JPH11205123A - 高耐圧パワー集積回路 - Google Patents

高耐圧パワー集積回路

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JPH11205123A
JPH11205123A JP10008600A JP860098A JPH11205123A JP H11205123 A JPH11205123 A JP H11205123A JP 10008600 A JP10008600 A JP 10008600A JP 860098 A JP860098 A JP 860098A JP H11205123 A JPH11205123 A JP H11205123A
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JP
Japan
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voltage
transistor
drain
gate
pmos transistor
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JP10008600A
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English (en)
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Hiroshi Noma
比呂志 野間
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】高耐圧パワー集積回路のハイサイド駆動回路に
おいて、出力駆動用のトランジスタのゲート・ソース間
の耐圧、レベルシフト用のトランジスタのゲート・ソー
ス間の耐圧、ドレイン・ソース間の耐圧が動作電源電圧
以下になった場合でも、それらのゲート破壊あるいはブ
レークダウンを防止する。 【解決手段】接地電圧基準の駆動制御信号入力を動作電
源電圧基準の駆動制御信号にレベルシフトするためのレ
ベルシフト回路21において、レベルシフト用のPMO
SトランジスタM3、M4のドレインと駆動制御信号入
力用のNMOSトランジスタM1、M2のドレインとの
間にそれぞれ少なくとも1個の電圧クランプ用のMOS
トランジスタM6〜M9を挿入し、そのゲートに動作電
源電圧Vddより低いバイアス電圧Vb を印加する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高耐圧パワー半導
体装置に係り、特に絶縁ゲート型(MOS型)の出力用
トランジスタの駆動制御素子を出力用トランジスタと同
一チップ上に搭載したインテリジェント型の高耐圧パワ
ー半導体装置において出力用トランジスタ駆動回路に設
けられるMOS型のレベルシフト(電圧変換)回路に関
するもので、例えば家電用、自動車用、産業用のインテ
リジェント型のパワーMOSモジュール、インテリジェ
ント型のパワーIGBT(絶縁ゲート型バイポーラトラ
ンジスタ)などに使用される。
【0002】
【従来の技術】一般に、高電力のスイッチ出力を必要と
するパワー半導体装置であって、電圧駆動型のパワート
ランジスタからなる主スイッチ素子およびその制御用の
半導体素子群が同一半導体チップ上に集積化されたイン
テリジェント型の高耐圧パワー半導体装置においては、
ハイサイド側の出力用トランジスタの駆動回路に設けら
れたレベルシフト(電圧変換)回路で駆動制御信号入力
のレベルシフトを行って駆動信号に変換してハイサイド
側の出力用トランジスタを駆動している。
【0003】図1は、出力スイッチ素子としてNチャネ
ル型のIGBTを有する高耐圧パワー集積回路の出力ス
イッチ素子および出力駆動回路の一例を示している。集
積回路外部の高電源から高電源電圧VBB(例えば30
0V〜500V)が印加される高電源端子12と接地電
位GNDが印加される接地端子13との間に電流吐出し
側のハイサイド出力スイッチ素子10および電流吸込み
側のローサイド出力スイッチ素子20がトーテムポール
接続され、両者の接続点に中点端子14が接続されてい
る。
【0004】即ち、高電源端子12と中点端子14との
間にハイサイド出力スイッチ素子10が接続されてお
り、中点端子14と接地端子13との間にローサイド出
力スイッチ素子20が接続されている。
【0005】上記出力スイッチ素子10、20は、例え
ば三相モータ駆動回路の一部をなし、中点端子14に接
続されている外部負荷(図示せず)に駆動電流を供給す
るものであり、Nチャネル型のIGBTが用いられてい
る。
【0006】即ち、ハイサイドIGBT10は、コレク
タが高電源端子12に接続され、エミッタ(電流出力端
子)は前記中点端子(外部負荷接続端子)14に接続さ
れている。また、ローサイドIGBT20は、コレクタ
が中点端子14に接続され、エミッタは接地端子13に
接続されている。
【0007】なお、前記出力スイッチ素子10、20に
は、外部負荷(図示せず)が大きなインダクタンスを有
する場合に生じる逆起電力に起因して流れる回生電流を
吸収するためのダイオード17、18が対応して並列に
接続されている。
【0008】前記ハイサイド出力スイッチ素子10およ
びローサイド出力スイッチ素子20を駆動するための出
力駆動回路として、ハイサイド駆動回路15およびロー
サイド駆動回路16が設けられている。
【0009】前記ハイサイド駆動回路15は、第1のI
GBT駆動制御信号入力HINに応じてハイサイド出力
IGBT10のゲート容量に対する充電電流の供給出力
をオン/オフ制御することによりハイサイド出力IGB
T10のゲート電圧を制御するものである。
【0010】この場合、上記ハイサイド駆動回路15
は、制御回路系の電源電圧VCCを昇圧回路19により昇
圧した昇圧電圧Vddが動作電源として供給されることに
より駆動制御信号入力HINをレベルシフトするもので
あり、ハイサイド出力IGBT10をオン駆動する時に
はハイサイド出力IGBT10のゲートに上記昇圧電圧
Vddを供給するものである。
【0011】前記ローサイド駆動回路16は、第2のI
GBT駆動制御信号入力LINに応じてローサイド出力
IGBT20のゲート容量に対する充電電流の供給出力
をオン/オフ制御することによりローサイド出力IGB
T20のゲート電圧を制御するものである。
【0012】上記ローサイド駆動回路16は、前記電源
電圧VCCが動作電源として供給され、ローサイド出力I
GBT20をオン駆動する際に上記電源電圧VCCに等し
い駆動電圧を前記ローサイド出力IGBT20のゲート
に供給するものである。
【0013】なお、上記第1のIGBT駆動制御信号入
力HINおよび第2のIGBT駆動制御信号入力LIN
は、上記昇圧回路19によって昇圧された昇圧電圧Vdd
を降圧回路1により制御回路系の電源電圧VCCに降圧
し、この降圧された電圧が供給される入力設定回路2に
よって発生される。
【0014】上記高耐圧パワー集積回路の通常動作時に
おいて、前記ハイサイド出力IGBT10がオン状態で
ローサイド出力IGBT20がオフ状態の期間は、ハイ
サイド出力IGBT10から中点端子14に流出する電
流が外部負荷を駆動し、中点端子14の電圧(出力電圧
OUT)はほぼ高電源電圧VBBである。
【0015】これに対して、前記ローサイド出力IGB
T20がオン状態でハイサイド出力IGBT10がオフ
状態の期間は、外部負荷側から中点端子14に電流が流
入し、中点端子14の電圧(出力電圧OUT)はほぼV
CEsat (IGBT20のコレクタ・エミッタ間飽和電
圧)である。
【0016】図8は、図1中のハイサイド駆動回路15
の従来例を示す。このハイサイド駆動回路は、GND基
準のCMOSレベル系の駆動制御信号入力HINをVdd
(動作電源電圧)基準の駆動信号にレベルシフトするレ
ベルシフト(電圧変換)回路81と、前記レベルシフト
回路81の出力信号に応じてハイサイド出力IGBT1
0のゲート容量に対する充電電流の供給出力をオン/オ
フ制御することによりハイサイド出力IGBT10のゲ
ート電圧を制御する(つまり、ハイサイド出力IGBT
10をオン駆動する時にはハイサイド出力IGBT10
のゲートに前記昇圧電圧Vddを供給する)出力駆動用の
PMOSトランジスタM5とを具備する。
【0017】上記出力駆動用のPMOSトランジスタM
5は、基板領域・ソースがVddノードに接続され、ドレ
インが前記ハイサイド出力IGBT10のゲートに接続
されており、高耐圧FET(電界効果トランジスタ)が
用いられている。
【0018】また、前記レベルシフト回路81は、基板
領域・ソースが接地電圧(GND)ノードに接続された
第1のNMOSトランジスタM1と、基板領域・ソース
がGNDノードに接続された第2のNMOSトランジス
タM2と、基板領域・ソースが電源電圧(Vdd)ノード
に接続され、ドレインが前記第1のNMOSトランジス
タM1のドレインに接続されたレベルシフト用の第1の
PMOSトランジスタM3と、基板領域・ソースがVdd
ノードに接続され、ドレインが前記第2のNMOSトラ
ンジスタM2のドレインに接続されたレベルシフト用の
第2のPMOSトランジスタM4と、CMOSレベル系
の駆動制御信号HIN入力を前記第1のNMOSトラン
ジスタM1のゲートに入力するとともに上記信号HIN
入力をインバータ回路IV1で反転した反転信号を前記
第2のNMOSトランジスタM2のゲートに入力する入
力回路部とを具備している。
【0019】そして、前記レベルシフト用の2個のPM
OSトランジスタM3、M4は、互いのゲート・ドレイ
ン相互が接続されており、第1のPMOSトランジスタ
M3のドレインが前記出力駆動用のPMOSトランジス
タM5のゲートに接続されている。
【0020】次に、図8中のレベルシフト回路の動作を
説明する。信号HINが“L”レベル(0V)の時に
は、第1のNMOSトランジスタM1はオフになり、第
2のNMOSトランジスタM2はオン状態になってその
ドレインは“L”レベル(0V)になっている。これに
より、第1のPMOSトランジスタM3は、ゲートに0
Vが印加されてオン状態になっており、そのドレイン電
圧(output 1)はVddになっており、このVddがゲート
に印加される第2のPMOSトランジスタM4はオフ状
態になっている。この時、第1のPMOSトランジスタ
M3のドレイン電圧(Vdd)がゲートに印加される出力
駆動用のPMOSトランジスタM5はオフ状態になって
いる。
【0021】これに対して、信号HINが“L”レベル
から“H”レベルに切り換わると、第1のNMOSトラ
ンジスタM1はオン状態に反転してそのドレインは
“L”レベル(0V)になり、第2のNMOSトランジ
スタM2はオフ状態に反転にする。これにより、第1の
PMOSトランジスタM3に電流が流れ始めてそのドレ
イン電圧が低下し、第2のPMOSトランジスタM4は
オン状態に反転してそのドレイン電圧が上昇してVddに
なり、このVddがゲートに印加される第1のPMOSト
ランジスタM3は急速にオフ状態に反転する。この時、
第1のPMOSトランジスタM3のドレイン電圧(0
V)がゲートに印加される出力駆動用のPMOSトラン
ジスタM5はオン状態に反転し、図1中のハイサイド出
力IGBT10のゲートにVddを供給する(ハイサイド
出力IGBT10をオン駆動する)ようになる。
【0022】ところで、上記したように信号HINが
“L”レベルから“H”レベルに変化した時、出力駆動
用のPMOSトランジスタM5のゲート・ソース間の電
圧に着目すれば、0Vから−Vddまで変化したことにな
る。
【0023】この時、第2のPMOSトランジスタM4
のゲート・ソース間の電圧も0Vから−Vddまで変化し
たことになり、第1のNMOSトランジスタM1のドレ
イン・ソース間の電圧はVddから0Vまで変化したこと
になり、第2のNMOSトランジスタM2のドレイン・
ソース間の電圧は0VからVddまで変化したことにな
り、第1のPMOSトランジスタM3のゲート・ソース
間の電圧も−Vddから0Vまで変化したことになる。
【0024】従って、半導体装置の素子の微細化などに
より、出力駆動用のPMOSトランジスタM5のゲート
・ソース間の耐圧がVdd以下になった場合には、ゲート
破壊を生じる。
【0025】また、レベルシフト用の第1のPMOSト
ランジスタM3、第2のPMOSトランジスタM4のゲ
ート・ソース間の耐圧がVdd以下になった場合には、ゲ
ート破壊を生じる。
【0026】また、駆動制御信号入力用の第1のNMO
SトランジスタM1、第2のNMOSトランジスタM2
のドレイン・ソース間の耐圧がVdd以下になった場合に
は、PN接合部のブレークダウンを生じる。
【0027】
【発明が解決しようとする課題】上記したように従来の
高耐圧パワー集積回路におけるハイサイド側の出力駆動
回路は、出力駆動用のPMOSトランジスタのゲート・
ソース間の耐圧が動作電源電圧Vdd以下になった場合に
はゲート破壊を生じ、レベルシフト用のPMOSトラン
ジスタのゲート・ソース間の耐圧がVdd以下になった場
合にはゲート破壊を生じ、駆動制御信号入力用のNMO
Sトランジスタのドレイン・ソース間の耐圧がVdd以下
になった場合にはブレークダウンを生じるという問題が
あった。
【0028】本発明は上記の問題点を解決すべくなされ
たもので、出力駆動用のPMOSトランジスタのゲート
・ソース間の耐圧、レベルシフト用のPMOSトランジ
スタのゲート・ソース間の耐圧、駆動制御信号入力用の
NMOSトランジスタのドレイン・ソース間の耐圧がハ
イサイド駆動回路の動作電源電圧以下になった場合で
も、それらのゲート破壊あるいはブレークダウンを防止
し得るように接地電圧基準の駆動制御信号を動作電源電
圧基準の駆動制御信号にレベルシフトを行うレベルシフ
ト回路を有する高耐圧パワー集積回路を提供することを
目的とする。
【0029】
【課題を解決するための手段】本発明の高耐圧パワー集
積回路は、高電源が印加される高電源端子と、集積回路
外部の負荷が接続される中点端子と、前記高電源端子と
前記中点端子との間に接続された絶縁ゲート型トランジ
スタを有する電流吐出し用の第1の出力スイッチ素子
と、接地電圧基準の第1の駆動制御信号入力を動作電源
電圧基準の駆動制御信号にレベルシフトするレベルシフ
ト回路およびこのレベルシフトされた駆動制御信号に応
じて前記第1の出力スイッチ素子の制御電極に駆動信号
を供給する出力駆動用素子を備えた第1の駆動回路と、
制御回路用電源電圧を昇圧し、前記第1の駆動回路の動
作電源として供給する昇圧回路と、前記中点端子と接地
端子との間に接続された絶縁ゲート型トランジスタを有
する電流吸込み用の第2の出力スイッチ素子と、接地電
圧基準の第2の駆動制御信号入力に応じて前記第2の出
力スイッチ素子の制御電極に駆動信号を供給する第2の
駆動回路とを具備し、前記第1の駆動回路のレベルシフ
ト回路は、レベルシフト用のPMOSトランジスタのド
レインと駆動制御信号入力用のNMOSトランジスタの
ドレインとの間に少なくとも1個挿入され、ゲートに前
記動作電源電圧より低いバイアス電圧が印加され、前記
第1のPMOSトランジスタのドレインの電圧および前
記第2のPMOSトランジスタのドレインの電圧をクラ
ンプするための電圧クランプ用のMOSトランジスタを
具備することを特徴とする。
【0030】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の第1の実
施の形態に係る高耐圧パワー集積回路の一部(出力スイ
ッチ素子と出力駆動回路)の構成および集積回路外部と
の接続関係を示している。
【0031】<第1実施例>図1に示す高耐圧パワー集
積回路は、前述した従来例の高耐圧パワー集積回路と比
べて、ハイサイド駆動回路15内のレベルシフト回路が
異なり、その他は同じである。
【0032】図1において、集積回路外部の高電源から
高電源電圧VBB(例えば300V〜500V)が印加
される高電源端子12と接地電圧GNDが印加される接
地端子13との間に電流吐出し側のハイサイド出力スイ
ッチ素子10および電流吸込み側のローサイド出力スイ
ッチ素子20がトーテムポール接続されており、両者の
接続点に中点端子(外部負荷接続端子)14が接続され
ている。
【0033】即ち、高電源端子12と中点端子14との
間にハイサイド出力スイッチ素子10が接続されてお
り、中点端子14と接地端子13との間にローサイド出
力スイッチ素子20が接続されている。
【0034】上記出力スイッチ素子10、20は、例え
ば三相モータ駆動回路の一部をなし、中点端子14に接
続されている外部負荷(図示せず)に駆動電流を供給す
るものであり、Nチャネル型のIGBTが用いられてい
る。
【0035】即ち、ハイサイドIGBT10は、コレク
タが高電源端子12に接続され、エミッタ(電流出力端
子)は前記中点端子(外部負荷接続端子)14に接続さ
れている。また、ローサイドIGBT20は、コレクタ
が中点端子14に接続され、エミッタは接地端子13に
接続されている。
【0036】なお、前記出力スイッチ素子10、20に
は、外部負荷(図示せず)が大きなインダクタンスを有
する場合に生じる逆起電力に起因して流れる回生電流を
吸収するためのダイオード17、18が対応して並列に
接続されている。
【0037】前記ハイサイド出力スイッチ素子10およ
びローサイド出力スイッチ素子20を駆動するための出
力駆動回路として、ハイサイド駆動回路15およびロー
サイド駆動回路16が設けられている。
【0038】前記ハイサイド駆動回路15は、第1のI
GBT駆動制御信号入力HINに応じてハイサイド出力
IGBT10のゲート容量に対する充電電流の供給出力
をオン/オフ制御することによりハイサイド出力IGB
T10のゲート電圧を制御するものである。
【0039】この場合、上記ハイサイド駆動回路15
は、制御回路系の電源電圧VCCを昇圧回路19により昇
圧した昇圧電圧Vddが動作電源として供給されており、
接地電圧基準の駆動制御信号入力HINを動作電源電圧
基準の駆動制御信号にレベルシフトするものであり、ハ
イサイド出力IGBT10をオン駆動する時にはハイサ
イド出力IGBT10のゲートに上記昇圧電圧を供給す
るものである。
【0040】前記昇圧回路19は、電源電圧VCCが印加
されるノードと前記中点端子14との間にブートストラ
ップ用の高耐圧ダイオードDおよびコンデンサCが直列
に接続されてなり、このコンデンサCの両端間電圧を前
記ハイサイド駆動回路15の動作電源として供給する。
【0041】この昇圧回路19は、前記ローサイド出力
IGBT20がオン状態の時にコンデンサCが充電さ
れ、ローサイド出力IGBT20がオフ状態でハイサイ
ド出力IGBT10がオン状態になった時に中点端子1
4の電圧が上昇し、それに応じて前記ダイオードDのカ
ソード(コンデンサCとの接続ノード、昇圧出力ノー
ド)の電圧が上昇する。
【0042】前記ローサイド駆動回路16は、接地電圧
基準の第2のIGBT駆動制御信号入力LINに応じて
ローサイド出力IGBT20のゲート容量に対する充電
電流の供給出力をオン/オフ制御することによりローサ
イド出力IGBT20のゲート電圧を制御するものであ
る。
【0043】上記ローサイド駆動回路16は、前記電源
電圧VCCが動作電源として供給され、ローサイド出力I
GBT20をオン駆動する際に上記電源電圧VCCに等し
い駆動電圧を前記ローサイド出力IGBT20のゲート
に供給するものである。
【0044】なお、上記第1のIGBT駆動制御信号入
力HINおよび第2のIGBT駆動制御信号入力LIN
は、上記昇圧回路19によって昇圧された昇圧電圧Vdd
を降圧回路1により制御回路系の電源電圧VCCに降圧
し、この降圧された電圧が供給される入力設定回路2に
よって発生される。
【0045】従って、図1に示した高耐圧パワー集積回
路の通常動作時において、前記ハイサイド出力IGBT
10がオン状態でローサイド出力IGBT20がオフ状
態の期間は、ハイサイド出力IGBT10から中点端子
14に流出する電流が外部負荷を駆動し、中点端子14
の電圧(出力電圧OUT)はほぼ高電源電圧VBBであ
る。
【0046】これに対して、前記ローサイド出力IGB
T20がオン状態でハイサイド出力IGBT10がオフ
状態の期間は、外部負荷側から中点端子14に電流が流
入し、中点端子14の電圧(出力電圧OUT)はほぼV
CEsat (IGBT20のコレクタ・エミッタ間飽和電
圧)である。
【0047】なお、通常は、前記ハイサイドIGBT1
0はマルチエミッタ構造を有するIGBTが用いられて
おり、前記ハイサイド出力IGBT10の過電流を検出
して過電流検出信号を出力し、上記過電流検出信号をハ
イサイド駆動回路15に伝達することにより、ハイサイ
ド出力IGBT10をオフ状態に制御し、その破壊を防
止する(ハイサイド出力IGBT10を保護する)過電
流制限回路(図示せず)が設けられている。
【0048】また、上記過電流制限回路は、必要に応じ
て、過電流検出信号をローサイド駆動回路16に伝達す
ることにより、ローサイド出力IGBT20をオフ状態
に制御し、その破壊を防止する。
【0049】図2は、図1中のハイサイド駆動回路15
の一例を示す。このハイサイド駆動回路は、接地電圧基
準のCMOSレベル系の駆動制御信号入力HINをVdd
(動作電源電圧)基準の駆動信号にレベルシフト(電圧
変換)するレベルシフト回路21と、このレベルシフト
回路21の出力信号に応じて図1中のハイサイド出力I
GBT10のゲート容量に対する充電電流の供給出力を
オン/オフ制御することによりハイサイド出力IGBT
10のゲート電圧を制御する(つまり、ハイサイド出力
IGBT10をオン駆動する時にはハイサイド出力IG
BT10のゲートに前記昇圧電圧Vddを供給する)出力
駆動素子M5とを具備する。
【0050】上記出力駆動素子M5として、MOSFE
Tが用いられており、通常は、基板領域・ソースがVdd
ノードに接続され、ドレインが前記ハイサイド出力IG
BT10のゲートに接続されたPMOSトランジスタが
用いられている。
【0051】また、前記レベルシフト回路21は、基板
領域・ソースがGNDノードに接続された駆動制御信号
入力用の第1のNMOSトランジスタM1と、基板領域
・ソースがGNDノードに接続された駆動制御信号入力
用の第2のNMOSトランジスタM2と、基板領域・ソ
ースが電源電圧(Vdd)ノードに接続されたレベルシフ
ト用の第1のPMOSトランジスタM3と、基板領域・
ソースがVddノードに接続されたレベルシフト用の第2
のPMOSトランジスタM4とを有する。
【0052】前記レベルシフト用の2個のPMOSトラ
ンジスタM3、M4は、互いのゲート・ドレイン相互が
接続されており、第1のPMOSトランジスタM3のド
レインが前記出力駆動用のPMOSトランジスタM5の
ゲートに接続されている。
【0053】そして、接地電圧基準のCMOSレベル系
の駆動制御信号HIN入力を前記第1のNMOSトラン
ジスタM1のゲートに入力するとともに上記信号HIN
入力をインバータ回路IV1で反転した反転信号を前記
第2のNMOSトランジスタM2のゲートに入力する入
力回路部を有する。
【0054】さらに、前記レベルシフト用のPMOSト
ランジスタM3、M4のドレインと駆動制御信号入力用
のNMOSトランジスタM1、M2のドレインとの間に
それぞれ少なくとも1個挿入され、ゲートに前記動作電
源電圧Vddより低いバイアス電圧Vb が印加され、前記
第1のPMOSトランジスタM3のドレインの電圧(Ou
tput 1)をクランプするための電圧クランプ用のMOS
トランジスタを具備する。
【0055】本例では、上記電圧クランプ用のMOSト
ランジスタとして、前記第1のPMOSトランジスタM
3のドレインにソース・基板領域が接続された第3のP
MOSトランジスタM6と、上記第3のPMOSトラン
ジスタM6のドレインと前記第1のNMOSトランジス
タM1のドレインとの間にドレイン・ソース間が接続さ
れ、ソース・基板領域相互が接続された第3のNMOS
トランジスタM8と、前記第2のPMOSトランジスタ
M4のドレインにソース・基板領域が接続された第4の
PMOSトランジスタM7と、上記第4のPMOSトラ
ンジスタM7のドレインと前記第2のNMOSトランジ
スタM2のドレインとの間にドレイン・ソース間が接続
され、ソース・基板領域相互が接続された第4のNMO
SトランジスタM9とを有する。
【0056】さらに、前記電圧クランプ用のトランジス
タM6〜M9の各ゲートに共通接続されているバイアス
電圧ノードには、前記Vddより低いバイアス電圧Vb を
供給するためのバイアス電圧供給源が接続されている。
【0057】なお、前記出力駆動用のPMOSトランジ
スタM5のゲート・ソース間の耐圧、レベルシフト用の
PMOSトランジスタM3、M4のゲート・ソース間の
耐圧、駆動制御信号入力用のNMOSトランジスタM
1、M2のドレイン・ソース間の耐圧がVdd/2より十
分に高いものと仮定すれば、前記バイアス電圧Vb とし
て例えばVdd/2を供給するためのバイアス電圧供給源
として、例えばVddノードと前記第1のバイアス電圧ノ
ードとの間にツェナーダイオードZDが接続されてい
る。
【0058】次に、図2中のレベルシフト回路21の動
作を説明する。信号HINが“L”レベル(0V)の時
には、第1のNMOSトランジスタM1はオフになり、
第2のNMOSトランジスタM2はオン状態になってそ
のドレインは“L”レベル(0V)になっている。そし
て、それぞれのゲートにバイアス電圧Vb (=Vdd/
2)が印加されている電圧クランプ用のNMOSトラン
ジスタM9、PMOSトランジスタM7はそれぞれオン
状態になっているので、PMOSトランジスタM7のド
レイン電圧はほぼVb にクランプされている。
【0059】これにより、第1のPMOSトランジスタ
M3は、ゲートにVb (=Vdd/2)が印加されてオン
状態になっており、そのドレイン電圧はVddになってお
り、この電圧Vddがゲートに印加される第2のPMOS
トランジスタM4および出力駆動用のPMOSトランジ
スタM5はオフ状態になっている。
【0060】これに対して、信号HINが“L”レベル
から“H”レベルに切り換わると、第1のNMOSトラ
ンジスタM1はオン状態に反転してそのドレインは
“L”レベル(0V)になり、第2のNMOSトランジ
スタM2はオフ状態に反転にする。そして、それぞれの
ゲートにバイアス電圧Vb (=Vdd/2)が印加されて
いる電圧クランプ用のNMOSトランジスタM8、PM
OSトランジスタM6はそれぞれオン状態になっている
ので、PMOSトランジスタM6のドレイン電圧はほぼ
Vb にクランプされている。
【0061】これにより、第1のPMOSトランジスタ
M3に電流が流れ始めてそのドレイン電圧が低下し、第
2のPMOSトランジスタM4はオン状態に反転してそ
のドレイン電圧が上昇してVddになり、このVddがゲー
トに印加される第1のPMOSトランジスタM3は急速
にオフ状態に反転する。この時、第1のPMOSトラン
ジスタM3のドレイン電圧(第3のPMOSトランジス
タM6のドレイン電圧)であるVb =Vdd/2がゲート
に印加される出力駆動用のPMOSトランジスタM5は
オン状態に反転し、図1中のハイサイド出力IGBT1
0のゲートにVddを供給する(ハイサイド出力IGBT
10をオン駆動する)ようになる。
【0062】上記したように信号HINが“L”レベル
から“H”レベルに変化した時、出力駆動用のPMOS
トランジスタM5のゲート・ソース間の電圧に着目すれ
ば、0Vから−Vb (=Vdd/2)まで変化したことに
なる。
【0063】この時、第2のPMOSトランジスタM4
のゲート・ソース間の電圧も0Vから−Vb (=Vdd/
2)まで変化したことになり、第1のPMOSトランジ
スタM3のゲート・ソース間の電圧は−Vb (=Vdd/
2)から0Vまで変化したことになる。また、前記第1
のNMOSトランジスタM1のドレイン・ソース間の電
圧および第2のNMOSトランジスタM2のドレイン・
ソース間の電圧は、それぞれ0VからVb まで変化した
ことになる。
【0064】従って、出力駆動用のPMOSトランジス
タM5のゲート・ソース間の耐圧がVdd以下になった場
合であってもVdd/2より高ければ、ゲート破壊を生じ
ることはない。また、レベルシフト用の第1のPMOS
トランジスタM3、第2のPMOSトランジスタM4の
ゲート・ソース間の耐圧がVdd以下になった場合であっ
てもVdd/2より高ければ、ゲート破壊を生じることは
ない。また、駆動制御信号入力用の第1のNMOSトラ
ンジスタM1、第2のNMOSトランジスタM2のドレ
イン・ソース間の耐圧がVdd以下になった場合であって
もVdd/2より高ければ、PN接合部のブレークダウン
を生じることはない。
【0065】<第2実施例>前述した図2中のレベルシ
フト回路21において、出力駆動用のPMOSトランジ
スタM5、レベルシフト用のPMOSトランジスタM
3、M4のゲート・ソース間の耐圧がVdd以上ある場合
には、図3に示す第2実施例のように実施することが可
能である。
【0066】即ち、図3中に示すレベルシフト回路31
は、図2に示した第1実施例のレベルシフト回路21と
比べて、電圧クランプ用の第3のPMOSトランジスタ
M6および第4のPMOSトランジスタM7を省略した
点が異なり、その他は同じであるので図2中と同一符号
を付している。
【0067】このように第3のPMOSトランジスタM
6および第4のPMOSトランジスタM7を省略した場
合には、入力信号HINが“L”レベルから“H”レベ
ルに変化した時、前述した第1実施例の動作に準じて動
作する時、出力駆動用のPMOSトランジスタM5、レ
ベルシフト用のPMOSトランジスタM3、M4のゲー
ト・ソース間に印加される電圧は0VからVddまで変化
するが、駆動制御信号入力用のNMOSトランジスタM
1、M2のドレイン電圧の上限をVb にクランプするこ
とが可能である。
【0068】従って、駆動制御信号入力用のNMOSト
ランジスタM1、M2のドレイン・ソース間の耐圧がV
dd以下になった場合であってもVdd/2より高ければ、
PN接合部のブレークダウンを生じることはない。
【0069】<第3実施例>前述した図2中のレベルシ
フト回路21において、駆動制御信号入力用のNMOS
トランジスタM1、M2のゲート・ソース間の耐圧がV
dd以上ある場合には、図4に示す第3実施例のように実
施することが可能である。
【0070】即ち、図4中に示すレベルシフト回路41
は、図2に示した第1実施例のレベルシフト回路21と
比べて、電圧クランプ用の第3のNMOSトランジスタ
M8および第4のNMOSトランジスタM9を省略した
点が異なり、その他は同じであるので図2中と同一符号
を付している。
【0071】このように第3のNMOSトランジスタM
8および第4のNMOSトランジスタM9を省略した場
合には、入力信号HINが“L”レベルから“H”レベ
ルに変化した時、前述した第1実施例の動作に準じて動
作する時、駆動制御信号入力用のNMOSトランジスタ
M1、M2のドレイン・ソース間に印加される電圧は0
VからVddまで変化するが、レベルシフト用のPMOS
トランジスタM3、M4のドレイン電圧の上限をほぼV
b にクランプすることが可能である。
【0072】従って、出力駆動用のPMOSトランジス
タM5、レベルシフト用のPMOSトランジスタM3、
M4のゲート・ソース間の耐圧がVdd以下になった場合
であってもVdd/2より高ければ、ゲート破壊を生じる
ことはない。
【0073】<第4実施例>第4実施例では、図2に示
した第1実施例のレベルシフト回路21において、出力
駆動用のPMOSトランジスタM5のゲート・ソース間
の耐圧、レベルシフト用のPMOSトランジスタM3、
M4のゲート・ソース間の耐圧、駆動制御信号入力用の
NMOSトランジスタM1、M2のドレイン・ソース間
の耐圧がVdd/nより高いがVddより低い場合の回路構
成を、図5に示すように一般化したものである。
【0074】即ち、図5中に示すレベルシフト回路51
は、図2に示した第1実施例のレベルシフト回路21と
比べて、(1)電圧クランプ用のトランジスタM6〜M
9と同様の4個で1組をなす複数(n)組の電圧クラン
プ用トランジスタ(図中には、2組の電圧クランプ用ト
ランジスタM6〜M9、M10〜M13を示す。)がカ
スコード接続されている点、(2)上記カスコード接続
されたn組のトランジスタにそれぞれ対応するn個のバ
イアス電圧ノードに対応して異なるバイアス電圧が印加
されている点が異なり、その他は同じであるので図2中
と同一符号を付している。
【0075】この場合、上記カスコード接続されたn組
のMOSトランジスタを高電圧側から低電圧側に捉える
と、それぞれ対応するn個のバイアス電圧ノードに対応
して印加されるバイアス電圧Vb1、…、Vbnは順次低く
なっており、本例では一定のステップで段階的に低くな
っている。即ち、Vb1=(n-1) Vdd/n、…、Vbn=V
dd/nとなっている。
【0076】<第5実施例>第5実施例では、図2に示
した第1実施例のレベルシフト回路21において、駆動
制御信号入力用のNMOSトランジスタM1、M2のド
レイン・ソース間の耐圧がVdd/nより高いがVddより
低い場合の回路構成を、図6に示すように一般化したも
のである。
【0077】即ち、図6中に示すレベルシフト回路61
は、図3に示した第2実施例のレベルシフト回路31と
比べて、(1)レベルシフト用のPMOSトランジスタ
M3、M4と駆動制御信号入力用のNMOSトランジス
タM1、M2との間に、電圧クランプ用のNMOSトラ
ンジスタM8、M9の2個で1組をなす複数(n)組の
MOSトランジスタ(図中には、2組の電圧クランプ用
トランジスタM8、M9およびM12、M13を示
す。)がカスコード接続されている点、(2)上記カス
コード接続されたn組のMOSトランジスタにそれぞれ
対応するn個のバイアス電圧ノードに対応して異なるバ
イアス電圧が印加されている点が異なり、その他は同じ
であるので図3中と同一符号を付している。
【0078】この場合、上記カスコード接続されたn組
のMOSトランジスタを高電圧側から低電圧側に捉える
と、それぞれ対応するn個のバイアス電圧ノードに対応
して印加されるバイアス電圧Vb1、…、Vbnは順次低く
なっており、本例では一定のステップで段階的に低くな
っている。即ち、Vb1=(n-1) Vdd/n、…、Vbn=V
dd/nとなっている。
【0079】<第6実施例>第6実施例では、図2に示
した第1実施例のレベルシフト回路21において、出力
駆動用のPMOSトランジスタM5、レベルシフト用の
PMOSトランジスタM3、M4のゲート・ソース間の
耐圧がVdd/nより高いがVddより低い場合の回路構成
を、図7に示すように一般化したものである。
【0080】即ち、図7中に示すレベルシフト回路71
は、図4に示した第3実施例のレベルシフト回路41と
比べて、(1)レベルシフト用のPMOSトランジスタ
M3、M4と駆動制御信号入力用のNMOSトランジス
タM1、M2との間に、電圧クランプ用のPMOSトラ
ンジスタM6、M7の2個で1組をなす複数(n)組の
MOSトランジスタ(図中には、2組の電圧クランプ用
トランジスタM6、M7およびM10、M11を示
す。)がカスコード接続されている点、(2)上記カス
コード接続されたn組のMOSトランジスタにそれぞれ
対応するn個のバイアス電圧ノードに対応して異なるバ
イアス電圧が印加されている点が異なり、その他は同じ
であるので図4中と同一符号を付している。
【0081】この場合、上記カスコード接続されたn組
のMOSトランジスタを高電圧側から低電圧側に捉える
と、それぞれ対応するn個のバイアス電圧ノードに対応
して印加されるバイアス電圧Vb1、…、Vbnは順次低く
なっており、本例では一定のステップで段階的に低くな
っている。即ち、Vb1=(n-1) Vdd/n、…、Vbn=V
dd/nとなっている。
【0082】なお、本発明は、出力スイッチ素子とし
て、前記Nチャネル型のIGBTに限らず、マルチエミ
ッタ構造を有するIGBT、二重拡散型のパワーMOS
FET、マルチソース構造を有するDMOSFETなど
の電圧駆動型のパワートランジスタ、バイポーラトラン
ジスタ、サイリスタなどを有する高耐圧パワー集積回路
に対しても適用可能である。
【0083】
【発明の効果】上述したように本発明によれば、出力駆
動用のPMOSトランジスタのゲート・ソース間の耐
圧、レベルシフト用のPMOSトランジスタのゲート・
ソース間の耐圧、駆動制御信号入力用のNMOSトラン
ジスタのドレイン・ソース間の耐圧がハイサイド駆動回
路の動作電源電圧以下になった場合でも、それらのゲー
ト破壊あるいはブレークダウンを防止し得るように接地
電圧基準の駆動制御信号を動作電源電圧基準の駆動制御
信号にレベルシフトを行うレベルシフト回路を有する高
耐圧パワー集積回路を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の高耐圧パワー集積回路における出力ス
イッチ素子と出力駆動回路の一例を示す構成説明図。
【図2】図1中のレベルシフト回路の第1実施例を示す
回路図。
【図3】図1中のレベルシフト回路の第2実施例を示す
回路図。
【図4】図1中のレベルシフト回路の第3実施例を示す
回路図。
【図5】図1中のレベルシフト回路の第4実施例を示す
回路図。
【図6】図1中のレベルシフト回路の第5実施例を示す
回路図。
【図7】図1中のレベルシフト回路の第6実施例を示す
回路図。
【図8】図1中のハイサイド駆動回路の従来例を示す回
路図。
【符号の説明】
10…ハイサイドIGBT、 12…高電源端子、 13…接地端子、 14…ICの中点端子、 15…ハイサイド駆動回路、 16…ローサイド駆動回路、 17、18…ダイオード、 19…昇圧回路、 20…ローサイドIGBT、 21…レベルシフト回路、 M5…出力駆動用素子(PMOSトランジスタ)、 M1、M2…駆動制御信号入力用トランジスタ、 M3、M4…レベルシフト用トランジスタ、 M6〜M9…電圧クランプ用トランジスタ。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高電源が印加される高電源端子と、 集積回路外部の負荷が接続される中点端子と、 前記高電源端子と前記中点端子との間に接続された絶縁
    ゲート型トランジスタを有する電流吐出し用の第1の出
    力スイッチ素子と、 接地電圧基準の第1の駆動制御信号入力を動作電源電圧
    基準の駆動制御信号にレベルシフトするレベルシフト回
    路およびこのレベルシフトされた駆動制御信号に応じて
    前記第1の出力スイッチ素子の制御電極に駆動信号を供
    給する出力駆動用素子を備えた第1の駆動回路と、 制御回路用電源電圧を昇圧し、前記第1の駆動回路の動
    作電源として供給する昇圧回路と、 前記中点端子と接地端子との間に接続された絶縁ゲート
    型トランジスタを有する電流吸込み用の第2の出力スイ
    ッチ素子と、 接地電圧基準の第2の駆動制御信号入力に応じて前記第
    2の出力スイッチ素子の制御電極に駆動信号を供給する
    第2の駆動回路とを具備し、 前記第1の駆動回路のレベルシフト回路は、 レベルシフト用のPMOSトランジスタのドレインと駆
    動制御信号入力用のNMOSトランジスタのドレインと
    の間に少なくとも1個挿入され、ゲートに前記動作電源
    電圧より低いバイアス電圧が印加され、前記第1のPM
    OSトランジスタのドレインの電圧および前記第2のP
    MOSトランジスタのドレインの電圧をクランプするた
    めの電圧クランプ用のMOSトランジスタを具備するこ
    とを特徴とする高耐圧パワー集積回路。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の高耐圧パワー集積回路に
    おいて、 前記第1の駆動回路のレベルシフト回路は、 基板領域・ソースが接地電圧ノードに接続され、ドレイ
    ンが前記出力駆動用のPMOSトランジスタのゲートに
    接続され、ゲートに接地電圧基準の駆動制御信号が入力
    する第1のNMOSトランジスタと、 基板領域・ソースが動作電源電圧ノードに接続され、ド
    レイン電圧が前記出力駆動用素子に供給される第1のP
    MOSトランジスタと、 基板領域・ソースが接地電圧ノードに接続され、ゲート
    に前記駆動制御信号の反転信号が入力する第2のNMO
    Sトランジスタと、 基板領域・ソースが動作電源電圧ノードに接続され、ゲ
    ートおよびドレインが対応して前記第1のPMOSトラ
    ンジスタのドレインおよびゲートに接続された第2のP
    MOSトランジスタと、 前記第1のPMOSトランジスタのドレインと前記第1
    のNMOSトランジスタのドレインとの間および前記第
    2のPMOSトランジスタのドレインと前記第2のNM
    OSトランジスタのドレインとの間にそれぞれ少なくと
    も1個挿入され、ゲートに前記動作電源電圧より低いバ
    イアス電圧が印加される電圧クランプ用のMOSトラン
    ジスタMOSトランジスタとを具備し、 前記第1の駆動回路の出力駆動用素子は、 基板領域・ソースが前記動作電源電圧ノードに接続さ
    れ、ドレインが前記第1の出力スイッチ素子の制御電極
    に接続され、ゲートに前記レベルシフト回路の出力電圧
    が印加されるPMOSトランジスタであることを特徴と
    する高耐圧パワー集積回路。
  3. 【請求項3】 請求項2記載の高耐圧パワー集積回路に
    おいて、 前記電圧クランプ用のMOSトランジスタは、 前記第1のPMOSトランジスタのドレインにソースが
    接続された第3のPMOSトランジスタと、 前記第3のPMOSトランジスタのドレインと前記第1
    のNMOSトランジスタのドレインとの間にドレイン・
    ソース間が接続された第3のNMOSトランジスタと、 前記第2のPMOSトランジスタのドレインにソースが
    接続された第4のPMOSトランジスタと、 前記第4のPMOSトランジスタのドレインと前記第2
    のNMOSトランジスタのドレインとの間にドレイン・
    ソース間が接続された第4のNMOSトランジスタとを
    有することを特徴とする高耐圧パワー集積回路。
  4. 【請求項4】 請求項2記載の高耐圧パワー集積回路に
    おいて、 前記電圧クランプ用のMOSトランジスタは、 前記第1のPMOSトランジスタのドレインと前記第1
    のNMOSトランジスタのドレインとの間にドレイン・
    ソース間が接続された第3のNMOSトランジスタと、 前記第2のPMOSトランジスタのドレインのドレイン
    と前記第2のNMOSトランジスタのドレインとの間に
    ドレイン・ソース間が接続された第4のNMOSトラン
    ジスタとを有することを特徴とする高耐圧パワー集積回
    路。
  5. 【請求項5】 請求項2記載の高耐圧パワー集積回路に
    おいて、 前記電圧クランプ用のMOSトランジスタは、 前記第1のPMOSトランジスタのドレインと前記第1
    のNMOSトランジスタのドレインとの間にソース・ド
    レイン間が接続された第3のPMOSトランジスタと、 前記第2のPMOSトランジスタのドレインと前記第2
    のNMOSトランジスタのドレインとの間にソース・ド
    レイン間が接続された第4のPMOSトランジスタとを
    有することを特徴とする高耐圧パワー集積回路。
  6. 【請求項6】 請求項3乃至5のいずれか1項に記載の
    高耐圧パワー集積回路において、 前記バイアス電圧は前記動作電源電圧の1/2に設定さ
    れていることを特徴とする高耐圧パワー集積回路。
  7. 【請求項7】 請求項3記載の高耐圧パワー集積回路に
    おいて、 前記電圧クランプ用のMOSトランジスタは、 前記第3のPMOSトランジスタ、第3のNMOSトラ
    ンジスタ、第4のPMOSトランジスタおよび第4のN
    MOSトランジスタからなる4個で1組をなすMOSト
    ランジスタ対の複数組がカスコード接続されており、複
    数組のMOSトランジスタ対の各ゲートには異なるバイ
    アス電圧が印加されることを特徴とする高耐圧パワー集
    積回路。
  8. 【請求項8】 請求項4記載の高耐圧パワー集積回路に
    おいて、 前記電圧クランプ用のMOSトランジスタは、 前記第3のNMOSトランジスタおよび第4のNMOS
    トランジスタからなる2個で1組をなすMOSトランジ
    スタ対の複数組がカスコード接続されており、複数組の
    MOSトランジスタ対の各ゲートには異なるバイアス電
    圧が印加されることを特徴とする高耐圧パワー集積回
    路。
  9. 【請求項9】 請求項5記載の高耐圧パワー集積回路に
    おいて、 前記電圧クランプ用のMOSトランジスタは、 前記第3のPMOSトランジスタおよび第4のPMOS
    トランジスタからなる2個で1組をなすMOSトランジ
    スタ対の複数組がカスコード接続されており、複数組の
    MOSトランジスタ対の各ゲートには異なるバイアス電
    圧が印加されることを特徴とする高耐圧パワー集積回
    路。
  10. 【請求項10】 請求項7乃至9のいずれか1項に3記
    載の高耐圧パワー集積回路において、 前記カスコード接続された高電位側から低電位側のn組
    のMOSトランジスタ対の各ゲートに対応して、前記動
    作電源電圧の1/nのステップで順次低くなるように設
    定されたバイアス電圧が印加されることを特徴とする高
    耐圧パワー集積回路。
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