JPH11226342A - ガス浄化方法および装置 - Google Patents

ガス浄化方法および装置

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JPH11226342A
JPH11226342A JP10110278A JP11027898A JPH11226342A JP H11226342 A JPH11226342 A JP H11226342A JP 10110278 A JP10110278 A JP 10110278A JP 11027898 A JP11027898 A JP 11027898A JP H11226342 A JPH11226342 A JP H11226342A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機汚染物質を含むガスを省エネルギーで効
率よく浄化するためのガス浄化方法および装置を提供す
ること。 【解決手段】 吸着式クリーニング装置1として吸着媒
体を内蔵する回転式円柱状の吸着室3を備えたものを使
用し、この吸着式クリーニング装置1に吸着媒体に汚染
物質を吸着させるために未処理ガスと、吸着媒体に吸着
した汚染物質を脱着するために脱着用エアと、吸着媒体
を冷却するために冷却用エアを供給する。一方、脱着し
た汚染物質を含むガスは燃焼室21を備えた燃焼装置2
に供給する。また、脱着用エアは、燃焼室21にて加熱
された700 〜900 ℃に達する高温ガスの一部とともに吸
着媒体を冷却するために使用し、排出された冷却用エア
を混合し調節する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機汚染物質を含
むガスを浄化処理するためのガス浄化方法、およびその
方法を実施するためのガス浄化装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】有機汚染物質を含むガスの浄化方法およ
び装置として、例えばWO95/01827が知られている。従来
例では、脱着した汚染物質を含むガスは、燃焼室より排
気される高温ガスで暖められた熱交換器を経て燃焼装置
に供給されるよう構成されており、このため燃焼室より
排出される高温ガスは、ホットエアを調整するために、
円柱状の吸着室を通過排気された冷却エアと混合される
前に温度が低下している。また、蓄熱燃焼装置を利用し
た他の従来例では、燃焼装置より排気される浄化された
クリーンエアは、ホットエアを調整するために円柱状の
吸着室を通過排気された冷却エアと混合されるよう構成
されている。このように従来の装置では、ホットエアは
吸着式クリーニング装置と燃焼装置の間を循環している
ため、ホット脱着エアとともに円柱状の吸着室の吸着媒
体より排出された水分の大半が燃焼装置を経てホットエ
アとして再利用されることとなり、水分が徐々に蓄積さ
れて吸着性能の低下を生じるとともに、露点の上昇に伴
う腐食の原因になるという問題点があった。
【0003】また従来の装置では、未処理エアは吸着式
クリーニング装置に供給される前に冷却装置により冷却
され、更にこの冷却された未処理エアを吸着に最適な温
度まで再加熱するため、未処理ガスが円柱状の吸着室に
供給される前に、熱交換器により暖められたエアの一部
あるいは燃焼装置より排出されるクリーンエアが供給さ
れることとなる。熱交換の実施例において、従来の設備
のトータル熱エネルギー必要量は風量10,000Nm3/hrあた
り約150kW である。また十分な冷却効果を得るために
は、冷却エアー流は脱着用ホットエアー流とほぼ同等の
処理量でなければならない。そして吸着媒体がゼオライ
トである場合には、脱着用ホットエアの温度は最低160
℃必要となり、冷却エアを50℃から160 ℃に加熱するの
に従来例では燃焼室より206 ℃の高温ガスを75%混合し
なければならず、このような高温ガスは、従来の実施例
では利用できないものであった。一方、熱交換器を備え
た従来例の装置では、冷却エアより多量のホットエアが
必要となり、実際の運転において非常に不利な混合比で
ある。
【0004】このような浄化装置においては、汚染され
た排気ガスは吸着媒体横断面の50%以上の部分を通過
し、一方、吸着した汚染物質を脱着するためのホットエ
アはより小さな部分を通過するので、吸着媒体が回転
し、かつ各ガスの吸排気用ダクトが独自に接続されるこ
とにより連続運転が可能となる。ちなみに吸着媒体が回
転しダクト接続部が固定されているか、または吸着媒体
が固定されておりダクト接続部が回転するようにした吸
着式クリーニング装置としては、例えばDE 43 15 578 A
1 に示されている。更に、蓄熱燃焼装置と呼ばれる装置
は、有機性汚染物質を含むガスを燃焼室に接続され蓄熱
体が充填された少なくとも2つの蓄熱室に交互に供給さ
れることが知られている。前のサイクルで蓄熱された蓄
熱室の蓄熱体により、燃焼浄化前のガスは燃焼室に供給
される前に予備加熱される(例えば、DE 29 51 525 A1
やEP0 472 605 B1 参照)。もしガス中の有機物濃度が
薄い場合、蓄熱燃焼装置に供給される前に吸着媒体によ
り濃縮、脱着される(US5,297,954参照)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
従来の問題点を解決して、クリーニング効率を低下する
ことなく、かつ装置費用を増額することなく装置運転に
必要なエネルギー量を減少することができるガス浄化方
法および装置を提供することを目的として完成されたも
のである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めになされた本発明は、吸着式クリーニング装置と燃焼
装置を備えたガス浄化装置により有機物を含むガスを浄
化するガス浄化方法であって、前記吸着式クリーニング
装置は吸着媒体を内蔵した円柱状の吸着室を少なくとも
一つの備えており、該吸着室の両端面には、それぞれ未
処理ガスの供給用および吸着媒体により浄化されたガス
の排気用接続口と、吸着した汚染物質を脱着するための
エア供給排気用接続口と、吸着媒体を冷却するためのエ
ア供給排気用接続口の扇形接続口が回転軸の周囲に配置
されていて、吸着した汚染物質を脱着するためのホット
エアは、燃焼室より排出される高温ガスと円柱状の吸着
室より排出された冷却用エアを混合・調整され、一方、
前記燃焼装置は蓄熱体を充填した2つの蓄熱室が燃焼室
の両端に接続されており、該蓄熱室に吸着式クリーニン
グ装置により脱着した汚染物質を含むガスと燃焼室によ
り処理したクリーンエアを交互に供給し、また燃焼室に
おいて700 〜900 ℃に達した高温ガスの一部を吸着式ク
リーニング装置より汚染物質を脱着するために使用され
るホットエアを調整するよう、吸着層を冷却するために
使用された冷却エアと混合することを特徴とするガス浄
化方法を第1の発明とし、吸着式クリーニング装置と燃
焼装置を備えたガス浄化装置であって、吸着式クリーニ
ング装置は吸着媒体を内蔵した少なくとも一つの円柱状
の吸着室を備えており、円柱状の吸着室の両端面に未処
理ガス用の吸引ダクトと、汚染物質が吸着され浄化され
たガス用の排気ダクトと、吸引ダクトより分岐された吸
着媒体冷却用エアの供給ダクトと、他端が脱着用エアを
調整するための混合室に接続された冷却用エアの排気ダ
クトと、混合室より汚染物質を脱着するためのホットエ
アを供給するダクトと、脱着された汚染物質を含むガス
を燃焼装置に供給するダクトの各扇形接続口が回転軸の
周囲に配置されており、一方、燃焼装置は、蓄熱体を充
填した2つの蓄熱室が燃焼室の両端に接続されており、
各蓄熱室には脱着した汚染物質を含むガスを供給するた
めのダクトと、燃焼室にて処理されたクリーンエアを排
気するためのダクトがそれぞれ接続されており、更に燃
焼室には700 〜900 ℃に達した高温ガスを混合室に供給
するための高温ガス供給ダクトが接続されていることを
特徴とするガス浄化装置を第2の発明とするものであ
る。
【0007】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の好ましい実施の
形態を示す。本発明によれば、脱着した汚染物質を含む
ガスは、蓄熱体が充填され、燃焼室に接続された2つの
蓄熱室を備えた燃焼装置に供給される。汚染物質を含む
ガスは交互に各蓄熱室に供給され、燃焼処理されたクリ
ーンガスは別の蓄熱室より排出される。燃焼室内におい
て700 〜900 ℃、特に約800 ℃に達する高温ガスの一部
は燃焼室から直接排出され、円柱状の吸着室に吸着した
汚染物質脱着用のホットエアを調整するために、吸着層
を冷却し排出されたエアと混合される。ホットエアの調
整に使用されない高温ガスの大部分は、蓄熱室を経て低
温度のクリーンガスとして燃焼装置より排出される。70
0 〜900 ℃に達する高温ガスに対する冷却エアの混合重
量比は、高温ガス重量の3〜10倍、好ましくは4〜6倍
である。ホットエアを調整するために燃焼室より排出さ
れる高温ガスの流量は、全流量の1/3 〜1/10、好ましく
は1/4 〜1/6 の範囲である。よって2/3 〜9/10、好まし
くは3/4 〜5/6 の高温ガスが蓄熱体を加熱するために使
用され、100 ℃以下に冷却されたクリーンエアとして燃
焼装置より排出される。
【0008】本発明によれば装置全体のエネルギー消費
量を、従来装置より約60%以上減少することが可能であ
る。吸着浄化されるべき有機性汚染物質を含むガスのう
ち5〜20%にあたるガスを、ホットエアにより汚染物質
を脱着され加熱された吸着媒体を冷却するための冷却エ
アとして使用する。燃焼装置において処理される脱着し
た汚染物質を含むガス処理量は、吸着式クリーニング装
置を通過して浄化されるガス処理量の5〜20重量%であ
る。
【0009】本発明により使用される吸着式クリーニン
グ装置は、吸着媒体を充填した円柱状の吸着室および各
ガス吸排気用の接続口を備え、缶体が回転するタイプの
ものである。円柱状の吸着室は、両端面に空気透過性の
ある壁を備え、両端面間は複数の区分に放射状に仕切ら
れている。更に、吸着浄化前のエア吸引口および吸着浄
化後のクリーンエア排気口、ホットエアの吸引口と脱着
した汚染物質を含むガスの排気口と冷却用エアの吸排気
口により、両端面は回転軸を中心として3分割されてい
る。吸着浄化前のエア吸引口および吸着浄化後のクリー
ンエア排気口、ホットエアの吸引口と脱着した汚染物質
を含むガスの排気口と冷却用エアの吸排気口は、それぞ
れ円柱状缶体の異なるサイドに配置されており、また浄
化前エア吸引口、冷却エア吸引口および脱着した汚染物
質を含むガスの排気口が同一サイドに配置されており、
浄化後のクリーンエア排気口、ホットエア供給口および
冷却エア排気口が他方サイドに設置されている。
【0010】本発明に使用される燃焼装置は、ドイツ特
許出願番号196 43 821.7に一致した装置が望ましい。脱
着した汚染物質を含むガスは、燃焼装置の一方の蓄熱室
に供給され、他方の蓄熱室より燃焼処理されたクリーン
エアが排出される。その後、今まで汚染物質を含むガス
が供給されていた蓄熱室より燃焼処理後のクリーンガス
を排出する場合、前段階で蓄熱室に充満した汚染物質が
クリーンガス排出用ダクトに逆流するので、これを防ぐ
ために脱着した汚染物質を含むガスが供給された蓄熱室
に対して、同じ蓄熱室より燃焼浄化したクリーンガスが
排出される前に吸着室を冷却したガスが供給される。こ
の結果、汚染物質は冷却ガスにより蓄熱室から燃焼室に
運ばれ、そこで燃焼される。蓄熱室がクリーンガス排出
ダクトに接続され、燃焼装置内における風の流れが反転
したとき、僅かに汚染物質を含む冷却エアだけが、クリ
ーンエア排出用ダクトに流れる。蓄熱室は冷却エアによ
って5秒間以下パージされる。
【0011】冷却エアにより蓄熱室をパージするよう脱
着した汚染物質を含むガスを燃焼装置に供給するための
汚染物質供給ダクトは、バイパスダクトにより吸着式ク
リーニング装置にホットエアを供給するためのホットエ
ア供給ダクトと接続されており、更にこのバイパスダク
トとの接続部には、吸着式クリーニング装置からの脱着
した汚染物質を含むガスの供給を停止し、かつホットエ
ア供給ダクトよりホットガスを供給するために最適な遮
断装置を備えている。また、円柱状の吸着室の圧力を一
定に保つために、冷却エアを吸引するためにファンが吸
着式クリーニング装置の冷却エア排気側に設置されてい
る。
【0012】吸着式クリーニング装置に充填される吸着
媒体としては、疎水性ゼオライトが好ましく、疎水性ゼ
オライトと活性炭の混合物も適している。典型的な疎水
性ゼオライトは、SiO2が90〜97重量%、Al2O3 が2〜10
重量%、およびNaが1%以下からなる。ゼオライトと活
性炭の混合物を使用する場合、混合比はゼオライトが50
〜90重量%、活性炭が10〜50重量%であることが望まし
い。
【0013】次に、本発明のガス処理装置を図面ととも
に詳細に説明する。図1はガス浄化装置の全体概略図、
図2は燃焼装置の断面図、図3は燃焼装置のメイン遮断
装置概念図であって、ガス除去チャンネルから側壁を取
り外し遮断装置缶体から壁を取り外した状態を示すもの
である。本発明のガス浄化装置は吸着式クリーニング装
置1と燃焼装置2から構成され、この吸着式クリーニン
グ装置1は吸着媒体を充填した円柱状の吸着室3を備え
ていてモータ(図示せず)の回転軸4により回転する。
円柱状の吸着室3には、吸引ダクト5を経て浄化される
ガスが供給される。この目的のために、ダクト接続部
(図示せず)は、吸着ゾーン6の形状に対応した扇型形
状となっており、ガス透過性能を有する吸着室3の端壁
7とはシール材によりシールされている。同様の扇型接
続部が反対側、即ち同様にガス透過性能を有する吸着室
3の他端壁8側にも配置されている。他端壁8は、シー
ル材によりシールされて排気ファン10を含む排気ダク
ト9と接続されており、煙突11に繋がっている。
【0014】前段フィルター12は、吸着室3にとって
有害な粒子を取り除くためにダクト5に設定されてい
る。冷却エア供給ダクト13は、前段フィルター12後
の吸引ダクト5より分岐され、冷却ゾーン14に対応し
た扇形接続部(図示せず) に接続しており、接続部は吸
着室3の端壁7とはシールされている。同様のダクト接
続部が、吸着室3の冷却ゾーン14の他端壁8側にも配
置されており、他端壁8とは同様にシールされている。
この接続部には冷却エア排気用のダクト15が接続され
ており、ダクト15は混合室16に繋がっている。排気
ファン17は、冷却エア排気用のダクト15中に配置さ
れている。
【0015】ホットガス供給ダクト18は、混合室16
から吸着室3の他端壁8側の脱着ゾーン19に対応した
扇形接続部(図示せず) に接続されており、他端壁8と
はシールされている。同様のダクト接続部が、吸着室3
の脱着ゾーン19の端壁7側にも配置されており、端壁
7とは同様にシールされている。前記脱着ゾーン19の
端壁7側のダクト接続部にはダクト20が接続されてい
る。吸着室3は回転する構造であり、一方、浄化前ガス
の吸引用、クリーンガスの排気用、脱着用ホットエアの
吸引用、脱着した汚染物質を含むガスの排気用および冷
却エアの吸排気用接続部は固定された構造である。
【0016】燃焼装置2は、バーナ22を備えた燃焼室
21の両端に接続された2つの蓄熱室25、26を備え
ており、蓄熱室25、26は、例えばEP 0 472 605 B1
によって設計される蓄熱体24が充填されている。これ
らの蓄熱室25、26は、各バルブ27、28でダクト
20と接続されており、かつ各バルブ29、30で排気
ダクト31と接続しており、この排気ダクト31は、吸
着浄化装置1の排気ファン10後部の排気ダクト9に接
続している。
【0017】燃焼室21にて700 〜900 ℃に達した高温
ガスの一部は、高温ガス排気ダクト33を経て燃焼室2
1より排出され、混合室16に供給される。冷却エア排
気用のダクト15を経て供給された冷却エアに対する、
ダクト33を経て混合室16に供給される高温ガスの混
合比は、高温ガス排気ダクト33に設置された調節弁3
4により調節される。また、ホットエア供給ダクト18
とダクト20間にはバイパスダクト35があり、該バイ
パスダクト35は三方弁36によりダクト20に接続さ
れている。排気ファン37は、三方弁36後部のダクト
20中に配置されている。
【0018】以上のように構成されたガス浄化装置は、
次のように作動する。汚染物質を含むガスは、吸引ダク
ト5を経て汚染物質を吸着するための吸着室3の吸着ゾ
ーン6に供給される。吸着浄化されたクリーンガスは、
排気ダクト9を経て煙突11に流れる。吸着室3は、回
転軸4の周りを矢印38の方向に回転するため、吸着室
3中の汚染物質が供給された吸着媒体は、吸着ゾーン6
から脱着ゾーン19に向かって回転し、更に冷却ゾーン
14を経て、再び浄化前のガスより汚染物質を吸着する
ために吸着ゾーン6に向かって回転する。
【0019】吸着浄化前のガスの5〜20%が、ホットエ
ア供給ダクトより供給されたホットエアにより脱着され
た脱着ゾーン19を冷却するために、冷却エアとして冷
却エア供給ダクト15にて吸引ダクト5より分岐され
る。冷却ゾーンを通過し暖められた冷却エアは、ファン
17により冷却エア排気ダクト15を経て混合室16に
供給され、高温ガス排気ダクト33を経て調節弁34に
て調節された700 〜900℃に達する高温ガス少量と混合
される。混合比は、一例として高温ガス重量1に対して
冷却エア重量は5であって、調整混合されたホットエア
は、吸着ゾーンに吸着した汚染物質を脱着するために、
ホットエア供給ダクト18を経て脱着ゾーンに供給され
る。本発明によれば、冷却エアの重量割合はホットエア
の数倍、前記の例では5倍であるので、完全な冷却効果
が得られる。従って、この冷却エアに対するホットエア
の比率は1.0 〜1.5 、特に1.1 〜1.33の範囲にあること
が好ましい。この時、例えば供給された冷却エアの1/6
の高温ガスが混合室に供給され、これによって水蒸気の
含有量を低下するとともに吸着室3中の吸着媒体の吸着
容量低下および腐食を防止する。
【0020】脱着によって高濃度に濃縮された汚染物質
を含むガスは、ファン37によりダクト20およびバル
ブ27、28を経て、燃焼装置2の2つの蓄熱室25、
26の一方に供給される。前のサイクルにより加熱され
ている蓄熱室25、26の蓄熱体24は、脱着した汚染
物質を含むガスを加熱し、次いでこの汚染物質は燃焼室
21にて燃焼される。燃焼室内の高温エアの例えば1/5
を高温エア排気ダクト33を経て直接排気する場合、残
り4/5 の高温エアは、他方の蓄熱室26、25中の蓄熱
体を加熱する。このため、100 ℃以下に冷却されたクリ
ーンエアが排気ダクト31に排気される。
【0021】2つの蓄熱室25、26に、ダクト20に
接続されたバルブ27、28と排気ダクト31に接続さ
れたバルブ29、30の切替により、例えば1〜3分毎
に各々脱着された汚染物質を含むガスが供給される。高
温ガスに対し冷却エアの混合比が高いと、燃焼装置2と
吸着浄化装置1との循環路における多量の蒸気の蓄積を
回避することができる。
【0022】ダクト20を経て脱着した汚染物質を含む
ガスが最後に供給された蓄熱室25、26中に留まって
いる脱着した汚染物質を含むガスが、バルブを切り替え
た時に排気ダクト31に逆流することを防止するため
に、各バルブ27、28、29、30を切り替える寸前
に、汚染物質を僅かに含むホットエアを三方弁36によ
ってバイパスダクト35を経て蓄熱室25、26に数秒
間供給する。その後、バイパスダクト35は三方弁36
によって再び閉じられ、そのためホットエア供給ダクト
18中のホットエアは脱着ゾーン19に供給される。本
発明によれば汚染物質の燃焼効率は、99.5%以上に達す
る。
【0023】ドイツ特許出願番号196 43 821.7により設
計されたところの図2、3の燃焼装置において、各バル
ブ27、28、29、30は、2つの蓄熱室25、26
間の空間39に設置された箱41中に配置される。箱4
1は、2枚の側壁42、43、天井壁44、床壁45、
上部分割壁46および下部分割壁47からなる。天井壁
44と上部分割壁46は、側壁42、43と排気ダクト
31に接続されるガス排気口48により囲まれている。
一方、床壁45と下部分割壁47は、側壁42、43と
ダクト20に接続されるガス吸引口49により囲まれて
いる。排気口48と吸引口49は、シールされている。
上部分割壁46と下部分割壁47は、側壁42、43と
ともにメイン遮断装置51の缶体を形成している。この
缶体において、垂直分割壁52は、上部分割壁46と下
部分割壁47の間に設置され、缶体を2つの部屋54、
55に仕切っている。
【0024】それぞれの部屋54、55は、上部分割壁
46と下部分割壁47にそれぞれ開孔56、58;5
7、59を備えている。異なる壁面上に配置された2つ
の各開孔56、57;58、59を開閉するために、部
屋54、55は、ピストンロッドの下端に固定されたダ
ンパディスク60、61を備えている。メイン遮断装置
51の部屋54、55は、一方が蓄熱室25に、他方が
蓄熱室26に接続されている。メイン遮断装置51は、
部屋54、55の各蓄熱室25、26に面している壁面
に開口部を持つように設計されている。即ち、この部分
における側壁42、43が切りかかれている。この各開
孔部65、66により、メイン遮断装置51より蓄熱室
25、26への脱着した汚染物質を含むガスの流出、あ
るいは蓄熱室25、26からメイン遮断装置51へのク
リーンガスの流入が可能となる。ピストンロッド62、
63は、空間39中の箱41の上部に固定装置76によ
り固定されたピストンシリンダーユニット74、75に
より操作される。ピストンロッド62、63すなわちダ
ンパーディスク60、61の可動端において、各部屋5
4、55の異なる壁面上に配置された2つの各開孔5
6、58;57、59は、一方(開孔56、57あるい
は58、59)が閉じられており、他方(開孔57、5
6あるいは59、58)は開かれている。
【0025】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように第1の
発明は、クリーニング効率を低下することなく、かつ装
置費用を増額することなく装置運転に必要なエネルギー
量を減少することができるものであり、また第2の発明
は上記方法を効率よく実施できるものである。よって本
発明は従来の問題点を一掃したガス浄化方法および装置
として、産業の発展に寄与するところは極めて大であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す全体概略図である。
【図2】本発明における燃焼装置を示す断面図である。
【図3】本発明における燃焼装置のメイン遮断装置を示
す概念図である。
【符号の説明】
1 吸着式クリーニング装置 2 燃焼装置 3 吸着室 16 混合室 21 燃焼室 25 蓄熱室 26 蓄熱室
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シェドラー ヨハネ オーストリア国 A−8042 グラーツ市 シュミードルシュトラーセ10 ケミッシュ テルミッシェ プロツェステクニークゲ ゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング内 (72)発明者 タルハマー ヘイモ オーストリア国 A−8042 グラーツ市 シュミードルシュトラーセ10 ケミッシュ テルミッシェ プロツェステクニークゲ ゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング内

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 吸着式クリーニング装置と燃焼装置を備
    えたガス浄化装置により有機物を含むガスを浄化するガ
    ス浄化方法であって、前記吸着式クリーニング装置は吸
    着媒体を内蔵した円柱状の吸着室を少なくとも一つの備
    えており、該吸着室の両端面には、それぞれ未処理ガス
    の供給用および吸着媒体により浄化されたガスの排気用
    接続口と、吸着した汚染物質を脱着するためのエア供給
    排気用接続口と、吸着媒体を冷却するためのエア供給排
    気用接続口の扇形接続口が回転軸の周囲に配置されてい
    て、吸着した汚染物質を脱着するためのホットエアは、
    燃焼室より排出される高温ガスと円柱状の吸着室より排
    出された冷却用エアを混合・調整され、一方、前記燃焼
    装置は蓄熱体を充填した2つの蓄熱室が燃焼室の両端に
    接続されており、該蓄熱室に吸着式クリーニング装置に
    より脱着した汚染物質を含むガスと燃焼室により処理し
    たクリーンエアを交互に供給し、また燃焼室において70
    0 〜900 ℃に達した高温ガスの一部を吸着式クリーニン
    グ装置より汚染物質を脱着するために使用されるホット
    エアを調整するよう、吸着層を冷却するために使用され
    た冷却エアと混合することを特徴とするガス浄化方法。
  2. 【請求項2】 燃焼装置における脱着した汚染物質を含
    むガスの処理重量が、円柱状の吸着室を通過し浄化され
    るガスの処理重量の5〜20%である請求項1に記載のガ
    ス浄化方法。
  3. 【請求項3】 ホットエアを生成するために、冷却エア
    に対する燃焼室より供給される700 〜900 ℃に達する高
    温ガスの混合重量比が、高温ガス1に対して、冷却エア
    3〜10であって、そのため冷却ガス1に対するホットエ
    アの割合が1〜1.5 を越えない請求項1または2に記載
    のガス浄化方法。
  4. 【請求項4】 脱着した汚染物質を含むガスが最後に供
    給された燃焼装置付属の蓄熱室に対して、燃焼室にて処
    理されたクリーンガスを通過する前に冷却エアを供給す
    る請求項1、2または3に記載のガス浄化方法。
  5. 【請求項5】 冷却エアの供給時間が5秒を越えない請
    求項4に記載のガス浄化方法。
  6. 【請求項6】 吸着媒体として疎水性ゼオライトを使用
    する請求項1に記載のガス浄化方法。
  7. 【請求項7】 吸着媒体としてゼオライトと活性炭の混
    合物を使用する請求項1に記載のガス浄化方法。
  8. 【請求項8】 吸着式クリーニング装置(1) と燃焼装置
    (2) を備えたガス浄化装置であって、吸着式クリーニン
    グ装置(1) は吸着媒体を内蔵した少なくとも一つの円柱
    状の吸着室(3) を備えており、円柱状の吸着室(3) の両
    端面に未処理ガス用の吸引ダクト(5) と、汚染物質が吸
    着され浄化されたガス用の排気ダクト(9) と、吸引ダク
    ト(5) より分岐された吸着媒体冷却用エアの供給ダクト
    (13)と、他端が脱着用エアを調整するための混合室(16)
    に接続された冷却用エアの排気ダクト(15)と、混合室(1
    6)より汚染物質を脱着するためのホットエアを供給する
    ダクト(18)と、脱着された汚染物質を含むガスを燃焼装
    置(2) に供給するダクト(20)の各扇形接続口が回転軸
    (4) の周囲に配置されており、一方、燃焼装置(2)は、
    蓄熱体(24)を充填した2つの蓄熱室(25,26) が燃焼室(2
    1)の両端に接続されており、各蓄熱室(25,26) には脱着
    した汚染物質を含むガスを供給するためのダクト(20)
    と、燃焼室(21)にて処理されたクリーンエアを排気する
    ためのダクト(31)がそれぞれ接続されており、更に燃焼
    室(21)には700 〜900 ℃に達した高温ガスを混合室(16)
    に供給するための高温ガス供給ダクト(33)が接続されて
    いることを特徴とするガス浄化装置。
  9. 【請求項9】 高温ガス供給ダクト(33)にコントロール
    バルブ(34)を備えた請求項8に記載のガス浄化装置。
  10. 【請求項10】 燃焼装置(2) の蓄熱室(25,26) 間のス
    ペース(39)に、メイン遮断装置(51)が設置されており、
    メイン遮断装置(51)缶体は上部壁(46)、下部壁(47)およ
    び分割壁(52)により2部屋(54,55) に仕切られたうえ、
    別々の蓄熱室(25,26) に接続されており、しかも各部屋
    の上部壁(46)および下部壁(47)には開閉可能な4つの開
    孔(56,57;58,59) が設けられているとともに、各部屋の
    上下開孔を開閉するダンパディスク(60,61) を操作する
    ためのコントロールユニット(74,75) が備えられてお
    り、各部屋(54,55) に設けられた一方の開孔は、吸着式
    クリーニング装置(1) で脱着した汚染物質を含むガスを
    供給するためのダクト(20)と接続されており、他方の開
    孔は燃焼室(21)で処理されたクリーンエアを排気するた
    めのダクト(31)にそれぞれ接続されている請求項8に記
    載のガス浄化装置。
  11. 【請求項11】 蓄熱体(24)がハニカムより形成される
    請求項8、9または10に記載のガス浄化装置。
  12. 【請求項12】 蓄熱体(24)の全てあるいは一部に触媒
    機能が付加された請求項8、9、10または11に記載
    のガス浄化装置。
  13. 【請求項13】 脱着用エア供給ダクト(18)と燃焼装置
    用吸引ダクト(20)がバイパスダクト(35)にて接続されて
    おり、吸着式クリーニング装置(1) からのガス吸引を停
    止し、ホットガス供給パイプ(18)から燃焼装置(2) にホ
    ットエアを供給するための遮断装置(36)が備えられてい
    る請求項8に記載のガス浄化装置。
  14. 【請求項14】 遮断装置(36)と燃焼装置(2) 間のダク
    ト(20)にファン(37)を備えた請求項13に記載のガス浄
    化装置。
  15. 【請求項15】 吸着式クリーニング装置(1) の冷却用
    エアの排気ダクト(15)にファン(17)を備えた請求項8、
    9、10、11、12、13または14に記載のガス浄
    化装置。
  16. 【請求項16】 排気ダクト(9) に排気ファン(10)を備
    えた請求項8、9、10、11、12、13、14また
    は15に記載のガス浄化装置。
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