JPH11221512A

JPH11221512A - 塗布装置、及び塗布方法

Info

Publication number: JPH11221512A
Application number: JP10327141A
Authority: JP
Inventors: Noboru Masuda; 桝田　　昇; Masaru Watanabe; 渡辺　　勝
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1997-11-18
Filing date: 1998-11-17
Publication date: 1999-08-17
Anticipated expiration: 2018-11-17
Also published as: JP3162026B2

Abstract

(57)【要約】【課題】塗布幅方向の厚みが均一で且つピンホールの発
生しない基材の両面に塗料を同時に塗布することが困難
であるという課題。【解決手段】連続して走行する基材３を介して、相互に
対向する位置に第１ノズル１及び第２ノズル２を配置
し、第１ノズルの先端部は、基材３の走行方向に関して
上流側で、且つ基材３の未塗布面側を支持するために基
材側に突き出た略曲面形状の支持部１０１と、支持部よ
りも下流側にスリット１０５を含む吐出部とを有してお
り、第２ノズル２の先端部は、少なくとも第１ノズルと
同形状の吐出部で構成し、少なくとも第２ノズルと基材
３との隙間を調節する機構と、第１ノズル１の支持部１
０１に対する基材３の抱きつけ角度を調節する機構を備
えた構成の塗布装置である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、リチウム
イオン電池やニッケル水素電池等で用いられる活物質ペ
ーストを集電体上に塗布形成する場合等に利用可能な、
塗布装置及び塗布方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、基材の両面に塗料を塗布する
ことが必要な分野としては、例えばリチウムイオン２次
電池やニッケル水素などで用いる電池用極板の製造や、
コンデンサーなどがあり、生産性の点から基材の両面に
同時に塗料を塗布することが強く望まれている。例え
ば、特開平７−６５８１６号公報では、基材に対して２
つのノズルを対向させ両面に同時に塗料を塗布すること
が示されている。

【０００３】又、最近、特に携帯電話などへの２次電池
需要の増大に伴い電池容量の向上が強く望まれている。
これらに使用する円筒型もしくは角形電池において、正
極板とセパレータと負極板とを巻回したとき、最外周部
の集電体に対して巻外側の活物質層は充放電に寄与しな
い。また角形電池の場合には、最内周部の集電体に対し
て巻内側は同極の活物質層が対向するため、これも充放
電に寄与しない。

【０００４】従って、最外周部の巻外側に活物質層を形
成していない極板を用いたり、最内周部の巻内側に活物
質層を形成していない極板を用いれば、所定の体積の電
池管内に、有効な活物質層をその分増やすことができ、
電池容量をアップすることが可能となる。

【０００５】このような極板を生産する場合、集電体の
全面に活物質層を塗布形成した後、最外周部の巻外側に
相当する部分を後で除去するという方法がある。しか
し、高価な活物質の材料ロスでコストアップになるばか
りか、最外周部の巻外側の除去時に、その裏面である活
物質層にダメージを与え、活物質層が剥離しやすくな
り、サイクル特性が著しく低下するという電池特性上致
命的な欠陥となる。

【０００６】従って、活物質ペーストを塗布する工程
で、前記した最外周部や最内周部に集電体の一方の面に
のみ活物質層を形成する必要がある。

【０００７】活物質ペースト（以下、単に、ペーストと
称す）を集電体上に間欠的に塗布して電池電極を製造す
る方法としては、特開平７−６８２０８号公報に示され
ている。これは、図２０に示す様に、集電体５００２を
バックロール５０１６に巻回して、これと対向する位置
にノズル５０１５を設け、ノズル５０１５へのペースト
の供給と停止を繰り返すことにより、集電体５００２上
にペーストを塗布していない部分、すなわちリード溶接
部を設ける方法である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本願発
明者らは、上記特開平７−６５８１６号公報記載の塗布
手段により、金属箔に塗料として電池用ペーストを表裏
同じ厚みで両面同時塗布したが、塗布幅方向及び金属箔
の走行方向の塗膜の厚みムラが何れも大きく、電池用極
板としては使用できないという課題のあることがわかっ
た。

【０００９】上記塗布手段により得られた両面同時塗布
のサンプルの塗布幅方向の塗膜の厚みムラを測定した結
果、図１０（ｂ）に示すように大きなウネリを持ち、厚
みバラツキは１８％であることを確認した。また、塗膜
にはピンホールが多数発生するという課題もあった。

【００１０】この様な２つの課題の発生理由としては、
次の通りである。

【００１１】即ち、塗布膜の厚みのばらつきが大きくな
る理由は、二つのノズル間を通過する基材にシワが生じ
ているためと、基材のバタツキによりノズルと基材との
隙間が安定していないことによることが判明した。例え
ば、シワの凹部にはノズルから吐出した塗料が大量に流
れ込みその部分の塗膜厚みが厚くなる。

【００１２】又、ピンホールが多発する理由は、一方の
ノズルと基材との隙間が大きくなりすぎることにより、
吐出した塗料の中に空気が巻き込まれることによるもの
である。又、ノズルと基材との隙間が小さい状態から大
きい状態に変動する際にも、上記と同様に空気が巻き込
まれる可能性がある。

【００１３】尚、この様な２つの課題は、基材の両面に
同時に塗布部材を塗布する上記の従来構成の場合に限ら
ず、片面に塗布する従来の構成の場合にも共通して生じ
る得るものである。

【００１４】一方、上記特開平７−６８２０８号公報の
塗布手段により、上記極板を塗布形成しようとすると、
図１８に示すように、活物質層５００４の端部に大量の
空気が混入し、電極として使用できないという課題のあ
ることが判明した。

【００１５】即ち、上記従来の塗布手段によれば、まず
集電体５００２の一方の面に所定のピッチで間欠的に活
物質層５００３を塗布形成する。このとき、ノズル５０
１５とバックロール５０１６とのギャップは通常３００
μｍであり、全く問題無く活物質層を形成することがで
きる。次ぎに、図２０に示す様に、この集電体５００２
の反対面に所定のピッチで且つ位置をずらせて間欠的に
活物質層５００４を設ける場合、集電体５００２とノズ
ル５０１５とのギャップを、上記と同様３００μｍとし
なければならない。この設定では活物質層５００３が形
成されている部分は問題なく活物質層５００４を塗布形
成することができるが、活物質層５００３が形成されて
いない部分５０３１のところでは、前記ギャップは活物
質層５００３の厚み分増加し、約６００μｍにもなって
しまう。この結果、ノズル５０１５と集電体５００２と
の間で形成するペースト溜まり５０８１に、空気が大量
に巻き込まれ、活物質層５００４に大量の空気が混入す
ることが判明した。このような現象は電池特性上、致命
的欠陥となる。

【００１６】本発明は、上記従来の塗布装置のこの様な
課題を考慮し、塗布膜の厚みをより均一にする塗布装置
及び塗布方法の提供を目的とする。

【００１７】又、本発明は、上記従来の塗布装置のこの
様な課題を考慮し、塗布膜へのピンホールの発生を従来
に比べて抑制する塗布装置及び塗布方法の提供を目的と
する。

【００１８】

【課題を解決するための手段】第１の本発明（請求項１
記載の発明に対応）は、（１）所定方向に走行する、未
塗布面を有する基材に対して,塗布部材を吐出する吐出
部と、（２）前記基材の走行方向を基準として、前記吐
出部より上流側に固定された、且つ、前記未塗布面を直
接又は間接的に支持する支持面を有する、回転移動しな
い支持部とを有する第１ノズル手段と、前記未塗布面が
前記支持面に直接又は間接的に押しつけられる様に、前
記基材を案内する案内手段とを備えた塗布装置である。

【００１９】又、第２の本発明（請求項２記載の発明に
対応）は、上記案内手段は、前記支持部より上流側に配
置されたガイドロールであり、前記基材の両面が未塗布
面であり、前記第１ノズル手段により塗布される面の反
対側の未塗布面に塗布部材を塗布する、前記第１ノズル
手段に対向する位置に配置された第２ノズル手段を備え
た塗布装置である。

【００２０】又、第３の本発明（請求項３記載の発明に
対応）は、上記案内手段は、前記支持部より上流側に配
置されており、前記基材の両面が未塗布面であり、前記
第１ノズル手段により塗布される面の反対側の第２未塗
布面に塗布部材を塗布する、前記第１ノズル手段より下
流側の位置に配置された第２ノズル手段を備え、前記第
２ノズル手段が、（１）前記基材の第２未塗布面に対し
て塗布部材を吐出する第２吐出部と、（２）前記基材の
走行方向を基準として、前記第２吐出部より上流側に固
定された、且つ、前記第２未塗布面を直接又は間接的に
支持する第２支持面を有する、回転移動しない第２支持
部とを有する塗布装置である。

【００２１】又、第４の本発明（請求項４記載の発明に
対応）は、上記基材の両面が未塗布面であり、前記第１
ノズル手段により塗布される面の反対側の未塗布面に塗
布部材を塗布する、前記第１ノズル手段より上流側の位
置に配置された第２ノズル手段を備え、前記案内手段
は、前記支持部に対向する位置に配置されており、且
つ、気体を前記基材の前記未塗布面と反対側の面に吹き
付けることにより、前記未塗布面が前記支持面に直接押
しつけられる様に前記基材を浮上させるための装置であ
るか、又は、前記支持部より上流側に配置されたガイド
ロールである塗布装置である。

【００２２】又、第２５の本発明（請求項２５記載の発
明に対応）は、所定方向に走行する基材の未塗布面を、
直接又は間接的に支持する支持工程と、前記未塗布面に
対して,第１塗布部材を塗布する第１塗布工程とを備
え、前記支持工程における前記支持は、前記走行方向を
基準として、前記第１塗布部材を前記未塗布面に対して
吐出するための吐出口より上流側に固定された、且つ、
回転移動しない支持部の支持面を利用する塗布方法であ
る。

【００２３】又、第２６の本発明（請求項２６記載の発
明に対応）は、少なくとも前記支持工程の上流側に設け
られた、且つ、前記未塗布面を前記支持面に直接又は間
接的に押しつける様に、前記基材を案内する案内工程
と、前記第１塗布工程における塗布位置と、前記基材を
介して反対側で、且つ前記塗布位置に対向する位置で、
第２塗布部材を前記第１塗布部材の塗布と実質上同時に
塗布する第２塗布工程とを備えた塗布方法である。

【００２４】又、第２７の本発明（請求項２７記載の発
明に対応）は、上記第１塗布工程の下流側で前記基材の
未塗布面を、直接又は間接的に支持する第２支持工程
と、前記第１塗布工程における塗布位置と、前記基材を
介して反対側で、且つ前記塗布位置より下流側の位置
で、第２塗布部材を前記第１塗布部材の塗布と実質上同
時に塗布する第２塗布工程とを備え、前記第２支持工程
における前記支持は、前記第２塗布部材を未塗布面に対
して吹き出すための吹き出し孔より上流側に固定され
た、且つ、回転移動しない支持部の支持面を利用する塗
布方法である。

【００２５】又、第２８の本発明（請求項２８記載の発
明に対応）は、上記第１塗布工程における塗布面と反対
側の前記基材の未塗布面上に第２塗布部材を塗布する、
前記第１塗布工程より上流側に設けられた第２塗布工程
と、（１）前記支持部に対向する位置から、気体を前記
基材の前記未塗布面と反対側の面に吹き出し、前記気体
の吹き出し面から前記基材を浮上させることにより、前
記未塗布面を前記支持面に直接又は間接的に押しつける
ための、又は、（２）少なくとも前記支持工程の上流側
に設けられた、且つ、前記未塗布面を前記支持面に直接
又は間接的に押しつけるための案内工程とを備え、前記
第２塗布工程では、所定のピッチで間欠的に前記第２塗
布部材を塗布し、又、前記第１塗布工程では、前記基材
上に塗布された前記第２塗布部材の位置から所定距離ず
らせた位置に、前記第１塗布部材を所定のピッチで間欠
的に塗布する塗布方法である。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を、
図面を用いて説明する。

【００２７】（実施の形態Ａ１）図１に、本発明にかか
る第Ａ１の実施の形態の塗布装置の概略構成図を示す。

【００２８】図１を参照しながら、本実施の形態の塗布
装置の構成と動作を説明し、それと同時に、本発明の塗
布方法の一実施の形態についても述べる。

【００２９】同図に示す通り、第１ノズル１は、基材３
と摺動し且つ基材３を支持するための曲面形状の支持部
１０１、上流リップ１０２、下流リップ１０３、第１の
塗料４の溜り部であるマニホールド１０４、及び、第１
塗料を基材３側へ吐出するためのスリット１０５とで構
成される。

【００３０】又、第２ノズル２は、上流リップ２０１、
下流リップ２０２、さらに第２の塗料５の溜り部である
マニホールド２０３と押し出しのためのスリット２０４
で構成される。第２ノズル２のスリットから下流リップ
２０２にかけての形状は、第１ノズル１と同様の形状で
ある。

【００３１】基材３は、ガイドロール１５により、支持
部１０１と摺動し且つ支持されるようにノズル１に導か
れる。第１の塗料４は、タンク６１からポンプ６２によ
りフィルタ６３を通り、ノズル１のマニホールド１０４
へ供給され、スリット１０５から押し出される。

【００３２】支持部１０１と下流リップ１０３の先端と
の段差寸法ｄ１は塗布厚みに応じて適時設定されてお
り、この隙間にスリット１０５から押し出された塗料４
が流れ込み、塗料溜まりＴが形成される。そして、この
塗料溜まりＴを形成しながら、基材３の上に、塗布厚み
が均一な第１の塗膜８が、塗布形成される。

【００３３】一方、塗料５は、タンク７１からポンプ７
２によりフィルタ７３を通り、ノズル２のマニホールド
２０３へ供給されスリット２０４から押し出され、基材
３と下流リップ２０２との隙間に流れ込み、基材３上に
第２の塗膜９として塗布厚みが均一に塗布形成される。

【００３４】このようにして、基材３の両面に同時に塗
膜８、９を塗布形成した後、図示していない乾燥ゾーン
へ導き、それを巻き取る。尚、この巻き取られた基材
を、幅方向及び走行方向にそれぞれ所定寸法で切断され
た各切断片が、例えば、実際の電池電極として使用され
る。

【００３５】前記第２ノズル２と基材３との隙間寸法ｄ
２は、第２の塗膜９の塗布厚みに応じて適時設定される
もので、以下に寸法ｄ２の設定方法について、図２を参
照しながら説明する。

【００３６】即ち、ノズル２の上流リップ２０１は、図
中の矢印Ａ方向に移動させたときにノズル１の支持部１
０１の頂部１０６と当接可能に構成してある。ノズル２
の位置調整機構はここでは特に限定するものではない
が、例えばエアシリンダ１００１とスライドガイド１０
０２、ストッパー１００３、微調整ネジ１００４、テー
ブル１００５、ダイヤルゲージ１００６で構成する。ま
ず、第２ノズル２の上流リップ２０１を第１ノズル１の
頂部１０６に当接させた後、微調整ネジ１００４を用い
てダイヤルゲージ１００６を読みながら、隙間ｄ２に設
定する。

【００３７】また、図２とは異なり、図３に示すよう
に、塗布幅よりも外側である、例えばノズル１のサイド
ブロック１０７の先端部１０７ａと、支持部１０１の頂
部１０６とを面一とする。ここで、図３の上側は、第１
ノズル１と第２ノズル２の側面図であり、下側は、その
平面図である。

【００３８】尚、ここで、「面一とする」とは、サイド
ブロック１０７の先端部１０７ａと、支持部１０１の頂
部１０６とを、基材３の塗布面に対して同じ高さにする
ことを意味する。

【００３９】さらに、ノズル２のサイドブロック２０７
の先端部２０７ａと、下流リップ２０２との段差寸法を
ｄ２とする。そして、サイドブロック１０７と２０７の
先端部同士１０７ａ,２０７ａを当接させながら、基材
３の両面を同時塗布する構成でもよい。なお塗膜８及び
９の厚みが同一としたいときには、ｄ１＝ｄ２とする。
次に、本実施例の特徴について更に、詳細に説明す
る。

【００４０】第１の特徴として、ノズル１のスリット１
０５出口直前で支持部１０１で基材３を摺動支持してい
るため、基材３とノズル１との隙間寸法ｄ１と、基材３
とノズル２との隙間寸法ｄ２を一定に保つことが可能で
ある。さらに、基材３に生じているシワを延ばす効果が
顕著であり、スリット１０５出口やスリット２０４出口
部では基材３を平坦にすることができる。

【００４１】このため、従来の塗布装置で課題となっ
た、基材の走行方向の塗膜厚み不均一や、塗布幅方向の
塗膜厚み不均一を格段に向上でき、図１０（ａ）に示す
ように均一な両面同時塗布ができる。ここで、ノズル１
とノズル２のスリットから下流リップにかけての形状を
同一とすることで、両方のノズルによる塗布条件を等し
くできるので、両面同時に安定した塗布が可能となる。

【００４２】さらに、スリット出口と基材との隙間が変
動することによって生じる、塗膜８、９への空気の巻き
込みを抑制することができるので、ピンホールの無い塗
膜８、９を得ることができる。

【００４３】この様な効果を得るためには、以下の装置
構成にすることが重要である。

【００４４】まず、支持部１０１は集電体２側に突き出
た曲面形状もしくは、図４（ｃ）に示すような曲面とフ
ラット面１０８の組み合わせとすることである。曲面部
の曲率半径Ｒの範囲は、２ｍｍ≦Ｒ≦３００ｍｍであ
る。塗布における基材テンションは通常５０〜５００ｇ
／ｃｍの範囲である。曲率半径Ｒが２ｍｍよりも小さい
場合、テンションにより基材３が支持部１０１に押しつ
けられる力が強すぎて、摩擦により基材３の走行速度に
変動が生じ、均一な厚みで塗膜８、９を塗布形成できな
くなる。また曲率半径Ｒが３００ｍｍよりも大きいと、
支持部１０１への基材３の押しつけ力が小さくなりすぎ
て、基材３の幅方向にシワが生じ、塗膜８、９の幅方向
の厚み変動が大きくなる。また、上流リップ１０２の形
状は、特に限定するものではないが、スリット出口か
ら、支持部１０１の頂部１０６までの寸法Ｌ１（図１，
図４（ａ）、図４（ｂ）参照）の範囲を、０．１ｍｍ≦
Ｌ１≦１００ｍｍとすることは極めて重要である。さら
に好ましくは、０．１ｍｍ≦Ｌ１≦１０ｍｍとする。Ｌ
１が０．１ｍｍよりも小さい場合、スリット出口に形成
する塗料溜まりＴが形成できなくなり、基材３への塗料
の塗布が乱されて、塗膜８、９の厚みが不均一となる。
またＬ１が１００ｍｍよりも大きい場合、支持部１０１
で一旦はシワ延ばしされたにもかかわらず、距離が長す
ぎてスリット出口では基材３に幅方向でシワが生じ、塗
膜８、９の幅方向の厚み変動が大きくなる。また、下流
リップ１０３の表面は支持部１０１の頂部１０６の接線
Ｘとのなす角度、すなわち（図４）の（ｂ）に示す角度
θが±３０度以内の範囲とする。ここでプラス側とは下
流リップ１０３の下流端１０３ａが接線Ｘに最も近い場
合、マイナス側とは下流リップ１０３の下流端１０３ａ
が接線Ｘと最も離れる場合である。角度θはさらに好ま
しくは、図４（ａ）に示す様に、前記接線Ｘと略平行で
ある。本実施の形態では、（図４）に示す頂部１０６の
接線Ｘと基材とが平行となるように基材３の走行を調整
して塗布する。従って角度θが±３０度の範囲外になる
と、基材３と下流リップ１０３との隙間変化が大きくな
りすぎて塗膜の塗布幅方向に厚みムラが生じる。本実施
の形態の範囲内では、塗膜厚みを均一とすることができ
る。

【００４５】尚、ここでは、基材３の走行方向の調整
は、接線Ｘと平行となるように調整する場合について説
明したが、これに限らず例えば、接線Ｘに対して一定の
傾斜角を保持する様に調整してもよい。

【００４６】第２の特徴として、ノズル１のスリット１
０５出口直前で支持部１０１で基材３を摺動支持した
後、スリット１０５出口と基材３との間に塗料溜まりＴ
（図１参照）を形成しながら塗布するが、塗料溜まりＴ
には空気が混入せず、ピンホールの発生を大幅に抑制す
ることができる。塗料溜まりＴに空気が混入しない主な
理由は、基材３上には同伴してくる空気層が存在する
が、支持部１０１でこれを除去できるためである。又、
塗料溜まりＴが生じる空間の内、ノズルと基材の隙間ｄ
１，ｄ２の変動が少ないことも理由の一つとして考えら
れる。その結果、従来の塗布装置の欠点であった塗膜の
ピンホールの発生を大幅に低減することが可能となっ
た。

【００４７】第３の特徴として、第２ノズル２の上流リ
ップ２０１の一部と第１ノズル１の支持部１０１の頂部
１０６とが当接可能に構成してあるため、前記したノズ
ル２と基材３との隙間寸法ｄ２の設定方法により、塗布
幅方向で精度良く、一定の隙間ｄ２にできる。ノズル１
の支持部１０１で基材３を摺動支持させるので、基材３
は一定の位置で安定して走行しており、ノズル２で塗布
する塗膜９の厚みも、従来の塗布装置に比べて極めて均
一にすることが可能となった。また本実施の形態では、
図３で示した塗布幅よりも外側でノズル１とノズル２と
を当接させたまま、両面同時塗布しても同様の効果が得
られる。

【００４８】上記特徴以外に、本実施の形態で両面同時
塗布する上で効果のある点について説明する。

【００４９】即ち、基材３へ間欠パターンで塗布する場
合には、ノズル１及び２への塗料４、５の供給と停止を
繰り返す三方弁と、ノズル１、２内部に設けられたピス
トンの移動により、ノズル１、２内部の塗料を吸引する
手段を備えた間欠手段を用いる（図１４参照）。この場
合の間欠塗布とは、基材３の表裏面の同じ位置に塗料を
間欠的に塗布するものである。このとき下流リップ１０
３及び２０２の寸法Ｌ２とＬ’２（図１参照）は、間欠
塗布したときの塗布始終端の形状と密接に関係してお
り、範囲を０．１ｍｍ≦Ｌ２≦５ｍｍ、及び０．１ｍｍ
≦Ｌ’２≦５ｍｍとすることが重要である。Ｌ２とＬ’
２が０．１ｍｍよりも小さい場合、下流リップ１０３及
び２０２と基材３との間に流れるペースト４、５の圧力
が低くなり、塗膜８、９の厚みが不均一となる。また、
Ｌ２とＬ’２が５ｍｍよりも大きい場合、特に間欠時の
塗布終端において、下流リップ１０３や２０２と基材３
との間に残存するペースト４、５が基材３の上に幅方向
で不均一に引き伸ばされ、いわゆる切れの悪い塗布終端
となる。尚、本実施の形態では、図１２に示すレオロジ
特性の塗料を使用した。

【００５０】また下流リップ１０３の形状や、上流リッ
プ１０１の形状は、図５（ａ）や図５（ｂ）に示すよう
な、曲面形状又は平面形状でもよい。さらに、図５
（ｃ）に示すような、支持部１０１に気体噴出口を設け
気体を噴出させることにより、基材３と支持部１０１と
が直接接触せず非接触支持するようにしても良い。これ
により、塗布厚みのばらつきが低減出来る上、基材３の
破断や、摺動抵抗の低減が可能となる。

【００５１】次ぎに本実施の形態の塗布方法をリチウム
イオン２次電池の製造に応用した場合について、従来方
法による比較例と共に説明する。

【００５２】ノズル１及びノズル２の形状は、図１に示
す構成であり、Ｒ＝３０ｍｍ、ｄ１＝ｄ２＝２００μ
ｍ、Ｌ１＝０．０５、０．１、１、１０、１００、１２
０ｍｍの６水準、図４で示した角度θが＋４０度、＋３
０度、ゼロ度、−３０度、−４０度の５水準、Ｌ２＝３
ｍｍ、スリットギャップＧ１＝Ｇ２＝０．５ｍｍとし、
塗布幅４８０ｍｍである。

【００５３】負極としては、集電体（基材３）が厚み１
０μｍ、幅５００ｍｍの銅箔、負極用ペーストは炭素
材、ＣＭＣ及び水を混練したものを用いた。これを、ま
ず本実施の形態により集電体上に所定のピッチで間欠的
に活物質層を両面同時に塗布形成し、乾燥した。

【００５４】又、正極としては、集電体が厚み２０μ
ｍ、幅５００ｍｍのアルミ箔、正極用ペーストはＬｉＣ
ｏＯ₂ 、導電性カーボンブラック、フッ素系樹脂、ＣＭ
Ｃ及び水を混練したものを用いた。これを、まず本実施
の形態により集電体上に所定のピッチで間欠的に活物質
層を両面同時に塗布形成し、乾燥した。

【００５５】一方、比較例として、従来の塗布装置によ
り同様の両面同時塗布を行った。

【００５６】このようにして得られた正極及び負極板の
厚みをマイクロメータで測定し、厚みバラツキを比較し
た。

【００５７】その後、所定の厚みに圧延するときの状況
を目視観察した。

【００５８】さらに、上記正極用・負極用の双方の板
を、それぞれ所定の幅、及び所定の長さに帯状に切断し
て、ロール状に巻いて、リチウムイオン２次電池を作成
し放電容量を測定した。放電容量測定法は、常温におい
て一定電流（１６０ｍＡ）、終止電圧（４．２Ｖ）で充
電を完了した２次電池を、一定電流（１６０ｍＡから３
２００ｍＡ）で放電して、放電開始から低下する電圧が
終止電圧（３Ｖ）に達したときの放電容量で比較した。
以上の結果を、表１と図１１に示す。

【００５９】

【表１】

【００６０】本実施の形態の範囲内であれば、両面同時
塗布した場合に、塗膜の厚みバラツキを均一にすること
ができ（表１参照）、さらに本実施の形態による電池は
放電容量が比較例による電池に比べて明らかにアップし
ている（図１１参照）。

【００６１】これは、支持部１０１と集電体とを摺動さ
せているため、集電体に同伴してくる空気がここで遮断
される。従って塗料溜まりＴに混入する空気の量は、従
来の塗布手段に比べ格段に抑制できるため、活物質層の
密度が向上したものと考えられる。その結果、本実施の
形態で作成した電池の放電容量を向上させることができ
た。なお、上記ではリチウムイオン２次電池について具
体的に説明したが、ニッケル水素２次電池や他の電池、
あるいはコンデンサーや他の両面同時塗布が必要な製品
にも同様の効果を得ることができる。

【００６２】尚、図１１中の実線で示された特性は、表
１中の上から４番目のサンプルについて、スリット出口
から、支持部１０１の頂部１０６までの寸法をＬ１＝１
ｍｍとし、下流リップ１０３の表面を、支持部１０１の
頂部１０６の接線Ｘと略平行（θ＝０°）とした場合の
値である。

【００６３】（実施の形態Ａ２）図６に、本発明にかか
る第Ａ２の実施の形態の塗布装置の概略斜視図を示す。

【００６４】本実施の形態の特徴は、ノズル１への塗料
供給方向とノズル２への塗料供給方向が、実質上逆方向
とすることで、特に塗布幅方向の、基材上の同一位置に
おける表裏の塗膜のトータル厚みを均一にすることがで
きる。それ以外は実施の形態１と同様であるため説明を
省略する。

【００６５】通常、塗料をノズルのサイド方向から供給
した場合、ノズル内部のマニホールド内部を塗布幅方向
に塗料が流れるときの流体力学的抵抗で、供給側のマニ
ホール圧力は比較的高く、その反対側は低くなる。この
ため塗膜厚みは、供給側は厚く、塗布幅方向に徐々に薄
くなり、供給側の反対側は薄くなってしまう。本実施の
形態によれば、ノズル１とノズル２への供給方向が異な
っているため、表裏の両面同時塗布した場合、表裏それ
ぞれの塗膜厚みは塗布幅方向に厚みムラを持つがトータ
ルの厚みを極めて均一とすることができる。従って本実
施の形態において、実施の形態Ａ１と同様の効果が得ら
れる。

【００６６】（実施の形態Ａ３）図７に、本発明にかか
る第Ａ３の実施の形態の塗布装置の概略図を示す。本実
施の形態の特徴は、実施の形態Ａ１で示した第１ノズル
１と同形状のノズルを２つ、基材３に対して表裏で且つ
異なる位置に配置しながら、両面同時に塗布することに
ある。ノズル１の構成などは実施の形態Ａ１を用いるこ
とができ、ここでは説明を省略する。

【００６７】本実施の形態では、塗膜９側を塗布形成す
るノズルも支持部１０１で基材３を摺動支持しながら塗
布するため、基材３に同伴してくる空気層を除去でき
る。従って、塗膜８のみならず塗膜９のピンホール発生
も抑制することが可能となる。これを例えば電池用極板
に応用した場合、実施の形態Ａ１による電池に比べて放
電容量をさらにアップさせることも可能である。それ以
外では、実施の形態Ａ１と同様の効果が得られる。

【００６８】（実施の形態Ａ４）図８に、本発明にかか
る第Ａ４の実施の形態の塗布装置の概略図を示す。

【００６９】本実施の形態は、ノズル本体の構造に関す
るものであり、それ以外は実施の形態Ａ１と同様のた
め、同じ部分の説明は省略する。

【００７０】本実施の形態の特徴は、上述したノズル本
体が、３つのブロック１１〜１３から構成されている点
である。

【００７１】即ち、ノズル本体は、塗布面側を支持する
ための基材側に突き出た略曲面形状の支持部１０１を先
端に構成した第１ブロック１１と、第１ブロック１１を
締結でき且つ支持部１０１と隣接した上流リップ１０２
を先端に構成した第２ブロック１２と、下流リップ１０
３を先端に構成した第３ブロック１３と、第２ブロック
１２と第３ブロック１３との間にはスリット１０５及び
マニホールド１０４を構成し、第１ブロック１１と第２
ブロック１２との間に、支持部１０１のと下流リップ１
０３との段差寸法ｄ１を調節するためのスペーサー１４
とで構成されている。

【００７２】段差寸法ｄ１は通常５〜１０００μｍの範
囲内であり、塗布厚みに応じて適時調節できることが、
作業時間短縮のために好ましい。本実施の形態では、図
８（ａ）に示すように段差ｄ１と同じ厚みのスペーサー
１４を第１ブロック１１と第２ブロック１２との間に挟
むことで、容易に設定できる。また図８（ｂ）に示すよ
うにスペーサー１４をテーパ形状として、図中矢印Ｂ−
Ｂ’の方向に移動させ、第１ブロック１１を図中矢印Ｃ
−Ｃ’の方向に昇降させて、段差ｄ１を任意に設定する
こともできる。さらにスペーサー１４は塗布幅方向で分
割することで塗布幅方向の段差ｄ１を均一とするために
微調整することも可能である。本実施の形態による塗布
装置を用いることで実施の形態Ａ１と同様の効果が得ら
れる。

【００７３】尚、図１３は、スペーサー１４を塗布幅方
向で分割することで塗布幅方向の段差ｄ１を均一とする
場合の説明図である。ここで、図１３は、図８（ａ）に
示すノズル本体において、第１ブロック１１を取り除い
た状態を、図８（ａ）中に表示した矢印Ａの方向から見
た概略図である。図１３に示す通り、スペーサー１４
は、１４ａ〜１４ｃの符号を付した３つの部分に分割さ
れている。

【００７４】（実施の形態Ａ５）図９に、本発明にかか
る第Ａ５の実施の形態の塗布装置の概略図を示す。

【００７５】本実施の形態は、ノズル本体の構造に関す
るものであり、それ以外は実施の形態Ａ１と同様のた
め、同じ部分の説明は省略する。

【００７６】本実施の形態は、塗布面側を支持するため
の基材側に突き出た略曲面形状の支持部１０１を先端に
構成した第１ブロック１１と、板状で且つ支持部１０１
と隣接した上流リップ１０２を先端に構成した第２ブロ
ック１２と、下流リップ１０３を先端に構成した第３ブ
ロック１３と、第２ブロック１２と第３ブロック１３と
の間にはスリット１０５及びマニホールド１０４を構成
したことを特徴とする。段差寸法ｄ１は通常５〜１００
０μｍの範囲内であり、塗布厚みに応じて適時調節す
る。上流リップ１０２の寸法Ｌ１は、スリット１０５か
ら出た塗料の溜まりを形成する部分でもあり、重要であ
る。Ｌ１の範囲は、実施の形態Ａ１で説明したように、
０．１ｍｍ≦Ｌ１≦１００ｍｍ、さらに好ましくは、
０．１ｍｍ≦Ｌ１≦１０ｍｍの範囲である。塗料の種類
によってＬ１寸法の最適値が存在するため、本実施の形
態により厚みＬ１の異なる第２ブロック１２を予め用意
しておけば、最適なＬ１寸法を選択して塗布することが
可能となる。本実施の形態による塗布装置を用いること
で実施の形態Ａ１と同様の効果が得られる。

【００７７】以上述べたように上記実施の形態によれ
ば、塗布厚みを均一化できるとともに、ピンホールの発
生を抑えることができるため、電池やコンデンサーなど
の性能向上に大きな効果を発揮する。

【００７８】（実施の形態Ｂ１）図１４に、本発明の塗
布装置にかかる第Ｂ１の実施の形態の電池電極の製造装
置を実施するための装置の概略図を示す。

【００７９】本発明にかかる第Ｂ１の実施の形態を実施
するための装置の構成及び動作を説明すると共に、本発
明の塗布方法の一実施の形態についても同時に述べる。

【００８０】ノズル５００１は、集電体５００２の塗布
面側と摺動且つ支持するための支持部５１０１と上流リ
ップ５１０２、下流リップ５１０３、さらにペースト５
００８の溜であるマニホールド５１０４と押し出しのた
めのスリット５１０５で構成される。また活物質層５０
０３や５００４を間欠的に所定のピッチで塗布形成する
ため、吸引装置５００７は、ピストン５７０１を矢印Ａ
もしくはＢ方向に移動させるためのエアシリンダ５７０
２と、これをノズル５００１へ装着するための治具５７
０３で構成される。ペースト５００８は、タンク５００
９からポンプ５０１０によりフィルタ５０１１、三方弁
５０１２を通り、ノズル５００１のマニホールド５１０
４へ供給されスリット５１０５から押し出される。集電
体５００２は、支持部５１０１とガイドロール５００６
とで支持され且つ、下流リップ５１０３の先端との距離
がｄとなるよう設定されており、この隙間にスリット５
１０５から押し出されたペースト５００８が流れ込み、
ペースト溜まり５０８１が形成される。そして、このペ
ースト溜まり５０８１を形成しながら、集電体５００２
の上に、活物質層５００４として塗布形成される。

【００８１】従って、従来例（図２０参照）で示したよ
うに予め間欠的に形成されている活物質層５００３の影
響を全く受けず、特に活物質層５００３が形成されてい
ない部分である５００３２の影響を全く受けずに（図１
９）に示したように所定のピッチで且つ始端から終端に
到るまで均一な厚みの電池電極板を得ることができる。
ガイドロール５００５及び５００６はノズル５００１に
対する集電体５００２の角度を調節できるようにしてあ
る。少なくともノズル５００１の下流側に位置するガイ
ドロール５００６は矢印Ｃ、Ｄ方向に移動可能であるこ
とが好ましい。

【００８２】次ぎにペースト５００８を集電体５００２
上に所定のピッチで間欠的に塗布形成する動作を中心に
説明する。

【００８３】ペースト５００８の塗布を中断する場合
は、三方弁５０１２によりポンプ５０１０から送られて
くるペースト５００８の流れをリターン側に切り替える
と同時に、ピストン５７０１を矢印Ａ方向に移動させ
る。即ち、三方弁５０１２の上記切替により、ノズル５
００１へのペースト供給を停止することが出来、又、ピ
ストン５７０１の上記移動により、スリット５１０５や
ペースト溜まり８１に存在するペーストを吸引すること
が出来る。これにより、特に塗布終端部の切れの良い間
欠塗布が可能となる。

【００８４】次に、塗布再開時には、三方弁５０１２に
よりポンプ５０１０から送られてくるペースト５００８
の流れを供給側に切り替えることでノズル５００１への
ペースト供給を再開すると同時に、ピストン５７０１を
矢印Ｂ方向に移動させ、前記した吸引したペーストをノ
ズル内部に戻す。

【００８５】これらの動作の繰り返しにより所定のピッ
チで安定した間欠塗布ができる。

【００８６】なお、間欠塗布ではなく、連続的に活物質
層５００３や５００４を集電体５００２上に塗布形成す
る場合には、吸引装置５００７や三方弁５０１２は設け
る必要がないことは、いうまでもない。

【００８７】また、塗布直前のいずれかの部分で、集電
体５００２の塗布面側に付着した異物を除去するための
クリーナー５０１３を設けることが好ましい。クリーナ
ー５０１３は繊維状、不織布状のいわゆるクリーニング
ワイパーを集電体５００２に押しつけるものや、クリー
ンなエアーを集電体５００２上に吹き付けるものなど、
どのような構成でもよい。

【００８８】次にノズル５００１の先端形状の詳細につ
いて説明する。

【００８９】支持部５１０１は集電体５００２側に突き
出た曲面形状であり、その曲率半径Ｒの範囲は、２ｍｍ
≦Ｒ≦５００ｍｍである。

【００９０】集電体５００２は厚み５〜３０μｍ、幅１
００〜１０００ｍｍの銅箔やアルミ箔を主に用い、その
テンションは通常５０〜５００ｇ／ｃｍの範囲である。
曲率半径Ｒが２ｍｍよりも小さい場合、テンションによ
り集電体５００２が支持部５１０１に押しつけられる力
が強すぎて、摩擦による集電体５００２の走行速度に変
動が生じ、均一な厚みで活物質層５００３や５００４を
塗布形成できなくなる。また曲率半径Ｒが５００ｍｍよ
りも大きいと、支持部５１０１への集電体５００２の押
しつけ力が小さくなりすぎて、集電体５００２の幅方向
にシワが生じ、活物質層５００３や５００４の幅方向や
走行方向の厚み変動が大きくなる。

【００９１】上流リップ５１０２の形状は、特に限定す
るものではないが、スリット出口から支持部５１０１の
頂部５１０６（図１７（ａ）、図１７（ｂ）参照）まで
の寸法Ｌ１の範囲を、０．１ｍｍ≦Ｌ１≦１００ｍｍと
することは極めて重要である。さらに好ましくは、０．
１ｍｍ≦Ｌ１≦１０ｍｍとする。

【００９２】Ｌ１が０．１ｍｍよりも小さい場合、スリ
ット出口に形成するペースト溜まり８１が形成できなく
なり、集電体５００２へのペースト５００８の塗布が乱
されて、活物質層５００３や５００４の厚みが不均一と
なる。またＬ１が１００ｍｍよりも大きい場合、スリッ
ト出口では集電体５００２に幅方向でシワが生じやすく
なり、活物質層５００３や５００４の幅方向の厚み変動
が大きくなる。

【００９３】下流リップ５１０３の寸法Ｌ２は、間欠塗
布したときの塗布始終端の形状と密接に関係している。
Ｌ２の範囲は、０．１ｍｍ≦Ｌ２≦５ｍｍとすることが
重要である。Ｌ２が０．１ｍｍよりも小さい場合、下流
リップ５１０３と集電体５００２との間に流れるペース
ト５００８の圧力が低くなり、活物質層５００３や５０
０４の厚みが不均一となる。またＬ２が５ｍｍよりも大
きい場合、特に間欠時の塗布終端において、下流リップ
５１０３と集電体５００２との間に残存するペースト５
００８が集電体５００２の上に薄く塗布されてしまい、
電池性能を低下させる問題が生じる。

【００９４】支持部５１０１と上流リップ５１０２の形
状は、図１７（ａ）や図１７（ｂ）に示すような形状で
も良い。要は、支持部５１０１は集電体５００２を摺動
且つ支持できる形状であり、上流リップは、ペースト溜
まり５０８１を形成するための空間を設ける構成であれ
ばよい。下流リップ５１０３の表面はフラット面とする
ことが重要である。これにより集電体５００２と下流リ
ップ５１０３との間を流れるペースト５００８に大きな
せん断力が働き、ペースト中に分散された活物質の凝集
塊を破壊でき、活物質層５００３や５００４を均一にす
ることができる。また、支持部５１０１の頂部５１０６
と下流リップ５１０３との段差ｄは、活物質層５００３
や５００４のウェット状態における塗布厚みに応じて適
時選定するが、通常５μｍ≦ｄ≦１０００μｍの範囲内
とする。例えば活物質層と集電体との間に薄い厚みでア
ンカー層を設けたい場合には、ｄを５〜１００μｍの範
囲で設定する。また活物質層を塗布形成する場合、ウェ
ット状態では通常１００〜１０００μｍのため、ｄをほ
ぼ等しい１００〜１０００μｍの範囲で設定する。

【００９５】次に本実施の形態の具体例を説明する。

【００９６】ノズル５００１の形状は、図１４に示すも
ので、Ｒ＝３０ｍｍ、ｄ＝２００μｍ、Ｌ１＝５ｍｍ、
Ｌ２＝３ｍｍ、スリットギャップＧ＝０．５ｍｍとし、
塗布幅４８０ｍｍである。

【００９７】負極としては、集電体が厚み１０μｍ、幅
５００ｍｍの銅箔、負極用ペーストは炭素材、ＣＭＣ及
び水を混練したものを用いた。これを、まず本実施の形
態により集電体上に所定のピッチで間欠的に活物質層５
００３を塗布形成し、乾燥した。その裏面に前記ピッチ
と位置をずらせ所定のピッチで間欠的に活物質層５００
４を塗布形成、乾燥させた結果、予め間欠的に塗布形成
された活物質層５００３の無い部分３２の影響を全く受
けずに、図１９に示すような、厚みの均一な活物質層５
００４を形成することができた。

【００９８】又、正極としては、集電体が厚み２０μ
ｍ、幅５００ｍｍのアルミ箔、正極用ペーストはＬｉＣ
ｏＯ₂ 、導電性カーボンブラック、フッ素系樹脂、ＣＭ
Ｃ及び水を混練下ものを用いた。これを、まず本実施の
形態により集電体上に所定のピッチで間欠的に活物質層
５００３を塗布形成し、乾燥した。その裏面に前記ピッ
チと位置をずらせ所定のピッチで間欠的に活物質層５０
０４を塗布形成、乾燥させた結果、予め間欠的に塗布形
成された活物質層５００３の無い部分３２の影響を全く
受けずに。図１９に示すような、厚みの均一な活物質層
５００４を形成することができた。

【００９９】このようにして得られた正極及び負極板を
所定の厚みに圧延した後、所定の幅にスリットしてリチ
ウムイオン２次電池を作成した。

【０１００】一方、比較例として、従来の塗布方法で間
欠的に上記ペーストを、まず集電体上に所定のピッチで
間欠的に活物質層５００３を塗布形成、乾燥した後、そ
の裏面に前記ピッチと位置をずらせ所定のピッチで間欠
的に活物質層５００４を塗布形成、乾燥させた場合、図
１８に示すように、活物質層５００３が無い部分には活
物質層５００４に空気が大量に混入し、極板とすること
ができなかった。そこで、従来の塗布方法で、間欠手段
を用いず連続的に前記ペーストを集電体の上に塗布形成
した後、所定のピッチで活物質層を除去し、所定の厚み
に圧延、さらに所定の幅にスリットして、比較例のリチ
ウムイオン２次電池を作成した。

【０１０１】上記電池に対して以下の評価を行い本実施
の形態の効果を確認した。

【０１０２】(１)放電容量常温において一定電流（１６０ｍＡ）、終止電圧（４．
２Ｖ）で充電を完了した２次電池を、一定電流（１６０
ｍＡから３２００ｍＡ）で放電して、放電開始から低下
する電圧が終止電圧（３Ｖ）に達したときの放電容量で
比較した。結果を図２１に示す。本実施の形態による電
池は放電容量が従来例による電池に比べて明らかにアッ
プしている。

【０１０３】尚、図２１中の実線で示された特性は、後
述する表２中の上から３番目のサンプルについて、集電
体５００２とスリット５１０５出口との距離を２００μ
ｍとし、ガイドロール５００６とスリット出口との距離
Ｘを０．１ｍｍとした場合の値である。

【０１０４】(２)サイクル特性常温において一定条件（放電：電流１６００ｍＡ、終止
電圧３Ｖ、充電：電流１６０ｍＡ、終止電圧４．２Ｖ）
で充放電を繰り返して放電容量を測定し、初期放電容量
の９０％になったときの充放電回数（サイクル）で比較
した。結果を図２２に示す。本実施の形態による電池は
サイクル特性が従来例による電池に比べて明らかにアッ
プしている。

【０１０５】上記評価の結果、本実施の形態の特徴を以
下にまとめて説明する。

【０１０６】第１に、予め集電体上に間欠的に活物質層
５００３を塗布形成した後、その裏面に活物質層５００
４を塗布形成したとき、活物質層５００３が形成されて
いない部分の影響を全く受けずに活物質層５００４を任
意のピッチで間欠的に塗布形成することが可能である。
従来の塗布手段では不可能であった表裏の位置をずらせ
た間欠塗布が可能となったことから、リチウムイオン２
次電池などの生産工程において、生産性の格段の向上と
高価な活物質のロスを大幅に低減できた。

【０１０７】第２に、支持部５１０１と集電体５００２
とを摺動させているため、集電体５００２に同伴してく
る空気がここで遮断される。従ってペースト溜まり５０
８１に混入する空気の量は、従来の塗布手段に比べ格段
に抑制できるため、活物質層の密度が向上した。その結
果、本実施の形態で作成した電池の放電容量を向上させ
ることができた。

【０１０８】第３に、下流リップ５１０３の表面と集電
体５００２との間を流れるペーストに大きなせん断力を
働かせることができ、ペースト中の活物質粉の凝集塊を
破壊できるため、活物質粉が均質に分散された活物質層
を得ることができる。その結果、本実施の形態で作成し
た電池のサイクル特性を向上させることができた。

【０１０９】（実施の形態Ｂ２）図１５に、本発明の塗
布装置にかかる第Ｂ２の実施の形態の電池電極の製造装
置の概略断面図を示す。

【０１１０】本実施の形態の特徴は、ノズル５００１の
先端部に関して、支持部５１０１と下流リップ５１０３
とで構成されており、実施の形態Ｂ１における上流リッ
プ５１０２を設けていない点である。その他は、実施の
形態Ｂ１と全く同様のため説明を省略する。

【０１１１】本実施の形態において、スリット５１０５
から吐出されたペースト５００８は直ちに集電体５００
２上に塗布形成されるため、集電体５００２のシワや走
行変動の影響を全く受けず、厚みの均一な活物質層５０
０４を塗布形成することが可能である。本実施の形態に
おいても、実施の形態Ｂ１と全く同様の効果が得られ
る。

【０１１２】（実施の形態Ｂ３）図１６に、本発明の塗
布装置にかかる第Ｂ３の実施の形態の電池電極の製造装
置の概略断面図を示す。

【０１１３】本実施の形態の最大の特徴は、ノズル５０
０１と対向する位置に走行する集電体５００２を気体で
浮上させるフローティング装置５０１４を設けたことで
ある。ノズル５００１の構成は実施の形態Ｂ１やＢ２の
ものを用いることができ、ここでは説明を省略する。

【０１１４】図１６に示す様に、フローティング装置５
０１４から噴射される気体により、集電体５００２のテ
ンションとバランスをとりながら、集電体５００２を浮
上させる。集電体５００２のテンションは通常５０〜５
００ｇ／ｃｍであり、テンションに応じて気体の噴出量
を調節し、集電体５００２をフローティング装置５０１
４の表面から１ｍｍ程度浮上させる。浮上した集電体５
００２の塗布面側をノズル５００１の支持部５１０１と
接触させながら、スリット５１０５から吐出したペース
ト５００８を集電体５００２上に塗布形成する。

【０１１５】従って、予め所定のピッチで間欠的に塗布
形成されている活物質層５００３の影響を全く受けず
に、活物質層５００４を塗布形成することができる。本
実施の形態により、実施の形態Ｂ１で示したペーストを
集電体５００２上に、活物質層５００３の間欠パターン
と位置をずらせて間欠的に活物質層５００４を塗布形成
した結果、図１９に示すように始端から終端に到るま
で、厚みが均一な電池電極板を作成することができた。
本実施の形態による効果は、実施の形態Ｂ１と全く同様
の効果が得られた。

【０１１６】（実施の形態Ｂ４）図１４に、本発明の塗
布方法にかかる第Ｂ４の実施の形態の電池電極の製造方
法を実施するための装置の概略断面図を示す。

【０１１７】本発明にかかる第Ｂ４の実施の形態を実施
するための装置の構成は実施の形態Ｂ１と同様のため、
その説明を省略する。

【０１１８】本実施の形態は、走行する集電体５００２
の一方の面に所定のピッチで間欠的に活物質層５００３
を塗布形成する第１工程と、集電体５００２の反対面に
前記ピッチと位置をずらせて所定のピッチで間欠的に活
物質層５００４を塗布形成する第２工程とからなり、少
なくとも第２工程においてノズル５００１のスリット５
１０５出口直前で集電体５００２の塗布面側を支持しな
がら塗布する。

【０１１９】この方法により、予め間欠的に形成されて
いる活物質層５００３の影響を全く受けず、特に活物質
層５００３が形成されていない部分である５０３２の影
響を全く受けずに、図１９に示したように所定のピッチ
で且つ始端から終端に到るまで均一な厚みの電池電極板
を得ることができる。

【０１２０】本実施の形態の詳細に関する特徴を以下に
説明する。

【０１２１】第１の特徴は、支持部５１０１とスリット
５１０５との間の空間、すなわち上流リップ５１０２の
部分において、スリット５１０５から吐出されたペース
ト５００８の溜まり５０８１を形成しながら集電体５０
０２上に塗布することである。ペースト溜まり５０８１
を形成することで、集電体５００２のノズル方向に対す
る位置変動が多少あっても、塗布が乱されることなく、
活物質層５００３や５００４の厚みを均一とすることが
できる。

【０１２２】第２の特徴は、集電体５００２とスリット
５１０５出口との距離を１０〜１０００μｍの範囲とす
ることである。距離が１０μｍよりも小さいと、ペース
ト溜まり５０８１に対する集電体５００２の押しつけ力
が強くなりすぎて、ペースト溜まり５０８１を安定に形
成することができず、活物質層の厚みが不均一となる。
また前記距離が１０００μｍよりも大きいと、ペースト
溜まり５０８１に対する集電体５００２の押しつけ力が
小さすぎて、ペースト溜まり５０８１を安定に形成する
ことができず、活物質層の厚みがこの場合にも不均一と
なる。

【０１２３】第３の特徴は、フラット面であるノズルの
下流リップ５１０３に対して集電体５００２を±４５度
の範囲内、さらに好ましくは±３０度の範囲内で走行さ
せることである。なおガイドロール５００６はノズル５
００１に対する集電体５００２の角度を調節できるよ
う、矢印Ｃ、Ｄ方向に移動可能である。これにより、下
流リップ５１０３の表面と集電体５００２との間を流れ
るペーストに大きなせん断力を働かせることができ、ペ
ースト中の活物質粉の凝集塊を破壊できるため、活物質
粉が均質に分散された活物質層を得ることができる。

【０１２４】第４の特徴は、集電体走行方向に関してノ
ズル５００１よりも下流側のガイドロール５００６の中
心と、ノズル５００１の下流リップ５１０３の下流側エ
ッジとの距離Ｘは、０．０１〜１０ｍの範囲であること
が極めて重要である。尚、ここでは、ガイドロール５０
０６の半径を５〜５００ｍｍの範囲とした。距離Ｘが
０．０１ｍよりも小さいと、間欠的に形成されている活
物質層５００３の塗布してある部分としていない部分の
段差の影響を受け、活物質層５００４の厚みが不均一と
なる。また距離Ｘが１０ｍよりも大きいと、集電体５０
０２にシワが生じ、下流リップ上にまで及んで活物質層
５００４の厚みが不均一となる。

【０１２５】第５の特徴は、集電体５００２のテンショ
ンを５０〜５００ｇ／ｃｍの範囲とすることである。支
持部５１０１は集電体５００２側に突き出た曲面形状で
ある。テンションがが５００ｇ／ｃｍよりも大きい場
合、テンションにより集電体５００２が支持部５１０１
に押しつけられる力が強すぎて、摩擦による集電体５０
０２の走行速度に変動が生じ、均一な厚みで活物質層５
００３や５００４を塗布形成できなくなる。またテンシ
ョンが５０ｇ／ｃｍよりも小さいと、支持部５１０１へ
の集電体５００２の押しつけ力が小さくなりすぎて、集
電体５００２の幅方向にシワが生じ、活物質層５００３
や５００４の幅方向の厚み変動が大きくなる。

【０１２６】本実施の形態においては初手のピッチで間
欠的に活物質層を塗布形成する手段として、集電体５０
０２へペースト５００８を塗布する塗布工程と、ノズル
５００１へのペースト５００８の供給を停止すると同時
にノズル内部のペースト５００８の一部を吸引装置５０
０７によりノズルの所定の場所へ吸引する塗布停止工程
を繰り返すことで実施する。詳細は実施の形態Ｂ１と同
様のため説明を省略する。

【０１２７】次に本実施の形態の具体例を説明する。

【０１２８】ノズル５００１の形状は、図１４に示すも
ので、Ｒ＝３０ｍｍ、ｄ＝２００μｍ、Ｌ１＝５ｍｍ、
Ｌ２＝３ｍｍ、スリットギャップＧ＝０．５ｍｍとし、
塗布幅４８０ｍｍである。集電体テンションは１５０ｇ
／ｃｍ、集電体とスリット出口との距離を５〜１１００
μｍの範囲で変化させ、さらにガイドロール５００６と
下流リップ５１０３の下流エッジとの距離Ｘを０．０５
〜１１ｍの範囲で変化させた。

【０１２９】負極としては、集電体が厚み１０μｍ、幅
５００ｍｍの銅箔、負極用ペーストは炭素材、ＣＭＣ及
び水を混練したものを用いた。これを、まず本実施の形
態により集電体上に所定のピッチで間欠的に活物質層５
００３を塗布形成、乾燥した。その裏面に前記ピッチと
位置をずらせ所定のピッチで間欠的に活物質層５００４
を塗布形成、乾燥させた。

【０１３０】又、正極としては、集電体が厚み２０μ
ｍ、幅５００ｍｍのアルミ箔、正極用ペーストはＬｉＣ
ｏＯ₂ 、導電性カーボンブラック、フッ素系樹脂、ＣＭ
Ｃ及び水を混練下ものを用いた。これを、まず本実施の
形態により集電体上に所定のピッチで間欠的に活物質層
５００３を塗布形成、乾燥した。その裏面に前記ピッチ
と位置をずらせ所定のピッチで間欠的に活物質層５００
４を塗布形成、乾燥させた。

【０１３１】このようにして得られた正極及び負極板を
所定の厚みに圧延した後、所定の幅にスリットしてリチ
ウムイオン２次電池を作成した。

【０１３２】また比較例として、従来の塗布方法で間欠
的に上記ペーストを、まず集電体上に所定のピッチで間
欠的に活物質層５００３を塗布形成、乾燥した後、その
裏面に前記ピッチと位置をずらせ所定のピッチで間欠的
に活物質層５００４を塗布形成、乾燥させた場合、図１
８に示すように、活物質層５００３が無い部分には活物
質層５００４に空気が大量に混入し、極板とすることが
できなかった。そこで、従来の塗布方法で、間欠手段を
用いず連続的に前記ペーストを集電体の上に塗布形成し
た後、所定のピッチで活物質層を除去し、所定の厚みに
圧延、さらに所定の幅にスリットして、比較例のリチウ
ムイオン２次電池を作成した。

【０１３３】上記塗布乾燥後の極板と電池に対して以下
の評価を行い本実施の形態の効果を確認した。

【０１３４】(１)活物質層５００４の厚みバラツキ活物質層５００４について厚みをマイクロメータにより
５０箇所測定し、厚みの平均値に対する最大厚みと最小
厚みの差を厚みバラツキとして評価した。その結果を、
表２にまとめて示す。本実施の形態の範囲内であれば、
明らかに厚みバラツキを小さくすることができ、電池極
板として良好なことがわかる。

【０１３５】

【表２】

【０１３６】(２)放電容量常温において一定電流（１６０ｍＡ）、終止電圧（４．
２Ｖ）で充電を完了した２次電池を、一定電流（１６０
ｍＡから３２００ｍＡ）で放電して、放電開始から低下
する電圧が終止電圧（３Ｖ）に達したときの放電容量で
比較した。結果を図２１に示す。本実施の形態による電
池は放電容量が従来例による電池に比べて明らかにアッ
プしている。

【０１３７】尚、ここで、図２１において、実線は、塗
布厚みが均一で、且つ、ピンホールのない電池電極を使
用した場合の特性を、又、点線は、塗布厚みが不均一
で、且つ、ピンホールが多発した電池電極を使用した場
合の特性を示している。

【０１３８】又、図１１、図２１中の実線で示す特性か
らわかる様に、サンプルはそれぞれ異なるが、正極、負
極に使用した材料は同一のため、製造の条件や方法がそ
れぞれ異なっていても、塗布厚みを均一にでき、且つ、
ピンホールの発生を抑制できているので、ともに放電容
量の低下が防止出来る。又、図１１と、図２１に示す点
線は、同一サンプルによる特性である。

【０１３９】(３)サイクル特性常温において一定条件（放電：電流１６００ｍＡ、終止
電圧３Ｖ、充電：電流１６０ｍＡ、終止電圧４．２Ｖ）
で充放電を繰り返して放電容量を測定し、初期放電容量
の９０％になったときの充放電回数（サイクル）で比較
した。結果を図２２に示す。本実施の形態による電池は
サイクル特性が従来例による電池に比べて明らかにアッ
プしている。

【０１４０】上記評価の結果、本実施の形態の特徴を以
下にまとめて説明する。

【０１４１】第１に、予め集電体上に間欠的に活物質層
５００３を塗布形成した後、その裏面に活物質層５００
４を塗布形成したとき、活物質層５００３が形成されて
いない部分の影響を全く受けずに活物質層５００４を任
意のピッチで間欠的に塗布形成することが可能である。
さらに活物質層の厚みを極めて均一に塗布形成すること
ができる。従来の塗布手段では不可能であった表裏の位
置をずらせた間欠塗布が可能となったことから、リチウ
ムイオン２次電池などの生産工程において、生産性の格
段の向上と高価な活物質のロスを大幅に低減できた。

【０１４２】第２に、支持部５１０１と集電体５００２
とを摺動させているため、集電体５００２に同伴してく
る空気がここで遮断される。従ってペースト溜まり５０
８１に混入する空気の量は、従来の塗布手段に比べ格段
に抑制できるため、活物質層の密度が向上した。その結
果、本実施の形態で作成した電池の放電容量を向上させ
ることができた。

【０１４３】第３に、下流リップ５１０３の表面と集電
体５００２との間を流れるペーストに大きなせん断力を
働かせることができ、ペースト中の活物質粉の凝集塊を
破壊できるため、活物質粉が均質に分散された活物質層
を得ることができる。その結果、本実施の形態で作成し
た電池のサイクル特性を向上させることができた。

【０１４４】以上の様に、上記実施の形態によれば、所
定のピッチで且つ表裏の位置をずらせて間欠的に活物質
層を塗布形成することができ、リチウムイオン２次電池
などの生産工程において、生産性の格段の向上と高価な
活物質のロスを大幅に低減できる。

【０１４５】また、ペーストに混入する空気の量を従来
に比べ格段に抑制できるため、活物質層の密度が向上
し、電池の放電容量を向上させることができる。

【０１４６】さらに、活物質粉が均質に分散された活物
質層を得ることができ、電池のサイクル特性を向上させ
ることができた。

【０１４７】尚、上記実施の形態で述べたノズル５００
１の構成は、図８，図９で述べた構成としても勿論良
い。

【０１４８】又、上記実施の形態では、基材の表面と裏
面に塗布部材を塗布する場合について述べたが、これに
限らず例えば、一方の面のみに塗布するだけの場合であ
っても同様の構成が適用できる。

【０１４９】

【発明の効果】以上述べたところから明らかな様に本発
明は、塗布膜の厚みをより均一に出来るという長所を有
する。

【０１５０】又、本発明は、塗布膜へのピンホールの発
生を従来に比べて抑制することが出来るという長所を有
する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる第Ａ１の実施の形態の塗布装置
を示す略示構成図

【図２】第Ａ１の実施の形態における、第２ノズル２と
基材３との隙間寸法ｄ２の設定方法を説明するための概
略構成図

【図３】第Ａ１の実施の形態のノズル１，２の別の構成
例を示す略示構成図

【図４】（ａ）〜（ｃ）：第Ａ１の実施の形態のノズル
先端の構成例を説明するための概略側面図

【図５】（ａ）〜（ｃ）：第Ａ１の実施の形態のノズル
先端の構成例をせつめいするための概略側面図

【図６】第Ａ２の実施の形態の塗布装置の斜視図

【図７】第Ａ３の実施の形態の塗布装置を示す略示構成
図

【図８】（ａ）〜（ｂ）：第Ａ４の実施の形態のノズル
本体を示す略示側断面図

【図９】第Ａ５の実施の形態のノズル本体を示す略示側
断面図

【図１０】（ａ）：第Ａ１の実施の形態による塗膜の断
面図（ｂ）：従来例による塗膜の断面図

【図１１】第Ａ１〜５の実施の形態における放電容量の
測定結果を説明するための図

【図１２】本実施の形態で使用した塗料のレオロジ特性
を示す図

【図１３】第Ａ５の実施の形態の分割されたスペーサを
示す略示図

【図１４】本発明にかかる第Ｂ１の実施の形態の製造装
置を示す略示構成図

【図１５】第Ｂ２の実施の形態の製造装置を示す略示構
成図

【図１６】第Ｂ３の実施の形態の製造装置を示す略示構
成図

【図１７】（ａ）〜（ｂ）：本発明にかかる第Ｂ１の実
施の形態のノズル先端の例を示す概略側面図

【図１８】従来の塗布手段による、切断前の電池電極板
の斜視図

【図１９】第Ｂ１〜４の実施の形態における、切断前の
電池電極板の斜視図

【図２０】従来の塗布手段を示す略示構成図

【図２１】第Ｂ１〜４の実施の形態における放電容量の
測定結果を説明するための図

【図２２】第Ｂ１〜４の実施の形態におけるサイクル特
性の測定結果を説明するための図

【符号の説明】

１第１ノズル２第２ノズル３基材４第１の塗料５第２の塗料６第１の供給系７第２の供給系８第１の塗膜９第２の塗膜１０位置調整機構１１第１ブロック１２第２ブロック１３第３ブロック１４スペーサー１５ガイドロール５００１ノズル５００２集電体５００３活物質層５００４活物質層５００５ロール５００６ロール５００７吸引装置５００８ペースト５００９タンク５０１０ポンプ５０１１フィルタ５０１２三方弁５０１３クリーナー５０１４フローティング装置５０１５従来のノズル５０１６バックロール

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（１）所定方向に走行する、未塗布面を
有する基材に対して,塗布部材を吐出する吐出部と、
（２）前記基材の走行方向を基準として、前記吐出部よ
り上流側に固定された、且つ、前記未塗布面を直接又は
間接的に支持する支持面を有する、回転移動しない支持
部とを有する第１ノズル手段と、前記未塗布面が前記支持面に直接又は間接的に押しつけ
られる様に、前記基材を案内する案内手段と、を備えた
ことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】前記案内手段は、前記支持部より上流側
に配置されたガイドロールであり、前記基材の両面が未塗布面であり、前記第１ノズル手段により塗布される面の反対側の未塗
布面に塗布部材を塗布する、前記第１ノズル手段に対向
する位置に配置された第２ノズル手段を備えたことを特
徴とする請求項１記載の塗布装置。
【請求項３】前記案内手段は、前記支持部より上流側
に配置されており、前記基材の両面が未塗布面であり、前記第１ノズル手段
により塗布される面の反対側の第２未塗布面に塗布部材
を塗布する、前記第１ノズル手段より下流側の位置に配
置された第２ノズル手段を備え、前記第２ノズル手段が、（１）前記基材の第２未塗布面
に対して塗布部材を吐出する第２吐出部と、（２）前記
基材の走行方向を基準として、前記第２吐出部より上流
側に固定された、且つ、前記第２未塗布面を直接又は間
接的に支持する第２支持面を有する、回転移動しない第
２支持部とを有することを特徴とする請求項１記載の塗
布装置。
【請求項４】前記基材の両面が未塗布面であり、前記第１ノズル手段により塗布される面の反対側の未塗
布面に塗布部材を塗布する、前記第１ノズル手段より上
流側の位置に配置された第２ノズル手段を備え、前記案内手段は、前記支持部に対向する位置に配置され
ており、且つ、気体を前記基材の前記未塗布面と反対側
の面に吹き付けることにより、前記未塗布面が前記支持
面に直接押しつけられる様に前記基材を浮上させるため
の装置であるか、又は、前記支持部より上流側に配置さ
れたガイドロールであることを特徴とする請求項１記載
の塗布装置。
【請求項５】前記塗布部材が、電池電極用の活物質ペ
ーストであることを特徴とする請求項１に記載の塗布装
置。
【請求項６】前記基材の幅方向を基準として、前記第
１ノズル手段には所定の方向から塗布部材を供給し、且
つ、前記第２ノズル手段には前記所定の方向と異なる方
向から塗布部材を供給することを特徴とする請求項２記
載の塗布装置。
【請求項７】前記第２ノズル手段と、前記基材との隙
間を調節する調節手段を備えたことを特徴とする請求項
２記載の塗布装置。
【請求項８】前記第２ノズル手段の上流側のリップの
一部と第１ノズルの前記支持部の頂部とが当接可能に構
成されていることを特徴とする請求項２記載の塗布装
置。
【請求項９】前記基材の塗布幅よりも外側で第１ノズ
ルと第２ノズルとが当接可能に構成されていることを特
徴とする請求項２記載の塗布装置。
【請求項１０】前記吐出部は、前記上流側から、上流
リップ、塗布部材の出口であるスリット、及び下流リッ
プの順で構成されていることを特徴とする請求項１〜５
の何れか一つに記載の塗布装置。
【請求項１１】前記下流リップの表面と、前記基材の
面とのなす角度が±３０度以内の範囲であることを特徴
とする請求項１０に記載の塗布装置。
【請求項１２】前記支持部は、前記基材側に突き出し
た、曲面又は曲面とフラット面との組み合わせであるこ
とを特徴とする請求項１〜５の何れか一つに記載の塗布
装置。
【請求項１３】前記支持部の曲率半径をＲとしたと
き、２ｍｍ≦Ｒ≦３００ｍｍの範囲内であることを特徴とする請求項１〜５の何れか
一つに記載の塗布装置。
【請求項１４】前記支持部の頂部の接線と、前記下流
リップとの段差をｄ１としたとき、５μｍ≦ｄ１≦１０００μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１０に記載の塗
布装置。
【請求項１５】前記吐出部の塗布部材の出口の下端部
から、前記支持部の頂部までの、前記基材の走行方向に
沿った長さをＬ１としたとき、０．１ｍｍ≦Ｌ１≦１００ｍｍの範囲であることを特徴とする請求項１〜５の何れか一
つに記載の塗布装置。
【請求項１６】前記下流リップの、前記基材の走行方
向に沿った長さをＬ２としたとき、０．１ｍｍ≦Ｌ２≦５ｍｍの範囲であることを特徴とする請求項１０に記載の塗布
装置。
【請求項１７】前記ノズル手段への塗布部材の供給と
停止を繰り返す三方弁と、前記ノズル手段の内部に設けられたピストンの移動によ
り、前記ノズル手段の内部の前記塗布部材を吸引する吸
引手段とを備えたことを特徴とする請求項１〜５のいず
れかに記載の塗布装置。
【請求項１８】前記吐出部が、スリットと、下流リッ
プとで構成されていることを特徴とする請求項１〜５の
いずれかに記載の塗布装置。
【請求項１９】前記下流リップが、曲面又はフラット
面であることを特徴とする請求項１８に記載の塗布装
置。
【請求項２０】前記支持部に気体を噴出する複数の穴
もしくはスリットが設けられており、前記支持面は、前記未塗布面を前記噴出する気体を介し
て間接的に支持することを特徴とする請求項１〜５のい
ずれかに記載の塗布装置。
【請求項２１】前記支持部と、前記吐出部の前記塗布
部材のスリット出口との間に塗布部材溜まりを形成する
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の塗布
装置。
【請求項２２】前記ノズル手段は、前記支持部が先端に形成された第１ブロックと、前記第１ブロックが締結され、前記支持部と隣接する位
置に上流リップが形成された第２ブロックと、前記第１ブロックと前記第２ブロックとの間に設けられ
た、前記支持部の突き出し量を調節するためのスペーサ
ーと、下流リップが先端に形成された第３ブロックと、前記第２ブロックと前記第３ブロックとの間に設けられ
た、前記塗布部材の出口となるスリットと、前記スリットと連通したマニホールドと、を備えたこと
を特徴とする請求項１〜５の何れか一つに記載の塗布装
置。
【請求項２３】前記スペーサーは、前記基材の塗布面
の塗布幅方向で分割されていることを特徴とする請求項
２２記載の塗布装置。
【請求項２４】前記ノズル手段は、前記支持部が先端に形成された第１ブロックと、板状で、且つ前記支持部と隣接した上流リップが先端に
形成された第２ブロックと、下流リップが先端に形成された第３ブロックと、前記第２ブロックと前記第３ブロックとの間に、設けら
れた前記塗布部材の出口となるスリットと、前記スリットと連通するマニホールドとを備えたことを
特徴とする請求項１〜５の何れか一つに記載の塗布装
置。
【請求項２５】所定方向に走行する基材の未塗布面
を、直接又は間接的に支持する支持工程と、前記未塗布面に対して,第１塗布部材を塗布する第１塗
布工程とを備え、前記支持工程における前記支持は、前記走行方向を基準
として、前記第１塗布部材を前記未塗布面に対して吐出
するための吐出口より上流側に固定された、且つ、回転
移動しない支持部の支持面を利用することを特徴とする
塗布方法。
【請求項２６】少なくとも前記支持工程の上流側に設
けられた、且つ、前記未塗布面を前記支持面に直接又は
間接的に押しつける様に、前記基材を案内する案内工程
と、前記第１塗布工程における塗布位置と、前記基材を介し
て反対側で、且つ前記塗布位置に対向する位置で、第２
塗布部材を前記第１塗布部材の塗布と実質上同時に塗布
する第２塗布工程と、を備えたことを特徴とする請求項
２５記載の塗布方法。
【請求項２７】前記第１塗布工程の下流側で前記基材
の未塗布面を、直接又は間接的に支持する第２支持工程
と、前記第１塗布工程における塗布位置と、前記基材を介し
て反対側で、且つ前記塗布位置より下流側の位置で、第
２塗布部材を前記第１塗布部材の塗布と実質上同時に塗
布する第２塗布工程とを備え、前記第２支持工程における前記支持は、前記第２塗布部
材を未塗布面に対して吹き出すための吹き出し孔より上
流側に固定された、且つ、回転移動しない支持部の支持
面を利用することを特徴とする請求項２５記載の塗布方
法。
【請求項２８】前記第１塗布工程における塗布面と反
対側の前記基材の未塗布面上に第２塗布部材を塗布す
る、前記第１塗布工程より上流側に設けられた第２塗布
工程と、（１）前記支持部に対向する位置から、気体を前記基材
の前記未塗布面と反対側の面に吹き出し、前記気体の吹
き出し面から前記基材を浮上させることにより、前記未
塗布面を前記支持面に直接又は間接的に押しつけるため
の、又は、（２）少なくとも前記支持工程の上流側に設
けられた、且つ、前記未塗布面を前記支持面に直接又は
間接的に押しつけるための案内工程とを備え、前記第２塗布工程では、所定のピッチで間欠的に前記第
２塗布部材を塗布し、又、前記第１塗布工程では、前記
基材上に塗布された前記第２塗布部材の位置から所定距
離ずらせた位置に、前記第１塗布部材を所定のピッチで
間欠的に塗布することを特徴とする請求項２５記載の塗
布方法。
【請求項２９】前記塗布部材が、電池電極用の活物質
ペーストであることを特徴とする請求項２５に記載の塗
布方法。
【請求項３０】前記塗布工程では、上流側から順に、
前記支持部と、前記吐出口としてのスリット孔を含む吐
出部とで構成されたノズル手段を用いるものであり、又、前記支持部は前記吐出部より前記基材側に突き出し
ていることを特徴とする請求項２５に記載の塗布方法。
【請求項３１】前記支持部と前記スリット孔との間の
空間部に、前記スリット孔から吐出された前記塗布部材
の溜まりを形成しながら塗布することを特徴とする請求
項２５記載の塗布方法。
【請求項３２】前記基材と吐出口との距離は１０〜１
０００μｍの範囲であることを特徴とする請求項２８記
載の塗布方法。
【請求項３３】前記案内工程は、前記支持工程の上流
側に設けられており、前記第１塗布工程の下流側に、回転自在のガイドロール
により前記基材を案内する第２案内工程を備え、前記ガイドロールと、前記吐出口との距離は、０．０１
〜１０ｍの範囲であることを特徴とする請求項２８記載
の塗布方法。
【請求項３４】前記ノズル手段は、前記スリット孔の
下流側にフラット面である下流リップを有しており、その下流リップのフラット面に対する前記基材の面のな
す角が、±４５度の範囲内であることを特徴とする請求
項３０記載の塗布方法。
【請求項３５】前記吐出口への前記塗布部材の供給を
間欠的に行うための、前記塗布部材の供給の停止及び前
記塗布部材の吸引を実質上同時に行う塗布停止工程を備
えたことを特徴とする請求項２５記載の塗布方法。
【請求項３６】前記支持部は曲面形状であり、且つ前
記基材のテンションは５０〜５００ｇ／ｃｍの範囲であ
ることを特徴とする請求項２５記載の塗布方法。