JPH11234117A - 多数の供給電圧に対処するプログラマブル・バイアスを有する出力バッファおよびその方法 - Google Patents

多数の供給電圧に対処するプログラマブル・バイアスを有する出力バッファおよびその方法

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JPH11234117A
JPH11234117A JP10341989A JP34198998A JPH11234117A JP H11234117 A JPH11234117 A JP H11234117A JP 10341989 A JP10341989 A JP 10341989A JP 34198998 A JP34198998 A JP 34198998A JP H11234117 A JPH11234117 A JP H11234117A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ゲート酸化物に損傷を与えることなく、異な
る電圧範囲間のインターフェースを行う出力バッファを
提供する。 【解決手段】 出力バッファ(100)は、一方の電圧
範囲から第2の電圧範囲に入力信号を変換する。第2の
電圧範囲は、第1の範囲と同一でもよく、あるいはそれ
よりも大きくてもよい。いくつかの方法の1つによっ
て、特定の範囲をプログラムすることが可能である。こ
の特徴によって、出力バッファは、2つの電圧範囲との
両立を必要とするデバイスにおける使用に特に適したも
のとする。出力バッファは、バイアス発生器(110)
を用いて、その種々のトランジスタのゲート酸化物間の
電圧を、第1の電圧範囲と一致するレベルに制限する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電気回路に関し、
更に特定すれば、ディジタル出力バッファ回路に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】半導体技術は継続的に発展し、最先端の
半導体では、トランジスタ・サイズの幾何学的形状が縮
小し、電圧源用の電圧が低下している。今や、非常に薄
いゲート酸化物材料によって、更に小型化されたトラン
ジスタが製造されるようになっている。その結果、かか
るトランジスタの誘電体ブレークダウン電圧が低下して
いる。このため、電圧源の低下は、電力消費を削減する
ために望ましく、しかも非常に薄いゲート酸化物材料の
損傷を回避するために必要でもある。また、電圧源は、
たとえ直接トランジスタに影響を与えないとしても、利
点に成り得る。電圧源の低下によって、それが接続され
るトランジスタの寿命が延びる。一方、最先端の半導体
製品に結合される他の半導体製品には、未だブレークダ
ウン電圧がかなり高いデバイスを有し、より高い供給電
圧を用いているものもある。
【0003】長年にわたり、半導体設計者は、供給電圧
の種々のレベル間の変換という問題に対処してきた。例
えば、技術がTTL(Transistor to Transistor Logic)
からMOS(金属酸化物シリコン)技術に移転した際、
TTLおよびMOS技術間で、電圧レベルをシフトする
必要があった。加えて、供給電圧が15ボルトから5ボ
ルトへ、更に3ボルトへと徐々に低下するに連れて、設
計者は、異なる電圧系統間で動作可能なインターフェー
ス回路を作成した。しかしながら、これらの設計は、そ
の殆どが単にある電圧で動作する一方のシステムと、異
なる電圧で動作する第2のシステムとの間でインターフ
ェースを可能とするという問題に照準を当てたものであ
った。かかるシステムは、典型的に、電圧が高い方のシ
ステムによって、トランジスタのブレークダウン電圧が
脅かされることに対処するという課題がなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】最先端のマイクロプロ
セッサと共に動作するチップや集積回路には、メモリ,
メモリ・コントローラ,およびその他の周辺素子のよう
に、多くのものがある。しかしながら、かかる周辺素子
およびメモリでは、マイクロプロセッサのような迅速さ
でその供給電圧が変更されることも、その電圧レベルが
低下させることもなかった。マイクロプロセッサのよう
な、最先端の集積回路よりもかなり電圧が高い周辺回路
間でインターフェースを可能にする際、設計者は、しば
しば、整バイアス技法(well biasing technique)を用い
て、集積回路に意図した供給電圧よりも大幅に高い電圧
信号を当該集積回路が受信するときの衝撃を最少に抑え
ようとする。用いられる整バイアス技法は、回路内の出
力ノードから出力段の電源への電荷の漏れを防止する。
従来の回路は、典型的に、より高い電圧レベルを受信
し、それよりも低い電圧レベルで動作するシステムにお
いてこれらの電圧レベルを使用するように対処するもの
であった。しかしながら、かかるシステムは、典型的
に、薄いゲート酸化物によるトランジスタの損傷につい
て考慮しておらず、またそれを補償する必要もなかっ
た。技術が発展するに連れて、トランジスタ間に許容さ
れる最大電圧が、出力バスに対する供給電圧の低下より
も格段に速く低下していった。その結果、出力バスにお
ける非常に高い供給電圧とインターフェースする場合
に、トランジスタおよびトランジスタ・ゲート酸化物の
保全性(integrity)を保証することが可能な回路および
方法が必要となっている。
【0005】本発明の特徴および利点は、添付図面と関
連付けた以下の詳細な説明から更に明白に理解されよ
う。図面において、同様の参照番号は、同様のおよび対
応する部分を引用するものとする。
【0006】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の一実施例によ
る、出力バッファ100のブロック図を示す。出力バッ
ファ100は、一方の電圧範囲から第2の電圧範囲に入
力信号を変換する。出力バッファ100は、ディジタル
回路の周辺素子,または出力パッドに有利に用いること
ができる。第2の電圧範囲は、第1の範囲と同一でもよ
く、あるいはそれよりも高くてもよい。特定の範囲は、
いくつかの手段の1つによってプログラム可能である。
この特徴は、出力バッファ100を、2つの電圧範囲と
の両立を必要とするデバイスにおける使用に特に適した
ものとする。通常、出力バッファは、高い方の電圧範囲
に耐えなければならない。出力バッファが高い方の電圧
範囲に耐えることができない場合、そのトランジスタ
は、製品寿命の全域にわたって信頼性が低いものとなっ
てしまう。しかしながら、出力バッファ100は、第1
の電圧範囲即ち低い方の電圧範囲のみに耐えればよいト
ランジスタを用いて製造される。出力バッファ100の
設計は、バイアス回路を用いて、その種々のトランジス
タのゲート酸化物間の電圧を、第1の電圧範囲と一致す
るレベルに制限する。この制限により、出力バッファ1
00はその寿命全体にわたって正しく動作することが可
能となる。
【0007】引き続き図1を参照して、入力段102
は、制御信号ENABLE_1.8,ENABLE,データ入力DATA_I
N,および3つの電圧源、接地(GND),VDD,OVDDを受
信する。また、入力段102は、3つのバイアス電圧TR
ISTATE_2.5,N_BIAS,P_BIASも受信する。入力段102
は、2つの制御信号P_DRIVER,N_DRIVERを発生する。出
力段104は、制御信号P_DRIVER,N_DRIVERおよび3つ
の電圧源、接地(GND),VD D,OVDDを受信する。ま
た、出力段104は、2つのバイアス電圧N_BIAS,P_BI
ASも受信する。出力段104は、データ出力信号DATA_O
UTを発生する。DATA_OUTはパッド106に接続されてい
る。種々の制御信号をバイアス発生器110に送出する
前に、デコーダ108がこれらを処理する。バイアス発
生器110は、2つのバイアス電圧TRISTATE_2.5,P_BI
ASを発生する。入力段102については、図2と関連付
けて以下で更に詳しく説明する。出力段104について
は、図3と関連付けて以下で更に詳しく説明する。デコ
ーダ108については、図4と関連付けて以下で更に詳
しく説明する。バイアス発生器110については、図5
と関連付けて以下で更に詳しく説明する。
【0008】本発明の一実施例では、接地(GND)とVDD
との差は1.8ボルトである。接地(GND)とOVDDとの
差は、1.8,2.5,または3.3ボルトである。通
常、V DDは、出力バッファ100の入力に接続されてい
る回路(図示せず)によって用いられる内部電圧レベル
に対応する。典型的に、VDDは、これら内部回路の性能
に対して最適化される。半導体プロセス技術者がより速
くより小さなトランジスタを作成するに連れて、VDD
時とともに低下しつつある。逆に、OVDDは、外部イン
ターフェースの動作電圧に対応する。典型的に、この電
圧レベルの低下は、内部電圧レベルの低下を遅らせる。
したがって、OVDDが周期的にVDDよりも大きくなるこ
とは一般的である。最終的には、OVDDは低下してVDD
と等しくなる。
【0009】出力バッファ100の動作は、その種々の
動作モードに関して説明することが好都合であろう。種
々の動作モードとは、(1)下位互換モード(backward
compatible mode)、(2)高性能モード、および(3)
中間性能モードである。これら3つのモードの各々は、
データを出力する機能的サブモードと、データを出力し
ない三状態サブモードとを有する。下位互換動作モード
では、出力バッファ100に接続されている内部回路は
1.8ボルト(VDD)で動作する。外部インターフェー
ス(OVDD)は、3.3ボルトで動作する。高性能モー
ドでは、内部回路(VDD)および外部インターフェース
(OVDD)は双方共1.8ボルトで動作する。中間性能
動作モードでは、出力バッファ100に接続されている
内部回路は1.8ボルト(VDD)で動作し、外部インタ
ーフェース(OVDD)は2.5ボルトで動作する。CONT
ROL SIGNALS上の論理値の適正な組み合わせによって、
特定のモードがプログラム可能である。
【0010】図1および図4に示す種々の信号の説明
は、図の動作の理解に役立つであろう。
【0011】DATA_INは、GNDからVDDまで変化するディ
ジタル論理入力である。論理回路(図示せず)が、この
論理信号を発生する。
【0012】DATA_OUTは、GNDからOVDDまで変化する
ディジタル論理出力である。出力段104は、この論理
信号を発生する。論理的に、DATA_OUTはDATA_INに等し
い。
【0013】ENABLE(「CONTROL SIGNALS」の1つ)
は、論理信号である。ENABLEがインアクティブの場合、
出力バッファ100は高インピーダンス(Z)状態に置
かれる。ENABLEがアクティブの場合、出力バッファは、
以下に述べるように、DATA_OUTを発生する。
【0014】ENABLE_1.8(「CONTROL SIGNALS」の1
つ)は、論理信号である。ENABLE_1.8およびENABLEがア
クティブの場合、出力バッファ100はDATA_OUTを発生
する。DATA_OUTは、0ボルトから1.8ボルトまで変化
する。この信号は、以下で述べる高性能モードをアクテ
ィブにする。ENABLE_1.8がインアクティブの場合、出力
バッファ100は高インピーダンス(Z)状態に置かれ
るか、あるいは他のモードで動作する。
【0015】ENABLE_2.5(「CONTROL SIGNALS」の1
つ)は、論理信号である。ENABLE_2.5およびENABLEがア
クティブの場合、出力バッファ100はDATA_OUTを発生
する。DATA_OUTは0ボルトから2.5ボルトまで変化す
る。この信号は、以下で述べる中間性能モードをアクテ
ィブにする。ENABLE_2.5がインアクティブの場合、出力
バッファ100は高インピーダンス(Z)状態に置かれ
るか、あるいは他のモードで動作する。
【0016】ENALBE_3.3(「CONTROL SIGNALS」の1
つ)は、論理信号である。ENABLE_3.3およびENABLEがア
クティブの場合、出力バッファ100はDATA_OUTを発生
する。DATA_OUTは0ボルトから3.3ボルトまで変化す
る。この信号は、以下で述べる下位互換モードをアクテ
ィブにする。ENABLE_3.3がインアクティブの場合、出力
バッファ100は高インピーダンス(Z)状態に置かれ
るか、あるいは他のモードで動作する。
【0017】GNDは低電圧源である。
【0018】N_BIASは、バイアス電圧であり、入力段1
02内のn−型金属酸化物半導体電界効果トランジスタ
(MOSFETまたは単にトランジスタ)にバイアスを
かける。図示の実施例では、N_BIASはVDDに接続されて
いる。
【0019】N_DRIVERは、入力段102によって出力さ
れる論理信号である。N_DRIVERはアクティブ・ハイ信号
である。N_DRIVERがアクティブの場合、出力バッファ1
00は、DATA_OUT上にロー論理レベルを発生する。N_DR
IVERがインアクティブの場合、出力バッファ100は、
高インピーダンス(Z)状態に置かれるか、あるいはハ
イ論理レベルを出力する。信号ENABLEおよびP_DRIVER
は、出力バッファ100が高インピーダンス(Z)状態
に置かれているのか、あるいはハイ論理レベルを出力す
るのかについて判定を行う。N_DRIVERは0ボルトから
1.8ボルトまで変化する。
【0020】OVDDは、外部インターフェース回路が用
いる高電圧源である。OVDDは、外部インターフェース
の技術に応じて、変化することができる。
【0021】P_BIASは、バイアス電圧であり、入力段1
02および出力段104内にあるp−型MOSFETに
バイアスをかける。バイアス発生器110は、以下で述
べるようにこの電圧を発生する。
【0022】P_DRIVERは、入力段102によって出力さ
れる論理信号である。P_DRIVERは、アクティブ・ロー信
号である。P_DRIVERがアクティブの場合、出力バッファ
100は、DATA_OUT上にハイ論理レベルを発生する。P_
DRIVERがインアクティブの場合、出力バッファ100
は、高インピーダンス(Z)状態に置かれるか、あるい
はロー論理レベルを出力する。信号ENABLEおよびN_DRIV
ERは、出力バッファ100が高インピーダンス(Z)状
態に置かれているのか、あるいはロー論理レベルを出力
するのかについて判定を行う。P_DRIVERは、動作モード
に応じて、1.7ボルトから3.3ボルトまで、0ボル
トから1.8ボルトまで、または1.1ボルトから2.
5ボルトまで変化する。
【0023】TRISTATE_2.5は、バイアス電圧であり、出
力バッファ100が中間性能モードの三状態サブモード
に置かれた場合、直ちにP_DRIVERをOVDDに強制する。
この電圧を発生するのはバイアス発生器110である。
【0024】VDDは、出力バッファ100の入力および
出力バッファ100に接続されている回路(図示せず)
が用いる高電圧源である。図示の実施例では、VDD
1.8ボルトである。
【0025】3つの動作モードは多数の技法によって選
択可能である。例えば、製造時に、イネーブル信号を適
正な電圧レベル(接地またはVDD)に接続し、特定のモ
ードを選択することができる。これらの接続を行うに
は、対象のイネーブル信号を正しい電圧レベルに永久的
に結合する、特殊設計のパッケージに集積回路を実装す
る。また、出力バッファ100のイネーブル信号を、最
終パッケージから露出する1組のピンに接続してもよ
い。システム設計者は、適正な電圧をピンに接続するこ
とによって、動作モードを選択することができる。更
に、出力バッファ100は、ユーザに見ることができる
レジスタに接続することも可能である。レジスタの内容
は、特定の動作モードを選択することができる。この場
合、ユーザは、ソフトウエア・アプリケーションまたは
オペレーティング・システム(OS)を通じて、特定の
値をレジスタに書き込むことによってモードを指定する
ことができる。特定のモードの選択は、自動化すること
も可能である。インターフェースの動作電圧を検出する
回路が、そのインターフェース電圧に対応する特定モー
ドを自動的に選択することができる。最初に述べたパッ
ケージのオプションを除いて、これらの技法は各々動的
または静的に行うことができる。動的な実施態様では、
特定のモードを経時的に変化させることも可能である。
静的な実施態様では、特定のモードを1回選択する。更
に、モードの変化は、どの外部ピンに出力バッファが接
続されていたかに応じて行うことも可能である。例え
ば、データ・プロセッサでは、高速キャッシュ専用のあ
るピンに接続されていれば、高性能モードで動作させる
ことが可能である。逆に、標準的なバス・インターフェ
ース専用の他のピンに接続されていれば、下位互換モー
ドで動作させることが可能である。 (1)下位互換モード 下位互換動作モードでは、出力バッファ100に接続さ
れている内部回路(V DD)は1.8ボルトで動作する。
このモードでは、入力DATA_IN上の信号は、0ボルトか
ら1.8ボルトの範囲を取る(swing)。外部インターフ
ェース(OVDD)は3.3ボルトで動作する。外部イン
ターフェース上の信号は、0ボルトから3.3ボルトの
範囲を取る。
【0026】機能的サブモードでは、ENABLEおよびENAB
LE_3.3はアクティブとなる。逆に、ENABLE_1.8およびEN
ABLE_2.5はインアクティブとなる。バイアス発生器11
0は、P_BIAS上に第1電圧レベル(1.2ボルト)を発
生し、あるトランジスタのゲート−ソース間/ドレイン
電圧(gate-to-source/drain voltage)を制限し、それら
のゲート誘電体ブレークダウンを超過するのを回避す
る。DATA_IN入力がハイ(VDD)の場合、入力段102
はP_DRIVERを1.7ボルト(P_BIAS+Vtp)に接続
し、N_DRIVERをGNDに接続する。Vtpは、p−型MO
SFETのスレシホルド電圧である。最後に、出力段1
04はパッド106をOVDDに駆動する。DATA_IN入力
がロー(GND)の場合、入力段102はP_DRIVERをOV
DDに接続し、N_DRIVERをVDDに接続する。出力段104
は、パッド106をGNDに接続する。尚、P_DRIVERおよ
びN_DRIVER上にある電圧は制限されていることを注記し
ておく。即ち、P_DRIVERは3.3から1.7ボルトまで
変化する。N_DRIVERはGND(0ボルト)から1.8ボル
トまで変化する。これらの制限の結果、ゲート−ソース
間/ドレイン電圧は、p−型MOSFETに対しては
2.1ボルト未満となり、n−型MOSFETに対して
は1.8ボルト未満となる。
【0027】三状態サブモードでは、ENABLEはインアク
ティブとなる。バイアス発生器110は、P_BIAS上に第
2電圧レベル(1.8ボルト)を発生し、あるトランジ
スタのゲート−ソース間/ドレイン電圧を制限し、それ
らのゲート誘電体ブレークダウンを超過するのを回避す
る。DATA_IN入力には無関係に、入力段102は、P_DRI
VERをOVDDに接続し、N_DRIVERをGNDに接続する。出力
段104は、パッド106を高インピーダンス(Z)状
態に置く。ここで注記すべきは、P_DRIVERが3.3ボル
トに制限され、N_DRIVERがGND(0ボルト)に制限され
ていることである。パッド106上の電圧がGND(0ボ
ルト)から3.3ボルトまで変化すると仮定した場合、
これらの制限の結果、p−型MOSFETに対してゲー
ト−ソース間/ドレイン電圧は1.5ボルト未満とな
り、n−型MOSFETに対して1.5ボルトのゲート
−ソース間電圧未満となる。
【0028】出力バッファ100が三状態モードから出
ると、P_BIASは1.8ボルトから1.2ボルトに変化す
る。 (2)高性能モード 高性能モードでは、内部回路(VDD)および外部インタ
ーフェース(OVDD)双方が1.8ボルトで動作する。
このモードでは、入力DATA_IN上の信号および外部イン
ターフェース上の信号は、0ボルトから1.8ボルトま
での範囲を取る。
【0029】機能的サブモードでは、ENABLEおよびENAB
LE_1.8はアクティブとなる。逆に、ENABLE_2.5およびEN
ABLE_3.3はインアクティブとなる。バイアス発生器11
0は、P_BIAS上に0ボルトの第3電圧レベルを発生す
る。DATA_IN入力がハイ(VDD)の場合、入力段102
はP_DRIVERをGND(0ボルト)に接続し、N_DRIVERをGND
に接続する。最後に、出力段104は、パッド106を
OVDD(VDDに等しい)に駆動する。DATA_IN入力がロ
ー(GND)の場合、入力段102はP_DRIVERをOVD D(V
DDに等しい)に接続し、N_DRIVERをVDDに接続する。出
力段104は、パッド106をGNDに駆動する。このモ
ードでは、P_DRIVERおよびN_DRIVER上にある電圧は、
1.8ボルトの範囲を超過しない。
【0030】三状態サブモードでは、ENABLEはインアク
ティブとなる。バイアス発生器110は、P_BIAS上に第
3電圧レベル(0ボルト)を発生し、あるトランジスタ
のゲート−ソース間/ドレイン電圧を制限し、それらの
ゲート誘電体ブレークダウンを超過するのを回避する。
DATA_IN入力には無関係に、入力段102はP_DRIVERを
OVDD(VDDに等しい)に接続し、N_DRIVERをGNDに接
続する。出力段104は、パッド106を高インピーダ
ンス(Z)状態に置く。ここで注記すべきは、P_DRIVER
が1.8ボルトに制限され、N_DRIVERがGND(0ボル
ト)に制限されることである。パッド106上の電圧が
GND(0ボルト)から1.8ボルトまで変化すると仮定
した場合、これらの制限によって、ゲート−ソース間/
ドレイン電圧は、p−型MOSFETに対して1.8ボ
ルト未満となり、n−型MOSFETに対して1.8ボ
ルト未満となる。 (3)中間性能モード 中間性能モードでは、出力バッファ100に接続されて
いる内部回路(VDD)は1.8ボルトで動作する。この
モードでは、入力DATA_IN上の信号は、0ボルトから
1.8ボルトの範囲を取る。外部インターフェース(O
DD)は2.6ボルトで動作する。外部インターフェー
ス上の信号は、0ボルトから2.5ボルトの範囲を取
る。
【0031】機能的サブモードでは、ENABLEおよびENAB
LE_2.5はアクティブとなる。逆に、ENABLE_1.8およびEN
ABLE_3.3はインアクティブとなる。バイアス発生器11
0は、P_BIAS上に第4電圧レベル(0.6ボルト)を発
生し、あるトランジスタのゲート−ソース間/ドレイン
電圧を制限し、それらのゲート誘電体ブレークダウンを
超過することを回避する。DATA_IN入力がハイ(VDD
の場合、入力段102はP_DRIVERを1.1ボルト(P_BI
AS+Vtp)に接続し、N_DRIVERをGNDに接続する。最
後に、出力段104はパッド106をOVDDに駆動す
る。DATA_IN入力がロー(GND )の場合、入力段102
はP_DRIVERをOVDDに接続し、N_DRIVERをVDDに接続す
る。出力段104はパッド106をGNDに駆動する。
尚、P_DRIVERおよびN_DRIVER上にある電圧は制限されて
いることを注記しておく。即ち、P_DRIVERは2.5から
1.1ボルトまで変化する。N_DRIVERはGND(0ボル
ト)から1.8ボルトまで変化する。これらの制限の結
果、ゲート−ソース間/ドレイン電圧は、p−型MOS
FETに対して1.9ボルト未満となり、n−型MOS
FETに対して1.8ボルト未満となる。
【0032】三状態サブモードでは、ENABLEはインアク
ティブとなる。バイアス発生器110は、P_BIAS上に第
2電圧レベル(1.8ボルト)を発生し、あるトランジ
スタのゲート−ソース間/ドレイン電圧を制限し、それ
らのゲート誘電体ブレークダウンを超過するのを回避す
る。TRISTATE_2.5もアクティブとなる。TRISTATE_2.5
は、(GND+Vtp)即ち約0.5ボルトに等しい電圧
レベルを発生する。DATA_IN入力には無関係に、入力段
102はP_DRIVERをOVDDに接続し、N_DRIVERをGNDに
接続する。出力段104は、パッド106を高インピー
ダンス(Z)状態に置く。ここで注記すべきは、P_DRIV
ERが2.5ボルトに制限され、N_DRIVERがGND(0ボル
ト)に制限されていることである。パッド106上の電
圧がGND(0ボルト)から2.5ボルトまで変化すると
仮定した場合、これらの制限の結果、ゲート−ソース間
/ドレイン電圧は、p−型MOSFETに対して2.0
ボルト未満となり、n−型MOSFETに対して1.8
ボルト未満となる。
【0033】出力バッファ100が三状態モードから出
ると、BIAS_TRISTATE_2.5は0.5ボルトからV
DD(1.8ボルト)に変化する。同時に、P_BIASは1.
8ボルトから0.6ボルトに変化する。
【0034】図示の実施例では、P_BIASは入力段102
および出力段104双方に接続されている。他の実施例
では、2つのバイアス発生器を入力段102および出力
段104に別個に接続することができる。また、N_BIAS
という名称の信号をVDDに接続する。他の実施例では、
1つ以上のバイアス発生器がこれらの信号を発生するこ
とができる。当業者は、この記載と関連付けることによ
って、バイアス発生器の数および独立性を調節し、各用
途に特定の制約に合わせることができよう。
【0035】図2は、図1に示した入力段102の構成
図である。4つのトランジスタ200,202,20
4,206が、OVDDとGNDとの間に直列に接続されて
いる。即ち、p−型MOSFET200の第1電流電極
が電圧源OVDDを受信する。トランジスタ200の第2
電流電極が、p−型MOSFET202の第1電流電極
に接続されている。トランジスタ202の第2電流電極
が、n−型MOSFET204の第1電流電極に接続さ
れている。トランジスタ202の制御電極が、電圧P_BI
ASを受信する。トランジスタ202の第1電流電極も、
この本体に接続されている。トランジスタ204の第2
電流電極が、n−型MOSFET206の第1電流電極
に接続されている。トランジスタ204の制御電極が、
バイアス電圧N_BIASを受信する。トランジスタ206の
第2電流電極が、電圧源GNDを受信する。
【0036】また、OVDDとGNDとの間には、4つのト
ランジスタ208,210,212,214も直列に接
続されている。即ち、p−型MOSFET208の第1
電流電極が電圧源OVDDを受信する。トランジスタ20
8の第2電流電極が、p−型MOSFET210の第1
電流電極に接続されている。トランジスタ208の第2
電流電極は、信号P_DRIVERを発生する。トランジスタ2
08の制御電極が、トランジスタ200の第2電流電極
に接続されている。トランジスタ210の第2電流電極
が、n−型MOSFET212の第1電流電極に接続さ
れている。トランジスタ210の制御電極が、トランジ
スタ202の制御電極に接続され、これによって電圧P_
BIASを受信する。トランジスタ210の第1電流電極
は、その本体にも接続されている。トランジスタ212
の第2電流電極が、n−型MOSFET214の第1電
流電極に接続されている。トランジスタ212の第2電
流電極は、信号N_DRIVERを発生する。トランジスタ21
2の制御電極が、トランジスタ204の制御電極に接続
されている。トランジスタ214の第2電流電極が、電
圧源GNDを受信する。
【0037】p−型MOSFET216の第1電流電極
が、トランジスタ204,212の制御電極に接続され
ている。トランジスタ216の第2電流電極が、トラン
ジスタ206の第1電流電極に接続されている。トラン
ジスタ216の制御電極が、トランジスタ212の第2
電流電極に接続されている。NANDゲート218の第
1入力が、データ入力DATA_INを受信する。NANDゲ
ート218の第2入力が、制御信号ENABLEを受信する。
NANDゲート218の出力が、トランジスタ206の
制御電極,および反転器220の入力に接続されてい
る。反転器220の出力が、トランジスタ214の制御
電極に接続されている。 p−型MOSFET222の
第1電流電極が、電圧源OVDDを受信する。トランジス
タ222の第2電流電極が、トランジスタ200の第2
電流電極に接続されている。トランジスタ222の制御
電極が、電圧源VDDを受信する。p−型MOSFET2
24の第1電流電極が、電圧源OVDDを受信する。トラ
ンジスタ224の第2電流電極が、トランジスタ208
の第2電流電極に接続されている。トランジスタ224
の制御電極が電圧源VDDを受信する。
【0038】2つのトランジスタ226,228が、ト
ランジスタ202,204周囲にバイパス経路を形成す
る。即ち、n−型MOSFET226の第1電流電極
が、トランジスタ202の第1電流電極に接続されてい
る。トランジスタ226の第2電流電極が、n−型MO
SFET228の第1電流電極に接続されている。トラ
ンジスタ226の第2電流電極は、バイアス電圧TRISTA
TE_2.5も受信する。トランジスタ228の第2電流電極
が、トランジスタ204の第2電流電極に接続されてい
る。トランジスタ226の制御電極が、電圧レベルVDD
に接続されている。トランジスタ228の制御電極が、
制御信号ENABLE_1.8を受信する。同様に、2つのトラン
ジスタ230,232が、トランジスタ210,212
周囲にバイパス経路を形成する。即ち、n−型MOSF
ET230の第1電流電極が、トランジスタ210の第
1電流電極に接続されている。トランジスタ230の第
2電流電極が、n−型MOSFET232の第1電流電
極に接続されている。トランジスタ232の第2電流電
極が、トランジスタ212の第2電流電極に接続されて
いる。トランジスタ230の制御電極が、電圧レベルV
DDに接続されている。トランジスタ232の制御電極
が、制御信号ENABLE_1.8を受信する。
【0039】動作において、トランジスタ200,20
6,208,214は、電圧変換回路を形成する。信号
ENABLE上のアクティブ論理レベルによってイネーブルさ
れたとき、NANDゲート218が入力DATA_INを最初
に反転する。トランジスタ200,206は、この入力
の2回目の反転を行う。最後に、トランジスタ208,
214が、この入力の3回目の反転を行う。出力P_DRIV
ER,N_DRIVERは、入力DATA_INの論理的相補である。出
力P_DRIVER,N_DRIVERは、差電圧レベルを発生するが、
これらの電圧レベルは同じ論理レベルに対応する。更
に、これらの電圧レベルは、内部電圧源GNDおよびVDD
とはその大きさが異なる。信号ENABLE上のインアクティ
ブ論理レベルによってディゼーブルされたとき、出力P_
DRIVER,N_DRIVERはハイ論理レベルに対応する。
【0040】トランジスタ202,204,210,2
12は、電圧制限回路を形成する。この電圧制限回路
は、入力段102内のトランジスタ上にあるゲート−ソ
ース間/ドレイン電圧が、それらのゲート誘電体ブレー
クダウン電圧を超過しないことを保証する。以下で述べ
るように、入力段102も出力段104を保護する。図
示の実施例では、ゲート誘電体ブレークダウン電圧は
2.4ボルトである。通常、n−型MOSFET20
4,212は、トランジスタ206,214を過剰なド
レイン−ゲート間電圧から保護する。同様に、p−型M
OSFET202,210は、トランジスタ200,2
08を過剰なドレイン−ゲート電圧から保護する。
【0041】DATA_INがローの場合、トランジスタ20
6,204は導通状態となる。したがって、トランジス
タ204の第1電流電極はGNDに結合される。トランジ
スタ202は、トランジスタ200の第2電流電極上の
電圧を、(GND+P_BIAS+Vtp)に等しい値に制限す
る。この電圧レベルは、トランジスタ208を導通レベ
ルとし、P_DRIVERをOVDDに引き上げる。また、トラン
ジスタ210も導通し、電圧レベルOVDDをトランジス
タ212の第1電流電極に渡す。トランジスタ212
は、N_DRIVER上の電圧を(N_BIAS−Vtn)に制限す
る。Vtnは、n−型MOSFETに対するスレシホル
ド電圧である。
【0042】逆に、DATA_INがハイの場合、トランジス
タ214,212が導通状態となる。したがって、トラ
ンジスタ212の第1電流電極はGNDに結合される。ト
ランジスタ210は、P_DRIVER上の電圧を(P_BIAS+V
tp)に等しい値に制限する。この電圧レベルは、トラ
ンジスタ200を導通状態とし、トランジスタ202の
第1電流電極をOVDDに引き上げる。また、トランジス
タ202も導通状態となり、電圧レベルOVDDをトラン
ジスタ204の第1電流電極に渡す。トランジスタ20
4は、トランジスタ206の第1電流電極上の電圧を
(N_BIAS−Vtn)に制限する。しかしながら、トラン
ジスタ216は、トランジスタ206の第1電流電極を
N_BIASに引き上げる。トランジスタ216は、トランジ
スタ206の第1電流電極がN_BIAS以上に上昇しないこ
とを保証する。
【0043】出力バッファ100がイネーブルされてお
らず、かつDATA_INがロー論理レベルに対応する場合、
前述のように動作する。
【0044】トランジスタ226,228,230,2
32は、電圧制限回路周囲にバイパス路を形成する。高
性能モードでは、VDDおよびOVDDは双方とも1.8ボ
ルトである。この場合、入力電圧を他の領域に変換する
必要はなく、種々のゲート誘電体を保護する必要もな
い。その結果、トランジスタ200,208双方の第2
電流電極は、トランジスタ206,214の第1電流電
極にそれぞれ直接接続される。この経路によって、P_DR
IVERはGNDからOVDDまで最大限変動することが可能と
なる。この電圧範囲が、出力バッファ100の性能を向
上させることになる。
【0045】トランジスタ222,224は、弱いトラ
ンジスタである。これらのトランジスタは、トランジス
タ200,208の第2電流電極によって形成される2
つのノードに、細流電流(trickle current)を供給す
る。トランジスタ222,224は、トランジスタ20
2,210によって失われた電流を供給することによ
り、トランジスタ202,210の第1電流電極が(P_
BIAS+Vtp)以下に低下しないことを保証する。
【0046】BIAS_TRISTATE_2.5は、低電圧レベルであ
り、イネーブルされると直ちにトランジスタ208を導
通状態に強制する。トランジスタ208は、中間性能モ
ードにある間、出力バッファ100が高インピーダンス
(Z)状態に置かれると直ちに、PDRIVERをOVDDに駆
動する。
【0047】図3は、図1に示した出力段104の構成
図である。抵抗300の第1端子および抵抗302の第
1端子が共に接続され、出力DATA_OUTを発生する。抵抗
300の第2端子が、p−型MOSFET304の第1
電流電極に接続されている。トランジスタ304の第2
電流電極が、p−型MOSFET306の第1電流電極
に接続されている。トランジスタ304の制御電極が、
バイアス電圧P_BIASを受信する。トランジスタ306の
第2電流電極が、供給電圧OVDDを受信する。トランジ
スタ306の制御電極が、制御信号P_DRIVERを受信す
る。供給電圧OV DDは、トランジスタ304,306双
方の本体にも接続されている。抵抗302の第2端子
が、n−型MOSFET308の第1電流電極に接続さ
れている。トランジスタ308の第2電流電極が、n−
型MOSFET310の第1電流電極に接続されてい
る。トランジスタ308の制御電極がバイアス電圧N_BI
ASを受信する。トランジスタ310の第2電流電源が電
圧源GNDを受信する。トランジスタ310の制御電極
が、NORゲート312の出力に接続されている。NO
Rゲート312の第1入力が、反転器314の出力に接
続されている。NORゲート312の第2入力が反転器
316の出力に接続されている。反転器314の入力が
制御信号N_DRIVERを受信する。反転器314への入力
は、p−型MOSFET318の第1電流電極にも接続
されている。トランジスタ318の第2電流電極が、電
圧源VDDを受信する。トランジスタ318の制御電極
が、反転器314の出力に接続されている。反転器31
6の入力が制御信号ENABLEを受信する。
【0048】動作において、出力段104は三状態可能
な反転器である。ENABLEがアクティブの場合、トランジ
スタ306,310は、入力DATA_INをバッファする。
即ち、DATA_INがロー論理レベルの場合、P_DRIVERおよ
びN_DRIVERは双方とも論理ハイ値となる。ハイ論理値
は、トランジスタ306を非導通状態に置き、トランジ
スタ310を導通状態に置く。トランジスタ310は、
抵抗300,302の第1端子によって形成されるノー
ドをGNDに引き下げる。DATA_INがハイ論理レベルの場
合、P_DRIVERおよびN_DRIVERは双方とも論理ロー値とな
る。ロー論理値は、トランジスタ306を導通状態に置
き、トランジスタ310を非導通状態に置く。トランジ
スタ306は、抵抗300,302の第1端子によって
形成されるノードを、OVDDに引き上げる。ENABLEがイ
ンアクティブの場合、入力段102はP_DRIVERをハイ論
理レベルに駆動し、トランジスタ306を非導通状態に
置く。インアクティブなENABLE信号は、NORゲート3
12にロー論理レベルを発生させ、更に、トランジスタ
310を非導通状態に置く。この「三状態」において、
抵抗300,302の第1端子によって形成されるノー
ドは、いずれの電圧レベルにも駆動されない。
【0049】トランジスタ304,308は、出力段1
04上のトランジスタ上にあるゲート−ソース間/ドレ
イン電圧が、それらのゲート誘電体ブレークダウン電圧
を超過しないことを保証する。通常、p−型MOSFE
T304は、トランジスタ306を過剰なドレイン−ゲ
ート間電圧から保護する。同様に、n−型MOSFET
308は、トランジスタ310を過剰なドレイン−ゲー
ト電圧から保護する。
【0050】DATA_INがローの場合、トランジスタ30
4,306は非導通状態となる。逆に、トランジスタ3
08,310は導通状態となる。したがって、トランジ
スタ310は、抵抗300,302の第1端子によって
形成されるノードを、GNDに引き下げる。トランジスタ
304,306の接続によって形成されたノードは、
(P_BIAS+Vtp)に等しい電圧レベルとなる。逆に、
トランジスタ308,310の接続によって形成された
ノードは、GNDに等しい電圧レベルとなる。トランジス
タ306のゲート−ソース間電圧は、(P_DRIVER−OV
DD)または(OV DD−OVDD)即ち0ボルトとなる。ト
ランジスタ304のゲート−ソース間電圧は、(P_BIAS
−(P_BIAS+Vtp))即ち単に(−Vtp)となる。
トランジスタ310のゲート−ソース間電圧は、(VDD
−GND)即ち単にVDDとなる。トランジスタ308のゲ
ート−ソース間電圧は、(N_BIAS−GND)または(VDD
−GND)即ち単にVDDとなる。
【0051】DATA_INがハイの場合、トランジスタ30
4,306は導通状態となる。逆に、トランジスタ31
0,308は非導通状態となる。したがって、トランジ
スタ306は抵抗300,302の第1端子によって形
成されるノードを、OVDDに引き上げる。トランジスタ
304,306の接続によって形成されたノードは、O
DDに等しい電圧レベルとなる。逆に、トランジスタ3
08,310の接続によって形成されたノードは、(N_
BIAS−Vtn)または(VDD−Vtn)に等しい電圧レ
ベルとなる。トランジスタ306のゲート−ソース間電
圧は、(P_DRIVER−OVDD)または((P_BIAS+Vt
p)−OVDD)となる。トランジスタ304のゲート−
ソース間電圧は、(P_BIAS−OVDD)となる。トランジ
スタ310のゲート−ソース間電圧は、(GND−GND)即
ち単に0ボルトとなる。トランジスタ308のゲート−
ソース間電圧は、(N_BIAS−(VDD−Vtn)または
(VDD−(VDD−Vtn))即ち単にVtnとなる。ト
ランジスタ318は、N_DRIVERがN_BIAS以上に上昇しな
いことを保証する。
【0052】直列接続された抵抗300,302は、2
つの目的に供する。第1に、抵抗300,302は、出
力バッファ100の出力インピーダンスを、パッド10
6に接続されたデバイスの入力ンピーダンスと一致させ
る。第2に、抵抗300,302は、トランジスタ30
4,306,308,310が全てオンの場合に、これ
らを通過する電流を最少に抑える。この電流は、しばし
ば「クローバー(crowbar)」電流と呼ばれている。クロ
ーバー電流が発生するのは、出力段104がある状態か
ら他方の状態に切り替わり、かつトランジスタ306,
310が双方とも一時的にオンとなっている場合であ
る。
【0053】図4は、図1に図示したデコーダ108の
ブロック図を示す。反転器400の出力が、制御信号BI
AS_1.8を発生する。反転器400の入力が、反転器40
2の出力に接続されている。反転器402の入力が、制
御信号ENABLE_1.8を受信する。反転器404の出力が、
制御信号BIAS_TRISTATEを発生する。反転器404の入
力が、NANDゲート406の出力に接続されている。
NANDゲート406の第1入力が、反転器402の出
力に接続されている。NANDゲート406の第2入力
が、反転器408の出力に接続されている。反転器40
8の入力が、制御信号ENABLEを受信する。反転器410
の出力が、制御信号BIAS_2.5を発生する。反転器410
の入力が、NANDゲート412の出力に接続されてい
る。NANDゲート412の第1入力が、制御信号ENAB
LEを受信する。NANDゲート412の第2入力が、制
御信号ENABLE_2.5を受信する。反転器414の出力が、
制御信号BIAS_TRISTATE_2.5を発生する。反転器414
の入力が、NANDゲート416の出力に接続されてい
る。NANDゲート416の第1入力が、反転器408
の出力に接続されている。NANDゲート416の第2
入力が、制御信号ENABLE_2.5を受信する。反転器418
の出力が、制御信号BIAS_3.3を発生する。反転器418
の入力が、NANDゲート420の出力に接続されてい
る。NANDゲート420の第1入力が、制御信号ENAB
LEを受信する。NANDゲート420の第2入力が、制
御信号ENABLE_3.3を受信する。
【0054】図5は、図1に図示したバイアス発生器1
10の構成図を示す。バイアス発生器110は、第1部
分500および第2部分502から成る。第1部分50
0は、バイアス電圧P_BIASを発生する。第2部分502
は、バイアス電圧TRISTATE_2.5を発生する。
【0055】第1部分500について説明を続ける。4
つのp−型MOSFET504,506,508,51
0が、電圧源VDDと電圧源GNDとの間に直列に接続され
ている。即ち、トランジスタ504の第1電流電極が、
電圧源VDDを受信する。トランジスタ504の第2電流
電極が、トランジスタ506の第1電流電極に接続され
ている。トランジスタ506の第2電流電極が、その制
御電極、およびトランジスタ508の第1電流電極に接
続されている。トランジスタ506の第2電流電極は、
バイアス電圧P_BIASを発生する。トランジスタ508の
第2電流電極が、その制御電極、およびトランジスタ5
10の第1電流電極に接続されている。トランジスタ5
10の第2電流電極が、電圧源GNDを受信する。トラン
ジスタ504,506,508,510の各々の第1電
流電極は、それらの各本体に接続されている。
【0056】p−型MOSFET512の第1電流電極
が、電圧源VDDを受信する。トランジスタ512の第2
電流電極が、トランジスタ504の制御電極に接続され
ている。トランジスタ512の制御電極が、反転器51
4の出力に接続されている。反転器514の入力が、制
御信号BIAS_1.8を受信する。トランジスタ504の制御
電極は、n−型MOSFET516の第1電流電極にも
接続されている。トランジスタ516の第2電流電極
が、反転器518の出力に接続されている。トランジス
タ516の制御電極および反転器518の入力が、制御
信号BIAS_3.3を受信する。パス・ゲート520の第1端
子が、トランジスタ516の第1電流電極に接続されて
いる。パス・ゲート520の第2端子が、トランジスタ
504の第2電流電極に接続されている。パス・ゲート
520のn−型MOSFETの制御電極が、制御信号BI
AS_2.5を受信する。パス・ゲート520内のp−型MO
SFETの制御電極が、反転器522の出力に接続され
ている。反転器522の入力が、制御信号BIAS_2.5を受
信する。n−型MOSFET524の第1電流電極が、
トランジスタ508の第2電流電極に接続されている。
トランジスタ524の第2電流電極が、電圧源GNDを受
信する。トランジスタ524の制御電極が、反転器51
8の出力に接続されている。
【0057】3つのコンデンサ526,528,530
が、第1部分500の出力と電圧源GNDとの間に接続さ
れている。コンデンサ526は、トランジスタ506の
第2電流電極に直接接続されている。コンデンサ52
8,530は、個々に2つのパス・ゲート532,53
4を介して、トランジスタ506の第2電流電極に接続
されている。即ち、コンデンサ526の第1端子が、ト
ランジスタ506の第2電流電極に接続されている。コ
ンデンサ526の第2端子が、電圧源GNDを受信する。
コンデンサ528の第1端子が、パス・ゲート532の
第1端子に接続されている。コンデンサ528の第2端
子が、電圧源GNDを受信する。パス・ゲート532の第
2端子が、トランジスタ506の第2電流電極に接続さ
れている。コンデンサ530の第1端子が、パス・ゲー
ト534の第1端子に接続されている。コンデンサ53
0の第2端子が、電圧源GNDを受信する。パス・ゲート
534の第2端子が、トランジスタ506の第2電流電
極に接続されている。
【0058】n−型MOSFET536が、コンデンサ
528に並列に接続されている。トランジスタ536の
第1電流電極が、コンデンサ528の第1端子に接続さ
れている。トランジスタ536の第2電流電極が、電圧
源GNDを受信する。トランジスタ536の制御電極が、
NORゲート538の出力に接続されている。NORゲ
ート538の出力は、パス・ゲート532内のp−型デ
バイス、および反転器540の入力にも接続されてい
る。反転器540の出力は、パス・ゲート532内のn
−型デバイスに接続されている。
【0059】n−型MOSFET542が、コンデンサ
530に並列に接続されている。トランジスタ542の
第1電流電極が、コンデンサ530の第1端子に接続さ
れている。トランジスタ542の第2電流電極が、電圧
源GNDを受信する。トランジスタ542の制御電極が、
制御信号BIAS_TRISTATEを受信する。制御信号BIAS_TRIS
TATEは、パス・ゲート534内のp−型デバイスにも接
続されている。反転器544の出力が、パス・ゲート5
34内のn−型デバイスに接続されている。反転器54
4の入力が、制御信号BIAS_TRISTATEを受信する。
【0060】n−型MOSFET546およびp−型M
OSFET548も、第1部分500の出力に接続され
ている。トランジスタ546の第1電流電極が、トラン
ジスタ506の第2電流電極に接続されている。トラン
ジスタ546の第2電流電極が、電圧源GNDを受信す
る。トランジスタ546の制御電極が、制御信号BIAS_
1.8を受信する。トランジスタ548の第1電流電極
が、トランジスタ506の第2電流電極に接続されてい
る。トランジスタ548の第2電流電極が、電圧源V DD
を受信する。トランジスタ548の制御電極が、反転器
544の出力に接続されている。
【0061】動作において、4つのトランジスタ50
4,506,508,510は、第1部分500の出力
において、2つの電圧レベルの1つ、2/3*DDまた
は1/3*DDを発生する。2つのトランジスタ54
6,548は、第1部分500の出力において2つの電
圧レベルの1つ、VDDまたはGNDを発生する。第1部分
500の制御信号入力の各々は、互いに他方を除外す
る。
【0062】ディゼーブルされた場合または三状態動作
サブモードに置かれた場合、制御信号BIAS_TRISTATEは
アクティブとなり、他の制御信号は全てインアクティブ
となる。BIAS_TRISTATEは、トランジスタ548を導通
状態に置き、第1部分500の出力を電圧源VDDに引き
上げる。
【0063】下位互換モードでは、P_BIASは2/3*
DD即ち1.2ボルトに等しくなる。この場合、制御信号
BIAS_3.3がアクティブとなり、ロー論理レベルをトラン
ジスタ504の制御電極に結合する。トランジスタ50
4のロー論理レベルが、これを導通状態に置く。トラン
ジスタ506,508,510は、これによって、3つ
のダイオード接続トランジスタを形成する。この構成で
は、第1部分500の出力は、事実上、第1「ダイオー
ド」トランジスタ506と、第2「ダイオード」トラン
ジスタ508との間から取られる。
【0064】高性能モードでは、P_BIASはGND即ち0ボ
ルトに等しくなる。この場合、制御信号BIAS_1.8はアク
ティブとなり、電圧源VDDをトランジスタ504の制御
電極に接続する。トランジスタ504の制御電極上のハ
イ値が、これを非導通状態に置く。一旦直列接続されて
いるトランジスタのいずれか1つが非導通状態となる
と、トランジスタ506の第2電流電極はフロート状態
となる。しかしながら、制御信号BIAS_1.8は、トランジ
スタ546も導通状態に置くので、第1部分500の出
力を電圧レベルGNDに引き下げる。
【0065】中間性能モードでは、P_BIASは1/3*
DD即ち0.6ボルトに等しくなる。この場合、制御信号
BIAS_2.5はアクティブとなり、トランジスタ504の制
御電極を、パス・ゲート520を通じて、その第2電流
電極に結合する。これによって、トランジスタ504は
ダイオードとして構成される。また、制御信号BIAS_2.5
は、トランジスタ508の第2電流電極を電圧源GNDに
直接接続する。トランジスタ510は、第1部分500
の動作においては、その一部をなさない。これによっ
て、トランジスタ504,506,508は、3つのダ
イオード接続トランジスタを形成する。この構成では、
第1部分500の出力は、第2「ダイオード」トランジ
スタ506と第3「ダイオード」トランジスタ508と
の間から取られる。
【0066】コンデンサ526,528,530は、電
荷再分配回路を形成する。コンデンサ526の容量は、
第1部分500によって出力される電圧を、出力バッフ
ァ100内またはその付近にあり得るあらゆるノイズか
ら隔離するのに役立つ。コンデンサ528,530は、
トランジスタ504,506,508,510の必要な
サイズを縮小する。第1部分500が三状態から出る
と、コンデンサ528,530の一方または双方は、そ
れらの対応するパス・ゲートを通じて、出力に接続され
る。すると、選択されたコンデンサ(群)は、以前には
コンデンサ526のみに蓄積されていた電荷を共有即ち
再分配することができる。この電荷再分配方法論によ
り、第1部分500は、トランジスタ504,506,
508,510の所与のサイズで通常達成可能なものよ
りも、高速かつ低電力で動作することが可能となる。
【0067】高性能モードでは、コンデンサ528,5
30は常に第1部分500の出力に接続されている。下
位互換動作モードでは、コンデンサ526,528は初
期状態において出力に接続されている。出力バッファ1
00が三状態サブモードから出ると、3つのコンデンサ
は全て出力に接続される。第1部分500によって出力
される電圧は、電圧および相対容量(relative capacita
nce)の関数である。
【0068】
【数1】 ここで、Cは、参照されるエレメントの容量である。図
示の実施例では、3つの容量は等しい。したがって、P_
BIASは、VDD *(2/3)即ち1.2ボルトに等しくな
る。中間性能動作モードでは、コンデンサ526のみが
初期状態において出力に接続されている。出力バッファ
100が三状態サブモードから出ると、この場合も3つ
のコンデンサ全てが出力に接続される。第1部分500
によって出力される電圧は、電圧および相対容量の関数
である。
【0069】
【数2】 図示の実施例では、3つの容量は等しい。したがって、
P_BIASは、VDD *(1/3)即ち0.6ボルトに等しく
なる。下位互換モードおよび中間性能モードでは、トラ
ンジスタ536,542は、コンデンサが出力に接続さ
れていない場合、それらに関連するコンデンサを放電さ
せる。
【0070】続いて第2部分502を説明する。p−型
MOSFET550の第1電流電極およびp−型MOS
FET552の第1電流電極が互いに接続され、バイア
ス電圧TRISTATE_2.5を発生する。トランジスタ550の
第2電流電極が、p−型MOSFET554の第1電流
電極に接続されている。トランジスタ554の第2電流
電極が、電圧源VDDを受信する。トランジスタ552の
第2電流電極が、電圧源GNDを受信する。トランジスタ
552の制御電極が、反転器556の出力に接続されて
いる。反転器556の入力が、制御信号BIAS_TRISTATE_
2.5を受信する。5つの追加の反転器558,560,
562,564,566が、入力から出力に直列に接続
されている。反転器566の出力が、トランジスタ55
4の制御電極に接続されている。反転器560の出力
が、トランジスタ550の制御電極に接続されている。
【0071】動作において、第2部分502自体は、出
力バッファ100がイネーブルされると、三状態とな
る。即ち、トランジスタ522または554のいずれも
が導通状態にない。出力バッファ100がディゼーブル
され、中間性能モードから三状態モードに入ると、第2
部分502は、トランジスタ552を導通状態に置くこ
とによって、(Vtp+GND)に等しいバイアス電圧を
出力する。トランジスタ550は、トランジスタ554
が導通状態になる前に、非導通状態に置かれる。このイ
ベントの順序により、クローバー電流がトランジスタ5
50,552,554に流れないことを保証する。第2
部分502は、出力バッファ100が三状態サブモード
を出て中間性能モードになると、パルスを発生する。最
初に、トランジスタ552が非導通状態に置かれる。次
に、トランジスタ550が導通状態に置かれる。尚、ト
ランジスタ554は既に導通状態にあることに注意され
たい。次に、第2部分502は、出力TRISTATE_2.5を電
圧源VDDに駆動する。3ゲート遅延長の後、トランジス
タ554がオフとなり、第2部分502の出力を三状態
とする。
【0072】当業者は、本発明の精神から逸脱すること
なく、変更や変形が可能であることを認めよう。例え
ば、図2に示した電圧制限回路におけるp−型MOSF
ETおよびn−型MOSFETを逆にしてもよい。ま
た、図示の実施例では、N_BIASをVDDに接続した。他の
実施例では、P_BIASと同様に、N_BIASをプログラムして
もよい。同様に、電圧制限回路内の各トランジスタおよ
び/またはトランジスタ304,308の双方を、別個
にプログラムしてもよい。したがって、本発明は、特許
請求の範囲に該当する全ての変形および変更を包含する
ことを意図するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による出力バッファのブロッ
ク図。
【図2】図1に示した入力段の構成図。
【図3】図1に示した出力段の構成図。
【図4】図1に示したデコーダのブロック図。
【図5】図1に示したバイアス発生器の構成図。
【符号の説明】
100 出力バッファ 102 入力段 104 出力段 106 パッド 108 デコーダ 110 バイアス発生器 200,202,204,206 トランジスタ 202,208,210,216,222,224,3
04,306,318,504,506,508,51
0,512,548 p−型MOSFET 204,206,212,214,226,228,2
30,232,308,310,516,524,53
6,542,546,550,552,554n−型M
OSFET 218,406,412,416,420 NAND
ゲート 220,314,316,400,402,404,4
08,410,414,418,514,518,52
2,540,544,556,558,560,56
2,564,566 反転器 300,302 抵抗 312 NORゲート 500 第1部分 502 第2部分 520,532,534 パス・ゲート 526,528,530 コンデンサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョシュア・シーゲル アメリカ合衆国テキサス州オースチン、エ ー・ロックブリッジ・テラス1718 (72)発明者 ジョーズ・アルバーツ アメリカ合衆国テキサス州リーンダー、イ ングリッシュ・リバー・ループ15346

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ある回路において第1電圧を有する入力信
    号を、第2電圧を有する出力電圧にバッファする方法で
    あって:前記回路を、所定のゲート誘電体ブレークダウ
    ン電圧のトランジスタを有し、第1および第2供給電圧
    と共に用いる電圧変換回路として実施する段階であっ
    て、前記第1供給電圧は、前記所定のゲート誘電体ブレ
    ークダウン電圧制限を超過せず、前記第2供給電圧は、
    前記所定のゲート誘電体ブレークダウン電圧制限を超過
    する、段階;前記回路の入力端子において、前記入力信
    号を受信する段階であって、前記入力信号の前記第1電
    圧が前記第1供給電圧に等しい、段階;制御回路を用い
    て、複数のバイアス電圧値から、少なくとも1つのバイ
    アス電圧をプログラム可能に選択する段階であって、前
    記少なくとも1つのバイアス電圧は、前記第2供給電圧
    と用いるのに適した大きさを有し、前記少なくとも1つ
    のバイアス電圧の大きさは、前記所定のゲート誘電体ブ
    レークダウン電圧が前記回路内のいずれの場所において
    も超過されないように選択され、前記制御回路は、前記
    回路のユーザが前記第2供給電圧に他の電圧の大きさを
    選択したことに応答して、前記少なくとも1つのバイア
    ス電圧を、前記複数のバイアス電圧値間の他の値に変更
    可能とする、段階;および出力端子において、前記出力
    信号を選択的に与え、前記出力信号が前記第2供給電圧
    にほぼ等しい、段階;から成ることを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】出力バッファであって:基準電圧に基づい
    て2つの供給電圧で動作する電圧レベル変換器(10
    2,104)であって、第1供給電圧が、前記電圧レベ
    ル変換器内のトランジスタの最大ゲート誘電体ブレーク
    ダウン電圧値より小さい大きさを有し、第2供給電圧
    が、前記最大ゲート誘電体ブレークダウン電圧値より大
    きな大きさを有し、前記電圧レベル変換器は、前記第1
    供給電圧以下の入力信号を受信し、前記第2供給電圧以
    下の出力信号を与える、電圧レベル変換器(102,1
    04);少なくとも1つの制御入力値を受信し、前記電
    圧レベル変換器と共に用いる少なくとも1つのバイス電
    圧を選択する、バイアス電圧選択信号を与えるデコーダ
    (108);および前記デコーダおよび前記電圧レベル
    変換器に結合されたバイアス電圧発生器(110)であ
    って、該バイアス電圧発生器は、前記電圧レベル変換器
    に、前記少なくとも1つの制御入力値によって決定され
    る複数の所定の相違値の1つを有する、前記少なくとも
    1つのバイアス電圧を供給し、前記少なくとも1つのバ
    イアス電圧は、前記最大ゲート誘電体ブレークダウン電
    圧値が、既知の最大第2供給電圧値に対して、前記電圧
    レベル変換器内にいずれの場所においても超過されない
    ことを保証する電圧の大きさを有する、バイアス電圧発
    生器(110);から成ることを特徴とする出力バッフ
    ァ。
  3. 【請求項3】出力バッファであって:接地電位を基準と
    する第1および第2供給電圧によって給電するように構
    成された入力段(102)であって、前記第2供給電圧
    は、前記第1供給電圧よりも大きな電圧の大きさを有
    し、前記第2供給電圧は、前記出力バッファの出力の1
    論理状態の電圧の大きさであり、前記第1供給電圧は、
    所定の制御電極誘電体ブレークダウン電圧制限を超過せ
    ず、前記第2供給電圧は前記所定の制御電極誘電体ブレ
    ークダウン電圧制限を超過し、前記入力段は、データ入
    力端子と、該入力段を2つの動作電圧モードの一方に置
    くイネーブル信号とを有し、前記入力段は、第1導電型
    のトランジスタを駆動するための第1駆動出力信号を与
    え、かつ第2導電型のトランジスタを駆動するための第
    2駆動出力信号を与え、前記入力段は、各々、前記所定
    の制御電極誘電体ブレークダウン電圧制限を超過しな
    い、制御電極誘電体ブレークダウン電圧制限を有するト
    ランジスタ群によって実施される、入力段(102);
    前記出力バッファのユーザに応答して供給される電圧値
    選択信号に応答して、前記出力バッファを動作させるた
    めに、複数の供給電圧レベルのどれが選択されているか
    を示す制御信号を受信する入力を有するデコーダ(10
    8);前記デコーダに結合されたバイアス発生器(11
    0)であって、該バイアス発生器は、少なくとも1つの
    バイアス信号を前記入力段に供給し、該少なくとも1つ
    のバイアス信号は、前記制御信号に応答して選択され、
    前記出力バッファ内のいずれのトランジスタのいずれの
    ゲート誘電体電圧ブレークダウン電圧をも損傷する値を
    超過しない電圧の大きさを有する、バイアス発生器(1
    10);および前記入力段に結合され、前記第1および
    第2駆動出力信号を受信し、かつ前記バイアス発生器に
    結合された出力段(104)であって、前記データ入力
    端子において受信される入力信号の電圧変換である、前
    記出力バッファの出力を与える出力段(104);から
    成ることを特徴とする出力バッファ。
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