JPH11221289A - 低周波治療器における吸引装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】内部に電極が装備された吸盤を、患者の体表面
の所望位置へ移動させつつ確実に吸着できるようにし、
治療終了後における吸盤の体表面からの不用意な落下を
防止する。 【解決手段】内部に電極３２Ａが配設された吸盤４１Ａ
内が、マニュアル選択された所定の負圧吸引態様でもっ
て吸引される。吸引開始から第１所定時間（例えば３０
秒）が経過するｔ２時点までは、上記選択された負圧吸
引態様での負圧に優先して、ほぼ一定の負圧でもって連
続吸引される。治療時間が終了したｔ３時点から第２所
定時間（例えば３０秒）が経過するｔ４時点までは、ほ
ぼ一定負圧でもって連続吸引される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は低周波治療器におけ
る吸引装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】低周波治療器（高周波の干渉を利用した
低周波治療器を含む）においては、患者の体表面に接触
させるための電極が吸盤内に配設されて、吸盤内を負圧
吸引することによって、吸盤の体表面に対する強い吸引
作用を利用して、電極の体表面に対する電気的な接触を
確保するようにされるのが一般的である。

【０００３】吸盤内の負圧吸引に際しては、可変吸引モ
−ドと呼ばれるように、負圧吸引中に吸引負圧の大きさ
を自動的に変化させる場合がある。この可変吸引モ−ド
を採択することにより、吸盤の吸着部分での痛みを感じ
させないようにしつつ（長時間同じ大きさの負圧として
おくと痛みを感じ易い）、吸盤の吸引力が変化すること
によるマッサージ効果（もみ効果）を得ることが可能と
なる。

【０００４】ところで、吸盤を体表面に吸着させる場
合、負圧吸引された状態にある吸盤は、作業者（看護
者）により把持されつつ患者の体表面に接触されて、吸
盤を若干移動させつつ最終的な吸着箇所が選択された状
態で吸盤の把持が解放され、把持解放後は、吸引負圧に
よって吸盤の体表面に対する吸着状態が維持されること
になる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】可変吸引モ−ドが選択
されているときに、吸盤を体表面に吸着させる場合、吸
盤に対する把持解放時点が、自動的な吸引負圧の変化に
よって負圧が相当小さくなっているタイミングと丁度合
致する場合が応々にして生じる。このとき、吸盤の周縁
部の一部が大気と連通されていると、吸盤の体表面に対
する吸着がうまく行われないことになる。とりわけ、ほ
ぼ上下方向に伸びる体表面位置に吸盤を吸着させようと
したときは、吸盤が体表面から落下してしまう事態をも
生じてしまうことにもなる。

【０００６】また、一定負圧とすることをマニュアル選
択している場合、選択された負圧値が大きいと、吸盤の
位置修正のために吸盤を体表面上で移動させることが面
倒となる。逆に、マニュアル選択されている一定負圧が
小さいと、吸盤を体表面に確実に吸着させることが難し
くなる（一旦完全に吸着した後は、吸引負圧が小さくて
も吸着状態は維持される）。

【０００７】一方、可変吸引モ−ドによる吸引制御が終
了した時点で負圧吸引がそのまま終了されるとき、つま
り治療が終了して吸盤を体表面から外すとき、ほぼ上下
方向に伸びる体表面に吸着されていた吸盤が体表面から
床面へと落下してしまう、という事態を生じ易いものと
なっていた。また、吸引負圧が一定の大きい負圧とした
場合は、吸盤を患者から取外す作業が面倒となる。

【０００８】本発明は以上のような事情を勘案してなさ
れたもので、その第１の目的は、吸盤を、体表面の所望
位置へ容易に移動させつつ確実に吸着させることのでき
るようにした低周波治療器における吸引装置を提供する
ことにある。本発明の第２の目的は、負圧吸引終了時点
において、吸盤が不用意に体表面から落下してしまう事
態を防止しつつ体表面から容易に取外すことのできるよ
うにした低周波治療器における吸引装置を提供すること
にある。

【０００９】

【００１０】前記第１の目的を達成するため、本発明に
あってはその解決手法として次のようにしてある。すな
わち、特許請求の範囲における請求項１に記載のよう
に、負圧吸引される吸盤内に電極が装備され、所定の負
圧吸引態様でもって該吸盤内に対して負圧吸引を行うよ
うにした低周波治療器における吸引装置において、負圧
吸引の開始から第１所定時間経過するまでは、前記所定
の負圧吸引態様に優先して、自動設定される一定負圧値
でもって連続吸引を行う開始時制御手段を備えている、
ようにしてある。上記解決手法を前提とした好ましい態
様は、特許請求の範囲における請求項２〜請求項５、請
求項１１、請求項１２に記載のとおりである。

【００１１】前記第２の目的を達成するため、本発明に
あってはその解決手法として次のようにしてある。すな
わち、特許請求の範囲における請求項６に記載のよう
に、負圧吸引される吸盤内に電極が装備され、所定の負
圧吸引態様でもって該吸盤内に対して負圧吸引を行うよ
うにした低周波治療器における吸引装置において、前記
所定の負圧吸引態様での負圧吸引の終了から第２所定時
間経過するまでは、自動設定される第２の一定負圧値で
もって連続吸引を行う終了時制御手段を備えている、よ
うにしてある。上記解決手法を前提とした好ましい態様
は、特許請求の範囲における請求項７〜請求項１０に記
載のとおりである。なお、特許請求の範囲における請求
項５、請求項１１、請求項１２においても、本発明の第
２の目的を達成することができる。

【００１２】

【発明の効果】請求項１によれば、吸引開始から第１所
定時間経過するまで、つまり吸盤を患者の体表面に吸着
させる作業を行っているようなときには、吸盤の吸着に
適した一定負圧値に自動設定して連続吸引を行うので、
吸盤を、体表面上において容易に移動させつつ所望位置
でもって確実に吸着させることができる。

【００１３】請求項２によれば、開始時制御手段を作動
させるか否かを、例えば所定の負圧吸引態様等に応じて
マニュアル選択することができる。請求項３によれば、
全ての吸盤を容易かつ確実に体表面に吸着させつつ、速
やかに所定の負圧吸引態様へ移行させる上で好ましいも
のとなる。請求項４によれば、吸盤の容易かつ確実な吸
着を行いにくい態様となる吸引負圧が自動変化されると
きに、吸盤の容易かつ確実な吸着を行うことができる。

【００１４】請求項５によれば、負圧吸引終了時点にお
いて、吸盤が体表面から不用意に落下してしまう事態を
防止しつつ、吸盤を体表面に対していたずらに大きい力
で吸着させることなく、吸盤の体表面からの取外しをほ
ぼ同じ力でもって容易に行うことができる。

【００１５】請求項６によれば、請求項５に対応した効
果を得ることができる。請求項７によれば、終了時制御
手段を作動させるか否かを、例えば吸盤の取外等の作業
を勘案してマニュアル選択することができる。請求項８
によれば、不必要に長く負圧吸引することなく、全ての
吸盤の取外し作業が終了するまで、吸盤の体表面からの
不用意な落下を防止することができる。

【００１６】請求項９によれば、同じような負圧吸引態
様を繰り返し行うような場合に好適となる。請求項１０
によれば、吸引負圧を、吸盤の落下防止に必要最小限の
大きさとすることができる。

【００１７】請求項１１によれば、吸盤の吸着と取外と
に応じた適切な吸引負圧とすることができる。請求項１
２によれば、第１所定時間、第２所定時間をそれぞれ吸
盤の数に応じて最適な時間に設定して、請求項３および
請求項８に対応した効果を得ることができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】図１は、干渉低周波治療器におい
て、干渉用の３種類の高周波電流（高周波電圧）を発生
させるための回路図を示すものであり、実施形態では、
第１組の接続端子１Ａ、１Ｂと第２組の接続端子２Ａ、
２Ｂと第３組の接続端子３Ａ、３Ｂとを有する６極干渉
用とされている。

【００１９】図１中１１は、基本搬送波（周波数＝α）
を発生させる高周波発生回路であり、例えば２５００Ｈ
Ｚまたは５０００ＨＺとのいずれか一方の高周波を選択
的に発生することが可能となっている。高周波発生回路
１１は、周波数切換切替回路１２からの信号に基づい
て、上記２つの高周波のうちいずれか一方を出力する。

【００２０】高周波発生回路１１で出力された高周波
（α）は、第１変調回路１３Ａ、第１出力回路１４Ａを
経て、前記第１１組の接続端子１Ａ、１Ｂに印加され
る。また、高周波発生回路１１で発生された高周波は、
周波数変換回路１５Ｂ、第２変調回路１３Ｂ、第２出力
回路１４Ｂを経て、前記第２組の接続端子２Ａ、２Ｂに
印加される。さらに、高周波発生回路１１で発生された
高周波は、周波数変換回路１５Ｃ、第３変調回路１３
Ｃ、第３出力回路１４Ｃを経て、前記第３組の接続端子
３Ａ、３Ｂに印加される。

【００２１】図１中、１６は、所定の低周波（周波数＝
βで、例えばβ＝１〜１９９ＨＺ）を発生させる周波数
設定回路である。前記２つの周波数変換回路１５Ｂ、１
５Ｃは、低周波βを設定する周波数設定回路１６からの
低周波信号と、高周波αを設定する高周波発生回路１１
からの高周波信号と合成して、所定の高周波を出力する
ものとなっている。実施形態では、一方の周波数変換回
路１５Ｂから出力される高周波は、α＋βの大きさとさ
れる。また、他方の周波数変換回路から出力される高周
波はα＋２βの大きさとされる。

【００２２】前記３組の接続端子相互の間で発生する干
渉によって生じる低周波は、相互の差分となるβと２β
の２種類となる。より具体的には、第１組と第２組との
接続端子１Ａ、１Ｂと２Ａ、２Ｂとの間での干渉により
生じる低周波はβとなり、第２組と第３組との接続端子
２Ａ、２Ｂと３Ａ、３Ｂとの間での干渉により生じる低
周波はβとなり、第１組と第３組との接続端子１Ａ、１
Ｂと３Ａ、３Ｂとの間での干渉により生じる低周波は２
βとなる。

【００２３】図１中、Ｕはマイクロコンピュ−タを利用
して構成された制御ユニットであり、各回路１２、１３
Ａ〜１３Ｃ、１４Ａ〜１４Ｃおよび１６を制御する。す
なわち、制御ユニットＵは、前記周波数切替回路１２に
は２５００ＨＺか５０００ＨＺかの選択指令信号出力を
出力し、周波数設定回路１６には１〜１９９ＨＺの範囲
で低周波βの選択指令信号を出力し、変調回路１３Ａ〜
１３Ｃには変調の実行有無の指令信号と、変調する場合
の変調度合いの指令信号とを出力し、出力回路１４Ａ〜
１４Ｃには出力を断続させるバースト制御の実行有無の
指令信号と、バースト度合いの指令信号（例えば出力時
間に対する出力停止時間の割合）を出力する。なお、図
６には、基本信号（波形）と、バースト信号の一例と、
変調された信号の一例とが示される。

【００２４】図２は、前記各接続端子１Ａ、１Ｂと２
Ａ、２Ｂと３Ａ、３Ｃとに対応して個々独立して設けら
れた吸盤付き電極（電極付き吸盤）と、吸盤に対する負
圧吸引を行うための負圧回路とを示す。各接続端子１
Ａ、１Ｂと２Ａ、２Ｂと３Ａ、３Ｃとは、後述するよう
に、電極に対する電気的接続と、吸盤に対する負圧伝達
のための圧力接続とを行う機能を有する。

【００２５】図２において、リザ−バ２１内が、モータ
２２により駆動されるポンプ２３によって吸引されて、
負圧とされる。リザ−バ２１に接続された通路２４が、
最終的に接続端子１Ａ〜３Ｂの数に応じた数（実施形態
では６本）の分岐通路２５Ａ〜２７Ｂに分岐されて、各
分岐通路が対応する接続端子に個々独立して接続され
る。すなわち、分岐通路２５Ａが接続端子１Ａに接続さ
れ、分岐通路２５Ｂが接続端子１Ｂに接続され、分岐通
路２６Ａが接続端子２Ａに接続され、分岐通路２６Ｂが
接続端子２Ｂに接続され、分岐通路２７Ａが接続端子３
Ａに接続され、分岐通路２７Ｂが接続端子３Ｂに接続さ
れている。

【００２６】通路２４、つまり分岐通路２５Ａ〜２７Ｂ
よりもリザ−バ２１側の通路には、電磁式の切換弁２８
が接続されている。この切換弁２８は、分岐通路２５Ａ
〜２７Ｂ、つまり接続端子１Ａ〜３Ｂを、リザ−バ２１
と大気とのいずれか一方に選択的に接続する切換機能を
有する。

【００２７】前記制御ユニットＵは、モータ２２の運転
制御と、切換弁２８の切換制御とを行う。このため、制
御ユニットＵには、切換弁２８よりも接続端子１Ａ〜３
Ｂ側において通路２４に接続された圧力センサＰＳから
の圧力信号が入力される。勿論、圧力センサＰＳは、接
続端子２５Ａ〜２７Ｂの圧力（後述する吸盤内の圧力）
を検出するものとなる。

【００２８】図２において、３１Ａ〜３３Ｂは電極、４
１Ａ〜４３Ｂは吸盤である。この電極３１Ａ〜３３Ｂ
は、対応する吸盤４１Ａ〜４３Ｂ内に配設されており、
その一例が図３に示される。図３では、電極３１Ａと吸
盤４１Ａとを例に示してあるが、他の電極、吸盤も同じ
ように構成されている。この図３において、電極３１Ａ
は、スポンジ等の導電性部材３４を介して、患者の体表
面３５に接触される。吸盤４１Ａ内が負圧吸引されるこ
とにより、吸盤４１Ａが体表面３５に吸着され、これに
より電極３１Ａが、導電性部材３４を介して体表面３５
に電気的に確実に接触（接続）されることになる。

【００２９】再び、図２において、各電極３１Ａ〜３３
Ｂは、個々独立して、電気配線を介して接続ジャック５
１Ａ〜５３Ｂに接続される。同様に、各吸盤４１Ａ〜４
３Ｂは、個々独立して、負圧配管を介して上記接続ジャ
ック５１Ａ〜５３Ｂに接続される。上記電気配線と負圧
配管とは、各電極（各吸盤）毎に１本の可撓性を有する
接続コード６１Ａ〜６３Ｂにまとめられている。

【００３０】接続端子１Ａ〜３Ｂと、接続ジャック５１
Ａ〜５３Ｂとの接続構造の一例が、図４に示される。図
４では、１Ａと５１Ａとを例にして示してあるが、他の
接続端子と接続ジャックとも同じように構成されてい
る。まず、接続端子１Ａは、絶縁機能を有するその本体
７１内に弁室７２を有し、弁室７２の基端部側に対して
前記分岐通路２５Ａが接続されている。弁室７２の先端
部側は、接続通路７３を介して外部に開口されている。
この接続通路７３の内面には、電気的接続用の導電性部
材７３ａが固定配置され、導線性部材７３ａに対して、
図１で説明したような高周波電気信号が印加される。

【００３１】弁室７２内には、逆止弁７４が構成されて
いる。この逆止弁７４は、接続通路７３の基端部に形成
された弁座７５と、弁座７５に離着座されるボール７６
と、ボール７６を弁座７５に向けて付勢するスプリング
７７とから構成されている。スプリング７７の付勢力
は、分岐通路２５Ａ側から最大負圧でもって吸引された
ときでも、ボール７６が弁座７７に着座されるような大
きさとされている。

【００３２】一方接続ジャック５１Ａは、導電性部材か
らなる細長い嵌合部８１を有する。この嵌合部８１は、
円筒状とされて、前記接続通路７３に対してがたつきな
く挿入できる太さとされている。そして、嵌合部８１を
接続通路７３に所定深さ挿入した状態では、嵌合部８１
がスプリング７７に抗してボール７６を押圧、変位させ
て、接続通路７３を開く。この状態では、嵌合部８１
が、弁室７２を介して分岐通路２５Ａに連通されて、当
該分岐通路２５Ａを吸盤４１Ａと連通させる。また、嵌
合部８１の外周面が導電性部材７３ａに接触される（電
極３１Ａへの通電）。なお、図示は略すが、嵌合部８１
は例えばクリック機構等によって、接続通路７３から容
易には嵌合はずれしないようにされている。

【００３３】図５は、前述した各接続端子１Ａ〜３Ｂ
の、低周波治療器に対する配置例を示すが、図中８１は
低周波治療器の本体ケースである。図５の配置例では、
接続端子１Ａ〜２Ｂが、４極干渉低周波治療用として用
いられるために、集合状態で配置される。また、残る２
つの接続端子３Ａ、３Ｂは、６極干渉低周波治療のとき
にのみ用いられる関係上、上記４つの接続端子１Ａ〜２
Ｂとは離間した位置とされている。図５において、符号
８２〜８４は、対となる接続端子を明確に示すための色
分け表示（線状）である。

【００３４】実施形態において、干渉低周波治療は例え
ば次のようにして行われる。まず、６極干渉低周波治療
の場合は、６個の電極３１Ａ〜３３Ｂ（６個の吸盤４１
Ａ〜４３Ｂ）が用いられる。例えば、患者の膝を治療す
るとき、第１組の電極３１Ａと３１Ｂとが、膝の表と裏
に配置（吸着）される（Ｘ軸方向配置）。また、第２組
の電極３２Ａと３２Ｂとが、膝の左と右とに配置される
（Ｙ軸方向配置）。さらに、第３組の電極３３Ａと３３
Ｂとが、膝の前方と後方とに配置される（Ｚ軸方向配
置）。勿論、各電極は、対応する吸盤の体表面への吸着
を利用して、体表面に固定される。

【００３５】各電極３１Ａ〜３３Ｂに、図１で説明した
ような互いに周波数が若干異なる３種類の高周波を印加
することにより、その干渉により生じた低周波による治
療が、立体的に行われることになる。

【００３６】４極干渉低周波治療のときは、電極３１Ａ
〜３２Ｂ（吸盤４１Ａ〜４２Ｂ）のみが用いられ、電極
３３Ａ、３３Ｂ（吸盤４３Ａ、４３Ｂ）は用いられな
い。この使用されない電極３３Ａ、３３Ｂに対応した接
続ジャック５１Ａ、５１Ｂを、接続端子２７Ａ、２７Ｂ
から取外しておくことにより、逆止弁７４の作用によっ
て、使用されない接続端子２７Ａ、２７Ｂからの負圧漏
れが防止される。

【００３７】制御ユニットＵは、マニュアル操作される
各種スイッチの操作状態に応じて、前述した各回路等を
制御するが、このマニュアル操作されるスイッチとして
は、例えば次のようなものが含まれる。まず、干渉低周
波の出力関係として、４極干渉治療と６極干渉治療との
切換（変更）スイッチＤ１、基本周波数αの切換スイッ
チＤ２、周波数βの切換スイッチＤ３、変調の有無とそ
の変調度合いの切換スイッチＤ４、バーストの有無とそ
の度合いの切換スイッチＤ５、治療時間（出力時間）の
切換スイッチＤ６、出力の強さの切換スイッチＤ７であ
る。

【００３８】負圧制御のためのスイッチとして、吸引の
ＯＮ、オフ（実行、停止）切換スイッチＰ１、吸引態様
の切換スイッチＰ２、吸引圧の切換スイッチＰ３（例え
ば最小３０ｍｍＨｇ〜最大３００ｍｍＨｇの範囲で設定
可能）、自動吸引モ−ドのＯＮ、オフ切換スイッチＰ
４、吸引開始の指令スイッチＰ５、吸引時間の切換スイ
ッチＰ６（前記スイッチＤ６の治療時間と同じに自動設
定する場合は不要）である。

【００３９】吸盤内の負圧吸引態様としては、例えばモ
−ド１とモ−ド２とが設定される。モ−ド１はさらに、
選択された一定負圧値での連続吸引の他に、この一定負
圧値を中心として上下に所定分だけ吸引負圧を高周波で
もって変化させる変化回数が設定される（例えば１秒あ
たりに、１５回、３０回、６０回、１５〜３０回の間で
の自動可変、３０〜６０回の間での自動可変）が設定さ
れている。また、モ−ド２は、吸引負圧の自動可変であ
るが、特にもみ効果のためにゆっくりと負圧を自動変化
させるものであり、例えば『強』、『中』、『弱』の３
種類が設定されている。より具体的には、『強』のとき
は例えば１秒あたり０．３秒だけ電磁弁２８を大気に解
放し、同様に『中』のときは０．２秒開放し、『弱』の
ときは０．１秒だけ解放する。

【００４０】自動吸引モ−ドがＯＮされたときは、マニ
ュアル設定された負圧吸引態様に優先して、吸引開始時
からの第１所定時間と、マニュアル設定された吸引時間
終了から第２所定時間との間だけ、自動設定される一定
負圧値でもって連続吸引を行うものである。この自動吸
引モ−ドの制御内容が、図７に図式的に示されるが、図
７では、マニュアル設定された負圧吸引態様が、負圧吸
引中に負圧変化を生じさせる態様とされている。また、
図７では、理想的な圧力変化の様子を示してあり、吸盤
内の実際の負圧変化は図７に示す場合よりも若干の応答
遅れを有するものとなる。

【００４１】この図７について詳述すると、ｔ１が吸引
開始時点であり、ｔ２がｔ１時点から第１所定時間が経
過した時点であり、ｔ３がｔ２時点から所定の設定時間
（治療時間）が経過した時点であり、ｔ４がｔ３時点か
ら第２所定時間が経過した時点である。

【００４２】第１所定時間の間（ｔ１〜ｔ２）は、吸盤
を患者の体表面に吸着させるのに好適な一定負圧の大き
さに自動設定される（例えば１００ｍｍＨｇによる連続
吸引）。ｔ２時点からｔ３時点までの設定時間内は、吸
引負圧がマニュアル選択された態様でもって可変制御さ
れる。なお、この設定時間内での吸引負圧の可変態様
は、あくまで一例であり、例えば正弦波状、ノコギリ歯
状等、適宜の負圧変化態様を採択することができる。

【００４３】ｔ３時点からｔ４時点までの第２所定時間
の間は、吸引負圧が一定値（第２の一定負圧値）とされ
るが、このときの負圧の大きさは、吸盤が体表面から落
下しない範囲で、極力小さく設定するのが好ましい。実
施形態では、設定時間内での変化する吸引負圧のうち最
小負圧値として設定されているが、マニュアル選択可能
な最小負圧値とするのが好ましい（実施形態では前述の
ように選択可能な最小負圧値は３０ｍｍＨｇである）。

【００４４】上記第１所定時間および第２所定時間の間
における一定負圧の大きさは、ｔ２〜ｔ３の間での設定
時間内での負圧変化の再の最大負圧や最低負圧の大きさ
にかかわらず、専用の負圧値として自動設定される（こ
のことは、ｔ２〜ｔ３の間の吸引負圧が一定値にマニュ
アル設定されている場合も同じ）。第１所定時間内での
一定負圧値と、第２所定時間内での一定負圧値とは、互
いに同じ大きさに設定することもできるが、異ならせる
のが好ましい（第２所定時間内での一定負圧値の方が、
第１所定時間内での一定負圧値よりも小さい負圧とする
のが好ましい−第２所定時間内では吸盤の落下を防止す
ればよいので）。

【００４５】図８は、制御ユニットＵによる前述した吸
引負圧の制御例を示すフロ−チャ−トであり、以下の説
明でＱはステップを示す。マニュアル操作による吸引開
始の指令操作が検出されことによりスタートされて、ま
ずＱ１において、自動吸引モ−ドが選択されているか否
かが判別される。Ｑ１の判別でＹＥＳのときは、Ｑ２に
おいて、第１所定時間が経過したか否かが判別される。
当初は、Ｑ２の判別でＮＯとなり、このときは、Ｑ３に
おいて、吸引負圧が、吸盤を体表面に吸着させるのに好
適な一定負圧値に自動設定される（ｔ１〜ｔ２で）。Ｑ
３が、制御ユニットＵ内に構成された開始時制御手段
（制御部）に対応したものとなる。

【００４６】やがてｔ２時点となることにより、Ｑ２の
判別でＹＥＳとなり、このときは、Ｑ４において、設定
時間が経過したか否か、つまりｔ３時点となったか否か
が判別される。当初はＱ４の判別でＮＯとなって、この
ときはＱ５において、吸引負圧が可変制御される（ｔ２
〜ｔ３）。

【００４７】やがて、Ｑ４の判別でＹＥＳとなり、この
ときは、Ｑ６において、第２所定時間が経過したか否か
が判別される。当初は、Ｑ６の判別でＮＯとなり、この
ときはＱ７において、吸盤の落下を防止するのに好適な
一定負圧値に自動設定される。Ｑ７が、制御ユニットＵ
内に構成された終了時制御手段（制御部）に対応したも
のとなる。Ｑ６の判別でＹＥＳのときとなると、Ｑ８に
おいて、負圧吸引が終了、つまり吸引負圧が零とされ
る。

【００４８】前記Ｑ１の判別でＮＯのときは、Ｑ９に移
行して、マニュアル選択された設定時間つまり治療時間
が経過したか否か（ｔ３時点であるか否か）が判別され
る。このＱ６の判別でＮＯのときは、Ｑ１０において、
マニュアル設定されたとおりの吸引負圧の制御がそのま
ま実行される。Ｑ９の判別でＹＥＳのときは、Ｑ６に移
行する。

【００４９】ここで、Ｑ９の判別でＹＥＳのときとなっ
たときは、Ｑ８に移行させるようにしてもよい（自動吸
引モ−ドが選択されていないときは、終了時負圧制御を
行わない）。第２所定時間内において自動吸引モ−ドの
選択がオフされたときは、ただちにＱ８に移行させるよ
うにすることができ、あるいはｔ２〜ｔ３のマニュアル
設定された負圧吸引態様にただちに復帰させるようにす
ることもできる。

【００５０】以上実施形態について説明したが、本発明
はこれに限らず、例えば次のような場合をも含むもので
ある。高周波を利用することなく、低周波のみの信号を
直接患者に付与する形式の低周波治療器にも適用でき
る。第１所定時間、第２所定時間の少なくとも一方ある
いは両方を、使用する電極（吸盤）の数が多いほど長く
なるように変更することもできる。また、第１所定時
間、第２所定時間の少なくとも一方あるいは両方を、マ
ニュアル選択により変更するようにすることもできる。

【００５１】使用しない一部の吸盤への負圧伝達の防止
（負圧漏れ防止）のために、図４で示すような構造のも
のは、６極干渉低周波治療のみに用いる電極３３Ａ、３
３Ｂについてのみに用いるようにしてもよい。また、図
４に示す構造の代わりにあるいは加えて、図２の一点鎖
線で示すように、上記電極３３Ａ、３３Ｂに対応した負
圧通路に電磁開閉弁８５を設けて、当該電極３３Ａ、３
３Ｂを使用しないときはこの電磁弁を閉じておくように
することもできる。

【００５２】フロ−チャ−トに示す各ステップあるいは
センサやスイッチ等の各種部材は、その機能の上位表現
に手段の名称を付して表現することができる。また、本
発明の目的は、明記されたものに限らず、実質的に好ま
しいあるいは利点として表現されたものを提供すること
をも暗黙的に含むものである。さらに、本発明は、制御
方法として表現することも可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態を示すもので、電気信号系
統を示す図。

【図２】本発明の一実施形態を示すもので、負圧系統を
示す図。

【図３】電極付き吸盤の一例を示す簡略側面断面図。

【図４】接続端子部分の詳細を示す断面図。

【図５】低周波治療器に設けた接続端子の配置例を示す
図。

【図６】高周波信号が変化される様子を示す図。

【図７】本発明の制御例を示すタイムチャ−ト。

【図８】本発明の制御例を示すフロ−チャ−ト。

【符号の説明】

１Ａ〜３Ｂ：接続端子 １１：周波数発生回路（高周波発生） １６：周波数設定回路（低周波発生） １５Ｂ、１５Ｃ：周波数変換回路（干渉用高周波発生） ２３：ポンプ（負圧発生） ５１Ａ〜５３Ｂ：接続ジャック ３１Ａ〜３３Ｂ：電極 ４１Ａ〜４３Ｂ：吸盤 Ｕ：制御ユニット

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】負圧吸引される吸盤内に電極が装備され、
   所定の負圧吸引態様でもって該吸盤内に対して負圧吸引
   を行うようにした低周波治療器における吸引装置におい
   て、 負圧吸引の開始から第１所定時間経過するまでは、前記
   所定の負圧吸引態様に優先して、自動設定される一定負
   圧値でもって連続吸引を行う開始時制御手段を備えてい
   る、ことを特徴とする低周波治療器における吸引装置。
2. 【請求項２】請求項１において、 マニュアル操作によって自動吸引モ−ドが選択されてい
   るときのみ、前記開始時制御手段が作動される、ことを
   特徴とする低周波治療器における吸引装置。
3. 【請求項３】請求項１において、 使用する電極の数およびこれに対応した吸盤の数が、マ
   ニュアル選択によって変更可能とされ、 前記第１所定時間が、使用する電極の数が大きいときは
   小さいときに比して長くなるように変更される、ことを
   特徴とする低周波治療器における吸引装置。
4. 【請求項４】請求項１において、 前記所定の負圧吸引態様として、負圧吸引中に吸引負圧
   の大きさが自動的に変化される態様がマニュアル操作に
   よって選択可能とされている、ことを特徴とする低周波
   治療器における吸引装置。
5. 【請求項５】請求項１において、 前記所定の負圧吸引態様での負圧吸引の終了から第２所
   定時間経過するまでは、自動設定される第２の一定負圧
   値でもって連続吸引を行う終了時制御手段を備えてい
   る、 ことを特徴とする低周波治療器における吸引装置。
6. 【請求項６】負圧吸引される吸盤内に電極が装備され、
   所定の負圧吸引態様でもって該吸盤内に対して負圧吸引
   を行うようにした低周波治療器における吸引装置におい
   て、 前記所定の負圧吸引態様での負圧吸引の終了から第２所
   定時間経過するまでは、自動設定される第２の一定負圧
   値でもって連続吸引を行う終了時制御手段を備えてい
   る、ことを特徴とする低周波治療器における吸引装置。
7. 【請求項７】請求項６において、 マニュアル操作によって自動吸引モ−ドが選択されてい
   るときのみ、前記終了時制御手段が作動される、ことを
   特徴とする低周波治療器における吸引装置。
8. 【請求項８】請求項６において、 使用する電極の数およびこれに対応した吸盤の数が、マ
   ニュアル選択によって変更可能とされ、 前記第１所定時間が、使用する電極の数が大きいときは
   小さいときに比して長くなるように変更される、ことを
   特徴とする低周波治療器における吸引装置。
9. 【請求項９】請求項７において、 前記終了時制御手段が作動されている途中で、前記自動
   吸引モ−ドがマニュアル操作によって非選択状態となっ
   たとき、前記所定の負圧吸引態様での負圧吸引状態に復
   帰される、ことを特徴とする低周波治療器における吸引
   装置。
10. 【請求項１０】請求項６において、 前記所定の負圧吸引態様がマニュアル操作によって変更
    可能とされ、 前記マニュアル操作による前記所定の負圧吸引態様の変
    更によって、少なくとも吸引負圧の大きさが変更可能と
    され、 前記第２の一定負圧値が、マニュアル選択可能な最小負
    圧値として設定される、ことを特徴とする低周波治療器
    における吸引装置。
11. 【請求項１１】請求項５において、 前記第２の一定負圧値が、前記開始時制御手段による前
    記一定負圧値よりも小さい負圧値とされている、ことを
    特徴とする低周波治療器における吸引装置。
12. 【請求項１２】請求項５において、 使用する電極の数およびこれに対応した吸盤の数が、マ
    ニュアル選択によって変更可能とされ、 前記第１所定時間および前記第２所定時間がそれぞれ、
    使用する電極の数が大きいときは小さいときに比して長
    くなるように変更される、ことを特徴とする低周波治療
    器における吸引装置。