JPH0290920A - 溶剤含有ガス濃縮装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は低濃度溶剤含有ガスを活性炭による吸脱着作用
により高濃度溶剤含有ガスに濃縮する溶剤含有ガス濃縮
装置に関し、特に、溶剤吸収塔に高濃度の溶剤含有ガス
を供給することによってその回収効率を高めるために使
用される溶剤含有ガス濃縮装置に関する。

［従来の技術］ 近時、フロンガスによる大気汚染が重大な問題として注
目されており、このためフロンガスの排出規制がなされ
ようとしている。このフロンガス排出規制に対処するた
めの技術として、従前大気に放散されていたフロンガス
を回収して再使用しようとするフロンガス回収装置があ
る。

面して、排気中のフロンガスは一般的に低濃度であるた
め、回収装置においてそのまま冷却したリ、又は、従来
の活性炭流動床若しくは活性炭固定床により濃縮した後
、冷却回収したり、オイルに吸収して精製回収していた
。しかしこのような方法によると、回収装置が大型化せ
ざるを得なくなるか、又は回収率が極めて低下して実用
には供し得なくなる。そこで、フロンガス回収の前処理
として、低濃度フロン含有ガスを濃縮する手段が講じら
れている。

この従来のガス中成分の濃縮装置としては特開昭６１−
１６７４３０号に開示されたものがある。この技術にお
いては、シート状吸着部材を波形に折り曲げて形成され
る多数の通気孔が円筒体の回転軸と平行になるようにし
て前記シート状吸着部材を円筒体内部に配置し、吸着用
ガスと脱着用ガスとが交互にその回転軸と平行に通過す
るように前記円筒体を回転させることにより、吸着用ガ
ス中の成分を脱着用ガス中に高濃度に濃縮させて得るよ
うに構成されている。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上述した従来の濃縮装置は、般の溶剤回
収装置で使用されてきたものであり、回収が困難なフロ
ンガスに適用するには、濃縮率が低いため、装置が大型
化したり、フロン回収率が低いという難点を有する。こ
のため、屋外に排出されるフロンを極力少なくするとい
う近時の要望を十分満足するものではない。

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
小型の装置であってフロン含有ガス濃縮率が極めて高い
溶剤含有ガス濃縮装置を提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明に係る溶剤含有ガス濃縮装置は、活性炭のハニカ
ム成形体からなるロータと、このロータをそのガス通過
方向に平行の回転中心の周りに一方向に回転させる回転
手段と、前記ロータのガス通過方向の一端面に設けられ
た低濃度溶剤含有ガス導入室、高濃度溶剤含有ガス排出
室及びロータ冷却ガス排出室と、前記ロータの他端面に
おいて前記高濃度溶剤含有ガス排出室と整合する位置に
設けられた再生ガス導入室と、前記ロータ他端面にて前
記再生ガス導入室を除く領域に設けられた清浄ガス排出
室と、この清浄ガス排出室内のガスの一部を前記ロータ
に通してロータを冷却させた後、前記冷却ガス排出室内
に排出させる手段と、前記冷却ガス排出室内のガスを再
生ガス導入室に導くガス流路と、前記再生ガス導入室に
供給される再生ガスを加熱する加熱手段と、を有し、前
記ロータはその回転中に再生ガス、冷却ガス及び低濃度
溶剤含有ガスの通過をこの順に繰り返し受けることを特
徴とする。

［作用］ 本発明においては、低濃度溶剤含有ガスはその導入室か
らロータ内に導入され、活性炭のハニカム成形体にガス
中の溶剤成分が吸着してガス中から除去される。

この溶剤の吸着により清浄化された清浄ガスはロータを
通過してロータ他端面側の清浄ガス排出室に排出され、
その一部が冷却ガスとして再度ロータにロータの他端面
側から供給される。この冷却ガスはロータを通過してロ
ータを冷却し、ロータの一端面側の冷却ガス排出室に排
出される。この冷却ガス排出室内のガスはガス流路を介
してロータの他端面側に設けた再生ガス導入室に導かれ
、加熱手段により加熱されて高温の再生ガスとなる。

この再生ガスがロータを通過すると、ロータに吸着され
ていた溶剤が脱着（離脱）して再生ガス中に高濃度で含
有され、高濃度溶剤含有ガスがロータの一端面側に設け
られた高濃度溶剤含有ガス排出室に得られる。

本発明においては、ロータはその回転中に先ず低濃度溶
剤含有ガスの通過を受けてガス中の溶剤を吸着し、次い
で、高温の再生ガスの通過を受けて吸着していた溶剤を
脱着（ｉｌｌ脱）する。その後、ロータは清浄ガスの通
過を受けて一旦冷却された後、再度低濃度溶剤含有ガス
を通過させて溶剤を吸着する。このため、再生ガスの通
過により加熱されたロータは冷却ガスにより冷却されて
その溶剤脱着作用が十分に停止した後、低濃度ガスの通
過を受けることになり、高温のロータから脱着された溶
剤が清浄ガス中に混入してしまうことが防止される。従
って、本発明は低濃度溶剤含有ガスからの溶剤の回収率
が極めて高い。

［実施例］ 次に、本発明の実施例について添付の図面を参照して説
明する。

第１図は本発明をフロン含有ガスからフロンを濃縮する
フロン含有ガス濃縮装置に適用した第１実施例を示すブ
ロック図であり、第２図はそのロータ１の左端面及び右
端面を示す模式図である。

ロータ１は第１図及び第２図に示すように、円柱状又は
円筒状をなし、その中心軸を水平又は垂直にしてこの中
心軸の周りに回転可能に設置されている。そして、ロー
タ１は適宜の駆動源により第２図に矢印にて示す方向に
定速回転駆動される。

而して、ロータ１はフロンに対する吸着効率が優れた活
性炭てハニカム状に成形されており、ロータ１はこのハ
ニカム成形体からその細孔の延長方向がロータ中心軸と
平行になるように切り出されている。

ロータ１には、その一端面（左端面）に、冷却ガス排出
室用のシール部材２と再生ガス（高濃度フロン含有ガス
）排出室用のシール部材３とが相互に隣接して配設され
ており、一方、ロータ１の他端面（右端面）には、再生
ガス（高温ガス）導入室用のシール部材４がシール部材
３と整合する位置に配設されている。各シール部材２，
３．４はロータ１に対し、適宜の力で押付けられており
、回転するロータ１に摺動してロータ１との間で各室を
気密的に仕切るようになっている。これにより、シール
部材２，３に囲まれた内側室間が夫々冷却ガス排出室り
及び再生ガス（高濃度フロン含有ガス）排出室Ｆになり
、シール部材２，３の外側空間が低濃度フロン含有ガス
導入室Ａとなる。

一方、シール部材４に囲まれた内側空間は再生ガス（高
温ガス）導入室Ｅとなり、シール部材４の外側空間はフ
ロン吸着後の清浄ガス排出室Ｂとなる。この清浄ガス排
出室Ｂのうち、冷却ガス排出室Ｄ（シール部材２）と整
合する領域は冷却ガスの導入領域Ｃとなる。

第１図に示すように、工場等から排出された低濃度フロ
ン含有ガスはブロア６によりその導入室Ａに供給され、
ロータ１内に導入される。清浄ガスは大気中に放散され
る部分を除き、冷却ガス導入領域Ｃからロータ１内に供
給される。冷却ガス排出室り内のガスはガス流路５を介
して再生ガス導入室Ｅに供給される。このガス流路５内
には、ブロア７か配設されていると共に、ヒータ８が配
設されており、ガス流路５を通るガスを所定の再生温度
に加熱するようになっている。

次に、上述の如く構成されたフロン含有ガス濃縮装置の
動作について説明する。ブロア６によりガス導入室Ａに
供給された低濃度フロン含有ガスは、吸着ゾーン１ａに
回転してきているロータ１の部分を通過し、この間にロ
ータ１のハニカム成形体によりフロンが吸着され、ガス
中から除去される。得られた清浄ガスはその排出室Ｂに
排出される。排出室Ｂ内の清浄ガスはその一部が冷却ガ
スとして冷却領域Ｃからロータ１の冷却ゾーン１ｂを通
過し、この間にロータ１を冷却した促、冷却ガス排出室
りに排出される。この冷却後のガスはガス流路５を介し
てブロア７により吸引されて再生ガス導入室Ｂに供給さ
れる。この間、このガスはヒータ８により加熱され、高
温の再生ガスとなって再生ガス導入室Ｅに供給される。

この再生ガスは再生ゾーン１ｃにおいて、ロータ１を通
過し、ロータ１に吸着しているフロンを加熱してロータ
１から脱着させる。このようにして、フロンを高濃度に
含有する再生ガス（高濃度フロン含有ガス）が高濃度フ
ロン含有ガス排出室Ｆに得られ、適宜のフロン回収装置
（図示せず）に送給されてフロンの回収に供される。

このようにロータ１が第２図中矢印で示す方向に定速回
転する間に、ロータ１は吸着ゾーン１ａにおいて、低濃
度フロン含有ガスの通過を受けてフロンを吸着し、その
後再生ゾーン１ｃにおいて高温の再生ガスの通過を受け
てフロンを脱着し、次いで、冷却ゾーン１ｂにおいて冷
却ガスの通過を受けて冷却される。このような工程を繰
返すことにより、フロンが極めて高い濃縮率で濃縮され
て高濃度フロン含有ガスが得られる。

而して、本発明においては、フロン濃縮率を高めるため
に、再生ゾーン１ｃにおいて、ロータ１に吸着されてい
たフロンを全量脱着させることとせず、若干残存させた
状態で吸着ゾーン１ａに移るようにすることが好ましい
。このような、条件にするための各ゾーンの面積割合の
一例としては、再生ゾーン１ｃ用シール部材３及び冷却
ゾーン１ｂ用シール部材２の中心角度が夫々３０°、従
って、吸着ゾーン１ａの中心角度は導入室側で３００°
である。

以下、その理由について説明する。第３図は横軸にハニ
カム活性炭の吸着長さをとり、縦軸にフロン１１３の吸
着率をとって、フロン含有ガス供給後の吸着分布の時間
変化を示すグラフ図である。

このデータは第４図に示すように４０ｍｍ角の正方形断
面を有し、長さが２００ＩＩＩＩ１１の棒状活性炭ハニ
カム成形体に対し、６００ｐｐｍのフロン１１３含有ガ
スをｌ　ｍ７秒（１ｍ２当り１ｍ３／秒のガス）の面風
速で前記成形体の長手方向に供給し、供給開始後、７分
後、１５分後、２５分後及び４０分後に夫々棒状成形体
をその長平方向に１０等分割し、夫々２０ｍｍの厚さの
試料を採取し、その重量からフロンの吸着率を求めたも
のである。

このハニカム活性炭の飽和吸着量は３４重量％であり、
供給時間が長くなる程、吸着長さが長くなることがわか
る。この条件においては、ハニカム成形体の出口（２０
０ｍｍの位置）におけるフロンガス濃度が１２ｐｐｍ以
上になり、即ち、入口におけるフロンガス濃度が６００
ｐｐｍであるから、回収率か９８％を下回るようになっ
たのは、４０分経過後である。従って、４０分以内であ
れば９８％以上の回収率を確保できることがわかる。

第５図は横軸にハニカム活性炭の吸着長さをとり、縦軸
にフロン１１３の吸着率をとって、ハニカム活性炭の脱
着特性を示すグラフ図である。

このデータは、先ず、第３図のデータを採取した条件で
４０分間フロンを吸着させたハニカム活性炭を初期状態
とし、この活性炭を高温再生ガスにより脱着したときの
吸着率分布の時間変化を示すものである。

高温再生ガスは、温度が１６０℃、ハニカム面風速が１
．８ｍ　７秒であり、再生ガスを第４図に示す吸着時の
導入方向と逆方向から導入した。この第５図に示すデー
タを採取したときの出口高濃度フロンガスのガス濃度の
時間変化は第６図に示すとおりである。

この第６図から明らかなように、出口濃度が６０００ｐ
ｐｍ以上であるのは、約３分間経過する迄であり、この
３分間を経過すると、出口フロンガス濃度は６０００ｐ
ｐｍよりも低くなり、爾後、少量づつ脱着しながら活性
炭ハニカム成形体を再生していくことがわかる。従って
、６００ｐｐｍの低濃度フロン含有ガスから濃縮率が約
１０倍の６０００ｐｐｍの高濃度フロン含有ガスを得る
ためには、ハニカム活性炭からフロンを完全に脱着させ
てしまわず、例えば、上記条件の場合は、約３分経過し
た時点で、フロンを残存させたまま次の吸着サイクルに
移らせる必要がある。

このような条件を満足する各ゾーンの設置態様としては
、先ず、第２図に示すロータ１の左端面にシール部材３
のみ設け、即ち、吸着ゾーン１ａ及び再生ゾーンＩＣの
み設け、冷却ゾーン１ｂを設けないものが考えられる。

従来の除湿装置等はこのような態様である。そして、こ
の扇形をなす再生ゾーンＩＣの中心角度を３０°とし、
吸着ゾーン１ａの中心角度を３３０°とする。これは、
ハニカム成形体のロータ１の回転速度が３５分／回転、
つまり、１回転に３５分を要する場合の設定値である。

即ち、再生ゾーン１ｃを通過する時間を第６図のデータ
から３分と設定する。そうすると、吸着ゾーン１ａを通
過する時間は３２分になる。これにより、再生ゾーン１
ｃの中心角度は（３／３５）Ｘ　　３６０＝３０°と算
出される。

このゾーン面積の割合によると、フロンガスの回収率が
９８％以上で、濃縮倍率が１３倍以上になるはずである
。

しかしながら、上記設計値で濃縮装置を組みたてた結果
、実際には７８％の回収率及び７．８倍の濃縮倍率しか
得られなかった。なお、シール部材３゜４とロータ端面
との間のガスの漏れは無視し得る程度であった、 本願発明者等は、上述の如く、予想した回収効率及び濃
縮倍率が得られなかった原因について究明すべく、吸着
ゾーン１ａの出口において、ガス中のフロン濃度を測定
した。第７図はこの測定結果を示す。第７図において、
横軸は再生ゾーンＩＣと吸着ゾーン１ａとの境界（冷却
ソーク１ｂを設けていなかったから）を０とし、この境
界から吸着ゾーンｌａ内に回転していったときの回転角
度をとっている。この第７図から明らかなように、回転
するロータ１が再生ゾーンＩＣから吸着ゾーン１ａ内に
入った直後に吸着ゾーン１ａから排出されてくるガス中
のフロン濃度が瞬間的に著しく上昇する。このようにロ
ータ１の吸着ゾーン１ａから排出されてくるガス中に、
前記境界部近傍の異常高値（１８８０ｐｐｍ　）を含め
て平均値で１３２ｐｐｍのフロンが含有されている。こ
れが、回収率を７８％以上に高めることを阻む要因であ
る。

即ち、ロータ１による脱着直後に、吸着ゾーン１ａにお
いて、入口濃度６００ｐｐｍより高い１８８０ｐｐｍの
フロンが排出されてくる。この原因については、以下の
ように考えられる。即ち、前述の理由により、再生ゾー
ンＩＣにおいてロータ中のフロンを完全に脱着せずに若
干残存された状態でロータ１が吸着ソーク１ａに到来さ
せるが、この場合に、再生ゾーンで高温の再生ガスの通
過を受けていたロータ１の温度が高いため、また、ロー
タ１に吸着されているフロンと清浄ガス排出室Ｂにおけ
るフロンとの間にフロンの蒸気分圧差が存在するため、
吸着ゾーン１ａにおいてもその境界近傍でフロンの脱着
が生じる。

本発明は、以上のような知見に基き、再生ゾーンＩＣを
経たロータ１を冷却ゾーン１ｂにて冷却した後に、吸着
ゾーン１ａに入るようにした点に特徴がある。

即ち、第１図及び第２図に示すように、ロータ１が再生
ゾーンＩＣ１冷却ゾーン１ｂ及び吸着ゾーン１ａをこの
順に通過するようにして、再生ゾーン１ｃにて加熱され
て高温になっているロータ１の部分を冷却してフロンが
脱着されにくい状態におき、その後、吸着ゾーン１ａに
入るようにして、吸着ゾーン１ａにて脱着が起こらない
ようにする。このため、本発明においては、ロータ１の
一端面にシール部材２を設け、シール部材２により規定
される冷却ガス排出室りをガス流路５により再生ゾーン
ＩＣの導入室Ｅに連結する。これにより、吸着ゾーン１
ａに入るロータ１は冷却ゾーン１ｂにて冷却されたもの
であるから、蒸気分圧の差及びロータ温度等に起因して
吸着ゾーン１ａ内で脱着が生じることが防止される。

１菫って、清浄ガス中には脱着ガスが混入しないので、
極めて高濃度の濃縮フロンガスが得られる。

次に、本発明の実施例に係る吸収装置を製造し、その回
収率及び濃縮率を調べた結果について説明する。

各室の中心角度はＥ室及びＦ室に加えて冷却ガス排出室
りも３０°である。

また低濃度フロンガス導入室Ａにおけるロータ面風速は
１ｍ７／秒、ガス温度は２３°であり、再生ガス導入室
Ｅにおけるロータ面風速は１．９ｍ／秒、ガス温度は１
６０°Ｃである。吸脱着ロータの長さは２００ｍｍ、回
転数は１ｒ、ｐ、ｈ、であり、ロータ１に導入した低濃
度フロン含有ガス中のフロン濃度は３００ｐｐｍである
。

その結果、清浄ガス排出室Ｂに排出されてきた清浄ガス
中の平均フロンガス濃度は５ｐｐｍであった。ロータに
導入された低濃度フロン含有ガスは３００ｐｐｍであっ
たから、９８％の回収率が得られたことになる。また、
冷却ガス排出室り中のフロンガス濃度は７８３ｐｐｍ　
、再生ガス（高濃度フロン含有ガス）排出室Ｆにおける
フロンガス濃度は７６７８ｐｐｍであった。この場合の
濃縮率は約２６倍と、極めて高い濃縮率が得られた。

第８図は本発明をフロン含有ガスからフロンを濃縮する
フロン含有ガス濃縮装置に適用した第２実施例を示すブ
ロック図であり、第９図はそのロータ１の左端面及び右
端面を示す模式図である。

ロータ１は第８図及び第９図に示すように、円柱状又は
円筒状をなし、その中心軸を水平又は垂直にして、この
中心軸の周りに回転可能に設置されている。そして、ロ
ータ１は適宜の駆動源により第９図に矢印にて示す方向
に定速回転駆動される。

本第２実施例は、処理入口から導入されるフロン含有ガ
ス中の水分濃度、即ち、空気中の湿度が高い室から吸引
した空気中のフロンを濃縮せんとする場合に用いて効果
の有る実施例である。そして、その第１の目的は、吸着
素材にフロンと共存して水分を多量に吸着した場合、そ
の再生、つまりフロン濃縮過程で同時に水分も脱着され
る場合に、単位重量当りのフロン脱着必要エネルギーの
１５倍以上の脱着エネルギーの必要な熱エネルギーを供
給するためであり、第２の目的は、吸着材再生のための
空気の昇温温度を下げるためである。

以下、第１実施例と比較して第２実施例を説明する。第
２実施例は第１実施例に加熱ゾーンを追加していること
に特徴を有しており、他の構成は第１実施例と同一であ
る。

而して、ロータ１はフロンに対する吸着効率が優れた活
性炭でハニカム状に成形されており、ロータ１はこのハ
ニカム成形体からその細孔の延長方向がロータ中心軸と
平行になるように切り出されている。

ロータ１には、その一端面（左端面）に、冷却ガス排出
室用のシール部材２と再生ガス（高濃度フロン含有ガス
）排出室用のシール部材３と加熱ガス排出室用のシール
部材１１とが相互に隣接して配設されており、一方、ロ
ータ１の他端面（右端面）には、再生ガス（高温ガス）
導入室用のシール部材４がシール部材３と整合する位置
に配設され、加熱ガス導入室用のシール部材１２がシー
ル部材１１と整合する位置に配設されている。各シール
部材２，３，４，１１．１２はロータ１に対し、適宜の
力で押付けられており、回転するロータ１に摺動してロ
ータ１との間で各室を気密的に仕切るようになっている
。これにより、シール部材２，３．１１に囲まれた内側
室間が夫々冷却ガス排出室り及び再生ガス（高濃度フロ
ン含有ガス）排出室Ｆ及び加熱ガス排出口Ｈになり、シ
ール部材２．３の外側空間が低濃度フロン含有ガス導入
室Ａとなる。一方、シール部材４，１２に囲まれな内側
空間は夫々再生ガス（高温ガス）導入室Ｅ及び加熱ガス
導入室Ｇとなり、シール部材４の外側空間はフロン吸着
後の清浄ガス排出室Ｂとなる。この清浄ガス排出室Ｂの
うち、冷却ガス排出室Ｄ（シール部材２）と整合する領
域は冷却ガスの導入領域Ｃとなる。

第８図に示すように、工場等から排出された低濃度フロ
ン含有ガスはブロア６によりその導入室Ａに供給され、
ロータ１内に導入される。清浄ガスは大気中に放散され
る部分を除き、冷却ガス導入領域Ｃからロータ１内に供
給される。冷却ガス排出室り内のガスはガス流路５を介
して加熱ガス導入室Ｇに供給される。このガス流路５内
には、ブロア７が配設されていると共に、ヒータ９が配
設されており、ガス流路５を通るガスを所定の加熱温度
に加熱するようになっている。また、加熱ガス排出室Ｈ
内のガスは、ガス流路１０を介して再生ガス導入室Ｅに
供給される。この流路１０内には、ヒータ８が配置され
ており、ガス流路１０を通るガスを所定の再生温度に加
熱するようになっている。

次に、上述の如く構成されたフロン含有ガス濃縮装置の
動作について説明する。ブロア６によりガス導入室Ａに
供給された低濃度フロン含有ガスは、吸着ゾーン１ａに
回転してきているロータ１の部分を通過し、この間にロ
ータ１のハニカム成形体によりフロンが吸着され、ガス
中から除去される。得られた清浄ガスはその排出室Ｂに
排出される。排出室Ｂ内の清浄ガスはその一部が冷却ガ
スとして冷却領域Ｃからロータ１の冷却ゾーン１ｂを通
過し、この間にロータ１を冷却した後、冷却ガス排出室
りに排出される。この冷却後のガスはガス流路５を介し
てブロア７により吸引されて加熱ガス導入室Ｇに供給さ
れる。この間、このガスはヒータ９により加熱され、高
温の加熱ガスとなって加熱ガス導入室Ｇに供給される。

この加熱ガスは、加熱ゾーン１ｄにおいてロータ１を通
過し、ロータを加熱してロータに吸着している水分及び
フロンを脱着させ、又は次段の脱着再生を容易にさせる
。また、加熱後のガスは加熱ガス排出室Ｈから排出され
た後、ヒータ８により加熱され、次いで再生ガス導入室
Ｅに供給される。この再生ガスは再生ゾーンＩＣにおい
て、ロータ１を通過し、ロータ１に吸着しているフロン
及び水分を加熱してロータ１から脱着させる。このよう
にして、フロンを高濃度に古有する再生ガス（高濃度フ
ロン含有ガス）が高濃度フロン含有ガス排出室Ｆに得ら
れ、適宜のフロン回収装置（図示せず）に送給されてフ
ロンの回収に供される。

このようにロータ１が第２図中矢印で示す方向に定速回
転する間に、ロータ１は吸着ゾーン１ａにおいて、低濃
度フロン含有ガスの通過を受けて目的とするフロンを吸
着し、その後加熱ゾーン１ｄ及び再生ゾーンＩＣにおい
て高温の加熱ガス及び再生ガスの通過を受けてフロンを
脱着し、次いで、冷却ゾーン１ｂにおいて冷却ガスの通
過を受けて冷却される。このような工程を繰返すことに
より、水分を多量に含有する処理ガス中からもフロンが
極めて高い濃縮率で濃縮されて高濃度フロン含有ガスが
得られる。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれは、極めて高濃度の
濃縮溶剤（フロン）ガスを、極めて高い濃縮率で得るこ
とができる。このため、溶剤（フロン）の回収装置にお
ける回収効率を高めることが可能になり、フロンを使用
する産業にとって、フロンガス使用の継続が可能になる
等、本発明はフロンガス等の溶剤使用技術分野に対し著
しい貢献をなす。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例に係る溶剤濃縮装置のブロック
図、第２図は同じくロータ端面を示す模式図、第３図は
フロンの吸着特性を示すグラフ図、第４図はサンプルの
切出し方法を示す≠字半図、第５図はロータの脱着特性
を示すグラフ図、第６図は出口におけるフロンガスの濃
度の変化を示すグラフ図、第７図は吸着ゾーンにおける
フロン濃度分布を示すグラフ図、第８図は本発明の第２
の実施例を示すブロック図、第９図は第２の実施例に使
用するロータ端面を示す模式図である。 材

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）活性炭のハニカム成形体からなるロータと、この
   ロータをそのガス通過方向に平行の回転中心の周りに一
   方向に回転させる回転手段と、前記ロータのガス通過方
   向の一端面に設けられた低濃度溶剤含有ガス導入室、高
   濃度溶剤含有ガス排出室及びロータ冷却ガス排出室と、
   前記ロータの他端面において前記高濃度溶剤含有ガス排
   出室と整合する位置に設けられた再生ガス導入室と、前
   記ロータ他端面にて前記再生ガス導入室を除く領域に設
   けられた清浄ガス排出室と、この清浄ガス排出室内のガ
   スの一部を前記ロータに通してロータを冷却させた後、
   前記冷却ガス排出室内に排出させる手段と、前記冷却ガ
   ス排出室内のガスを再生ガス導入室に導くガス流路と、
   前記再生ガス導入室に供給される再生ガスを加熱する加
   熱手段と、を有し、前記ロータはその回転中に再生ガス
   、冷却ガス及び低濃度溶剤含有ガスの通過をこの順に繰
   り返し受けることを特徴とする溶剤含有ガス濃縮装置。