JP2001305450A - マルチビーム光源走査装置およびマルチビーム光源走査方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ポリゴンミラーを小型化でき、ポリゴンミラ
ー駆動用のモータの発熱を抑え、振動や騒音を低下さ
せ、ポリゴンミラーの製造コストを削減できるマルチビ
ーム光源走査装置およびマルチビーム光源走査方法を提
供する。 【解決手段】 光源部１００から出射された各光ビーム
Ｌは、縮小系アナモプリズム９００によって隣接する光
ビームの間隔が縮小される。各光ビームＬは、ポリゴン
ミラー３３０の各反射面３３２によって偏向走査され拡
大系アナモプリズム９５０によって光ビームの間隔が例
えば縮小系アナモプリズム９００に入射する前の間隔に
戻される。各光ビームＬは、ｆθ第１レンズ４００、ｆ
θ第２レンズ５００に入射されて収束される。ｆθ第２
レンズ５００から出射された各光ビームＬはｆθ第３レ
ンズ６００Ａ乃至６００Ｄに導かれ各感光ドラム２０Ａ
乃至２０Ｄ上に点像として収束された状態で主走査方向
に走査される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は複数の光源から出射
される光ビームを感光ドラムなどの被照射対象物に対し
て走査するマルチビーム光源走査装置およびマルチビー
ム光源走査方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】モノクロのレーザプリンタなどに適用さ
れる光走査装置は、画素信号により発光される半導体レ
ーザを備え、この半導体レーザから出力されるレーザビ
ーム（以下光ビームという）はコリメートレンズにより
平行光に変換された後、ポリゴンミラーにより水平方向
に走査偏向され、この光ビームをｆθレンズで屈折、集
光させて感光ドラムの表面に入射し、感光ドラム表面を
画素信号の強度に応じて露光する。そして、この露光像
をトナーで現像した後、このトナー像を記録紙に転写し
定着処理を施すことにより、画像情報を記録紙に印画定
着するようになっている。

【０００３】また、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラ
ックの各色に対応したトナー像を記録紙に転写すること
でカラー画像を印画するカラープリンタやカラー複写機
などの画像形成装置に適用される光走査装置として、各
色毎に独立した光源を用いたマルチビーム光源走査装置
がある。このマルチビーム光源走査装置は、イエロー、
マゼンタ、シアン、ブラックの各色毎に独立した光源と
各色毎に独立したｆθレンズを備え、各色毎に独立した
感光ドラムにそれぞれの色に対応した光ビームを照射し
て露光するように構成されており、各色毎に露光、現
像、転写の各プロセスが行なわれ、最後に定着装置によ
り４色同時に定着して、カラー画像が記録紙に印画定着
されるようになっている。上述したマルチビーム光源走
査装置において、ポリゴンミラーは毎分数万回転という
高速で回転されるため、その慣性質量をなるべく減らす
ことがポリゴンミラー駆動用のモータの発熱を抑え、振
動や騒音を低下させるために必要である。また、ポリゴ
ンミラーの製造コストを削減するためにも、ポリゴンミ
ラーの小型化が望まれている。したがって、マルチビー
ム光源走査装置が、各光源からの光ビームが互いに平行
をなしポリゴンミラーの反射面に対して偏光走査方向と
直交する方向に互いに間隔をおいて入射するように導か
れる構成であった場合、各光源から出射される各光ビー
ム間の隣接する光ビームの間隔を狭めることによって、
ポリゴンミラーの反射面の偏光走査方向と直交する方向
の寸法、すなわちポリゴンミラーの厚さを薄くすること
がポリゴンミラーの小型化を実現するために有効な対策
である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述したよ
うな構成のマルチビーム光源走査装置では、各光源から
出射される各光ビーム間の隣接する光ビームの間隔を縮
小することには限界がある。この理由としては、レーザ
ーダイオードなどから構成される各光源が有する物理的
な大きさによって光ビームの間隔を狭めるのに限界があ
ることと、各光ビームを収束するｆθレンズを含む収束
光学系も各光ビーム間の隣接する光ビームの間隔が狭く
なるほど光学的性能を確保することが難しくなることな
どがある。このため、従来はポリゴンミラーの小型化が
困難であった。本発明は前記事情に鑑み案出されたもの
であって、本発明の目的は、ポリゴンミラーの小型化を
可能として、ポリゴンミラー駆動用のモータの発熱を抑
え、振動や騒音を低下させ、ポリゴンミラーの製造コス
トを削減することができるマルチビーム光源走査装置お
よびマルチビーム光源走査方法を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明のマルチビーム光
源走査装置は、光ビームを出射する複数の光源と、前記
各光源から出射された前記各光ビームを偏向走査するポ
リゴンミラーと、前記ポリゴンミラーによって偏向走査
された前記各光ビームをそれぞれ複数の被照射対象物に
収束させて導く収束光学系とを備え、前記各光源からの
光ビームは互いに平行をなし前記ポリゴンミラーの反射
面に対して偏光走査方向と直交する方向に互いに間隔を
おいて入射するように導かれるマルチビーム光源走査装
置において、前記各光源と前記ポリゴンミラーの反射面
との間に前記各光ビームが通過する縮小光学系が配設さ
れ、前記ポリゴンミラーと前記収束光学系との間に前記
反射面で反射された各光ビームが通過する拡大光学系が
配設され、前記縮小光学系は該縮小光学系を通過した前
記各光ビームの隣接する光ビームの間隔が縮小されるよ
うに構成され、前記拡大光学系は該拡大光学系を通過し
た前記各光ビームの隣接する光ビームの間隔が拡大され
るように構成されていることを特徴とする。

【０００６】そのため、各光源から出射されポリゴンミ
ラーの反射面に導かれる各光ビームの隣接する光ビーム
の間隔を縮小することができるので、ポリゴンミラーの
反射面のうち、偏向走査方向と直交する方向の寸法を削
減することでポリゴンミラーを小型化することができ
る。したがって、ポリゴンミラーが小型化できるので、
ポリゴンミラー駆動用のモータの発熱を抑え、振動や騒
音を低下させ、ポリゴンミラーの製造コストを削減する
ことができる。

【０００７】また、本発明のマルチビーム光源走査装置
は、光ビームを出射する複数の光源と、前記各光源から
出射された前記各光ビームを偏向走査するポリゴンミラ
ーと、前記ポリゴンミラーによって偏向走査された前記
各光ビームをそれぞれ複数の被照射対象物に収束させて
導く収束光学系とを備え、前記各光源からの光ビームは
互いに平行をなし前記ポリゴンミラーの反射面に対して
偏光走査方向と直交する方向に互いに間隔をおいて入射
するように導かれるマルチビーム光源走査装置におい
て、前記ポリゴンミラーと前記縮小光学系の間に前記反
射面で反射された各光ビームが通過する拡大光学系が配
設され、前記拡大光学系は該拡大光学系を通過した前記
各光ビームの間隔が拡大されるように構成され、前記ポ
リゴンミーで偏光走査された前記各光ビームにより形成
される平面を主走査断面とし、前記主走査方向と直交す
る方向を副走査方向としたとき、前記収束光学系は該収
束光学系の光軸が前記主走査断面に対して前記副走査方
向に所定の傾斜角度分傾斜して設けられていることを特
徴とする。

【０００８】そのため、各光源から出射されポリゴンミ
ラーの反射面に導かれる各光ビームの隣接する光ビーム
の間隔を縮小することができるので、ポリゴンミラーの
反射面のうち、偏向走査方向と直交する方向の寸法を削
減することでポリゴンミラーを小型化することができ
る。したがって、ポリゴンミラーが小型化できるので、
ポリゴンミラー駆動用のモータの発熱を抑え、振動や騒
音を低下させ、ポリゴンミラーの製造コストを削減する
ことができる。また、収束光学系をその光軸が拡大光学
系の光軸に対して各光ビームが偏向走査される主走査方
向と直交する副走査方向に所定の傾斜角度分傾斜するこ
とによって、ポリゴンミラーの反射面によって偏向走査
される各光ビームの拡大光学系に対する入射角度が変化
することによって生じる各光ビームの走査湾曲を打ち消
すことが可能となる。

【０００９】また、本発明のマルチビーム光源走査方法
は、複数の光源から出射された各光ビームをポリゴンミ
ラーにより偏向走査し、前記偏向走査された各光ビーム
をそれぞれ複数の被照射対象物に収束させて照射するマ
ルチビーム光源走査方法において、前記ポリゴンミラー
の反射面に前記各光ビームが照射される前に、隣接する
各光ビームの間隔を縮小し、前記ポリゴンミラーで反射
された後に、隣接する各光ビームの間隔を拡大するよう
にしたことを特徴とする。

【００１０】そのため、各光源から出射されポリゴンミ
ラーの反射面に導かれる各光ビームの隣接する光ビーム
の間隔を縮小することができるので、ポリゴンミラーの
反射面のうち、偏向走査方向と直交する方向の寸法を削
減することでポリゴンミラーを小型化することができ
る。したがって、ポリゴンミラーが小型化できるので、
ポリゴンミラー駆動用のモータの発熱を抑え、振動や騒
音を低下させ、ポリゴンミラーの製造コストを削減する
ことができる。

【００１１】また、本発明は、前記ポリゴンミラーの反
射面は前記各光ビームを偏向走査する単一の面から構成
することができる。また、本発明は、前記収束光学系は
光ビームを収束させる複数のｆθレンズからなるｆθレ
ンズ群を備え、前記ｆθレンズ群は、前記ポリゴンミラ
ーから偏向走査された全ての光ビームが通過するｆθ第
１レンズと該ｆθ第１レンズを通過した全ての光ビーム
が通過する第２ｆθレンズとを有する構成とすることが
できる。また、本発明は、前記ｆθ第１レンズは、主に
前記各光ビームの前記主走査方向と直交する副走査方向
の収束を行うように構成することができる。また、本発
明は、前記ｆθ第２レンズは、前記各光ビームの主走査
方向の収束のみを行うように構成することができる。ま
た、本発明は、前記ｆθレンズ群は、前記光源の数に対
応した数のｆθ第３レンズをさらに有し、前記各光ビー
ムは前記ｆθ第２レンズを通過したのち各ｆθ第３レン
ズを通過するように構成することができる。また、本発
明は、前記ｆθ第３レンズを構成する前記複数個のｆθ
レンズは、主にそれぞれ光ビームの前記主走査方向と直
交する副走査方向の収束を行うように構成することがで
きる。また、本発明は、前記複数の光源を、イエロー、
マゼンタ、シアン、ブラックの４色に対応して設けるこ
とができる。また、本発明は、前記複数の被照射対象物
をイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色に対応
して設けられた感光ドラムとし、前記各光ビームが前記
走査機構によって走査される方向を各感光ドラムの長さ
方向とすることができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。なお、本実施の形態では、
マルチビーム光源走査装置がカラー画像形成装置に適用
された場合について説明する。また、以下ではマルチビ
ーム光源走査装置の実施の形態について説明することで
マルチビーム光源走査方法の実施の形態の説明を兼ねる
ことにする。

【００１３】図１は本発明の実施の形態のマルチビーム
光源走査装置の構成を示す平面図、図２は図１をＡＡ線
断面から見た状態を示す断面図、図３は図１をＢＢ線断
面から見た状態を示す断面図、図４は縮小系アナモプリ
ズムの構成図、図５は拡大系アナモプリズムの構成図で
ある。図６はポリゴンミラーの反射面から被照射物まで
の光学系の構成を示す説明図、図７は走査湾曲を説明す
る図であり、図７（Ａ）は走査湾曲が生じた状態を示す
光ビームの走査軌跡図、図７（Ｂ）は走査湾曲が打ち消
された状態を示す光ビームの走査軌跡図である。

【００１４】図１乃至図３に示されているように、マル
チビーム光源走査装置１０００は、筐体１の底壁１０
と、この底壁１０の上面１０Ａに設けられたｆθ第３レ
ンズ６００Ａ乃至６００Ｄと、この底壁１０の上面１０
Ａと間隔をおいて平行をなすように複数個の支柱１０Ｂ
で底壁１０に支持された取付壁部３０と、取付壁部３０
の上面３０Ａに配設された各部、すなわち光源部１００
（図１にのみ示す）、シリンダレンズ部２００（図１に
のみ示す）、ポリゴンミラー部３００、ｆθ第１レンズ
４００、ｆθ第２レンズ５００、光路屈曲手段群７００
（図２にのみ示す）、水平同期検知部８００（図１にの
み示す）、縮小系アナモプリズム９００（特許請求の範
囲の縮小光学系）、拡大系アナモプリズム９５０（特許
請求の範囲の拡大光学系）などから構成されている。ｆ
θ第１レンズ４００、ｆθ第２レンズ５００、ｆθ第３
レンズ６００Ａ乃至６００Ｄ、光路屈曲手段群７００
は、特許請求の範囲の収束光学系に相当している。

【００１５】図２、図３に示されているように、底壁１
０は、水平方向に延在し、その下方には底壁１０の下面
１０Ｂと間隔をおいて、４個の感光ドラム２０Ａ、２０
Ｂ、２０Ｃ、２０Ｄ（特許請求の範囲の被照射対象物に
相当）が互いに水平方向に間隔をおいて軸線が平行をな
した状態で回転可能に設けられている。そして、各感光
ドラム２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ、２０Ｄは、平面から見
てポリゴンミラー部３００の一側において、ポリゴンミ
ラー部３００から上記順番と逆の順番で順次離れた箇所
に位置するように配置されている。同様に各ｆθ第３レ
ンズ６００Ａ乃至６００Ｄも平面から見てポリゴンミラ
ー部３００の一側において、ポリゴンミラー部３００か
ら上記順番と逆の順番で順次離れた箇所に位置するよう
に配置されている。なお、ポリゴンミラー部３００の一
側とは、ポリゴンミラー３３０によって偏向走査される
光ビームＬの光路が位置する側（前側）である。

【００１６】また、平面から見てポリゴンミラー部３０
０に最も近い位置に配置される感光ドラム２０Ｄはポリ
ゴンミラー部３００とｆθ第１レンズ４００との間の箇
所に位置するように配置されている。同様に、平面から
見てポリゴンミラー部３００に最も近い位置に配置され
るｆθ第３レンズ６００Ｄはポリゴンミラー部３００と
ｆθ第１レンズ４００との間の箇所に位置するように配
置されている。各感光ドラム２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ、
２０Ｄは、カラー画像を形成するために必要な互いに異
なる色（イエロー、マゼンタ、シアン、ブラック）に対
応して設けられており、これらイエロー、マゼンタ、シ
アン、ブラックのトナーを記録紙に転写するように構成
されている。

【００１７】マルチビーム光源走査装置１０００の概略
動作は以下の通りである。すなわち、光源部１００から
シリンダレンズ部２００のシリンダレンズ２３０を通過
した４本の光ビームＬは、本発明の特徴部分である縮小
系アナモプリズム９００を通過してポリゴンミラー部３
００に導かれ、このポリゴンミラー部３００によって水
平方向に、すなわち主走査方向に偏向走査される。な
お、上記主走査方向と直交する方向を副走査方向とよ
び、ポリゴンミラー部３００で偏光走査された各光ビー
ムＬにより形成される平面を主走査断面とよぶ。走査さ
れた各光ビームＬは、本発明の特徴部分である拡大系ア
ナモプリズム９５０を通過した後、ｆθ第１レンズ４０
０、ｆθ第２レンズ５００、光路屈曲手段群７００、ｆ
θ第３レンズ６００を介して各感光ドラム２０Ａ、２０
Ｂ、２０Ｃ、２０Ｄ上に収束されて主走査方向に偏向走
査されるように構成されている。ポリゴンミラー部３０
０によって走査された各光ビームＬは、水平同期用検知
部８００に導かれ、この水平同期用検知部８００の検知
動作に基いて主走査方向の書き込み開始位置のタイミン
グ同期が取られる。なお、各光ビームＬの主走査方向
は、各感光ドラム２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ、２０Ｄの長
さ方向に沿っており、この主走査方向と直交する走査方
向が副走査方向となる。

【００１８】次に各部の構成について詳細に説明する。
光源部１００は、出力する光ビームＬの波長が同一とな
る４個の半導体レーザ１２０Ａ乃至１２０Ｄと、各半導
体レーザ１２０Ａ乃至１２０Ｄから出射される各光ビー
ムＬを平行光にするための４個のコリメータレンズと、
各半導体レーザを駆動するための半導体レーザ駆動回路
とを備えて構成されている。そして、光源部１００は、
各半導体レーザ１２０Ａ乃至１２０Ｄから各コリメータ
レンズを通過して出射される平行光となった各光ビーム
Ｌが、それぞれの光軸が平面からみて一致し、鉛直方向
に、すなわち光ビームＬの走査方向と直交する副走査方
向に同一の間隔をおいて平行をなすように構成されてい
る。

【００１９】シリンダレンズ部２００は、取付壁部３０
の上面３０Ａに取着されたベース２１０と、このベース
２１０から立設されたレンズ保持部２２０と、レンズ保
持部２２０によって保持されたシリンダレンズ２３０と
を有している。シリンダレンズ２３０は、光源部１００
から出射された各光ビームＬを入射する入射面２３０Ａ
と、入射した各光ビームＬを出射する出射面２３０Ｂと
を有している。そして、シリンダレンズ２３０は、光源
部１００から出射された平行光となった各光ビームＬを
入射してこれら各光ビームＬを水平方向（主走査方向）
は収束せず、鉛直方向（副走査方向）にのみ収束して縮
小系アナモプリズム９００を介してポリゴンミラー部３
００へ出射するように構成されている。そして、シリン
ダレンズ２３０の焦点位置、すなわち各光ビームＬが最
も収束されて水平方向に延在する線像となる位置は、後
述するポリゴンミラー３３０の反射面３３２の位置とな
るように設定されている。

【００２０】ポリゴンミラー部３００は、ハウジング３
１０と、ハウジング３１０内に配設されたモータ部３２
０と、モータ部３２０の鉛直方向に向けられた回転軸３
２２に取着されたポリゴンミラー３３０とを有してい
る。ハウジング３１０は、不図示の取付部材によって筐
体１の取付壁部３０に取着された矩形板状の底壁３１１
と、該底壁３１１の縁部から立設された側壁３１２、３
１３、３１４、３１５と、各側壁の上部を接続する不図
示の上壁とから構成されている。すなわち、ハウジング
３１０は、ポリゴンミラー３３０の周囲および上方を覆
うように構成されている。光源部１００に望む側壁３１
２には、光源部１００からポリゴンミラー３３０の反射
面３３２に入射する光ビームＬが通過する箇所に第１切
り欠き３１２Ａが設けられている。

【００２１】また、ｆθ第１レンズ４００に望む側壁３
１３には、ポリゴンミラー３３０により偏向走査された
光ビームＬが通過される箇所に第２切り欠き３１３Ａが
設けられている。縮小系アナモプリズム９００は第１切
り欠き３１２Ａ内に配設され、拡大系アナモプリズム９
５０は第２切り欠き３１３Ａ内に配設され、縮小系アナ
モプリズム９００と拡大系アナモプリズム９５０はハウ
ジング３１０の一部を構成している。ここで、縮小系ア
ナモプリズム９００は光源部１００とポリゴンミラー３
３０の反射面３３２との間に配設され、拡大系アナモプ
リズム９５０はポリゴンミラー３３０とｆθ第１レンズ
４００との間に配設されている。なお、縮小系アナモプ
リズム９００、拡大系アナモプリズム９５０については
後で詳述する。上記構成によれば、ポリゴンミラー部３
００を構成するモータ部３２０とポリゴンミラー３３０
は、ハウジング３００によって密閉された空間内に配設
されている。このため、ポリゴンミラー３３０の回転に
よって生じる騒音がハウジング３００外方に伝わること
が抑制されるとともに、ポリゴンミラー３３０の回転に
よって生じる空気流によって塵埃が移動して反射面３３
２に付着することを防止することができる。

【００２２】ポリゴンミラー３３０は、平面から見て６
個の反射面３３２が正６角形をなすように設けられてお
り、各反射面３３２は水平面に対して直交している。そ
して、各反射面３３２はそれぞれ単一の面を形成してお
り、この単一の面にシリンダレンズ２３０から出射され
た各光ビームＬが入射するようになっている。図１にお
いて、モータ部３２０は、図略のモータ制御回路から入
力される駆動信号によって等速で反時計回転の方向に高
速回転されるようになっており、これにより、各光ビー
ムＬは、紙面下方から上方に向かう主走査方向に偏向走
査される。

【００２３】ここで、図４、図５を参照して縮小系アナ
モプリズム９００、拡大系アナモプリズム９５０につい
て説明する。図４に示されているように、縮小系アナモ
プリズム９００は、互いの軸線が水平方向にかつ平行を
なすように延在する三角柱状を呈する第１プリズム９１
０、第２プリズム９２０の組み合わせによって構成され
ている。第１プリズム９１０の第１面９１１と第２面９
１２がなす頂角θ１、第２プリズム９２０の第１面９２
１と第２面９２２がなす頂角θ２、第１プリズム９１０
と第２プリズム９２０の位置関係などは周知のアナモプ
リズムの構成にしたがって設定されている。そして、こ
の縮小系アナモプリズム９００は、それを通過した各光
ビームＬの隣接する光ビームの間隔が縮小されるよう
に、かつ、このこの縮小系アナモプリズム９００に入射
する各光ビームと、この縮小系アナモプリズム９００を
通過した各光ビームとが互いに平行をなすように構成さ
れている。本例では、縮小系アナモプリズム９００の倍
率を０．８倍とした。

【００２４】図５に示されているように、拡大系アナモ
プリズム９５０は、互いの軸線が水平方向にかつ平行を
なすように延在する三角柱状を呈する第１プリズム９６
０、第２プリズム９７０の組み合わせによって構成され
ている。第１プリズム９６０の第１面９６１と第２面９
６２がなす頂角φ１、第２プリズム９７０の第１面９７
１と第２面９７２がなす頂角φ２、第１プリズム９６０
と第２プリズム９７０の位置関係などは周知のアナモプ
リズムの構成にしたがって設定されている。そして、こ
の拡大系アナモプリズム９５０は、それを通過した各光
ビームＬの隣接する光ビームの間隔が拡大されるよう
に、かつ、このこの拡大系アナモプリズム９５０に入射
する各光ビームと、この拡大系アナモプリズム９５０を
通過した各光ビームとが互いに平行をなすように構成さ
れている。本例では、拡大系アナモプリズム９５０の倍
率を１．２５倍とした。したがって、縮小系と拡大系ア
ナモプリズムの倍率がそれぞれ０．８と１．２５である
ため、両者の積が１．０となる。このため、光源部１０
０から出射されたときの光ビームの間隔と、ｆθ第１レ
ンズ４００に入射するときの光ビームの間隔とは等しく
なる。

【００２５】図１、図２、図３に戻って説明を続ける。
ｆθ第１レンズ４００は、後述するｆθ第２レンズ５０
０、ｆθ第３レンズ６００Ａ乃至６００Ｄと共にｆθレ
ンズ群を構成しており、このｆθレンズ群はポリゴンミ
ラー３３０によって主走査方向に走査される各光ビーム
Ｌを各感光ドラム２０Ａ乃至２０Ｄ上に収束させる作用
を果たす。ｆθ第１レンズ４００は、ポリゴンミラー３
３０によって偏向走査された各光ビームＬを入射するよ
うに構成されており、取付壁部３０上面３０Ａに図略の
保持部材を介して取着されている。ｆθ第１レンズ４０
０は、単一の素材からなる単一の部材として構成されて
いる。

【００２６】ｆθ第１レンズ４００は、半導体レーザ１
２０Ａ乃至１２０Ｄの各光ビームＬが入射される入射面
４１０と、入射面４１０に入射された各光ビームＬがそ
れぞれ出射される出射面４２０を有している。出射面４
２０は、各光ビームＬに対応して４つの光軸を有した形
状を呈しており、上記各光軸が鉛直方向に等間隔をおい
て互いに平行をなすように構成されている。したがっ
て、鉛直方向に等間隔で並んで入射面４１０に入射され
た各光ビームＬは、出射面４２０からそれぞれ鉛直方向
に等間隔をおいた状態で出射されるようになっている。
ｆθ第１レンズ４００は、各光ビームＬを主として鉛直
方向（副走査方向）に収束させる作用を有し、水平方向
（主走査方向）にも収束させる作用も有している。ここ
で、ｆθ第１レンズ４００による光ビームＬを水平方向
に収束させる作用は、鉛直方向に光ビームＬを収束させ
る作用よりも弱くなるように構成されている。

【００２７】ｆθ第２レンズ５００は、ｆθ第１レンズ
４００から出射された光ビームＬが入射される入射面５
１０と、この入射面５１０に入射された光ビームＬが出
射される出射面５２０とを有し、取付壁部３０の上面３
０Ａに図略の保持部材を介して取着されている。ｆθ第
２レンズ５００は、単一の素材からなる単一の部材で構
成されており、各光ビームＬがこの単一の部材を通過す
るようになっている。ｆθ第２レンズ５００は、各光ビ
ームＬを水平方向（主走査方向）にのみ収束させ、鉛直
方向（副走査方向）には収束させない作用を有してい
る。

【００２８】光路屈曲手段群７００は、ｆθ第１レンズ
４００とｆθ第２レンズ５００を通過した各光ビームＬ
を次述する各ｆθ第３レンズ６００Ａ乃至６００Ｄに導
く第１乃至第４光路屈曲手段７１０、７２０、７３０、
７４０を備えている。これらｆθ第１レンズ４００、ｆ
θ第２レンズ５００、ｆθ第３レンズ６００Ａ乃至６０
０Ｄからなるｆθレンズ群と、第１乃至第４光路屈曲手
段７１０、７２０、７３０、７４０からなる光路屈曲手
段群７００とによって特許請求の範囲の収束光学系が構
成されている。

【００２９】第１光路屈曲手段７１０は、第１ミラー７
０１から構成され、光源部１００から出射された光ビー
ムＬのうち、鉛直方向で最も下方に位置する光ビームＬ
をポリゴンミラー部３００から最も遠い位置に配置され
ている感光ドラム２０Ａに導く光路ＬＡを構成してい
る。

【００３０】第２光路屈曲手段７２０は、第２、第３ミ
ラー７０２、７０３から構成され、光源部１００から出
射された光ビームＬのうち、鉛直方向で下方から２番目
に位置する光ビームＬをポリゴンミラー部３００から２
番目に遠い位置に配置されている感光ドラム２０Ｂに導
く光路ＬＢを構成している。

【００３１】第３光路屈曲手段７３０は、第４、第５ミ
ラー７０４、７０５から構成され、光源部１００から出
射された光ビームＬのうち、鉛直方向で下方から３番目
に位置する光ビームＬをポリゴンミラー部３００から３
番目に遠い位置に配置されている感光ドラム２０Ｃに導
く光路ＬＣを構成している。

【００３２】第４光路屈曲手段７４０は、第６、第７ミ
ラー７０６、７０７から構成され、光源部１００から出
射された光ビームＬのうち、鉛直方向で下方から４番目
（すなわち鉛直方向で最も上方）に位置する光ビームＬ
をポリゴンミラー部３００から４番目に遠い位置（すな
わち相対的に最も近い位置）に配置されている感光ドラ
ム２０Ｄに導く光路ＬＤを構成している。

【００３３】これら第１乃至第７ミラー７０１乃至７０
８はそれぞれ光ビームＬの主走査方向にわたって延在し
て設けられており、図略の保持部材を介して取付壁部３
０の上面３０Ａに取着されている。

【００３４】ｆθ第３レンズ６００Ａ乃至６００Ｄは、
各光ビームＬを主に副走査方向に収束させる作用を有
し、水平方向（主走査方向）にも収束させる作用も有し
ている。ここで、ｆθ第３レンズ６００Ａ乃至６００Ｄ
による光ビームＬを収束させる作用は、鉛直方向に光ビ
ームＬを収束させる作用よりも弱くなるように構成され
ている。

【００３５】一方、底壁１０には、各感光ドラム２０Ａ
乃至２０Ｄの上部に臨む箇所に、各感光ドラム２０Ａ乃
至２０Ｄの軸線と平行に、すなわち光ビームＬの主走査
方向にわたって延在する開口１２Ａ乃至１２Ｄが底壁１
０の厚さ方向（鉛直方向）に貫通して設けられている。
また、取付壁部３０には、上記開口１２Ａ乃至１２Ｄと
対応する箇所に開口３２Ａ乃至３２Ｄが取付壁部３０の
厚さ方向（鉛直方向）に貫通して設けられている。これ
ら開口３２Ａ乃至３２Ｄも各感光ドラム２０Ａ乃至２０
Ｄの軸線と平行に、すなわち光ビームＬの主走査方向に
わたって延在して設けられており、各光ビームＬが通過
するようになっている。底壁１０の開口１２Ａ乃至１２
Ｄの上面１０Ａ側の周縁部にそれぞれｆθ第３レンズ用
の保持部材６１０Ａ乃至６１０Ｄ（図１にのみ示す）が
設けられ、これら保持部材６１０Ａ乃至６１０Ｄによっ
てｆθ第３レンズ６００Ａ乃至６００Ｄが保持されてい
る。すなわち、ｆθレンズ６００Ａ乃至６００Ｄは各光
ビームＬのそれぞれに対応した個別の箇所で光ビームＬ
の主走査方向にわたって延在している。そして、ｆθ第
３レンズ６００Ａ乃至６００Ｄは、それぞれ光ビームＬ
が入射される入射面と、これら入射面に入射された各光
ビームＬが出射される出射面とを有している。

【００３６】ここで、光路屈曲手段群７００によって構
成される各光路について詳細に説明する。第１光路屈曲
手段７１０によって構成される光路ＬＡは、ｆθ第１レ
ンズ４００とｆθ第２レンズ５００を通過した光ビーム
Ｌを第１ミラー７０１の反射面に導く第１光路部分ＬＡ
１と、第１ミラー７０１の反射面で反射され下方に屈曲
された光ビームＬを感光ドラム２０Ａ上に導く第２光路
部分ＬＡ２とを有して構成されている。

【００３７】第２光路屈曲手段７２０によって構成され
る光路ＬＢは、ｆθ第１レンズ４００とｆθ第２レンズ
５００を通過した光ビームＬを第２ミラー７０２の反射
面に導く第１光路部分ＬＢ１と、第２ミラー７０２の反
射面で反射され上方に屈曲された光ビームＬを第３ミラ
ー７０３の反射面に導く第２光路部分ＬＢ２と、第３ミ
ラー７０３の反射面で反射され下方に屈曲された光ビー
ムＬを感光ドラム２０Ｂ上に導く第３光路部分ＬＢ３と
を有して構成されている。

【００３８】第３光路屈曲手段７３０によって構成され
る光路ＬＣは、ｆθ第１レンズ４００とｆθ第２レンズ
５００を通過した光ビームＬを第４ミラー７０４の反射
面に導く第１光路部分ＬＣ１と、第４ミラー７０４の反
射面で反射され上方に屈曲された光ビームＬを第５ミラ
ー７０５の反射面に導く第２光路部分ＬＣ２と、第５ミ
ラー７０５の反射面で反射され下方に屈曲された光ビー
ムＬを感光ドラム２０Ｃ上に導く第３光路部分ＬＣ３と
を有して構成されている。

【００３９】第４光路屈曲手段７４０によって構成され
る光路ＬＤは、ｆθ第１レンズ４００とｆθ第２レンズ
５００を通過した光ビームＬを第６ミラー７０６の反射
面に導く第１光路部分ＬＤ１と、第６ミラー７０６の反
射面で反射され上方に屈曲された光ビームＬを第７ミラ
ー７０７の反射面に導く第２光路部分ＬＤ２と、第７ミ
ラー７０７の反射面で反射され下方に屈曲された光ビー
ムＬを感光ドラム２０Ｄ上に導く第３光路部分ＬＤ３と
を有して構成されている。また、上記光路ＬＤ２のう
ち、第６ミラー７０６によって折り返された光ビームＬ
が第７ミラー７０７に到達するまでの直線部は、ｆθ第
１レンズ４００、ｆθ第２レンズ５００の上方の箇所を
通過する光路部分を有している。さらに、上記光路ＬＤ
のうち、第７ミラー７０７によって折り返された光ビー
ムＬがｆθ第３レンズ６００Ｄを通過して感光ドラム２
０Ｄに到達するまでの光路部分ＬＤ３は、ポリゴンミラ
ー部３００とｆθ第１レンズ４００の間の箇所を通過す
るようになっている。

【００４０】また、図２から明らかなように第１光路部
分ＬＡ１乃至ＬＤ１は互いに平行をなし、互いに鉛直方
向に等間隔をおいて配置されており、さらに詳しく説明
すれば、最も下方の位置に第１光路部分ＬＡ１が配置さ
れ、第１光路部分ＬＡの直上に第１路部分ＬＢ１が、第
１光路部分ＬＢ１の直上に第１光路部分ＬＣ１が、第１
光路部分ＬＣ１の直上に第１光路部分ＬＤ１がそれぞれ
配置されている。さらに、第２乃至第４光路屈曲手段７
２０、７３０、７４０は、第３光路部分ＬＢ３乃至ＬＤ
３が第１光路部分ＬＢ１乃至ＬＤ１に対して交叉するよ
うに構成されている。また、第２乃至第４光路屈曲手段
７２０、７３０、７４０は、第２光路部分ＬＢ２乃至Ｌ
Ｄ２によって導かれる光ビームＬが図３で上方に向かう
ように、すなわち第１光路部分ＬＢ１乃至ＬＤ１を挟ん
で被照射対象物である感光ドラム２０Ａ乃至２０Ｄと反
対方向（図３で上方）に向かうように構成されている。

【００４１】第１、ｆθ第３レンズ４００、６００の作
用により各光ビームＬを主に副走査方向に収束させ、ｆ
θ第２レンズ５００の作用により各光ビームＬを主走査
方向に収束させている。この結果、ポリゴンミラー３３
０の反射面３３２の位置で水平方向に延在する線像とな
った各光ビームＬは、この反射面３３２によって偏向走
査された後、上記ｆθ第１乃至ｆθ第３レンズ４００、
５００、６００Ａ乃至６００Ｄの作用によって各感光ド
ラム２０Ａ乃至２０Ｄの面の位置で主走査方向および副
走査方向の両方向に収束され点像となるようになってい
る。

【００４２】なお、光源部１００から出射された４つの
光ビームが各感光ドラム２０Ａ乃至２０Ｄの面の位置で
主走査方向および副走査方向の両方向に収束され点像と
なるようにするために、光源部１００の各コリメートレ
ンズから各感光ドラム２０Ａ乃至２０Ｄに至る４つの光
路の光路長は全て同一となるように、すなわちポリゴン
ミラー３２２から各感光ドラム２０Ａ乃至２０Ｄに至る
４つの光路の光路長も全て同一となるように構成されて
いる。

【００４３】さらに後述するように、各光ビームＬに生
じる走査湾曲を打ち消すために収束光学系（ｆθ第１乃
至ｆθ第３レンズ４００、５００、６００Ａ乃至６００
Ｄ）はその光軸が、主走査断面に対して副走査方向に所
定の傾斜角度分傾斜して設けられている。

【００４４】水平同期検知部８００は、ミラー８１０、
８１２と、受光センサ８２０とを有して構成されてい
る。ミラー８１０、８１２は、取付壁部３０の上面３０
Ａに図略の取付部材によって取着されている。ミラー８
１０は、感光ドラムのビーム主走査方向において、画像
形成に寄与する走査範囲から外れた手前の所定位置に配
設され、この所定位置に到達した光ビームＬをミラー８
１２へ反射させ、このミラー８１２は、さらに光ビーム
Ｌを受光センサ８２０へ反射させるように構成されてい
る。受光センサ８２０は、ｆθ第２レンズ５００を通過
する光ビームＬのうちミラー８１０によって導かれた画
像形成に寄与しない走査範囲の光ビームＬを入射するよ
うに取付壁部３０の上面３０Ａの上面１０Ａに取付部材
８２２によって取着されている。受光センサ８２０から
出力される受光信号に基いて各半導体レーザ１２０Ａ乃
至１２０Ｄの駆動信号を制御することで感光ドラム２０
Ａ乃至２０Ｄに対する主走査方向への書き込み開始位置
のタイミング同期が取られるようになっている。

【００４５】上述のように構成されたマルチビーム光源
走査装置１０００によれば、光源部１００から出射され
シリンダレンズ２３０を通過した各光ビームＬは、縮小
系アナモプリズム９００によってそれを通過した各光ビ
ームＬの隣接する光ビームの間隔が縮小される。間隔が
縮小された状態の各光ビームＬは、ポリゴンミラー３３
０の各反射面３３２によって偏向走査され拡大系アナモ
プリズム９５０によってそれを通過した各光ビームＬの
隣接する光ビームの間隔が拡大される。各光ビームＬ
は、隣接する光ビームの間隔が例えば縮小系アナモプリ
ズム９００に入射する前の間隔に戻される。間隔が拡大
された状態の各光ビームＬは、ｆθ第１レンズ４００、
ｆθ第２レンズ５００に入射されて収束される。そし
て、ｆθ第２レンズ５００から出射された各光ビームＬ
は前述の各光路ＬＡ乃至ＬＤによってｆθ第３レンズ６
００Ａ乃至６００Ｄに導かれ各感光ドラム２０Ａ乃至２
０Ｄ上に点像として収束された状態で主走査方向に走査
される。

【００４６】したがって、縮小系アナモプリズム９００
によってそれを通過した各光ビームＬの隣接する光ビー
ムの間隔が縮小されることで、ポリゴンミラー３３０の
反射面３３２のうち、偏向走査方向と直交する方向の寸
法を従来装置に比較して削減することができる。このた
め、ポリゴンミラーの反射面のうち、偏向走査方向と直
交する方向の寸法を削減することでポリゴンミラーを小
型化することができる。したがって、ポリゴンミラーが
小型化できるので、ポリゴンミラー駆動用のモータの発
熱を抑え、振動や騒音を低下させ、ポリゴンミラーの製
造コストを削減することができる。また、前述したよう
に、本例では、縮小系アナモプリズム９００と拡大系ア
ナモプリズム９５０の倍率の積が１．０となるようした
ので、従来装置における光源部１００と収束光学系の構
成を変更することなく使用できる利点もある。また、従
来は、レーザーダイオードなどから構成される各光源が
有する物理的な大きさによって光ビームの間隔を狭める
のに限界があったが、本発明では光源の構成に影響を受
けること無く光ビームの間隔を狭めることができる。ま
た、収束光学系のｆθ第１レンズ４００、ｆθ第２レン
ズ５００、ｆθ第３レンズ６００Ａ乃至６００Ｄは、各
光ビームの間隔が狭まると光学的性能を確保することが
難しくなるが、本発明では収束光学系に入射される光ビ
ームの間隔を狭める必要がないため、このような問題を
考慮する必要が無い。

【００４７】ここで、収束光学系の光軸が、主走査断面
に対して副走査方向に所定の傾斜角度分傾斜して設けら
れていることについて説明する。ポリゴンミラー３３０
の反射面３３２で偏光走査されて拡大系アナモプリズム
９５０に入射する各光ビームＬは、第１プリズム９６０
の入射面９６１に対する入射角度が変化する。つまり、
拡大系アナモプリズム９５０に対する軸外光束が拡大系
アナモプリズム９５０の入射面（第１プリズム９６０の
入射面９６１）に対して主走査断面内で斜めに入射する
ため、拡大系アナモプリズム９５０における光ビームの
出射角度が軸上光束の出射角度と異なることになり、拡
大系アナモプリズム９５０から出射される各光ビームＬ
は拡大系アナモプリズム９５０の出射面（第２プリズム
９７０の出射面９７２）に対して副走査方向に傾斜して
出射されることになる。すると、拡大系アナモプリズム
９５０を通過した各光ビームＬは主走査方向の位置によ
って副走査方向に位置が変化する走査湾曲を生じる。

【００４８】図７（Ａ）は、収束光学系の光軸を主走査
断面に対して傾斜（ティルト）させていない状態、すな
わち走査湾曲が生じた状態を示しており、横軸に走査湾
曲量（単位ｍｍ）を縦軸に被照射対象物２０Ａ乃至２０
Ｄ上における主走査方向の位置（単位ｍｍ）をとってい
る。図７（Ａ）に示されているように、各光ビームＬが
拡大系アナモプリズム９５０の光軸上に入射した場合
（Ｙ＝０）を基準とすると、各光ビームＬが拡大系アナ
モプリズム９５０の光軸から離間するにつれてプラス方
向の湾曲が増加していることがわかる。このような走査
湾曲を打ち消すためには、収束光学系の光軸を主走査断
面に対して副走査方向に所定の傾斜角度だけ傾斜させれ
ばよい。図６は、ポリゴンミラー３３０の反射面３２２
から被照射物２０Ａ乃至２０Ｄまでの光学系の構成を示
しており、収束光学系の光軸Ｋを主走査断面に対して副
走査方向に所定の傾斜角度だけ傾斜させた状態を示して
いる。

【００４９】図７（Ｂ）は収束光学系の光軸を主走査断
面に対して副走査方向に所定の傾斜角度だけ傾斜（ティ
ルト）させて、走査湾曲が打ち消された状態を示してお
り、横軸と縦軸は図７（Ａ）と同じ走査湾曲量（単位ｍ
ｍ）と主走査方向の位置（単位ｍｍ）である。本例で
は、ｆθ第１レンズ４００の入射面４１０の面を３度傾
斜させている。図７（Ｂ）から明らかなように、収束光
学系の光軸を主走査断面に対して副走査方向に所定の傾
斜角度だけ傾斜させることによって走査湾曲を効果的に
打ち消すことが可能である。

【００５０】図７の測定を行った光学系全般のデータを
以下に示す。 ｆ＝２００．０ｍｍ 走査幅３００ｍｍ 画角４３．０ｄｅｇ 設計波長７８０ｎｍ レンズ面Ｎｏ Ｒ Ｒｚ 面間隔 ｎ レンズ名称 １ ∞ 50.0 4.000 1.51072 シリンドリカルレンズ ２ ∞ ∞ 99.860 ポリゴンミラー 52.870 ３ -175.567 7.000 1.48617 第１ｆθレンズ ４ -116.265 2.000 ５ ∞ ∞ 15.000 1.76591 第２ｆθレンズ ６ -212.490 115.000 ７ -1712.510 29.348 5.000 1.48617 第３ｆθレンズ ８ -3498.000 79.500 Ｎｏ３、４面は回転対称非球面、Ｎｏ５面は平面、Ｎｏ６、８面は球面。 各面の非球面係数 Ｎｏ Ｋ Ａ４ Ａ６ Ａ８ ３ 2.80 -7.488^-07 3.283^-10 -2.570^-15 ４ 0.80 -5.112^-07 1.319^-10 3.760^-14 Ｎｏ７面は光軸から離れた位置でのｘｚ面に平行な断面
の曲率半径がｘｙ断面形状とは無関係に設定された回転
軸を持たない非球面（累進トーリック非球面）である。 定義式 x=cy²/{1+[1-(k+1)c²y²]^(1/2)}+A4y⁴+A6y⁶+… （１） c=1/r 1/Rz=(1/Rz0)+B1y+B2y²+B3y³+… （２） 式（１）で定義されるｘｙ断面に式（２）で定義される
円弧が連続した形状となる。ただし、r=-1712.510,k=0.
000,A4=1.264^-08,A6=4.220^-13,A8=-3.000^-17,A10=0.0,R
z=29.348,B1=-1.894^-06,B2=-5.892^-07,B3=0.0,B4=-1.11
4^-12,B5=0.0,B6=1.250^-15,B7=0.0,B8=-3.434^-20 縮小系アナモプリズム９００とポリゴンミラー３３０と
の距離は自由、ポリゴンミラー３３０と拡大系アナモプ
リズム９５０との距離は２５．０ｍｍである。

【００５１】なお、上述した実施の形態では、各光ビー
ムの間隔を縮小する縮小光学系として縮小系アナモプリ
ズムを用い、各光ビームの間隔を拡大する拡大光学系と
して拡大系アナモプリズムを用いたが、これらアナモプ
リズム以外の光学系を用いてもよいことはもちろんであ
る。また、上述した実施の形態では、光源部１００に４
つの半導体レーザ１２０Ａ乃至１２０Ｄを設け、４色
（イエロー、マゼンタ、シアン、ブラック）に対応した
４つの光ビームＬを出射させ、ｆθ第１レンズ、ｆθ第
３レンズによって４つの光ビームＬをそれぞれ副走査方
向に収束させる構成としたが、本発明は光源と光ビーム
Ｌの個数が４つである構成に限定されるものではない。
例えば、３つの光源のそれぞれによってイエロー、マゼ
ンタ、シアンの３色に対応した３つの光ビームＬを出射
させ、ｆθ第１レンズ、ｆθ第３レンズによって３つの
光ビームＬをそれぞれ副走査方向に収束させる構成とす
ることもできることはもちろんである。

【００５２】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように本発明は、
マルチビーム光源走査装置において、各光源とポリゴン
ミラーの反射面との間に各光ビームが通過する縮小光学
系が配設され、ポリゴンミラーと収束光学系との間に反
射面で反射された各光ビームが通過する拡大光学系が配
設され、縮小光学系は該縮小光学系を通過した各光ビー
ムの隣接する光ビームの間隔が縮小されるように構成さ
れ、拡大光学系は該拡大光学系を通過した各光ビームの
隣接する光ビームの間隔が拡大されるように構成した。

【００５３】そのため、各光源から出射されポリゴンミ
ラーの反射面に導かれる各光ビームの隣接する光ビーム
の間隔を縮小することができるので、ポリゴンミラーの
反射面のうち、偏向走査方向と直交する方向の寸法を削
減することでポリゴンミラーを小型化することができ
る。したがって、ポリゴンミラーが小型化できるので、
ポリゴンミラー駆動用のモータの発熱を抑え、振動や騒
音を低下させ、ポリゴンミラーの製造コストを削減する
ことができる。

【００５４】また、本発明は、マルチビーム光源走査装
置において、ポリゴンミラーと縮小光学系の間に反射面
で反射された各光ビームが通過する拡大光学系が配設さ
れ、拡大光学系は該拡大光学系を通過した各光ビームの
間隔が拡大されるように構成され、ポリゴンミラーで偏
光走査された各光ビームにより形成される平面を主走査
断面とし、各光ビームが偏光走査される方向を主走査方
向とし、該主走査方向と直交する方向を副走査方向とし
たとき、収束光学系は該収束光学系の光軸が主走査断面
に対して副走査方向に所定の傾斜角度分傾斜して設けら
れている構成とした。

【００５５】そのため、各光源から出射されポリゴンミ
ラーの反射面に導かれる各光ビームの隣接する光ビーム
の間隔を縮小することができるので、ポリゴンミラーの
反射面のうち、偏向走査方向と直交する方向の寸法を削
減することでポリゴンミラーを小型化することができ
る。したがって、ポリゴンミラーが小型化できるので、
ポリゴンミラー駆動用のモータの発熱を抑え、振動や騒
音を低下させ、ポリゴンミラーの製造コストを削減する
ことができる。また、収束光学系をその光軸が主走査断
面に対して副走査方向に所定の傾斜角度分傾斜すること
によって、ポリゴンミラーの反射面によって偏向走査さ
れる各光ビームの拡大光学系に対する入射角度が変化す
ることによって生じる各光ビームの走査湾曲を打ち消す
ことが可能となる。

【００５６】また、本発明は、複数の光源から出射され
た各光ビームをポリゴンミラーにより偏向走査し、前記
偏向走査された各光ビームをそれぞれ複数の被照射対象
物に収束させて照射するマルチビーム光源走査方法にお
いて、前記ポリゴンミラーの反射面に前記各光ビームが
照射される前に、隣接する各光ビームの間隔を縮小し、
前記ポリゴンミラーで反射された後に、隣接する各光ビ
ームの間隔を拡大するようにした。

【００５７】そのため、各光源から出射されポリゴンミ
ラーの反射面に導かれる各光ビームの隣接する光ビーム
の間隔を縮小することができるので、ポリゴンミラーの
反射面のうち、偏向走査方向と直交する方向の寸法を削
減することでポリゴンミラーを小型化することができ
る。したがって、ポリゴンミラーが小型化できるので、
ポリゴンミラー駆動用のモータの発熱を抑え、振動や騒
音を低下させ、ポリゴンミラーの製造コストを削減する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態のマルチビーム光源走査装
置の構成を示す平面図である。

【図２】図１をＡＡ線断面から見た状態を示す断面図で
ある。

【図３】図１をＢＢ線断面から見た状態を示す断面図で
ある。

【図４】縮小系アナモプリズムの構成図である。

【図５】拡大系アナモプリズムの構成図である。

【図６】ポリゴンミラーの反射面から被照射物までの光
学系の構成を示す説明図である。

【図７】走査湾曲を説明する図であり、図７（Ａ）は走
査湾曲補正が生じた状態を示す光ビームの走査軌跡図、
図７（Ｂ）は走査湾曲が打ち消された状態を示す光ビー
ムの走査軌跡図である。

【符号の説明】

１０００ マルチビーム光源走査装置 ２０Ａ乃至２０Ｄ 感光ドラム １００ 光源部 ３３０ ポリゴンミラー ４００ ｆθ第１レンズ ５００ ｆθ第２レンズ ６００Ａ乃至６００Ｄ ｆθ第３レンズ ９００ 縮小系アナモプリズム ９５０ 拡大系アナモプリズム Ｌ 光ビーム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 康史 東京都板橋区前野町２丁目36番９号 旭光 学工業株式会社内 (72)発明者 上窪 淳二 東京都板橋区前野町２丁目36番９号 旭光 学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2C362 AA21 BA58 BA61 BA84 BA86 BB14 DA03 DA08 DA17 DA23 2H045 AA01 AA33 AA34 BA02 BA22 BA34 CA33 CA63 CA68 2H087 KA19 LA22 PA03 PA17 PB03 QA12 QA21 QA26 QA37 QA41 QA45 RA05 RA07 RA13 RA41 5C072 AA03 BA01 DA10 HA02 HA06 HA09 HA13 QA14 XA05 9A001 BB06 HH23 KK42

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光ビームを出射する複数の光源と、前記
   各光源から出射された前記各光ビームを偏向走査するポ
   リゴンミラーと、前記ポリゴンミラーによって偏向走査
   された前記各光ビームをそれぞれ複数の被照射対象物に
   収束させて導く収束光学系とを備え、前記各光源からの
   光ビームは互いに平行をなし前記ポリゴンミラーの反射
   面に対して偏光走査方向と直交する方向に互いに間隔を
   おいて入射するように導かれるマルチビーム光源走査装
   置において、 前記各光源と前記ポリゴンミラーの反射面との間に前記
   各光ビームが通過する縮小光学系が配設され、 前記ポリゴンミラーと前記収束光学系との間に前記反射
   面で反射された各光ビームが通過する拡大光学系が配設
   され、 前記縮小光学系は該縮小光学系を通過した前記各光ビー
   ムの隣接する光ビームの間隔が縮小されるように構成さ
   れ、 前記拡大光学系は該拡大光学系を通過した前記各光ビー
   ムの隣接する光ビームの間隔が拡大されるように構成さ
   れている、 ことを特徴とするマルチビーム光源走査装置。
2. 【請求項２】 前記縮小光学系はこの縮小光学系に入射
   する前記各光ビームとこの縮小光学系を通過した前記各
   光ビームとが互いに平行をなすように構成され、前記拡
   大光学系はこの拡大光学系に入射する前記各光ビームと
   この拡大光学系を通過した前記各光ビームとが互いに平
   行をなすように構成されていることを特徴とする請求項
   １記載のマルチビーム光源走査装置。
3. 【請求項３】 前記縮小光学系は縮小系アナモプリズム
   により構成され、前記拡大光学系は拡大系アナモプリズ
   ムにより構成されていることを特徴とする請求項１また
   は２記載のマルチビーム光源走査装置。
4. 【請求項４】 前記ポリゴンミラーの周囲および上方を
   覆うハウジングが設けられ、前記ハウジングのうち、前
   記光源から前記ポリゴンミラーの反射面に入射する光ビ
   ームが通過する箇所に前記縮小光学系が設けられるとと
   もに、前記ポリゴンミラーにより偏向走査された前記光
   ビームが通過される箇所に前記拡大光学系が設けられて
   いることを特徴とする請求項１、２または３記載のマル
   チビーム光源走査装置。
5. 【請求項５】 前記ハウジングのうち、前記光源から前
   記ポリゴンミラーの反射面に入射する光ビームが通過す
   る箇所に第１切り欠きが設けられると共に、前記ポリゴ
   ンミラーにより偏向走査された前記光ビームが通過され
   る箇所に第２切り欠きが設けられ、前記縮小光学系は第
   １切り欠き内に配設され、前記拡大光学系は第２切り欠
   き内に配設され、前記縮小光学系と前記拡大光学系はハ
   ウジングの一部を構成していることを特徴とする請求項
   ４記載のマルチビーム光源走査装置。
6. 【請求項６】 前記ポリゴンミラーで偏光走査された前
   記各光ビームにより形成される平面を主走査断面とし、
   前記各光ビームが偏光走査される方向を主走査方向と
   し、該主走査方向と直交する方向を副走査方向としたと
   き、前記収束光学系は該収束光学系の光軸が前記主走査
   断面に対して前記副走査方向に所定の傾斜角度分傾斜し
   て設けられていることを特徴とする請求項１乃至５に何
   れか１項記載のマルチビーム光源走査装置。
7. 【請求項７】 光ビームを出射する複数の光源と、前記
   各光源から出射された前記各光ビームを偏向走査するポ
   リゴンミラーと、前記ポリゴンミラーによって偏向走査
   された前記各光ビームをそれぞれ複数の被照射対象物に
   収束させて導く光学系とを備え、前記各光源からの光ビ
   ームは互いに平行をなし前記ポリゴンミラーの反射面に
   対して偏光走査方向と直交する方向に互いに間隔をおい
   て入射するように導かれるマルチビーム光源走査装置に
   おいて、 前記ポリゴンミラーと前記収束光学系の間に前記反射面
   で反射された各光ビームが通過する拡大光学系が配設さ
   れ、 前記拡大光学系は該拡大光学系を通過した前記各光ビー
   ムの間隔が拡大されるように構成され、 前記ポリゴンミラーで偏光走査された前記各光ビームに
   より形成される平面を主走査断面とし、前記各光ビーム
   が偏光走査される方向を主走査方向とし、該主走査方向
   と直交する方向を副走査方向としたとき、前記収束光学
   系は該収束光学系の光軸が前記主走査断面に対して前記
   副走査方向に所定の傾斜角度分傾斜して設けられてい
   る、 ことを特徴とするマルチビーム光源走査装置。
8. 【請求項８】 前記拡大光学系は、この拡大光学系に入
   射する前記各光ビームと、この拡大光学系を通過した前
   記各光ビームとが互いに平行をなすように構成されてい
   ることを特徴とする請求項７記載のマルチビーム光源走
   査装置。
9. 【請求項９】 前記傾斜角度は、前記拡大光学系を通過
   する前記各光ビームが前記主走査方向に対して湾曲する
   走査湾曲を打ち消すような角度であることを特徴とする
   請求項６、７または８記載のマルチビーム光源走査装
   置。
10. 【請求項１０】 複数の光源から出射された各光ビーム
    をポリゴンミラーにより偏向走査し、前記偏向走査され
    た各光ビームをそれぞれ複数の被照射対象物に収束させ
    て照射するマルチビーム光源走査方法において、 前記ポリゴンミラーの反射面に前記各光ビームが照射さ
    れる前に、隣接する各光ビームの間隔を縮小し、 前記ポリゴンミラーで反射された後に、隣接する各光ビ
    ームの間隔を拡大するようにした、 ことを特徴とするマルチビーム光源走査方法。