JPH11212251A - 感光性平版印刷版及び平版印刷版の作製方法 - Google Patents
感光性平版印刷版及び平版印刷版の作製方法Info
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- JPH11212251A JPH11212251A JP1703398A JP1703398A JPH11212251A JP H11212251 A JPH11212251 A JP H11212251A JP 1703398 A JP1703398 A JP 1703398A JP 1703398 A JP1703398 A JP 1703398A JP H11212251 A JPH11212251 A JP H11212251A
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 画像強度、耐刷性及びインキ付着性に優れて
いて、常に良質の印刷画像が安定して得られる等、優れ
た効果を有する感光性平版印刷版及び該感光性平版印刷
版を実質的に有機溶剤を含有しない水系現像液で処理し
て得られる平版印刷版。 【解決手段】 粗面化及び陽極酸化処理が施されたアル
ミニウム支持体上にジアゾ樹脂、光重合開始剤及び付加
重合性不飽和基を有するミクロゲルを含有する感光性組
成物層を設けてなることを特徴とする感光性平版印刷
版。
いて、常に良質の印刷画像が安定して得られる等、優れ
た効果を有する感光性平版印刷版及び該感光性平版印刷
版を実質的に有機溶剤を含有しない水系現像液で処理し
て得られる平版印刷版。 【解決手段】 粗面化及び陽極酸化処理が施されたアル
ミニウム支持体上にジアゾ樹脂、光重合開始剤及び付加
重合性不飽和基を有するミクロゲルを含有する感光性組
成物層を設けてなることを特徴とする感光性平版印刷
版。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版、
特にはネガ型感光性平版印刷版を用いて平版印刷版を作
製する方法に関する。
特にはネガ型感光性平版印刷版を用いて平版印刷版を作
製する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に感光性平版印刷版は、アルミニウ
ム等の親水性支持体上に感光性組成物層(以後、感光性
層ともいう)を設けて得られ、例えば、ネガ型感光性平
版印刷版においては、該アルミニウム支持体上に、紫外
線等の活性光線の露光により不溶化してインク受容性と
なる感光層が形成される。このようなネガ型感光性平版
印刷版では、感光層に画像露光を施し、次いで現像する
と、露光されない部分の感光層は除去されて親水性支持
体の表面が露出する一方、露光部の感光層は支持体に残
留してインキ受容層を形成する。平版印刷においては、
上記露光部が親油性で、露光されない部分が親水性であ
るという性質の差が利用される。
ム等の親水性支持体上に感光性組成物層(以後、感光性
層ともいう)を設けて得られ、例えば、ネガ型感光性平
版印刷版においては、該アルミニウム支持体上に、紫外
線等の活性光線の露光により不溶化してインク受容性と
なる感光層が形成される。このようなネガ型感光性平版
印刷版では、感光層に画像露光を施し、次いで現像する
と、露光されない部分の感光層は除去されて親水性支持
体の表面が露出する一方、露光部の感光層は支持体に残
留してインキ受容層を形成する。平版印刷においては、
上記露光部が親油性で、露光されない部分が親水性であ
るという性質の差が利用される。
【0003】従来、ネガ型感光性平版印刷版を用いた画
像形成方法においては、露光後の現像処理において、有
機溶剤、又は該有機溶剤を含有するアルカリ水溶液で未
露光部の感光層を溶出して画像を形成する方法が一般的
であった。しかしながら、有機溶剤を含有する現像液の
使用は、溶剤の臭気により製版工程の作業環境を劣化さ
せ、かつ作業者の健康に悪影響を与えることが懸念され
ていた。さらにアルカリ水溶液を用いるときは、該アル
カリ水溶液のpHの調整が煩わしく、かつ、該アルカリ
水溶液は手に触れたり、目に入ると危険であることか
ら、水系現像液を用いた現像方式が要請されていた。
像形成方法においては、露光後の現像処理において、有
機溶剤、又は該有機溶剤を含有するアルカリ水溶液で未
露光部の感光層を溶出して画像を形成する方法が一般的
であった。しかしながら、有機溶剤を含有する現像液の
使用は、溶剤の臭気により製版工程の作業環境を劣化さ
せ、かつ作業者の健康に悪影響を与えることが懸念され
ていた。さらにアルカリ水溶液を用いるときは、該アル
カリ水溶液のpHの調整が煩わしく、かつ、該アルカリ
水溶液は手に触れたり、目に入ると危険であることか
ら、水系現像液を用いた現像方式が要請されていた。
【0004】そこで、フォトレジストとして実質的に有
機溶剤を含有しない水系現像液で現像できるものが、特
公昭46−42450号、特公昭50−14162号、
特開昭49−76602号、特開昭50−7605号、
特開昭54−91585号、特開昭54−9585号等
の各号公報に提案されている。
機溶剤を含有しない水系現像液で現像できるものが、特
公昭46−42450号、特公昭50−14162号、
特開昭49−76602号、特開昭50−7605号、
特開昭54−91585号、特開昭54−9585号等
の各号公報に提案されている。
【0005】他方、ネガ型感光性平版印刷版の耐刷性の
向上を目的として、例えば表面に付加重合性不飽和基を
有するミクロゲルを該感光性平版印刷版に含有させる技
術についても、例えば、特開昭58−174402号、
同60−3622号、同60−3623号、特開平2−
263805号、同3−64755号、同3−7575
0号、同3−76704号、同5−45877号、同5
−97915号、同5−150451号、同5−178
946号、同5−249674号、同5−249675
号、同6−161101号、同6−194837号、同
7−11480号、同8−160618号、同8−19
0192号、同8−190197号、同8−22076
6号等の各号公報に提案されている。
向上を目的として、例えば表面に付加重合性不飽和基を
有するミクロゲルを該感光性平版印刷版に含有させる技
術についても、例えば、特開昭58−174402号、
同60−3622号、同60−3623号、特開平2−
263805号、同3−64755号、同3−7575
0号、同3−76704号、同5−45877号、同5
−97915号、同5−150451号、同5−178
946号、同5−249674号、同5−249675
号、同6−161101号、同6−194837号、同
7−11480号、同8−160618号、同8−19
0192号、同8−190197号、同8−22076
6号等の各号公報に提案されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、未だ実
質的に有機溶剤を含有しない水系現像液で現像が可能
で、かつ耐刷性、画像強度及びインキ着肉性に優れたネ
ガ型感光性平版印刷版(以後、PS版ともいう)が見い
だされていないのが現状である。
質的に有機溶剤を含有しない水系現像液で現像が可能
で、かつ耐刷性、画像強度及びインキ着肉性に優れたネ
ガ型感光性平版印刷版(以後、PS版ともいう)が見い
だされていないのが現状である。
【0007】本発明は上記実情に鑑みて提案されたもの
であり、その目的とするところは、実質的に有機溶剤を
含有しない水系現像液で現像が可能で、かつ耐刷性、画
像強度及びインキ着肉性に優れたネガ型感光性平版印刷
版及び該水系現像液で現像処理して平版印刷版を作製す
る方法を提供することにある。
であり、その目的とするところは、実質的に有機溶剤を
含有しない水系現像液で現像が可能で、かつ耐刷性、画
像強度及びインキ着肉性に優れたネガ型感光性平版印刷
版及び該水系現像液で現像処理して平版印刷版を作製す
る方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、下記構成
により達成される。
により達成される。
【0009】1.粗面化処理及び陽極酸化処理が施され
たアルミニウム支持体上にジアゾ樹脂、光重合開始剤及
び表面に付加重合性不飽和基を有するミクロゲルを含有
する感光性組成物層を設けてなることを特徴とする感光
性平版印刷版。
たアルミニウム支持体上にジアゾ樹脂、光重合開始剤及
び表面に付加重合性不飽和基を有するミクロゲルを含有
する感光性組成物層を設けてなることを特徴とする感光
性平版印刷版。
【0010】2.粗面化処理及び陽極酸化処理が施され
たアルミニウム支持体上にジアゾ樹脂及び表面に光架橋
性基を有するミクロゲルを含有する感光性組成物層を設
けてなることを特徴とする感光性平版印刷版。
たアルミニウム支持体上にジアゾ樹脂及び表面に光架橋
性基を有するミクロゲルを含有する感光性組成物層を設
けてなることを特徴とする感光性平版印刷版。
【0011】3.前記粗面化処理及び陽極酸化処理が施
されたアルミニウム支持体を、さらにアルカリ金属珪酸
塩で処理することを特徴とする前記1又は2に記載の感
光性平版印刷版。
されたアルミニウム支持体を、さらにアルカリ金属珪酸
塩で処理することを特徴とする前記1又は2に記載の感
光性平版印刷版。
【0012】4.前記1、2又は3に記載の感光性平版
印刷版を露光した後、未露光部分を実質的に有機溶剤を
含有しない水系現像液を用いて除去することを特徴とす
る平版印刷版の作製方法。
印刷版を露光した後、未露光部分を実質的に有機溶剤を
含有しない水系現像液を用いて除去することを特徴とす
る平版印刷版の作製方法。
【0013】5.前記実質的に有機溶剤を含有しない水
系現像液が水であることを特徴とする前記4に記載の平
版印刷版の作製方法。
系現像液が水であることを特徴とする前記4に記載の平
版印刷版の作製方法。
【0014】以下、本発明を詳細に説明する。
【0015】本発明のPS版はアルミニウム板を粗面化
処理、陽極酸化処理及び好ましくはアルカリ金属珪酸塩
処理して得られたアルミニウム支持体上に感光性組成物
を塗布加工して得られる。
処理、陽極酸化処理及び好ましくはアルカリ金属珪酸塩
処理して得られたアルミニウム支持体上に感光性組成物
を塗布加工して得られる。
【0016】〈アルミニウム支持体の作製〉本発明に使
用されるアルミニウム支持体の作製に用いられるアルミ
ニウム板には、純アルミニウムおよびアルミニウム合金
よりなるものが含まれる。該アルミニウム合金としては
種々のものが使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、
チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金
が用いられる。
用されるアルミニウム支持体の作製に用いられるアルミ
ニウム板には、純アルミニウムおよびアルミニウム合金
よりなるものが含まれる。該アルミニウム合金としては
種々のものが使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、
チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金
が用いられる。
【0017】アルミニウム板は、粗面化に先立ってアル
ミニウム板表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施
すことが好ましい。該脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記溶剤
系脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去
することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ
水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成
するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸
等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬してデスマット処
理を施すことが好ましい。
ミニウム板表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施
すことが好ましい。該脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記溶剤
系脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去
することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ
水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成
するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸
等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬してデスマット処
理を施すことが好ましい。
【0018】上記粗面化処理方法としては、機械的に表
面を粗面化する、所謂る機械的粗面化法と、電気化学的
に表面を粗面化する、所謂る電気化学的粗面化法とがあ
る。機械的粗面化法には、例えばボール研磨、ブラシ研
磨、ブラスト研磨、バフ研磨、ホーニング研磨等の方法
がある。また、電気化学的粗面化法には、例えば塩酸ま
たは硝酸等を含む酸性電解液中で交流または直流によっ
て表面を電解処理する方法がある。この内の1つ、もし
くは2つ以上の方法を併用することにより、支持体を粗
面化することができる。
面を粗面化する、所謂る機械的粗面化法と、電気化学的
に表面を粗面化する、所謂る電気化学的粗面化法とがあ
る。機械的粗面化法には、例えばボール研磨、ブラシ研
磨、ブラスト研磨、バフ研磨、ホーニング研磨等の方法
がある。また、電気化学的粗面化法には、例えば塩酸ま
たは硝酸等を含む酸性電解液中で交流または直流によっ
て表面を電解処理する方法がある。この内の1つ、もし
くは2つ以上の方法を併用することにより、支持体を粗
面化することができる。
【0019】電気化学的粗面化法における電解粗面化処
理については、例えば、特公昭48−28123号公
報、英国特許第896563号明細書、特開昭53−6
7507号公報に記載されており、本発明においては、
これらの方法を用いることができる。
理については、例えば、特公昭48−28123号公
報、英国特許第896563号明細書、特開昭53−6
7507号公報に記載されており、本発明においては、
これらの方法を用いることができる。
【0020】電気化学的粗面化法において印加される電
圧は、1〜50ボルトが好ましく、2〜30ボルトが更
に好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2が好
ましく、20〜150A/dm2が更に好ましい。電気
量は、100〜10000C/dm2、好ましくは20
0〜5000C/dm2、より好ましくは500〜30
00C/dm2である。温度は、10〜50℃が好まし
く、15〜45℃が更に好ましい。塩酸又は硝酸濃度は
0.01〜5重量%が好ましい。電解溶液には、必要に
応じて硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐
酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることが出
来る。
圧は、1〜50ボルトが好ましく、2〜30ボルトが更
に好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2が好
ましく、20〜150A/dm2が更に好ましい。電気
量は、100〜10000C/dm2、好ましくは20
0〜5000C/dm2、より好ましくは500〜30
00C/dm2である。温度は、10〜50℃が好まし
く、15〜45℃が更に好ましい。塩酸又は硝酸濃度は
0.01〜5重量%が好ましい。電解溶液には、必要に
応じて硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐
酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることが出
来る。
【0021】粗面化処理に2つ以上の粗面化法を組み合
わせる場合は、各処理の間に酸またはアルカリの水溶液
に浸漬して化学的エッチング処理を行うことが好まし
い。酸としては、例えば硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝
酸、塩酸等が含まれ、塩基としては、例えば、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等が含まれる。これらの中で
もアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。これらの酸
またはアルカリの0.05〜40重量%水溶液を用い4
0〜100℃の液温において5〜300秒処理すること
が好ましい。
わせる場合は、各処理の間に酸またはアルカリの水溶液
に浸漬して化学的エッチング処理を行うことが好まし
い。酸としては、例えば硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝
酸、塩酸等が含まれ、塩基としては、例えば、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等が含まれる。これらの中で
もアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。これらの酸
またはアルカリの0.05〜40重量%水溶液を用い4
0〜100℃の液温において5〜300秒処理すること
が好ましい。
【0022】上記アルカリ水溶液で浸漬処理を行った場
合、アルミニウム板の表面にはスマットが生成するの
で、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の
酸、あるいはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施
すことが好ましい。
合、アルミニウム板の表面にはスマットが生成するの
で、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の
酸、あるいはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施
すことが好ましい。
【0023】粗面化処理されたアルミニウム板は、次い
で陽極酸化処理が施されて本発明のアルミニウム支持体
が得られる。陽極酸化処理に用いられる電解液としては
多孔質酸化皮膜を形成するものならばいかなるものでも
使用でき、一般には硫酸、燐酸、蓚酸、クロム酸、スル
ファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはこれらの2
種類以上を組み合わせた混酸が用いられる。陽極酸化の
処理条件は使用する電解液により種々変化するので一概
に特定し得ないが、一般的には、電解液の濃度が1〜8
0重量%、温度5〜70℃、電流密度1〜60A/dm
2、電圧1〜100ボルト、電解時間10秒〜5分の範
囲が適当である。好ましいのは硫酸法で、通常直流電流
で処理が行われるが、交流を用いることもできる。通常
硫酸の濃度は10〜50重量%、温度20〜50℃、電
流密度1〜20A/dm2で20〜250秒間電解処理
されるのが好ましい。電解液中にはアルミニウムイオン
が含まれている方が好ましい。
で陽極酸化処理が施されて本発明のアルミニウム支持体
が得られる。陽極酸化処理に用いられる電解液としては
多孔質酸化皮膜を形成するものならばいかなるものでも
使用でき、一般には硫酸、燐酸、蓚酸、クロム酸、スル
ファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはこれらの2
種類以上を組み合わせた混酸が用いられる。陽極酸化の
処理条件は使用する電解液により種々変化するので一概
に特定し得ないが、一般的には、電解液の濃度が1〜8
0重量%、温度5〜70℃、電流密度1〜60A/dm
2、電圧1〜100ボルト、電解時間10秒〜5分の範
囲が適当である。好ましいのは硫酸法で、通常直流電流
で処理が行われるが、交流を用いることもできる。通常
硫酸の濃度は10〜50重量%、温度20〜50℃、電
流密度1〜20A/dm2で20〜250秒間電解処理
されるのが好ましい。電解液中にはアルミニウムイオン
が含まれている方が好ましい。
【0024】陽極酸化処理されたアルミニウム支持体
は、次いで必要により封孔処理を施してもよい。封孔処
理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、アルカリ金
属珪酸塩処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処
理、酢酸アンモニウム塩処理、フッ化ジルコン酸溶液処
理等の公知の方法を用いて行うことができる。
は、次いで必要により封孔処理を施してもよい。封孔処
理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、アルカリ金
属珪酸塩処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処
理、酢酸アンモニウム塩処理、フッ化ジルコン酸溶液処
理等の公知の方法を用いて行うことができる。
【0025】上記封孔処理の中でも、特にアルカリ金属
珪酸塩処理は得られるPS版の耐刷性及び階調性を向上
させることから好ましく用いられる。なお、上記アルカ
リ金属珪酸処理は封孔処理と後述する親水性化処理とを
兼ねることができ、さらには該アルカリ金属珪酸塩以外
の封孔処理液で処理した後さらに該アルカリ金属珪酸塩
を用いて親水性化処理を行ってもよい。
珪酸塩処理は得られるPS版の耐刷性及び階調性を向上
させることから好ましく用いられる。なお、上記アルカ
リ金属珪酸処理は封孔処理と後述する親水性化処理とを
兼ねることができ、さらには該アルカリ金属珪酸塩以外
の封孔処理液で処理した後さらに該アルカリ金属珪酸塩
を用いて親水性化処理を行ってもよい。
【0026】上記アルカリ金属珪酸塩の具体的化合物と
しては、水和の度合により多くの種類があり、好ましく
は〔SiO2〕/〔M〕(式中、〔SiO2〕はSiO2
のモル濃度を、〔M〕はアルカリ金属のモル濃度を表
す)が0.5〜1.2の範囲のものであり、通常はオル
トケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、オルトケ
イ酸カリウム又はメタケイ酸カリウム等が好ましく用い
られる。
しては、水和の度合により多くの種類があり、好ましく
は〔SiO2〕/〔M〕(式中、〔SiO2〕はSiO2
のモル濃度を、〔M〕はアルカリ金属のモル濃度を表
す)が0.5〜1.2の範囲のものであり、通常はオル
トケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、オルトケ
イ酸カリウム又はメタケイ酸カリウム等が好ましく用い
られる。
【0027】上記アルカリ金属珪酸塩処理にはアルカリ
金属珪酸塩水溶液が用いられ、該アルカリ金属珪酸塩水
溶液の濃度としては、0.05〜5.0重量%が好まし
く、さらに好ましくは0.5〜2.0重量%である。ア
ルカリ金属珪酸塩水溶液のpHとしては10〜13が好
ましく、さらに好ましくは11〜13である。
金属珪酸塩水溶液が用いられ、該アルカリ金属珪酸塩水
溶液の濃度としては、0.05〜5.0重量%が好まし
く、さらに好ましくは0.5〜2.0重量%である。ア
ルカリ金属珪酸塩水溶液のpHとしては10〜13が好
ましく、さらに好ましくは11〜13である。
【0028】アルカリ金属珪酸塩水溶液での処理は、1
0〜90℃で行うのが好ましく、さらに好ましくは30
〜90℃で行うことである。処理時間としては、1〜1
20秒が好ましい。
0〜90℃で行うのが好ましく、さらに好ましくは30
〜90℃で行うことである。処理時間としては、1〜1
20秒が好ましい。
【0029】封孔処理されたアルミニウム支持体は次い
で、親水性化処理を行ってもよい。親水性化処理には、
米国特許第3,181,461号明細書に記載のアルカ
リ金属珪酸塩、米国特許第1,860,426号明細書
に記載の親水性セルロース、特開昭60−149491
号公報、特開昭63−165183号公報に記載のアミ
ノ酸およびその塩、特開昭60−232998号公報に
記載の水酸基を有するアミン類およびその塩、特開昭6
2−19494号公報に記載の燐酸塩、特開昭59−1
01651号公報に記載のスルホ基を有するモノマー単
位を含む高分子化合物等を用いることができる。
で、親水性化処理を行ってもよい。親水性化処理には、
米国特許第3,181,461号明細書に記載のアルカ
リ金属珪酸塩、米国特許第1,860,426号明細書
に記載の親水性セルロース、特開昭60−149491
号公報、特開昭63−165183号公報に記載のアミ
ノ酸およびその塩、特開昭60−232998号公報に
記載の水酸基を有するアミン類およびその塩、特開昭6
2−19494号公報に記載の燐酸塩、特開昭59−1
01651号公報に記載のスルホ基を有するモノマー単
位を含む高分子化合物等を用いることができる。
【0030】さらに、PS版を重ねたときの感光層への
擦れ傷を防ぐために、また、現像時、現像液中へのアル
ミニウム成分の溶出を防ぐために、特開昭50−151
136、特開昭57−63293、特開昭60−735
38、特開昭61−67863、特開平6−35174
等の各号公報に記載されている支持体裏面への保護層を
設ける処理を行うことができる。
擦れ傷を防ぐために、また、現像時、現像液中へのアル
ミニウム成分の溶出を防ぐために、特開昭50−151
136、特開昭57−63293、特開昭60−735
38、特開昭61−67863、特開平6−35174
等の各号公報に記載されている支持体裏面への保護層を
設ける処理を行うことができる。
【0031】〈感光性組成物〉本発明の感光層を形成す
る感光性組成物において、1つには光重合開始剤及び表
面に付加重合性不飽和基を有するミクロゲルと共にジア
ゾ樹脂を含有させた点に特長があり、また2つには光架
橋性基を有するミクロゲルと共にジアゾ樹脂を含有させ
た点に特長がある。
る感光性組成物において、1つには光重合開始剤及び表
面に付加重合性不飽和基を有するミクロゲルと共にジア
ゾ樹脂を含有させた点に特長があり、また2つには光架
橋性基を有するミクロゲルと共にジアゾ樹脂を含有させ
た点に特長がある。
【0032】《ジアゾ樹脂》本発明の感光性組成物に含
有されるジアゾ樹脂は、例えば、芳香族ジアゾニウム塩
とホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物
であり、特に好ましくは、p−ジアゾフェニルアミンと
ホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドとの縮合物の
塩、例えばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラフルオロ
ホウ酸塩、過塩素酸塩又は過ヨウ素酸塩と該縮合物との
反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米国特許第3,
300,309号明細書中に記載されているような、該
縮合物とスルホン酸類との反応生成物であるジアゾ樹脂
有機塩等が挙げられる。さらにジアゾ樹脂は、好ましく
は結合剤と共に使用される。かかる結合剤としては種々
の高分子化合物を使用することができるが、好ましくは
特開昭54−98613号公報に記載されているような
芳香族性水酸基を有する単量体、例えばN−(4−ヒド
ロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキ
シフェニル)メタクリルアミド、o−、m−、又はp−
ヒドロキシスチレン、o−、m−、又はp−ヒドロキシ
フェニルメタクリレート等と他の単量体との共重合体、
米国特許第4,123,276号明細書中に記載されて
いるようなヒドロキシエチルアクリレート構造単位また
はヒドロキシエチルメタクリレート構造単位を主要繰り
返し単位として含むポリマー、シェラック、ロジン等の
天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許第3,75
1,257号明細書中に記載されているような線状ポリ
ウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタレート化樹
脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから縮合さ
れたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロースアセテ
ートフタレート等のセルロース誘導体が包含される。
有されるジアゾ樹脂は、例えば、芳香族ジアゾニウム塩
とホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物
であり、特に好ましくは、p−ジアゾフェニルアミンと
ホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドとの縮合物の
塩、例えばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラフルオロ
ホウ酸塩、過塩素酸塩又は過ヨウ素酸塩と該縮合物との
反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米国特許第3,
300,309号明細書中に記載されているような、該
縮合物とスルホン酸類との反応生成物であるジアゾ樹脂
有機塩等が挙げられる。さらにジアゾ樹脂は、好ましく
は結合剤と共に使用される。かかる結合剤としては種々
の高分子化合物を使用することができるが、好ましくは
特開昭54−98613号公報に記載されているような
芳香族性水酸基を有する単量体、例えばN−(4−ヒド
ロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキ
シフェニル)メタクリルアミド、o−、m−、又はp−
ヒドロキシスチレン、o−、m−、又はp−ヒドロキシ
フェニルメタクリレート等と他の単量体との共重合体、
米国特許第4,123,276号明細書中に記載されて
いるようなヒドロキシエチルアクリレート構造単位また
はヒドロキシエチルメタクリレート構造単位を主要繰り
返し単位として含むポリマー、シェラック、ロジン等の
天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許第3,75
1,257号明細書中に記載されているような線状ポリ
ウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタレート化樹
脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから縮合さ
れたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロースアセテ
ートフタレート等のセルロース誘導体が包含される。
【0033】さらにジアゾ樹脂として好ましくは、ジア
ゾジフェニルアミンと分子内にカルボニル基、スルホニ
ル基から選ばれる少なくとも一つの基を有する芳香族化
合物との共縮合樹脂であることである。共縮合の比率
は、モル比で、ジアゾジフェニルアミン/芳香族化合物
=30/70〜95/5であり、特に好ましくはジアゾ
ジフェニルアミンとp−ヒドロキシ安息香酸との共縮合
物で、モル比が50/50〜80/20である。
ゾジフェニルアミンと分子内にカルボニル基、スルホニ
ル基から選ばれる少なくとも一つの基を有する芳香族化
合物との共縮合樹脂であることである。共縮合の比率
は、モル比で、ジアゾジフェニルアミン/芳香族化合物
=30/70〜95/5であり、特に好ましくはジアゾ
ジフェニルアミンとp−ヒドロキシ安息香酸との共縮合
物で、モル比が50/50〜80/20である。
【0034】さらに本発明において好ましいジアゾ樹脂
は、芳香族ジアゾニウム化合物とカルボニル化合物との
縮合樹脂である。
は、芳香族ジアゾニウム化合物とカルボニル化合物との
縮合樹脂である。
【0035】この縮合樹脂においては、下記一般式
(1)又は(2)で表される構造を有するジアゾ樹脂を
用いるのが好ましい。
(1)又は(2)で表される構造を有するジアゾ樹脂を
用いるのが好ましい。
【0036】
【化1】
【0037】(式中、Rは水素原子、アルキル基又はフ
ェニル基を表し、R1、R2及びR3はそれぞれ水素原
子、アルコキシ基、又はアルキル基を表し、Xは対アニ
オンを表す。Yは−NH−、−O−又は−S−を表す。
nは整数を表す。)
ェニル基を表し、R1、R2及びR3はそれぞれ水素原
子、アルコキシ基、又はアルキル基を表し、Xは対アニ
オンを表す。Yは−NH−、−O−又は−S−を表す。
nは整数を表す。)
【0038】
【化2】
【0039】(式中、Aは縮合可能な芳香族性基を表
し、R、R1、R2、R3、X、Y、nは前記一般式
(1)で用いられたものと同義である。) 上記一般式(1)及び(2)で表されるジアゾ樹脂を構
成する構造単位としての芳香族ジアゾニウム化合物とし
ては、例えば、特公昭49−48001号公報に挙げら
れるようなジアゾニウム塩を用いることができるが、特
にジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩類が好まし
い。ジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩類は4−ア
ミノジフェニルアミン類から誘導されるが、このような
4−アミノジフェニルアミン類としては、4−アミノジ
フェニルアミン、4−アミノ−3−メトキシジフェニル
アミン、4−アミノ−2−メトキシジフェニルアミン、
4′−アミノ−2−メトキシジフェニルアミン、4′−
アミノ−4−メトキシジフェニルアミン、4−アミノ−
3−メチルジフェニルアミン、4−アミノ−3−エトキ
シジフェニルアミン、4−アミノ−3−(β−ヒドロキ
シエトキシ)ジフェニルアミン、4−アミノジフェニル
アミン−2−スルホン酸、4−アミノジフェニルアミン
−2−カルボン酸、4−アミノジフェニルアミン−2′
−カルボン酸等を挙げることができる。これらの内、特
に好ましいものとしては、4−アミノジフェニルアミ
ン、4−アミノ−3−メトキシジフェニルアミンを挙げ
ることができる。
し、R、R1、R2、R3、X、Y、nは前記一般式
(1)で用いられたものと同義である。) 上記一般式(1)及び(2)で表されるジアゾ樹脂を構
成する構造単位としての芳香族ジアゾニウム化合物とし
ては、例えば、特公昭49−48001号公報に挙げら
れるようなジアゾニウム塩を用いることができるが、特
にジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩類が好まし
い。ジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩類は4−ア
ミノジフェニルアミン類から誘導されるが、このような
4−アミノジフェニルアミン類としては、4−アミノジ
フェニルアミン、4−アミノ−3−メトキシジフェニル
アミン、4−アミノ−2−メトキシジフェニルアミン、
4′−アミノ−2−メトキシジフェニルアミン、4′−
アミノ−4−メトキシジフェニルアミン、4−アミノ−
3−メチルジフェニルアミン、4−アミノ−3−エトキ
シジフェニルアミン、4−アミノ−3−(β−ヒドロキ
シエトキシ)ジフェニルアミン、4−アミノジフェニル
アミン−2−スルホン酸、4−アミノジフェニルアミン
−2−カルボン酸、4−アミノジフェニルアミン−2′
−カルボン酸等を挙げることができる。これらの内、特
に好ましいものとしては、4−アミノジフェニルアミ
ン、4−アミノ−3−メトキシジフェニルアミンを挙げ
ることができる。
【0040】上記一般式(2)において、Aで表される
芳香族性基を与えるために用いることができる芳香族化
合物の具体例としては、m−クロロ安息香酸、ジフェニ
ル酢酸、フェノキシ酢酸、p−メトキシフェニル酢酸、
p−メトキシ安息香酸、2,4−ジメトキシ安息香酸
2,4−ジメチル安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、
4−アニリノ安息香酸、4−(m−メトキシアニリノ)
安息香酸、4−(p−メチルベンゾイル)安息香酸、4
−(p−メチルアニリノ)安息香酸、フェノール、クレ
ゾール、キシレノール、レゾルシン、2−メチルレゾル
シン、メトキシフェノール、エトキシフェノール、カテ
コール、フロログルシン、p−ヒドロキシエチルフェノ
ール、ナフトール、ピロガロール、ヒドロキノン、p−
ヒドロキシベンジルアルコール、4−クロロレゾルシ
ン、ビフェニル−4,4′−ジオール、1,2,4−ベ
ンゼントリオール、ビスフェノールA、2,4−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、p−ヒドロキシアセトフェノン、4,
4′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4′−ジ
メトキシジフェニルエーテル、4,4′−ジヒドロキシ
ジフェニルアミン、4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルフィド、クミルフェノール、クロロフェノール、ブ
ロモフェノール、サリチル酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、2−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,4−ジ
ヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、
3,5−ジヒドロキシ安息香酸、4−クロロ−2,6−
ジヒドロキシ安息香酸、4−メトキシ−2,6−ジヒド
ロキシ安息香酸、没食子酸、フロログリシンカルボン
酸、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、
桂皮酸、桂皮酸メチル、桂皮酸エチル、p−ヒドロキシ
桂皮酸、スチレン、ヒドロキシスチレン、スチルベン、
4−ヒドロキシスチルベン、4,4′−ジヒドロキシス
チルベン、4−カルボキシスチルベン、4,4′−ジカ
ルボキシスチルベン、ジフェノールエーテル、ジフェニ
ルアミン、ジフェニルチオエーテル、4−メトキシジフ
ェニルエーテル、4−メトキシジフェニルアミン、4−
メトキシジフェニルチオエーテル等を挙げることができ
る。
芳香族性基を与えるために用いることができる芳香族化
合物の具体例としては、m−クロロ安息香酸、ジフェニ
ル酢酸、フェノキシ酢酸、p−メトキシフェニル酢酸、
p−メトキシ安息香酸、2,4−ジメトキシ安息香酸
2,4−ジメチル安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、
4−アニリノ安息香酸、4−(m−メトキシアニリノ)
安息香酸、4−(p−メチルベンゾイル)安息香酸、4
−(p−メチルアニリノ)安息香酸、フェノール、クレ
ゾール、キシレノール、レゾルシン、2−メチルレゾル
シン、メトキシフェノール、エトキシフェノール、カテ
コール、フロログルシン、p−ヒドロキシエチルフェノ
ール、ナフトール、ピロガロール、ヒドロキノン、p−
ヒドロキシベンジルアルコール、4−クロロレゾルシ
ン、ビフェニル−4,4′−ジオール、1,2,4−ベ
ンゼントリオール、ビスフェノールA、2,4−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、p−ヒドロキシアセトフェノン、4,
4′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4′−ジ
メトキシジフェニルエーテル、4,4′−ジヒドロキシ
ジフェニルアミン、4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルフィド、クミルフェノール、クロロフェノール、ブ
ロモフェノール、サリチル酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、2−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,4−ジ
ヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、
3,5−ジヒドロキシ安息香酸、4−クロロ−2,6−
ジヒドロキシ安息香酸、4−メトキシ−2,6−ジヒド
ロキシ安息香酸、没食子酸、フロログリシンカルボン
酸、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、
桂皮酸、桂皮酸メチル、桂皮酸エチル、p−ヒドロキシ
桂皮酸、スチレン、ヒドロキシスチレン、スチルベン、
4−ヒドロキシスチルベン、4,4′−ジヒドロキシス
チルベン、4−カルボキシスチルベン、4,4′−ジカ
ルボキシスチルベン、ジフェノールエーテル、ジフェニ
ルアミン、ジフェニルチオエーテル、4−メトキシジフ
ェニルエーテル、4−メトキシジフェニルアミン、4−
メトキシジフェニルチオエーテル等を挙げることができ
る。
【0041】また、本発明において好ましいジアゾ化合
物は、分子内にカルボキシル基を含有するものである。
分子内にカルボキシル基を有するジアゾ化合物の好まし
い例としては、上記一般式(2)において、Aで表され
る芳香族性基中にカルボキシル基を含有する構造を有す
るジアゾ樹脂が挙げられる。この際、Aで表される芳香
族性基を与えるために用いることができる芳香族化合物
の好ましい具体例としては、p−ヒドロキシ安息香酸、
p−メトキシ安息香酸、p−ヒドロキシ桂皮酸、フェノ
キシ酢酸が挙げられる。
物は、分子内にカルボキシル基を含有するものである。
分子内にカルボキシル基を有するジアゾ化合物の好まし
い例としては、上記一般式(2)において、Aで表され
る芳香族性基中にカルボキシル基を含有する構造を有す
るジアゾ樹脂が挙げられる。この際、Aで表される芳香
族性基を与えるために用いることができる芳香族化合物
の好ましい具体例としては、p−ヒドロキシ安息香酸、
p−メトキシ安息香酸、p−ヒドロキシ桂皮酸、フェノ
キシ酢酸が挙げられる。
【0042】上記ジアゾ樹脂は、公知の方法、例えば、
フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エンジニア
リング(Photo.Sci.Eng.)第17巻、第
33頁(1973)、米国特許2,063,631号、
同2,679,498号各明細書、特公昭49−480
01号公報に記載の方法に従い、硫酸や燐酸或いは塩酸
中で芳香族ジアゾニウム塩、必要に応じて上記一般式
(2)においてAで表される芳香族性基を与える芳香族
化合物及び活性カルボニル化合物、例えば、パラホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトン、或いはアセトフェノン等を重縮合させることに
よって得られる。
フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エンジニア
リング(Photo.Sci.Eng.)第17巻、第
33頁(1973)、米国特許2,063,631号、
同2,679,498号各明細書、特公昭49−480
01号公報に記載の方法に従い、硫酸や燐酸或いは塩酸
中で芳香族ジアゾニウム塩、必要に応じて上記一般式
(2)においてAで表される芳香族性基を与える芳香族
化合物及び活性カルボニル化合物、例えば、パラホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトン、或いはアセトフェノン等を重縮合させることに
よって得られる。
【0043】また、一般式(2)においてAで表される
芳香族性基を与える芳香族化合物と芳香族ジアゾ化合物
及び活性カルボニル化合物はその相互の組み合わせは自
由であり、さらに各々2種以上を混ぜて縮合することも
可能である。
芳香族性基を与える芳香族化合物と芳香族ジアゾ化合物
及び活性カルボニル化合物はその相互の組み合わせは自
由であり、さらに各々2種以上を混ぜて縮合することも
可能である。
【0044】また、縮合の際に、Aで表される芳香族性
基を与える芳香族化合物の仕込みのモル数は、芳香族ジ
アゾニウム化合物のモル数に対し、好ましくは0.1〜
10倍、より好ましくは0.2〜2倍、さらに好ましく
は0.2〜1倍である。また、この場合、Aで表される
芳香族性基を与える芳香族化合物及び芳香族ジアゾニウ
ム化合物の合計モル数に対し、活性カルボニル化合物を
モル数で通常好ましくは0.5〜1.5倍、より好まし
くは0.6〜1.2倍で仕込み、低温で短時間、例え
ば、3時間程度反応させることによりジアゾ樹脂が得ら
れる。
基を与える芳香族化合物の仕込みのモル数は、芳香族ジ
アゾニウム化合物のモル数に対し、好ましくは0.1〜
10倍、より好ましくは0.2〜2倍、さらに好ましく
は0.2〜1倍である。また、この場合、Aで表される
芳香族性基を与える芳香族化合物及び芳香族ジアゾニウ
ム化合物の合計モル数に対し、活性カルボニル化合物を
モル数で通常好ましくは0.5〜1.5倍、より好まし
くは0.6〜1.2倍で仕込み、低温で短時間、例え
ば、3時間程度反応させることによりジアゾ樹脂が得ら
れる。
【0045】本発明においてより好ましく用いることの
できる、分子内にカルボキシル基を有するジアゾ樹脂を
合成する手段は任意であるが、代表的な手段としては、
(A)芳香族ジアゾニウム化合物、芳香族カルボン酸及
び活性カルボニル化合物の重縮合反応、(B)カルボキ
シル基を有する芳香族ジアゾニウム化合物と活性カルボ
ニル化合物の重縮合反応、(C)芳香族ジアゾニウム化
合物とカルボキシル基を有する活性カルボニル化合物の
重縮合反応の3通りが挙げられる。これらの方法の内、
(A)の手段が合成手法上と合成原料の入手の容易さの
点で好ましい。
できる、分子内にカルボキシル基を有するジアゾ樹脂を
合成する手段は任意であるが、代表的な手段としては、
(A)芳香族ジアゾニウム化合物、芳香族カルボン酸及
び活性カルボニル化合物の重縮合反応、(B)カルボキ
シル基を有する芳香族ジアゾニウム化合物と活性カルボ
ニル化合物の重縮合反応、(C)芳香族ジアゾニウム化
合物とカルボキシル基を有する活性カルボニル化合物の
重縮合反応の3通りが挙げられる。これらの方法の内、
(A)の手段が合成手法上と合成原料の入手の容易さの
点で好ましい。
【0046】上記ジアゾ樹脂の対アニオンは、該ジアゾ
樹脂と安定に塩を形成し、該樹脂を有機溶媒に可溶とな
るアニオンが好ましい。このようなアニオンを形成する
酸としては、デカン酸及び安息香酸等の有機カルボン
酸、フェニル燐酸等の有機燐酸、有機スルホン酸を含
み、典型的な例としては、メタンスルホン酸、クロロエ
タンスルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ア
ントラキノンスルホン酸、ナフチルスルホン酸、アルキ
ル置換ナフチルスルホン酸等の脂肪族スルホン酸並びに
芳香族スルホン酸、ヘキサフルオロ燐酸、テトラフルオ
ロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、過塩素酸、過ヨウ素
酸等の過ハロゲン酸等を挙げることができる。但し、こ
れに限られるものではない。これらの中で、特に好まし
いのは、ヘキサフルオロ燐酸、テトラフルオロホウ酸、
メシチレンスルホン酸である。
樹脂と安定に塩を形成し、該樹脂を有機溶媒に可溶とな
るアニオンが好ましい。このようなアニオンを形成する
酸としては、デカン酸及び安息香酸等の有機カルボン
酸、フェニル燐酸等の有機燐酸、有機スルホン酸を含
み、典型的な例としては、メタンスルホン酸、クロロエ
タンスルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ア
ントラキノンスルホン酸、ナフチルスルホン酸、アルキ
ル置換ナフチルスルホン酸等の脂肪族スルホン酸並びに
芳香族スルホン酸、ヘキサフルオロ燐酸、テトラフルオ
ロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、過塩素酸、過ヨウ素
酸等の過ハロゲン酸等を挙げることができる。但し、こ
れに限られるものではない。これらの中で、特に好まし
いのは、ヘキサフルオロ燐酸、テトラフルオロホウ酸、
メシチレンスルホン酸である。
【0047】本発明において用いるジアゾ樹脂の分子量
には特に限定はなく、例えば、上記のジアゾ樹脂は、各
単量体のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、
その分子量は任意の値として得ることができるが、本発
明においては一般に好ましくは分子量が400〜10,
000のものが有効に利用でき、より好ましくは800
〜5,000のものが適当である。
には特に限定はなく、例えば、上記のジアゾ樹脂は、各
単量体のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、
その分子量は任意の値として得ることができるが、本発
明においては一般に好ましくは分子量が400〜10,
000のものが有効に利用でき、より好ましくは800
〜5,000のものが適当である。
【0048】また、感光性組成物中に含有されるこれら
のジアゾ樹脂の量は0.5〜30重量%が好ましいが、
より好ましくは0.5〜20重量%である。ここでジア
ゾ樹脂の含有量が0.5重量%未満では印刷版の機械的
強度、インク着肉性及び耐刷性が悪く、30重量%を越
えるとPS版の現像性が悪くなる。
のジアゾ樹脂の量は0.5〜30重量%が好ましいが、
より好ましくは0.5〜20重量%である。ここでジア
ゾ樹脂の含有量が0.5重量%未満では印刷版の機械的
強度、インク着肉性及び耐刷性が悪く、30重量%を越
えるとPS版の現像性が悪くなる。
【0049】《光重合開始剤》本発明に用いられる光重
合開始剤は、特に制限はなく、従来公知のものが使用で
き、例えば、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテ
ル、ベンゾフェノン、アントラキノン系化合物、ミヒラ
ーズケトン、トリハロメチル−s−トリアジン系化合
物、オキサジアゾール系化合物、ビイミダゾール系化合
物、チオキサントン系化合物、芳香族第3アミン類等が
好適に用いられる。
合開始剤は、特に制限はなく、従来公知のものが使用で
き、例えば、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテ
ル、ベンゾフェノン、アントラキノン系化合物、ミヒラ
ーズケトン、トリハロメチル−s−トリアジン系化合
物、オキサジアゾール系化合物、ビイミダゾール系化合
物、チオキサントン系化合物、芳香族第3アミン類等が
好適に用いられる。
【0050】これらの光重合開始剤の具体例は、「UV
/EB硬化ハンドブック−原料編−」加藤清視編(高分
子刊行会)の67ページから73ページ、「UV・EB
硬化技術の応用と市場」田畑米穂監修、ラドテック研究
会編集(シーエムシー)の64ページから82ページ、
特公平6−42074号公報、特開昭62−61044
号、特開昭60−35725号公報、特開平2−287
547号公報に記載されており、本発明において、これ
ら光重合開始剤を用いることができる。
/EB硬化ハンドブック−原料編−」加藤清視編(高分
子刊行会)の67ページから73ページ、「UV・EB
硬化技術の応用と市場」田畑米穂監修、ラドテック研究
会編集(シーエムシー)の64ページから82ページ、
特公平6−42074号公報、特開昭62−61044
号、特開昭60−35725号公報、特開平2−287
547号公報に記載されており、本発明において、これ
ら光重合開始剤を用いることができる。
【0051】また、特開平4−362643号公報、特
開平4−362644号公報に記載されている活性光線
の照射により酸を発生し得る化合物も、本発明におい
て、光重合開始剤として用いることができる。
開平4−362644号公報に記載されている活性光線
の照射により酸を発生し得る化合物も、本発明におい
て、光重合開始剤として用いることができる。
【0052】また、他の光重合開始剤としては、下記一
般式(3)で表される構造を有する化合物を用いること
ができる。
般式(3)で表される構造を有する化合物を用いること
ができる。
【0053】
【化3】
【0054】〔式中、R4、R5は、アルキル基、ハロゲ
ンを表し、f、gは、0〜4の整数を表す。〕 上記一般式(3)で表される構造を有する化合物の具体
例としては、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメ
チルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサント
ン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、イソフロ
ピルチオキサントン等を挙げることができる。
ンを表し、f、gは、0〜4の整数を表す。〕 上記一般式(3)で表される構造を有する化合物の具体
例としては、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメ
チルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサント
ン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、イソフロ
ピルチオキサントン等を挙げることができる。
【0055】上記光重合開始剤は、感光性組成物に、
0.2〜15重量%の範囲で含有させることが好まし
く、0.5〜10重量%の範囲で含有させることがより
好ましい。
0.2〜15重量%の範囲で含有させることが好まし
く、0.5〜10重量%の範囲で含有させることがより
好ましい。
【0056】〈表面に付加重合性不飽和基を有するミク
ロゲル〉本発明の上記付加重合性不飽和基を有するミク
ロゲルに関しては、例えば、特開平2−263805
号、特開平3−76704号、特開平3−75750
号、特開平5−97915号、特開平5−150451
号、特開平5−178946号、特開平6−19483
7号、特開平7−114180号、特開平8−1606
18号等の各号公報に記載されていて公知である。
ロゲル〉本発明の上記付加重合性不飽和基を有するミク
ロゲルに関しては、例えば、特開平2−263805
号、特開平3−76704号、特開平3−75750
号、特開平5−97915号、特開平5−150451
号、特開平5−178946号、特開平6−19483
7号、特開平7−114180号、特開平8−1606
18号等の各号公報に記載されていて公知である。
【0057】上記表面に付加重合性不飽和基を有するミ
クロゲルは、2つ以上の重合可能なエチレン性不飽和基
を有する化合物を架橋化剤として用い、該架橋化剤とそ
の他の重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物と
の付加重合反応により得られる。
クロゲルは、2つ以上の重合可能なエチレン性不飽和基
を有する化合物を架橋化剤として用い、該架橋化剤とそ
の他の重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物と
の付加重合反応により得られる。
【0058】上記架橋化剤としての2つ以上の重合可能
なエチレン性不飽和基を有する化合物としては、ブタジ
エン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、2,3−ジ
メチルブタジエン、4,5−ジエチル−1,3−オクタ
ジエン、3−ブチル−1,3−オクタジエン、クロロプ
レン、2,3−ジクロロブタジエン、1,3−シクロペ
ンタジエン、エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、メチレンビス
(メタ)アクリルアミド、ペンタエリスリトールジ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリ
レート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、
グリセロールジ(メタ)アクリレート、グリセロールア
リロキシジ(メタ)アクリレート、1,1,1−トリス
ヒドロキシメチルエタンジ(メタ)アクリレート、1,
1,1−トリスヒドロキシメチルエタントリ(メタ)ア
クリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルプロ
パンジ(メタ)アクリレート、1,1,1−トリスヒド
ロキシメチルプロパントリ(メタ)アクリレート、トリ
アリルシアヌネート、ジアリルテレフタレート、ジアリ
ルフタレート、トリアリルトリメリテート、トリアリル
イソシアネート、ジビニルベンゼン等が挙げられる。重
合体におけるこれらの成分は、通常1〜50wt%、好
ましくは1〜30wt%である。1wt%未満では硬化
後の強度が不足し、50wt%を越えると現像性が低下
する。
なエチレン性不飽和基を有する化合物としては、ブタジ
エン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、2,3−ジ
メチルブタジエン、4,5−ジエチル−1,3−オクタ
ジエン、3−ブチル−1,3−オクタジエン、クロロプ
レン、2,3−ジクロロブタジエン、1,3−シクロペ
ンタジエン、エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、メチレンビス
(メタ)アクリルアミド、ペンタエリスリトールジ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリ
レート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、
グリセロールジ(メタ)アクリレート、グリセロールア
リロキシジ(メタ)アクリレート、1,1,1−トリス
ヒドロキシメチルエタンジ(メタ)アクリレート、1,
1,1−トリスヒドロキシメチルエタントリ(メタ)ア
クリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルプロ
パンジ(メタ)アクリレート、1,1,1−トリスヒド
ロキシメチルプロパントリ(メタ)アクリレート、トリ
アリルシアヌネート、ジアリルテレフタレート、ジアリ
ルフタレート、トリアリルトリメリテート、トリアリル
イソシアネート、ジビニルベンゼン等が挙げられる。重
合体におけるこれらの成分は、通常1〜50wt%、好
ましくは1〜30wt%である。1wt%未満では硬化
後の強度が不足し、50wt%を越えると現像性が低下
する。
【0059】上記架橋化剤との付加重合反応によりミク
ロゲルを形成するその他の重合可能なエチレン性不飽和
基を有する化合物としては一般に公知のオレフィン系、
アクリル系、スチレン系、スチレン−アクリル系等のエ
チレン性不飽和基を有する化合物が広くもちいられる。
ロゲルを形成するその他の重合可能なエチレン性不飽和
基を有する化合物としては一般に公知のオレフィン系、
アクリル系、スチレン系、スチレン−アクリル系等のエ
チレン性不飽和基を有する化合物が広くもちいられる。
【0060】《表面に付加重合性不飽和基を有するミク
ロゲルの合成法》本発明の上記付加重合性不飽和基を有
するミクロゲルは好ましくは乳化重合または分散重合に
よって得られるが、これらの重合方法については、米国
特許第3,895,082号、米国特許第967,05
1号の各号明細書及びイムノロジカル・コミュニケーシ
ョンズ12(5)、509−517(1983)を始め
とし、数多くの文献がある。
ロゲルの合成法》本発明の上記付加重合性不飽和基を有
するミクロゲルは好ましくは乳化重合または分散重合に
よって得られるが、これらの重合方法については、米国
特許第3,895,082号、米国特許第967,05
1号の各号明細書及びイムノロジカル・コミュニケーシ
ョンズ12(5)、509−517(1983)を始め
とし、数多くの文献がある。
【0061】上記ミクロゲルの合成法としては、例え
ば、 上記2つ以上の重合可能なエチレン性不飽和基を有す
る化合物を、第3級アンモニウム塩含有化合物を乳化剤
として用いて乳化重合により合成してミクロゲル微粒子
を得、該ミクロゲル微粒子と1分子中に第3級アンモニ
ウム塩と反応するエポキシ基及び少なくとも一つの重合
可能なエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応させ
る方法、 上記2つ以上の重合可能なエチレン性不飽和基を有す
る化合物を、第4級アンモニウム塩含有化合物を乳化剤
として用いて乳化重合により合成してミクロゲル微粒子
を得、該ミクロゲル微粒子と1分子中に第4級アンモニ
ウム塩と反応するエポキシ基および少なくとも一つの重
合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応さ
せる方法、 上記2つ以上の重合可能なエチレン性不飽和基を有す
る化合物を、カルボキシル基含有化合物を乳化剤として
用いて乳化重合により合成してミクロゲル微粒子を得、
該ミクロゲル微粒子と1分子中にカルボキシル基と反応
するエポキシ基および少なくとも一つの重合可能なエチ
レン性不飽和基を有する化合物とを反応させる方法等を
挙げることができる。
ば、 上記2つ以上の重合可能なエチレン性不飽和基を有す
る化合物を、第3級アンモニウム塩含有化合物を乳化剤
として用いて乳化重合により合成してミクロゲル微粒子
を得、該ミクロゲル微粒子と1分子中に第3級アンモニ
ウム塩と反応するエポキシ基及び少なくとも一つの重合
可能なエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応させ
る方法、 上記2つ以上の重合可能なエチレン性不飽和基を有す
る化合物を、第4級アンモニウム塩含有化合物を乳化剤
として用いて乳化重合により合成してミクロゲル微粒子
を得、該ミクロゲル微粒子と1分子中に第4級アンモニ
ウム塩と反応するエポキシ基および少なくとも一つの重
合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応さ
せる方法、 上記2つ以上の重合可能なエチレン性不飽和基を有す
る化合物を、カルボキシル基含有化合物を乳化剤として
用いて乳化重合により合成してミクロゲル微粒子を得、
該ミクロゲル微粒子と1分子中にカルボキシル基と反応
するエポキシ基および少なくとも一つの重合可能なエチ
レン性不飽和基を有する化合物とを反応させる方法等を
挙げることができる。
【0062】乳化重合によりミクロゲルを作製した場
合、感光性組成物を調製する前に、ミクロゲルを乾燥粉
末に変える操作が通常必要である。凝集、濾過、洗浄及
び乾燥という公知技術をこの目的のため用いることがで
きる。また適当な有機溶剤を使用し、共沸蒸留によりミ
クロゲルの水分散液より粉末にすることなく、有機溶剤
の分散液とすることもできる。
合、感光性組成物を調製する前に、ミクロゲルを乾燥粉
末に変える操作が通常必要である。凝集、濾過、洗浄及
び乾燥という公知技術をこの目的のため用いることがで
きる。また適当な有機溶剤を使用し、共沸蒸留によりミ
クロゲルの水分散液より粉末にすることなく、有機溶剤
の分散液とすることもできる。
【0063】なお、本発明の感光性組成物中には上記表
面に付加重合性不飽和基を有するミクロゲルと共に前記
光重合開始剤が含有されてはじめて感光性が付与され
る。なお、上記ミクロゲルの感光性組成物中に含有され
る量は通常5〜70wt%であり、5wt%未満では硬
化後の感光層の強度が不足し、70wt%を越えると現
像性が低下する。
面に付加重合性不飽和基を有するミクロゲルと共に前記
光重合開始剤が含有されてはじめて感光性が付与され
る。なお、上記ミクロゲルの感光性組成物中に含有され
る量は通常5〜70wt%であり、5wt%未満では硬
化後の感光層の強度が不足し、70wt%を越えると現
像性が低下する。
【0064】〈表面に光架橋性基を有するミクロゲル〉
上記表面に光架橋性基を有するミクロゲルはジアゾニウ
ム化合物で表面が化学修飾されたラテックス重合体であ
り、ジアゾニウム化合物とラテックス重合体とがイオン
結合又は共有結合で結合した化合物等が挙げられる。上
記イオン結合で結合した化合物としては、4級窒素原子
を有するカチオン性ラテックス重合体とアニオン性ジア
ゾ化合物との反応生成物、又はカルボン酸基、スルホン
酸基、ホスホン酸基等を有するアニオン性ラテックス重
合体とカチオン性ジアゾ化合物との反応生成物等が挙げ
られ、具体的には下記(1)〜(3)の方法により合成
される。
上記表面に光架橋性基を有するミクロゲルはジアゾニウ
ム化合物で表面が化学修飾されたラテックス重合体であ
り、ジアゾニウム化合物とラテックス重合体とがイオン
結合又は共有結合で結合した化合物等が挙げられる。上
記イオン結合で結合した化合物としては、4級窒素原子
を有するカチオン性ラテックス重合体とアニオン性ジア
ゾ化合物との反応生成物、又はカルボン酸基、スルホン
酸基、ホスホン酸基等を有するアニオン性ラテックス重
合体とカチオン性ジアゾ化合物との反応生成物等が挙げ
られ、具体的には下記(1)〜(3)の方法により合成
される。
【0065】(1)ジアゾニウム塩のカウンターアニオ
ンがカチオン性ラテックス重合体であるミクロゲルの合
成。
ンがカチオン性ラテックス重合体であるミクロゲルの合
成。
【0066】上記カチオン性ラテックス重合体は、例え
ば特開昭51−73440号公報の実施例に記載される
ように、ビニルベンジルクロリドを他のモノマーと乳化
重合し、その後、第3アミンで4級化する技術が知られ
ている。特に、乳化重合によって得られた第3アミンを
有するラテックス重合体を4級化剤で4級化することに
より製造されたカチオン性ラテックス重合体が好まし
く、その合成例としては特開昭55−22766号公報
に記載されている。
ば特開昭51−73440号公報の実施例に記載される
ように、ビニルベンジルクロリドを他のモノマーと乳化
重合し、その後、第3アミンで4級化する技術が知られ
ている。特に、乳化重合によって得られた第3アミンを
有するラテックス重合体を4級化剤で4級化することに
より製造されたカチオン性ラテックス重合体が好まし
く、その合成例としては特開昭55−22766号公報
に記載されている。
【0067】また、別の特に好ましい4級窒素原子を有
するカチオン性ラテックス重合体は、4級窒素含有モノ
マーを親油性モノマーと乳化重合することにより製造さ
れたラテックス重合体である。その合成方法は、例えば
特開昭56−17352号公報に記載されているものが
ある。
するカチオン性ラテックス重合体は、4級窒素含有モノ
マーを親油性モノマーと乳化重合することにより製造さ
れたラテックス重合体である。その合成方法は、例えば
特開昭56−17352号公報に記載されているものが
ある。
【0068】次に上記カチオン性ラテックス重合体と反
応するアニオン性基を有するジアゾ化合物としては、特
公平2−47738号公報、特開平4−172353号
公報及び特公昭57−43890号公報等の各号公報に
記載のジアゾ化合物にさらにアニオン性基が導入された
化合物を使用することができる。具体例としては、例え
ば4−ジアゾスチルベン−2−スルホン酸ナトリウム、
4−ジアゾ−1−フェニルアミノ−2−スルホン酸ナト
リウム、4,4′−ジジアゾスチルベン−2−スルホン
酸ナトリウム、4−ジアゾベンゾフェノン−4′−カル
ボン酸ナトリウム、1−ジアゾピレン−6−スルホン酸
ナトリウム、4,4′−ジジアゾフェニルアゾナフタレ
ン−5−スルホン酸ナトリウム、ジアゾナフタレン−4
−スルホン酸ナトリウム、ジアゾベンゼン−m−カルボ
ン酸ナトリウム等が挙げられる。カチオン性ラテックス
重合体のカウンターアニオンがアニオン性基を有するジ
アゾ化合物であるミクロゲルを合成するには、上記アニ
オン性基を有するジアゾ化合物の水溶液を上記カチオン
性ラテックス重合体の水分散液とを混合して得られた析
出物を吸引濾過して回収し、水洗して目的物を得ること
ができる。
応するアニオン性基を有するジアゾ化合物としては、特
公平2−47738号公報、特開平4−172353号
公報及び特公昭57−43890号公報等の各号公報に
記載のジアゾ化合物にさらにアニオン性基が導入された
化合物を使用することができる。具体例としては、例え
ば4−ジアゾスチルベン−2−スルホン酸ナトリウム、
4−ジアゾ−1−フェニルアミノ−2−スルホン酸ナト
リウム、4,4′−ジジアゾスチルベン−2−スルホン
酸ナトリウム、4−ジアゾベンゾフェノン−4′−カル
ボン酸ナトリウム、1−ジアゾピレン−6−スルホン酸
ナトリウム、4,4′−ジジアゾフェニルアゾナフタレ
ン−5−スルホン酸ナトリウム、ジアゾナフタレン−4
−スルホン酸ナトリウム、ジアゾベンゼン−m−カルボ
ン酸ナトリウム等が挙げられる。カチオン性ラテックス
重合体のカウンターアニオンがアニオン性基を有するジ
アゾ化合物であるミクロゲルを合成するには、上記アニ
オン性基を有するジアゾ化合物の水溶液を上記カチオン
性ラテックス重合体の水分散液とを混合して得られた析
出物を吸引濾過して回収し、水洗して目的物を得ること
ができる。
【0069】(2)ジアゾニウム塩のカウンターアニオ
ンがアニオン性ラテックス重合体であるミクロゲルの合
成。
ンがアニオン性ラテックス重合体であるミクロゲルの合
成。
【0070】上記ジアゾニウム塩としては、PS版の感
光層に感光性成分として普通に用いられる感光性ジアゾ
化合物が用いられる。一般的に、かかるジアゾ化合物は
ジアゾ−芳香族化合物であり、更に詳細には、芳香族核
上又はアミノ−窒素上に置換され得るジアゾ−アリール
アミン、好ましくはp−ジアゾ−ジフェニルアミン及び
その誘導体、例えばアルデヒド及びアセタールのような
反応性カルボニル基を含んでいる有機縮合剤を用いた縮
合生成物、特に、ホルムアルデヒド塩化亜鉛及びパラホ
ルムアルデヒドのような化合物と縮合物である。かかる
著しく適した縮合生成物の製造は米国特許明細書第2,
922,715号及び第2,946,683号等の各号
明細書に記載されている。
光層に感光性成分として普通に用いられる感光性ジアゾ
化合物が用いられる。一般的に、かかるジアゾ化合物は
ジアゾ−芳香族化合物であり、更に詳細には、芳香族核
上又はアミノ−窒素上に置換され得るジアゾ−アリール
アミン、好ましくはp−ジアゾ−ジフェニルアミン及び
その誘導体、例えばアルデヒド及びアセタールのような
反応性カルボニル基を含んでいる有機縮合剤を用いた縮
合生成物、特に、ホルムアルデヒド塩化亜鉛及びパラホ
ルムアルデヒドのような化合物と縮合物である。かかる
著しく適した縮合生成物の製造は米国特許明細書第2,
922,715号及び第2,946,683号等の各号
明細書に記載されている。
【0071】アニオン性ラテックス重合体としては、該
重合体のモノマー単位として、アクリル基又はメタクリ
ル基を有し、かつ該アクリル基又はメタクリル基はカル
ボン酸基、スルホン酸基又はホスホン酸基を有するもの
が用いられ、このようなモノマー単位の具体例として
は、下記に示す化合物が挙げられる。
重合体のモノマー単位として、アクリル基又はメタクリ
ル基を有し、かつ該アクリル基又はメタクリル基はカル
ボン酸基、スルホン酸基又はホスホン酸基を有するもの
が用いられ、このようなモノマー単位の具体例として
は、下記に示す化合物が挙げられる。
【0072】
【化4】
【0073】
【化5】
【0074】上記モノマー単位は本発明の光架橋性基を
導入したミクロゲル中に通常0.5〜50重量%、特に
2〜30重量%含有されることが好ましい。
導入したミクロゲル中に通常0.5〜50重量%、特に
2〜30重量%含有されることが好ましい。
【0075】上記アニオン性ラテックス重合体は、上記
モノマーと非アニオン性モノマーを共重合させて合成す
ることもできるが、用いられる非アニオン性モノマーと
しては、例えばアクリル酸、メタクリル酸のエステル、
スチレン、アルキレン、エーテル、酢酸ビニル、アクリ
ロニトリル等が挙げられ、これらは、好ましくはジビニ
ルベンゼン、ジメタクリルレート等の2個以上の官能基
を有するモノマーにより架橋される。このような非アニ
オン性モノマーは本発明の光架橋性基を導入したミクロ
ゲル中に5〜95重量%含有され、またジビニルベンゼ
ンジメタクリレート等のモノマーは該ミクロゲル中に好
ましくは0.1〜10重量%含有される。
モノマーと非アニオン性モノマーを共重合させて合成す
ることもできるが、用いられる非アニオン性モノマーと
しては、例えばアクリル酸、メタクリル酸のエステル、
スチレン、アルキレン、エーテル、酢酸ビニル、アクリ
ロニトリル等が挙げられ、これらは、好ましくはジビニ
ルベンゼン、ジメタクリルレート等の2個以上の官能基
を有するモノマーにより架橋される。このような非アニ
オン性モノマーは本発明の光架橋性基を導入したミクロ
ゲル中に5〜95重量%含有され、またジビニルベンゼ
ンジメタクリレート等のモノマーは該ミクロゲル中に好
ましくは0.1〜10重量%含有される。
【0076】上記本発明のアニオン性ラテックス重合体
は、例えば特開昭51−73440号、特開昭55−2
2766号等に記載の乳化重合法に準じて合成すること
ができる。
は、例えば特開昭51−73440号、特開昭55−2
2766号等に記載の乳化重合法に準じて合成すること
ができる。
【0077】上記ジアゾニウム塩のカウンターアニオン
がアニオン性ラテックス重合体であるミクロゲルの合成
方法としては、上記のジアゾニウム塩の水溶液と上記ア
ニオン性ラテックス重合体の水分散液とを混合して得ら
れた析出物を吸引濾過で回収し、水洗して目的物を得る
ことができる。
がアニオン性ラテックス重合体であるミクロゲルの合成
方法としては、上記のジアゾニウム塩の水溶液と上記ア
ニオン性ラテックス重合体の水分散液とを混合して得ら
れた析出物を吸引濾過で回収し、水洗して目的物を得る
ことができる。
【0078】(3)ジアゾニウム化合物とラテックス重
合体とが共有結合で結合したミクロゲルの合成法として
は、粒子表面にアミノ基を有するラテックス重合体のア
ミノ基を酸性下に、亜硝酸ナトリウムでジアゾ化して得
られる。
合体とが共有結合で結合したミクロゲルの合成法として
は、粒子表面にアミノ基を有するラテックス重合体のア
ミノ基を酸性下に、亜硝酸ナトリウムでジアゾ化して得
られる。
【0079】アミノ基を有するラテックス重合体は、ア
ミノ基を有するモノマーを用い乳化重合によって通常製
造される。一般的にアミノ基を有するラテックス重合体
は、ポリマー成分99〜99.5重量%と架橋化剤10
〜0.5重量%とから形成される。ポリマー成分は、内
側と外側とで組成の異なる芯部及び外殻部を有するラテ
ックス重合体を作るために重合の過程において成分を変
えることができる。重合体に結合剤が用いられる場合、
ラテックス重合体対結合剤の重量比は1:20から1:
1の範囲で広く変更できる。
ミノ基を有するモノマーを用い乳化重合によって通常製
造される。一般的にアミノ基を有するラテックス重合体
は、ポリマー成分99〜99.5重量%と架橋化剤10
〜0.5重量%とから形成される。ポリマー成分は、内
側と外側とで組成の異なる芯部及び外殻部を有するラテ
ックス重合体を作るために重合の過程において成分を変
えることができる。重合体に結合剤が用いられる場合、
ラテックス重合体対結合剤の重量比は1:20から1:
1の範囲で広く変更できる。
【0080】ラテックス重合体は種々の出発材料から作
ることができるが、通常1個のエチレン性不飽和結合を
もつモノマーが大部分のラテックス重合体を構成するの
に用いられ、架橋化剤は少なくとも2個の二重結合を有
している。
ることができるが、通常1個のエチレン性不飽和結合を
もつモノマーが大部分のラテックス重合体を構成するの
に用いられ、架橋化剤は少なくとも2個の二重結合を有
している。
【0081】上記ラテックス重合体の出発材料としての
アミノ基を有するモノマーとしては、アクリルアミド、
メタクリルアミド、2−アミノエチルビニルエーテル、
p−アミノスチレン等が挙げられる。
アミノ基を有するモノマーとしては、アクリルアミド、
メタクリルアミド、2−アミノエチルビニルエーテル、
p−アミノスチレン等が挙げられる。
【0082】またこれらと共重合される好ましいモノマ
ーは、メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、
メタアクリル酸、ブチルメタアクリレート、エチルメタ
アクリレート、グリシジルメタアクリレート、スチレン
及びアリルメタアクリレートであり、その他の有用なモ
ノマーにはアクリロニトリル、メタアクリロニトリル、
アクリル酸、メタアクリル酸および2−メチル−ヘキシ
ルアクリレートなどが含まれる。
ーは、メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、
メタアクリル酸、ブチルメタアクリレート、エチルメタ
アクリレート、グリシジルメタアクリレート、スチレン
及びアリルメタアクリレートであり、その他の有用なモ
ノマーにはアクリロニトリル、メタアクリロニトリル、
アクリル酸、メタアクリル酸および2−メチル−ヘキシ
ルアクリレートなどが含まれる。
【0083】好ましい架橋化剤は、ブタンジオールジア
クリレートであるが、その他のものとしてはエチレング
リコールジメタアクリレート、テトラメチレングリコー
ルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、テトラエチレングリコールジメタアクリレー
ト、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタア
クリルアミド、ジビニルベンゼン、ビニルメタアクリレ
ート、ビニルクロトネート、ビニルアクリレート、ビニ
ルアセチレン、トリビニルベンゼン、グリセリントリメ
タアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアク
リレート、トリアリルシアヌレート、ジビニルアセチレ
ン、ジビニルエタン、ジビニルサルファイド、ジビニル
スルホン、ヘキサトリエン、トリエチレングリコールジ
メタアクリレート、ジアリルシアナミド、グリコールジ
アクリレート、エチレングリコールジビニルエーテル、
ジアリルフタレート、ジビニルジメチルシラン、グリセ
ロールトリビニルエーテルおよび類似のものなどが含ま
れる。
クリレートであるが、その他のものとしてはエチレング
リコールジメタアクリレート、テトラメチレングリコー
ルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、テトラエチレングリコールジメタアクリレー
ト、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタア
クリルアミド、ジビニルベンゼン、ビニルメタアクリレ
ート、ビニルクロトネート、ビニルアクリレート、ビニ
ルアセチレン、トリビニルベンゼン、グリセリントリメ
タアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアク
リレート、トリアリルシアヌレート、ジビニルアセチレ
ン、ジビニルエタン、ジビニルサルファイド、ジビニル
スルホン、ヘキサトリエン、トリエチレングリコールジ
メタアクリレート、ジアリルシアナミド、グリコールジ
アクリレート、エチレングリコールジビニルエーテル、
ジアリルフタレート、ジビニルジメチルシラン、グリセ
ロールトリビニルエーテルおよび類似のものなどが含ま
れる。
【0084】上記ジアゾニウム化合物とラテックス重合
体とが共有結合で結合したミクロゲルの製造に際して
は、1種または数種のモノマーと架橋化剤とが適当な乳
化剤及び開始剤とともに水の中に分散される。通常アニ
オン性、カチオン性または非イオン性乳化剤と水溶性の
開始剤とが用いられる。乳化剤の例はラウリル硫酸ナト
リウム、ラウリルピリジンクロライド、ポリオキシエチ
レン、ポリオキシプロピレン、コロイド状シリカ、陰イ
オン性有機リン酸塩、マグネシウムモンモリロナイト、
オクチルフェノール1モルと酸化エチレン12〜13モ
ルとの反応生成物、第二アルキル硫酸ナトリウムおよび
それらの混合物などである。開始剤の例は過硫酸カリウ
ム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、t−ブチ
ルヒドロ過酸化物、過酸化水素、アゾビス(イソブチロ
ニトリル)、アゾビス(イソブチロイミジン塩酸)、過
酸化水素−硫酸第一鉄および周知の過硫酸−重亜硫酸の
組合せのような各種レドックス(酸化−還元)系などで
ある。通常共重合されるモノマーの重量を基準として
0.05〜5重量%の開始剤が使用される。
体とが共有結合で結合したミクロゲルの製造に際して
は、1種または数種のモノマーと架橋化剤とが適当な乳
化剤及び開始剤とともに水の中に分散される。通常アニ
オン性、カチオン性または非イオン性乳化剤と水溶性の
開始剤とが用いられる。乳化剤の例はラウリル硫酸ナト
リウム、ラウリルピリジンクロライド、ポリオキシエチ
レン、ポリオキシプロピレン、コロイド状シリカ、陰イ
オン性有機リン酸塩、マグネシウムモンモリロナイト、
オクチルフェノール1モルと酸化エチレン12〜13モ
ルとの反応生成物、第二アルキル硫酸ナトリウムおよび
それらの混合物などである。開始剤の例は過硫酸カリウ
ム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、t−ブチ
ルヒドロ過酸化物、過酸化水素、アゾビス(イソブチロ
ニトリル)、アゾビス(イソブチロイミジン塩酸)、過
酸化水素−硫酸第一鉄および周知の過硫酸−重亜硫酸の
組合せのような各種レドックス(酸化−還元)系などで
ある。通常共重合されるモノマーの重量を基準として
0.05〜5重量%の開始剤が使用される。
【0085】さらに粒子表面への水酸基、アミノ基の別
の導入法としては例えば「高分子の化学反応(上)
(下)」(大河原信著、化学同人、1972)、「高分
子ファインケミカル」(小田良平著、講談社、197
6)、「反応性高分子」(栗田恵輔、岩倉義男、講談
社、1977)等に記載の高分子反応による方法も使用
でき、例えば反応性基を有するマイクロゲルを合成した
後、アミノ基を有する化合物で反応性基に化学修飾した
り、アミノ基を有する重合性モノマーで反応性基を起点
にグラフト重合させる方法が用いられる。
の導入法としては例えば「高分子の化学反応(上)
(下)」(大河原信著、化学同人、1972)、「高分
子ファインケミカル」(小田良平著、講談社、197
6)、「反応性高分子」(栗田恵輔、岩倉義男、講談
社、1977)等に記載の高分子反応による方法も使用
でき、例えば反応性基を有するマイクロゲルを合成した
後、アミノ基を有する化合物で反応性基に化学修飾した
り、アミノ基を有する重合性モノマーで反応性基を起点
にグラフト重合させる方法が用いられる。
【0086】ジアゾ化合物とラテックス重合体とが共有
結合で結合したミクロゲルを合成するには、上記アミノ
基を有するラテックス重合体の水分散液を硫酸、塩酸等
で酸性にし、0℃付近に冷却し、攪拌下で亜硝酸ナトリ
ウムの濃厚水溶液を滴下し、加え終わったら溶液が酸性
であることを確認した後、30分間そのまま攪拌しジア
ゾ化を完全に行わせる。この溶液に所望のカウンターア
ニオンの塩(例えば、塩化亜鉛、ヘキサフルオロリン酸
アンモニウム)を加えてよく振とうし放置すれば、目的
のジアゾ基を有するミクロゲルが沈澱して得られる。
結合で結合したミクロゲルを合成するには、上記アミノ
基を有するラテックス重合体の水分散液を硫酸、塩酸等
で酸性にし、0℃付近に冷却し、攪拌下で亜硝酸ナトリ
ウムの濃厚水溶液を滴下し、加え終わったら溶液が酸性
であることを確認した後、30分間そのまま攪拌しジア
ゾ化を完全に行わせる。この溶液に所望のカウンターア
ニオンの塩(例えば、塩化亜鉛、ヘキサフルオロリン酸
アンモニウム)を加えてよく振とうし放置すれば、目的
のジアゾ基を有するミクロゲルが沈澱して得られる。
【0087】(4)下記一般式(4)で示される光架橋
性基及び重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物と、その他の重合可能なエチレン性不飽和結合を有す
る化合物との重合反応により得られるミクロゲル。
性基及び重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物と、その他の重合可能なエチレン性不飽和結合を有す
る化合物との重合反応により得られるミクロゲル。
【0088】
【化6】
【0089】式中、R6及びR7はそれぞれ水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基又はアリール基であり、また、
該R6及びR7は環を形成してもよい。
ロゲン原子、アルキル基又はアリール基であり、また、
該R6及びR7は環を形成してもよい。
【0090】一般式(4)で示される光架橋性基及び重
合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物は、上記
(4)項に記載のミクロゲル中10〜 99モル%含有
されるのが好ましい。
合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物は、上記
(4)項に記載のミクロゲル中10〜 99モル%含有
されるのが好ましい。
【0091】上記一般式(4)で表される光架橋性基及
び重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物中、
本発明に特に好ましく用いられる化合物としては、例え
ば下記一般式(5)〜 (10)で示される化合物が好
ましい。
び重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物中、
本発明に特に好ましく用いられる化合物としては、例え
ば下記一般式(5)〜 (10)で示される化合物が好
ましい。
【0092】
【化7】
【0093】上記一般式(5)〜 (10)中、R6及び
R7は上記一般式(4)の場合と同義であり、R8及びR
9は水素原子又はアルキル基(例えば−CH3)を表し、
Xは−O−又は−NH−を表す。また、n1〜n9は1以
上の整数を表す。
R7は上記一般式(4)の場合と同義であり、R8及びR
9は水素原子又はアルキル基(例えば−CH3)を表し、
Xは−O−又は−NH−を表す。また、n1〜n9は1以
上の整数を表す。
【0094】なお、上記一般式(4)で表される光架橋
性基及びエチレン性不飽和基を有する化合物の中、別の
好ましい化合物としては、特開昭52−988号公報に
記載の化合物も本発明に好ましく用いられる。
性基及びエチレン性不飽和基を有する化合物の中、別の
好ましい化合物としては、特開昭52−988号公報に
記載の化合物も本発明に好ましく用いられる。
【0095】次に、本発明の感光性組成物中には必要に
より、後述するフィルム形成可能な高分子化合物、露光
により酸を生成する化合物、感脂化剤、有機若しくは無
機の酸又は酸無水物、界面活性剤、色素、溶媒等が含有
される。
より、後述するフィルム形成可能な高分子化合物、露光
により酸を生成する化合物、感脂化剤、有機若しくは無
機の酸又は酸無水物、界面活性剤、色素、溶媒等が含有
される。
【0096】《フィルム形成可能な高分子化合物》本発
明の感光性組成物に用いられるフィルム形成可能な高分
子化合物としては下記(1)〜(16)に示すモノマー
群から選ばれるモノマーの共重合によって導かれる構成
単位を用いることができる。
明の感光性組成物に用いられるフィルム形成可能な高分
子化合物としては下記(1)〜(16)に示すモノマー
群から選ばれるモノマーの共重合によって導かれる構成
単位を用いることができる。
【0097】(1)芳香族水酸基を有するモノマー、例
えば、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、o−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレ
ン、m−ヒドロキシスチレン、o−ヒドロキシフェニル
アクリレート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、
m−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
えば、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、o−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレ
ン、m−ヒドロキシスチレン、o−ヒドロキシフェニル
アクリレート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、
m−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
【0098】(2)脂肪族水酸基を有するモノマー、例
えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルア
ミド、N−メチロールメタクリルアミド、4−ヒドロキ
シブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリ
レート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、5−ヒ
ドロキシペンチルメタクリレート、6−ヒドロキシヘキ
シルアクリレート、6−ヒドロキシヘキシルメタクリレ
ート、N−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、
N−(2−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド、ヒド
ロキシエチルビニルエーテル等。
えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルア
ミド、N−メチロールメタクリルアミド、4−ヒドロキ
シブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリ
レート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、5−ヒ
ドロキシペンチルメタクリレート、6−ヒドロキシヘキ
シルアクリレート、6−ヒドロキシヘキシルメタクリレ
ート、N−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、
N−(2−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド、ヒド
ロキシエチルビニルエーテル等。
【0099】(3)アミノスルホニル基を有するモノマ
ー、例えば、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、
m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミ
ノスルホニルフェニルアクリレート、N−(p−アミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−ア
ミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等。
ー、例えば、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、
m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミ
ノスルホニルフェニルアクリレート、N−(p−アミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−ア
ミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等。
【0100】(4)不飽和スルホンアミドを有するモノ
マー、例えば、N−(p−トルエンスルホニル)アクリ
ルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリル
アミド等。
マー、例えば、N−(p−トルエンスルホニル)アクリ
ルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリル
アミド等。
【0101】(5)α,β−不飽和カルボン酸類、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレ
イン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
ば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレ
イン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
【0102】(6)置換又は無置換のアルキルアクリレ
ート、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ア
ミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アク
リル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシ
ル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル
酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチル
アクリレート、グリシジルアクリレート等。
ート、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ア
ミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アク
リル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシ
ル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル
酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチル
アクリレート、グリシジルアクリレート等。
【0103】(7)置換又は無置換のアルキルメタクリ
レート、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸アミル、メ
タクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリ
ル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシ
ル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、
メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル、
メタクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート
等。
レート、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸アミル、メ
タクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリ
ル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシ
ル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、
メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル、
メタクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート
等。
【0104】(8)アルリルアミドもしくはメタクリル
アミド類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリル
アミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミ
ド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等。
アミド類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリル
アミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミ
ド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等。
【0105】(9)フッ化アルキル基を含有するモノマ
ー、例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフ
ルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピル
アクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレー
ト、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフ
ルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチル
メタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルアクリレー
ト、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、N−ブ
チル−N−(2−アクリロキシエチル)ヘプタデカフル
オロオクチルスルホンアミド等。
ー、例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフ
ルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピル
アクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレー
ト、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフ
ルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチル
メタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルアクリレー
ト、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、N−ブ
チル−N−(2−アクリロキシエチル)ヘプタデカフル
オロオクチルスルホンアミド等。
【0106】(10)エチルビニルエーテル、2−クロ
ロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブ
チルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニ
ルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
ロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブ
チルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニ
ルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
【0107】(11)ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルのビニ
ルエステル類。
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルのビニ
ルエステル類。
【0108】(12)スチレン、メチルスチレン、クロ
ロメチルスチレン等のスチレン類。
ロメチルスチレン等のスチレン類。
【0109】(13)メチルビニルケトン、エチルビニ
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類。
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類。
【0110】(14)エチレン、プロピレン、イソブチ
レン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
レン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
【0111】(15)N−ビニルピロリドン、N−ビニ
ルカルバゾール、4−ビニルピリジン。
ルカルバゾール、4−ビニルピリジン。
【0112】(16)シアノ基含有モノマー、例えば、
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテン
ニトリル、2−メチル−3−ブテンニトリル、2−シア
ノエチルアクリレート、o−シアノスチレン、m−シア
ノスチレン、p−シアノスチレン等。
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテン
ニトリル、2−メチル−3−ブテンニトリル、2−シア
ノエチルアクリレート、o−シアノスチレン、m−シア
ノスチレン、p−シアノスチレン等。
【0113】さらに上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合をさせてもよい。
ーを共重合をさせてもよい。
【0114】これらのフィルム形成可能な高分子化合物
の分子量は、重量平均分子量で通常5000〜2000
00、好ましくは20000〜160000である。
の分子量は、重量平均分子量で通常5000〜2000
00、好ましくは20000〜160000である。
【0115】使用量は、全成分に対して5〜95重量
%、好ましくは10〜90重量%である。
%、好ましくは10〜90重量%である。
【0116】《露光により酸を生成する化合物》感光性
組成物には、露光により酸または遊離基を生成する化合
物を用いることができる。例えば、ハロメチルオキサジ
アゾール化合物、ハロメチル−s−トリアジン化合物等
が用いられる。
組成物には、露光により酸または遊離基を生成する化合
物を用いることができる。例えば、ハロメチルオキサジ
アゾール化合物、ハロメチル−s−トリアジン化合物等
が用いられる。
【0117】ハロメチルオキサジアゾール化合物とは、
オキサジアゾール類にハロメチル基、好ましくはトリク
ロロメチル基を有する化合物である。
オキサジアゾール類にハロメチル基、好ましくはトリク
ロロメチル基を有する化合物である。
【0118】これらの化合物は公知であり、例えば特公
昭57−6096号、同61−51788号、特公平1
−28369号、特開昭60−138539号、同60
−177340号、同60−241049号等の各号公
報に記載されている。
昭57−6096号、同61−51788号、特公平1
−28369号、特開昭60−138539号、同60
−177340号、同60−241049号等の各号公
報に記載されている。
【0119】また、ハロメチル−s−トリアジン化合物
とは、s−トリアジン環に1以上のハロメチル基、好ま
しくはトリクロロメチル基を有する化合物である。
とは、s−トリアジン環に1以上のハロメチル基、好ま
しくはトリクロロメチル基を有する化合物である。
【0120】感光性組成物中における前記露光により酸
又は遊離基を生成する化合物の添加量は、0.01〜3
0重量%が好ましく、より好ましくは、0.1〜10重
量%であり、特に好ましくは、0.2〜3重量%であ
る。これらの化合物は、単独あるいは2種以上混合して
使用できる。
又は遊離基を生成する化合物の添加量は、0.01〜3
0重量%が好ましく、より好ましくは、0.1〜10重
量%であり、特に好ましくは、0.2〜3重量%であ
る。これらの化合物は、単独あるいは2種以上混合して
使用できる。
【0121】また感光性組成物には、露光により可視画
像を形成させるプリントアウト材料を添加することがで
きる。プリントアウト材料は露光により酸を生成する化
合物と相互作用することによってその色調を変える有機
染料よりなるもので、露光により酸を生成する化合物と
しては、例えば特開昭50−36209号に記載のo−
ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、特
開昭53−36223号に記載されているo−ナフトキ
ノンジアジド−4−スルホン酸クロライドと電子吸引性
置換基を有するフェノール類、またはアニリン酸とのエ
ステル化合物またはアミド化合物、特開昭55−777
42号公報、特開昭57−148784号等に記載のハ
ロメチルビニルオキサジアゾール化合物及びジアゾニウ
ム塩等が挙げられる。
像を形成させるプリントアウト材料を添加することがで
きる。プリントアウト材料は露光により酸を生成する化
合物と相互作用することによってその色調を変える有機
染料よりなるもので、露光により酸を生成する化合物と
しては、例えば特開昭50−36209号に記載のo−
ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、特
開昭53−36223号に記載されているo−ナフトキ
ノンジアジド−4−スルホン酸クロライドと電子吸引性
置換基を有するフェノール類、またはアニリン酸とのエ
ステル化合物またはアミド化合物、特開昭55−777
42号公報、特開昭57−148784号等に記載のハ
ロメチルビニルオキサジアゾール化合物及びジアゾニウ
ム塩等が挙げられる。
【0122】《感脂化剤》本発明の感光性組成物には感
脂化剤を含有してもよい。感脂化剤は、感光層表面の親
油性を高めるものであり、例えば、p−ヒドロキシスチ
レンと脂肪酸のエステル、スチレン−無水マレイン酸共
重合体のアルコールによるハーフエステル化合物、長鎖
アルキル基含有のノボラック樹脂、フッ素系界面活性剤
等が挙げられ、好ましいのは、p−ヒドロキシスチレン
と脂肪酸のエステル、スチレン−無水マレイン酸共重合
体のアルコールによるハーフエステル化合物、長鎖アル
キル基含有のノボラック樹脂であり、中でも長鎖アルキ
ル基含有ノボラック樹脂(アルキル置換フェノール樹
脂)が特に好ましい。添加量はその使用対象、目的によ
って異なるが、一般には全固形分に対して、0.01〜
30重量%である。
脂化剤を含有してもよい。感脂化剤は、感光層表面の親
油性を高めるものであり、例えば、p−ヒドロキシスチ
レンと脂肪酸のエステル、スチレン−無水マレイン酸共
重合体のアルコールによるハーフエステル化合物、長鎖
アルキル基含有のノボラック樹脂、フッ素系界面活性剤
等が挙げられ、好ましいのは、p−ヒドロキシスチレン
と脂肪酸のエステル、スチレン−無水マレイン酸共重合
体のアルコールによるハーフエステル化合物、長鎖アル
キル基含有のノボラック樹脂であり、中でも長鎖アルキ
ル基含有ノボラック樹脂(アルキル置換フェノール樹
脂)が特に好ましい。添加量はその使用対象、目的によ
って異なるが、一般には全固形分に対して、0.01〜
30重量%である。
【0123】上記アルキル置換フェノール樹脂は、アル
キル置換フェノールと、アルデヒド類の重縮合により得
られる樹脂である。
キル置換フェノールと、アルデヒド類の重縮合により得
られる樹脂である。
【0124】ここで用いられるアルキル置換フェノール
の、アルキルで置換される位置及び置換基数は任意であ
るが、特に好ましくは1つのアルキル基を4位に有する
構造が挙げられる。またアルキル基の構造は鎖状、分岐
状、環状のいずれでも構わず、アルキル基を構成する炭
素数も任意であるが、好ましくは炭素数1〜20の範囲
のアルキル基が挙げられる。またこれらのアルキル置換
フェノールは芳香環に他の置換基を有していても構わな
い。
の、アルキルで置換される位置及び置換基数は任意であ
るが、特に好ましくは1つのアルキル基を4位に有する
構造が挙げられる。またアルキル基の構造は鎖状、分岐
状、環状のいずれでも構わず、アルキル基を構成する炭
素数も任意であるが、好ましくは炭素数1〜20の範囲
のアルキル基が挙げられる。またこれらのアルキル置換
フェノールは芳香環に他の置換基を有していても構わな
い。
【0125】また、アルキル置換フェノールとアルデヒ
ド類を重縮合する際、無置換のフェノールを加えて共縮
合を行うことも好ましく行うことができる。
ド類を重縮合する際、無置換のフェノールを加えて共縮
合を行うことも好ましく行うことができる。
【0126】《有機酸・無機酸・酸無水物》感光性組成
物には、有機酸・無機酸・酸無水物が含有されてもよ
い。本発明に使用される酸としては、例えば特開昭60
−88942号、特願昭63−293107号に記載の
有機酸と、日本化学会編「化学便覧新版」(丸善出版)
第92〜158頁に記載の無機酸が挙げられる。有機酸
の例としては、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベン
ゼンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、メタンスルホ
ン酸、エタンスルホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベ
ンゼンジスルホン酸等のスルホン酸、p−トルエンスル
フィン酸、ベンジルスルフィン酸、メタンスルフィン酸
等のスルフィン酸、フェニルホスホン酸、メチルホスホ
ン酸、クロルメチルホスホン酸等のホスホン酸、ギ酸、
酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ペンタン酸、ヘ
キサン酸、ヘプタン酸等の脂肪族モノカルボン酸、シク
ロヘキサンカルボン酸等の脂環式モノカルボン酸、安息
香酸、o−、m−、p−ヒドロキシ安息香酸、o−、m
−、p−メトキシ安息香酸、o−、m−、p−メチル安
息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、フロログリシ
ンカルボン酸、没食子酸、3,5−ジメチル安息香酸、
シリンガ酸等の芳香族モノカルボン酸が挙げられる。ま
た、マロン酸、メチルマロン酸、ジメチルマロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリ
ン酸、アゼライン酸、セバシン酸、イタコン酸、リンゴ
酸等の飽和または、不飽和脂肪族ジカルボン酸、テトラ
ヒドロフタル酸、1,1−シクロブタンジカルボン酸、
1,1−シクロペンタンジカルボン酸、1,3−シクロ
ペンタンジカルボン酸、1,1−シクロヘキサンジカル
ボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3
−シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン
酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族
ジカルボン酸等を挙げることができる。
物には、有機酸・無機酸・酸無水物が含有されてもよ
い。本発明に使用される酸としては、例えば特開昭60
−88942号、特願昭63−293107号に記載の
有機酸と、日本化学会編「化学便覧新版」(丸善出版)
第92〜158頁に記載の無機酸が挙げられる。有機酸
の例としては、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベン
ゼンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、メタンスルホ
ン酸、エタンスルホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベ
ンゼンジスルホン酸等のスルホン酸、p−トルエンスル
フィン酸、ベンジルスルフィン酸、メタンスルフィン酸
等のスルフィン酸、フェニルホスホン酸、メチルホスホ
ン酸、クロルメチルホスホン酸等のホスホン酸、ギ酸、
酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ペンタン酸、ヘ
キサン酸、ヘプタン酸等の脂肪族モノカルボン酸、シク
ロヘキサンカルボン酸等の脂環式モノカルボン酸、安息
香酸、o−、m−、p−ヒドロキシ安息香酸、o−、m
−、p−メトキシ安息香酸、o−、m−、p−メチル安
息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、フロログリシ
ンカルボン酸、没食子酸、3,5−ジメチル安息香酸、
シリンガ酸等の芳香族モノカルボン酸が挙げられる。ま
た、マロン酸、メチルマロン酸、ジメチルマロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリ
ン酸、アゼライン酸、セバシン酸、イタコン酸、リンゴ
酸等の飽和または、不飽和脂肪族ジカルボン酸、テトラ
ヒドロフタル酸、1,1−シクロブタンジカルボン酸、
1,1−シクロペンタンジカルボン酸、1,3−シクロ
ペンタンジカルボン酸、1,1−シクロヘキサンジカル
ボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3
−シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン
酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族
ジカルボン酸等を挙げることができる。
【0127】上記有機酸の内、より好ましいものは、p
−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン
酸等のスルホン酸、または1,2−シクロヘキサンジカ
ルボン酸、シリンガ酸等がある。
−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン
酸等のスルホン酸、または1,2−シクロヘキサンジカ
ルボン酸、シリンガ酸等がある。
【0128】無機酸の例としては、硝酸、硫酸、塩酸、
ケイ酸、リン酸等が挙げられ、さらに好ましくは、硫
酸、リン酸である。
ケイ酸、リン酸等が挙げられ、さらに好ましくは、硫
酸、リン酸である。
【0129】酸無水物を用いる場合の、酸無水物の種類
も任意であり、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息
香酸等、脂肪族・芳香族モノカルボン酸から誘導される
もの、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル
酸、無水フタル酸等、脂肪族・芳香族ジカルボン酸から
誘導されるもの等を挙げることができる。好ましい酸無
水物は、無水グルタル酸、無水フタル酸である。これら
の化合物は、単独あるいは2種以上混合して使用でき
る。
も任意であり、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息
香酸等、脂肪族・芳香族モノカルボン酸から誘導される
もの、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル
酸、無水フタル酸等、脂肪族・芳香族ジカルボン酸から
誘導されるもの等を挙げることができる。好ましい酸無
水物は、無水グルタル酸、無水フタル酸である。これら
の化合物は、単独あるいは2種以上混合して使用でき
る。
【0130】これらの酸の含有量は、全感光性組成物の
全固形分に対して、一般的に0.05〜5重量%であっ
て、好ましくは、0.1〜3重量%の範囲である。
全固形分に対して、一般的に0.05〜5重量%であっ
て、好ましくは、0.1〜3重量%の範囲である。
【0131】《界面活性剤》感光性組成物は界面活性剤
を含んでもよい。界面活性剤としては、両性界面活性
剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオ
ン界面活性剤、フッ素系界面活性剤等を挙げることがで
きる。
を含んでもよい。界面活性剤としては、両性界面活性
剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオ
ン界面活性剤、フッ素系界面活性剤等を挙げることがで
きる。
【0132】上記両性界面活性剤としては、ラウリルジ
メチルアミンオキサイド、ラウリルカルボキシメチルヒ
ドロキシエチル、イミダゾリニウムベタイン等がある。
メチルアミンオキサイド、ラウリルカルボキシメチルヒ
ドロキシエチル、イミダゾリニウムベタイン等がある。
【0133】アニオン界面活性剤としては、脂肪酸塩、
アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸
塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルスルホ
コハク酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸
塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫
酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリル硫酸
エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、
ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル等がある。
アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸
塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルスルホ
コハク酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸
塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫
酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリル硫酸
エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、
ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル等がある。
【0134】カチオン界面活性剤としては、アルキルア
ミン塩、第4級アンモニウム塩、アルキルベタイン等が
ある。
ミン塩、第4級アンモニウム塩、アルキルベタイン等が
ある。
【0135】ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシ
エチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソル
ビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪
酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルア
ミン、アルキルアルカノールアミド等がある。
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシ
エチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソル
ビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪
酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルア
ミン、アルキルアルカノールアミド等がある。
【0136】フッ素系界面活性剤としては、フルオロ脂
肪族基を含むアクリレートまたはメタアクリレートおよ
び(ポリオキシアルキレン)アクリレートまたは(ポリ
オキシアルキレン)メタアクリレートの共重合体等があ
る。これらの化合物は、単独あるいは2種以上混合して
使用することができる。特に好ましくはFC−430
(住友3M(株)製)フッ素系ポリエチレングリコール
#−2000(関東化学(株)製)である。感光性組成
物中に占める割合は、0.01〜10重量%であること
が好ましく、さらに好ましくは0.01〜5重量%で使
用される。
肪族基を含むアクリレートまたはメタアクリレートおよ
び(ポリオキシアルキレン)アクリレートまたは(ポリ
オキシアルキレン)メタアクリレートの共重合体等があ
る。これらの化合物は、単独あるいは2種以上混合して
使用することができる。特に好ましくはFC−430
(住友3M(株)製)フッ素系ポリエチレングリコール
#−2000(関東化学(株)製)である。感光性組成
物中に占める割合は、0.01〜10重量%であること
が好ましく、さらに好ましくは0.01〜5重量%で使
用される。
【0137】《色素》感光性組成物には、さらに色素を
用いることができる。該色素は、露光による可視画像
(露光可視画像)と現像後の可視画像を得ることを目的
として使用される。
用いることができる。該色素は、露光による可視画像
(露光可視画像)と現像後の可視画像を得ることを目的
として使用される。
【0138】該色素としては、フリーラジカルまたは酸
と反応して色調を変化するものが好ましく使用できる。
ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色調へ
の変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調への変
化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成
して色調を変化するものである。例えば、ビクトリアピ
ュアブルーBOH(保土谷化学社製)、オイルブルー#
603(オリエント化学工業社製)、パテントピュアブ
ルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ペイシ
ックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、ローダミンB、オーラミン、4
−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シア
ノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に代
表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系、
オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン系、
アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色から
無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤の例と
して挙げられる。
と反応して色調を変化するものが好ましく使用できる。
ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色調へ
の変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調への変
化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成
して色調を変化するものである。例えば、ビクトリアピ
ュアブルーBOH(保土谷化学社製)、オイルブルー#
603(オリエント化学工業社製)、パテントピュアブ
ルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ペイシ
ックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、ローダミンB、オーラミン、4
−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シア
ノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に代
表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系、
オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン系、
アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色から
無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤の例と
して挙げられる。
【0139】一方、無色から有色に変化する変色剤とし
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。
【0140】上記の変色剤の感光性組成物中に占める割
合は、0.01〜10重量%であることが好ましく、更
に好ましくは0.02〜5重量%で使用される。
合は、0.01〜10重量%であることが好ましく、更
に好ましくは0.02〜5重量%で使用される。
【0141】これらの化合物は、単独あるいは2種以上
混合して使用できる。尚、特に好ましい色素は、ビクト
リアピュアブルーBOH、オイルブルー#603であ
る。
混合して使用できる。尚、特に好ましい色素は、ビクト
リアピュアブルーBOH、オイルブルー#603であ
る。
【0142】《溶媒》感光性組成物を溶解する際に使用
し得る溶媒としては、メタノール、エタノール、n−プ
ロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、
n−ペンタノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール
類、アリルアルコール、ベンジルアルコール、アニソー
ル、フェネトール、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、ノナン、デカン等の炭化水素類、ジ
アセトンアルコール、3−メトキシ−1−ブタノール、
4−メトキシ−1−ブタノール、3−エトキシ−1−ブ
タノール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノー
ル、3−メトキシ−3−エチル−1−1ペンタノール−
4−エトキシ−1−ペンタノール、5−メトキシ−1−
ヘキサノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
プロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、メチルペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、
エチルブチルケトン、ジブチルケトン、シクロペンタノ
ン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、γ−
ブチロラクトン、3−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−
ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ペン
タノン、5−ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロ
キシ−3−ペンタノン、6−ヒドロキシ−2−ヘキサノ
ン、3−メチル−3−ヒドロキシ−2−ペンタノン、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレン
グリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチ
レングリコールジアセテート、プロピレングリコールモ
ノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、エ
チレングリコールアルキルエーテル類およびそのアセテ
ート(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ、フェニルセロソルブ、エチレングリコールジ
メチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジブチルエーテル、メチルセロ
ソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート)、ジ
エチレングリコールモノアルキルエーテル類およびその
アセテート(ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、モノエチルエーテル、モノi−プロピルエーテル、
モノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート等)、ジエチレングリコールジアル
キルエーテル類(DMDG、DEDG、DBDG、ME
DG)、トリエチレングリコールアルキルエーテル類
(モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、ジメチル
エーテル、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル
等)、プロピレングリコールアルキルエーテル類および
そのアセテート(モノメチルエーテル、モノエチルエー
テル、n−プロピルエーテル、モノブチルエーテル、ジ
メチルエーテル、ジエチルエーテル、モノメチルエーテ
ルアセテート、モノエチルエーテルアセテート等)、ジ
プロピレングリコールアルキルエーテル類(モノメチル
エーテル、モノエチルエーテル、n−プロピルエーテ
ル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチル
エーテル)、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、
ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチ
ル、酪酸メチル、酪酸エチル等のカルボン酸エステル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、炭酸プロピレン
等が挙げられる。
し得る溶媒としては、メタノール、エタノール、n−プ
ロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、
n−ペンタノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール
類、アリルアルコール、ベンジルアルコール、アニソー
ル、フェネトール、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、ノナン、デカン等の炭化水素類、ジ
アセトンアルコール、3−メトキシ−1−ブタノール、
4−メトキシ−1−ブタノール、3−エトキシ−1−ブ
タノール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノー
ル、3−メトキシ−3−エチル−1−1ペンタノール−
4−エトキシ−1−ペンタノール、5−メトキシ−1−
ヘキサノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
プロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、メチルペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、
エチルブチルケトン、ジブチルケトン、シクロペンタノ
ン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、γ−
ブチロラクトン、3−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−
ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ペン
タノン、5−ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロ
キシ−3−ペンタノン、6−ヒドロキシ−2−ヘキサノ
ン、3−メチル−3−ヒドロキシ−2−ペンタノン、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレン
グリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチ
レングリコールジアセテート、プロピレングリコールモ
ノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、エ
チレングリコールアルキルエーテル類およびそのアセテ
ート(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ、フェニルセロソルブ、エチレングリコールジ
メチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジブチルエーテル、メチルセロ
ソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート)、ジ
エチレングリコールモノアルキルエーテル類およびその
アセテート(ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、モノエチルエーテル、モノi−プロピルエーテル、
モノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート等)、ジエチレングリコールジアル
キルエーテル類(DMDG、DEDG、DBDG、ME
DG)、トリエチレングリコールアルキルエーテル類
(モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、ジメチル
エーテル、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル
等)、プロピレングリコールアルキルエーテル類および
そのアセテート(モノメチルエーテル、モノエチルエー
テル、n−プロピルエーテル、モノブチルエーテル、ジ
メチルエーテル、ジエチルエーテル、モノメチルエーテ
ルアセテート、モノエチルエーテルアセテート等)、ジ
プロピレングリコールアルキルエーテル類(モノメチル
エーテル、モノエチルエーテル、n−プロピルエーテ
ル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチル
エーテル)、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、
ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチ
ル、酪酸メチル、酪酸エチル等のカルボン酸エステル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、炭酸プロピレン
等が挙げられる。
【0143】これらの溶媒は、単独あるいは2種以上混
合して使用できる。
合して使用できる。
【0144】次に本発明のPS版の感光層表面には必要
により下記被覆層及びマット層を設けることができる。
により下記被覆層及びマット層を設けることができる。
【0145】〈被覆層〉本発明のPS版の感光層表面
に、光重合の酸素阻害を防止する目的で、ポリビニルア
ルコール、酸性セルロース類等のような酸素遮断性に優
れたポリマーからなるオーバーコート層を設けることも
できる。
に、光重合の酸素阻害を防止する目的で、ポリビニルア
ルコール、酸性セルロース類等のような酸素遮断性に優
れたポリマーからなるオーバーコート層を設けることも
できる。
【0146】〈マット層〉マット層の目的は密着露光に
おける画像フィルムとPS版との真空密着性を改良する
ことにより、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良に
よる露光時の微小網点のつぶれを防止することである。
マット層の塗布方法としては、特開昭50−12580
5号、特公昭57−6582号、同61−28986号
の各公報に記載されているようなマット層を設ける方
法、特公昭62−62337号公報に記載されているよ
うな固体粉末を熱融着させる方法、特開昭55−129
74号に記載されているパウダリングされた固体粉末を
熱融着する方法、特開昭58−182636号公報に記
載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる方
法等があり、どの方法でもよいが、マット層自体がアル
カリ現像液に溶解するか、あるいはこれにより除去可能
な物が望ましい。
おける画像フィルムとPS版との真空密着性を改良する
ことにより、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良に
よる露光時の微小網点のつぶれを防止することである。
マット層の塗布方法としては、特開昭50−12580
5号、特公昭57−6582号、同61−28986号
の各公報に記載されているようなマット層を設ける方
法、特公昭62−62337号公報に記載されているよ
うな固体粉末を熱融着させる方法、特開昭55−129
74号に記載されているパウダリングされた固体粉末を
熱融着する方法、特開昭58−182636号公報に記
載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる方
法等があり、どの方法でもよいが、マット層自体がアル
カリ現像液に溶解するか、あるいはこれにより除去可能
な物が望ましい。
【0147】〈塗布加工方法〉感光層の塗布加工方法と
しては、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤー
バー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、スプレー
塗布、エアースプレー塗布、静電スプレー塗布、ロール
塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布の方法で塗布、乾
燥し、次いで上層成分を溶解した溶液(感光液)を同様
の公知の方法で塗布、乾燥することが挙げられる。
しては、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤー
バー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、スプレー
塗布、エアースプレー塗布、静電スプレー塗布、ロール
塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布の方法で塗布、乾
燥し、次いで上層成分を溶解した溶液(感光液)を同様
の公知の方法で塗布、乾燥することが挙げられる。
【0148】感光層膜厚は特に制限しないが、全膜厚で
5〜30mg/m2が好ましい。
5〜30mg/m2が好ましい。
【0149】〈露光〉こうして得られたPS版の使用に
際しては、従来から常用されている方法を適用すること
ができ、例えば線画像、網点画像などを有する透明原画
を感光面に密着して露光し、次いでこれを適当な現像液
を用いて非画像部の感光性層を除去することによりレリ
ーフ像が得られる。露光に好適な光源としては、水銀
灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカル
ランプ、カーボンアーク灯などが使用される。
際しては、従来から常用されている方法を適用すること
ができ、例えば線画像、網点画像などを有する透明原画
を感光面に密着して露光し、次いでこれを適当な現像液
を用いて非画像部の感光性層を除去することによりレリ
ーフ像が得られる。露光に好適な光源としては、水銀
灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカル
ランプ、カーボンアーク灯などが使用される。
【0150】〈現像処理〉上記露光後のPS版は水系現
像液により現像されて非画像部の感光層が除去されて印
刷版が得られる。
像液により現像されて非画像部の感光層が除去されて印
刷版が得られる。
【0151】上記水系現像液は実質的に有機溶媒及びア
ルカリ剤を含有しない水現像液であり、必要に応じて少
量のアニオン界面活性剤を含有してもよい。現像液によ
る現像処理温度は10℃〜30℃が好ましい。
ルカリ剤を含有しない水現像液であり、必要に応じて少
量のアニオン界面活性剤を含有してもよい。現像液によ
る現像処理温度は10℃〜30℃が好ましい。
【0152】上記実質的に有機溶媒を含有しないとは、
該有機溶剤を全く含有しないか、又は含有するとしても
現像液中1重量%以下であり、該有機溶剤としては、n
−プロピルアルコール、ベンジルアルコールの如きアル
コール類、及びフェニルセロソルブの如きグリコールエ
ーテル等がある。
該有機溶剤を全く含有しないか、又は含有するとしても
現像液中1重量%以下であり、該有機溶剤としては、n
−プロピルアルコール、ベンジルアルコールの如きアル
コール類、及びフェニルセロソルブの如きグリコールエ
ーテル等がある。
【0153】上記実質的にアルカリを含有しないとは、
アルカリを全く含有しないか又は含有するとしても現像
液のpH(25℃)が8.0を越えない範囲である。
アルカリを全く含有しないか又は含有するとしても現像
液のpH(25℃)が8.0を越えない範囲である。
【0154】又上記水系現像液中には必要によりアニオ
ン界面活性剤を0.1〜1重量%の範囲で含有させるこ
とができる。上記アニオン界面活性剤としては、例え
ば、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸エステル
塩、例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸等のアルキル
アリルスルホン酸塩、例えば、ジ(2−エチルヘキシ
ル)スルホコハク酸ナトリウム等の二塩基性脂肪酸エス
テルのスルホン酸塩、例えば、n−ブチルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸
塩、ポリオキシエチレンアルキル(フェノール)エーテ
ル硫酸塩等が挙げられるが、これらの中でn−ブチルナ
フタレンスルホン酸等のアルキルナフタレンスルホン酸
塩が好適に使用される。
ン界面活性剤を0.1〜1重量%の範囲で含有させるこ
とができる。上記アニオン界面活性剤としては、例え
ば、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸エステル
塩、例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸等のアルキル
アリルスルホン酸塩、例えば、ジ(2−エチルヘキシ
ル)スルホコハク酸ナトリウム等の二塩基性脂肪酸エス
テルのスルホン酸塩、例えば、n−ブチルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸
塩、ポリオキシエチレンアルキル(フェノール)エーテ
ル硫酸塩等が挙げられるが、これらの中でn−ブチルナ
フタレンスルホン酸等のアルキルナフタレンスルホン酸
塩が好適に使用される。
【0155】
【実施例】〈支持体1の作製〉厚さ0.3mmのアルミ
ニウム板(材質1050、調質H16)を、85℃に保
たれた10%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、1分
間脱脂処理を行った後水洗した。この脱脂したアルミニ
ウム板を、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分
間浸漬し、デスマット処理した後水洗した。次いでこの
アルミニウム板を、2.0%の塩酸水溶液中において、
温度30℃、電流密度80A/dm2の条件で30秒間
粗面化し、その後、70℃に保たれた1%水酸化ナトリ
ウム水溶液中に10秒間浸漬した後水洗した。次いで、
30%硫酸水溶液中で、温度45℃、電流密度3A/d
m2の条件で2分間陽極酸化処理を行った後水洗し、さ
らにその後、80℃に保たれた3.0%酢酸アンモニウ
ム水溶液中に1分間浸漬して封孔処理を行い、水洗し
た。次いで、80℃に保たれた1.0%珪酸ソーダ水溶
液中に30秒間浸漬した後、80℃で5分間乾燥してア
ルミニウム支持体1を得た。
ニウム板(材質1050、調質H16)を、85℃に保
たれた10%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、1分
間脱脂処理を行った後水洗した。この脱脂したアルミニ
ウム板を、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分
間浸漬し、デスマット処理した後水洗した。次いでこの
アルミニウム板を、2.0%の塩酸水溶液中において、
温度30℃、電流密度80A/dm2の条件で30秒間
粗面化し、その後、70℃に保たれた1%水酸化ナトリ
ウム水溶液中に10秒間浸漬した後水洗した。次いで、
30%硫酸水溶液中で、温度45℃、電流密度3A/d
m2の条件で2分間陽極酸化処理を行った後水洗し、さ
らにその後、80℃に保たれた3.0%酢酸アンモニウ
ム水溶液中に1分間浸漬して封孔処理を行い、水洗し
た。次いで、80℃に保たれた1.0%珪酸ソーダ水溶
液中に30秒間浸漬した後、80℃で5分間乾燥してア
ルミニウム支持体1を得た。
【0156】〈支持体2の作製〉1.0%珪酸ソーダ水
溶液に代えて、0.01%のカルボキシメチルセルロー
スの水溶液を用いた外は、支持体1の場合と同様にして
アルミニウム支持体2を作製した。
溶液に代えて、0.01%のカルボキシメチルセルロー
スの水溶液を用いた外は、支持体1の場合と同様にして
アルミニウム支持体2を作製した。
【0157】〈支持体3の作製〉珪酸ソーダ水溶液によ
る処理を施さなかった以外は、支持体1と同様にしてア
ルミニウム支持体3を作製した。
る処理を施さなかった以外は、支持体1と同様にしてア
ルミニウム支持体3を作製した。
【0158】〈感光性ミクロゲル(a)の作製〉乳化重
合装置は、撹拌スタラー、1リットル容量の添加ロー
ト、温度計、窒素ガス注入管、水冷凝縮器が取り付けら
れた5リットル容量の4つ首フラスコ及び該4つ首フラ
スコの保温用加熱マントルとから構成されている。この
4つ首フラスコに脱イオン水3360gと界面活性剤と
してのラウリルスルホン酸ナトリウム30%水溶液20
gを注入し、該界面活性剤系を窒素雰囲気下に80℃に
加熱した。この温度でメチルメタアクリレート420
g、エチルアクリレート240g、スチレンスルホン酸
165g、アリルメタアクリレート16g及び1,4−
ブタンジオールジアクリレート16gを含むモノマー混
合物の25%を一度に添加した。さらに、これらに過硫
酸カリウムの5%水性溶液10mlと、リン酸カリウム
の7%水性溶液10mlとを直ちに添加した。得られた
反応組成物は乳濁し、かつ85℃に発熱した。温度を8
0〜88℃の間に保ちながら、上記モノマー混合物の残
部を90分の期間にわたって添加した。添加が終了後、
反応組成物を80〜85℃でさらに2時間加熱したとこ
ろ、青みを帯びた乳濁液が得られ、これを室温まで冷却
し、さらにメタノールを添加して凝固させた。得られた
スラリーを濾過し、水で2回水洗し、吸引、乾燥して得
られた微細な粉末を100℃の炉の中で4時間乾燥させ
たところ、球形状の粉末粒子であるミクロゲルが顕微鏡
によって確認された。
合装置は、撹拌スタラー、1リットル容量の添加ロー
ト、温度計、窒素ガス注入管、水冷凝縮器が取り付けら
れた5リットル容量の4つ首フラスコ及び該4つ首フラ
スコの保温用加熱マントルとから構成されている。この
4つ首フラスコに脱イオン水3360gと界面活性剤と
してのラウリルスルホン酸ナトリウム30%水溶液20
gを注入し、該界面活性剤系を窒素雰囲気下に80℃に
加熱した。この温度でメチルメタアクリレート420
g、エチルアクリレート240g、スチレンスルホン酸
165g、アリルメタアクリレート16g及び1,4−
ブタンジオールジアクリレート16gを含むモノマー混
合物の25%を一度に添加した。さらに、これらに過硫
酸カリウムの5%水性溶液10mlと、リン酸カリウム
の7%水性溶液10mlとを直ちに添加した。得られた
反応組成物は乳濁し、かつ85℃に発熱した。温度を8
0〜88℃の間に保ちながら、上記モノマー混合物の残
部を90分の期間にわたって添加した。添加が終了後、
反応組成物を80〜85℃でさらに2時間加熱したとこ
ろ、青みを帯びた乳濁液が得られ、これを室温まで冷却
し、さらにメタノールを添加して凝固させた。得られた
スラリーを濾過し、水で2回水洗し、吸引、乾燥して得
られた微細な粉末を100℃の炉の中で4時間乾燥させ
たところ、球形状の粉末粒子であるミクロゲルが顕微鏡
によって確認された。
【0159】このミクロゲル57gを水に分散した液と
p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩26.8gを水に溶
解させた溶液とを混合して得られた析出物を吸引濾過し
て回収し、水洗後減圧、乾燥して、表面に光架橋基を有
する感光性ミクロゲル(a)を得た。
p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩26.8gを水に溶
解させた溶液とを混合して得られた析出物を吸引濾過し
て回収し、水洗後減圧、乾燥して、表面に光架橋基を有
する感光性ミクロゲル(a)を得た。
【0160】〈感光性ミクロゲル(b)の作製〉攪拌
機、冷却管を備えた1lフラスコに2,3−ジメチルマ
レイン酸無水物126g(1mol)、6−アミノカプ
ロン酸131g(1mol)及びトルエン600mlを
入れ、100℃に加熱しながら1時間攪拌した。次に、
Dean−Stark水分離器を取り付け、トルエン還
流下に水を除去しつつ3時間攪拌した。反応終了後混合
物を冷却した後、ヘキサン1.5lに晶析した。ろ過及
び乾燥により、得られた固体を更に水1.5lにリスラ
リーした。ろ過及び乾燥することにより下記の化合物
(i)の白色固体231gを得た。
機、冷却管を備えた1lフラスコに2,3−ジメチルマ
レイン酸無水物126g(1mol)、6−アミノカプ
ロン酸131g(1mol)及びトルエン600mlを
入れ、100℃に加熱しながら1時間攪拌した。次に、
Dean−Stark水分離器を取り付け、トルエン還
流下に水を除去しつつ3時間攪拌した。反応終了後混合
物を冷却した後、ヘキサン1.5lに晶析した。ろ過及
び乾燥により、得られた固体を更に水1.5lにリスラ
リーした。ろ過及び乾燥することにより下記の化合物
(i)の白色固体231gを得た。
【0161】
【化8】
【0162】次に、攪拌機、冷却管を備えた300ml
フラスコに、化合物(i)57.4g(0.24mo
l)及び塩化チオニル29.7g(0.25mol)を
入れ、室温下1時間攪拌した。更に、80℃に加熱しな
がら、1時間攪拌した。反応終了後、冷却し、エーテル
150mlを加えた。次にフラスコに滴下ロートを取り
付け、反応混合物を氷水浴にて冷却しながら、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート26.0g(0.2mo
l)とピリジン31.6g(0.4mol)との混合物
を滴下ロートにより、約30分間かけて滴下した。滴下
終了後、氷水浴下で1時間攪拌し、更に50℃に加熱し
ながら2時間攪拌した。反応終了後、冷却し、酢酸エチ
ル400mlと共に反応混合物を分液ロートへ入れた。
水、1N塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水
の順で洗浄した。この溶液を硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧留去することにより下記の化合物(i
i)の液体59gが得られた。
フラスコに、化合物(i)57.4g(0.24mo
l)及び塩化チオニル29.7g(0.25mol)を
入れ、室温下1時間攪拌した。更に、80℃に加熱しな
がら、1時間攪拌した。反応終了後、冷却し、エーテル
150mlを加えた。次にフラスコに滴下ロートを取り
付け、反応混合物を氷水浴にて冷却しながら、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート26.0g(0.2mo
l)とピリジン31.6g(0.4mol)との混合物
を滴下ロートにより、約30分間かけて滴下した。滴下
終了後、氷水浴下で1時間攪拌し、更に50℃に加熱し
ながら2時間攪拌した。反応終了後、冷却し、酢酸エチ
ル400mlと共に反応混合物を分液ロートへ入れた。
水、1N塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水
の順で洗浄した。この溶液を硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧留去することにより下記の化合物(i
i)の液体59gが得られた。
【0163】
【化9】
【0164】次に、攪拌機、冷却管を備えた1lフラス
コに、化合物(ii)68.52g(0.195mo
l)、エチレングリコールジメタクリレート、2.97
g(0.015mol)、コハク酸水素(2−メタクリ
ロイルオキシ)エチル20.72g(0.09mo
l)、ドデシル硫酸ナトリウム9.22g及び水800
mlを入れ、窒素気流下50℃に加熱した。この混合溶
液に過硫酸カリウム0.58g及びチオ硫酸ナトリウム
5水和物0.54gを加え、5時間攪拌した。反応終了
後、塩析及び遠心分離した後、減圧下乾燥し、85gの
白色粉末(本発明のミクロゲル(b))を得た。粉末粒
子の球状の形が顕微鏡によって確認できた。
コに、化合物(ii)68.52g(0.195mo
l)、エチレングリコールジメタクリレート、2.97
g(0.015mol)、コハク酸水素(2−メタクリ
ロイルオキシ)エチル20.72g(0.09mo
l)、ドデシル硫酸ナトリウム9.22g及び水800
mlを入れ、窒素気流下50℃に加熱した。この混合溶
液に過硫酸カリウム0.58g及びチオ硫酸ナトリウム
5水和物0.54gを加え、5時間攪拌した。反応終了
後、塩析及び遠心分離した後、減圧下乾燥し、85gの
白色粉末(本発明のミクロゲル(b))を得た。粉末粒
子の球状の形が顕微鏡によって確認できた。
【0165】〈ミクロゲル(c)の作製〉攪拌機、冷却
管を備えた1lフラスコに、2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート25.38g(0.195mol)、n−ブ
チルメタクリレート4.27g(0.03mol)、エ
チレングリコールジメタクリレート2.97g(0.0
15mole)、コハク酸水素(2−メタクリロイルオ
キシ)エチル13.81g(0.06mol)、ドデシ
ル硫酸ナトリウム4.63g及び水750mlを入れ、
窒素気流下50℃に加熱した。この混合溶液に過硫酸カ
リウム0.58g及びチオ硫酸ナトリウム5水和物0.
54gを加え、5時間攪拌した。反応終了後、塩析、遠
心分離した後、減圧下で乾燥して、43gの白色粉末を
得た。
管を備えた1lフラスコに、2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート25.38g(0.195mol)、n−ブ
チルメタクリレート4.27g(0.03mol)、エ
チレングリコールジメタクリレート2.97g(0.0
15mole)、コハク酸水素(2−メタクリロイルオ
キシ)エチル13.81g(0.06mol)、ドデシ
ル硫酸ナトリウム4.63g及び水750mlを入れ、
窒素気流下50℃に加熱した。この混合溶液に過硫酸カ
リウム0.58g及びチオ硫酸ナトリウム5水和物0.
54gを加え、5時間攪拌した。反応終了後、塩析、遠
心分離した後、減圧下で乾燥して、43gの白色粉末を
得た。
【0166】得られた白色粉末10g及びピリジン10
0mlを攪拌機、冷却管を備えた200mlフラスコに
入れ、氷水浴下攪拌した。この混合物にメタクリル酸ク
ロリド10gをゆっくりと加え、そのまま氷水浴下30
分間攪拌した。更に、50℃加熱し、2時間攪拌した。
0mlを攪拌機、冷却管を備えた200mlフラスコに
入れ、氷水浴下攪拌した。この混合物にメタクリル酸ク
ロリド10gをゆっくりと加え、そのまま氷水浴下30
分間攪拌した。更に、50℃加熱し、2時間攪拌した。
【0167】反応終了後、この混合物を氷水1lに攪拌
下投入し、塩酸にて酸性とした。析出物をろ取し、塩化
ナトリウム水溶液でよく洗浄し、減圧下乾燥することに
より、9gの白色粉末(本発明のミクロゲル(c))を
得た。粉末粒子の球状の形が顕微鏡によって確認でき
た。
下投入し、塩酸にて酸性とした。析出物をろ取し、塩化
ナトリウム水溶液でよく洗浄し、減圧下乾燥することに
より、9gの白色粉末(本発明のミクロゲル(c))を
得た。粉末粒子の球状の形が顕微鏡によって確認でき
た。
【0168】〈ミクロゲル(d)の作製〉攪拌機、冷却
管を備えた1lフラスコにアリルメタクリレート28.
38g(0.225mol)、エチレングリコールジメ
タクリレート2.97g(0.015mol)、2−ア
セトアセトキシエチルメタクリレート12.85g
(0.06mol)、ドデシル硫酸ナトリウム4.52
g及び水750mlを入れ窒素気流下50℃に加熱し
た。この混合溶液に過硫酸カリウム0.58g及びチオ
硫酸ナトリウム5水和物0.54gを加え、5時間攪拌
した。反応終了後、塩析、遠心分離した後、減圧下乾燥
し、41gの白色粉末を得た(本発明のミクロゲル
(d))。粉末粒子の球状の形が顕微鏡によって確認で
きた。
管を備えた1lフラスコにアリルメタクリレート28.
38g(0.225mol)、エチレングリコールジメ
タクリレート2.97g(0.015mol)、2−ア
セトアセトキシエチルメタクリレート12.85g
(0.06mol)、ドデシル硫酸ナトリウム4.52
g及び水750mlを入れ窒素気流下50℃に加熱し
た。この混合溶液に過硫酸カリウム0.58g及びチオ
硫酸ナトリウム5水和物0.54gを加え、5時間攪拌
した。反応終了後、塩析、遠心分離した後、減圧下乾燥
し、41gの白色粉末を得た(本発明のミクロゲル
(d))。粉末粒子の球状の形が顕微鏡によって確認で
きた。
【0169】〈ジアゾ樹脂の合成〉氷冷した濃硫酸20
0gのp−ヒドロキシ安息香酸12.7g(0.092
mol)と4−ジアゾフェニルアミン硫酸塩40.5g
(0.138mol)を液温が5℃を越えないように注
意しながら撹拌溶解した。次いで、パラホルムアルデヒ
ド6.22g(0.207mol)を撹拌しながら1時
間かけてゆっくりと加えて縮合反応を行った。この際も
反応液が5℃を越えないように注意した。さらに、上記
パラホルムアルデヒドを加え終わった後30分間5℃以
下で撹拌を続けた。反応終了後、反応液を0℃に冷却し
たエタノール1600mlにゆっくりと投入することに
より析出物が生成した。この際、液温が40℃を越えな
いように注意した。析出物を吸引濾過して濾取し、エタ
ノール300mlで洗浄して反応中間体a(ジアゾ硫酸
塩)を得た。この取り出した反応中間体aを水240m
lに溶解した後、水90mlに溶解した塩化亜鉛19.
04g(0.14mol)を加えると、再び析出物が生
成した。析出物を吸引濾過して濾取し、反応中間体b
(ジアゾ樹脂塩化亜鉛複塩)を得た。ここで得られた反
応中間体bを水1000mlに溶解した後、水180m
lに溶解したヘキサフルオロリン酸アンモン24.8g
(0.15mol)を加えると、析出物が生成した。こ
の析出物を吸引濾過して濾取し、エタノール300ml
で洗浄した後、30℃で3日間乾燥し、ジアゾ樹脂を3
2.4gを得た。
0gのp−ヒドロキシ安息香酸12.7g(0.092
mol)と4−ジアゾフェニルアミン硫酸塩40.5g
(0.138mol)を液温が5℃を越えないように注
意しながら撹拌溶解した。次いで、パラホルムアルデヒ
ド6.22g(0.207mol)を撹拌しながら1時
間かけてゆっくりと加えて縮合反応を行った。この際も
反応液が5℃を越えないように注意した。さらに、上記
パラホルムアルデヒドを加え終わった後30分間5℃以
下で撹拌を続けた。反応終了後、反応液を0℃に冷却し
たエタノール1600mlにゆっくりと投入することに
より析出物が生成した。この際、液温が40℃を越えな
いように注意した。析出物を吸引濾過して濾取し、エタ
ノール300mlで洗浄して反応中間体a(ジアゾ硫酸
塩)を得た。この取り出した反応中間体aを水240m
lに溶解した後、水90mlに溶解した塩化亜鉛19.
04g(0.14mol)を加えると、再び析出物が生
成した。析出物を吸引濾過して濾取し、反応中間体b
(ジアゾ樹脂塩化亜鉛複塩)を得た。ここで得られた反
応中間体bを水1000mlに溶解した後、水180m
lに溶解したヘキサフルオロリン酸アンモン24.8g
(0.15mol)を加えると、析出物が生成した。こ
の析出物を吸引濾過して濾取し、エタノール300ml
で洗浄した後、30℃で3日間乾燥し、ジアゾ樹脂を3
2.4gを得た。
【0170】〈ネガ型感光性平版印刷版の作製〉次に、
下記6種類の感光性組成物塗布液(感光性組成物塗布液
1〜 6)を、上記3種類の支持体(支持体1〜 3)の
それぞれにワイヤーバーを用いて塗布し、85℃で2分
間乾燥し、感光層を設けた。このとき、上記感光性組成
物塗布液は乾燥重量として1.6g/m2となるように
した。次に、支持体裏面から、感光層表面が80℃にな
るように加熱し、粉砕、分級された定方向径0.5〜4
0μmのスチレン−アクリル酸−ブチルアクリレート
(比率、45:30:25)共重合体粉末を定量供給す
る粉体供給機を用いて印刷版表面1m2当たり0.05
gになるように均一に散布付着して、表1の18種類の
ネガ型感光性平版印刷版を得た。
下記6種類の感光性組成物塗布液(感光性組成物塗布液
1〜 6)を、上記3種類の支持体(支持体1〜 3)の
それぞれにワイヤーバーを用いて塗布し、85℃で2分
間乾燥し、感光層を設けた。このとき、上記感光性組成
物塗布液は乾燥重量として1.6g/m2となるように
した。次に、支持体裏面から、感光層表面が80℃にな
るように加熱し、粉砕、分級された定方向径0.5〜4
0μmのスチレン−アクリル酸−ブチルアクリレート
(比率、45:30:25)共重合体粉末を定量供給す
る粉体供給機を用いて印刷版表面1m2当たり0.05
gになるように均一に散布付着して、表1の18種類の
ネガ型感光性平版印刷版を得た。
【0171】 〈感光性組成物塗布液1〉 ジアゾ樹脂 0.65g 感光性ミクロゲル(a) 1.70g 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリロニトリル/メチルアクリレー ト/メチルメタクリレート(モル比:25/30/25/20)共重合体(Mw =50000) 1.70g 酒石酸 0.05g 色素(ビクトリアピュアブルーBOH、保土谷化学社製) 0.10g フッ素系界面活性剤(フロラードFC−430、住友3M社製) 0.025g 乳酸メチル/プロピレングリコールモノメチルエーテル(8/2) 100ml 〈感光性組成物塗布液2〉 ジアゾ樹脂 0.65g 感光性ミクロゲル(b) 1.70g 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリロニトリル/メチルアクリレー ト/メチルメタクリレート(モル比:25/30/25/20)共重合体(Mw =50000) 1.70g 酒石酸 0.05g 色素(ビクトリアピュアブルーBOH、保土谷化学社製) 0.10g フッ素系界面活性剤(フロラードFC−430、住友3M社製) 0.025g 乳酸メチル/プロピレングリコールモノメチルエーテル(8/2) 100ml 〈感光性組成物塗布液3〉 ジアゾ樹脂 0.65g ミクロゲル(c) 1.70g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−ト リアジン 0.25g 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリロニトリル/メチルアクリレー ト/メチルメタクリレート(モル比:25/30/25/20)共重合体(Mw =50000) 1.70g 酒石酸 0.05g 色素(ビクトリアピュアブルーBOH、保土谷化学社製) 0.10g フッ素系界面活性剤(フロラードFC−430、住友3M社製) 0.025g 乳酸メチル/プロピレングリコールモノメチルエーテル(8/2) 100ml 〈感光性組成物塗布液4〉 ジアゾ樹脂 0.65g ミクロゲル(d) 1.70g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−ト リアジン 0.25g 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリロニトリル/メチルアクリレー ト/メチルメタクリレート(モル比:25/30/25/20)共重合体(Mw =50000) 1.70g 酒石酸 0.05g 色素(ビクトリアピュアブルーBOH、保土谷化学社製) 0.10g フッ素系界面活性剤(フロラードFC−430、住友3M社製) 0.025g 乳酸メチル/プロピレングリコールモノメチルエーテル(8/2) 100ml 〈感光性組成物塗布液5〉 ジアゾ樹脂 0.65g 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリロニトリル/メチルアクリレー ト/メチルメタクリレート(モル比:25/30/25/20)共重合体(Mw =50000) 3.40g 酒石酸 0.05g 色素(ビクトリアピュアブルーBOH、保土谷化学社製) 0.10g フッ素系界面活性剤(フロラードFC−430、住友3M社製) 0.025g 乳酸メチル/プロピレングリコールモノメチルエーテル(8/2) 100ml 〈感光性組成物塗布液6〉 ペンタエリスリトールトリアクリレート 2.05g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−ト リアジン 0.25g 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリロニトリル/メチルアクリレー ト/メチルメタクリレート(モル比:25/30/25/20)共重合体(Mw =50000) 3.40g 酒石酸 0.05g 色素(ビクトリアピュアブルーBOH、保土谷化学社製) 0.10g フッ素系界面活性剤(フロラードFC−430、住友3M社製) 0.025g 乳酸メチル/プロピレングリコールモノメチルエーテル(8/2) 100ml 得られた上記18種類のネガ型感光性平版印刷版(ネガ
型感光性平版印刷板1〜 18)に、イーストマンコダ
ック社製ステップタブレット(1ステップの透過濃度差
0.15)とネガ像フィルム原稿を通し、PS版用焼付
器を用い、2KWメタルハライドランプを光源として8
mW/cm2で30秒間露光し、25℃に温調した水
(現像液)に40秒間浸漬した後、スポンジで表面を軽
く擦り、未露光部を除去して表1の18種類の平版印刷
版(試料1〜12及び比較試料1〜6)を得た。さらに
上記ネガ型感光性平版印刷版1を用い、上記水にイソ
プロピルアルコールを5重量%含有させてなる現像液
1、及び上記水にイソプロピルアルコールを5重量%含
有させ、かつpHが9.0になるようにNaOHにより
pH調整を行った現像液2を用いた他は試料1と同様に
して比較試料7及び8を得た。
型感光性平版印刷板1〜 18)に、イーストマンコダ
ック社製ステップタブレット(1ステップの透過濃度差
0.15)とネガ像フィルム原稿を通し、PS版用焼付
器を用い、2KWメタルハライドランプを光源として8
mW/cm2で30秒間露光し、25℃に温調した水
(現像液)に40秒間浸漬した後、スポンジで表面を軽
く擦り、未露光部を除去して表1の18種類の平版印刷
版(試料1〜12及び比較試料1〜6)を得た。さらに
上記ネガ型感光性平版印刷版1を用い、上記水にイソ
プロピルアルコールを5重量%含有させてなる現像液
1、及び上記水にイソプロピルアルコールを5重量%含
有させ、かつpHが9.0になるようにNaOHにより
pH調整を行った現像液2を用いた他は試料1と同様に
して比較試料7及び8を得た。
【0172】〈評価方法〉 《感度》上記のようにして得られた試料1〜 12及び
比較試料1〜 8上に反転画像として得られたステップ
タブレット陰画において、膜べりを起こさない最大段数
を読み取り、感度の評価とし、その結果を表1に示し
た。
比較試料1〜 8上に反転画像として得られたステップ
タブレット陰画において、膜べりを起こさない最大段数
を読み取り、感度の評価とし、その結果を表1に示し
た。
【0173】《画像部ヤラレ(画像損傷)》上記試料1
〜12及び比較試料1〜8上に反転画像として得られた
画像部の状態を下記評価基準に基づき評価し、画像部ヤ
ラレの評価とした。
〜12及び比較試料1〜8上に反転画像として得られた
画像部の状態を下記評価基準に基づき評価し、画像部ヤ
ラレの評価とした。
【0174】 ○:画像部に全く傷が付いていない △:画像部表面に僅かに傷が認められる ×:画像部に傷が付き支持体が露出している。
【0175】《耐刷性》上記試料1〜12及び比較試料
1〜8を、印刷機「DAIYA 1F−1」(三菱重工
業(株)社製)にかけ、コート紙、湿し水「エッチ液S
G−51、濃度1.5%」(東京インキ(株)社製)、
インキ「ハイエコー紅」(東洋インキ製造(株)社製)
を使用して印刷を行い、印刷物の画像部にインキ着肉不
良が生じるか非画像部にインキが付着するまで印刷を行
い、そのときの印刷枚数を以って耐刷性の評価とし、そ
の結果を表1に示した。
1〜8を、印刷機「DAIYA 1F−1」(三菱重工
業(株)社製)にかけ、コート紙、湿し水「エッチ液S
G−51、濃度1.5%」(東京インキ(株)社製)、
インキ「ハイエコー紅」(東洋インキ製造(株)社製)
を使用して印刷を行い、印刷物の画像部にインキ着肉不
良が生じるか非画像部にインキが付着するまで印刷を行
い、そのときの印刷枚数を以って耐刷性の評価とし、そ
の結果を表1に示した。
【0176】《階調性》上記試料1〜12及び比較試料
1〜8を上記耐刷性の項の条件と同様の条件で印刷を行
い、反転画像として得られた紙面上のステップタブレッ
ト陰画において、インキが着肉するまでの最大段数を読
みとり、その値から感度の段数を引いた値を階調性の評
価とし、その結果を表1に示した。
1〜8を上記耐刷性の項の条件と同様の条件で印刷を行
い、反転画像として得られた紙面上のステップタブレッ
ト陰画において、インキが着肉するまでの最大段数を読
みとり、その値から感度の段数を引いた値を階調性の評
価とし、その結果を表1に示した。
【0177】《インキ着肉性》上記試料1〜12及び比
較試料1〜8を上記耐刷性の項の条件と同様の条件で印
刷を行い、正常な印刷物を得るまでの印刷枚数をインキ
着肉性の評価とし、その結果を表1に示した。
較試料1〜8を上記耐刷性の項の条件と同様の条件で印
刷を行い、正常な印刷物を得るまでの印刷枚数をインキ
着肉性の評価とし、その結果を表1に示した。
【0178】
【表1】
【0179】表1より本発明の感光性平版印刷版及び該
感光性平版印刷版を実質的に有機溶媒を含有しない水系
現像液で現像して得られる平版印刷版は、感度低下や階
調性の画像強度、耐刷性及びインク着肉性に優れている
が、比較の感光性平版印刷版及び平版印刷版は上記画像
強度、耐刷性及びインク着肉性が悪く、実用性に乏しい
ことが解る。
感光性平版印刷版を実質的に有機溶媒を含有しない水系
現像液で現像して得られる平版印刷版は、感度低下や階
調性の画像強度、耐刷性及びインク着肉性に優れている
が、比較の感光性平版印刷版及び平版印刷版は上記画像
強度、耐刷性及びインク着肉性が悪く、実用性に乏しい
ことが解る。
【0180】
【発明の効果】実施例により実証された如く、本発明の
感光性平版印刷版及び該感光性平版印刷版を実質的に有
機溶剤を含有しない水系現像液で処理して得られる平版
印刷版によれば、画像強度、耐刷性及びインキ付着性に
優れていて、常に良質の印刷画像が安定して得られる
等、優れた効果を有する。
感光性平版印刷版及び該感光性平版印刷版を実質的に有
機溶剤を含有しない水系現像液で処理して得られる平版
印刷版によれば、画像強度、耐刷性及びインキ付着性に
優れていて、常に良質の印刷画像が安定して得られる
等、優れた効果を有する。
Claims (5)
- 【請求項1】 粗面化処理及び陽極酸化処理が施された
アルミニウム支持体上にジアゾ樹脂、光重合開始剤及び
表面に付加重合性不飽和基を有するミクロゲルを含有す
る感光性組成物層を設けてなることを特徴とする感光性
平版印刷版。 - 【請求項2】 粗面化処理及び陽極酸化処理が施された
アルミニウム支持体上にジアゾ樹脂及び表面に光架橋性
基を有するミクロゲルを含有する感光性組成物層を設け
てなることを特徴とする感光性平版印刷版。 - 【請求項3】 前記粗面化処理及び陽極酸化処理が施さ
れたアルミニウム支持体を、さらにアルカリ金属珪酸塩
で処理することを特徴とする請求項1又は2に記載の感
光性平版印刷版。 - 【請求項4】 請求項1、2又は3に記載の感光性平版
印刷版を露光した後、未露光部分を実質的に有機溶剤を
含有しない水系現像液を用いて除去することを特徴とす
る平版印刷版の作製方法。 - 【請求項5】 前記実質的に有機溶剤を含有しない水系
現像液が水であることを特徴とする請求項4に記載の平
版印刷版の作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1703398A JPH11212251A (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | 感光性平版印刷版及び平版印刷版の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1703398A JPH11212251A (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | 感光性平版印刷版及び平版印刷版の作製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11212251A true JPH11212251A (ja) | 1999-08-06 |
Family
ID=11932703
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1703398A Pending JPH11212251A (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | 感光性平版印刷版及び平版印刷版の作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11212251A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003055924A1 (fr) * | 2001-12-27 | 2003-07-10 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Composes portant un maleimido, compositions de resine contenant ces derniers et articles durcis fabriques a partir de ceux-ci |
-
1998
- 1998-01-29 JP JP1703398A patent/JPH11212251A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003055924A1 (fr) * | 2001-12-27 | 2003-07-10 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Composes portant un maleimido, compositions de resine contenant ces derniers et articles durcis fabriques a partir de ceux-ci |
US7169829B2 (en) | 2001-12-27 | 2007-01-30 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Maleimido-bearing compounds resin composition containing the same and cured articles thereof |
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