
ムのＴｇとほぼ一致した。また、フイルムを１６５℃で
１０％延伸して得たフイルムのリタデーションはＲｅ＝
４９０ｎｍであり実施例１の延伸フイルムの値とほぼ一
致した。

【００３４】［比較例２］比較例１の樹脂を用いて実施
例３と同様に２３重量％のジオキサン溶液を得ようとし
たが溶解しなかった。そのために希釈して２０重量％の
溶液を作成した。この溶液は５時間室温で放置した結
果、結晶化に基づく白濁が生じ、一日でゲル化して製膜
には耐えなかった。このゲル状物を５０℃に加熱攪拌し
たが再溶解しなかった。溶解直後の透明溶液を用いて実
施例３の条件でキャストしたが、結晶化に基づく白化が
見られ透明性が著しく低下した。

【００３５】［実施例４〜１２］ポリカーボネートから
実施例１と同様のキャストしたフイルムの諸特性を表に
示す。いずれも高濃度に溶解し、しかも安定溶液を得
た。また、キャストした未延伸フイルムはいずれも丈夫
で透明性が高く、かつ、光学異方性が小さかった（＜１
０ｎｍ）。いずれも延伸可能であり延伸温度、延伸倍率
を制御することにより所望の光学異方性を有する延伸フ
イルムを得た。

【００３６】

【表１】

【００３７】表１中の略号と繰返し単位［Ｉ］および
［ＩＩ］の構造との対応は下記の通りである。Ａ：式［ＩＩ］中のＲａ〜Ｒｄが水素原子、Ｙが２，２
―プロピレンである繰り返し単位ＭＥ：式［ＩＩ］中のＲａ〜Ｒｄが水素原子、Ｙが２，
２―ブチレンである繰り返し単位Ｚ：式［Ｉ］中のＲ₁〜Ｒ₄が水素原子、Ｘが１，１―シ
クロヘキシレンである繰り返し単位ＡＰ：式［Ｉ］中のＲ₁〜Ｒ₄が水素原子、Ｘが１，１―
（１―フェニル）エチレンである繰り返し単位ＦＬ：式［Ｉ］中のＲ₁〜Ｒ₄が水素原子、Ｘが９，９―
フルオレニレンである繰り返し単位ＢＰ：式［Ｉ］中のＲ₁〜Ｒ₄が水素原子、Ｘが１，１―
ジフェニルフェニレンである繰り返し単位ＦＡ：式［Ｉ］中のＲ₁〜Ｒ₄が水素原子、Ｘが２，２―
ヘキサフルオロプロピレンである繰り返し単位Ｍｖ：粘度平均分子量（×１０^-4）Ｔ：光透過率（５００ｎｍ，％）

【００３８】［実施例１３］２，２―プロピレンビス
（３，５―ジメチル―４―フェノール）をビスフェノー
ル成分とするポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量２
３，０００）２３重量部を７７重量部のジクロロメタン
に加え、室温で５時間攪拌することにより、透明粘ちょ
うな溶液を得た。この溶液は３日間密閉状態で室温放置
しても変化せず、白濁現象やゲル化は認められなかっ
た。得られた溶液をキャストして、３０℃で１０分、５
０℃で３０分、１３０℃で３０分加熱乾燥して膜厚９８
μｍの透明未延伸フイルムを得た。このフイルムの透過
率は９０％であり、リタデーションは１０ｎｍ以下であ
った。そして、そのＴｇは１８０℃であり極めて耐熱性
が高かった。また、１７０℃で１０％延伸して得た配向
フイルムのリタデーションは４９５ｎｍであった。

【図面の簡単な説明】

【図１】液晶パネルの断面図を示す。

【符号の説明】

１，７：偏光板２：位相差板３，６：基板４：封止材５：液晶層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者阿部正典東京都日野市旭が丘４丁目３番２号帝人株式会社東京研究センター内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式［Ｉ］【化１】［式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は水素原子を表し、Ｘ
は炭素数５〜１０のシクロアルキレン基である。］で示
される繰り返し単位を３０モル％を越える割合で含有す
るポリカーボネート（共）重合体からなり、膜厚が５０
〜５００μmであり、かつリタデーション（Ｒｅ）が１
０ｎｍ以下である光学用フイルムまたはシートの上に透
明電極層が設けられてなる透明電極基板。
【請求項２】下記一般式［Ｉ］【化２】［式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は水素原子を表し、Ｘ
は炭素数５〜１０のシクロアルキレン基である。］で示
される繰り返し単位を３０モル％を越える割合で有し、
下記一般式［ＩＩ］【化３】［式中、Ｒａ，Ｒｂ，ＲｃおよびＲｄは同一もしくは異
なり水素原子またはメチル基であり、Ｙは炭素数１〜６
のアルキレン基である。］で示される繰り返し単位を７
０モル％未満含有するポリカーボネートからなる請求項
１記載の透明電極基板。
【請求項３】ガラス転移温度が１５０℃以上である請
求項１または２記載の透明電極基板。
【請求項４】透明電極層が酸化スズ・インジウムから
なる請求項１〜３のいずれかに記載の透明電極基板。
【請求項５】請求項１〜４記載のいずれかに記載の透
明電極基板の液晶デイスプレーへの使用。