JPH11204401A - 現像方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 濡れ性を高めた後に現像液を供給することに
より、塗布被膜の全面を現像液で均一に覆って、『液は
じき』や『液流れ』に起因する現像欠陥の発生を防止す
ることができる現像方法及びその装置を提供する。 【解決手段】 露光済みの塗布被膜Ｆに対してプリウエ
ット液ＰＬを供給した後に、水平面内の一端側からプリ
ウエット液ＰＬを除去しつつ、その除去した領域に現像
液Ｄを供給する。これにより塗布被膜表面の濡れ性を向
上させて『液はじき』や『液流れ』を防止し、現像液Ｄ
を均一に液盛りすることができる。したがって、現像欠
陥を防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板などの
基板に被着された露光済みの塗布被膜に対して現像処理
を施す現像方法及びその装置に係り、特に、帯状に現像
液を供給する現像液供給ノズルを基板表面に沿って移動
しながら液盛りすることによって現像処理を行う技術に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の現像方法として、例え
ば、次のようなものがある。まず、露光済みの塗布被膜
が被着された基板をスピンチャックに吸着支持させ、帯
状に現像液を供給する現像液供給ノズルを基板の表面に
沿って水平移動する。そして、塗布被膜上に現像液を液
盛りした状態で静止させたまま一定時間だけ保持した
後、スピンチャックを回転駆動することにより現像液を
振り切って現像処理を終えるようになっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来方法には、次のような問題がある。すなわち、
塗布被膜の表面は現像液に対する濡れ性が悪いので、
『液はじき』や『液流れ』が一部において発生し、供給
された現像液がその表面全体を均一に覆うことができな
いという問題がある。上記のような現象が生じると、線
幅均一性が低下するなどの現像欠陥を生じることにな
る。

【０００４】なお、現像液の供給後に暫くすると『液は
じき』や『液流れ』が解消されて、塗布被膜の表面全体
を均一に現像液が覆う場合もあるが、それらの部分にお
いては他の部分に比較して現像処理が遅れることになる
ので、やはり上記同様の問題が生じる。

【０００５】また、最近の半導体分野においては、パタ
ーンルールが一層厳しくなってきている関係上、化学増
幅型フォトレジスト液やｉ線用フォトレジスト液によっ
て塗布被膜を形成することも行われてきているが、これ
らの種類のフォトレジスト液により形成された被膜は現
像液に対する濡れ性がさらに悪いため、上述した問題が
顕著に生じている。

【０００６】また、近年、化学増幅型フォトレジスト液
で塗布被膜を形成することも行われているが、化学増幅
型フォトレジストにより形成された塗布被膜はアンモニ
ア等の外気の影響を受けやすいため水溶性の保護膜を形
成して保護することが行われる。そして、その場合に
は、現像液を供給する前に保護膜を剥離するためにプリ
ウエット液を供給するが、保護膜を全面で剥離しないと
供給された現像液がその表面全体を均一に覆うことがで
きず、線幅均一性が低下するなどの現像欠陥を生じるこ
とになる。

【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、濡れ性を高めた後に現像液を供給する
ことにより、塗布被膜の全面を現像液で均一に覆って、
『液はじき』や『液流れ』に起因する現像欠陥の発生を
防止することができる現像方法及びその装置を提供する
ことを目的とする。

【０００８】さらに、本発明の別の目的は、保護膜を全
面に剥離した後に現像液を供給することにより塗布被膜
の全面を現像液で均一に覆って、保護膜の剥離が十分で
ないことに起因する現像欠陥の発生を防止することがで
きる現像方法及びその装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の現像方法は、基板の表面に沿って
移動しながら現像液を供給することにより、その表面に
被着された露光済みの塗布被膜上に液盛りして現像処理
を施す現像方法であって、プリウエット液を供給した後
に、水平面内の一端側からプリウエット液を除去しつ
つ、その除去した領域に現像液を供給するようにしたこ
とを特徴とするものである。

【００１０】また、請求項２に記載の現像方法は、請求
項１に記載の現像方法において、前記プリウエット液を
供給しながら除去するようにしたことを特徴とするもの
である。

【００１１】また、請求項３に記載の現像装置は、帯状
に現像液を供給する現像液供給ノズルを基板の表面に沿
って移動させることにより露光済みの塗布被膜上に液盛
りして現像処理を施す現像装置において、プリウエット
液を供給するプリウエット液供給手段と、供給されたプ
リウエット液を除去する除去手段と、前記除去手段を先
頭にして前記現像液供給ノズルと共に一体的に基板表面
に沿って水平方向に移動する水平移動手段とを備え、前
記プリウエット液供給手段からプリウエット液を供給し
た後に、前記水平移動手段を駆動して前記除去手段によ
ってプリウエット液を除去しつつ、その除去した領域に
前記現像液供給ノズルから現像液を供給するようにした
ことを特徴とするものである。

【００１２】また、請求項４に記載の現像装置は、請求
項３に記載の現像装置において、前記水平移動手段は、
前記プリウエット液供給手段を先頭にして、前記除去手
段、前記現像液供給ノズルの順で一体的に移動するよう
にしたことを特徴とするものである。

【００１３】また、請求項５に記載の現像装置は、請求
項３または請求項４に記載の現像装置において、前記除
去手段を前記現像液供給ノズルの移動方向側に設けた板
状部材で構成したことを特徴とするものである。

【００１４】また、請求項６に記載の現像装置は、請求
項３または請求項４に記載の現像装置において、前記除
去手段を不活性ガス噴射手段で構成したことを特徴とす
るものである。

【００１５】

【作用】請求項１に記載の方法発明の作用は次のとおり
である。まずプリウエット液（例えば、純水や希釈現像
液など）を供給し、このプリウエット液を除去しながら
除去した領域に現像液を供給して、塗布被膜の表面全体
に現像液を供給する。したがって、塗布被膜表面の濡れ
性を向上させた後に現像液を供給することになるので、
塗布被膜表面における『液はじき』や『液流れ』を防止
して現像液を均一に液盛りすることができる。

【００１６】また、化学増幅型フォトレジスト液による
塗布被膜の場合には、プリウエット液を保護膜に供給し
て保護膜を全面に剥離した後に現像液を供給することに
なるので、現像液を均一に液盛りすることができる。

【００１７】また、請求項２に記載の方法発明によれ
ば、プリウエット液を供給しながら除去するので、プリ
ウエット液を塗布被膜の表面全体に行きわたらせた後に
除去する場合に比較して処理時間を短縮することができ
る。

【００１８】また、請求項３に記載の装置発明の作用は
次のとおりである。プリウエット液供給手段によって塗
布被膜上にプリウエット液を供給した後に、水平移動手
段を駆動して除去手段でプリウエット液を除去しつつ、
その背後に備えられた現像液供給ノズルからその領域に
現像液を供給して塗布被膜の表面全体に現像液を供給す
る。したがって、塗布被膜表面の濡れ性を向上させた直
後に現像液を供給することができるので、塗布被膜表面
における『液はじき』や『液流れ』を防止して現像液を
より均一に供給することができる。

【００１９】また、化学増幅型フォトレジスト液による
塗布被膜の場合には、プリウエット液を供給して保護膜
を全面に剥離した後に現像液を供給することになるの
で、現像液を均一に液盛りすることができる。

【００２０】また、請求項４に記載の装置発明によれ
ば、プリウエット液供給手段と、除去手段と、現像液供
給ノズルの順に水平移動手段で一体的に移動するように
構成すると、それらを順に操作するだけでプリウエット
液を供給して濡れ性を向上し、プリウエット液を除去し
た直後に現像液を供給することができる。したがって、
容易な制御で塗布被膜表面における『液はじき』や『液
流れ』を防止して現像液をより均一に液盛りすることが
できる。化学増幅型フォトレジスト液による塗布被膜の
場合には、プリウエット液を供給して保護膜を全面に剥
離した後に現像液を供給することになるので、現像液を
均一に液盛りすることができる。また、水平移動手段を
兼用することができるため装置の構成を簡単化できる。

【００２１】また、請求項５に記載の装置発明によれ
ば、現像液供給ノズルの移動方向側に板状部材を配設し
ておくと、この板状部材により塗布被膜上のプリウエッ
ト液を押し流すように除去することができるとともに、
除去直後に現像液を供給することができる。したがっ
て、簡易な構成にすることができるとともに、濡れ性が
良い状態で現像液を供給することができて塗布被膜表面
における『液はじき』や『液流れ』をより一層防止でき
る。化学増幅型フォトレジスト液による塗布被膜の場合
には、プリウエット液を供給して保護膜を全面に剥離し
た後に現像液を供給することになるので、現像液を均一
に液盛りすることができる。

【００２２】また、請求項６に記載の装置発明によれ
ば、不活性ガス噴射手段から窒素ガスなどの不活性ガス
を吹きつけることによってもプリウエット液を除去する
ことができる。また、ガス圧を調整するだけで除去度合
いを調整することができる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。 ＜第１実施例＞図１は本実施例に係る現像装置の概略構
成を示す平面図であり、図２はその側面図であり、図３
は現像液供給ノズル部分の拡大図である。

【００２４】基板Ｗはスピンチャック１により吸着支持
されるようになっており、スピンチャック１ごと電動モ
ータ３によって鉛直軸芯回りに回転駆動される。スピン
チャック１の周囲には、現像液などが遠心力によって周
囲に飛散することを防止するための飛散防止カップ５が
昇降自在に配備されている。この飛散防止カップ５は、
さらに平面視矩形状の外カップ７によってその周囲を囲
われている。

【００２５】外カップ７の一方側（図１中の右側）に
は、基板Ｗの表面にプリウエット液を供給するためのプ
リウエット液供給部９が配備されている。このプリウエ
ット液供給部９は、図示しない揺動昇降機構により、基
板Ｗの回転中心付近に先端部の吐出孔９ａが位置する供
給位置（図１中に二点鎖線で示す位置）と、吐出孔９ａ
が外カップ７の側方に離れた待機位置（図１に示す位
置）とにわたって揺動および昇降するように構成されて
いるとともに、制御部１１によって開閉操作される開閉
弁９ｂを介してプリウエット液供給源に連通している。
したがって、制御部１１が開閉弁９ｂを開放すると、一
定流量でプリウエット液が吐出孔９ａから吐出するよう
になっている。プリウエット液供給源から供給されるプ
リウエット液としては、例えば、純水や希釈現像液が挙
げられるが、以下の説明においてはプリウエット液とし
て純水を例に採って説明する。なお、上記のプリウエッ
ト液供給部９が本発明のプリウエット液供給手段に相当
するものである。

【００２６】外カップ７の他方側（図１中の左側）に
は、基板Ｗの表面に沿って水平移動しながら現像液を供
給するための現像液供給部１３が配備されている。この
現像液供給部１３は、スリット状の吐出孔１４ａを有す
る現像液供給ノズル１４と、この現像液供給ノズル１４
から現像液を基板Ｗに供給する際の進行方向にあたる側
面（図１中の右側面）に配設された板状部材１５（除去
手段）と、現像液供給ノズル１４を水平駆動するととも
に昇降駆動するための駆動部１７（水平移動手段）とか
ら構成されている。上記の現像液供給ノズル１４は、開
閉弁１９を介して現像液供給源に連通しており、制御部
１１が開閉弁１９を開放すると一定流量で現像液が吐出
孔１４ａから吐出するようになっている。

【００２７】制御部１１は、上記の駆動部１７を操作
し、図１に実線で示す外カップ７の側方にあたる待機位
置から、板状部材１５が平面視で基板Ｗの一端側に接す
る程度に近接した開始位置（図１に二点鎖線で示す位
置）となるように現像液供給ノズル１４を水平移動し、
現像液供給ノズル１４と基板Ｗの表面との間隔が後述す
る間隔（ｄ）となるように下降させた後に、開閉弁１９
を開放して現像液を吐出孔１４ａから吐出させる。そし
て、平面視で吐出孔１４ａが基板Ｗの他端側に位置する
終了位置（図１に点線で示す位置）に達するまで現像液
を吐出させつつ水平移動する。

【００２８】現像液供給ノズル１４は、上記の駆動部１
７によって下降された際には吐出孔１４ａが形成されて
いる下面が基板Ｗの表面から距離ｄ（例えば、１．５ｍ
ｍ程度）となるように設定されている（図３）。また、
本実施例における板状部材１５はその上部１５ａから下
部１５ｂを僅かに折り曲げて形成されている。この板状
部材１５は、現像液供給ノズル１４が開始位置に移動さ
れて基板Ｗ面から距離ｄにまで下降された際に、その下
端面が基板Ｗ面から距離ｇ（例えば、１ｍｍ程度）とな
るように、その上部１５ａの一側面が現像液供給ノズル
１４の側面に固着されている。なお、この板状部材１５
は、後述するようにプリウエット液を除去することがで
きればどのような形状であってもよい。

【００２９】次に図４および図５を参照して、上述した
ように構成されている現像装置の動作について説明す
る。なお、初期状態では、図２に示すように飛散防止カ
ップ５が下降した状態であるものとする。

【００３０】図４（ａ）を参照する。まず、感光性の塗
布被膜Ｆを被着された基板Ｗで、かつ、塗布被膜Ｆに所
定パターンの露光処理が施された基板Ｗを図示しない基
板搬送機構によって飛散防止カップ５内に搬入し、スピ
ンチャック１に吸着支持させる。そして、図示しない揺
動昇降機構によりプリウエット液供給部９を供給位置に
移動し、開閉弁９ｂを開放してプリウエット液として純
水ＰＬを供給する。そして、塗布被膜Ｆの全面に純水Ｐ
Ｌを液盛りした状態にする。

【００３１】図４（ｂ）および図５（ａ）を参照する。
次に、上記のプリウエット液供給部９を待機位置に戻す
とともに、制御部１１は駆動部１７を操作して現像液供
給部１３の現像液供給ノズル１４を外カップ７内の開始
位置に移動する。そして、開閉弁１９を開放して現像液
Ｄを現像液供給ノズル１４から吐出させ始めるととも
に、駆動部１７により現像液供給ノズル１４を終了位置
に向けて移動開始する。すると、現像液供給ノズル１４
の先頭側では、塗布被膜Ｆの全面に液盛りされていた純
水ＰＬのほとんどが板状部材１５によって押し流されて
塗布被膜Ｆの表面から除去されてゆく。これとともに、
純水ＰＬが薄く残っている塗布被膜Ｆの表面には現像液
供給ノズル１４から現像液Ｄが供給されてゆく。この領
域は元の塗布被膜Ｆの表面よりも濡れ性が向上されてい
るため、塗布被膜Ｆの表面における『液はじき』や『液
流れ』を防止して現像液Ｄを均一に液盛りすることがで
きる。

【００３２】上記のようにして現像液Ｄを塗布被膜Ｆの
全面に液盛りした後、この状態を一定時間だけ保持する
ことによって現像処理を施す。また、現像液供給ノズル
１４を待機位置に戻すとともに、図２中に二点鎖線で示
すように飛散防止カップ５を上昇させる。そして、一定
時間が経過した後、電動モータ３を駆動して基板Ｗを回
転させ、塗布被膜Ｆの全面を覆っている現像液Ｄを遠心
力によって周囲に振り切る（図５（ｂ））。その後、プ
リウエット液供給部９から基板Ｗに純水ＰＬをリンス液
として供給してリンス処理を施し、回転を停止して現像
処理を終了して基板Ｗを搬出する。

【００３３】このようにして施された現像処理は、塗布
被膜Ｆの表面における濡れ性を向上させた後に現像液Ｄ
を供給して、『液はじき』や『液流れ』を防止している
ので、現像液Ｄを均一に液盛りすることができて現像欠
陥の発生を防止することができる。

【００３４】なお、上記の第１実施例では、除去手段で
ある板状部材１５と現像液供給ノズル１４とを一体化し
た構成を採っているが、これらを別体の構成とし、板状
部材１５を先頭にして一体的に移動させるようにしても
同様の効果を得ることができる。

【００３５】＜第２実施例＞本実施例の構成について図
６ないし図８を参照して説明するが、上記の第１実施例
とは異なり、本実施例装置では除去手段に加えてプリウ
エット液供給手段を現像液供給ノズルと一体化した構成
を採用している。なお、図６は現像装置の概略構成を示
す平面図であり、図７はその側面図であり、図８は現像
液供給ノズル部分の拡大図であるが、上記の第１実施例
装置と同じ構成のものについては同符号を付けることで
詳細な説明を省略する。

【００３６】外カップ７の側方（図６中の左側）には、
基板Ｗの表面に沿って水平移動しながらプリウエット液
を供給するとともにこれを除去し、さらに除去した領域
に現像液を供給するための処理ノズル部２１が配備され
ている。

【００３７】この処理ノズル部２１は、プリウエット液
供給手段に相当するプリウエット液供給ノズル２３と、
除去手段および不活性ガス噴射手段に相当する不活性ガ
ス噴射ノズル２７と、上述した第１実施例と同様の現像
液供給ノズル１４とから構成されている。プリウエット
液供給ノズル２３は、その下面に吐出孔２３ａが形成さ
れており、制御部１１によって操作される開閉弁２３ｂ
を介してプリウエット液供給源に連通している。不活性
ガス噴射ノズル２７には、プリウエット液供給ノズル２
３側に、斜め下方に向けて不活性ガスＧを噴射する噴射
孔２７ａが形成されており、開閉弁２７ｂを介して不活
性ガス（例えば、窒素）を一定圧力で保持している不活
性ガス供給源に連通している。

【００３８】なお、プリウエット液供給ノズル２３の吐
出孔２３ａと不活性ガス噴射ノズル２７の噴射孔２７ａ
は、現像液供給ノズル１４の吐出孔１４ａと同様に、基
板Ｗの直径よりやや長いスリット状に形成されている。
また、上記の開閉弁２７ｂに加えて制御部１１により操
作可能な圧力調整弁を配備すると、不活性ガスの噴射圧
を調整することにより容易にプリウエット液の除去度合
いを調整することができるようになる。

【００３９】上記のように構成されている処理ノズル部
２１は、駆動部２９によって水平移動されるとともに昇
降駆動されるように構成されている。制御部１１は、こ
の駆動部２９を操作し、図６に実線で示す外カップ７の
側方にあたる待機位置から、プリウエット液供給ノズル
２３が平面視で基板Ｗの一端側に接する程度に近接した
開始位置（図６に二点鎖線で示す位置）となるように処
理ノズル部２１を水平移動するとともに下降させた後
に、開閉弁２３ｂを開放してプリウエット液として純水
ＰＬを供給するとともに、開放弁２７ｂを開放して不活
性ガスを噴射させ、開放弁１９を開放して現像液を吐出
孔１４ａから吐出させる。そして、平面視で現像液供給
ノズル１４の吐出孔１４ａが基板Ｗの他端側に位置する
終了位置（図６に点線で示す位置）に達するまで現像液
を吐出させつつ水平移動する。

【００４０】次に図９を参照して、上記の実施例装置の
動作について説明する。なお、初期状態では、図７に示
すように飛散防止カップ５が下降した状態であるものと
する。

【００４１】まず、塗布被膜Ｆに所定パターンの露光処
理が施された基板Ｗをスピンチャック１に吸着支持させ
る。そして、図９（ａ）に示すように、処理ノズル部２
１を開始位置に移動し、開閉弁２３ｂを開放してプリウ
エット液供給ノズル２３の吐出孔２３ａから純水ＰＬの
供給を開始する。

【００４２】次に、図９（ｂ）に示すように、不活性ガ
スＧを噴射孔２７ａから噴射させ始めるとともに現像液
Ｄを吐出孔１４ａから吐出させ始める。そして、処理ノ
ズル部２１を終了位置に向けて移動させ始める。する
と、処理ノズル部２１の先頭側では、塗布被膜Ｆに純水
ＰＬを供給しながら不活性ガスＧが噴射されることにな
り、純水ＰＬが塗布被膜Ｆの表面に供給された直後に終
了位置方向に押し流されて塗布被膜Ｆの表面から除去さ
れてゆく。これとともに、その領域に現像液供給ノズル
１４から現像液Ｄが供給されてゆくことになり、元の塗
布被膜Ｆの表面よりも濡れ性を向上させた状態で現像液
Ｄを供給することになるので、塗布被膜Ｆの表面におけ
る『液はじき』や『液流れ』を防止して現像液Ｄを均一
に液盛りすることができる。

【００４３】そして、上述した第１実施例と同様に、処
理ノズル部２１を待機位置に戻して飛散防止カップ５を
上昇させた後、液盛りした状態から一定時間が経過した
時点で回転駆動により現像液Ｄを振り切り、再び処理ノ
ズル部２１を開始位置から終了位置に移動させつつプリ
ウエット液供給ノズル２３から純水ＰＬをリンス液とし
て供給することで現像処理を完了する。

【００４４】上記の第２実施例では、純水ＰＬをプリウ
エット液として供給した直後に除去し、即座に現像液Ｄ
を供給するようにしているので、処理時間を短縮するこ
とができるとともに塗布被膜Ｆが膨潤するような不都合
を防止することができる。

【００４５】なお、上記の第２実施例では、プリウエッ
ト液供給ノズル２３と、不活性ガス噴射ノズル２７と、
現像液供給ノズル１４とを一体化した構成を採っている
が、これらを別体の構成とし、プリウエット液供給ノズ
ル２３を先頭にして、上記の順に一体的に移動させるよ
うにしても同様の効果を得ることができる。

【００４６】また、上述した第１実施例のようにプリウ
エット液供給ノズル２３だけを別体とし、不活性ガス噴
射ノズル２７を先頭にして現像液供給ノズル１４と一体
的に移動するように構成してもよい。

【００４７】さらに、プリウエット液供給ノズル２３
と、上述した第１実施例における板状部材１５と、現像
液供給ノズル１４とをその順に一体的に移動させるよう
に構成してもよい。

【００４８】また、上記各実施例では、塗布被膜にプリ
ウエット液を供給し、濡れ性を向上させた後に現像液を
供給する場合を例に採って説明したが、化学増幅型フォ
トレジスト液による塗布被膜の場合には、その表面に水
溶性の保護膜が被着されているのが一般的である。そこ
で、プリウエット液を供給して保護膜を溶解した後に現
像液を供給する必要があるが、このような場合であって
も上記の方法および装置により基板の表面全体にわたっ
て保護膜を溶解剥離することができるので、現像液を均
一に液盛りすることができて、現像欠陥を防止すること
ができる。

【００４９】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の方法発明によれば、供給したプリウエット液
を除去しながら除去した領域に現像液を供給することに
より、塗布被膜表面の濡れ性を向上させて『液はじき』
や『液流れ』を防止し、現像液を均一に液盛りすること
ができる。したがって、現像欠陥を防止することができ
る。

【００５０】また、化学増幅型フォトレジスト液による
塗布被膜の場合には、プリウエット液を供給して保護膜
を全面に剥離した後に現像液を供給することになるの
で、現像液を均一に液盛りすることができる。したがっ
て、上記同様の効果を得ることができる。

【００５１】また、請求項２に記載の方法発明によれ
ば、プリウエット液を供給しながら除去することによっ
て処理時間を短縮することができるとともに、塗布被膜
がプリウエット液に触れている時間を短くでき、プリウ
エット液による塗布被膜の膨潤などの不都合が生じるこ
とを防止できる。

【００５２】また、請求項３に記載の装置発明によれ
ば、プリウエット液を除去した直後に現像液を供給する
ことができ、濡れ性が良い状態で現像液を供給すること
ができる。また、化学増幅型フォトレジスト液による塗
布被膜の場合には、保護膜を全面に剥離した後に現像液
を供給することになるので、現像液を均一に液盛りする
ことができる。したがって、請求項１に記載の方法発明
を好適に実施することができる。

【００５３】また、請求項４に記載の装置発明によれ
ば、プリウエット液を供給して濡れ性を向上し、プリウ
エット液を除去した直後に現像液を供給するので、濡れ
性が良い状態で現像液を供給することができるととも
に、塗布被膜表面における『液はじき』や『液流れ』を
より一層防止して現像液をより均一に覆うことができ
る。また、化学増幅型フォトレジスト液による塗布被膜
の場合には、保護膜を全面に剥離した後に現像液を供給
することになるので、現像液を均一に液盛りすることが
できる。また、水平移動手段を兼用することができて、
装置の構成を簡単化できる。

【００５４】また、請求項５に記載の装置発明によれ
ば、板状部材により塗布被膜上のプリウエット液を押し
流すように除去するため装置構成を簡易化できる。ま
た、濡れ性が良い状態で現像液を供給することができる
ので、塗布被膜表面における『液はじき』や『液流れ』
をより一層防止でき、現像欠陥をより防止することがで
きる。化学増幅型フォトレジスト液による塗布被膜の場
合には、保護膜を全面に剥離した後に現像液を供給する
ことになるので、現像液を均一に液盛りすることができ
る。

【００５５】また、請求項６に記載の装置発明によれ
ば、不活性ガスを吹きつけることによってもプリウエッ
ト液を除去することができ、ガス圧を調整するだけで除
去度合いを調整することができる。したがって、調整を
容易に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例に係る現像装置の概略構成を示す平
面図である。

【図２】第１実施例に係る現像装置の側面図である。

【図３】現像液供給ノズル部分の拡大図である。

【図４】現像処理の説明図である。

【図５】現像処理の説明図である。

【図６】第２実施例に係る現像装置の概略構成を示す平
面図である。

【図７】第２実施例に係る現像装置の側面図である。

【図８】現像液供給ノズル部分の拡大図である。

【図９】現像処理の説明図である。

【符号の説明】

Ｗ … 基板 １ … スピンチャック ３ … 電動モータ ５ … 飛散防止カップ ７ … 外カップ ９ … プリウエット液供給部（プリウエット液供給手
段） ９ａ … 吐出孔 ９ｂ … 開閉弁 １１ … 制御部 １３ … 現像液供給部 １４ … 現像液供給ノズル １４ａ … 吐出孔 １５ … 板状部材（除去手段） １７，２９ … 駆動部（水平移動手段） ２１ … 処理ノズル部 ２３ … プリウエット液供給ノズル ２７ … 不活性ガス噴射ノズル（除去手段，不活性ガ
ス噴射手段）

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の表面に沿って移動しながら現像液
   を供給することにより、その表面に被着された露光済み
   の塗布被膜上に液盛りして現像処理を施す現像方法であ
   って、 プリウエット液を供給した後に、水平面内の一端側から
   プリウエット液を除去しつつ、その除去した領域に現像
   液を供給するようにしたことを特徴とする現像方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の現像方法において、前
   記プリウエット液を供給しながら除去するようにしたこ
   とを特徴とする現像方法。
3. 【請求項３】 帯状に現像液を供給する現像液供給ノズ
   ルを基板の表面に沿って移動させることにより露光済み
   の塗布被膜上に液盛りして現像処理を施す現像装置にお
   いて、 プリウエット液を供給するプリウエット液供給手段と、 供給されたプリウエット液を除去する除去手段と、 前記除去手段を先頭にして前記現像液供給ノズルと共に
   一体的に基板表面に沿って水平方向に移動する水平移動
   手段とを備え、 前記プリウエット液供給手段からプリウエット液を供給
   した後に、前記水平移動手段を駆動して前記除去手段に
   よってプリウエット液を除去しつつ、その除去した領域
   に前記現像液供給ノズルから現像液を供給するようにし
   たことを特徴とする現像装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の現像装置において、前
   記水平移動手段は、前記プリウエット液供給手段を先頭
   にして、前記除去手段、前記現像液供給ノズルの順で一
   体的に移動するようにしたことを特徴とする現像装置。
5. 【請求項５】 請求項３または請求項４に記載の現像装
   置において、前記除去手段を前記現像液供給ノズルの移
   動方向側に設けた板状部材で構成したことを特徴とする
   現像装置。
6. 【請求項６】 請求項３または請求項４に記載の現像装
   置において、前記除去手段を不活性ガス噴射手段で構成
   したことを特徴とする現像装置。