JPH11237570A - マルチビーム走査装置 - Google Patents
マルチビーム走査装置Info
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- JPH11237570A JPH11237570A JP5606798A JP5606798A JPH11237570A JP H11237570 A JPH11237570 A JP H11237570A JP 5606798 A JP5606798 A JP 5606798A JP 5606798 A JP5606798 A JP 5606798A JP H11237570 A JPH11237570 A JP H11237570A
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- scanning
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Abstract
(57)【要約】
【課 題】 各光ビームの副走査方向の間隔を容易にか
つ微細に調整できるとともに、調整機構の低コスト化を
容易に実現する。 【解決手段】 複数の光ビーム発生手段１〜４からの各
光ビームＬ１〜Ｌ４を副走査方向に並べてポリゴンミラ
ー１３により感光ドラムに走査するマルチビーム走査装
置において、光ビーム発生手段１の光ビームＬ１を基準
にして、光ビーム発生手段３〜４を、これらから発生す
る各光ビームＬ２〜Ｌ４の照射方向が副走査方向に変位
するように調整手段６〜８により副走査方向に移動可能
に支持し、調整手段の基板２０１の一端を支点にして、
基板２０１の他端を調節ねじ部材２０４でハウジング５
と接近または離間する方向に変位させることにより、感
光ドラムの走査面に結像される光ビームＬ２〜Ｌ４の副
走査方向の位置を副走査方向に変位させる。
つ微細に調整できるとともに、調整機構の低コスト化を
容易に実現する。 【解決手段】 複数の光ビーム発生手段１〜４からの各
光ビームＬ１〜Ｌ４を副走査方向に並べてポリゴンミラ
ー１３により感光ドラムに走査するマルチビーム走査装
置において、光ビーム発生手段１の光ビームＬ１を基準
にして、光ビーム発生手段３〜４を、これらから発生す
る各光ビームＬ２〜Ｌ４の照射方向が副走査方向に変位
するように調整手段６〜８により副走査方向に移動可能
に支持し、調整手段の基板２０１の一端を支点にして、
基板２０１の他端を調節ねじ部材２０４でハウジング５
と接近または離間する方向に変位させることにより、感
光ドラムの走査面に結像される光ビームＬ２〜Ｌ４の副
走査方向の位置を副走査方向に変位させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビーム照射対象物
である走査面を複数の光ビームにより同時に走査し露光
するマルチビーム走査装置に関し、特に走査面に対して
その副走査方向に配列される各光ビーム間の間隔を副走
査方向に調整できるようにしたマルチビーム走査装置に
関するものである。
である走査面を複数の光ビームにより同時に走査し露光
するマルチビーム走査装置に関し、特に走査面に対して
その副走査方向に配列される各光ビーム間の間隔を副走
査方向に調整できるようにしたマルチビーム走査装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、レーザプリンタ等においては、
記録速度を高めるために複数のレーザビームを同時に走
査するようにしたマルチビーム走査式のレーザプリンタ
が開発され実用化されている。従来、このようなレーザ
プリンタに適用されるマルチビーム走査装置は、画素信
号により発光される複数の半導体レーザ発光体を備え、
この各半導体レーザ発光体から出力されるそれぞれのレ
ーザビームは、プリズム等の光学部材により、副査方向
にドット（画素）に対応する所定の間隔で並ぶように偏
向されるとともに、この偏向された各レーザビームはビ
ームスプリッタ等により合成されてシリンダレンズに入
射され、このシリンダレンズを透過した各レーザビーム
はポリゴンミラーにより水平方向に走査偏向され、この
走査光ビームで感光体上を水平走査することにより感光
体表面を画素信号の強度に応じて露光し、この露光像を
トナーで現像した後、このトナー像を記録紙に転写し定
着処理を施すことにより、画像情報を記録紙にプリント
するものであり、コンピュータの出力装置などに広く用
いられている。
記録速度を高めるために複数のレーザビームを同時に走
査するようにしたマルチビーム走査式のレーザプリンタ
が開発され実用化されている。従来、このようなレーザ
プリンタに適用されるマルチビーム走査装置は、画素信
号により発光される複数の半導体レーザ発光体を備え、
この各半導体レーザ発光体から出力されるそれぞれのレ
ーザビームは、プリズム等の光学部材により、副査方向
にドット（画素）に対応する所定の間隔で並ぶように偏
向されるとともに、この偏向された各レーザビームはビ
ームスプリッタ等により合成されてシリンダレンズに入
射され、このシリンダレンズを透過した各レーザビーム
はポリゴンミラーにより水平方向に走査偏向され、この
走査光ビームで感光体上を水平走査することにより感光
体表面を画素信号の強度に応じて露光し、この露光像を
トナーで現像した後、このトナー像を記録紙に転写し定
着処理を施すことにより、画像情報を記録紙にプリント
するものであり、コンピュータの出力装置などに広く用
いられている。
【０００３】従来、このようなマルチビーム走査装置に
おいて、副走査方向に並ぶ各レーザビーム間の間隔を調
整する手段としては、各半導体レーザ発光体のレーザビ
ーム出射側に該レーザビームを副走査方向に偏向するプ
リズム等の光学部材を配置し、この光学部材により各レ
ーザビーム間の間隔を調整するようにしていた。
おいて、副走査方向に並ぶ各レーザビーム間の間隔を調
整する手段としては、各半導体レーザ発光体のレーザビ
ーム出射側に該レーザビームを副走査方向に偏向するプ
リズム等の光学部材を配置し、この光学部材により各レ
ーザビーム間の間隔を調整するようにしていた。
【００
０４ 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来のマルチビーム走査装置における各レーザビ
ームの副走査方向の間隔調整は、プリズム等の光学部材
により偏向することで行うものであるため、光学部材の
固定部への位置決めやその位置調整が面倒で、構造も複
雑になるとともに、加工精度の高い光学部材が必要にな
り、コスト高になるという問題があった。
０４ 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来のマルチビーム走査装置における各レーザビ
ームの副走査方向の間隔調整は、プリズム等の光学部材
により偏向することで行うものであるため、光学部材の
固定部への位置決めやその位置調整が面倒で、構造も複
雑になるとともに、加工精度の高い光学部材が必要にな
り、コスト高になるという問題があった。
【０００５】本発明は上述のような事情に鑑みなされた
ものであり、本発明の目的は、各光ビームの副走査方向
の間隔を容易にかつ微細に調整できるとともに、調整機
構の低コスト化を容易に実現できるマルチビーム走査装
置を提供することにある。
ものであり、本発明の目的は、各光ビームの副走査方向
の間隔を容易にかつ微細に調整できるとともに、調整機
構の低コスト化を容易に実現できるマルチビーム走査装
置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明は、光ビームを発生する複数の光ビーム発生手
段と、前記各光ビーム発生手段からの各光ビームを副走
査方向に並ぶように偏向させる光学部材と、前記光学部
材で偏向された複数の光ビームをビーム照射対象物に対
して走査する光ビーム走査手段を有するマルチビーム走
査装置であって、前記複数の光ビーム発生手段のうちの
少なくとも一つの光ビーム発生手段を、該光ビーム発生
手段から発生する光ビームの照射方向が副走査方向に変
位するように副走査方向に移動可能に支持する調整手段
が設けられているものである。
に本発明は、光ビームを発生する複数の光ビーム発生手
段と、前記各光ビーム発生手段からの各光ビームを副走
査方向に並ぶように偏向させる光学部材と、前記光学部
材で偏向された複数の光ビームをビーム照射対象物に対
して走査する光ビーム走査手段を有するマルチビーム走
査装置であって、前記複数の光ビーム発生手段のうちの
少なくとも一つの光ビーム発生手段を、該光ビーム発生
手段から発生する光ビームの照射方向が副走査方向に変
位するように副走査方向に移動可能に支持する調整手段
が設けられているものである。
【０００７】本発明はまた、前記光ビーム発生手段は、
半導体レーザなどの光ビーム発生源と、該光ビーム発生
源から発生するレーザビームを平行光に変換するコリメ
ータレンズなどの光学素子から構成されるものである。
本発明はまた、前記光ビーム発生手段は、半導体レーザ
などの光ビーム発生源と、該光ビーム発生源から発生す
るレーザビームを平行光に変換するコリメータレンズな
どの光学素子と、前記光ビーム発生源および光学素子を
収容するケースを備え、前記ケースが前記調整手段によ
り支持されているものである。本発明はまた、前記調整
手段は、前記光ビーム発生手段が載置固定され、該光ビ
ーム発生手段から発生する光ビームの照射方向に長い基
板と、前記基板の長尺方向の一端を支点にして基板の長
尺方向の他端を前記副走査方向に変位させることにより
前記光ビームの照射方向を副走査方向に変位させる調節
部材とを備えることを特徴する請求項１、２または３記
載のマルチビーム走査装置。本発明はまた、前記基板は
弾性材により成形され、この基板の長尺方向の一端は固
定され、基板の長尺方向の他端を前記副走査方向に変位
させることにより基板を弾性変形することを特徴する。
本発明はまた、前記ビーム発生手段及び前記光ビーム走
査手段等を収容するハウジングを備え、前記基板の一端
は前記ビーム発生手段の光ビーム出射側であり、該一端
は前記ハウジングにねじ部材により固定されるものであ
る。本発明はまた、前記調節部材は、前記ハウジングに
螺合するねじ部材から構成されるものである。本発明は
また、前記基板の他端と前記ハウジング間に該基板の他
端側をハウジングから離間する方向に付勢する弾性部材
を介在したことを特徴とする。本発明はまた、前記光学
部材で偏向された複数の光ビームはシリンドリカルレン
ズを通して前記光ビーム走査手段に出射されるものであ
る。本発明はまた、複数の光ビームをビーム照射対象物
に対して走査するマルチビーム走査装置であって、前記
光ビームの照射方向が副走査方向に変位するように副走
査方向に並ぶ光ビーム相互間の間隔を調整する調整手段
を備えることを特徴とする。
半導体レーザなどの光ビーム発生源と、該光ビーム発生
源から発生するレーザビームを平行光に変換するコリメ
ータレンズなどの光学素子から構成されるものである。
本発明はまた、前記光ビーム発生手段は、半導体レーザ
などの光ビーム発生源と、該光ビーム発生源から発生す
るレーザビームを平行光に変換するコリメータレンズな
どの光学素子と、前記光ビーム発生源および光学素子を
収容するケースを備え、前記ケースが前記調整手段によ
り支持されているものである。本発明はまた、前記調整
手段は、前記光ビーム発生手段が載置固定され、該光ビ
ーム発生手段から発生する光ビームの照射方向に長い基
板と、前記基板の長尺方向の一端を支点にして基板の長
尺方向の他端を前記副走査方向に変位させることにより
前記光ビームの照射方向を副走査方向に変位させる調節
部材とを備えることを特徴する請求項１、２または３記
載のマルチビーム走査装置。本発明はまた、前記基板は
弾性材により成形され、この基板の長尺方向の一端は固
定され、基板の長尺方向の他端を前記副走査方向に変位
させることにより基板を弾性変形することを特徴する。
本発明はまた、前記ビーム発生手段及び前記光ビーム走
査手段等を収容するハウジングを備え、前記基板の一端
は前記ビーム発生手段の光ビーム出射側であり、該一端
は前記ハウジングにねじ部材により固定されるものであ
る。本発明はまた、前記調節部材は、前記ハウジングに
螺合するねじ部材から構成されるものである。本発明は
また、前記基板の他端と前記ハウジング間に該基板の他
端側をハウジングから離間する方向に付勢する弾性部材
を介在したことを特徴とする。本発明はまた、前記光学
部材で偏向された複数の光ビームはシリンドリカルレン
ズを通して前記光ビーム走査手段に出射されるものであ
る。本発明はまた、複数の光ビームをビーム照射対象物
に対して走査するマルチビーム走査装置であって、前記
光ビームの照射方向が副走査方向に変位するように副走
査方向に並ぶ光ビーム相互間の間隔を調整する調整手段
を備えることを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態例につい
て、図１ないし図５を参照して説明する。図１は本発明
の本実施の形態におけるマルチビーム走査装置の概略構
成を示す平面図、図２は本実施の形態における４本のレ
ーザビームを構成する光ビーム発生手段の配列構成を示
す平面図、図３は本実施の形態における光ビーム発生手
段の縦断側面図、図４は本実施の形態における４本のレ
ーザビームの配列状態を示す説明図、図５は本実施の形
態における光ビーム発生手段の光ビームの調整状態を示
す説明図である。
て、図１ないし図５を参照して説明する。図１は本発明
の本実施の形態におけるマルチビーム走査装置の概略構
成を示す平面図、図２は本実施の形態における４本のレ
ーザビームを構成する光ビーム発生手段の配列構成を示
す平面図、図３は本実施の形態における光ビーム発生手
段の縦断側面図、図４は本実施の形態における４本のレ
ーザビームの配列状態を示す説明図、図５は本実施の形
態における光ビーム発生手段の光ビームの調整状態を示
す説明図である。
【０００９】図１及び図２において、マルチビーム走査
装置は、第１ないし第４の光ビーム発生手段１ないし４
及びこれらを収容するハウジング５を備え、この第１な
いし第４の光ビーム発生手段１ないし４は、図３に示す
ように、画像データにより強度変調された光ビームを発
生するレーザダイオード等の半導体レーザ１０１と、こ
の半導体レーザ１０１から発生する光ビームを平行光に
変換するコリメータレンズ１０２と、これら半導体レー
ザ１０１及びコリメータレンズ１０２を互いの光軸を一
致させて一体的に収容保持するケース１０３とから構成
されている。第１の光ビーム発生手段１は、基準の光ビ
ームＬ１を発生するもので、ハウジング５に直接設置さ
れている。また、第２の光ビーム発生手段２ないし第４
の光ビーム発生手段４は、それぞれから発生する光ビー
ムＬ２〜Ｌ４の照射方向が副走査方向に変位するように
副走査方向に移動可能に支持する調整手段６〜８を介し
てハウジング５に設置されている。
装置は、第１ないし第４の光ビーム発生手段１ないし４
及びこれらを収容するハウジング５を備え、この第１な
いし第４の光ビーム発生手段１ないし４は、図３に示す
ように、画像データにより強度変調された光ビームを発
生するレーザダイオード等の半導体レーザ１０１と、こ
の半導体レーザ１０１から発生する光ビームを平行光に
変換するコリメータレンズ１０２と、これら半導体レー
ザ１０１及びコリメータレンズ１０２を互いの光軸を一
致させて一体的に収容保持するケース１０３とから構成
されている。第１の光ビーム発生手段１は、基準の光ビ
ームＬ１を発生するもので、ハウジング５に直接設置さ
れている。また、第２の光ビーム発生手段２ないし第４
の光ビーム発生手段４は、それぞれから発生する光ビー
ムＬ２〜Ｌ４の照射方向が副走査方向に変位するように
副走査方向に移動可能に支持する調整手段６〜８を介し
てハウジング５に設置されている。
【００１０】上記第１の光ビーム発生手段１の光ビーム
Ｌ１の照射方向の光路上には、各光ビームＬ１〜Ｌ４を
副走査方向に収束させるシリンドリカルレンズ９が配置
されている。上記第２の光ビーム発生手段２は、ハウジ
ング５内において、これから出射する光ビームＬ２の照
射方向が第１の光ビーム発生手段１の光ビームＬ１と直
角になる向きに配置され、この光ビームＬ２が光ビーム
Ｌ１と直交する箇所には、光ビームＬ１を透過し、第２
の光ビーム発生手段２からの光ビームＬ２をシリンドリ
カルレンズ９に向け反射するビームスプリッタ１０が配
置されている。また、上記第３の光ビーム発生手段３
は、ハウジング５内において、これから出射する光ビー
ムＬ３の照射方向が第１の光ビーム発生手段１の光ビー
ムＬ１と直角になる向きに配置され、この光ビームＬ３
が光ビームＬ１と直交する箇所には、光ビームＬ１、Ｌ
２を透過し、第３の光ビーム発生手段３からの光ビーム
Ｌ３をシリンドリカルレンズ９に向け反射するビームス
プリッタ１１が配置されている。さらに、上記第４の光
ビーム発生手段４は、ハウジング５内において、これか
ら出射する光ビームＬ４の照射方向が第３の光ビーム発
生手段３の光ビームＬ３と直角になる向き（かつ光ビー
ムＬ１と平行な向き）に配置され、この光ビームＬ４が
光ビームＬ３と直交する箇所には、光ビームＬ３を透過
し、第４の光ビーム発生手段４からの光ビームＬ４を上
記ビームスプリッタ１１に向け反射するビームスプリッ
タ１２が配置されている。そして、このビームスプリッ
タ１２で反射された光ビームＬ４はビームスプリッタ１
１によりシリンドリカルレンズ９に向け反射される構成
になっている。なお、ビームスプリッタ１０、１１、１
２は各光ビームＬ１〜Ｌ４をシリンドリカルレンズ９に
対し副走査方向に、図４に示すように配列された状態に
偏向させる光学部材を構成している。
Ｌ１の照射方向の光路上には、各光ビームＬ１〜Ｌ４を
副走査方向に収束させるシリンドリカルレンズ９が配置
されている。上記第２の光ビーム発生手段２は、ハウジ
ング５内において、これから出射する光ビームＬ２の照
射方向が第１の光ビーム発生手段１の光ビームＬ１と直
角になる向きに配置され、この光ビームＬ２が光ビーム
Ｌ１と直交する箇所には、光ビームＬ１を透過し、第２
の光ビーム発生手段２からの光ビームＬ２をシリンドリ
カルレンズ９に向け反射するビームスプリッタ１０が配
置されている。また、上記第３の光ビーム発生手段３
は、ハウジング５内において、これから出射する光ビー
ムＬ３の照射方向が第１の光ビーム発生手段１の光ビー
ムＬ１と直角になる向きに配置され、この光ビームＬ３
が光ビームＬ１と直交する箇所には、光ビームＬ１、Ｌ
２を透過し、第３の光ビーム発生手段３からの光ビーム
Ｌ３をシリンドリカルレンズ９に向け反射するビームス
プリッタ１１が配置されている。さらに、上記第４の光
ビーム発生手段４は、ハウジング５内において、これか
ら出射する光ビームＬ４の照射方向が第３の光ビーム発
生手段３の光ビームＬ３と直角になる向き（かつ光ビー
ムＬ１と平行な向き）に配置され、この光ビームＬ４が
光ビームＬ３と直交する箇所には、光ビームＬ３を透過
し、第４の光ビーム発生手段４からの光ビームＬ４を上
記ビームスプリッタ１１に向け反射するビームスプリッ
タ１２が配置されている。そして、このビームスプリッ
タ１２で反射された光ビームＬ４はビームスプリッタ１
１によりシリンドリカルレンズ９に向け反射される構成
になっている。なお、ビームスプリッタ１０、１１、１
２は各光ビームＬ１〜Ｌ４をシリンドリカルレンズ９に
対し副走査方向に、図４に示すように配列された状態に
偏向させる光学部材を構成している。
【００１１】上記第２の光ビーム発生手段２の調整手段
６は、図２及び図３に示すように、光ビーム発生手段２
のケース１０３が載置固定され、かつ光ビーム発生手段
２から発生する光ビームＬ２の照射方向に長い弾性材か
らなる基板２０１と、この基板２０１の長尺方向の光ビ
ームＬ２出射側の一端を段部２０２を介してハウジング
５に固定する複数の固定ねじ２０３と、基板２０１の長
尺方向の他端に貫通して取り付けられ、ハウジング５に
形成したねじ穴５１に螺合される調節ねじ部材（調節部
材）２０４と、この調節ねじ部材２０４が取り付けられ
る箇所において、基板２０１の他端とハウジング５間に
介在され、基板２０１の他端側をハウジング５から離間
する方向に付勢するコイルばねやばね座金等の弾性部材
２０５とから構成され、上記調節ねじ部材２０４をねじ
穴５１に螺入する方向またはねじ穴５１から抜け出る方
向に操作することにより、基板２０１の一端段部２０２
を支点にして基板２０１の長尺方向の他端をハウジング
５に接近する方向またはハウジング５から離間する方向
に変位させ、これにより光ビームＬ２の照射方向を副走
査方向に変位させる構成になっている。すなわち、調整
手段６の調節ねじ部材２０４を操作することにより、図
４における基準の光ビームＬ１に対する光ビームＬ２の
副走査方向の間隔Ｘ１を調整できるようになっている。
このような調整手段は、第３及び第４の光ブーム発生手
段３、４の調整手段７及び８においても第２の光ビーム
発生手段２の調整手段６と同様に構成されている。従っ
て、その構成説明は省略する。
６は、図２及び図３に示すように、光ビーム発生手段２
のケース１０３が載置固定され、かつ光ビーム発生手段
２から発生する光ビームＬ２の照射方向に長い弾性材か
らなる基板２０１と、この基板２０１の長尺方向の光ビ
ームＬ２出射側の一端を段部２０２を介してハウジング
５に固定する複数の固定ねじ２０３と、基板２０１の長
尺方向の他端に貫通して取り付けられ、ハウジング５に
形成したねじ穴５１に螺合される調節ねじ部材（調節部
材）２０４と、この調節ねじ部材２０４が取り付けられ
る箇所において、基板２０１の他端とハウジング５間に
介在され、基板２０１の他端側をハウジング５から離間
する方向に付勢するコイルばねやばね座金等の弾性部材
２０５とから構成され、上記調節ねじ部材２０４をねじ
穴５１に螺入する方向またはねじ穴５１から抜け出る方
向に操作することにより、基板２０１の一端段部２０２
を支点にして基板２０１の長尺方向の他端をハウジング
５に接近する方向またはハウジング５から離間する方向
に変位させ、これにより光ビームＬ２の照射方向を副走
査方向に変位させる構成になっている。すなわち、調整
手段６の調節ねじ部材２０４を操作することにより、図
４における基準の光ビームＬ１に対する光ビームＬ２の
副走査方向の間隔Ｘ１を調整できるようになっている。
このような調整手段は、第３及び第４の光ブーム発生手
段３、４の調整手段７及び８においても第２の光ビーム
発生手段２の調整手段６と同様に構成されている。従っ
て、その構成説明は省略する。
【００１２】また、図１において、マルチビーム走査装
置は、光ビーム走査手段を構成するポリゴンミラー１
３、ｆθレンズ１４、書き出しタイミング検出用の反射
ミラー１５、書き出しタイミング検出用の光センサ１６
等を備える。
置は、光ビーム走査手段を構成するポリゴンミラー１
３、ｆθレンズ１４、書き出しタイミング検出用の反射
ミラー１５、書き出しタイミング検出用の光センサ１６
等を備える。
【００１３】シリンドリカルレンズ９を透過した副走査
方向に並ぶ光ビームＬ１〜Ｌ４のマルチビーム出射光路
上にはポリゴンミラー１３が配置されており、このポリ
ゴンミラー１３は図示省略したモータにより高速回転さ
れる構成になっているとともに、ポリゴンミラー１３の
反射面で反射された光ビームＬ１〜Ｌ４からなる走査マ
ルチビームＭＬ１の反射方向にはｆθレンズ１４が配置
されている。このポリゴンミラー１３で反射された走査
マルチビームＭＬ１はｆθレンズ１４を透過した後、ｆ
θレンズ１４の光ビーム出射側に配置した反射ミラー１
７を介して図示省略したビーム照射対象物である感光ド
ラムに入射される構成になっている。
方向に並ぶ光ビームＬ１〜Ｌ４のマルチビーム出射光路
上にはポリゴンミラー１３が配置されており、このポリ
ゴンミラー１３は図示省略したモータにより高速回転さ
れる構成になっているとともに、ポリゴンミラー１３の
反射面で反射された光ビームＬ１〜Ｌ４からなる走査マ
ルチビームＭＬ１の反射方向にはｆθレンズ１４が配置
されている。このポリゴンミラー１３で反射された走査
マルチビームＭＬ１はｆθレンズ１４を透過した後、ｆ
θレンズ１４の光ビーム出射側に配置した反射ミラー１
７を介して図示省略したビーム照射対象物である感光ド
ラムに入射される構成になっている。
【００１４】一方、ポリゴンミラー１３の回転により走
査される走査マルチビームＭＬ１のうち、感光ドラムに
対し走査される範囲から外れた走査マルチビームＭＬ２
の反射方向、すなわちポリゴンミラー１３による光ビー
ム走査開始端と対向する箇所には書き出しタイミング検
出用の反射ミラー１５が配置されている。この反射ミラ
ー１５により反射された走査マルチビームＭＬ２は、走
査マルチビームＭＬ１の走査領域外に配置された書き出
しタイミング検出用の光センサ１６に向けて反射され
る。この光センサ１６は、走査マルチビームＭＬ２を受
光して書き出しタイミングを検出するための信号を出力
するものである。
査される走査マルチビームＭＬ１のうち、感光ドラムに
対し走査される範囲から外れた走査マルチビームＭＬ２
の反射方向、すなわちポリゴンミラー１３による光ビー
ム走査開始端と対向する箇所には書き出しタイミング検
出用の反射ミラー１５が配置されている。この反射ミラ
ー１５により反射された走査マルチビームＭＬ２は、走
査マルチビームＭＬ１の走査領域外に配置された書き出
しタイミング検出用の光センサ１６に向けて反射され
る。この光センサ１６は、走査マルチビームＭＬ２を受
光して書き出しタイミングを検出するための信号を出力
するものである。
【００１５】上記のように構成されたマルチビーム走査
装置において、第１ないし第４の光ビーム発生手段１〜
４から出力される光ビームＬ１〜Ｌ４は、対応するビー
ムスプリッタ１０、１１、１２によりシリンドリカルレ
ンズ９に向け偏向され、このシリンドリカルレンズ９を
透過した各光ビームＬ１〜Ｌ４はポリゴンミラー１３の
反射面に向け入射される。そして、ポリゴンミラー１３
の回転に伴いその反射面で反射される光ビームＬ１〜Ｌ
４は、走査マルチビームＭＬ１としてｆθレンズ１４に
入射される。これに伴いｆθレンズ１４を透過した走査
マルチビームＭＬ１は反射ミラー１７を介して図示省略
の感光ドラムの表面に入射され、画像データに従い変調
された光ビームＬ１〜Ｌ４の強度に応じて感光ドラム表
面を露光する。ここで、ポリゴンミラー１３は図１の矢
印Ａの方向に高速回転されるので、ポリゴンミラー１３
の反射面に対する光ビームＬ１〜Ｌ４の入射角が変化
し、この入射角の変化に伴い反射される走査マルチビー
ムＭＬ１は図示省略の感光ドラムに対して図１の矢印Ｂ
方向に主走査される。
装置において、第１ないし第４の光ビーム発生手段１〜
４から出力される光ビームＬ１〜Ｌ４は、対応するビー
ムスプリッタ１０、１１、１２によりシリンドリカルレ
ンズ９に向け偏向され、このシリンドリカルレンズ９を
透過した各光ビームＬ１〜Ｌ４はポリゴンミラー１３の
反射面に向け入射される。そして、ポリゴンミラー１３
の回転に伴いその反射面で反射される光ビームＬ１〜Ｌ
４は、走査マルチビームＭＬ１としてｆθレンズ１４に
入射される。これに伴いｆθレンズ１４を透過した走査
マルチビームＭＬ１は反射ミラー１７を介して図示省略
の感光ドラムの表面に入射され、画像データに従い変調
された光ビームＬ１〜Ｌ４の強度に応じて感光ドラム表
面を露光する。ここで、ポリゴンミラー１３は図１の矢
印Ａの方向に高速回転されるので、ポリゴンミラー１３
の反射面に対する光ビームＬ１〜Ｌ４の入射角が変化
し、この入射角の変化に伴い反射される走査マルチビー
ムＭＬ１は図示省略の感光ドラムに対して図１の矢印Ｂ
方向に主走査される。
【００１６】次に、感光ドラムに対し走査される各光ビ
ームＬ１〜Ｌ４において、光ビームＬ１を基準とする光
ビームＬ２〜Ｌ４の副走査方向の間隔を調整する場合に
ついて、図５を参照して説明する。この図５では、第２
のビーム発生手段２の光ビームＬ２を副走査方向に調整
する場合を代表して述べるが、第３及び４ビーム発生手
段３、４の光ビームＬ３、Ｌ４を副走査方向に調整する
場合も同様である。図５（Ａ）は、第２のビーム発生手
段２から発生する光ビームＬ２の照射方向はシリンドリ
カルレンズ９の光軸９ａと一致した状態を示している。
かかる状態において、調節ねじ部材２０４をねじ穴５１
に螺入される方向、または調節ねじ部材２０４をねじ穴
５１から抜ける出る方向に操作すると、図５（Ｂ）に示
すように、基板２０１の長尺方向の他端側は、基板２０
１の一端段部２０２を支点にして基板２０１の有する弾
性及び弾性部材２０５に抗してハウジング５に接近する
方向、または離間する方向に変位する。これに伴い、シ
リンドリカルレンズ９への光ビームＬ２の入射角θが変
化する。この入射角θは、光ビームＬ２の照射方向とシ
リンドリカルレンズ９の光軸９ａとの角度で表わされ
る。従って、シリンドリカルレンズ９への光ビームＬ２
の入射角θを変化させることにより、ポリゴンミラー１
３及びｆθレンズ１４を通して感光ドラムの走査面に到
達する光ビームＬ２の副走査方向の位置を変えることが
できる。
ームＬ１〜Ｌ４において、光ビームＬ１を基準とする光
ビームＬ２〜Ｌ４の副走査方向の間隔を調整する場合に
ついて、図５を参照して説明する。この図５では、第２
のビーム発生手段２の光ビームＬ２を副走査方向に調整
する場合を代表して述べるが、第３及び４ビーム発生手
段３、４の光ビームＬ３、Ｌ４を副走査方向に調整する
場合も同様である。図５（Ａ）は、第２のビーム発生手
段２から発生する光ビームＬ２の照射方向はシリンドリ
カルレンズ９の光軸９ａと一致した状態を示している。
かかる状態において、調節ねじ部材２０４をねじ穴５１
に螺入される方向、または調節ねじ部材２０４をねじ穴
５１から抜ける出る方向に操作すると、図５（Ｂ）に示
すように、基板２０１の長尺方向の他端側は、基板２０
１の一端段部２０２を支点にして基板２０１の有する弾
性及び弾性部材２０５に抗してハウジング５に接近する
方向、または離間する方向に変位する。これに伴い、シ
リンドリカルレンズ９への光ビームＬ２の入射角θが変
化する。この入射角θは、光ビームＬ２の照射方向とシ
リンドリカルレンズ９の光軸９ａとの角度で表わされ
る。従って、シリンドリカルレンズ９への光ビームＬ２
の入射角θを変化させることにより、ポリゴンミラー１
３及びｆθレンズ１４を通して感光ドラムの走査面に到
達する光ビームＬ２の副走査方向の位置を変えることが
できる。
【００１７】この時の感光ドラムの走査面における光ビ
ームＬ２の副走査方向の変化量Δｘは、次式（１）で与
えられる。 Δｘ＝ε・ｆM ＝ｆM ・ｆC ・ｔａｎθ ＝ｂ／ａ・ｆC ・ｔａｎθ・・・・・・・・・・・（１） ただし、ε：ポリゴンミラー１３の反射面での光ビーム
Ｌ２の副走査方向のズレ量であり、ε＝ｆC ・ｔａｎθ
から算出される。 ｆC ：シリンドリカルレンズ９のｆ値 ｆM ：副走査方向の倍率であり、ｆM ＝ｂ／ａから求め
られる。 ａ：ポリゴンミラー１３の結像点からｆθレンズ１４の
主点Ｈまでの距離 ｂ：ｆθレンズ１４の主点Ｈ’から感光ドラムの走査結
像点までの距離
ームＬ２の副走査方向の変化量Δｘは、次式（１）で与
えられる。 Δｘ＝ε・ｆM ＝ｆM ・ｆC ・ｔａｎθ ＝ｂ／ａ・ｆC ・ｔａｎθ・・・・・・・・・・・（１） ただし、ε：ポリゴンミラー１３の反射面での光ビーム
Ｌ２の副走査方向のズレ量であり、ε＝ｆC ・ｔａｎθ
から算出される。 ｆC ：シリンドリカルレンズ９のｆ値 ｆM ：副走査方向の倍率であり、ｆM ＝ｂ／ａから求め
られる。 ａ：ポリゴンミラー１３の結像点からｆθレンズ１４の
主点Ｈまでの距離 ｂ：ｆθレンズ１４の主点Ｈ’から感光ドラムの走査結
像点までの距離
【００１８】このように、光ビーム発生手段２を載置固
定した基板２０１の一端段部２０２を支点にして、基板
２０１の他端を調節ねじ部材２０４でハウジング５と接
近または離間する方向に変位させることにより、シリン
ドリカルレンズ９への光ビームＬ２の入射角θを変化さ
せ、ポリゴンミラー１３及びｆθレンズ１４を通して感
光ドラムの走査面に結像される光ビームＬ２の副走査方
向の位置を入射角θに応じて副走査方向に変位させるこ
とができるため、図４に示しように、光ビームＬ１を基
準にして、光ビームＬ１からＸ１の間隔離れた光ビーム
Ｌ２の副走査方向の間隔Ｘ１を容易に調節することがで
きる。
定した基板２０１の一端段部２０２を支点にして、基板
２０１の他端を調節ねじ部材２０４でハウジング５と接
近または離間する方向に変位させることにより、シリン
ドリカルレンズ９への光ビームＬ２の入射角θを変化さ
せ、ポリゴンミラー１３及びｆθレンズ１４を通して感
光ドラムの走査面に結像される光ビームＬ２の副走査方
向の位置を入射角θに応じて副走査方向に変位させるこ
とができるため、図４に示しように、光ビームＬ１を基
準にして、光ビームＬ１からＸ１の間隔離れた光ビーム
Ｌ２の副走査方向の間隔Ｘ１を容易に調節することがで
きる。
【００１９】また、第３及び第４の光ビーム発生手段
３、４から発生する光ビームＬ３、Ｌ４の副走査方向の
位置調整に際しては、上記第２の光ビーム発生手段２の
場合と同様に、それぞれの光ビーム発生手段を載置固定
した基板２０１の一端段部２０２を支点にして、基板２
０１の他端を調節ねじ部材２０４でハウジング５と接近
または離間する方向に変位させれば、シリンドリカルレ
ンズ９への光ビームＬ３、Ｌ４の入射角θが変化され、
かつ、ポリゴンミラー１３及びｆθレンズ１４を通して
感光ドラムの走査面に結像される光ビームＬ３、Ｌ４の
副走査方向の位置を入射角θに応じて副走査方向に変位
させることができるから、図４に示しように、光ビーム
Ｌ１を基準にして、光ビームＬ１からＸ２、Ｘ３の間隔
離れた光ビームＬ３、Ｌ４の副走査方向の間隔Ｘ２、Ｘ
３を容易に調節することができる。
３、４から発生する光ビームＬ３、Ｌ４の副走査方向の
位置調整に際しては、上記第２の光ビーム発生手段２の
場合と同様に、それぞれの光ビーム発生手段を載置固定
した基板２０１の一端段部２０２を支点にして、基板２
０１の他端を調節ねじ部材２０４でハウジング５と接近
または離間する方向に変位させれば、シリンドリカルレ
ンズ９への光ビームＬ３、Ｌ４の入射角θが変化され、
かつ、ポリゴンミラー１３及びｆθレンズ１４を通して
感光ドラムの走査面に結像される光ビームＬ３、Ｌ４の
副走査方向の位置を入射角θに応じて副走査方向に変位
させることができるから、図４に示しように、光ビーム
Ｌ１を基準にして、光ビームＬ１からＸ２、Ｘ３の間隔
離れた光ビームＬ３、Ｌ４の副走査方向の間隔Ｘ２、Ｘ
３を容易に調節することができる。
【００２０】このように本発明の実施の形態によれば、
各光ビーム発生手段から発生する光ビームの感光ドラム
の結像面における副走査方向のビーム間隔を容易に調整
することができるとともに、調整手段を構成する基板の
揺動端は、基板が有する弾性と、弾性部材によりハウジ
ングから離間する方向に常に付勢されているため、基板
の揺動端と調節ねじ部材とをガタのない安定した結合状
態に保持できる。また、調整手段は、光ビーム発生手段
を載置固定する基板と、この基板の一端をハウジングに
固定するねじと、基板の他端を副操作方向に変位させる
調節ねじ部材及び基板の一端をハウジングから離間する
方向に付勢する弾性部材とにより構成されるものである
ため、構造が簡単であるとともに、調節ねじ部材を操作
するだけで調整操作を簡便に行うことができ、低コスト
化できるという効果を有する。
各光ビーム発生手段から発生する光ビームの感光ドラム
の結像面における副走査方向のビーム間隔を容易に調整
することができるとともに、調整手段を構成する基板の
揺動端は、基板が有する弾性と、弾性部材によりハウジ
ングから離間する方向に常に付勢されているため、基板
の揺動端と調節ねじ部材とをガタのない安定した結合状
態に保持できる。また、調整手段は、光ビーム発生手段
を載置固定する基板と、この基板の一端をハウジングに
固定するねじと、基板の他端を副操作方向に変位させる
調節ねじ部材及び基板の一端をハウジングから離間する
方向に付勢する弾性部材とにより構成されるものである
ため、構造が簡単であるとともに、調節ねじ部材を操作
するだけで調整操作を簡便に行うことができ、低コスト
化できるという効果を有する。
【００２１】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、複数の光ビームをビーム照射対象物に対して走
査するマルチビーム走査装置において、光ビームの照射
方向が副走査方向に変位するように副走査方向に並ぶ光
ビーム相互間の間隔を調整する調整手段を備える構成に
したので、各光ビームの副走査方向の間隔を容易にかつ
微細に調整できるとともに、調整機構の低コスト化を容
易に実現することができる。
よれば、複数の光ビームをビーム照射対象物に対して走
査するマルチビーム走査装置において、光ビームの照射
方向が副走査方向に変位するように副走査方向に並ぶ光
ビーム相互間の間隔を調整する調整手段を備える構成に
したので、各光ビームの副走査方向の間隔を容易にかつ
微細に調整できるとともに、調整機構の低コスト化を容
易に実現することができる。
【図１】本発明の本実施の形態におけるマルチビーム走
査装置の概略構成を示す平面図である。
査装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】本発明の実施の形態における４本のレーザビー
ムを構成する光ビーム発生手段の配列構成を示す平面図
である。
ムを構成する光ビーム発生手段の配列構成を示す平面図
である。
【図３】本発明の実施の形態における実施の形態におけ
る光ビーム発生手段の縦断側面図である。
る光ビーム発生手段の縦断側面図である。
【図４】本発明の実施の形態における４本のレーザビー
ムの配列状態を示す説明図である。
ムの配列状態を示す説明図である。
【図５】（Ａ）、（Ｂ）は本発明の実施の形態における
光ビーム発生手段の光ビームの調整状態を示す説明図で
ある。
光ビーム発生手段の光ビームの調整状態を示す説明図で
ある。
１ 第１の光ビーム発生手段 ２ 第２の光ビーム発生手段 ３ 第３の光ビーム発生手段 ４ 第４の光ビーム発生手段 ５ ハウジング ６〜８ 調整手段 １０１ 半導体レーザ １０２ コリメータレンズ １０３ ケース ２０１ 基板 ２０３ 固定ねじ ２０４ 調節ねじ部材（調節部材） ２０５ 弾性部材 １０、１１、１２ ビームスプリッタ（光学部材） １３ ポリゴンミラー（光ビーム走査手段） １４ ｆθレンズ １５ 書き出しタイミング検出用の反射ミラー １６ 書き出しタイミング検出用の光センサ
Claims (10)
- 【請求項１】 光ビームを発生する複数の光ビーム発生
手段と、 前記各光ビーム発生手段からの各光ビームを副走査方向
に並ぶように偏向させる光学部材と、 前記光学部材で偏向された複数の光ビームをビーム照射
対象物に対して走査する光ビーム走査手段を有するマル
チビーム走査装置であって、 前記複数の光ビーム発生手段のうちの少なくとも一つの
光ビーム発生手段を、該光ビーム発生手段から発生する
光ビームの照射方向が副走査方向に変位するように副走
査方向に移動可能に支持する調整手段が設けられてい
る、 ことを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 【請求項２】 前記光ビーム発生手段は、半導体レーザ
などの光ビーム発生源と、該光ビーム発生源から発生す
るレーザビームを平行光に変換するコリメータレンズな
どの光学素子から構成される請求項１記載のマルチビー
ム走査装置。 - 【請求項３】 前記光ビーム発生手段は、半導体レーザ
などの光ビーム発生源と、該光ビーム発生源から発生す
るレーザビームを平行光に変換するコリメータレンズな
どの光学素子と、前記光ビーム発生源および光学素子を
収容するケースを備え、前記ケースが前記調整手段によ
り支持されている請求項１記載のマルチビーム走査装
置。 - 【請求項４】 前記調整手段は、前記光ビーム発生手段
が載置固定され、該光ビーム発生手段から発生する光ビ
ームの照射方向に長い基板と、前記基板の長尺方向の一
端を支点にして基板の長尺方向の他端を前記副走査方向
に変位させることにより前記光ビームの照射方向を副走
査方向に変位させる調節部材とを備えることを特徴する
請求項１、２または３記載のマルチビーム走査装置。 - 【請求項５】 前記基板は弾性材により成形され、この
基板の長尺方向の一端は固定され、基板の長尺方向の他
端を前記副走査方向に変位させることにより基板を弾性
変形することを特徴する請求項４記載のマルチビーム走
査装置。 - 【請求項６】 前記ビーム発生手段及び前記光ビーム走
査手段等を収容するハウジングを備え、前記基板の一端
は前記ビーム発生手段の光ビーム出射側であり、該一端
は前記ハウジングにねじ部材により固定される請求項４
または５記載のマルチビーム走査装置。 - 【請求項７】 前記調節部材は、前記ハウジングに螺合
するねじ部材から構成される請求項４記載のマルチビー
ム走査装置。 - 【請求項８】 前記基板の他端と前記ハウジング間に該
基板の他端側をハウジングから離間する方向に付勢する
弾性部材を介在したことを特徴とする請求項４ないし７
の何れか１項に記載のマルチビーム走査装置。 - 【請求項９】 前記光学部材で偏向された複数の光ビー
ムはシリンドリカルレンズを通して前記光ビーム走査手
段に出射される請求項１記載のマルチビーム走査装置。 - 【請求項１０】 複数の光ビームをビーム照射対象物に
対して走査するマルチビーム走査装置であって、 前記光ビームの照射方向が副走査方向に変位するように
副走査方向に並ぶ光ビーム相互間の間隔を調整する調整
手段を備える、 ことを特徴とするマルチビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5606798A JPH11237570A (ja) | 1998-02-20 | 1998-02-20 | マルチビーム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5606798A JPH11237570A (ja) | 1998-02-20 | 1998-02-20 | マルチビーム走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11237570A true JPH11237570A (ja) | 1999-08-31 |
Family
ID=13016748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5606798A Pending JPH11237570A (ja) | 1998-02-20 | 1998-02-20 | マルチビーム走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11237570A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002333588A (ja) * | 2001-05-10 | 2002-11-22 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2006178190A (ja) * | 2004-12-22 | 2006-07-06 | Fuji Xerox Co Ltd | 光走査装置 |
| JP2007304166A (ja) * | 2006-05-09 | 2007-11-22 | Canon Inc | 光学走査装置 |
| JP2008158520A (ja) * | 2007-12-17 | 2008-07-10 | Konica Minolta Holdings Inc | 画像形成装置 |
-
1998
- 1998-02-20 JP JP5606798A patent/JPH11237570A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002333588A (ja) * | 2001-05-10 | 2002-11-22 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2006178190A (ja) * | 2004-12-22 | 2006-07-06 | Fuji Xerox Co Ltd | 光走査装置 |
| JP4635600B2 (ja) * | 2004-12-22 | 2011-02-23 | 富士ゼロックス株式会社 | 光走査装置 |
| JP2007304166A (ja) * | 2006-05-09 | 2007-11-22 | Canon Inc | 光学走査装置 |
| JP2008158520A (ja) * | 2007-12-17 | 2008-07-10 | Konica Minolta Holdings Inc | 画像形成装置 |
| JP4501999B2 (ja) * | 2007-12-17 | 2010-07-14 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 画像形成装置 |
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