JPS59169132A - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
- Publication number
- JPS59169132A JPS59169132A JP4224683A JP4224683A JPS59169132A JP S59169132 A JPS59169132 A JP S59169132A JP 4224683 A JP4224683 A JP 4224683A JP 4224683 A JP4224683 A JP 4224683A JP S59169132 A JPS59169132 A JP S59169132A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rectangular
- rotation
- electron beam
- size
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/3002—Details
- H01J37/3007—Electron or ion-optical systems
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は電子線描画装置に係シ、特に矩形ビーム作成を
自動的に行なうことのできる電子線描画装置に関する。
自動的に行なうことのできる電子線描画装置に関する。
従来の電子線描画装置は第１図に示す如き栴成を有して
いる。
いる。
図において、１は電子銃、２は電子線、３は第１矩形絞
シ、４はレンズ、５は偏向板、６は第２矩形絞り、７は
レンズ、８はレンズ、９は偏向器、１０は試料、１１は
矩形寸法制（財）系、１２はコンピュータ、１３は偏向
制呻系である。
シ、４はレンズ、５は偏向板、６は第２矩形絞り、７は
レンズ、８はレンズ、９は偏向器、１０は試料、１１は
矩形寸法制（財）系、１２はコンピュータ、１３は偏向
制呻系である。
七子銃１から放射された電子線２は、第１矩形絞り３を
照らし、第１矩形絞シ３の像がレンズ４によ）第２矩形
絞シロ上に投影される。第２ ’）、ｊｊ形絞り６を通
過した電子線２はレンズ７で縮小され、レンズ８によっ
て試料１０上に照射される。そしてコンピュータ１２に
より制御されている偏向副脚系１３からの信号を受けた
偏向器９によって電子線２は試料１０上を走査する。試
料１０上に投影されている矩形ビームの寸法を変える場
合は、第２図に示すごとくコンピュータ１２によシ制御
されている矩形寸法制御系１１からの信号を偏向板５に
与え、矩形絞シ３を通過した電子線２を偏向することに
よって行われる。このようにしてシ：−τ形絞シロを通
過した電子線２によって第２図に示す如く矩形ビーム１
４が作成される。ところが第１矩形絞シ３の像はレンズ
４に、よって回転を受は第３図（ａ）（ｂ）に示すよう
に第２矩形絞シロ上に投影される。このため、正確な矩
形ビーム（長方形。
照らし、第１矩形絞シ３の像がレンズ４によ）第２矩形
絞シロ上に投影される。第２ ’）、ｊｊ形絞り６を通
過した電子線２はレンズ７で縮小され、レンズ８によっ
て試料１０上に照射される。そしてコンピュータ１２に
より制御されている偏向副脚系１３からの信号を受けた
偏向器９によって電子線２は試料１０上を走査する。試
料１０上に投影されている矩形ビームの寸法を変える場
合は、第２図に示すごとくコンピュータ１２によシ制御
されている矩形寸法制御系１１からの信号を偏向板５に
与え、矩形絞シ３を通過した電子線２を偏向することに
よって行われる。このようにしてシ：−τ形絞シロを通
過した電子線２によって第２図に示す如く矩形ビーム１
４が作成される。ところが第１矩形絞シ３の像はレンズ
４に、よって回転を受は第３図（ａ）（ｂ）に示すよう
に第２矩形絞シロ上に投影される。このため、正確な矩
形ビーム（長方形。
又は正方形）を得るには、機械的に第１矩形絞り３を少
しずつ回転させて、第２矩形絞シロに合せていた。一方
、第１矩形絞シ３は水平方向に移動させるために鏡体に
固定されていないので、水平方向移動のたびにメカニカ
ルドリフトを生じ、そのつどオペレータは第１矩形絞シ
３の回転調整を行わなければならず、オペレータに負担
がかかるという欠点を有している。また、第１矩形絞り
３の回転調整はオペレータが矩形ビーム像を実際に観察
しながら行っているため個人差を生じ、描画精度を一定
に保つことができないという欠点を有していた。
しずつ回転させて、第２矩形絞シロに合せていた。一方
、第１矩形絞シ３は水平方向に移動させるために鏡体に
固定されていないので、水平方向移動のたびにメカニカ
ルドリフトを生じ、そのつどオペレータは第１矩形絞シ
３の回転調整を行わなければならず、オペレータに負担
がかかるという欠点を有している。また、第１矩形絞り
３の回転調整はオペレータが矩形ビーム像を実際に観察
しながら行っているため個人差を生じ、描画精度を一定
に保つことができないという欠点を有していた。
本発明の目的は、自動的に像回転補正を行うことのでき
る電子線描画装置を提供することにある。
る電子線描画装置を提供することにある。
本発明は、２枚の矩形絞シの間に像回転補正用電子レン
ズを設けると共に試料近傍のファラデーカップ上に投影
されている矩形ビームを検出する検出器を設け、該検出
器から出力される矩形ビーム信号に応じて前記電子レン
ズを制御するととし二より、自動的に像回転補正を行お
うというものである。
ズを設けると共に試料近傍のファラデーカップ上に投影
されている矩形ビームを検出する検出器を設け、該検出
器から出力される矩形ビーム信号に応じて前記電子レン
ズを制御するととし二より、自動的に像回転補正を行お
うというものである。
以下、本発明の実施例について説明する。
第４図には、本発明の一実施例が示されている、図にお
いて、本実施例は、第１図図示従来例に像回転補正制御
系１６と、像回転補正レンズ１９と、ファラデイカツブ
１５と、Ａ／Ｄ変換部１８を付加したものである。
いて、本実施例は、第１図図示従来例に像回転補正制御
系１６と、像回転補正レンズ１９と、ファラデイカツブ
１５と、Ａ／Ｄ変換部１８を付加したものである。
このような構成において、第１矩形絞シ３の像はし／ズ
４によって回転が与えられて、第２矩形絞り６上に投影
される。第２矩形絞シロを通過した電子線２は縮小され
試料１０上に照射される。
４によって回転が与えられて、第２矩形絞り６上に投影
される。第２矩形絞シロを通過した電子線２は縮小され
試料１０上に照射される。
試料１０上に照射された電子線２はファラデイカツブ１
５で受けられ、このファラデイカツブ１５で受けたビー
ム電流をＡ／Ｄ変換部１８においてデジタル化しコンピ
ュータ１２ＫＪ＆！？込まれる。
５で受けられ、このファラデイカツブ１５で受けたビー
ム電流をＡ／Ｄ変換部１８においてデジタル化しコンピ
ュータ１２ＫＪ＆！？込まれる。
この時、コンピュータ１２から矩形寸法側脚系１１を介
して偏向板５に信号を与え矩形ビームの寸法を変えてフ
ァラデイカツブ１５によって検出されるビーム電流値を
コンピュータ１２に取シ込む。このビーム電流値は回転
が与えられていなければ、矩形ビーム寸法に比例した値
を示す。そこで変化が比例しないときは矩形ビーム寸法
に比例してビーム電流値が変化するように、回転補正系
１６を制御し、回転補正系１６からの信号を隊回転補正
電子レンズ１９に与えて像の回転を正常な位＃まで調整
する。
して偏向板５に信号を与え矩形ビームの寸法を変えてフ
ァラデイカツブ１５によって検出されるビーム電流値を
コンピュータ１２に取シ込む。このビーム電流値は回転
が与えられていなければ、矩形ビーム寸法に比例した値
を示す。そこで変化が比例しないときは矩形ビーム寸法
に比例してビーム電流値が変化するように、回転補正系
１６を制御し、回転補正系１６からの信号を隊回転補正
電子レンズ１９に与えて像の回転を正常な位＃まで調整
する。
次に矩形ビーム寸法を変えた時のビーム電流値変化につ
いて第５図を用いて説明する。
いて第５図を用いて説明する。
成子ビームの電流密度Ａは、コンピュータ処理時間内で
は非常に短い時間であるため均一であると考えることが
できる。この電子ビームを、演出するだめのビーム電流
（直は面積Ｓ ｔ、 ＋ ８２に対応する。
は非常に短い時間であるため均一であると考えることが
できる。この電子ビームを、演出するだめのビーム電流
（直は面積Ｓ ｔ、 ＋ ８２に対応する。
いま、矩形ビーム寸法Ｘｏの時のビーム電流値■１は、
第５図（ａ）に示す如く、２枚の矩形絞りが一致してい
ないときは、 とな夛、第５図（ｂ）に示す如く２枚の矩形絞りが一致
しているときは、 Ｉｔ ’＝Ｓ、’ ＝Ａ １雪 ａ −Ｘｏ
−＝・・” （２
）となる。
第５図（ａ）に示す如く、２枚の矩形絞りが一致してい
ないときは、 とな夛、第５図（ｂ）に示す如く２枚の矩形絞りが一致
しているときは、 Ｉｔ ’＝Ｓ、’ ＝Ａ １雪 ａ −Ｘｏ
−＝・・” （２
）となる。
そこで、矩形ビーム寸法をΔＸ変化すると、このときの
ビーム電流■２ば、２枚の矩形絞シが一致していないと
きは、 となう、２枚の矩形絞力が一致しているときけ、Ｉ２’
＝８２′−Ａ ＝ａ ・（Ｘｏ−ΔＸ ）
−−−−・・・・−（４）となる。
ビーム電流■２ば、２枚の矩形絞シが一致していないと
きは、 となう、２枚の矩形絞力が一致しているときけ、Ｉ２’
＝８２′−Ａ ＝ａ ・（Ｘｏ−ΔＸ ）
−−−−・・・・−（４）となる。
したがって、第５図（ａ）（ｂ）ｔｉｃ示される局舎の
：覚流変化量Δ■、Δ工′は、 ΔＩ＝Ｉ２ Ｌ＝Ａ（−ｔａｎθ（Δｘ）２−（ａ＋ｂ
）ΔＸ−４−ｘ（Ｉｔａｎθ（Δｘ ｌ ） −−
−−・・−・−（５）ΔＩ’＝Ｉ２ ’ ＩＩ ’＝
Ａ−ａ ・Δｘ −・−−−・−・（６）とな
る。この（５）式と（６）式とよシとなる。
：覚流変化量Δ■、Δ工′は、 ΔＩ＝Ｉ２ Ｌ＝Ａ（−ｔａｎθ（Δｘ）２−（ａ＋ｂ
）ΔＸ−４−ｘ（Ｉｔａｎθ（Δｘ ｌ ） −−
−−・・−・−（５）ΔＩ’＝Ｉ２ ’ ＩＩ ’＝
Ａ−ａ ・Δｘ −・−−−・−・（６）とな
る。この（５）式と（６）式とよシとなる。
このようにして、矩形ビーム寸法（本実施例においては
ΔＸ）を周期的に変化させつつ像回転補正電子レンズ１
９をビーム電流値が不変となるように制御することによ
り正確な矩形ビームがオペレータの介在なしで自動化す
ることができる。
ΔＸ）を周期的に変化させつつ像回転補正電子レンズ１
９をビーム電流値が不変となるように制御することによ
り正確な矩形ビームがオペレータの介在なしで自動化す
ることができる。
なお、本実施例においては、Ａ／Ｄ変換部１８を用いて
いるが、とのＡ／Ｄ変換部１８に換えて微分回路を設け
、矩形ビーム寸法を変化したときにビーム電流の微分出
力が一定となるように像回転補正電子レンズ１９を制御
することもできる。
いるが、とのＡ／Ｄ変換部１８に換えて微分回路を設け
、矩形ビーム寸法を変化したときにビーム電流の微分出
力が一定となるように像回転補正電子レンズ１９を制御
することもできる。
に像回転補正を行うことができる。
第１図は従来の電子線描画装置の構成図、第２図は第１
矩形絞シと第２矩形絞りと電子ビームとの関係を示す図
、第３図は電子ビームに回転が生じている状態を示す図
、第４図は本発明の実施例を示す構成図、第５図は像回
転補正を説明するための図である。 １・・・電子銃、２・・・電子線、３・・・第１矩形絞
り、４・・・レンズ、５・・・偏向板、６・・・第２矩
形絞シ、７・・・レンズ、８・・・レンズ、９・・・偏
向器、１０・・・試料、１１−・・矩形寸法制御系、１
２・・・コンピュータ、１３・・・偏向制御系、１４・
・・矩形ビーム、１５・・・ファラデイカツブ、１６・
・・像回転補正側（財）系、１８（（１）
矩形絞シと第２矩形絞りと電子ビームとの関係を示す図
、第３図は電子ビームに回転が生じている状態を示す図
、第４図は本発明の実施例を示す構成図、第５図は像回
転補正を説明するための図である。 １・・・電子銃、２・・・電子線、３・・・第１矩形絞
り、４・・・レンズ、５・・・偏向板、６・・・第２矩
形絞シ、７・・・レンズ、８・・・レンズ、９・・・偏
向器、１０・・・試料、１１−・・矩形寸法制御系、１
２・・・コンピュータ、１３・・・偏向制御系、１４・
・・矩形ビーム、１５・・・ファラデイカツブ、１６・
・・像回転補正側（財）系、１８（（１）
Claims (1)
- １、電子ビーム通路に２枚の矩形絞シを有し、１枚目の
矩形絞りの矩形像を２枚目の矩形絞）上に偏向して投影
する手段を備え、２枚目の矩形絞シを通過した電子ビー
ムを収束して試料上を走査する電子線描画装置において
、上記２枚の矩形絞シ間に像回転補正用の電子レンズと
、上記試料近傍に上記成子ビームのビーム電流値を検出
する検出手段と、該検出手段からの出力呟が矩形ビーム
寸法に比例”して変化するように上記１枚目の矩形像の
回転補正を行う補正手段とを設けたことを特徴とする電
子線描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4224683A JPS59169132A (ja) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4224683A JPS59169132A (ja) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | 電子線描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59169132A true JPS59169132A (ja) | 1984-09-25 |
Family
ID=12630666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4224683A Pending JPS59169132A (ja) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59169132A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59232415A (ja) * | 1983-06-16 | 1984-12-27 | Toshiba Corp | 荷電ビ−ム制御方法 |
| JPS63237526A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-10-04 | Toshiba Corp | 荷電ビ−ム描画方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52119184A (en) * | 1976-03-31 | 1977-10-06 | Fujitsu Ltd | Electron beam exposing method |
| JPS5353978A (en) * | 1976-10-27 | 1978-05-16 | Fujitsu Ltd | Rotating position relation adjusting method |
| JPS5354140A (en) * | 1976-10-27 | 1978-05-17 | Fujitsu Ltd | Method of forming bore |
| JPS5357760A (en) * | 1976-11-04 | 1978-05-25 | Fujitsu Ltd | Electron beam exposure apparatus |
| JPS54109382A (en) * | 1978-02-15 | 1979-08-27 | Jeol Ltd | Electron ray exposure |
| JPS5648134A (en) * | 1979-09-28 | 1981-05-01 | Hitachi Ltd | Control for electron beam |
-
1983
- 1983-03-16 JP JP4224683A patent/JPS59169132A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52119184A (en) * | 1976-03-31 | 1977-10-06 | Fujitsu Ltd | Electron beam exposing method |
| JPS5353978A (en) * | 1976-10-27 | 1978-05-16 | Fujitsu Ltd | Rotating position relation adjusting method |
| JPS5354140A (en) * | 1976-10-27 | 1978-05-17 | Fujitsu Ltd | Method of forming bore |
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| JPS54109382A (en) * | 1978-02-15 | 1979-08-27 | Jeol Ltd | Electron ray exposure |
| JPS5648134A (en) * | 1979-09-28 | 1981-05-01 | Hitachi Ltd | Control for electron beam |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59232415A (ja) * | 1983-06-16 | 1984-12-27 | Toshiba Corp | 荷電ビ−ム制御方法 |
| JPS63237526A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-10-04 | Toshiba Corp | 荷電ビ−ム描画方法 |
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