JPH1123992A - 走査光学系及びそれを用いた画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 焦光点に焦光したレーザー光（焦線）の傾き
を高さ位置を変えることなく調整できて、被走査面上で
のレーザー光の結像性能の劣化を防止できる走査光学系
及び画像形成装置を提供すること。 【解決手段】 斜入射焦光手段１２を調整手段１０Ａに
より副走査断面内で焦光点Ｏを通り、かつ光偏向器を回
転動作させる回転軸に垂直な軸線Ｘまわりに調整可能に
回転させるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光を光偏
向器の偏向面に対し副走査断面内で斜入射させて該光偏
向器付近の焦光点に焦光させる斜入射焦光光学系の位置
を調整することにより、レーザー光の被走査面での結像
性能の劣化を防止するようにした走査光学系に関するも
のであり、レーザービームプリンタや電子写真複写機な
どの画像形成装置に好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】図１２及び図１３に従来例を示す。図１
２は一般的な走査光学系の概要構成を示す副走査断面
図、図１３は斜入射走査光学系の概要構成を示す副走査
断面図である。

【０００３】図１２に示す一般的な走査光学系では、レ
ーザー光源１０２より発したレーザー光Ａをコリメータ
レンズ１０３により平行光に変換後、絞り１０４により
所望の断面形状に成形する。焦光手段１１１は副走査断
面（Ｘ−Ｚ平面）内のみパワーを有するシリンダーレン
ズであり、絞り１０４からのレーザー光Ａをポリゴンミ
ラー１０５付近の焦光点Ｏに副走査方向（Ｘ−Ｚ方向）
のみ焦光している。この焦光点Ｏでのレーザー光Ａは紙
面に垂直な方向（Ｙ方向）に細長い形状をしており、焦
線と呼ばれる。

【０００４】ポリゴンミラー１０５に到達したレーザー
光Ａは、不図示の回転軸によりＺ方向まわりに回転され
るポリゴンミラー１０５のポリゴンミラー面（偏向面）
によりＸ−Ｙ平面内で走査され、１０６のｆθレンズで
被走査面１０７上の結像点Ｐに焦光され、ｆθ特性が達
成される。

【０００５】一方、図１３に示す斜入射走査光学系は複
数のレーザー光を一つのポリゴンミラーで走査する方法
として提案されて多く実用に供されている。

【０００６】図１３に示す斜入射走査光学系では、１０
２ａのレーザー光源と１０２ｂのレーザー光源から放射
される２本のレーザービームＡ，Ｂをコリメータレンズ
１０３ａ，１０３ｂにより平行光に変換後、絞り１０４
ａ，１０４ｂにより所望の断面形状に成形し、斜入射焦
光手段１１２ａ，１１２ｂでポリゴンミラー１０５近く
の焦光点Ｏ（もしくはこの近く）に副走査方向のみ焦光
する。

【０００７】ポリゴンミラー１０５に到達したレーザー
光Ａ，Ｂは、不図示の回転軸によりＺ方向まわりに回転
されるポリゴンミラー１０５のポリゴンミラー面（偏向
面）によりＸ−Ｙ平面内で走査され、それぞれ１０６
ａ，１０６ｂのｆθレンズで被走査面１０７上の結像点
Ｐａ，Ｐｂに焦光され、走査される。

【０００８】なお、斜入射焦光手段１１２ａ，１１２ｂ
についてシリンダー形状のレンズをレーザー光に対して
偏心して配置する技術、或いは構成要素の中にプリズム
を配置する技術が既に提案されている。

【０００９】図１２及び図１３共にポリゴンミラー１０
５近くで一度焦光する方法は倒れ補正光学系として既知
の技術である。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たように副走査断面内でレーザー光を光偏向器に対して
斜入射させる斜入射走査光学系においては、被走査面上
でのレーザー光の結像性能の向上を図る上で以下の３つ
の課題がある。

【００１１】〔課題１〕図１２に示す一般的な走査光学
系では、構成部品の精度により、焦光手段（シリンダー
レンズ）１１１がレーザー光Ａまわりに回転して配置さ
れると、被走査面１０７でのレーザー光Ａの結像性能が
著しく劣化する。このため組み立て工程において図１４
に示すような調整が行われる。

【００１２】すなわち、部品精度により焦線が１０９’
のようにポリゴンミラー面１０５ａ（Ｙ−Ｚ面）内で、
Ｙ軸に対して傾いているとき、焦光手段１１１をレーザ
ー光Ａまわりに（Ｘ軸に一致）回転させて焦線を１０９
のように所望の位置に結像するように調整する。

【００１３】ところが、図１３の斜入射走査光学系にお
いて、部品精度により焦線１０９’がポリゴンミラー面
１０５ａ（Ｙ−Ｚ面）内でＹ軸に対して傾いていると
き、同様にレーザー光まわりに斜入射走査光学系１１２
を回転させて焦線１０９’を焦線１０９のように調整す
ると、図１５のような問題が発生する。

【００１４】まず、斜入射焦光手段１１２ａ，１１２ｂ
（以下、斜入射焦光手段１１２ａ，１１２ｂの何れか一
方を代表して斜入射焦光手段１１２と記す。）に入射す
る入射レーザーＬ１まわりに斜入射焦光手段１１２を回
転させると、図１５に示すように、出射レーザーＬ２は
出射点Ｏａを回転中心とするコーン状に回転するので、
焦線１０９は焦光点ＯからはずれてＺ軸方向に移動しま
う。特にＺ軸方向への移動は斜入射走査光学系では走査
線が湾曲を起こすことが知られており、結像性能上重大
な問題となる。

【００１５】また、出射レーザーＬ２まわりに斜入射焦
光手段１１２を回転させると、入射レーザーＬ１に対し
て斜入射焦光手段１１２の光軸１２１がコーン状に偏心
し、図１３の被走査面１０７上でのレーザー光の結像性
能の大幅な劣化をまねく。

【００１６】〔課題２〕斜入射焦光手段１１２は、図１
２にような一般的な走査光学系と比べて、図１６に示す
ように、複数のレンズ（光学素子）で構成されることが
収差補正上必要なことが知られている。これは、レーザ
ー光を斜入射させるためレーザー光に対してシリンダー
レンズ１０３ａ，１０３ｂをＺ方向に偏心して配置する
ように構成としているために、レンズの球面収差が無視
できなくなることに起因する。

【００１７】図１６では、例えば、斜入射焦光手段１１
２が凹シリンダーレンズ１１３及び凸シリンダーレンズ
１１４などの光学素子により構成される。１１５は凹シ
リンダーレンズ１１３と凸シリンダーレンズ１１４の光
軸面（副走査方向（Ｘ−Ｚ方向）の光軸１３１，１４１
により形成される面）である。

【００１８】凹シリンダーレンズ１１３及び凸シリンダ
ーレンズ１１４はいずれも配置上の都合により、下方向
が切除された形状となっている。凸シリンダーレンズ１
１４は出射側が平面で入射レーザーＬ１に対して傾けて
配置され、プリズム効果をもたせてある。Ｘ−Ｙ平面に
垂直で光軸Ｒを含む面を光軸面１１５とする。

【００１９】以上のような斜入射焦光手段１１２では、
部品精度により、凹シリンダーレンズ１１３及び凸シリ
ンダーレンズ１１４の光軸面１１５が光軸Ｒまわりに回
転して配置されてしまう。すなわち、構成素子（光学素
子）の製造精度により、光軸面１１５とレンズ面１１４
ａの交線（母線）Ｃとの製造上の傾き（Ｘ−Ｙ平面との
傾き）の相対差が大きくなり、これにより図１３の被走
査面１０７でのレーザー光の結像性能が著しく劣化す
る。

【００２０】〔課題３〕さらに、上述したような複数の
シリンダーレンズ１１３，１１４で構成される斜入射焦
光手段１１２においては、部品精度のバラツキにより、
図１２のシリンダーレンズ１１１に比べて、焦点距離が
大幅にバラつく。

【００２１】斜入射焦光手段１１２の焦点距離のバラツ
キにより焦光点Ｏが図１６のようにＯ’に移動すると、
ｆθレンズ１０６ａ，１０６ｂの副走査倍率をβとすれ
ば、被走査面１０７上でのピント変動量は（ＯＯ’）β
²となり、重大な問題となる。

【００２２】このような場合、斜入射焦光手段１１２の
焦点距離のバラツキを調整する手段としては、レンズの
面間隔を調整する手段が一般である。

【００２３】しかし、図１６に示すような凹凸２枚構成
のレンズ系では、破線に示すように光軸Ｒ方向に凸シリ
ンダーレンズ１１４を移動させると、凸シリンダーレン
ズ１１４に入射する入射レーザーＬ１の幅が広くなっ
て、上側マージナル光線Ｌ１１及び下側マージナル光線
Ｌ１２が受ける球面収差の影響の差が大きくなり、ポリ
ゴンミラー１０５上ではコマ収差として影響し、図１３
の被走査面１０７でのレーザー光の結像性能が劣化す
る。

【００２４】本発明は、上記斜入射走査光学系の実情に
鑑みて為されたものであり、焦光点に焦光したレーザー
光（焦線）の傾きを高さ位置を変えることなく調整でき
て、被走査面上でのレーザー光の結像性能の劣化を防止
できる走査光学系及びそれを用いた画像形成装置を提供
することを第１の目的とする。

【００２５】第２の目的は、複数の光学素子を具備する
斜入射焦光手段の構成素子を相対的に回転調整できて、
被走査面上でのレーザー光の結像性能の向上を図ること
のできる走査光学系及びそれを用いた画像形成装置を提
供することにある。

【００２６】第３の目的は、複数の光学素子を具備する
斜入射焦光手段についてコマ収差の発生を抑えつつピン
ト調整することができて、被走査面上でのレーザー光の
結像性能の向上を図ることのできる走査光学系及びそれ
を用いた画像形成装置を提供することにある。

【００２７】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、下記の如く手段を採用した。

【００２８】即ち、第１の目的を達成する走査光学系
は、 〔１〕：光源手段から射出されたレーザー光を斜入射焦
光手段により光偏向器の偏向面に対し副走査断面内で斜
入射させて該光偏向器付近の焦光点に焦光させ、そのレ
ーザー光を該光偏向器の回転動作により結像手段を介し
て被走査面上を走査する走査光学系において、該副走査
断面内で焦光点を通り、かつ該光偏向器を回転動作させ
る回転軸に垂直な軸線まわりに該斜入射焦光手段を調整
可能に回転させる調整手段を備えることを特徴としてい
る。

【００２９】特に、 〔１−２〕：上記〔１〕の走査光学系において、該調整
手段は該斜入射焦光手段の軸線まわりへの回転量を調整
するための調整部材を有し、この調整部材が該光偏向器
を回転動作させる回転軸に垂直で、かつ該光偏向器付近
の焦光点を含む平面内に存在すること、 〔１−３〕：上記〔１〕の走査光学系において、該調整
手段は該副走査断面内で焦光点を通り、かつ該光偏向器
を回転動作させる回転軸に垂直な軸線まわりに該斜入射
焦光手段を回転自在に保持する保持部材を有しており、
該保持部材には該斜入射焦光手段の軸線まわりへの回転
量を調整する調整部材が取り付けられていることなどを
特徴とするしている。

【００３０】第２の目的を達成する走査光学系は、 〔２〕：光源手段から射出されたレーザー光を複数の光
学素子を具備する斜入射焦光手段により光偏向器の偏向
面に対し副走査断面内で斜入射させて該光偏向器付近の
焦光点に焦光させ、そのレーザー光を該光偏向器の回転
動作により結像手段を介して被走査面上を走査する走査
光学系において、該斜入射焦光手段の所望の光学素子を
該斜入射焦光手段の光軸まわりに調整可能に回転させる
調整手段を備えることを特徴としている。

【００３１】特に、 〔２−２〕：上記〔２〕の走査光学系において、該微調
手段は該斜入射焦光手段の所望の光学素子を光軸まわり
に回転自在に保持する保持部材を有しており、該保持部
材には少なくとも１カ所の接点で該光学素子が圧接さ
れ、この圧接点付近では該保持部材と該光学素子の少な
くとも何れか一方が該斜入射焦光手段の光軸を曲率中心
とする曲面形状に形成されていること、 〔２−３〕：上記〔２〕の走査光学系において、該調整
手段は該斜入射焦光手段の所望の光学素子を光軸まわり
に回転自在に保持する保持部材を有しており、少なくと
も該保持部材は２カ所の受け面で該光学素子と接触し、
この受け面は同じ又は異なる曲率に形成されて曲率中心
が該斜入射焦光手段の光軸と一致していること、 〔２−４〕：上記〔２〕の走査光学系において、該調整
手段は該斜入射焦光手段の所望の光学素子を光軸まわり
に回転自在に保持する保持部材を有しており、少なくと
も該保持部材は１カ所の突部で該光学素子の端面と接触
し、この突部は該光学素子の端面上で該斜入射焦光手段
の光軸から該端面に下ろした垂線近くに設けられている
ことなどを特徴とするしている。

【００３２】第３の目的を達成する走査光学系は、 〔３〕：光源手段から射出されたレーザー光を複数の光
学素子を具備する斜入射焦光手段により光偏向器の偏向
面に対し副走査断面内で斜入射させて該光偏向器付近の
焦光点に焦光させ、そのレーザー光を該光偏向器の回転
動作により結像手段を介して被走査面上を走査する走査
光学系において、該斜入射焦光手段の所望の光学素子を
該光偏向器を回転動作させる回転軸方向又は／及び斜入
射焦光手段の光軸まわりに該斜入射焦光手段の所望の光
学素子を調整可能に変位させる調整手段を備えることを
特徴としている。

【００３３】特に、 〔３−２〕：上記〔３〕の走査光学系において、該調整
手段は該斜入射焦光手段の所望の光学素子を回転軸方向
及び光軸まわりに変位可能に保持する保持部材を有して
おり、少なくとも該保持部材は１カ所の突部で該光学素
子の端面と接触し、この突部は該光学素子の端面上で該
斜入射焦光手段の光軸から該端面に下ろした垂線近くに
設けられていることを特徴としている。

【００３４】そして、本発明の画像形成装置は、 〔４〕：上記〔１〕乃至〔３−２〕の何れかの走査光学
系を用いていることを特徴としている。

【００３５】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る走査光学系を
添付図面に示す実施形態に基づいて、更に詳しく説明す
る。

【００３６】〔実施形態例１〕本実施形態例の走査光学
系は、例えば、レーザービームプリンタや電子写真複写
機などの画像形成装置に用いられて、所定の画像情報に
基づくレーザービームにより電子写真感光体の表面（被
走査面）上に静電潜像を形成する。

【００３７】図１は本実施形態例の走査光学系の概要構
成を示す副走査断面図、図２の（ａ）は図１に示す走査
光学系の斜入射焦光光学系及び調整機構の正面図、
（ｂ）は図１に示す走査光学系の斜入射焦光光学系及び
調整機構と光偏向器の副走査断面図である。図１及び図
２において、説明の都合上、座標系ＸＹＺ及びその原点
Ｏを図のように取る。

【００３８】図１において、２ａ，２ｂはレーザー光源
（光源手段）、３ａ，３ｂはコリメータレンズ、４ａ，
４ｂは絞り、５はポリゴンミラー（光偏向器）、６ａ，
６ｂはｆθレンズ、７は被走査面、１２ａ，１２ｂは斜
入射焦光光学系（斜入射焦光手段）である。

【００３９】図２において、１２は斜入射焦光光学系１
２ａ，１２ｂの何れか一方を代表して示したものであ
り、凹シリンダーレンズ１３と凸シリンダーレンズ１４
とにより構成されている。１５は凹シリンダーレンズ１
３及び凸シリンダーレンズ１４を取り付けた鏡体（保持
部材）であり、後述する調整ビス（調整部材）１６とで
調整手段である調整機構（回転微調手段）１０Ａを構成
している。１５１，１５２はそれぞれ鏡体１５の足、１
６は鏡体１５にねじ込まれた調整ビスである。１７は調
整機構１０Ａの鏡体１５の足１５１，１５２及び調整ビ
ス１６を受ける本体側の受け面である。５ａはポリゴン
ミラーのポリゴンミラー面（偏向面）、Ｌ１は斜入射焦
光光学系１２への入射レーザー光、Ｌ２は斜入射焦光光
学系１２から出射される出射レーザー光である。

【００４０】凹シリンダーレンズ１３及び凸シリンダー
レンズ１４は、副走査断面（Ｘ−Ｚ平面）にパワーを有
し、これと垂直な主走査方向（Ｙ−Ｚ平面）にはノンパ
ワーのシリンダーレンズであり、鏡体１５上にＸ方向に
沿って並列に配置してある。凸シリンダーレンズ１４の
出射面は平面で図のように斜めに配置することでプリズ
ムの屈折効果をもたらしている。

【００４１】本体側の受け面１７は、ポリゴンミラー５
の回転軸（図示せず）に垂直で、かつポリゴンミラー５
付近の後述する焦光点を含む平面（Ｘ−Ｙ平面）を形成
している。受け面１７には、図２の（ａ）に示すよう
に、ポリゴンミラー５の回転軸と平行なＺ軸上で鏡体１
５の足１５１，１５２が当接し、また、Ｚ軸と平行して
調整ビス１６が当接している（図２の（ａ）参照）。

【００４２】本実施形態例の走査光学系は、図１に示す
ように、それぞれのレーザー光源２ａ，２ｂから放射さ
れる２本のレーザービームＡ，Ｂをコリメータレンズ３
ａ，３ｂにより平行光に変換した後、絞り４ａ，４ｂに
より所望の断面形状に成形し、斜入射焦光光学系２ａ，
２ｂでポリゴンミラー５のポリゴンミラー面５ａ近くの
原点Ｏ（もしくはこの近く）に副走査方向のみ焦光す
る。

【００４３】このように焦光点（原点Ｏ）の近くに二つ
のビーム（レーザー光）Ａ，Ｂを焦光するメリットは、
ポリゴンミラー５をＺ方向に薄くし、慣性モーメントを
低減してポリゴンモーター（不図示）への負荷を低減す
ることにある。

【００４４】図１に示すコリメータレンズ３ａ，３ｂに
よりコリメートされた入射レーザー光Ｌ１は、図２の
（ｂ）に示すように、斜入射焦光光学系１２のＯａより
出射して副走査方向（Ｘ−Ｚ平面方向）に焦光作用を受
けながらＬ２の光路をたどり原点Ｏ近くに焦光される。
この際に、ポリゴンミラー面５ａは、ポリゴンミラー５
の回転軸を中心とする回転運動によりＸ方向に微量だけ
移動し、原点Ｏの前後でＺ方向と平行する面５ａ’及び
５ａ”になる。

【００４５】原点Ｏ近くに焦光された入射レーザー光Ｌ
１は、ポリゴンミラー面５ａの回転運動により偏向さ
れ、ポリゴンミラー面５ａにより偏向された出射レーザ
ー光Ｌ２は図１に示すｆθレンズ６ａ，６ｂで被走査面
７上に焦光、走査される。

【００４６】次に、本実施形態例の走査光学系の作用を
図３に基づいて説明する。図３は斜入射焦光光学系１２
の回転を調整するときの説明図である。

【００４７】図３に示すように、斜入射焦光光学系１２
により副走査方向に焦光作用を受けた出射レーザー光Ｌ
２は原点Ｏ近くに焦線９を結ぶ。この状態において、図
２の（ｂ）に示す調整ビス１６を鏡体１５に対し出し入
れすることにより、斜入射焦光光学系１２が原点Ｏ（Ｘ
軸）を中心に破線に示す位置に回転する。この時、焦線
９は９’へと移動するが、かならず原点Ｏを通過する。
ただし、この時の光線は入射レーザー光Ｌ１より微少量
離れた出射点Ｏａより出射した入射レーザー光Ｌ１’が
斜入射焦光光学系１２により屈折作用を受け、光路Ｌ
２’により原点Ｏを通過することになる。この時の出射
レーザー光Ｌ２，Ｌ２’はＸ軸を回転中心とするコーン
形状上に位置する。

【００４８】即ち、斜入射焦光光学系１２は、調整機構
１０Ａの調整ビス１６が鏡体１５に対し出し入れされる
ことで、鏡体１５の足１５１，１５２を支点として副走
査断面（Ｘ−Ｚ平面）内で焦光点（原点Ｏ）を通り、か
つポリゴンミラー５の回転軸に垂直な軸線としてのＸ軸
まわりに回転する。この時、斜入射焦光光学系１２の回
転軌跡はＸ軸を回転中心とする軌跡を描くので、調整ね
じ１６の出し入れ量を調整しても原点Ｏに焦光した焦線
９（又は９’）の高さ位置は変化しない。

【００４９】このように本実施形態例の走査光学系で
は、ポリゴンミラー５の回転軸（図示せず）に垂直で、
かつポリゴンミラー５付近の焦光点を含む平面（Ｘ−Ｙ
平面）上において、調整機構１０Ａの調整ビス１６を鏡
体１５に対し出し入れし、斜入射焦光光学系１２をＸ軸
まわりに回転させて焦線９の傾きを調整することで、焦
線９が原点Ｏ（焦光点）からＺ軸方向にはずれ、走査線
が湾曲して被走査面上でレーザー光の結像性能が著しく
劣化するといった不具合を防止している。

【００５０】本実施形態例では、斜入射焦光光学系１２
を凸シリンダーレンズ１３及び凸シリンダーレンズ１４
により構成した事例を示したが、かならずしも上記２枚
のレンズ構成に限定されるものではなく、１枚若しくは
３枚以上のレンズで斜入射焦光光学系１２を構成しても
よい。

【００５１】〔実施形態例２〕本実施形態例の走査光学
系は、実施形態例１の走査光学系の調整機構１０Ａに代
えて図４に示す調整機構１０Ｂを用いた他は、実施形態
例１の走査光学系と同様な構成となっている。

【００５２】本実施形態例の走査光学系に用いられる調
整機構（回転微調手段）１０Ｂは、図４に示すように、
鏡体１５に複数の調整ビス１６ａ，１６ｂ，…（本実施
形態例では２個）が設けられている。これらの調整ビス
１６ａ，１６ｂは、ポリゴンミラー５の回転軸と平行す
るＺ軸を挟むようにして受け面１７に当接している。

【００５３】本実施形態例の走査光学系は、ポリゴンミ
ラー５の回転軸（図示せず）に垂直で、かつポリゴンミ
ラー５付近の焦光点を含む平面（Ｘ−Ｙ平面）におい
て、調整機構１０Ｂの調整ビス１６ａ，１６ｂをそれぞ
れ鏡体１５に対し出し入れすることにより、原点Ｏ（Ｘ
軸）近くでの回転中心による回転を斜入射焦光光学系１
２に与えることが可能になる。従って、斜入射焦光光学
系１２を回転微調整する際に、焦線９の傾きをより高精
度に調整することができる。

【００５４】本実施形態例の走査光学系においては、斜
入射焦光光学系１２の回転量が大きいと回転中心がＸ軸
からずれる恐れがあるので、この時は受け面１７上でＹ
方向に鏡体１５を移動させて微補正してやればよい。

【００５５】〔実施形態例３〕本実施形態例の走査光学
系は、実施形態例１の走査光学系の調整機構１０Ａに代
えて図５及び図６に示す調整機構（微調手段）１０Ｃを
用いた他は、実施形態例１の走査光学系と同様な構成と
なっている。

【００５６】図５において、１３１，１４１はそれぞれ
凹シリンダーレンズ１３及び凸シリンダーレンズ１４の
副走査断面（Ｘ−Ｚ平面）の光軸を示し、Ｒは斜入射焦
光光学系１２の光軸を示す。凹シリンダーレンズ１３及
び凸シリンダーレンズ１４の光軸１３１，１４１はＸ−
Ｙ平面に平行な面１２２（以下、光軸面と記す。）を形
成し、また、斜入射焦光光学系１２の光軸ＲはＸ−Ｚ面
と同一面上にある。

【００５７】本実施形態例では、光軸Ｒまわりに凸シリ
ンダーレンズ１４を回転して凹シリンダーレンズ１３と
の相対関係を調整する。この調整により光軸面１２２と
凸シリンダーレンズ１４のレンズ面１４ａの交線（以
下、母線と記す。）Ｃの製造上の傾き（Ｘ−Ｙ平面との
傾き）の相対差を減ずることを目的とする。

【００５８】具体的な調整機構１０Ｃの構造を図６に示
す。図６は図５を出射レーザー光Ｌ２側から見た断面図
である。

【００５９】凸シリンダーレンズ１４は鏡体１５に取り
付けられている。鏡体１５には、調整ネジ１６をねじ込
むアーム１５３と、斜入射焦光光学系１２の光軸Ｒを曲
率中心とする曲面形状の受け面１５４，１５５が設けら
れている。また、鏡体１５には、凸シリンダーレンズ１
４を受け面１５４，１５５に圧接するための第１の板バ
ネ１８と、凸シリンダーレンズ１４を調整ビス１６に圧
接するための第２の板バネ１９とがそれぞれ設置されて
いる。

【００６０】鏡体１５の受け面１５４，１５５の曲率は
それぞれ異なっている。図示の例では、斜入射焦光光学
系１２の光軸Ｒから一方の角１４２を受ける鏡体１５の
受け面１５４までの距離Ｓ１を、凸シリンダーレンズ１
４の光軸Ｒから他方の角１４３を受ける鏡体の受け面１
５５までの距離Ｓ２よりも大きくしている（Ｓ１＞Ｓ
２）が、距離Ｓ１を距離Ｓ２よりも小さくすることもで
きる。

【００６１】第１の板バネ１８は、凸シリンダーレンズ
１４において鏡体１５の受け面１５４，１５５と反対側
の端面１４７を接点１８１にて押圧しており、凸シリン
ダーレンズ１４を鏡体１５の受け面１５４，１５５に常
に圧接する働きを有している。

【００６２】第２の板バネ１９は、凸シリンダーレンズ
１４において調整ビス１６と反対側の端面１４６を押圧
しており、凸シリンダーレンズ１４の他の端面１４５を
常に調整ビス１６に圧接する働きを有している。

【００６３】このような構成の調整機構１０Ｃにおいて
は、鏡体１５のアーム１５３に対し調整ビス１６を出し
入れすることにより、凸シリンダーレンズ１４の角１４
２，１４３がそれぞれ鏡体１５の受け面１５４，１５５
に沿って移動するので、凸シリンダーレンズ１４は光軸
Ｒを中心に回転することが可能になる。これにより、凹
シリンダーレンズ１３に対する凸シリンダーレンズ１４
の相対関係が調整され、図５の斜入射焦光光学系１２の
光軸面１２１と凸シリンダーレンズ１４の母線Ｃの製造
上の傾き（Ｘ−Ｙ平面との傾き）の相対差を減ずること
ができる。

【００６４】このように本実施形態例の走査光学系で
は、調整機構１０Ｃの調整ビス１６を鏡体１５に対し出
し入れし、斜入射焦光光学系１２の凸シリンダーレンズ
１４を鏡体１５の受け面１５４，１５５に沿って斜入射
焦光光学系１２の光軸Ｒを中心に回転させ、光軸Ｒまわ
りへの凸シリンダーレンズ１４の回転量を微調整するこ
とで、斜入射焦光光学系１２の凹シリンダーレンズ１３
及び／又は凸シリンダーレンズ１４が製造精度に起因し
て光軸面１２２を光軸Ｒまわりに回転されて配置されて
しまうような事態に対処している。これにより、被走査
面７上でのレーザー光の結像性能の向上を図ることがで
きる。

【００６５】本実施形態例では、凸シリンダーレンズ１
４を第１の板バネ１８と第２の板バネ１９で押圧した例
を示したが、第１の板バネ１８の接点１８１を光軸Ｒよ
り低い位置に設けることにより、第２の板バネ１９を廃
止することが可能になる。これにより調整機構１０Ｃの
構成を簡略化できる。また、鏡体１５の２カ所に受け面
１５４，１５５を形成した例を示したが、かゝる受け面
１５４，１５５と異なる鏡体１５の所望の位置に曲面形
状の他の受け面を形成して、これら全ての受け面に凸シ
リンダーレンズ１４を接触させるように構成すれば、凸
シリンダーレンズ１４を鏡体１５により安定した状態に
保持することができる。

【００６６】〔実施形態例４〕本実施形態例の走査光学
系は、実施形態例１の走査光学系の調整機構１０Ａに代
えて図７に示す調整機構（微調手段）１０Ｄを用いた他
は、実施形態例１の走査光学系と同様な構成となってい
る。

【００６７】調整機構１０Ｄは、図７に示すような形状
の鏡体１５に凸シリンダーレンズ１４が取り付けられて
いる。鏡体１５には、調整ネジ１６をねじ込むアーム１
５３と、斜入射焦光光学系１２の光軸Ｒを曲率中心とす
る曲面形状の受け面１５４，１５５が設けられている。
また、鏡体１５には、凸シリンダーレンズ１４を受け面
１５４，１５５に圧接するための板バネ１８が設置され
ている。

【００６８】鏡体１５の受け面１５４，１５５の曲率は
等しくなっており、凸シリンダーレンズ１４の光軸Ｒか
ら一方の角１４２を受ける鏡体１５の受け面１５４まで
の距離Ｓ１と、凸シリンダーレンズ１４の光軸Ｒから他
方の角１４３を受ける鏡体の受け面１５５までの距離Ｓ
２は等しい。

【００６９】板バネ１８は、凸シリンダーレンズ１４に
おいて鏡体１５の受け面１５４，１５５と反対側の端面
１４５を接点１８１にて押圧しており、凸シリンダーレ
ンズ１４を鏡体１５の受け面１５４，１５５に常に圧接
する働きを有している。

【００７０】調整ビス１６は、板バネ１８が押圧してい
る凸シリンダーレンズ１４の端面１４５に当接してい
る。

【００７１】このような構成の調整機構１０Ｄにおいて
は、鏡体１５のアーム１５３に対し調整ビス１６を出し
入れすることにより、凸シリンダーレンズ１４の角１４
２，１４３がそれぞれ鏡体１５の受け面１５４，１５５
に沿って移動するので、凸シリンダーレンズ１４は光軸
Ｒを中心に回転することが可能になる。これにより、凹
シリンダーレンズ１３に対する凸シリンダーレンズ１４
の相対関係が調整され、図５の斜入射焦光光学系１２の
光軸面１２２と凸シリンダーレンズ１４の母線Ｃの製造
上の傾き（Ｘ−Ｙ平面との傾き）の相対差を減ずること
ができる。

【００７２】このように本実施形態例の走査光学系で
は、調整機構１０Ｄの調整ビス１６を鏡体１５に対し出
し入れし、凸シリンダーレンズ１４を鏡体１５の受け面
１５４，１５５に沿って斜入射焦光光学系１２の光軸Ｒ
を中心に回転させ、光軸Ｒまわりへの凸シリンダーレン
ズ１４の回転量を微調整することで、前述の実施形態例
３の走査光学系と同様な効果を得ている。

【００７３】本実施形態例では、鏡体１５の２カ所に受
け面１５４，１５５を形成した例を示したが、かゝる受
け面１５４，１５５と異なる鏡体１５の所望の位置に曲
面形状の他の受け面を形成して、これら全ての受け面に
凸シリンダーレンズ１４を接触させるように構成すれ
ば、凸シリンダーレンズ１４を鏡体１５により安定した
状態に保持することができる。

【００７４】〔実施形態例５〕本実施形態例の走査光学
系は、実施形態例１の走査光学系の調整機構１０Ａに代
えて図８に示す調整機構（微調手段）１０Ｅを用いた他
は、実施形態例１の走査光学系と同様な構成となってい
る。

【００７５】調整機構１０Ｅは、図８に示すような形状
の鏡体１５に凸シリンダーレンズ１４が取り付けられて
いる。凸シリンダーレンズ１４には、斜入射焦光光学系
１２の光軸Ｒを曲率中心とする曲面形状の端面１４８が
形成されている。鏡体１５には、アーム１５３が設けら
れている。鏡体１５のアーム１５３には凸シリンダーレ
ンズ１４の端面１４８に接する接点１５６，１５７が設
けられている。鏡体１５には板バネ１８が設置され、凸
シリンダーレンズ１４を接点１５６，１５７に圧接して
いる。

【００７６】このような構成の調整機構１０Ｅにおいて
は、不図示の治工具により凸シリンダーレンズ１４を保
持して斜入射焦光光学系１２の光軸Ｒを中心に回転させ
る。これにより、凹シリンダーレンズ１３に対する凸シ
リンダーレンズ１４の相対関係が調整され、図５の斜入
射焦光光学系１２の光軸面１２１と凸シリンダーレンズ
１４の母線Ｃの製造上の傾き（Ｘ−Ｙ平面との傾き）の
相対差を減ずることができる。そして、凸シリンダーレ
ンズ１４を適正な位置に回転微調した後、鏡体１５と凸
シリンダーレンズ１４との空間部に接着剤２０を流入さ
せ、凸シリンダーレンズ１４を鏡体１５に固着する。

【００７７】このように本実施形態例の走査光学系で
は、凸シリンダーレンズ１４を調整機構１０Ｅの鏡体１
５の接点１５６，１５７に沿って斜入射焦光光学系１２
の光軸Ｒを中心に回転させ、光軸Ｒまわりへの凸シリン
ダーレンズ１４の回転量を微調整することで、前述の実
施形態例３の走査光学系と同様な効果を得ている。

【００７８】〔実施形態例６〕本実施形態例の走査光学
系は、実施形態例１の走査光学系の調整機構１０Ａに代
えて図９に示す調整機構（微調手段）１０Ｆを用いた他
は、実施形態例１の走査光学系と同様な構成となってい
る。

【００７９】調整機構１０Ｆは、図９に示すような形状
の鏡体１５に凸シリンダーレンズ１４が取り付けられて
いる。鏡体１５には、調整ネジ１６をねじ込むアーム１
５３と、凸シリンダーレンズ１４の端面１４６と接触す
る突部としての突起部１５８が形成されている。また、
鏡体１５には、凸シリンダーレンズ１４を突起部１５８
に圧接する板バネ１８が設置されている。鏡体１５の突
起部１５８は、凸シリンダーレンズ１４の端面１４６上
で斜入射焦光光学系１２の光軸Ｒから該端面１４６に下
ろした垂線近くに設けられている。また、突起部１５８
はその先端が円弧面状に形成されて、凸シリンダーレン
ズ１４の端面１４６上の接点１４６’から光軸Ｒまでの
距離Ｓ３の変化値を小さい値に抑えるようにしている。

【００８０】板バネ１８は、凸シリンダーレンズ１４に
おいて鏡体１５の受け面１５４，１５５と反対側の端面
１４５を接点１８１にて押圧しており、凸シリンダーレ
ンズ１４を鏡体１５の突起部１５８に常に圧接する働き
を有している。

【００８１】調整ビス１６は、板バネ１８が押圧してい
る凸シリンダーレンズ１４の端面１４５に当接してい
る。

【００８２】このように調整機構１０Ｆは、鏡体１５が
突起部１５８、板バネ１８及び調整ビス１６の３点で凸
シリンダーレンズ１４を支持している。

【００８３】このような構成の調整機構１０Ｆにおいて
は、調整ビス１６を鏡体１５のアーム１５３に対し出し
入れすることにより、凸シリンダーレンズ１４が鏡体１
５の突起部１５８に接する端面１４６の接点１４６’を
支点に傾くので、凸シリンダーレンズ１４は光軸Ｒを中
心に回転することが可能になる。これにより、凹シリン
ダーレンズ１３に対する凸シリンダーレンズ１４の相対
関係が調整され、図５の斜入射焦光光学系１２の光軸面
１２１と凸シリンダーレンズ１４の母線Ｃの製造上の傾
き（Ｘ−Ｙ平面との傾き）の相対差を減ずることができ
る。この時、鏡体１５の突起部１５８は凸シリンダーレ
ンズ１４の端面１４６上で光軸Ｒと最短距離になる接点
１４６’近くで接するので、光軸Ｒの移動変動量は小さ
くレーザー光の結像性能上問題とならない。

【００８４】このように本実施形態例の走査光学系で
は、調整機構１０Ｆの調整ビス１６を鏡体１５に対し出
し入れし、凸シリンダーレンズ１４を鏡体１５の突起部
１５８に接している接点１４６’を支点として斜入射焦
光光学系１２の光軸Ｒを中心に回転させ、光軸Ｒまわり
への凸シリンダーレンズ１４の回転量を微調整すること
で、前述の実施形態例３の走査光学系と同様な効果を得
ている。

【００８５】〔実施形態例７〕本実施形態例の走査光学
系は、実施形態例１の走査光学系の調整機構１０Ａに代
えて図１１に示す調整機構（微調整手段）１０Ｇを用い
た他は、実施形態例１の走査光学系と同様な構成となっ
ている。

【００８６】図１０は調整機構１０Ｇによるレーザー光
の焦光点の調整方法を表わす説明図である。図１０に示
すように、入射レーザー光Ｌ１の上側マージナル光線Ｌ
１１及び下側マージナル光線Ｌ１２が凹シリンダーレン
ズ１３と凸シリンダーレンズ１４とで構成される斜入射
焦光手段１２により、ポリゴンミラー面５ａ近くに焦光
されている。部品の精度上のバラツキから焦光点は所定
のＯよりずれたＯ’である。

【００８７】ここで、凸シリンダーレンズ１４を図１に
示すポリゴンミラー５の不図示の回転軸方向（軸心方
向）であるＺ方向にシフトして１４’とすると、凸シリ
ンダーレンズ１４での球面収差の変化により全系の収差
も変化して焦光点をＯに微調することが可能となる。こ
の時、上側マージナル光線Ｌ１１及び下側マージナル光
線Ｌ１２の球面収差の影響の差分は軽微であり、ポリゴ
ン近くでのコマ収差の変化も軽微で、結像性能に影響が
少ない。凸シリンダーレンズ１４は負の球面収差を有し
ている。従って凸シリンダーレンズ１４への入射光によ
って結像位置が変化する。本実施形態例はこれを利用し
ている。

【００８８】具体的な調整方法を図１１に示す。図１１
は図１０の調整方法を可能とする本実施形態例の調整機
構１０Ｇをポリゴンミラー面５ａ側から見た断面図であ
る。

【００８９】調整機構１０Ｇは、図１１に示すような形
状の鏡体１５に凸シリンダーレンズ１４が取り付けられ
ている。鏡体１５はアーム１５３を有し、このアーム１
５３には凸シリンダーレンズ１４の端面１４９と接触す
る突部としての突起部１５９が形成されている。突起部
１５９は、凸シリンダーレンズ１４の端面１４９上で斜
入射焦光光学系１２の光軸Ｒから該端面１４９に下ろし
た垂線近くに設けられている。また、突起部１５９はそ
の先端が円弧面状に形成されて、凸シリンダーレンズ１
４の端面１４９上の接点１４９’から光軸Ｒまでの距離
Ｓ４の変化値を小さい値に抑えるようにしている。

【００９０】このような構成の調整機構１０Ｇにおいて
は、凸シリンダーレンズ１４の鏡体１５への組み立て調
整時に、凸シリンダーレンズ１４が治工具（不図示）に
よりホールドされ、鏡体１５に対しての相対位置調整が
行われる。この時、観測系（不図示）で例えば図３に示
す焦線９のピント位置及び傾きを観測しながら凸シリン
ダーレンズ１４にＺ方向の高さ又は／及び光軸Ｒまわり
の微調整を与え、所望の性能に調整される。調整終了
後、鏡体１５と凸シリンダーレンズ１４との空間部に接
着剤２０１，２０２を流入させ、凸シリンダーレンズ１
４を鏡体１５に固着する。

【００９１】このように本実施形態例の走査光学系で
は、凸シリンダーレンズ１４を調整機構１０Ｇの鏡体１
５に対し、鏡体１５の突起部１５９を利用して、図１に
示すポリゴンミラー５の回転軸（不図示）方向又は／及
び斜入射焦光光学系１２の光軸Ｒまわりに変位させるこ
とで、斜入射焦光光学系１２のコマ収差の発生を抑えつ
つピント調整を行っている。これにより、図１の被走査
面７上でのレーザー光の結像性能の向上を図ることがで
きる。

【００９２】以上、説明したように、実施形態例１及び
２の走査光学系によれば、回転微調機構１０Ａ，１０Ｂ
によりポリゴンミラー５の回転軸で、かつ焦光点を通る
Ｘ軸まわりへの斜入射焦光光学系１２の回転量を調整す
ることで、焦線９の高さが変わることなく焦線９の傾き
を調整することができるので、焦線９の傾き調整が簡単
になる。また、焦線９の傾き調整により被走査面７上で
のレーザースポットの結像性能の劣化を防止できる。

【００９３】実施形態例３乃至６の走査光学系によれ
ば、調整機構１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ，１０Ｆにより斜
入射焦光光学系１２の光軸Ｒまわりへの凸シリンダーレ
ンズ１４の回転量を調整することで、斜入射焦光光学系
１２の構成素子が製造精度による母線が傾いて配置され
ることを防止でき、よって、被走査面７上でのレーザー
スポットの性能向上を図れる。

【００９４】実施形態例７の走査光学系によれば、斜入
射焦光光学系１２の一部を構成するレンズ１４を調整機
構１０Ｇによりポリゴンミラー５の回転軸方向又は／及
び斜入射焦光光学系１２の光軸Ｒまわりへの凸シリンダ
ーレンズ１４の変位量を調整することで、コマ収差の発
生を抑えつつピント調整が可能となり、よって、被走査
面７上でのレーザースポットの性能向上を図れる。

【００９５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
斜入射焦光手段を調整手段により副走査断面内で焦光点
を通り、かつ光偏向器を回転動作させる回転軸に垂直な
軸線まわりに調整可能に回転させるようにしたので、焦
光点に焦光したレーザー光（焦線）の傾きを高さ位置を
変えることなく調整できて、被走査面上でのレーザー光
の結像性能の劣化を防止できる走査光学系及びそれを用
いた画像形成装置の提供が可能となった。

【００９６】また、斜入射焦光手段の所望の光学素子を
調整手段により斜入射焦光手段の光軸まわりに調整可能
に回転させるようにしたので、複数の光学素子を具備す
る斜入射焦光手段の構成素子を相対的に回転調整でき
て、被走査面上でのレーザー光の結像性能の向上を図る
ことのできる走査光学系及びそれを用いた画像形成装置
の提供が可能となった。

【００９７】また、斜入射焦光手段の所望の光学素子を
調整手段により光偏向器を回転動作させる回転軸方向又
は／及び斜入射焦光手段の光軸まわりに調整可能に変位
させるようにしたので、複数の光学素子を具備する斜入
射焦光手段のコマ収差の発生を抑えつつピント調整する
ことができて、被走査面上でのレーザー光の結像性能の
向上を図ることのできる走査光学系及びそれを用いた画
像形成装置の提供が可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施形態例１の走査光学系の概要構成を示す副
走査断面図である。

【図２】（ａ）は同実施形態例の走査光学系における斜
入射焦光光学系及び調整機構の正面図、（ｂ）は同実施
形態例の走査光学系における斜入射焦光光学系及び調整
機構と光偏向器の副走査断面図である。

【図３】同実施形態例の走査光学系において調整機構に
より斜入射焦光光学系を回転調整する説明図である。

【図４】実施形態例２の走査光学系における斜入射焦光
光学系及び調整機構の正面図である。

【図５】実施形態例３の走査光学系において調整機構に
より斜入射焦光光学系の凸シリンダーレンズを回転調整
する説明図である。

【図６】同実施形態例の走査光学系における調整機構の
断面図である。

【図７】実施形態例４の走査光学系における調整機構の
断面図である。

【図８】実施形態例５の走査光学系における調整機構の
断面図である。

【図９】実施形態例６の走査光学系における調整機構の
断面図である。

【図１０】実施形態例７の走査光学系において調整機構
により斜入射焦光光学系の凸シリンダーレンズを変位調
整する説明図である。

【図１１】同実施形態例の走査光学系における調整機構
の断面図である。

【図１２】従来の一般的な走査光学系の概要構成を示す
副走査断面図である。

【図１３】従来の斜入射走査光学系の概要構成を示す副
走査断面図である。

【図１４】図１２に示す走査光学系での焦線の傾き調整
の説明図である。

【図１５】図１３に示す斜入射走査光学系での焦線の傾
き調整の説明図である。

【図１６】図１３に示す斜入射走査光学系での焦光点の
位置調整の説明図である。

【符号の説明】

２ａ，２ｂ レーザー光源（光源手段） ５ ポリゴンミラー（光偏向器） ５ａ ポリゴンミラー面（偏向面） ６ａ，６ｂ ｆθレンズ（結像手段） ７ 被走査面 １０Ａ〜１０Ｇ 調整機構（調整手段） １２ａ，１２ｂ、１２ 斜入射焦光光学系（斜入射
焦光手段） １３ 凹シリンダーレンズ（光学素子） １４ 凸シリンダーレンズ（光学素子） １５ 鏡体（保持手段） １６ 調整ネジ（調整部材） Ｏ 原点（焦光点） Ｘ 軸線 Ｘ−Ｙ 平面 Ｒ 光軸 １４２，１４３，１５４，１５５ 受け面 １４８ 端面 １４６，１４９ 端面 １５８，１５９ 突部 １８１ 接点

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源手段から射出されたレーザー光を斜
   入射焦光手段により光偏向器の偏向面に対し副走査断面
   内で斜入射させて該光偏向器付近の焦光点に焦光させ、
   そのレーザー光を該光偏向器の回転動作により結像手段
   を介して被走査面上を走査する走査光学系において、 該副走査断面内で焦光点を通り、かつ該光偏向器を回転
   動作させる回転軸に垂直な軸線まわりに該斜入射焦光手
   段を調整可能に回転させる調整手段を備えることを特徴
   とする走査光学系。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の走査光学系において、
   該調整手段は該斜入射焦光手段の軸線まわりへの回転量
   を調整するための調整部材を有し、この調整部材が該光
   偏向器を回転動作させる回転軸に垂直で、かつ該光偏向
   器付近の焦光点を含む平面内に存在することを特徴とす
   る走査光学系。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の走査光学系において、
   該調整手段は該副走査断面内で焦光点を通り、かつ該光
   偏向器を回転動作させる回転軸に垂直な軸線まわりに該
   斜入射焦光手段を回転自在に保持する保持部材を有して
   おり、該保持部材には該斜入射焦光手段の軸線まわりへ
   の回転量を調整する調整部材が取り付けられていること
   を特徴とする走査光学系。
4. 【請求項４】 光源手段から射出されたレーザー光を複
   数の光学素子を具備する斜入射焦光手段により光偏向器
   の偏向面に対し副走査断面内で斜入射させて該光偏向器
   付近の焦光点に焦光させ、そのレーザー光を該光偏向器
   の回転動作により結像手段を介して被走査面上を走査す
   る走査光学系において、 該斜入射焦光手段の所望の光学素子を該斜入射焦光手段
   の光軸まわりに調整可能に回転させる調整手段を備える
   ことを特徴とする走査光学系。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の走査光学系において、
   該微調手段は該斜入射焦光手段の所望の光学素子を光軸
   まわりに回転自在に保持する保持部材を有しており、該
   保持部材には少なくとも１カ所の接点で該光学素子が圧
   接され、この圧接点付近では該保持部材と該光学素子の
   少なくとも何れか一方が該斜入射焦光手段の光軸を曲率
   中心とする曲面形状に形成されていることを特徴とする
   走査光学系。
6. 【請求項６】 請求項４に記載の走査光学系において、
   該調整手段は該斜入射焦光手段の所望の光学素子を光軸
   まわりに回転自在に保持する保持部材を有しており、少
   なくとも該保持部材は２カ所の受け面で該光学素子と接
   触し、この受け面は同じ又は異なる曲率に形成されて曲
   率中心が該斜入射焦光手段の光軸と一致していることを
   特徴とする走査光学系。
7. 【請求項７】 請求項４に記載の走査光学系において、
   該調整手段は該斜入射焦光手段の所望の光学素子を光軸
   まわりに回転自在に保持する保持部材を有しており、少
   なくとも該保持部材は１カ所の突部で該光学素子の端面
   と接触し、この突部は該光学素子の端面上で該斜入射焦
   光手段の光軸から該端面に下ろした垂線近くに設けられ
   ていることを特徴とする走査光学系。
8. 【請求項８】 光源手段から射出されたレーザー光を複
   数の光学素子を具備する斜入射焦光手段により光偏向器
   の偏向面に対し副走査断面内で斜入射させて該光偏向器
   付近の焦光点に焦光させ、そのレーザー光を該光偏向器
   の回転動作により結像手段を介して被走査面上を走査す
   る走査光学系において、 該斜入射焦光手段の所望の光学素子を該光偏向器を回転
   動作させる回転軸方向又は／及び斜入射焦光手段の光軸
   まわりに該斜入射焦光手段の所望の光学素子を調整可能
   に変位させる調整手段を備えることを特徴とする走査光
   学系。
9. 【請求項９】 請求項８に記載の走査光学系において、
   該調整手段は該斜入射焦光手段の所望の光学素子を回転
   軸方向及び光軸まわりに変位可能に保持する保持部材を
   有しており、少なくとも該保持部材は１カ所の突部で該
   光学素子の端面と接触し、この突部は該光学素子の端面
   上で該斜入射焦光手段の光軸から該端面に下ろした垂線
   近くに設けられていることを特徴とする走査光学系。
10. 【請求項１０】 請求項１乃至９の何れか一項に記載の
    走査光学系を用いていることを特徴とする画像形成装
    置。