JPH09236764A - 光走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 正弦的に揺動する光偏向素子を用いたこと
で、従来の光走査装置より外形形状、重量とも小さくし
ながら、入射面にＡＲコートをもたない結像光学系を用
いても反射光による半導体レーザの誤動作を生じないよ
うにする。 【解決手段】 光ビームが前記結像光学系に入射する位
置において、入射面の法線が該光ビームの光軸と一致し
ないように設定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子計算機から送
られてくるコード化された信号を高速に印字出力する電
子写真方式の記録装置において、レーザビーム等のビー
ムを電子計算機等からの信号に応じて偏向、変調制御す
る光走査装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、電子計算機からの画像情報の記録
を担う記録装置として、電子写真方式による記録装置が
用いられている。

【０００３】以下、このような記録装置に用いられる従
来の光走査装置について図６を用いて説明する。

【０００４】図６は従来の光走査装置７１を示す平面図
である。

【０００５】筐体７８には、記録媒体である感光ドラム
７３を照射するに必要なレーザビームを形成する全ての
部材が配置されている。

【０００６】半導体レーザ７４とコリメータレンズ７５
とは一体のユニットとしてのレーザユニット７６を構成
している。

【０００７】この半導体レーザ７４はレーザビームを水
平方向に発振するものであり、その発振されたレーザビ
ームはコリメータレンズ７５に入射する。コリメータレ
ンズ７５を通過したレーザビームは、コリメータレンズ
７５の光軸と一致した平行ビームとなる。

【０００８】コリメータレンズ７５より出射されたレー
ザビームは、シリンドリカルレンズ７７によって、６面
の反射面を有する正六面体形状のポリゴンミラー７２の
反射面上に、そのポリゴンミラー７２の回転軸方向のみ
一旦集束するようにして入射される。

【０００９】ポリゴンミラー７２は高精度の軸受けに支
えられた軸に取りつけられ、定速回転する図示しないモ
ータにより駆動される。このモータの駆動により回転す
るポリゴンミラー７２によって、レーザビームはほぼ水
平に掃引されて等角速度で偏向される。

【００１０】なお、ポリゴンミラー７２は主にアルミニ
ウムを材料として形成されており、その作成の際には一
般に切削加工法が用いられる。また、モータの種類とし
ては、公知のヒステリシスシンクロナスモータ、ＤＣサ
ーボモータ等が挙げられる。これらは、磁気駆動力によ
り回転力を得ることからコイルの巻線や、鉄板を含む磁
気回路をモータ内に形成することが必要となるため、そ
の容積は比較的大きなものとなる。

【００１１】ポリゴンミラー７２によりほぼ水平に掃引
されて出射したレーザビームはｆθ特性を有する結像レ
ンズ７９により前記感光ドラム７３上にスポット光とし
て結像される。

【００１２】さらに、ポリゴンミラー７２により掃引さ
れたレーザビームは、画像領域を妨げない範囲で、ビー
ム検出器ユニット８０に導かれる。ビーム検出器ユニッ
ト８０は１個の反射ミラー８１と小さな入射スリットを
有するスリット板８２と応答速度の速い光電変換素子基
板８３から成る。そして、この光電変換素子基板８３が
掃引されるレーザビームの位置を検出すると、この検出
信号により感光ドラム７３上に画像データに応じた光情
報を与えるための半導体レーザ７４への入力信号のスタ
ートタイミングを制御している。

【００１３】上記のごとく画像信号に応じて変調された
レーザビームは感光ドラム７３に照射され、公知の電子
写真プロセスにより顕像化された後、普通紙等の転写材
上に転写定着されハードコピーとして出力される。

【００１４】また、特公昭６０−５７０５２号公報、特
公昭６０−５７０５３号公報、実公平２−１９７８３号
公報、実公平２−１９７８４号公報、実公平２−１９７
８５号公報に記載されているような、水晶基板を用いる
機械振動子の表面にレーザビームを反射するための反射
鏡を形成してなる光偏向素子を有する光走査装置も提案
されている。

【００１５】これら公報に記載された光走査装置は、光
偏向素子の偏向面（反射鏡面）を正弦的に往復振動させ
ることで、反射鏡に入射する光ビームを偏向走査するも
のである。なお、この往復振動の周波数を偏向周波数と
称する。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ポリゴンミラーを用いた方式による光走査装置では、上
述した通り、アルミニウム製のポリゴンミラーや、それ
を駆動するためのヒステリシスシンクロナスモータ、Ｄ
Ｃサーボモータ等を使用しているため、外形形状、重量
とも一般的に大きくなってしまい、この光走査装置を組
み込んだ記録装置の小型化に寄与し得ないという問題点
があった。さらに、ポリゴンミラーは２面以上のミラー
で構成されているため、各面間の傾斜角度のばらつきに
よって光ビームの反射角にばらつきが生じる現象、いわ
ゆる面倒れと称される問題が不可避であった。このた
め、ポリゴンミラーを用いた方式ではｆθレンズ等の結
像光学系に面倒れを補償する機能を付加する必要があ
り、結像光学系の高コスト化をまねいた。

【００１７】また、往復振動子で構成された光偏向子を
用いた光走査装置では、偏向子に形成された１面のみの
ミラーを用いるため面倒れは発生しないが、レーザ光の
一部が結像光学系の入射面で反射され、さらに偏向子に
構成されたミラーで反射され、半導体レーザに入射して
誤動作を引き起こす原因となる可能性があった。このた
め、結像光学系の入射面には反射を防止するためのコー
ティング（以下、ＡＲコートと略する。）を施す必要が
あり、光学部品製造において行程の増加とコストの増加
をまねいた。

【００１８】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、正弦的に揺動する光偏向素子を
用いたことで、従来の光走査装置より外形形状、重量と
も小さくしながら、ＡＲコートをもたない結像光学系を
用いても反射光による半導体レーザの誤動作を生じない
光走査装置を提供することを目的とする。

【００１９】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、光ビームを出射する光ビーム出射手段と、バネ部
と、バネ部によって支持される可動部と、その可動部に
設けられた偏向部を有し、絶縁基板によって構成される
光偏向素子と、主走査方向に光ビームを走査するため
に、前記光偏向素子を揺動させて光ビームに偏向作用を
施す光偏向手段と、前記光偏向手段によって偏向された
光ビームが入射される入射面を有し、入射された光ビー
ムを被走査媒体上に結像させるための結像光学系とを備
えた光走査装置において、前記光ビームが前記結像光学
系に入射する位置における前記結像光学系の入射面の法
線が、該光ビームの光軸と一致しないように結像光学系
を配置されたものであり、結像光学系の入射面で反射し
た光ビームは入射光の光軸と異なった光軸を持つ。

【００２０】また、請求項２の光走査装置は、請求項１
に記載の光走査装置において、前記結像光学系が、平面
形状の入射面を有し、該入射面の法線が光ビームの光軸
と所定の角度を持つように結像光学系の入射面が傾斜し
て配置されたものであり、結像光学系の入射面で反射し
た光ビームは入射光の光軸と異なった光軸を持つ。

【００２１】また、請求項３の光走査装置は、請求項１
に記載の光走査装置において、前記結像光学系が、光ビ
ームの主走査方向と直交する副走査方向に曲率を持ちか
つ光ビームの主走査方向の走査面に平行な対称面を持つ
曲面形状の入射面を有し、光ビームが入射する位置にお
ける前記結像光学系の入射面の法線が光ビームの光軸と
所定の角度を持つように、前記結像光学系の対称面が主
走査方向の走査面に対して所定の距離だけ副走査方向に
平行移動された位置に配置されており、結像光学系の入
射面で反射した光ビームは入射光の光軸と異なった光軸
を持つ。

【００２２】また、請求項４の光走査装置は、請求項１
から請求項３の光走査装置において、光ビーム出射手段
は、光ビームが出射される開口が形成された開口部材を
有し、前記開口の主走査方向と直交する副走査方向の径
をＤ、前記開口部材と前記結像光学系の入射面との距離
をＬとしたとき、前記光ビームが前記結像光学系に入射
する位置において、前記光学系の入射面の法線と該光ビ
ームの光軸とのなす角度Ａが下記の式の関係を満足する
よう設定されており、結像光学系の入射面で反射した光
ビームは入射光の光軸と異なった光軸を持つ。

【００２３】

【数１】

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した一実施
の形態を図面を参照して説明する。

【００２５】図１は、レーザプリンタに適用される光走
査装置１を示す平面図であり、これを用いて、本実施の
形態の光走査装置の構成及び動作を詳細に説明する。な
お、この図面の一部は、本実施の形態の構成を説明する
ために平面に投影した断面図となっている。

【００２６】筐体２には、被走査媒体である感光ドラム
３を照射するに必要なレーザビームを形成する全ての部
材が配置されている。

【００２７】図中に斜線が施してある筺体２の一部にお
いて、半導体レーザ４とコリメートレンズ５と鏡筒７
は、筺体２の一部位である円筒部６に一体化されて固定
されている。ここで鏡筒７の開口部８によって、全体の
開口は制限されている。

【００２８】半導体レーザ４は、外部から入力される画
像信号に従って強弱に変調されたレーザビームを放射
し、コリメートレンズ５に入射させる。

【００２９】コリメートレンズ５は、円筒形状のガラス
レンズからなり、半導体レーザ４から放射されたレーザ
ビームを受けて平行なレーザ光として鏡筒７の開口から
出射させる作用をする。この様な円筒形状のレンズとし
ては、円筒軸垂直方向に屈折率分布を持ったＧＲＩＮレ
ンズが知られている。

【００３０】鏡筒７は、樹脂成型品からなり、コリメー
トレンズ５を、鏡筒７の外形円筒面の中心軸と、コリメ
ートレンズ５の光軸がほぼ一致するように保持する機能
を持つ。

【００３１】半導体レーザ４とコリメートレンズ５は、
半導体レーザ４の発光点がコリメートレンズ５の光軸に
略一致し、また半導体レーザ４の発光点がコリメートレ
ンズ５の焦点に一致するように調整される。これらを調
整することにより半導体レーザ４より放射されたレーザ
ビームはコリメートレンズ５通過後、コリメートレンズ
５の光軸と略一致した平行ビームとなり、鏡筒７の開口
により平行ビームの断面形状が所定の形状となるべく規
制されて出射される。

【００３２】偏向器１０は、光偏向素子２０とその光偏
向素子２０を正弦振動させるための駆動部２１と偏向器
筐体２２とから構成されている。

【００３３】次に、本実施の形態の光偏向素子２０の構
成について、図２を参照して説明する。

【００３４】光偏向素子２０を構成するフレーム４１に
は、上部及び下部に一体形成されたバネ部４２，４３を
介して可動部４４が支持されている。これら、フレーム
４１、バネ部４２，４３及び可動部４４は単一の絶縁基
板によって構成されており、またこれらの形状は、フォ
トリソグラフィ及びエッチングの技術を利用して形成さ
れる。ここで、絶縁基板としては、例えば厚さが５×１
０-5ｍ程度の水晶基板が使用可能である。なお、フレー
ム４１は必ずしも必要ではない。

【００３５】また、可動部４４には反射鏡４５とコイル
パターン４６とがフォトリソグラフィ及びエッチングの
技術を利用して形成されている。この反射鏡４５の表面
精度は、結像時のビーム形状を乱さないようにするため
に、半導体レーザ４より出射されるレーザビームの波長
の１／４程度とされる。また、上部及び下部のバネ部４
２，４３にはそれぞれコイルパターン５への導通のため
のリード線４７，４８が設けられており、上部側のリー
ド線４７にはコイルパターン５を飛び越して接続される
ジャンパ線４９が設けられている。

【００３６】なお、上述したフレーム４１、バネ部４
２，４３及び可動部４４の形成方法や反射鏡４５及びコ
イルパターン４６の形成方法については、特公昭６０−
５７０５２号公報に詳細に記載されているので、ここで
の説明を省略する。

【００３７】また、駆動部１１としては例えば永久磁石
が用いられ、所定のバイアス磁界を形成するように配置
される。

【００３８】このように構成された本実施の形態の偏向
器１０では、光偏向素子２０のコイルパターン４６を駆
動部１１により与えられるバイアス磁界中に配置させ、
リード線４７，４８及びジャンパ線４９を介してコイル
パターン４６に電流を流すことにより、可動部４４が上
部及び下部のバネ部４２，４３を軸として正弦的に往復
揺動運動する。そして、可動部４４がこのような揺動運
動をすることにより、反射鏡４５にて反射されるレーザ
ビームが偏向作用を受けて水平に掃引されるのである。

【００３９】結像レンズ１２は、１枚玉のプラスチック
レンズからなり、偏向器２０による偏向作用を受けたレ
ーザビームを感光ドラム３上に結像させ、さらに感光ド
ラム３上にてレーザビームによる走査線が略等速で主走
査方向に移動するようにＦ・ａｒｃｓｉｎθ特性を有し
ている。

【００４０】一般の結像レンズでは、光線のレンズへの
入射角がθの時、像面上での結像する位置ｒについて、
ｒ＝ｆ・ｔａｎθ（ｆは結像レンズの焦点距離）となる
関係がある。しかし、本実施の形態のように、正弦揺動
する偏向器１０により反射されるレーザビームは結像レ
ンズ１２への入射角が、時間と共に三角関数的に変化す
る。従って、一般の結像レンズを用いると共に一定時間
間隔で半導体レーザ４をＯＮすることにより間欠的にレ
ーザビームを出射させて、そのビームスポット列を感光
ドラム３上に結像させると、それらビームスポット列の
間隔は等間隔とはならなくなる。よって、本実施の形態
のように正弦揺動する偏向器１０を用いる光走査装置１
においては、上述のような現象を避けるために、結像レ
ンズ１２として、ｒ＝ｆ・ａｒｃｓｉｎθなる特性を有
するものが用いられる。このような結像レンズ１２をＦ
アークサインθレンズと称する。

【００４１】図３に本発明の光走査装置に用いる半導体
レーザ４、鏡筒７の開口部８、光偏向子２０（図３では
反射鏡４５のみを示す。）、結像光学系１２の側面から
の位置関係を示す。なお、説明を簡単にするために、反
射鏡４５にて光ビームが反射される位置を点Ｂ、Ｃで示
し、入射光の光軸５０及び反射光の光軸５１を直線で表
す。結像レンズ１２の入射面５２が副走査方向に曲率を
持たない場合、結像レンズ１２は主走査面（図３の紙面
と垂直な面）に対して傾斜させて設置され、半導体レー
ザから出射される光ビームの光軸５０が、結像レンズ１
２の入射面５２の法線５３と一致しないように設定され
ている。このように設定することで、半導体レーザから
出射された光ビームは光軸５０にそって進行し、反射鏡
４５の点Ｂで反射され、結像レンズ１２の入射面５２に
入射する。入射面５２に入射した光ビームの一部は入射
面５２で光軸５２の方向に反射され、さらに反射面４５
の点Ｃで反射され、鏡筒７で遮られ、半導体レーザ４に
入射することはない。なお、このように反射光が半導体
レーザ４に入射しないように設定するためには、開口部
８の副走査方向の径（開口が円でない場合は、副走査方
向における開口の長さとする。）をＤ、光ビーム出射手
段の開口を設定する鏡筒７と前記結像光学系の入射面５
２との距離をＬとしたとき、前記光ビームが結像レンズ
１２に入射する位置において、入射面５２の法線５３と
該光ビームの光軸５０とのなす角度Ａが下記の式の関係
を満足すればよい。

【００４２】

【数１】

【００４３】この式に従って角度Ａを設定すれば、入射
面５２での反射光は鏡筒７に遮られ、結果的に半導体レ
ーザ４に入射せず、半導体レーザの誤動作は発生しな
い。

【００４４】また、第２の実施の形態として、結像レン
ズ５４の入射面５５が光ビームの主走査方向と直交する
副走査方向に曲率を持ち、かつ光ビームの主走査方向の
走査面に平行な面を対称面５６とする曲面形状を有して
いる場合は、図４に示すように、結像レンズ５４を主走
査面（図４の紙面と垂直な面）に対して傾けることな
く、結像レンズ５４の対称面５６と走査面の位置を並行
にずらすことによっても、同様の効果が得られる。この
ように設定することで、半導体レーザから出射された光
ビームは光軸５０にそって進行し、反射鏡４５の点Ｂで
反射され、結像レンズ５４の入射面５５に入射する。入
射面５５に入射した光ビームの一部は入射面５５で光軸
５２の方向に反射され、さらに反射面４５の点Ｃで反射
され、開口部材７で遮られ、半導体レーザ４に入射する
ことはない。この場合も入射面５５の法線５７と該光ビ
ームの光軸５０とのなす角度Ａが前記の式の関係を満足
すればよいことは同様である。

【００４５】次に図１を参照して、半導体レーザ４の制
御について説明する。結像レンズ１２より出射されたレ
ーザビームは感光ドラム３上への照射を妨げない領域内
で導光ミラー１３にて光路を折り返されて、筺体２の一
部分として形成されているナイフエッジ１８を通過して
ビーム検出器１４に導かれる。

【００４６】ビーム検出器１４はｐｉｎフォトダイオー
ド等の光電変換素子からなり、掃引されるレーザビーム
を検出するものであり、この検出を示す検出信号に応じ
て感光ドラム３上に画像信号に応じた光情報を与えるた
めの半導体レーザ４への入力信号のスタートタイミング
を制御している。

【００４７】これにより偏向器１０の可動部４４が揺動
する際の偏向角速度のムラによる水平方向の信号の同期
ずれを大幅に軽減でき、質のよい画像が得られると共に
偏光器１０に要求される偏向角速度の精度の許容範囲が
大きくなるものである。

【００４８】また、ビーム検出器１４は、半導体レーザ
４と同一の一枚の基板１５平面上に配設されている。こ
のため、ビーム検出器１４と半導体レーザ４を駆動する
ための駆動回路との間の電気信号の経路を短くすること
ができるので、回路系が周囲電気ノイズによって誤動作
を起こす可能性を低くすることができる。さらに、ビー
ム検出器１４と半導体レーザ４とが同一の一枚の基板１
５平面上に配設されており、両者の駆動回路が基板１５
上に共存しているため、基板１５の枚数が低減でき、基
板間を結線するハーネス１６の本数を同時に低減するこ
ともできるという効果を合わせもっている。

【００４９】基板１５は、ネジ６０により筺体２に固定
されており、ハーネス１６伝い、または、直接の外力に
より、基板が力を受けて半導体レーザ４が筺体２から抜
けてしまったり、その位置がずれてしまったりするのを
防ぐという効果を持っている。

【００５０】ナイフエッジ１８は筐体２の一部分として
設けられたている。なお、従来は、薄い金属を打ち抜き
加工した矩形スリット状の部品を位置調整して筺体２に
ネジ等で固定して配設されていた。従って、本実施の形
態のように、ナイフエッジ１８を筺体２の一部分として
形成したことにより、部品点数を低減できるという効果
が得られる。

【００５１】また、この筐体２は一般に広く用いられて
いるガラス繊維入りポリカーボネートにて形成され、各
構成要素を位置精度よく担持し、振動による歪が小さい
ことが必要である。

【００５２】ついで、上述の通り構成された光走査装置
１の動作について図１を用いて説明する。

【００５３】半導体レーザ４は画像信号に基づいて点滅
してレーザビームを発しており、このレーザビームはコ
リメートレンズ５によって平行ビームにされたのち、鏡
筒７の開口により整形作用を受けて出射される。レーザ
ビームは、偏向器１０の光偏向素子２０に形成されてい
る反射鏡４５に入射される。光偏向素子２０の可動部４
４は駆動部１１によって正弦的に揺動しているため、反
射鏡４５にて反射されるレーザビームは正弦的に往復偏
向作用を受ける。光偏向素子２０により偏向作用を受け
たレーザビームは、さらに結像レンズ１２としてのＦア
ークサインθレンズによって感光ドラム３上に結像され
るべく収束作用を受ける。また、同時に、光偏向素子２
０により偏向されたレーザビームが感光ドラム３上を等
速度にて走査されるような光路屈折作用を受ける。

【００５４】結像レンズ１２により収束作用を受けたレ
ーザビームは、折り返しミラー１９により光路を折り畳
まれて感光ドラム３上に結像し、順次等速走査される。
このとき、光ビームの一部が結像レンズ１２の入射面で
反射されるが、その反射光は開口部８に遮られることに
より半導体レーザ４に入射することがないため、戻り光
を原因とする半導体レーザの誤動作は生じない。また、
発光されたレーザビームは画像走査範囲外にて導光ミラ
ー１３により屈折され、ビーム検出器１４に導かれる。
ビーム検出器１４がレーザビームを検出すると、その検
出信号を出力する。この検出信号は水平同期信号として
用いられ、水平方向における画像の基準位置を得るため
に利用される。

【００５５】そして、画像情報による光走査作用を受け
た感光ドラム３は公知の電子写真プロセス等により顕像
化された後、普通紙または特殊紙より成る転写材上に周
知の転写機構及び定着機構により転写・定着されハード
コピーとして出力される。

【００５６】尚、本発明は上述した実施の形態に限定さ
れるものではなく、適宜変更を加えることが可能であ
る。例えば、本実施の形態においては結像レンズ１２を
筐体に取り付ける際、光軸に対して結像レンズを傾斜さ
せて取り付けたが、図５に示すように、結像レンズ５８
の入射面５９のみ傾斜した形状の結像レンズを用いても
よい。また、偏向器筐体と筐体を同一部材で一体的に形
成してもかまわない。これによって部品数の低減と組立
工数の現象の効果が生じる。その他、本発明の趣旨を越
えない範囲で様々な変更が可能である。

【００５７】

【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
絶縁基板によって、バネ部と、このバネ部によって支持
される可動部とを構成し、該可動部に該光ビームを偏向
するための偏向部をもうけた光偏向手段を用いているの
で、従来の光走査装置より外径形状、重量とも小さくす
ることができ、装置の小型化に大きく貢献する。さら
に、光ビームが結像光学系に入射する位置において、入
射面の法線が該光ビームの光軸と一致しないため、入射
面にＡＲコートをもたない結像光学系を用いても反射光
による半導体レーザの誤動作を生じないという効果を奏
する。

【００５８】また、請求項２記載の光走査装置は、前記
結像光学系は、光ビームが該結像光学系に入射する入射
面は平面形状であり、該入射面の法線が光ビームの光軸
と所定の角度を持つように結像光学系の入射面が傾斜し
て配置されているため、入射面にＡＲコートをもたない
結像光学系を用いても反射光による半導体レーザの誤動
作を生じないという効果を奏する。

【００５９】また、請求項３記載の光走査装置は、前記
結像光学系が、光ビームの主走査方向と直交する副走査
方向に曲率を持ちかつ光ビームの主走査方向の走査面に
平行な対称面を持つ曲面形状の入射面を有し、光ビーム
が入射する位置における前記結像光学系の入射面の法線
が光ビームの光軸と所定の角度を持つように、前記結像
光学系の対称面が主走査方向の走査面に対して所定の距
離だけ副走査方向に平行移動された位置に配置されてい
るため、入射面にＡＲコートをもたない結像光学系を用
いても反射光による半導体レーザの誤動作を生じないと
いう効果を奏する。

【００６０】また、請求項４記載の光走査装置は、光ビ
ーム出射手段が、光ビームが出射される開口が形成され
た開口部材を有し、前記開口の主走査方向と直交する副
走査方向の径をＤ、前記開口部材と前記結像光学系の入
射面との距離をＬとした際、前記光ビームが前記結像光
学系に入射する位置において、前記光学系の入射面の法
線と該光ビームの光軸とのなす角度Ａが下記の式の関係
を満足するため、入射面にＡＲコートをもたない結像光
学系を用いても反射光による半導体レーザの誤動作を生
じないという効果を奏する。

【００６１】

【数１】

【図面の簡単な説明】

【図１】光走査装置の平面図である。

【図２】光走査装置に用いる光偏向素子の斜視図であ
る。

【図３】光走査装置において、光学系の位置関係を示す
横断面図である。

【図４】第２の実施の形態の光学系の位置関係を示す横
断面図である。

【図５】変形例の実施の形態の光学系の位置関係を示す
横断面図である。

【図６】従来の光走査装置の平面図である。

【符号の説明】

１ 光走査装置 ２ 筺体 ３ 感光ドラム ４ 半導体レーザ ９ 光偏向素子 １２ 結像レンズ ２０ 光偏向素子 ２２ 偏向器筐体 ５０ 入射光の光軸 ５１ 反射光の光軸 ５２ 入射面 ５３ 法線

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光ビームを出射する光ビーム出射手段
   と、 バネ部と、バネ部によって支持される可動部と、その可
   動部に設けられた偏向部を有し、絶縁基板によって構成
   される光偏向素子と、主走査方向に光ビームを走査する
   ために、前記光偏向素子を揺動させて光ビームに偏向作
   用を施す光偏向手段と、 前記光偏向手段によって偏向された光ビームが入射され
   る入射面を有し、入射された光ビームを被走査媒体上に
   結像させるための結像光学系とを備えた光走査装置にお
   いて、 前記光ビームが前記結像光学系に入射する位置における
   前記結像光学系の入射面の法線が、該光ビームの光軸と
   一致しないように結像光学系を配置することを特徴とす
   る光走査装置。
2. 【請求項２】 前記結像光学系が、平面形状の入射面を
   有し、該入射面の法線が光ビームの光軸と所定の角度を
   持つように結像光学系の入射面が傾斜して配置されてい
   ることを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
3. 【請求項３】 前記結像光学系が、光ビームの主走査方
   向と直交する副走査方向に曲率を持ちかつ光ビームの主
   走査方向の走査面に平行な対称面を持つ曲面形状の入射
   面を有し、光ビームが入射する位置における前記結像光
   学系の入射面の法線が光ビームの光軸と所定の角度を持
   つように、前記結像光学系の対称面が主走査方向の走査
   面に対して所定の距離だけ副走査方向に平行移動された
   位置に配置されていることを特徴とする請求項１記載の
   光走査装置。
4. 【請求項４】光ビーム出射手段は、光ビームが出射され
   る開口が形成された開口部材を有し、前記開口の主走査
   方向と直交する副走査方向の径をＤ、前記開口部材と前
   記結像光学系の入射面との距離をＬとしたとき、 前記光ビームが前記結像光学系に入射する位置におい
   て、前記光学系の入射面の法線と該光ビームの光軸との
   なす角度Ａが、 【数１】 の関係を満足することを特徴とする請求項１から請求項
   ３に記載の光走査装置。