JPH11204298A - ビーム輸送系 - Google Patents
ビーム輸送系Info
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- JPH11204298A JPH11204298A JP859798A JP859798A JPH11204298A JP H11204298 A JPH11204298 A JP H11204298A JP 859798 A JP859798 A JP 859798A JP 859798 A JP859798 A JP 859798A JP H11204298 A JPH11204298 A JP H11204298A
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- steering
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ビームの位置を自動で調整することで、操作
性、信頼性を高めるビーム輸送系を提供すること。 【解決手段】真空ダクト（１）に取り付けられ水平方向
に設けられたスリット（２１１，２１２）と垂直方向に
設けられたスリット（２１３，２１４）を有する少なく
とも一つのビームスリット部（２１）と、少なくとも一
つの水平方向用ステアリング電磁石（３）、少なくとも
一つの垂直方向用ステアリング電磁石（４）から構成さ
れるビーム輸送系であり、ビームがいずれかの前記スリ
ットに当たったときに該スリットに流れた電流を検出す
る電流検出手段（１１）と、この電流検出手段（１１）
の検出結果を基に前記水平方向用及び垂直方向用ステア
リング電磁石（３，４）の励磁量を制御する制御手段
（１０）と、を具備。
性、信頼性を高めるビーム輸送系を提供すること。 【解決手段】真空ダクト（１）に取り付けられ水平方向
に設けられたスリット（２１１，２１２）と垂直方向に
設けられたスリット（２１３，２１４）を有する少なく
とも一つのビームスリット部（２１）と、少なくとも一
つの水平方向用ステアリング電磁石（３）、少なくとも
一つの垂直方向用ステアリング電磁石（４）から構成さ
れるビーム輸送系であり、ビームがいずれかの前記スリ
ットに当たったときに該スリットに流れた電流を検出す
る電流検出手段（１１）と、この電流検出手段（１１）
の検出結果を基に前記水平方向用及び垂直方向用ステア
リング電磁石（３，４）の励磁量を制御する制御手段
（１０）と、を具備。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、荷電粒子ビームを
加速する加速器に係り、特にビームスリットを適用した
ビーム輸送系に関する。
加速する加速器に係り、特にビームスリットを適用した
ビーム輸送系に関する。
【０００２】
【従来の技術】図７の（ａ）は、従来の代表的なビーム
輸送系の構成を示す図であり、図７の（ｂ）は図７の
（ａ）のＡ−Ａ断面図である。このビーム輸送系は、図
７の（ａ）に示すように、ビームダクト１、ビームを削
るためのビームスリット２、水平方向のビームの補正を
行なう水平方向用ステアリング電磁石３、水平方向用ス
テアリング電源５、垂直方向のビームの補正を行なう垂
直方向用ステアリング電磁石４、垂直方向用ステアリン
グ電源６、破壊型のスクリーンモニタ７、ＣＣＤカメラ
８、及びＴＶモニタ９から構成されている。
輸送系の構成を示す図であり、図７の（ｂ）は図７の
（ａ）のＡ−Ａ断面図である。このビーム輸送系は、図
７の（ａ）に示すように、ビームダクト１、ビームを削
るためのビームスリット２、水平方向のビームの補正を
行なう水平方向用ステアリング電磁石３、水平方向用ス
テアリング電源５、垂直方向のビームの補正を行なう垂
直方向用ステアリング電磁石４、垂直方向用ステアリン
グ電源６、破壊型のスクリーンモニタ７、ＣＣＤカメラ
８、及びＴＶモニタ９から構成されている。
【０００３】このビーム輸送系では、ビームがビームダ
クト１内を進みビームスリット２に当たる。このビーム
スリット２にビームの不必要な部分が当たると消滅し、
ビームサイズが変更される。その形状をオペレータがＣ
ＣＤカメラ８とＴＶモニタ９を介して確認する。また、
オペレータはビームの位置を正すために、水平方向もし
くは垂直方向にビーム軌道を変更することのできるステ
アリング電磁石３，４の励磁量を操作する。そして、Ｃ
ＣＤカメラ８とＴＶモニタ９で捕らえた画像により、ビ
ームがスクリーンモニタ７の中心に位置するように操作
する。
クト１内を進みビームスリット２に当たる。このビーム
スリット２にビームの不必要な部分が当たると消滅し、
ビームサイズが変更される。その形状をオペレータがＣ
ＣＤカメラ８とＴＶモニタ９を介して確認する。また、
オペレータはビームの位置を正すために、水平方向もし
くは垂直方向にビーム軌道を変更することのできるステ
アリング電磁石３，４の励磁量を操作する。そして、Ｃ
ＣＤカメラ８とＴＶモニタ９で捕らえた画像により、ビ
ームがスクリーンモニタ７の中心に位置するように操作
する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のビーム
輸送系において、ビームを送り出す側（たとえば入射器
など）からのビームが安定しないと、ビームの位置が定
まらず、ビームをうまく輸送することができない。ま
た、ビームの供給条件が変更されると、すべて再調整を
する必要がある。再度調整をするためには、ビームをス
クリーンモニタ７で止めて、オペレータがスクリーン上
のビーム形状を確認し、再度ビームスリット２やステア
リング電源５，６を調整する。ビーム輸送系が長い場
合、以上のような手順を区間ごとに繰り返すことになる
ため、調整は非常に困難なものになっている。本発明の
目的は、ビームの位置を自動で調整することで、操作
性、信頼性を高めるビーム輸送系を提供することにあ
る。
輸送系において、ビームを送り出す側（たとえば入射器
など）からのビームが安定しないと、ビームの位置が定
まらず、ビームをうまく輸送することができない。ま
た、ビームの供給条件が変更されると、すべて再調整を
する必要がある。再度調整をするためには、ビームをス
クリーンモニタ７で止めて、オペレータがスクリーン上
のビーム形状を確認し、再度ビームスリット２やステア
リング電源５，６を調整する。ビーム輸送系が長い場
合、以上のような手順を区間ごとに繰り返すことになる
ため、調整は非常に困難なものになっている。本発明の
目的は、ビームの位置を自動で調整することで、操作
性、信頼性を高めるビーム輸送系を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、本発明のビーム輸送系は以下の如く構
成されている。 （１）本発明のビーム輸送系は、真空ダクトに取り付け
られ水平方向に設けられたスリットと垂直方向に設けら
れたスリットを有する少なくとも一つのビームスリット
部と、少なくとも一つの水平方向用ステアリング電磁
石、少なくとも一つの垂直方向用ステアリング電磁石か
ら構成されるビーム輸送系であり、ビームがいずれかの
前記スリットに当たったときに該スリットに流れた電流
を検出する電流検出手段と、この電流検出手段の検出結
果を基に前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電
磁石の励磁量を制御する制御手段と、から構成されてい
る。 （２）本発明のビーム輸送系は、真空ダクトに取り付け
られ水平方向に設けられたスリットと垂直方向に設けら
れたスリットを有する少なくとも一つのビームスリット
部と、少なくとも一つの水平方向用ステアリング電磁
石、少なくとも一つの垂直方向用ステアリング電磁石か
ら構成されるビーム輸送系であり、ビームがいずれかの
前記スリットに当たったときの該スリットの温度を検出
する温度検出手段と、この温度検出手段の検出結果を基
に前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石の
励磁量を制御する制御手段と、から構成されている。 （３）本発明のビーム輸送系は、真空ダクトに取り付け
られ水平方向に設けられたスリットと垂直方向に設けら
れたスリットを有する少なくとも一つのビームスリット
部と、少なくとも一つの水平方向用ステアリング電磁
石、少なくとも一つの垂直方向用ステアリング電磁石か
ら構成されるビーム輸送系であり、前記各スリットに個
別に設けられた蛍光板と、ビームがいずれかの前記スリ
ットに当たったときに、蛍光された該スリットの画像を
撮像する撮像手段と、この撮像手段による画像を基に前
記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石の励磁
量を制御する制御手段と、から構成されている。
達成するために、本発明のビーム輸送系は以下の如く構
成されている。 （１）本発明のビーム輸送系は、真空ダクトに取り付け
られ水平方向に設けられたスリットと垂直方向に設けら
れたスリットを有する少なくとも一つのビームスリット
部と、少なくとも一つの水平方向用ステアリング電磁
石、少なくとも一つの垂直方向用ステアリング電磁石か
ら構成されるビーム輸送系であり、ビームがいずれかの
前記スリットに当たったときに該スリットに流れた電流
を検出する電流検出手段と、この電流検出手段の検出結
果を基に前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電
磁石の励磁量を制御する制御手段と、から構成されてい
る。 （２）本発明のビーム輸送系は、真空ダクトに取り付け
られ水平方向に設けられたスリットと垂直方向に設けら
れたスリットを有する少なくとも一つのビームスリット
部と、少なくとも一つの水平方向用ステアリング電磁
石、少なくとも一つの垂直方向用ステアリング電磁石か
ら構成されるビーム輸送系であり、ビームがいずれかの
前記スリットに当たったときの該スリットの温度を検出
する温度検出手段と、この温度検出手段の検出結果を基
に前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石の
励磁量を制御する制御手段と、から構成されている。 （３）本発明のビーム輸送系は、真空ダクトに取り付け
られ水平方向に設けられたスリットと垂直方向に設けら
れたスリットを有する少なくとも一つのビームスリット
部と、少なくとも一つの水平方向用ステアリング電磁
石、少なくとも一つの垂直方向用ステアリング電磁石か
ら構成されるビーム輸送系であり、前記各スリットに個
別に設けられた蛍光板と、ビームがいずれかの前記スリ
ットに当たったときに、蛍光された該スリットの画像を
撮像する撮像手段と、この撮像手段による画像を基に前
記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石の励磁
量を制御する制御手段と、から構成されている。
【０００６】上記手段を講じた結果、それぞれ次のよう
な作用が生じる。 （１）本発明のビーム輸送系によれば、ビームスリット
部をビーム位置のモニターとして使用し、ビームの位置
に応じてステアリング電磁石の励磁量を自動で変更する
ことで、ビームが常にダクトの中心を通るように輸送
し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を高めること
ができる。また、前記ビームスリット部を複数備え、さ
らに前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石
と前記電流検出手段を複数備え、前記制御手段で集中制
御することで、ビームが常にダクトのビーム軸を通るよ
うに輸送し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を高
める。 （２）本発明のビーム輸送系によれば、ビームスリット
部をビーム位置のモニターとして使用し、ビームの位置
に応じてステアリング電磁石の励磁量を自動で変更する
ことで、ビームが常にダクトの中心を通るように輸送
し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を高めること
ができる。また、前記ビームスリット部を複数備え、さ
らに前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石
と前記温度検出手段を複数組備え、前記制御手段で集中
制御することで、ビームが常にダクトのビーム軸を通る
ように輸送し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を
高める。 （３）本発明のビーム輸送系によれば、ビームスリット
部をビーム位置のモニターとして使用し、ビームの位置
に応じてステアリング電磁石の励磁量を自動で変更する
ことで、ビームが常にダクトの中心を通るように輸送
し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を高めること
ができる。また、前記ビームスリット部と前記蛍光板と
前記撮像手段からなる組合わせを複数備え、さらに前記
水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石と前記温
度検出手段を複数組備え、前記制御手段で集中制御する
ことで、ビームが常にダクトのビーム軸を通るように輸
送し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を高める。
な作用が生じる。 （１）本発明のビーム輸送系によれば、ビームスリット
部をビーム位置のモニターとして使用し、ビームの位置
に応じてステアリング電磁石の励磁量を自動で変更する
ことで、ビームが常にダクトの中心を通るように輸送
し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を高めること
ができる。また、前記ビームスリット部を複数備え、さ
らに前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石
と前記電流検出手段を複数備え、前記制御手段で集中制
御することで、ビームが常にダクトのビーム軸を通るよ
うに輸送し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を高
める。 （２）本発明のビーム輸送系によれば、ビームスリット
部をビーム位置のモニターとして使用し、ビームの位置
に応じてステアリング電磁石の励磁量を自動で変更する
ことで、ビームが常にダクトの中心を通るように輸送
し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を高めること
ができる。また、前記ビームスリット部を複数備え、さ
らに前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石
と前記温度検出手段を複数組備え、前記制御手段で集中
制御することで、ビームが常にダクトのビーム軸を通る
ように輸送し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を
高める。 （３）本発明のビーム輸送系によれば、ビームスリット
部をビーム位置のモニターとして使用し、ビームの位置
に応じてステアリング電磁石の励磁量を自動で変更する
ことで、ビームが常にダクトの中心を通るように輸送
し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を高めること
ができる。また、前記ビームスリット部と前記蛍光板と
前記撮像手段からなる組合わせを複数備え、さらに前記
水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石と前記温
度検出手段を複数組備え、前記制御手段で集中制御する
ことで、ビームが常にダクトのビーム軸を通るように輸
送し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を高める。
【０００７】
【発明の実施の形態】（第１の実施の形態）図１の
（ａ）は、本発明の第１の実施の形態に係るビーム輸送
系の構成を示す図であり、図１の（ｂ）は図１の（ａ）
のＡ−Ａ断面図である。なお、図１にて図７と同一な部
分には同一符号を付してある。
（ａ）は、本発明の第１の実施の形態に係るビーム輸送
系の構成を示す図であり、図１の（ｂ）は図１の（ａ）
のＡ−Ａ断面図である。なお、図１にて図７と同一な部
分には同一符号を付してある。
【０００８】本第１の実施の形態では、図１の（ａ）に
示すように、内部が真空であるビームダクト１、ビーム
スリット２１、ビーム進行方向からみてビームスリット
２１の上流側に設けられ水平方向のビームの補正を行な
う水平方向用ステアリング電磁石３、水平方向用ステア
リング電源５、水平直方向のビームの補正を行なう水平
直方向用ステアリング電磁石４、垂直方向用ステアリン
グ電源６、及び制御装置１０と電流モニタ１１から構成
されている。
示すように、内部が真空であるビームダクト１、ビーム
スリット２１、ビーム進行方向からみてビームスリット
２１の上流側に設けられ水平方向のビームの補正を行な
う水平方向用ステアリング電磁石３、水平方向用ステア
リング電源５、水平直方向のビームの補正を行なう水平
直方向用ステアリング電磁石４、垂直方向用ステアリン
グ電源６、及び制御装置１０と電流モニタ１１から構成
されている。
【０００９】図１の（ｂ）に示すように、ビームスリッ
ト２１は、Ｘ方向（水平方向）に２個のスリット２１
１，２１２、Ｙ方向（垂直方向）に２個のスリット２１
３，２１４をそれぞれ独立に有しており、これらは各々
電気的に絶縁されている。各スリットにビームが当たっ
たときの電流を検知するために、電流モニタ（電流セン
サー）１１が設けられており、その出力からビームがど
こに当たっているかを検知することができる。制御装置
１０では、電流モニタ１１からの出力を計算し、ビーム
がスリットに当たらない方向に輸送されるよう、ステア
リング電源５，６を調整することでステアリング電磁石
３，４を励磁して、ビーム軌道を補正する。
ト２１は、Ｘ方向（水平方向）に２個のスリット２１
１，２１２、Ｙ方向（垂直方向）に２個のスリット２１
３，２１４をそれぞれ独立に有しており、これらは各々
電気的に絶縁されている。各スリットにビームが当たっ
たときの電流を検知するために、電流モニタ（電流セン
サー）１１が設けられており、その出力からビームがど
こに当たっているかを検知することができる。制御装置
１０では、電流モニタ１１からの出力を計算し、ビーム
がスリットに当たらない方向に輸送されるよう、ステア
リング電源５，６を調整することでステアリング電磁石
３，４を励磁して、ビーム軌道を補正する。
【００１０】以上のような構成にすることで当該ビーム
輸送系では、入射ビームの位置が変化したり、運転条件
が変化した場合でも、ビームを安定して輸送することが
できる。
輸送系では、入射ビームの位置が変化したり、運転条件
が変化した場合でも、ビームを安定して輸送することが
できる。
【００１１】（第２の実施の形態）図２の（ａ）は、本
発明の第２の実施の形態に係るビーム輸送系の構成を示
す図であり、図２の（ｂ）は図２の（ａ）のＡ−Ａ断面
図である。なお、図２にて図１、図７と同一な部分には
同一符号を付してある。
発明の第２の実施の形態に係るビーム輸送系の構成を示
す図であり、図２の（ｂ）は図２の（ａ）のＡ−Ａ断面
図である。なお、図２にて図１、図７と同一な部分には
同一符号を付してある。
【００１２】本第２の実施の形態では、図２の（ａ）に
示すように、内部が真空であるビームダクト１、ビーム
スリット２２、ビーム進行方向からみてビームスリット
２２の上流側に設けられ水平方向のビームの補正を行な
う水平方向用ステアリング電磁石３、水平方向用ステア
リング電源５、水平直方向のビームの補正を行なう水平
直方向用ステアリング電磁石４、垂直方向用ステアリン
グ電源６、及び制御装置１０と温度センサー１２から構
成されている。
示すように、内部が真空であるビームダクト１、ビーム
スリット２２、ビーム進行方向からみてビームスリット
２２の上流側に設けられ水平方向のビームの補正を行な
う水平方向用ステアリング電磁石３、水平方向用ステア
リング電源５、水平直方向のビームの補正を行なう水平
直方向用ステアリング電磁石４、垂直方向用ステアリン
グ電源６、及び制御装置１０と温度センサー１２から構
成されている。
【００１３】図２の（ｂ）に示すように、ビームスリッ
ト２２は、Ｘ方向（水平方向）に２個のスリット２２
１，２２２、Ｙ方向（垂直方向）に２個のスリット２２
３，２２４をそれぞれ独立に有しており、これらは各々
電気的に絶縁されている。各スリットにビームが当たっ
たときの温度を検知するために、温度センサー１２が設
けられている。ビームがいずれかのスリットに当たる
と、そのスリットの温度が上昇するため、温度センサー
１２の出力からビームがどこに当たっているかを検知す
ることができる。制御装置１０では、温度センサー１２
からの出力を計算し、ビームがスリットに当たらない方
向に輸送されるよう、ステアリング電源５，６を調整す
ることでステアリング電磁石３，４を励磁して、ビーム
軌道を補正する。
ト２２は、Ｘ方向（水平方向）に２個のスリット２２
１，２２２、Ｙ方向（垂直方向）に２個のスリット２２
３，２２４をそれぞれ独立に有しており、これらは各々
電気的に絶縁されている。各スリットにビームが当たっ
たときの温度を検知するために、温度センサー１２が設
けられている。ビームがいずれかのスリットに当たる
と、そのスリットの温度が上昇するため、温度センサー
１２の出力からビームがどこに当たっているかを検知す
ることができる。制御装置１０では、温度センサー１２
からの出力を計算し、ビームがスリットに当たらない方
向に輸送されるよう、ステアリング電源５，６を調整す
ることでステアリング電磁石３，４を励磁して、ビーム
軌道を補正する。
【００１４】以上のような構成にすることで当該ビーム
輸送系では、入射ビームの位置が変化したり、運転条件
が変化した場合でも、ビームを安定して輸送することが
できる。
輸送系では、入射ビームの位置が変化したり、運転条件
が変化した場合でも、ビームを安定して輸送することが
できる。
【００１５】（第３の実施の形態）図３の（ａ）は、本
発明の第３の実施の形態に係るビーム輸送系の構成を示
す図であり、図３の（ｂ）は図３の（ａ）のＡ−Ａ断面
図である。なお、図３にて図１、図２、図７と同一な部
分には同一符号を付してある。
発明の第３の実施の形態に係るビーム輸送系の構成を示
す図であり、図３の（ｂ）は図３の（ａ）のＡ−Ａ断面
図である。なお、図３にて図１、図２、図７と同一な部
分には同一符号を付してある。
【００１６】本第３の実施の形態では、図３の（ａ）に
示すように、内部が真空であるビームダクト１、ビーム
スリット２３、ビーム進行方向からみてビームスリット
２３の上流側に設けられ水平方向のビームの補正を行な
う水平方向用ステアリング電磁石３、水平方向用ステア
リング電源５、水平直方向のビームの補正を行なう水平
直方向用ステアリング電磁石４、垂直方向用ステアリン
グ電源６、さらに制御装置１０、ビームスリット２３の
各スリットに設置された蛍光板１３、及び各蛍光板１３
からの光を個別に検知する複数のＣＣＤカメラ８から構
成されている。
示すように、内部が真空であるビームダクト１、ビーム
スリット２３、ビーム進行方向からみてビームスリット
２３の上流側に設けられ水平方向のビームの補正を行な
う水平方向用ステアリング電磁石３、水平方向用ステア
リング電源５、水平直方向のビームの補正を行なう水平
直方向用ステアリング電磁石４、垂直方向用ステアリン
グ電源６、さらに制御装置１０、ビームスリット２３の
各スリットに設置された蛍光板１３、及び各蛍光板１３
からの光を個別に検知する複数のＣＣＤカメラ８から構
成されている。
【００１７】図３の（ｂ）に示すように、ビームスリッ
ト２３は、Ｘ方向（水平方向）に２個のスリット２３
１，２３２、Ｙ方向（垂直方向）に２個のスリット２３
３，２３４をそれぞれ独立に有しており、各スリットの
ビームが当たる面には、それぞれ蛍光板１３が取り付け
られている。各スリットにビームが当たったときに蛍光
板１３が発光し、その光を対応するＣＣＤカメラ８で取
り込み、制御装置１０で画像処理を行ない、その出力か
らビームがどこに当たっているかを検知することができ
る。制御装置１０では、さらにビームがスリットに当た
らない方向に輸送されるよう、ステアリング電源５，６
を調整することでステアリング電磁石３，４を励磁し
て、ビーム軌道を補正する。
ト２３は、Ｘ方向（水平方向）に２個のスリット２３
１，２３２、Ｙ方向（垂直方向）に２個のスリット２３
３，２３４をそれぞれ独立に有しており、各スリットの
ビームが当たる面には、それぞれ蛍光板１３が取り付け
られている。各スリットにビームが当たったときに蛍光
板１３が発光し、その光を対応するＣＣＤカメラ８で取
り込み、制御装置１０で画像処理を行ない、その出力か
らビームがどこに当たっているかを検知することができ
る。制御装置１０では、さらにビームがスリットに当た
らない方向に輸送されるよう、ステアリング電源５，６
を調整することでステアリング電磁石３，４を励磁し
て、ビーム軌道を補正する。
【００１８】以上のような構成にすることで当該ビーム
輸送系では、入射ビームの位置が変化したり、運転条件
が変化した場合でも、ビームを安定して輸送することが
できる。
輸送系では、入射ビームの位置が変化したり、運転条件
が変化した場合でも、ビームを安定して輸送することが
できる。
【００１９】（第４の実施の形態）図４は、本発明の第
４の実施の形態に係るビーム輸送系の構成を示す図であ
る。なお、図４にて図１〜図３、図７と同一な部分には
同一符号を付してある。
４の実施の形態に係るビーム輸送系の構成を示す図であ
る。なお、図４にて図１〜図３、図７と同一な部分には
同一符号を付してある。
【００２０】本第４の実施の形態では図４に示すよう
に、図１に示したビーム輸送系を複数台連続させた構成
をなしている。仮に１台の場合では、ビームがビームダ
クト１の中心を通ったとしても、それがビーム軸上を通
っているとは限らない。すなわち、ビームがビーム軸に
対して傾いている可能性もある。しかし、ビームを複数
台のスリット２１、２１’へ通すことにより、ビームを
ビーム軸上へ確実に通すことができる。
に、図１に示したビーム輸送系を複数台連続させた構成
をなしている。仮に１台の場合では、ビームがビームダ
クト１の中心を通ったとしても、それがビーム軸上を通
っているとは限らない。すなわち、ビームがビーム軸に
対して傾いている可能性もある。しかし、ビームを複数
台のスリット２１、２１’へ通すことにより、ビームを
ビーム軸上へ確実に通すことができる。
【００２１】以上のような構成にすることで当該ビーム
輸送系では、入射ビームの位置が変化したり、運転条件
が変化した場合でも、ビームを安定してビーム軸上に輸
送することができる。
輸送系では、入射ビームの位置が変化したり、運転条件
が変化した場合でも、ビームを安定してビーム軸上に輸
送することができる。
【００２２】（第５の実施の形態）図５は、本発明の第
５の実施の形態に係るビーム輸送系の構成を示す図であ
る。なお、図５にて図１〜図４、図７と同一な部分には
同一符号を付してある。
５の実施の形態に係るビーム輸送系の構成を示す図であ
る。なお、図５にて図１〜図４、図７と同一な部分には
同一符号を付してある。
【００２３】本第５の実施の形態では図５に示すよう
に、図２に示したビーム輸送系を複数台連続させた構成
をなしている。仮に１台の場合では、ビームがビームダ
クト１の中心を通ったとしても、それがビーム軸上を通
っているとは限らない。すなわち、ビームがビーム軸に
対して傾いている可能性もある。しかし、ビームを複数
台のスリット２２，２２’へ通すことにより、ビームを
ビーム軸上へ確実に通すことができる。
に、図２に示したビーム輸送系を複数台連続させた構成
をなしている。仮に１台の場合では、ビームがビームダ
クト１の中心を通ったとしても、それがビーム軸上を通
っているとは限らない。すなわち、ビームがビーム軸に
対して傾いている可能性もある。しかし、ビームを複数
台のスリット２２，２２’へ通すことにより、ビームを
ビーム軸上へ確実に通すことができる。
【００２４】以上のような構成にすることで当該ビーム
輸送系では、入射ビームの位置が変化したり、運転条件
が変化した場合でも、ビームを安定してビーム軸上に輸
送することができる。
輸送系では、入射ビームの位置が変化したり、運転条件
が変化した場合でも、ビームを安定してビーム軸上に輸
送することができる。
【００２５】（第６の実施の形態）図６は、本発明の第
６の実施の形態に係るビーム輸送系の構成を示す図であ
る。なお、図６にて図１〜図５、図７と同一な部分には
同一符号を付してある。
６の実施の形態に係るビーム輸送系の構成を示す図であ
る。なお、図６にて図１〜図５、図７と同一な部分には
同一符号を付してある。
【００２６】本第６の実施の形態では図６に示すよう
に、図３に示したビーム輸送系を複数台連続させた構成
をなしている。仮に１台の場合では、ビームがビームダ
クト１の中心を通ったとしても、それがビーム軸上を通
っているとは限らない。すなわち、ビームがビーム軸に
対して傾いている可能性もある。しかし、ビームを複数
台のスリット２３，２３’へ通すことにより、ビームを
ビーム軸上へ確実に通すことができる。
に、図３に示したビーム輸送系を複数台連続させた構成
をなしている。仮に１台の場合では、ビームがビームダ
クト１の中心を通ったとしても、それがビーム軸上を通
っているとは限らない。すなわち、ビームがビーム軸に
対して傾いている可能性もある。しかし、ビームを複数
台のスリット２３，２３’へ通すことにより、ビームを
ビーム軸上へ確実に通すことができる。
【００２７】以上のような構成にすることで当該ビーム
輸送系では、入射ビームの位置が変化したり、運転条件
が変化した場合でも、ビームを安定してビーム軸上に輸
送することができる。
輸送系では、入射ビームの位置が変化したり、運転条件
が変化した場合でも、ビームを安定してビーム軸上に輸
送することができる。
【００２８】なお、本発明は上記各実施の形態のみに限
定されず、要旨を変更しない範囲で適時変形して実施で
きる。 （実施の形態のまとめ）実施の形態に示された構成およ
び作用効果をまとめると次の通りである。 ［１］実施の形態に示されたビーム輸送系は、真空ダク
ト（１）に取り付けられ水平方向に設けられたスリット
（２１１，２１２）と垂直方向に設けられたスリット
（２１３，２１４）を有するビームスリット部（２１）
と、水平方向用ステアリング電磁石（３）、前記水平方
向用ステアリング電磁石（３）の電源（５）、垂直方向
用ステアリング電磁石（４）、前記垂直方向用ステアリ
ング電磁石（４）の電源（６）から構成されるビーム輸
送系であり、ビームがいずれかの前記スリットに当たっ
たときに該スリットに流れた電流を検出する電流検出手
段（１１）と、この電流検出手段（１１）の検出結果を
基に前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石
（３，４）の励磁量を制御する制御手段（１０）と、か
ら構成されている。
定されず、要旨を変更しない範囲で適時変形して実施で
きる。 （実施の形態のまとめ）実施の形態に示された構成およ
び作用効果をまとめると次の通りである。 ［１］実施の形態に示されたビーム輸送系は、真空ダク
ト（１）に取り付けられ水平方向に設けられたスリット
（２１１，２１２）と垂直方向に設けられたスリット
（２１３，２１４）を有するビームスリット部（２１）
と、水平方向用ステアリング電磁石（３）、前記水平方
向用ステアリング電磁石（３）の電源（５）、垂直方向
用ステアリング電磁石（４）、前記垂直方向用ステアリ
ング電磁石（４）の電源（６）から構成されるビーム輸
送系であり、ビームがいずれかの前記スリットに当たっ
たときに該スリットに流れた電流を検出する電流検出手
段（１１）と、この電流検出手段（１１）の検出結果を
基に前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石
（３，４）の励磁量を制御する制御手段（１０）と、か
ら構成されている。
【００２９】これにより上記ビーム輸送系においては、
ビームスリット部（２１）をビーム位置のモニターとし
て使用し、ビームの位置に応じてステアリング電磁石
（３，４）の励磁量を自動で変更することで、ビームが
常にダクト（１）の中心を通るように輸送し、ビーム輸
送系としての操作性、信頼性を高めることができる。 ［２］実施の形態に示されたビーム輸送系は、真空ダク
ト（１）に取り付けられ水平方向に設けられたスリット
（２２１，２２２）と垂直方向に設けられたスリット
（２２３，２２４）を有するビームスリット部（２２）
と、水平方向用ステアリング電磁石（３）、前記水平方
向用ステアリング電磁石（３）の電源（５）、垂直方向
用ステアリング電磁石（４）、前記垂直方向用ステアリ
ング電磁石（４）の電源（６）から構成されるビーム輸
送系であり、ビームがいずれかの前記スリットに当たっ
たときの該スリットの温度を検出する温度検出手段（１
２）と、この温度検出手段（１２）の検出結果を基に前
記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石（３，
４）の励磁量を制御する制御手段（１０）と、から構成
されている。
ビームスリット部（２１）をビーム位置のモニターとし
て使用し、ビームの位置に応じてステアリング電磁石
（３，４）の励磁量を自動で変更することで、ビームが
常にダクト（１）の中心を通るように輸送し、ビーム輸
送系としての操作性、信頼性を高めることができる。 ［２］実施の形態に示されたビーム輸送系は、真空ダク
ト（１）に取り付けられ水平方向に設けられたスリット
（２２１，２２２）と垂直方向に設けられたスリット
（２２３，２２４）を有するビームスリット部（２２）
と、水平方向用ステアリング電磁石（３）、前記水平方
向用ステアリング電磁石（３）の電源（５）、垂直方向
用ステアリング電磁石（４）、前記垂直方向用ステアリ
ング電磁石（４）の電源（６）から構成されるビーム輸
送系であり、ビームがいずれかの前記スリットに当たっ
たときの該スリットの温度を検出する温度検出手段（１
２）と、この温度検出手段（１２）の検出結果を基に前
記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石（３，
４）の励磁量を制御する制御手段（１０）と、から構成
されている。
【００３０】これにより上記ビーム輸送系においては、
ビームスリット部（２２）をビーム位置のモニターとし
て使用し、ビームの位置に応じてステアリング電磁石
（３，４）の励磁量を自動で変更することで、ビームが
常にダクト（１）の中心を通るように輸送し、ビーム輸
送系としての操作性、信頼性を高めることができる。 ［３］実施の形態に示されたビーム輸送系は、真空ダク
ト（１）に取り付けられ水平方向に設けられたスリット
（２３１，２３２）と垂直方向に設けられたスリット
（２３３，２３４）を有するビームスリット部（２３）
と、水平方向用ステアリング電磁石（３）、前記水平方
向用ステアリング電磁石（３）の電源（５）、垂直方向
用ステアリング電磁石（４）、前記垂直方向用ステアリ
ング電磁石（４）の電源（６）から構成されるビーム輸
送系であり、前記各スリットに個別に設けられた蛍光板
（１３）と、ビームがいずれかの前記スリットに当たっ
たときに、蛍光された該スリットの画像を撮像する撮像
手段（８）と、この撮像手段（８）による画像を基に前
記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石（３，
４）の励磁量を制御する制御手段（１０）と、から構成
されている。
ビームスリット部（２２）をビーム位置のモニターとし
て使用し、ビームの位置に応じてステアリング電磁石
（３，４）の励磁量を自動で変更することで、ビームが
常にダクト（１）の中心を通るように輸送し、ビーム輸
送系としての操作性、信頼性を高めることができる。 ［３］実施の形態に示されたビーム輸送系は、真空ダク
ト（１）に取り付けられ水平方向に設けられたスリット
（２３１，２３２）と垂直方向に設けられたスリット
（２３３，２３４）を有するビームスリット部（２３）
と、水平方向用ステアリング電磁石（３）、前記水平方
向用ステアリング電磁石（３）の電源（５）、垂直方向
用ステアリング電磁石（４）、前記垂直方向用ステアリ
ング電磁石（４）の電源（６）から構成されるビーム輸
送系であり、前記各スリットに個別に設けられた蛍光板
（１３）と、ビームがいずれかの前記スリットに当たっ
たときに、蛍光された該スリットの画像を撮像する撮像
手段（８）と、この撮像手段（８）による画像を基に前
記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石（３，
４）の励磁量を制御する制御手段（１０）と、から構成
されている。
【００３１】これにより上記ビーム輸送系においては、
ビームスリット部（２３）をビーム位置のモニターとし
て使用し、ビームの位置に応じてステアリング電磁石
（３，４）の励磁量を自動で変更することで、ビームが
常にダクト（１）の中心を通るように輸送し、ビーム輸
送系としての操作性、信頼性を高めることができる。 ［４］実施の形態に示されたビーム輸送系は上記［１］
に記載のビーム輸送系であり、かつ前記ビームスリット
部（２１，２１’）を二つ以上備えた。
ビームスリット部（２３）をビーム位置のモニターとし
て使用し、ビームの位置に応じてステアリング電磁石
（３，４）の励磁量を自動で変更することで、ビームが
常にダクト（１）の中心を通るように輸送し、ビーム輸
送系としての操作性、信頼性を高めることができる。 ［４］実施の形態に示されたビーム輸送系は上記［１］
に記載のビーム輸送系であり、かつ前記ビームスリット
部（２１，２１’）を二つ以上備えた。
【００３２】これにより上記ビーム輸送系においては、
前記ビームスリット部（２１，２１’）を複数備え、さ
らに前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石
（３、３’、４、４’）と前記電流検出手段（１１、１
１’）を複数備え、前記制御手段（１０）で集中制御す
ることで、ビームが常にダクト（１）のビーム軸を通る
ように輸送し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を
高める。 ［５］実施の形態に示されたビーム輸送系は上記［２］
に記載のビーム輸送系であり、かつ前記ビームスリット
部（２２，２２’）を二つ以上備えた。
前記ビームスリット部（２１，２１’）を複数備え、さ
らに前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石
（３、３’、４、４’）と前記電流検出手段（１１、１
１’）を複数備え、前記制御手段（１０）で集中制御す
ることで、ビームが常にダクト（１）のビーム軸を通る
ように輸送し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を
高める。 ［５］実施の形態に示されたビーム輸送系は上記［２］
に記載のビーム輸送系であり、かつ前記ビームスリット
部（２２，２２’）を二つ以上備えた。
【００３３】これにより上記ビーム輸送系においては、
前記ビームスリット部（２２，２２’）を複数備え、さ
らに前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石
（３、３’、４、４’）と前記温度検出手段（１２、１
２’）を複数備え、前記制御手段（１０）で集中制御す
ることで、ビームが常にダクト（１）のビーム軸を通る
ように輸送し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を
高める。 ［６］実施の形態に示されたビーム輸送系は上記［３］
に記載のビーム輸送系であり、かつ前記ビームスリット
部（２３，２３’）を二つ以上備えた。
前記ビームスリット部（２２，２２’）を複数備え、さ
らに前記水平方向用及び垂直方向用ステアリング電磁石
（３、３’、４、４’）と前記温度検出手段（１２、１
２’）を複数備え、前記制御手段（１０）で集中制御す
ることで、ビームが常にダクト（１）のビーム軸を通る
ように輸送し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を
高める。 ［６］実施の形態に示されたビーム輸送系は上記［３］
に記載のビーム輸送系であり、かつ前記ビームスリット
部（２３，２３’）を二つ以上備えた。
【００３４】これにより上記ビーム輸送系においては、
前記ビームスリット部（２３，２３’）と前記蛍光板
（１３、１３’）と前記撮像手段（８、８’）からなる
組合わせを複数備え、さらに前記水平方向用及び垂直方
向用ステアリング電磁石（３、３’、４、４’）を複数
備え、前記制御手段（１０）で集中制御することで、ビ
ームが常にダクト（１）のビーム軸を通るように輸送
し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を高める。
前記ビームスリット部（２３，２３’）と前記蛍光板
（１３、１３’）と前記撮像手段（８、８’）からなる
組合わせを複数備え、さらに前記水平方向用及び垂直方
向用ステアリング電磁石（３、３’、４、４’）を複数
備え、前記制御手段（１０）で集中制御することで、ビ
ームが常にダクト（１）のビーム軸を通るように輸送
し、ビーム輸送系としての操作性、信頼性を高める。
【００３５】
【発明の効果】本発明によれば、ビームの位置を自動で
調整することで、操作性、信頼性を高めるビーム輸送系
を提供できる。よって、従来の如きオペレータによる再
調整を行なう必要がなくなり、精確で安定したビームの
輸送を行なうことができる。
調整することで、操作性、信頼性を高めるビーム輸送系
を提供できる。よって、従来の如きオペレータによる再
調整を行なう必要がなくなり、精確で安定したビームの
輸送を行なうことができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るビーム輸送系
の構成を示す図。
の構成を示す図。
【図２】本発明の第２の実施の形態に係るビーム輸送系
の構成を示す図。
の構成を示す図。
【図３】本発明の第３の実施の形態に係るビーム輸送系
の構成を示す図。
の構成を示す図。
【図４】本発明の第４の実施の形態に係るビーム輸送系
の構成を示す図。
の構成を示す図。
【図５】本発明の第５の実施の形態に係るビーム輸送系
の構成を示す図。
の構成を示す図。
【図６】本発明の第６の実施の形態に係るビーム輸送系
の構成を示す図。
の構成を示す図。
【図７】従来例に係る代表的なビーム輸送系の構成を示
す図。
す図。
１…ビームダクト（真空ダクト） ２、２’、２１、２１’、２２、２２’、２３、２３’
…ビームスリット ３、３’…水平方向ステアリング電磁石 ４、４’…垂直方向ステアリング電磁石 ５、５’…水平方向ステアリング電源 ６、６’…垂直方向ステアリング電源 ７…スクリーンモニタ ８、８’…ＣＣＤカメラ ９…ＴＶモニタ １０…制御装置 １１、１１’…電流モニタ（電流センサー） １２、１２’…温度センサー １３、１３’…蛍光板
…ビームスリット ３、３’…水平方向ステアリング電磁石 ４、４’…垂直方向ステアリング電磁石 ５、５’…水平方向ステアリング電源 ６、６’…垂直方向ステアリング電源 ７…スクリーンモニタ ８、８’…ＣＣＤカメラ ９…ＴＶモニタ １０…制御装置 １１、１１’…電流モニタ（電流センサー） １２、１２’…温度センサー １３、１３’…蛍光板
Claims (3)
- 【請求項１】真空ダクトに取り付けられ水平方向に設け
られたスリットと垂直方向に設けられたスリットを有す
る少なくとも一つのビームスリット部と、少なくとも一
つの水平方向用ステアリング電磁石、少なくとも一つの
垂直方向用ステアリング電磁石から構成されるビーム輸
送系であり、 ビームがいずれかの前記スリットに当たったときに該ス
リットに流れた電流を検出する電流検出手段と、 この電流検出手段の検出結果を基に前記水平方向用及び
垂直方向用ステアリング電磁石の励磁量を制御する制御
手段と、 を具備したことを特徴とするビーム輸送系。 - 【請求項２】真空ダクトに取り付けられ水平方向に設け
られたスリットと垂直方向に設けられたスリットを有す
る少なくとも一つのビームスリット部と、少なくとも一
つの水平方向用ステアリング電磁石、少なくとも一つの
垂直方向用ステアリング電磁石から構成されるビーム輸
送系であり、 ビームがいずれかの前記スリットに当たったときの該ス
リットの温度を検出する温度検出手段と、 この温度検出手段の検出結果を基に前記水平方向用及び
垂直方向用ステアリング電磁石の励磁量を制御する制御
手段と、 を具備したことを特徴とするビーム輸送系。 - 【請求項３】真空ダクトに取り付けられ水平方向に設け
られたスリットと垂直方向に設けられたスリットを有す
る少なくとも一つのビームスリット部と、少なくとも一
つの水平方向用ステアリング電磁石、少なくとも一つの
垂直方向用ステアリング電磁石から構成されるビーム輸
送系であり、 前記各スリットに個別に設けられた蛍光板と、 ビームがいずれかの前記スリットに当たったときに、蛍
光された該スリットの画像を撮像する撮像手段と、 この撮像手段による画像を基に前記水平方向用及び垂直
方向用ステアリング電磁石の励磁量を制御する制御手段
と、 を具備したことを特徴とするビーム輸送系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP859798A JPH11204298A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | ビーム輸送系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP859798A JPH11204298A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | ビーム輸送系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11204298A true JPH11204298A (ja) | 1999-07-30 |
Family
ID=11697386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP859798A Pending JPH11204298A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | ビーム輸送系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11204298A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007273368A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Ihi Corp | イオン注入装置 |
| WO2014128932A1 (ja) * | 2013-02-22 | 2014-08-28 | 三菱電機株式会社 | 粒子線治療装置 |
| CN104570045A (zh) * | 2014-12-30 | 2015-04-29 | 江苏安德信超导加速器科技有限公司 | 矩形profile束流截面多靶位探测器 |
| JP2019100794A (ja) * | 2017-11-30 | 2019-06-24 | 株式会社東芝 | ビームエミッタンス測定装置及び方法 |
| KR20200023994A (ko) * | 2018-08-27 | 2020-03-06 | 한국원자력연구원 | Ccd 카메라 영상을 이용한 전자빔의 포커스 제어 장치 및 방법 |
| WO2023243143A1 (ja) * | 2022-06-15 | 2023-12-21 | 株式会社日立製作所 | ビームモニタ装置、加速器及び放射線治療装置及びビーム測定方法 |
-
1998
- 1998-01-20 JP JP859798A patent/JPH11204298A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007273368A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Ihi Corp | イオン注入装置 |
| WO2014128932A1 (ja) * | 2013-02-22 | 2014-08-28 | 三菱電機株式会社 | 粒子線治療装置 |
| JP5868543B2 (ja) * | 2013-02-22 | 2016-02-24 | 三菱電機株式会社 | 粒子線治療装置 |
| CN104570045A (zh) * | 2014-12-30 | 2015-04-29 | 江苏安德信超导加速器科技有限公司 | 矩形profile束流截面多靶位探测器 |
| JP2019100794A (ja) * | 2017-11-30 | 2019-06-24 | 株式会社東芝 | ビームエミッタンス測定装置及び方法 |
| KR20200023994A (ko) * | 2018-08-27 | 2020-03-06 | 한국원자력연구원 | Ccd 카메라 영상을 이용한 전자빔의 포커스 제어 장치 및 방법 |
| WO2023243143A1 (ja) * | 2022-06-15 | 2023-12-21 | 株式会社日立製作所 | ビームモニタ装置、加速器及び放射線治療装置及びビーム測定方法 |
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