JPH11239710A - 圧力変動式吸着法及び装置系 - Google Patents

圧力変動式吸着法及び装置系

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JPH11239710A JP10346767A JP34676798A JPH11239710A JP H11239710 A JPH11239710 A JP H11239710A JP 10346767 A JP10346767 A JP 10346767A JP 34676798 A JP34676798 A JP 34676798A JP H11239710 A JPH11239710 A JP H11239710A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 供給原料混合物から多量の高純度水素を高い
Ｈ2 回収率、低い動力所要量及び床寸法ファクターで製
造するための高効率圧力変動式（ＰＳＡ）吸着法を提供
する。 【解決手段】 本発明に従ったＰＳＡ吸着法は、種々の
純度の生成物を後で使用するために分離された貯蔵タン
クで貯蔵することを包含する。床の生成物排出端で導入
される純度の増大する生成物がパージ及び再加圧工程の
間に使用される。加えて、向流減圧工程の間に床の原料
供給端で集められる異なる組成の流れは、圧力上昇工程
の間に生成物成分含量の増大する順序で床の原料供給端
で導入される。このサイクルは、従来技術のＰＳＡサイ
クルよりも高い回収率及び低い床寸法ファクターを提供
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、圧力変動式吸着
（ＰＳＡ）法及び装置系に関する。特に、本発明は、圧
力変動式吸着（ＰＳＡ）による水素ガスの製造に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】水素を製造するための様々な公知の方法
が存在する。幾つかの例として、（１）天然ガス又はナ
フサのスチームリホーミング、（２）炭化水素例えばガ
ソリン及び燃料油の接触リホーミング、及び（３）重油
又は天然ガスの部分酸化が挙げられる。これらの方法で
は、天然ガスのスチームリホーミングが水素製造のため
の最も広く使用される方法のようである。図１は、水素
を製造するためのスチームメタンリホーミング法におけ
る重要なプロセス装置を示す。図１を説明すると、供給
原料、例えば、天然ガスは、硫黄化合物を除去するため
に圧縮されて精製装置に供給される。次いで、脱硫され
た供給原料は過熱スチームと混合されそしてリホーマー
に供給されて主としてＨ2 及びＣＯを生成する。リホー
マーからの流出物流れは、熱回収装置に次いでシフトコ
ンバーターに送られて追加的な水素を生成する。シフト
コンバーターからの流出物は、プロセスの冷却及び熱回
収装置を通ってから精製装置（例えば、ＰＳＡ）に送ら
れて高純度水素を生成する。以下に、水素製造のための
従来技術の方法のうちの幾つかについて簡単な説明をす
る。
【０００３】サーカー氏他は、米国特許４０７７７７９
において、改良された四床式水素ＰＳＡ法について記載
しており、ここでは高圧リンス工程と称される並流置換
工程が各吸着剤床の減圧に先立って使用されている。床
の減圧に先立って高圧リンス工程を使用することによっ
て、軽質成分の向上した回収率が達成される。加えて、
この発明に従えば、パージ工程と再加圧工程との間で排
気工程が使用され、そして７５％Ｈ2 及び２５％ＣＯ2
の供給原料から高純度Ｈ2（９９．９９％）を高回収率
（９６．５％）で製造することができる。
【０００４】ファダラー氏他は、米国特許５５５３９８
１において、シフト転化、スクラッビング及びＰＳＡを
組み合わせることによって水素の回収率を向上させる方
法を開示している。スクラッビングによって二酸化炭素
が主として除去される。次いで、ＰＳＡによって水素が
精製される。ＰＳＡ系からの廃棄物の一部分をシフト転
化装置に再循環させることによって、水素の回収率が向
上される。実施例では、Ｈ2 は、メタン化後の典型的に
は９７％前後の供給原料からＰＳＡによって最終的には
９９．９９％まで精製することができる。回収率は、Ｐ
ＳＡ廃棄物の８０％をシフトコンバーターに再循環さ
せ、１５％を部分酸化装置に再循環させそして５％を燃
料ガスとして使用するために排出させる場合には９９％
に達することができる。
【０００５】米国特許５１５２９７５において、フォン
グ氏他は、高純度水素を製造するための方法を開示し
た。この方法における基本的な工程は、（１）ガス状炭
化水素質供給原料を部分酸化してＨ2 とＣＯとの合成ガ
ス混合物を生成し、（２）合成ガス混合物をスチームと
反応させてＣＯを主としてＣＯ2及びＨ2を含有する粗ガ
ス混合物に転化し、そして（３）粗ガス混合物をＰＳＡ
プロセスに送って高純度水素と不純物の不良ガス混合物
とを生成することを包含する。
【０００６】カプア氏他は、米国特許５５３８７０６に
おいて、炭化水素から水素及び一酸化炭素を製造する方
法を開示している。これは、部分酸化及びＰＳＡ分離、
並びに１つの可能性としての極低温蒸留よりなる。この
系は、ＰＳＡ分離を向上させそして出発物質を減じるこ
とによってより良好な性能を提供する。部分酸化反応器
は、高純度水素及び一酸化炭素を生成する。水素及び一
酸化炭素は、ＰＳＡと蒸留との組み合わせによって又は
場合によってはＰＳＡのみによってガス混合物（二酸化
炭素、メタン及び水蒸気等を含有する）から分離され
る。高級炭化水素（及び、水蒸気等）に富む少なくとも
１つの流れが反応器に再循環される。ＰＳＡ系の好まし
い具体例は、連結された吸着帯域（又は、ゼオライト５
Ａ又は１３Ｘの床）を含み、しかして各帯域において一
酸化炭素は高級炭化水素、二酸化炭素及び水蒸気よりも
強くないがしかし水素よりは強く吸着される。この発明
に従えば、基本的なＰＳＡサイクルが使用され、そして
減圧／脱着工程は２つの部分に分割される。第一部分
は、頂部床が対流的減圧を受ける間に底部床が並流的減
圧を受け、そして２つの吸着床の間で一酸化炭素が抜き
出されるところの中間減圧である。第二部分は、両方の
床に対する通常の向流的減圧である。この方法は特許請
求されるように少なくとも９８％純度の水素及び一酸化
炭素を生成することができ、そしてＰＳＡ装置に入るガ
スは約５５％のＨ2及び４２％のＣＯを有する。
【０００７】マックコームズ氏他は、米国特許４２６３
０１８において、少なくとも２つの吸着床と、空タンク
か又は充填タンクのどちらかである貯蔵タンクとを利用
する圧力変動（プレッシャースイング）式吸着法を開示
している。貯蔵タンクは床の頂部からの均等化降下ガス
を貯蔵するのに使用され、そしてこれはその後に均等化
上昇工程の間に他の床を加圧するのに使用される。この
発明では逐次的還流の戦略が実施され、ここで均等化降
下工程の間に捕らえられた空隙ガスは均等化上昇工程の
間に純度の増大する順序で戻される。加えて、この発明
は、底部−底部床均等化工程の使用を開示する。ここで
は、底部均等化上昇ガスを受け入れる床は、同時に供給
原料も受け入れ、即ち、底部−底部床均等化工程の間に
連続的な供給原料を受け入れる。
【０００８】ヤマグチ氏他は、米国特許５２５８０５９
において、少なくとも３つの吸着剤床及び供給原料流入
／供給原料流出順序保持タイプの保持塔（分離された貯
蔵タンク）を使用するＰＳＡ法を記載している。この保
持塔は、サイクルの並流減圧工程の間に回収された空隙
ガスを貯蔵するのに使用される。このガスは、次いで、
サイクルの再生工程の間に吸着剤床のパージのために使
用される。この保持塔は、ガスが混合するのを防止する
ように特別に設計されており、即ち、この保持塔には不
純物の濃度勾配が存在する。この発明は、少なくとも３
つの吸着剤床と、パージのために後に使用される並流減
圧ガスを貯蔵するための保持塔との使用に限定される。
これは、例えば、この保持塔が進行したＰＳＡサイクル
においてパージガス及び生成物加圧ガスの両方を供給す
ることができる方法について記載していない。
【０００９】バックシュ氏他は、米国特許５５６５０１
８において、ＰＳＡサイクルのパージ工程、均等化上昇
工程及び生成物加圧工程において可変純度のガスを後の
使用のために純度の増大する順序で貯蔵するための分離
された外部ガス貯蔵タンクを使用することを開示してい
る。この新規なＰＳＡサイクルによって、床寸法ファク
ター及び動力消費量の両方における有意な減少が達成さ
れる。
【００１０】基本的なＰＳＡサイクルについての多くの
変更修正が研究されそして合成ガスからの水素の製造の
ような工業的方法に応用されたけれども、なおＰＳＡ法
は、別の方法と比較したときに大規模なプラント用の水
素の高純度製造には非効率的で且つ非経済的のままであ
る。特に、現在のＰＳＡ法（上に開示したものの如き）
は両方とも、全“生成物製造”工程にわたて平均化され
る純度を有する富化生成物を生成し、そして幾つかの固
有の問題を有している。
【００１１】例えば、頂部−頂部床均等化工程の間に、
均等化上昇工程を受けている床は、純度の低下する生成
物ガスを受け入れる。従って、この均等化上昇工程の終
わりには、床の生成物排出端では最低純度のガスが生じ
る。かくして、後続の生成物製造工程の間に、生成物純
度は乱高下を示し、これは、全製造工程にわたって平均
化すると、生成物の純度を低下させる。加えて、パージ
のために使用されるガスは、生成物製造工程において他
の床から一般的に得るときには、純度の低下するもので
ある。このパージガスを貯蔵タンクから得た場合には、
一定純度のガスがパージに対して使用される。また、生
成物加圧工程が使用されるＰＳＡサイクル（この場合
に、生成物ガスは製造工程において他の床から得られ
た）にも、同様の問題（純度の低下する生成物を使用す
る）が存在する。
【００１２】典型的には、従来技術のＨ2 ＰＳＡサイク
ルでは、均等化上昇工程を受けている床は、純度の低下
する生成物ガスを受け入れる。その結果、この均等化上
昇工程の終わりに、床の生成物排出端では最低純度のガ
スが生じる。加えて、第二段階の均等化降下工程の間に
吸着材床のパージのために使用されるガスが得られた
が、これは、純度の低下する順序で使用される。均等化
及びパージ工程についてなされた説明は、生成物加圧工
程を使用したＰＳＡサイクルで使用されるガスについて
も同等に有効である。加えて、底部−底部床均等化工程
の間に、加圧されつつある床は、供給原料濃度に等しい
Ｈ2 濃度から出発して水素濃度の低下するガスを受け入
れており、そして底部−底部床均等化工程が続くにつれ
て、床の原料供給端における水素濃度は重質成分の脱着
のために低下する。
【００１３】上記の濃度の低下、即ち、Ｈ2 濃度の低下
するガスが還流及び再加圧のために使用され、しかして
プロセスの不可逆性及び混合損出、即ち、ＰＳＡプロセ
ス効率の低下が引き起こされる。例えば、パージ工程及
び頂部−頂部床均等化工程の間には、Ｈ2 濃度の低下す
るガスが還流に使用される。底部−底部床均等化工程の
間には、均等化工程の開始時のＨ2 モル分率は約０．７
４０３（合成ガスの供給原料濃度と同じ）であり、そし
て底部−底部均等化が進むにつれて床の原料供給端にお
ける水素のモル分率は約０．７４から約０．６５に低下
する。かくして、従来技術のＰＳＡサイクルにおいて所
望の生成物純度を維持するためには、製造及び均等化降
下工程は、床が破過するのに要する時間よりもずっと早
めに終了されなければならない。これは、吸着剤床の不
完全な利用をもたらす。
【００１４】更に、純度の低下する生成物を使用するこ
とによって、例えば、パージ及び再加圧工程の間に、還
流工程の終わりにおける最低純度の生成物ガスの使用の
ために床の生成物排出端の追加的な汚染が生じる。床の
生成物排出端のこの増加された汚染は、生成物製造工程
の早期段階において生成物純度の有意の低下を生じる。
これは、生成物の平均純度の低下をもたらし、又は所定
の純度の場合には生成物（軽質成分）回収率の有意の低
下をもたらす。加えて、純度の低下する生成物ガスを使
用することによって、物質移動帯域の拡がりが増大され
る。最後に、物質移動帯域を抑制し且つ生成物純度を維
持するためには、より多くの吸着剤が要求され、このこ
とは、より大きい床寸法ファクター及びよりコスト高の
ＰＳＡプロセスをもたらす。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】それ故に、本発明の目
的は、水素供給原料混合物（例えば、合成ガス）から多
量の高純度水素を従来技術のＰＳＡサイクルよりも高い
Ｈ2 回収率、低い動力所要量及び床寸法ファクターで製
造するための高効率ＰＳＡ法を提供することである。本
発明の他の目的は、ＰＳＡサイクルの異なる工程におい
て使用することができ、又は１つの工程内において特定
の時間で使用するための多種純度の生成物を製造するこ
とである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】発明の概要 本発明は好ましくは、分離された貯蔵タンクにおいて種
々の純度の生成物を後続の使用のために貯蔵することを
包含するＰＳＡ法からなる。床の生成物排出端で導入さ
れる純度の増大する生成物は、パージ及び再加圧工程の
間に使用されることができる。加えて、向流減圧工程の
間に床の原料供給端で集められる異なる組成の流れは、
上昇加圧工程の間に生成物含量の増大する順序で床の原
料供給端で導入される。このサイクルは、濃度の逆転を
有しない従来技術のＰＳＡサイクルよりも高い生成物回
収率及び低い床寸法ファクターをもたらす。
【００１７】他の目的、特徴及び利益は、当業者には、
好ましい具体例及び添付図面についての以下の説明から
明らかになるであろう。
【００１８】
【発明の実施の形態】発明の具体的な説明 本発明は、従来技術のＰＳＡ法に存在するプロセス不可
逆性及びそれに関連するガス混合損出を減少させること
による水素製造のための高効率ＰＳＡ法を開示するもの
である。
【００１９】本発明は、次の特徴、（１）床の両端にお
いて逐次的還流、即ち、ＰＳＡサイクルの再加圧工程の
間に床の生成物排出端において純度の増大する順序で生
成物（軽質成分）そして原料供給端において水素（軽質
成分）濃度の増大する順序でガスを使用する新規なＰＳ
Ａサイクル、（２）分離された貯蔵タンクの使用による
プロセス不可逆性及びガス混合損出の減少、（３）二床
式及び四床式ＰＳＡ法に対して逐次的還流を使用する新
規なＰＳＡサイクル、（４）向上されたＨ2回収率及び
生産性、並びに（５）床の両端における濃度の逆転によ
る、即ち、床の両端における分離された貯蔵タンクの使
用による同時的な頂部−頂部及び底部−底部均等化、を
有するものである。
【００２０】還流の開始時に最低水素純度のガス、続い
てパージ及び再加圧工程の間で水素純度の増大するガス
を使用するために、多種水素濃度の生成物を生成するこ
とが必要である。本発明に従えば、還流（パージ及び頂
部−頂部床均等化）に対する最高純度のガスが最後に使
用され、そして再加圧工程の間に原料供給端においても
Ｈ2 濃度の増大するガスが使用される。かくして、本発
明では、床の両端においてＨ2 濃度の逆転、即ち、床の
両端において分離された貯蔵タンクの使用が必要であ
る。
【００２１】パージ及び加圧に対して多種純度の生成物
が要求されるので、ＰＳＡサイクルは必然的により複雑
になり、そして幾つかの操作態様を考えることができ
る。例えば、床の両端において水素濃度の逆転が要求さ
れる場合には、床の各端において１つずつ２個の分離さ
れた貯蔵タンクを使用することができる。典型的な分離
された貯蔵タンクの設計は、ヤマグチ氏他が米国特許５
２５８０５９に記載したタイプのものであってよく、又
は、吸着剤若しくは不活性物質の層を充填した容器であ
ってよく、或いは、単に混合抑制用のそらせ板を収容す
る空の塔であってもよい。
【００２２】本発明に従ってＰＳＡサイクルに分離され
た貯蔵タンクを組み込むことによって、パージ及び再加
圧に対して水素濃度の増大する順序で使用することがで
きる多種水素濃度のガスを貯蔵することができる。例え
ば、均等化降下工程の間に集められたガスは分離された
貯蔵タンク中に貯蔵される。均等化上昇工程の開始時
に、分離された貯蔵タンクからの最低純度のガスが最初
に消費され、次いで純度の増大する生成物が後の時間で
使用される。かくして、均等化降下工程の間に、純度の
低下する生成物ガスが分離された貯蔵タンクに入り、そ
して均等化上昇工程の間に逆の順序（生成物純度の増大
する順序）で貯蔵タンクを出る。同様に、床の原料供給
端において他の分離された貯蔵タンクを使用することに
よって、減圧間に原料供給端で集められたガスは、底部
−底部均等化上昇工程の間に水素濃度の増大する順序で
使用される。
【００２３】床の両端において純度の逆転を容易にする
ためにＰＳＡサイクに分離された貯蔵タンクを組み込む
ことによって、従来技術のサイクルと比較して、より大
きなプロセス融通性及び効率向上が可能になる。特に、
所定のＰＳＡサイクルについて言えば、本発明に従って
床の両端に分離された貯蔵タンクを含めると、パージ及
び再加圧工程の間に例えば頂部−頂部及び底部−底部床
均等化工程の間に水素濃度の逆転を使用しないＰＳＡサ
イクルと比較して１０〜１５％高いＨ2回収率が提供さ
れる。
【００２４】本発明の好ましい具体例は、床の一端又は
両端から得られる種々の純度のガスを貯蔵するためにＰ
ＳＡサイクルにおいて分離された貯蔵タンクを使用する
ことよりなる。次いで、これらの可変純度のガスは、純
度の増大する順序でパージ及び再加圧のために使用され
る。
【００２５】例えば、底部−底部床均等化工程では、最
低水素濃度のガスが原料供給端において再加圧の早期段
階で使用され、次いで水素含量が供給原料濃度まで増大
するガスが再加圧の後の段階で使用される。かくして、
底部−底部均等化上昇工程の終了時では、床の原料供給
端における濃度は供給原料ガスの濃度と一致する。後続
の原料供給工程の間に、床の原料供給端における濃度は
流入する供給原料と正確に整合し、これによって、ＰＳ
Ａ法におけるプロセス不可逆性及び混合損出が減少され
る。
【００２６】加えて、床の生成物排出端では、Ｈ2 純度
の増大するガスがパージ及び再加圧のために使用され
る。床の両端における逆濃度の使用は、従来技術のＰＳ
Ａサイクルとは全く異なる。これらのサイクルでは、一
定純度の生成物又は純度の低下する生成物（製造工程に
おいて他の床から得られた）が床の頂部において還流の
ために使用され、そしてＨ2 純度の低下するガスが底部
−底部均等化工程の間に使用される。かくして、分離さ
れた貯蔵タンクの組み込みは、還流及び再加圧のために
多種純度のガスが床の両端において種々の量で生成する
のを可能にする。また、高圧吸着工程の間に追加的な分
離貯蔵タンクを使用して種々の純度のガスを捕えること
によって、プロセスは、顧客の製品需要を満たすのに必
要な量で各純度のガスを供給するための能力を備える。
【００２７】ここで、添付図面及び特に好ましい具体例
を参照しながら本発明のＰＳＡ法を説明する。ＰＳＡプ
ロセスへの供給原料は、Ｈ2が約７４％、ＣＯ2が２２．
５％そしてＣＯ、ＣＨ4、Ｎ2及びＨ2Ｏが微量レベルの
組成を有する合成ガスである。
【００２８】図２は、高純度水素の製造のために合成ガ
スから不純物を除去するための３つの吸着剤層を収容す
るＰＳＡ吸着塔を示す。第一層（Ｂ１）は主として合成
ガスからＨ2Ｏ を除去し、そして吸着剤はアルミナ又は
ゼオライト−Ｙ或いはゼオライト−Ｙ混合アルミナであ
る。大量分離帯域と一般に称される第二層（Ｂ２）は合
成ガスから主としてＣＯ2 を除去し、そして吸着剤は活
性炭又はゼオライトである。第三層（Ｂ３）は、所望の
生成物として高純度水素を生成するために残留不純物を
除去するゼオライト基材吸着剤である。
【００２９】本発明の基本的な特徴は、合成ガスからの
Ｈ2 製造の四床式ＰＳＡ法の操作について説明すること
によって例証することができる。本発明の範囲は水素の
製造に限定されるものではなく、本発明の基本特徴は、
他のＰＳＡ分離法、例えば、吸着剤としてゼオライトを
使用して酸素を製造する空気分離に、又はＯ2 選択性吸
着剤を使用して空気からＮ2 を製造するのにも応用する
ことができることに注目されたい。また、系の方法／装
置は、種々の精製法において、例えば、超高純度アルゴ
ンを製造する粗アルゴンの精製において使用することも
できる。加えて、本発明の特徴は合成ガスからＨ2 を製
造する四床式ＰＳＡ法を使用して例示されるけれども、
この方法は、四床よりも少ない床又は四床よりも多い床
でも使用することができる。
【００３０】四床式水素サイクルでは、好ましい全サイ
クル時間は約２〜約１６分の範囲内であってよく、そし
てより好ましくは２〜８分の範囲内である。回収される
水素の純度は、好ましくは水素約９９〜約９９．９９９
９容量％、より好ましくは９９．９９容量％である。好
ましい生成物回収率は約８０〜約９５％の範囲内であ
り、好ましくは９５％である。
【００３１】図３は、４つの吸着剤床、供給原料圧縮機
又は送風機、及び３つの分離された貯蔵タンク（ＳＴ
１、ＳＴ２及びＳＴ３）、並びに関連する管路及び弁よ
りなる四床式ＰＳＡ法の概略図である。
【００３２】本発明をより具体的に説明するために、四
床式ＰＳＡ法を使用して合成ガスからＨ2を製造する実
施例によって好ましい特徴を例示する。図面においてす
べての弁はコンピューターシステム及びプログラム論理
によって電子操作される。
【００３３】床Ｂが生成物加圧（ＰＰ）工程を完了した
後にサイクルが開始することを考える。ここで図３〜４
を参照して、以下は、好ましい操作態様を使用して床Ｂ
が受ける工程の順序を記載するものである。ＡＤ＝吸
着、ＰＰ＝生成物加圧、ＥＱＤ＝均等化降下、ＰＰＧ＝
パージガス供給、ＢＤ＝ブローダウン、ＰＧ＝パージ、
ＥＱＵ＝均等化上昇、を意味するものとする。
【００３４】工程Ｉ：（ＡＤ）：供給原料ガス（例え
ば、合成ガス）が床の底部に導入され、そして生成物が
頂部から抜き出される。本発明の実施例では、供給原料
ガスが床を通って流れるのを可能にするために弁１２、
４２、７７及び７８（図３を参照）が開かれる。
【００３５】工程II：（ＡＤ及びＰＰ）：弁１２、４
２、７７及び７８は、工程Ｉにおける如く開いたままで
ある。加えて、弁４３が開かれる。これは、床Ｃに生成
物加圧ガスを供給する。
【００３６】工程III：（ＥＱＤ）： 弁１２、４２、４
３、７７及び７８が閉じられる。弁３２、６２、７１及
び７５は開いている。床は、部分減圧するようにされ
る。弁３２及び７５は、床Ｂの底部からのガスが底部均
等化容器である分離タンクＮｏ．３（ＳＴ３）を加圧す
るのを可能にする。弁６２及び７１は、床Ｂの頂部から
のガスが頂部均等化容器である分離タンクＮｏ．１（Ｓ
Ｔ１）を加圧するのを可能にする。これらの貯蔵容器
は、米国特許５２５８０５９（ヤマグチ氏他、１９９
３）に記載されるように流通型でありそしてそらせ板が
付設されている。
【００３７】工程IV：（ＰＰＧ）：弁３２、６２、７１
及び７５が閉じられる。弁５２及び７３が開かれる。床
は、パージ容器である分離タンクＮｏ．２（ＳＴ２）の
底部に生成物パージガスを供給しながら減圧し続ける。
再び、この貯蔵容器は、先に記載したように流通型であ
りそしてそらせ板が付設されている。
【００３８】工程Ｖ：（ＢＤ）：弁５２及び７３が閉じ
られる。弁２２が開かれる。床は、最低の床圧が得られ
るまでスチームメタンリホーマーにバーナーバスを供給
しながら減圧し続ける。
【００３９】工程VI：（ＰＧ）：弁２２は開いたままで
ある。弁５２及び７３が開かれる。床は、パージ貯蔵容
器（ＳＴ２）の底部からのガスを使用して頂部から向流
パージされる。
【００４０】工程 VII：（ＥＱＵ）：弁５２及び７３が
閉じられる。弁３２、６２、７１及び７５が開かれる。
床は、頂部及び底部の均等化容器（ＳＴ１及びＳＴ３）
の両方からの均等化ガスで同時に加圧される。
【００４１】工程VIII：（ＰＰ）：弁３２、６２、７１
及び７５が閉じられる。弁４１が開かれる。加圧は、吸
着工程にある床Ａによって供給される生成物を使用して
最高操作圧まで続く。
【００４２】表１及び２は、３つの吸着剤層を使用する
操作条件及びＰＳＡプロセス性能の例を示す（例えば、
図２におけるように、原料供給端におけるアルミナ（Ｂ
１）、それに続く活性炭（Ｂ２）、次いで床の生成物排
出端におけるＮａ−Ｙゼオライト（Ｂ３））。表１で
は、結果は、床の両端においてパージ及び再加圧工程の
間に濃度の逆転を達成するのに分離タンクが使用される
ところの本発明に従ったものである。表２における比較
データは、全く同じＰＳＡサイクルからのものであるが
しかし濃度の逆転を行わない場合である。明確にするた
めに、表２の結果を得るのに使用されたＰＳＡサイクル
を図５に示す。図４及び５から、ＰＳＡサイクルにおけ
る唯一の相違点は、図４では床の両端においてパージ及
び再加圧工程の間に濃度の逆転を達成するのに分離タン
クが使用されていることであるが分かる。
【００４３】両方の表において、各記号は次の意味を有
する。即ち、ｋＰａ １０００ Ｐａ＝圧力のＳ．Ｉ．単
位（１．０気圧＝１０１．３２５ｋＰａ）、ｓ＝秒単位
の時間、ｍ＝メートル、及びＮＣＦＨ＝標準立方フィー
ト／Ｈｒである。
【００４４】表１：図２〜４に示される四床式ＰＳＡプ
ロセスにおいて本発明及び３つの吸着剤床を使用する非
限定的な例。以下に示す結果は、供給原料として合成ガ
ス（乾燥基準で７４．０３％のＨ2、２２．５４％のＣ
Ｏ2、０．３６％のＣＯ、２．１６％のＣＨ4、及び０．
９１％のＮ2）を使用するＰＳＡシミュレーションから
得られた。供給原料は、典型的には、約１５００ｐｐｍ
のＨ2Ｏを含有する。
【００４５】
【表１】 層１吸着剤： アルミナ 層１床高さ： ０．１２７０ｍ アルミナの量： ９７．６６６Ｋｇ／床 層２吸着剤： 活性炭 層２床高さ： １．７９０７ｍ 活性炭の量： ９００Ｋｇ／床 層３吸着剤： Ｎａ−Ｙゼオライト 層３床高さ： ０．１２７０ｍ ゼオライトの量： ５１４Ｋｇ／床 サイクル時間（ｓ）： ９６０ 高圧： １１８７．５３ｋＰａ 低圧： １４４．５７ｋＰａ 供給量： １８４．１ ＮＣＦＨ 水素純度： ９９．５５％ 水素回収率： ８０．１１％ 温度（Ｋ）： ３００
【００４６】表２：分離されたタンクを使用せずに即ち
床のいずれの端においても濃度の逆転を使用しないで図
５に示す四床式ＰＳＡプロセスで３つの吸着剤層を使用
する例。以下に示す結果は、供給原料として合成ガス
（乾燥基準で７４．０３％の Ｈ2、２２．５４％のＣＯ
2、０．３６％のＣＯ、２．１６％のＣＨ4、及び０．９
１％のＮ2 ）を使用するＰＳＡシミュレーションから得
られた。供給原料は、典型的には、約１５００ｐｐｍの
Ｈ2Ｏを含有する。
【００４７】
【表２】 層１吸着剤： アルミナ 層１床高さ： ０．１２７０ｍ アルミナの量： ９７．６６３Ｋｇ／床 層２吸着剤： 活性炭 層２床高さ： １．７９０７ｍ 活性炭の量： ９００Ｋｇ／床 層３吸着剤： Ｎａ−Ｙゼオライト 層３床高さ： ０．１２７０ｍ ゼオライトの量： ５１４Ｋｇ／床 サイクル時間（ｓ）： ９６０ 高圧： １１８７．５３ｋＰａ 低圧： １４４．５７ｋＰａ 供給量： １５６．７０ ＮＣＦＨ 水素純度： ９９．６％ 水素回収率： ７１％ 温度（Ｋ）： ３００
【００４８】表１及び２から、分離された貯蔵タンクを
使用して濃度の逆転を行わないような場合と比較して、
本発明を濃度の逆転のための分離タンクと共に使用する
四床式ＰＳＡプロセス（表１）ではより高いＨ2 回収率
（８０．１１対７１％）が得られることが分かる。
【００４９】加えて、図６及び７には、パージ及び再加
圧工程の間に濃度の逆転のための分離タンクの使用（即
ち、還流に対する生成物純度の低下するガスの使用）を
実施しないＰＳＡサイクルでの純度低下が床の生成物排
出端及び原料供給端についてそれぞれ示されている。例
えば、図６は、パージ工程及び頂部−頂部床均等化工程
の間に還流に対してＨ2 濃度の低下するガスが使用され
ていることを示す。図７は、底部−底部床均等化工程の
間に均等化の開始時にはＨ2 モル分率が０．７４０３
（供給原料濃度と同じ）であり、そして均等化が進むに
つれて水素モル分率が０．７４０３から約０．６４に低
下することを示す。
【００５０】かくして、従来技術のＰＳＡサイクルにお
いて所望の生成物純度を維持するためには、製造工程及
び均等化降下工程は、床が破過するのに要する時間より
もずっと早く終了されなければならない。かくして、吸
着剤床は完全には利用されない。更に、例えば均等化上
昇工程及びパージ工程の間に純度の低下する生成物を使
用することによって、還流工程の終わりにおける最低純
度の生成物ガスの使用のために床の生成物排出端の追加
的な汚染が生じる。床の生成物排出端のこの増加された
汚染は、生成物製造工程の早期段階における生成物純度
の有意の低下をもたらし、そして生成物の平均純度の低
下を引き起こす。加えて、純度の低下する生成物ガスを
使用することによって、物質移動帯域の拡がりが増大さ
れる。最後に、物質移動帯域を抑制し且つ生成物純度を
維持するためには、より多くの吸着剤が必要とされ、こ
のことはより大きい床寸法ファクター及びよりコスト高
のＰＳＡプロセスをもたらす。
【００５１】還流の開始時に最低水素純度のガスを使用
し次いでパージ工程及び再加圧工程の間に水素純度の増
大するガスを使用するためには、多種水素濃度の生成物
を製造することが必要である。本発明に従えば、床の生
成物排出端における望ましい純度対時間プロファイルの
関係が図８に示されている。ここでは、還流（パージ及
び頂部−頂部床均等化）のための最高純度の水素は最後
に使用される。それ故に、ここに記載する発明を実施す
るためには、図８に示されるように純度の増大する生成
物ガスの使用が要求される。かくして、本発明では、純
度順序の逆転、及び多種純度の生成物の製造、即ち、分
離された貯蔵タンクの使用が必要である。
【００５２】図９は、床の原料供給端における望ましい
水素濃度プロファイル対時間の関係を示す。図９から、
均等上昇工程の終わりでは床の底部に入るガスの濃度は
供給原料濃度と一致することが分かる。しかしながら、
原料供給端において濃度の逆転を実施しないＰＳＡプロ
セスでは、図７に示されるように、底部−底部床均等化
工程の開始時にはＨ2 の濃度は供給原料濃度と一致し、
次いで均等化が続くにつれて低下する。
【００５３】還流及び生成物加圧には多種純度の生成物
が要求されるので、ＰＳＡサイクルは固有的により複雑
になり、そして幾つかの操作態様を考えることができ
る。例えば、床の両端において水素濃度の逆転が要求さ
れる場合には、２つの分離された貯蔵タンクを床の各端
において１つずつ使用することができる。典型的な分離
された貯蔵タンクの設計は、ヤマグチ氏他の米国特許５
２５８０５９によって記載されるタイプのものであって
よく、又は、吸着剤若しくは不活性物質の層を充填され
た容器であってもよく、或いは、単に混合を抑制するた
めのそらせ板を収容する空の塔であってもよい。
【００５４】分離した貯蔵タンクをＰＳＡサイクルに組
み込むことによって、本発明では、パージ及び再加圧工
程の間で水素濃度の向上する順序で使用することができ
る多種水素濃度のガスを貯蔵することができる。例え
ば、均等化降下工程の間に集められたガスが分離貯蔵タ
ンクに貯蔵される。均等化上昇工程の開始時には、分離
貯蔵タンクからの最低純度のガスが先ず消費され、次い
で純度の増大する生成物が後の時間で使用される。
【００５５】この例（表１及び図３、４、並びに図６と
比較して図８を参照されたい）では、均等化降下工程の
間に、純度の低下する生成物ガスが分離貯蔵タンクに入
り、そして均等化上昇工程の間に逆の順序（生成物純度
の増大する順序）で貯蔵タンクを出る。同様に、床の原
料供給端において他の分離された貯蔵タンクを使用する
ことによって、減圧の間に床の原料供給端で集められた
ガスが均等化上昇工程の間に水素濃度の増大する順序で
使用される（図３、４及び９を図７と比較して参照され
たい）。
【００５６】床の両端において純度の逆転を容易にする
ためにＰＳＡサイクルに分離された貯蔵タンクを組み込
むことによって、従来技術のＰＳＡサイクルと比較して
より大きいプロセス融通性及び効率向上が可能になる。
特に、所定のＰＳＡサイクルについて言えば、本発明に
従った分離貯蔵タンクの組み込み（表１参照）は、パー
ジ及び再加圧工程の間に床の両端において濃度の逆転を
使用しない同じＰＳＡサイクルと比較して１０〜１５％
高いＨ2回収率をもたらす（表２参照）。
【００５７】別の操作態様では、図１０及び１１は、床
の頂部端即ち生成物排出端において逆純度ファイルを使
用する二床式水素ＰＳＡ法についてＰＳＡプロセス及び
工程順序をそれぞれ示す。ここで図１０及び１１を参照
して、二床式水素ＰＳＡ法を床Ａに関して説明する。
【００５８】工程Ｉ：（ＦＰ & ＥＱＵ）供給原料ガス
（例えば、Ｈ2合成ガス）は床Ａの底部で導入され、そ
して床Ｂからの均等化ガスは床Ａの頂部で導入される。
本発明の実施例では、弁１１、６１及び６２（図１０参
照）が開かれる。床Ｂは均等化降下工程にある。
【００５９】工程II：（ＡＤ）：弁６１及び６２が閉じ
られる。弁１１は、工程Ｉにおけるように開いたままで
ある。加えて、弁５１、７３及び７４は開かれる。これ
は、生成物が床を貫流するのを可能にする。床Ｂは減圧
しつつあり、しかして均等化ガスを分離貯蔵タンク（Ｓ
Ｔ１）に供給する。
【００６０】工程III：（ＡＤ）：弁1１、５１、７１及
び７４は開いたままであり、そして床Ａは吸着状態にあ
る。加えて、弁６１及び６２が開かれる。これは、パー
ジガスを床Ｂに供給する。床Ｂはパージ工程にある。
【００６１】工程IV：（ＡＤ）：弁６１及び６２が閉じ
られる。弁１１、５１、７１及び７４は開いたままであ
り、そして床Ａは吸着状態にある。床Ｂは均等化上昇工
程にあり、そして分離貯蔵タンク（ＳＴ１及びＳＴ２）
からガスを受け入れる。
【００６２】工程Ｖ：（ＥＱＤ）：弁１１、５２、７３
及び７４が閉じられ、そして弁６１及び６２が開かれ
る。床Ａは、床Ｂと一部分均等化される。床Ｂは、原料
加圧及び均等化上昇工程にある。
【００６３】工程VI：（ＥＱ）：弁６２が閉じられ、そ
して弁６１は開いたままである。床は、均等化ガスを分
離貯蔵タンク（ＳＴ１）に供給しながら減圧し続ける。
床Ｂは吸着工程にある。
【００６４】工程VII：（ＰＧ）：弁７１が閉じられ、
そして弁６１は開いたままである。加えて、弁６２及び
２１が開かれる。床Ａは床Ｂからの生成物でパージさ
れ、そして廃流れはバーナーガスとしてスチームメタン
リホーマーに戻される。床Ｂは吸着工程にある。
【００６５】工程VIII：（ＰＰ）：弁２１及び６２が閉
じられ、そして弁６１は開いたままである。弁７１が開
かれる。床Ａは、分離貯蔵タンク（ＳＴ１）から均等化
ガスを受け入れて部分加圧を受ける。床Ｂは吸着工程に
ある。
【００６６】もう１つの別の操作態様では、図１２及び
１３は、床の両端、即ち、生成物排出端及び原料供給端
において逆純度ファイルを使用する二床式水素ＰＳＡ法
についてＰＳＡプロセス及び工程順序をそれぞれ示す。
ここで図１２及び１３を参照して、二床式水素ＰＳＡ法
を床Ａに関して説明する。
【００６７】工程Ｉ：（ＦＰ & ＥＱＵ）供給原料ガス
（例えば、Ｈ2合成ガス）は床Ａの底部で導入され、そ
して床Ｂからの均等化ガスは床Ａの頂部で導入される。
本発明の実施例では、弁１１、６１及び６２（図１２参
照）が開かれる。床Ｂは均等化降下工程にある。
【００６８】工程II：（ＡＤ）：弁６１及び６２が閉じ
られる。弁１１は、工程Ｉにおけるように開いたままで
ある。加えて、弁５１、７３及び７４は開かれる。これ
は、生成物が床を貫流するのを可能にする。床Ｂは減圧
しつつあり、しかして均等化ガスを分離貯蔵タンク（Ｓ
Ｔ１及びＳＴ２）の頂部及び底部に供給する。
【００６９】工程III：（ＡＤ）：弁1１、５１、７１及
び７４は開いたままであり、そして床Ａは吸着状態にあ
る。加えて、弁６１及び６２が開かれる。これは、パー
ジガスを床Ｂに供給する。床Ｂはパージ工程にある。
【００７０】工程IV：（ＡＤ）：弁６１及び６２が閉じ
られる。弁１１、５１、７１及び７４は開いたままであ
り、そして床Ａは吸着状態にある。床Ｂは均等化上昇工
程にあり、そして頂部及び底部の分離貯蔵タンク（ＳＴ
１及びＳＴ２）の両方からガスを受け入れる。
【００７１】工程Ｖ：（ＥＱＤ）：弁１１、５２、７３
及び７４が閉じられ、そして弁６１及び６２が開かれ
る。床Ａは、床Ｂと一部分均等化される。床Ｂは、供給
原料加圧及び均等化上昇工程にある。
【００７２】工程VI：（ＥＱ）：弁６２が閉じられ、そ
して弁６１は開いたままである。加えて、弁３１、７１
及び７２が開かれる。床は、均等化ガスを頂部及び底部
の分離貯蔵タンク（ＳＴ１及びＳＴ２）の両方に供給し
ながら減圧し続ける。床Ｂは吸着工程にある。
【００７３】工程VII：（ＰＧ）： 弁３１、７１及び７
２が閉じられ、そして弁６１は開いたままである。加え
て、弁６２及び２１が開かれる。床Ａは床Ｂからの生成
物でパージされ、そして廃流れはバーナーガスとしてス
チームメタンリホーマーに戻される。床Ｂは吸着工程に
ある。
【００７４】工程VIII：（ＰＰ）：弁２１及び６２が閉
じられ、そして弁６１は開いたままである。弁３１、７
１及び７２が開かれる。床Ａは、頂部及び底部の分離貯
蔵タンク（ＳＴ１及びＳＴ２）の両方から均等化ガスを
同時に受け入れることによって部分加圧を受ける。床Ｂ
は吸着工程にある。
【００７５】上記のＰＳＡサイクルを基にして、本発明
の応用又は一般的特徴から逸脱せずに上記工程のうちの
１つ又はそれ以上を変更するために幾つかの変更修正を
なすことができる。例えば、頂部−頂部及び底部−底部
再加圧工程を上記の如く同時的よりもむしろ逐次的に行
うことができる。
【００７６】加えて、種々の量の多種純度の生成物が集
められるので、各工程の割り当て時間及びプロセス制御
はＰＳＡサイクルの操作において決定的なものになる。
また、分離された貯蔵タンクを使用したＰＳＡサイクル
の更なる改善としては、全サイクル時間を短縮するため
のＰＳＡサイクルの幾つかの工程の重なり、操作条件
（高圧、低圧、均等化降下工程の終了時の圧力等）の選
択、各工程に対して割り当てられる時間、及びサイクル
の各工程を実施する際の順序が挙げられる。
【００７７】他の操作態様では、プロセスから分離均等
化タンク（例えば、ＳＴ１）を排除することができ、そ
して均等化降下ガスのすべてが他の床に直接入り、即
ち、直接的床−床均等化が可能にされる。しかしなが
ら、この操作態様では、床−床均等化工程の間に、均等
化上昇工程を受ける床は、純度の低下する生成物ガスを
受け入れる（本発明では、純度の増大する生成物を使用
することが望ましい）。均等化上昇工程の完了時に、床
は、製造工程にあるか、又は供給原料加圧を受ける若し
くは生成物及び供給原料加圧を同時に受ける他の床から
の生成物で加圧される。
【００７８】ここに記載した発明では１つの分離された
生成物貯蔵タンク（ＳＴ１、ＳＴ２また又はＳＴ３）が
使用されているけれども、多数の貯蔵タンクを使用する
ことも想定することができ、この場合には流出ガスは生
成物製造工程において異なる時間でそれぞれのタンクに
向けられる。また、本発明は、頂部及び底部に浅い皿形
の頭部を持つ円柱型吸着材床、並びに軸方向におけるガ
ス流れの使用に限定されず、即ち、他の形状の床を使用
することもできる。例えば、圧力損失の減少及びそれに
伴った動力消費量の減少を得るのに半径形状の床を使用
することができる。加えて、床の種々の位置において各
層に混合吸着剤を充填した混合層床を使用することがで
きる。例えば、アルミナを混合してペレット化したＮａ
−Ｙゼオライトを床の原料供給端に配置して供給原料流
れから水や二酸化炭素を除去することができ、次いで、
後続の層を混合アルミナゼオライト複合物の頂部に配置
して合成ガスの分離を行い、かくして水素富化生成物が
得られる。
【００７９】加えて、多数の貯蔵タンクの使用は、プロ
セスにおいてより大きな融通性を可能にする。例えば、
図３に示されるサイクルの個々の工程は、固定した時間
を要する必要がない。かくして、圧力及び組成の如き物
理的変数を使用して各工程に割り当てられる時間を容易
に決定することができ、これによって、温度、圧力及び
一定しない生成物需要の変動に対してプロセスを調整す
ることができる。追加的な貯蔵タンクを使用するときに
は床−床ガス移動は全く必要とされないので、各床を独
立して操作しそしてプロセスを単一の床装置の集合と見
なすことが可能である。しかしながら、圧縮機及び真空
ポンプの適切な寸法決め及び配置を行うためには、各床
の全サイクルと他の床のサイクルとの幾らかの調整が必
要である。
【００８０】最後に、合成ガスからの水素製造に関して
ＰＳＡサイクルを説明し、ここで特定の具体例を例示し
たけれども、開示される特徴の変更修正に沿った他の具
体例も本発明の範囲内に入ることに留意されたい。ま
た、上記の具体例はその暗示される変更修正と共に他の
ＰＳＡ分離法にも応用可能である。また、ここに記載し
たＰＳＡサイクルでは過圧サイクルが使用されたけれど
も、ＰＳＡサイクルは過圧の圧力変動式吸着（ＰＳＡ）
サイクルに限定されず、超過圧又は減圧のＰＳＡサイク
ルも使用することができることに留意されたい。加え
て、本発明のＰＳＡ法は、他の混合物（例えば、空気）
を分離して酸素、窒素、又は酸素−窒素共生成物を製造
するのにも使用することができよう。
【００８１】本発明は、従来技術における如き逆順序の
代わりに、最高純度ガスを最後に使用すること、又は均
等化上昇工程、パージ工程及び生成物加圧工程において
純度の上昇する生成物を使用することを可能にする。加
えて、本発明は、底部−底部床均等化工程の終わりにお
いて、床の原料供給端における濃度が供給原料濃度と一
致するような態様でＰＳＡ法を操作することを可能にす
る。従来技術のＰＳＡ法では、底部−底部床均等化工程
の間に床の原料供給端における濃度は、底部−底部床均
等化が重質成分濃度の上昇と共に進行するにつれて供給
原料濃度からずれることに注目されたい。
【００８２】
【発明の効果】かくして、本発明に従えば、分離された
貯蔵タンクの使用によって床の頂部端及び底部端の両方
において濃度の逆転を行うと、従来技術のＰＳＡサイク
ルにおける固有の問題を除去するのに適切な順序で多種
の生成物純度を使用すること、及び純度の順序を逆転す
ることが可能になる。更に、多種純度の生成物が要求さ
れるので、吸着剤床は完全に利用され、即ち、床は床の
流出端における重質成分の破過直前まで運転状態に保つ
ことができる。
【００８３】本発明の特定の特徴点は便宜上添付図面の
うちの１つ又はそれ以上に示されている。というのは、
かかる特徴は、本発明に従って他の特徴と組み合わせる
ことができるからである。当業者には別の具体例が認識
されるだろうが、これらも特許請求の範囲内に含めるつ
もりである。
【図面の簡単な説明】
【図１】高純度水素を製造するためにＰＳＡと一体化し
たスチーム／メタンリホーミングを示すプロセス流れ図
である。
【図２】３つの吸着剤層を収容するＰＳＡ吸着塔の概略
図である。
【図３】床の両端において逆濃度プロファイルを使用す
る四床式ＰＳＡ法の概略図である。
【図４】床の両端における濃度の逆転に加えて四床式Ｐ
ＳＡ塔サイクルを使用する本発明の好ましい方法の概略
図である。
【図５】分離した貯蔵タンクが使用されない四床式ＰＳ
Ａ塔サイクルの概略図である。これは、本発明の範囲外
である。
【図６】図５のＰＳＡサイクルを使用したＰＳＡシミュ
レーションの結果を例示する。１つのＰＳＡサイクルの
間の床の生成物排出端における圧力及び水素濃度プロフ
ァイルが例示されている。
【図７】図５のＰＳＡサイクルを使用したＰＳＡシミュ
レーションの結果を例示する。１つのＰＳＡサイクルの
間の床の原料供給端における圧力及び水素濃度プロファ
イルが例示されている。
【図８】本発明（図４参照）のＰＳＡサイクル（図４に
おける如き）を使用したＰＳＡシミュレーションの結果
を例示する。１つのＰＳＡサイクルの間の床の生成物排
出端における圧力及び水素濃度プロファイルが例示され
ている。
【図９】本発明（図４参照）のＰＳＡサイクル（図４に
おける如き）を使用したＰＳＡシミュレーションの結果
を例示する。１つのＰＳＡサイクルの間の床の原料供給
端における圧力及び水素濃度プロファイルが例示されて
いる。
【図１０】床の生成物排出端において逆純度プロファイ
ルが使用される二床式ＰＳＡ法を使用した本発明の他の
具体例を例示する。
【図１１】床の生成物排出端において逆純度プロファイ
ルが使用される二床式ＰＳＡ塔サイクルを包含する本発
明の具体例を例示する。
【図１２】床の両端において逆純度プロファイルが使用
される二床式ＰＳＡ法を包含する本発明の具体例を例示
する。
【図１３】床の両端において逆純度プロファイルが使用
される二床式ＰＳＡ塔サイクルを包含する本発明の具体
例を例示する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 選択吸着性の高い１種以上の成分及び選
    択吸着性の低い成分を含むガス混合物を、かかる選択吸
    着性の高い１種以上の成分の吸着に対して選択的な吸着
    剤物質を収容する１つ以上の固定吸着剤床において接触
    させてかかるガス混合物からかかる選択吸着性の高い１
    種以上の成分を分離する際に、 （ａ）ガス混合物を高い吸着圧において吸着剤と接触状
    態でかかる１つ以上の固定吸着剤床に通し、しかしてガ
    ス混合物中のかかる１種以上の選択吸着性の高い成分を
    選択的に吸着させ、そしてその中の選択吸着性の低い成
    分を該１つ以上の固定吸着剤床の生成物排出端から回収
    する吸着工程、及び （ｂ）ガス混合物をかかる１つ以上の固定吸着剤床に送
    るのを中断し、そして床の圧力を高い吸着圧からそれよ
    りも低い脱着圧に下げて該１つ以上の固定吸着剤床から
    該１種以上の選択吸着性の高い成分を脱着して回収する
    脱着工程、を含む循環工程によって分離することからな
    る分離法において、 ｉ）かかる選択吸着性の低い成分の一部分をかかる１つ
    以上の固定吸着剤床の生成物排出端から１つ以上の外部
    の分離されたガス貯蔵タンクに送り、ここでかかる外部
    の分離されたガス貯蔵タンクはそれに送られたガスの混
    合を防ぐように適応されており、そして該外部の分離さ
    れたガス貯蔵タンクに送られる生成物ガスは初期におい
    てより高い純度を有する生成物ガスであり、順次より低
    い純度の生成物ガスとなり、この場合に該生成物ガスの
    いずれも、吸着系にある該１つ以上の固定吸着剤床のう
    ちの１つから他のものに直接送らないものとし、 ii）かかる外部の分離されたガス貯蔵タンクからの生成
    物ガスをかかる１つ以上の固定吸着剤床の生成物排出端
    に送り、ここで該固定吸着剤床は、該外部の分離された
    ガス貯蔵ガスタンクから初期に送られつつあるより低い
    純度の生成物ガス、次いでより高い純度の生成物ガスで
    中間圧に再加圧させるために初期においてより低い脱着
    圧にあり、これによって該１つ以上の固定吸着剤床はそ
    の生成物排出端においてその中に漸次的に高い純度の生
    成物ガスを有するようにし、 iii)工程（ｂ）の間にかかる１つ以上の固定吸着剤床を
    パージするのに使用されたかかる選択吸着性の低い成分
    の一部分をかかる１つ以上の固定吸着剤床の生成物排出
    端から回収しそして該１つ以上の固定吸着剤床の生成物
    排出端から１つ以上の外部の分離されたガス貯蔵タンク
    に送り、ここでかかる外部の分離されたガス貯蔵タンク
    はそれに送られたガスの混合を防ぐように適応されてお
    り、そして該外部の分離されたガス貯蔵タンクに送られ
    る生成物ガスは初期においてより高い純度を有する生成
    物ガスであり、順次より低い純度の生成物ガスとなり、
    この場合に該生成物ガスのいずれも、吸着系にある該１
    つ以上の固定吸着剤床のうちの１つから他のものに直接
    送らないものとし、 iv）工程（ii）と同時に、かかる１つ以上の固定吸着剤
    床の原料供給端からガスを回収しそして該１つ以上の固
    定吸着剤床の原料供給端から回収した該ガスを１つ以上
    の外部の分離されたガス貯蔵タンクに送り、ここでかか
    る外部の分離されたガス貯蔵タンクはそれに送られたガ
    スの混合を防ぐように適応されており、そして該外部の
    分離されたガス貯蔵タンクに送られる生成物ガスは初期
    においてより高い純度を有する生成物ガスであり、順次
    より低い純度の生成物ガスとなり、この場合に該生成物
    ガスのいずれも、吸着系にある該１つ以上の固定吸着剤
    床のうちの１つから他のものに直接送らないものとし、 Ｖ）かかる外部の分離されたガス貯蔵タンクにあるかか
    る１つ以上の固定吸着剤床の原料供給端から回収された
    かかるガスをかかる１つ以上の固定吸着剤床の原料供給
    端に送り、ここで該固定吸着剤床は、該外部の分離され
    たガス貯蔵タンクから初期に送られつつあるより低い純
    度の生成物ガス、次いでより高い純度の生成物ガスで中
    間圧に再加圧させるために初期においてより低い吸着圧
    にあり、これによって該１つ以上の固定吸着剤床はその
    原料供給端においてその中に漸次的に高い純度の精製物
    ガスを有するようにする、ことからなる、選択吸着性の
    低い成分を含むガス混合物から１種以上の選択吸着性の
    高い成分を分離する方法。
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