JPH11203706A

JPH11203706A - 光学ヘッド及びその製造方法

Info

Publication number: JPH11203706A
Application number: JP10005893A
Authority: JP
Inventors: Kouichirou Kijima; 公一朗木島
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1998-01-14
Filing date: 1998-01-14
Publication date: 1999-07-30

Abstract

(57)【要約】【課題】光学記録媒体の表面性や平行誤差等に起因す
る光学記録媒体と集光レンズとの接触が抑制され、集光
レンズを光学記録媒体に近接させることが可能となると
共に、集光レンズの取り付け精度が緩和された光学ヘッ
ド及びこの光学ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】先玉レンズ３１の光磁気ディスク２と対
向する側に、集束した光を透過する第１の対向面３５
と、この第１の対向面３５の外周側に位置する第２の対
向面５６とを、第２の対向面３６と光磁気ディスク２と
の離間距離が、第１の対向面３５と光磁気ディスク２と
の離間距離よりも大となるように設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学記録媒体に対
して情報信号を書き込み、または光学記録媒体に記録さ
れた情報信号を読み取る光学ヘッド及びその製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、動画、静止画などのビデオデータ
をディジタルデータとして記録する技術の発達に伴い、
取り扱われるデータの大容量化が進んでいる。そして、
こうしたデータを記録する記録媒体においては、データ
の大容量化に対応すべく、信号記録密度の向上が図られ
ている。

【０００３】このような高密度記録化の流れの中で、記
録媒体として、光磁気ディスクや相変化光ディスク等の
光学記録媒体が普及しつつある。この光学記録媒体は、
光記録技術を用いた記録媒体であり、磁気記録媒体と比
較して、容易に記録密度の向上を図ることができる。

【０００４】光記録技術においては、記録媒体の信号記
録面上に光を集束して照射し、光の照射された箇所に情
報信号を記録し、または、信号記録面上に照射された光
の反射光を検出することにより記録された情報信号を読
み取るようにしている。

【０００５】したがって、この光記録技術を用いた光学
記録媒体においては、記録密度が、集束された光のスポ
ットサイズに依存することとなる。すなわち、光のスポ
ットサイズが小さいほど、１つの信号が小さいエリアに
記録され、信号記録密度が向上することになる。

【０００６】集束された光のスポットサイズは、光の波
長：λに比例し、この光を集束するレンズ（以下、集光
レンズという。）の開口数：ＮＡに反比例する特性を有
している。そこで、光学記録媒体の信号記録密度を向上
させるために、使用する光の波長の短波長化及び集光レ
ンズの高ＮＡ化が要求されている。

【０００７】ここで、集光レンズの開口数：ＮＡは、集
束する光の角度をθとし、光が集束される媒質中の屈折
率をｎとしたときに、以下の式（１）で表される。

【０００８】ＮＡ＝ｎ×ｓｉｎθ ・・・・（１）したがって、屈折率が１である空気を光が集束される媒
質とした場合、すなわち空気中に光集束経路を設けた場
合においては、ＮＡを１よりも高くすることは、実質的
に不可能である。

【０００９】そこでＮＡをより高める方法として、集光
レンズと光学記録媒体との間の空気層の厚さを極力薄く
して、光学的に空気層がない状態、すなわち集光レンズ
と光学記録媒体とが光学的に接触した状態とすることに
より、ＮＡを１以上にする試みがなされている。（例え
ば、Terris et al., Appl. Phys. Lett. 65 (4),p388-p
390,25 July , 1994,あるいは、Terris et al.,Appl.Ph
ys.Lett , 68(2),p141-p143,8 January,1996）

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】ところで、集光レンズ
と光学記録媒体との間に光学的に空気層がない状態とさ
れるのは、光の波長にも依存するが、およそ空気層の厚
さが約２００ｎｍ以下の場合である。

【００１１】記録媒体として光磁気ディスクや相変化光
ディスクを用いた光ディスク装置においては、光が回転
するディスクの信号記録面上に常に焦点を結ぶように、
集光レンズをディスクに接離する方向に移動させるとと
もに、光が回転するディスクの記録トラックに常に追従
するように、集光レンズをディスクの半径方向に移動さ
せる（いわゆるフォーカスサーボとトラッキングサーボ
をかける）必要がある。

【００１２】しかしながら、このようにフォーカスサー
ボとトラッキングサーボをかけた状態で、空気層の厚さ
を２００ｎｍ以下に保つことは非常に困難であり、この
ことが、ＮＡを１以上にした光ディスク装置の実用化を
妨げる要因となっていた。

【００１３】特に、空気層の厚さを約２００ｎｍ以下に
保つことを困難にしている一因として、回転するディス
ク表面のうねり等が挙げられる。

【００１４】すなわち、回転するディスク表面にうねり
等が生じているために、集光レンズのディスクと対向す
る面の中央部、すなわち光をディスクに向けて透過する
箇所が、例えば１００ｎｍ程度の離間距離でディスクに
対向したときに、集光レンズのディスクと対向する面の
外周部がディスクに接触してしまう場合がある。

【００１５】また、集光レンズと回転するディスクとの
間の距離を約２００ｎｍ以下に保つことを困難にしてい
る一因として、ディスクの平行誤差が挙げられる。

【００１６】すなわち、ディスクを回転操作する際に、
ディスクの表面が集光レンズのディスクと対向する面に
対して平行とならずに、多少の傾きが生じてしまう場合
がある。そして、ディスクがこのように傾いた状態で、
集光レンズをディスクに近づけると、集光レンズのディ
スクと対向する面の中央部とディスクとの離間距離が２
００ｎｍ程度になる前に、集光レンズのディスクと対向
する面の外周部がディスクに接触してしまう場合があ
る。

【００１７】より具体的には、集光レンズのディスクと
の対向面がφ１ｍｍの円形平面である場合において、集
光レンズとディスクとの離間距離を５０ｎｍにするに
は、ディスクの平面度を、少なくともφ１ｍｍの円形の
範囲において５０ｎｍ以上の突起がないように高める必
要があると同時に、ディスクの集光レンズに対する平行
度を、絶えずａｒｃｔａｎ（５０／５０００００）＝
０．００５７８（ｄｅｇ）以下となるように保たなけれ
ばならないこととなる。

【００１８】さらに、集光レンズのディスクとの対向面
がφ２．５ｍｍの円形平面である場合においては、集光
レンズとディスクとの離間距離を５０ｎｍにするには、
ディスクの平面度を、少なくともφ２．５ｍｍの円形の
範囲において５０ｎｍ以上の突起がないように高める必
要があると同時に、ディスクの集光レンズに対する平行
度を、絶えずａｒｃｔａｎ（５０／１２５００００）＝
０．００２３（ｄｅｇ）以下となるように保たなければ
ならないこととなり、容易にディスクを製造することが
困難となり、さらには、容易に組立を行うことが困難と
なる。

【００１９】なお、回転するディスクと集光レンズとが
接触してしまう危険性は、上述したようにＮＡを１以上
とする場合に限らず、高密度化を目的として集光レンズ
のＮＡを高めていく場合に常に生じる問題である。

【００２０】すなわち、集光レンズのＮＡを高めていく
と、自然とディスクへの入射角度が増加するので、レン
ズの口径をさほど大きくすることなく、ＮＡを高めた場
合においては、回転するディスクとレンズとの距離：す
なわちＷＤ（ワーキングディスタンス）を狭くしなくて
はならなくなり、回転するディスクと集光レンズとが接
触してしまう危険性が高くなる。特に、ＷＤが１００μ
ｍ以下となる場合においては、ディスクの面振れ等によ
り回転するディスクと集光レンズとが接触する危険性が
高くなる。

【００２１】また、この場合においても、ディスクの平
行誤差により、ディスクと集光レンズとが接触する危険
性がある。そして、ディスクとの対向面がφ２．５ｍｍ
の円形平面である集光レンズを、４０μｍのＷＤでディ
スクに対向させる場合において、ディスクと集光レンズ
との接触を避けるためには、ディスクの集光レンズに対
する平行度を、絶えずａｒｃｔａｎ（４０／１２５０）
＝１．８３３（ｄｅｇ）以下となるように、すなわち２
（ｄｅｇ）以下の精度に保たなければならないこととな
り、突き当て治具等を用いた単純な組立装置において
は、容易に組立を行うことは容易でなくなる。

【００２２】さらに、ディスクとの対向面がφ２．５ｍ
ｍの円形平面である集光レンズを、２０μｍのＷＤでデ
ィスクに対向させる場合において、ディスクと集光レン
ズとの接触を避けるためには、ディスクの集光レンズに
対する平行度を、絶えずａｒｃｔａｎ（２０／１２５
０）＝０．９１７（ｄｅｇ）以下となるように、すなわ
ち１（ｄｅｇ）以下の精度に保たなければならないこと
となり、突き当て治具等を用いた単純な組立装置におい
ては、容易に組立を行うことはさらにできなくなるとと
もに、検査工程においても、目視検査など簡単な検査工
程において組立不良を判別することが容易でなくなる。

【００２３】また、例えば、ディスクへの光の集光手段
として２つ以上の集光レンズを用い、球面と平面とを有
するレンズ（例えば、ＳＩＬ：Solid Immersion Lens）
の平面部分をディスクに対して光学的な接触状態として
用いる場合においては、ＳＩＬは、平面部分をディスク
に対して光学的に接触した状態としているために、平面
以外の部分、すなわち鏡面加工された球面部分を取り付
け部として、支持部材に取り付けなければならないこと
となる。

【００２４】そのため、ＳＩＬの支持部材に対する取り
付け強度が弱く、取り付け誤差が生じてしまう場合があ
った。そして、このＳＩＬの取り付け誤差に起因して、
光学記録媒体と集光レンズとが接触してしまう場合があ
った。

【００２５】そこで、本発明は、光学記録媒体の表面性
や平行誤差等に起因する光学記録媒体と集光レンズとの
接触が抑制され、集光レンズを光学記録媒体に近接させ
ることが可能となると共に、集光レンズの取り付け精度
が緩和された光学ヘッド及びこの光学ヘッドの製造方法
を提供することを目的とする。

【００２６】

【課題を解決するための手段】本発明に係る光学ヘッド
は、光学記録媒体に向けて光を出射する光源と、光学記
録媒体に対向するように配置され光源から出射された光
を集束して光学記録媒体の信号記録面上に照射させるレ
ンズと、このレンズを支持する支持手段とを備えてい
る。

【００２７】そして、この光学ヘッドは、レンズが、光
学記録媒体と対向し集束した光を透過する第１の対向面
と、この第１の対向面の外周側に位置して光学記録媒体
と対向する第２の対向面とを有し、第２の対向面と光学
記録媒体との離間距離が、第１の対向面と光学記録媒体
との離間距離よりも大とされていることを特徴としてい
る。

【００２８】この光学ヘッドによれば、光源から出射さ
れた光が、レンズに入射して集光される。そして、レン
ズにより集光された光は、レンズの第１の対向面を透過
して、光学記録媒体に照射される。

【００２９】そして、この光学ヘッドにおいては、集束
した光を透過する第１の対向面の外周側に第２の対向面
が設けられ、この第２の対向面と光学記録媒体との離間
距離が、第１の対向面と光学記録媒体との離間距離より
も大とされているので、光学記録媒体に多少の平行誤差
が生じている場合、あるいは、光学記録媒体の表面が平
坦でなく、うねり等を有している場合においても、レン
ズの第１の対向面を光学記録媒体との接触を生じること
なく、光学記録媒体に近接させることができる。

【００３０】また、本発明に係る光学ヘッドは、支持手
段が、レンズと光軸を一致して配設された他のレンズを
支持することが望ましい。

【００３１】光学ヘッドは、このように光軸を一致して
配設された複数のレンズを備えることにより、容易にＮ
Ａを高めることが可能となり、信号記録密度の向上を図
ることができる。

【００３２】また、本発明に係る光学ヘッドは、レンズ
が、第２の対向面の外周側に位置して光学記録媒体と対
向する第３の対向面を有し、第３の対向面と光学記録媒
体との離間距離は、第２の対向面と光学記録媒体との離
間距離よりも大とされていることが望ましい。

【００３３】光学ヘッドは、レンズが、第２の対向面の
外周側に、第２の対向面よりも更に光学記録媒体から離
間した第３の対向面を有することにより、レンズの第１
の対向面と光学記録媒体との接触を更に効率よく防止す
ることができる。

【００３４】また、本発明に係る光学ヘッドは、レンズ
に粉体粒子を吹き付ける方法のエッチング処理を施し、
この粉体粒子を吹き付ける方法のエッチング処理を施し
た箇所の少なくとも一部を取り付け部として、レンズが
取り付け手段に取り付けられていることが望ましい。

【００３５】集光レンズの粉体粒子を吹き付ける方法の
エッチング処理が施された箇所は粗面とされるので、こ
の粗面の一部を取り付け部としてレンズを支持手段に取
り付けることにより、レンズの取り付け強度が向上す
る。

【００３６】本発明に係る光学ヘッドの製造方法は、光
学記録媒体に対向するように配置され、光源から出射さ
れた光を集束して光学記録媒体の信号記録面上に照射さ
せるレンズと、このレンズを支持する支持手段とを備え
た光学ヘッドの製造方法において、レンズの光学記録媒
体と対向する側に、光学記録媒体と対向し集束した光を
透過する第１の対向面と、この第１の対向面の外周側に
位置して光学記録媒体と対向する第２の対向面とを、第
２の対向面と光学記録媒体との離間距離が、第１の対向
面と光学記録媒体との離間距離よりも大となるように形
成する工程を有することを特徴としている。

【００３７】この光学ヘッドの製造方法により製造され
た光学ヘッドは、レンズが、光学記録媒体と対向し集束
した光を透過する第１の対向面と、この第１の対向面の
外周側に位置して光学記録媒体と対向する第２の対向面
とを有し、第２の対向面と光学記録媒体との離間距離
が、第１の対向面と光学記録媒体との離間距離よりも大
とされるので、光学記録媒体に多少の平行誤差が生じて
いる場合、あるいは、光学記録媒体の表面が平坦でな
く、うねり等を有している場合においても、レンズの第
１の対向面を光学記録媒体との接触を生じることなく、
光学記録媒体に近接させることができる。

【００３８】なお、この光学ヘッドの製造方法は、レン
ズと光軸を一致させて他のレンズを配設する工程を有す
ることが望ましい。

【００３９】これにより、製造された光学ヘッドは、光
軸を一致して配設された複数のレンズを備えることとな
り、容易にＮＡを高めて、信号記録密度の向上を図るこ
とが可能となる。

【００４０】また、この光学ヘッドの製造方法は、第２
の対向面の外周側に位置して光学記録媒体と対向する第
３の対向面を、第３の対向面と光学記録媒体との離間距
離が、第２の対向面と光学記録媒体との離間距離よりも
大となるように形成する工程を有することが望ましい。

【００４１】これにより、製造された光学ヘッドは、レ
ンズが、第２の対向面の外周側に、第２の対向面よりも
更に光学記録媒体から離間した第３の対向面を有するこ
ととなり、レンズの第１の対向面と光学記録媒体との接
触を更に効率よく防止することができる。

【００４２】また、この光学ヘッドの製造方法は、粉体
粒子を吹き付ける方法のエッチング処理を施した箇所の
少なくとも一部を取り付け部として、レンズを支持手段
に取り付ける工程を有することが望ましい。

【００４３】これにより、製造された光学ヘッドは、レ
ンズの取り付け強度が向上する。

【００４４】また、この光学ヘッドの製造方法は、第１
の対向面となる箇所にフィルム状のレジスト材料または
スクリーン印刷法により形成されたレジスト材料を用い
たマスクを形成して、集光レンズの光学記録媒体と対向
する側にエッチング処理を施す工程を有することが望ま
しい。

【００４５】光学ヘッドの製造方法は、このように、第
１の対向面となる箇所に形成されるマスクの材料とし
て、フィルム状のレジスト材料またはスクリーン印刷法
により形成されたレジスト材料を用いることにより、例
えばスピンコート法により形成される液状レジスト材料
を用いた場合と比較して、レジスト材料を露光現像する
際のマージンが広くなる。

【００４６】

【本発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。なお、ここでは光磁気ディスク
に対して情報信号の書き込み及び読み出しを行うように
構成された光学ヘッドを例に説明する。

【００４７】（第１の実施の形態）本発明に係る光学ヘ
ッド１は、例えば図１に示すように、光磁気ディスク２
に向けてレーザ光を出射する半導体レーザ３と、半導体
レーザ３から出射された光及び光磁気ディスク２からの
戻り光を受光する第１乃至第４の光検出器４，５，６，
７と、半導体レーザ３から出射されたレーザ光を光磁気
ディスク２に導くと共に、半導体レーザ３から出射され
た光を第１の光検出器４に導き、光磁気ディスク２から
の戻り光を第２乃至第４の光検出器５，６，７に導く光
路形成手段８と、半導体レーザ３から出射され光路形成
手段８を介して入射されたレーザ光を集束して光磁気デ
ィスク２の信号記録面２ａ上に照射させる対物レンズユ
ニット３０と、光磁気ディスク２の信号記録面に所定の
磁界を印加する磁気ヘッド９とを備えている。

【００４８】半導体レーザ３は、例えば波長が約６８０
ｎｍのレーザ光を光磁気ディスク２に向けて出射する。

【００４９】第１の光検出器４は、半導体レーザから出
射されたレーザ光を受光して、受光信号を半導体レーザ
３の出力を検出する図示しないＡＰＣ（Automatic Powe
r Contorol）回路に供給する。そして、ＡＰＣ回路は、
第１の光検出器４から供給された受光信号に基づいて、
半導体レーザ３から出射されるレーザ光の出力が一定と
なるように、半導体レーザ３を制御する。

【００５０】第２の光検出器５は、光磁気ディスク２か
らの戻り光を受光して、制御信号の信号成分を含む受光
信号を図示しない信号処理回路に供給する。そして、信
号処理回路は、第２の光検出器５から供給された受光信
号に基づいて、フォーカスエラー信号やトラッキングエ
ラー信号等の制御信号を生成する。

【００５１】第３及び第４の光検出器６，７は、光磁気
ディスク２からの戻り光を受光して、再生信号の信号成
分を含む受光信号を図示しない信号処理回路に供給す
る。そして、信号処理回路は、第３及び第４の光検出器
６，７から供給された受光信号に基づいて、再生信号を
生成する。

【００５２】対物レンズユニット３０は、光磁気ディス
ク２と光路形成手段８との間に配され、詳細を後述する
が、光軸を一致して配設された２つのレンズ（以下、光
磁気ディスク２側に配されたレンズを先玉レンズ３１と
いい、光路形成手段８側に配されたレンズを後玉レンズ
３２という。）を備えている。この対物レンズユニット
３０は、後玉レンズ３２により集束されたレーザ光を先
玉レンズで更に絞り込む構成とすることにより、高ＮＡ
化が実現されている。

【００５３】また、この対物レンズユニット３０は、図
示しない二軸電磁アクチュエータに搭載されおり、上述
した信号処理回路により生成された制御信号に基づき二
軸電磁アクチュエータが駆動されることにより、光磁気
ディスク２に接離する方向及び光磁気ディスク２の径方
向に移動操作され、フォーカス制御及びトラッキング制
御等が可能とされている。

【００５４】磁気ヘッド９は、例えば光磁気ディスク２
を挟んで、対物レンズユニット３０と対向する側に配設
されている。そして、この磁気ヘッド９は、図示しない
システムコントローラから供給された記録信号に基づい
て、光磁気ディスク２の信号記録面２ａ上における対物
レンズユニット３０により集束されたレーザ光が照射さ
れた箇所に所定の強度の磁界を印加する。

【００５５】なお、ここでは、磁気ヘッド９が光磁気デ
ィスク２を挟んで対物レンズユニット３０と対向する側
に配設された例について説明しているが、磁気ヘッド９
は、対物レンズユニット３０と同じ側に配設されるよう
にしてもよい。

【００５６】光路形成手段８は、半導体レーザ３から出
射されたレーザ光を平行光にするコリメータレンズ１０
と、このコリメータレンズ１０を透過したレーザ光を回
折する回折格子１１と、この回折格子１１を透過したレ
ーザ光を２方向に分岐してその一方を対物レンズユニッ
ト２０に入射させると共に光磁気ディスク２からの戻り
光を２方向に分岐する第１のビームスプリッタ１２と、
第１のビームスプリッタ１２により分岐されたレーザ光
の他方を集束して第１の光検出器４に入射させる第１の
集光レンズ１３とを備えている。

【００５７】また、光路形成手段８は、第１のビームス
プリッタ１２により分岐された戻り光の一方を更に２方
向に分岐する第２のビームスプリッタ１４と、第２のビ
ームスプリッタ１４により分岐された戻り光の一方を集
束する第２の集光レンズ１５と、第２の集光レンズ１５
により集光された戻り光に非点収差を与えて第２の光検
出器５に入射させる第１のマルチレンズ１６とを備えて
いる。

【００５８】また、光路形成手段８は、第２のビームス
プリッタ１４により分岐された戻り光の偏光状態を調整
する１／２波長板１７と、１／２波長板１７を透過した
戻り光をｐ偏光成分とｓ偏光成分とに分岐する偏光ビー
ムスプリッタ１８と、偏光ビームスプリッタ１８により
分岐された戻り光の一方を集束する第３の集光レンズ１
９と、第３の集光レンズ１９により集束された戻り光の
焦点距離及び収差を調整して第３の光検出器６に入射さ
せる第２のマルチレンズ２０と、偏光ビームスプリッタ
１８により分岐された戻り光の他方を集束する第４の集
光レンズ２１と、第４の集光レンズ２１により集束され
た戻り光の焦点距離及び収差を調整して第４の光検出器
７に入射させる第３のマルチレンズ２２とを備えてい
る。

【００５９】なお、以上は光路形成手段の一構成例であ
り、対象とする光学記録媒体の種類や要求されるスペッ
ク等に応じて、上述の光路形成手段を構成する光学素子
に、追加、変更、削除を加えるようにしても良いことは
勿論である。

【００６０】以上のように構成される光学ヘッド１は、
記録時においては、図示しないシステムコントローラの
制御に基づいて、半導体レーザ３がレーザ光を出射す
る。半導体レーザ３から出射されたレーザ光は、まずコ
リメータレンズ１０に入射して平行光とされる。

【００６１】コリメータレンズ１０を透過し平行光とさ
れたレーザ光は、回折格子１１を透過する際に、その回
折作用により、複数のレーザ光に分離される。回折格子
１１により複数に分離されたレーザ光は、第１のビーム
スプリッタ１２に入射し、２方向に光路が分岐される。

【００６２】第１のビームスプリッタ１２により光路が
分岐されたレーザ光の一方は、対物レンズユニット３０
に入射し、対物レンズユニット３０によって集束されて
光磁気ディスク２の信号記録面２ａ上に照射される。そ
して、光磁気ディスク２の信号記録面２ａ上の対物レン
ズユニット３０により集束されたレーザ光が照射された
箇所に、磁気ヘッド９が所定の強度の磁界を印加するこ
とにより、光磁気ディスク２に所望の情報信号が記録さ
れる。

【００６３】なお、第１のビームスプリッタ１２により
光路が分岐されたレーザ光の他方は、第１の集光レンズ
１３により集光されて、第１の光検出器４に受光され
る。第１の光検出器４は、受光したレーザ光の出力を受
光信号として、図示しないＡＰＣ回路に供給する。そし
て、ＡＰＣ回路が半導体レーザ３を制御することによ
り、半導体レーザ３の出力が一定に保たれる。

【００６４】また、光学ヘッド１は、再生時において
は、記録時と同様に、図示しないシステムコントローラ
の制御により、半導体レーザ３がレーザ光を出射する。

【００６５】そして、半導体レーザ３から出射されたレ
ーザ光は、コリメータレンズ１０、回折格子１１、第１
のビームスプリッタ１２を介して対物レンズユニット３
０に入射する。対物レンズユニット３０に入射したレー
ザ光は、対物レンズユニット３０によって集束されて光
磁気ディスク２の信号記録面２ａ上に照射される。

【００６６】なお、この場合も記録時と同様に、レーザ
光の一部は第１のビームスプリッタ１２により光路が分
岐され、第１の集光レンズ１３により集光されて、第１
の光検出器４に受光される。そして、第１の光検出器４
が、受光したレーザ光の出力を受光信号としてＡＰＣ回
路に供給し、ＡＰＣ回路が半導体レーザ３を制御するこ
とにより、半導体レーザ３の出力が一定に保たれる。

【００６７】光磁気ディスク２の信号記録面２ａ上にて
反射された信号成分を含む反射光（戻り光）は、再度対
物レンズユニット３０を透過して第１のビームスプリッ
タ１２に入射し、２方向に光路が分岐される。

【００６８】第１のビームスプリッタ１２により光路が
分岐されたレーザ光の一方は、第２のビームスプリッタ
１４に入射し、更に２方向に光路が分岐される。

【００６９】第２のビームスプリッタ１４により光路が
分岐されたレーザ光の一方は、第２の集光レンズ１５に
より集束され、第１のマルチレンズ１６により所定の非
点収差が与えられて第２の光検出器５により受光され
る。そして、第２の光検出器５が制御信号の信号成分を
含む受光信号を図示しない信号処理回路に供給し、信号
処理回路がこの受光信号に基づいて、フォーカスエラー
信号やトラッキングエラー信号等の制御信号を生成す
る。

【００７０】一方、第２のビームスプリッタ１２により
光路が分岐されたレーザ光の他方は、１／２波長板１７
を透過した後、偏光ビームスプリッタ１８に入射する。
偏光ビームスプリッタ１２は、入射した戻り光をｐ偏光
成分とｓ偏光成分とに偏光分離する。

【００７１】偏光ビームスプリッタ１２により分離され
た戻り光のｐ偏光成分は、第３の集光レンズ１９により
集束され、第２のマルチレンズ２０を介して第３の光検
出器６により受光される。

【００７２】一方、偏光ビームスプリッタ１２により分
離された戻り光のｓ偏光成分は、第４の集光レンズ２１
により集束され、第３のマルチレンズ２２を介して第４
の光検出器７により受光される。

【００７３】そして、第３の光検出器６及び第４の光検
出器７が再生信号の信号成分を含む受光信号を図示しな
い信号処理回路に供給し、信号処理回路がこの受光信号
に基づいて、再生信号を生成することにより、光磁気デ
ィスク２に記録された情報信号が再生される。

【００７４】ここで、対物レンズユニット３０につい
て、詳述する。

【００７５】対物レンズユニット３０は、例えば図２に
示すように、光磁気ディスク２に対向配置された先玉レ
ンズ３１と、この先玉レンズ３１を支持する先玉レンズ
ホルダ３３と、先玉レンズ３１と光軸を一致して配され
た開口数が例えば約０．６の後玉レンズ３２と、この後
玉レンズ３２を支持する後玉レンズホルダー３４とを備
えている。

【００７６】そして、この対物レンズユニット３０は、
図示しないアクチュエータに搭載され、光磁気ディスク
２に対して光学的な接触状態となるように、すなわち、
光磁気ディスク２との間のエアギャップ（空気層の厚
さ）が約２００ｎｍ以下となるように、光磁気ディスク
２に近接することが可能とされている。

【００７７】この対物レンズユニット３０は、後玉レン
ズ３２により集束されたレーザ光を先玉レンズ３１で更
に絞り込む構成とすることにより、高ＮＡ化が実現され
ている。

【００７８】また、この対物レンズユニット３０は、光
磁気ディスク２に対して光学的な接触状態となるよう
に、光磁気ディスク２に近接することにより、ＮＡを１
以上とすることが可能となる。

【００７９】先玉レンズ３１は、例えば図３及び図４に
示すように、半球面レンズより構成される。そして、こ
の半球面レンズには、光磁気ディスク２と対向する側に
エッチング加工が施されることにより、平面部分に、集
束したレーザ光を透過する第１の対向面３５と、この第
１の対向面３５の外周側に位置する第２の対向面３６
と、第２の対向面３６の外周側に位置する第３の対向面
３７とがそれぞれ形成されている。そして、第２の対向
面３６と光磁気ディスク２との離間距離は、第１の対向
面３５と光磁気ディスク２との離間距離よりも大とさ
れ、第３の対向面３７と光磁気ディスク２との離間距離
は、第２の対向面３６と光磁気ディスク２との離間距離
よりも大とされている。

【００８０】第１の対向面３５は、先玉レンズ３１の平
面部分の略中央部に形成され、例えば直径が約４０μｍ
の円形を呈している。

【００８１】第２の対向面３６は、第１の対向面３５の
外周側に位置して形成され、例えば直径が約４００μｍ
の円環状を呈している。そして、第１の対向面３５と第
２の対向面３６との間には、例えば高さが約２μｍの第
１の段差部３８が形成されており、この第１の段差部３
８により、第２の対向面３６と光磁気ディスク２との離
間距離は、第１の対向面３５と光磁気ディスク２との離
間距離よりも大とされている。

【００８２】第３の対向面３７は、第２の対向面３６の
外周側に位置して形成され、例えば直径が約２．５ｍｍ
の円環状を呈している。そして、第２の対向面３６と第
３の対向面３７との間には、例えば高さが約５０μｍの
第２の段差部３９が形成されており、この第２の段差部
３９により、第３の対向面３７と光磁気ディスク２との
離間距離は、第２の対向面３６と光磁気ディスク２との
離間距離よりも大とされている。また、この第３の対向
面３７は、その外周が、先玉レンズ３１の光磁気ディス
ク２と対向する側の外周を構成している。

【００８３】なお図３は、先玉レンズ３１として、エッ
チング加工を施す前のレンズの半径をｒ、レンズの厚さ
をｔとした場合に、ｔ＝ｒとなるような半球面レンズを
用いた例を示し、図４は、エッチング加工を施す前のレ
ンズの半径をｒ、レンズの厚さをｔとした場合に、ｔ＝
（１＋１／ｎ）ｒとなるような半球面レンズを用いた例
を示している。なお、ここでｎはレンズ材質の屈折率で
ある。

【００８４】また、図３及び図４中、破線は、先玉レン
ズ３１の光磁気ディスク２と対向する側のエッチング加
工を施す前の形状を示している。

【００８５】後玉レンズ３２は、非球面レンズより構成
され、先玉レンズ３１よりも半導体レーザ３側に、先玉
レンズ３１と光軸を一致して配設されている。そして、
半導体レーザ３より出射されたレーザ光は、後玉レンズ
３２を透過した後に先玉レンズ３１を透過して、光磁気
ディスク２の信号記録面２ａ上に照射されるようになさ
れている。

【００８６】なお、後玉レンズ３２により集束されたレ
ーザ光は、先玉レンズ３１により更に集束され、先玉レ
ンズ３１の第１の対向面３５を透過して、光磁気ディス
ク２の信号記録面２ａ上に照射される。

【００８７】先玉レンズ３１に用いる材質としては、例
えば屈折率が１．８であるガラス（ＯＨＡＲＡ製ガラ
ス：ＬＡＨ−６５等）が用いられる。このように、先玉
レンズ３１に屈折率の高いガラスを用いることによっ
て、対物レンズユニット３０は、ＮＡが１以上の光学的
特性が得られることとなる。より具体的には、図３に示
した形状の先玉レンズ３１を用いた場合においては、Ｎ
Ａ＝０．６× １．８＝１．０８となり、図４に示した
形状の先玉レンズ３１を用いた場合においては、ＮＡを
更に高めることが可能となる。

【００８８】なお、先玉レンズ３１の形状は、図３及び
図４に示したものに限定されるものではなく、光磁気デ
ィスク２に情報信号を書き込み、または光磁気ディスク
２に書き込まれた情報信号を読み取ることが可能なレン
ズ形状であればよい。具体的には、図３と図４に示した
形状の中間の厚さを有しても良くさらには、半球レンズ
以外の形状であってもよい。

【００８９】本発明に係る光学ヘッド１においては、対
物レンズユニット３０の先玉レンズ３１が上述したよう
な形状とされているので、光磁気ディスク２が、この光
磁気ディスク２に集光されるレーザ光の光軸に直交する
方向に対して傾斜している場合、あるいは、光磁気ディ
スク２の表面が平坦でなく、うねりを有している場合な
どにおいても、先玉レンズ３１と光磁気ディスク２との
衝突を生じさせることなく、対物レンズユニット３０を
光磁気ディスク２に対して光学的な接触状態が得られる
程度に近づけることが可能となる。

【００９０】すなわち、先玉レンズ３１は、レーザ光を
光磁気ディスク２に向けて透過する第１の対向面３５の
外周側に位置する第２の対向面３６が、第１の対向面３
５よりも光磁気ディスク２から離間しており、更に第２
の対向面３６の外周側に位置する第３の対向面３７が、
第２の対向面３６よりも光磁気ディスク２から離間して
いるので、例えば図５に示すように、光磁気ディスク２
が、この光磁気ディスク２に集光されるレーザ光の光軸
に直交する方向に対して傾斜している場合においても、
先玉レンズ３１の外周部分が光磁気ディスク２に接触す
る前に、先玉レンズ３１のレーザ光が透過する第１の対
向面３５を光磁気ディスク２に光学的な接触状態が得ら
れる距離に近づけることが可能となる。

【００９１】また、図６に示すように、光磁気ディスク
２の表面が平坦でなく、うねり等を有している場合にお
いても、先玉レンズ３１の外周部分が光磁気ディスク２
に接触する前に、先玉レンズ３１のレーザ光が透過する
第１の対向面３５を光磁気ディスク２に光学的な接触状
態が得られる距離に近づけることが可能となる。

【００９２】このように、光磁気ディスク２がレーザ光
の光軸に直交する方向に対して傾斜している場合や、光
磁気ディスク２の表面にうねり等が存在する場合であっ
ても、先玉レンズ３１の外周部分が光磁気ディスク２に
接触する前に、先玉レンズ３１のレーザ光が透過する第
１の対向面３５を光磁気ディスク２に光学的な接触状態
が得られる距離に近づけることが可能となることによ
り、光磁気ディスク２の組立て精度を緩和することがで
きるとともに、光磁気ディスク２に要求される表面の平
坦性を緩和することができる。

【００９３】すなわち、図３及び図４に示した先玉レン
ズ３１においては、第１の対向面３５が直径が約４０μ
ｍの円形とされ、第１の段差部３８の高さが約２μｍと
され、第２の対向面３６が直径が約４００μｍの円環状
とされ、第２の段差部３９の高さが約５０μｍとされ、
第３の対向面３７が直径が約２．５ｍｍの円環状とされ
ている。したがって、光学的な接触状態を得るために、
第１の対向面３５を光磁気ディスク２の表面に対して約
５０ｎｍの離間距離で近づけた場合、すなわち、空気層
の厚さを約５０ｎｍとした場合においては、第１の対向
面３５と光磁気ディスク２との平行度を、絶えず傾きが
ａｒｃｔａｎ（５０／２００００）＝０．１４（ｄｅ
ｇ）以下となるように保てばよいこととなり、先玉レン
ズ３１の平面部分が全体にフラットな場合の数値と比較
して、格段に精度を緩和することができることとなる。

【００９４】光磁気ディスク２表面のうねり等に関して
も、光学的な接触状態を得るために空気層の厚さを５０
ｎｍとした場合においては、直径が約４０μｍである第
１の対向面３５の範囲において、光磁気ディスク２の表
面に、高さが５０ｎｍ以上のうねりが存在しないような
平面度が保たれればよいこととなるので、先玉レンズ３
１の平面部分が全体にフラットな場合の数値と比較し
て、格段に精度を緩和することができることとなる。

【００９５】また、先玉レンズ３１は、第２の対向面３
６の外周側に第３の対向面３７が形成されていることに
より、第１の対向面３５を形成する際の加工量：エッチ
ング量をさほど大きくしなくても、先玉レンズ３１の外
周部分が光磁気ディスク２に接触する危険性を低めるこ
とができる。

【００９６】具体的には、先玉レンズ３１の光磁気ディ
スク２と対向する側の外周の直径が約２．５ｍｍであ
り、第１の段差部３８の高さが約２μｍである場合にお
いて、第３の対向面３７がない場合、すなわち第２の対
向面３６の外周が先玉レンズ３１の光磁気ディスク２と
対向する側の外周を構成する場合には、ａｒｃｔａｎ
（２０５０／１２５００００）＝０．０９４（ｄｅｇ）
程度の傾斜により先玉レンズ３１の外周部分が光磁気デ
ィスク２に衝突してしまうこととなる。

【００９７】しかしながら、第２の対向面３６の外周側
に第３の対向面３７が形成されている場合には、この程
度の傾斜では、先玉レンズ２の外周部分が光磁気ディス
ク２に衝突する危険性はほとんどない。

【００９８】このように、先玉レンズ３１を第２の対向
面３６の外周側に第３の対向面３７が形成された形状と
することにより、先玉レンズ３１として、大きな径のレ
ンズを用いることが可能となり、ＮＡを容易に高めるこ
とが可能となる。

【００９９】また、第２の対向面３６の外周側に第３の
対向面３７が形成されることにより、第１の段差部３８
の高さを低く設定することが可能となり、加工効率を高
めて、先玉レンズ３１の作製コストを低減することがで
きる。

【０１００】次に、対物レンズユニット３０の製造方法
について説明する。ここでは、図４に示した先玉レンズ
３１を備えた対物レンズユニット３０の製造方法に付い
て説明する。

【０１０１】まず、図７に示すように、中央部に先玉レ
ンズ３１となる半球レンズ５０を収容するためのレンズ
収容孔４１が設けられた真鍮製の平板状のレンズ固定治
具４０が準備される。レンズ収容孔４１は、レンズ固定
治具４０の上面４０ａ及び下面４０ｂで開口し、上面開
口部から下面開口部にかけて次第に縮径された形状とさ
れている。そして、上面開口部の開口径は収容する半球
レンズ５０の外形寸法よりも大とされ、下面開口部の開
口径は収容する半球レンズ５０の外形寸法よりも小とさ
れている。

【０１０２】先玉レンズ３１となる半球レンズ５０とし
ては、例えば屈折率が１．８であるガラス（ＯＨＡＲＡ
製ガラス：ＬＡＨ−６５等）が用いられ、半径１．２５
ｍｍ、厚さｔが、ｔ＝（１＋１／ｎ）ｒの関係式を満足
するように、１．９３３ｍｍとされている。

【０１０３】そして、この半球レンズ５０は、上面開口
部からレンズ固定治具４０のレンズ収容孔４１内に収容
され、平面部分５０ａがレンズ固定治具４０の上面４０
ａと同一平面を形成するように、レンズ収容孔４１内に
て位置決めされる。

【０１０４】なお、レンズ収容孔４１内には、下面開口
部から半球レンズ５０をレンズ固定治具４０に対して固
定するための充填材４２が充填される。この充填材４２
は、半球レンズ５０の平面部分と反対側の球面部分、す
なわち、半球レンズ５０が先玉レンズ３１とされたとき
に光が入射する側の球面部分を覆うように、レンズ収容
孔４１内に充填される。

【０１０５】充填材４２としては、加工工程終了後にお
いて洗浄が容易に行える材料が好ましく、例えば半導体
チップの作製工程などに一般的に用いられているフォト
レジスト材料等が用いられる。より具体的には、例えば
東京応化製のＯＦＰＲ−８００−１，３４ｃＰ（商品
名）等を用い、その熱処理条件を１２０℃において２時
間以上とすることにより、後述する加工工程に耐え、か
つ加工工程終了後における洗浄工程において容易に剥離
することができる充填材４２が得られる。

【０１０６】なお、ここでは、レンズ固定治具４０とし
て、比較的剛性を有し、かつ高精度の作製精度が得られ
やすい材料である真鍮材質を用いた例について説明して
いるが、レンズ固定治具４０の材料としては真鍮以外の
他の材料であっても構わない。

【０１０７】次に、図８に示すように、半球レンズ５０
の平面部分５０ａに、第２の対向面３６を形成するため
のマスク４３となるマスク材料が塗布される。ここで
は、マスク材料として、プリント基板の作製工程におい
て一般に用いられているネガ型のレジスト材料である、
日立化成株式会社のドライフィルムレジストＫ−８１５
（商品名）を用いている。このマスク材料は、その感光
層の厚さが１５μｍとされている。

【０１０８】なお、マスク材料としては、半導体の形成
工程に一般的に用いられている原材料の形態が液状であ
りスピンコート法により形成される感光性材料（液状レ
ジスト）を用いることも可能であるが、レンズ固定治具
４０と半球レンズ５０との間に空隙４４が存在するため
に、スピンコート法により形成される液状レジストを用
いた場合には、液状レジストが盛り上がって塗布されて
しまい、半球レンズ５０の平面部分５０ａの中央付近と
外周付近とで、厚さがことなるために、露光現像工程に
おけるマージンが厳しくなる。

【０１０９】これに対して、原材料の形状が液状でない
ドライフィルムレジストを用いた場合においては、レジ
スト材料の厚さはほぼ前もって規定されていること、さ
らには、ドライフィルムの現像工程直前までは、図示し
ないカバーフィルムが存在していることから、空隙４４
にドライフィルム材料はさほど入り込まない。このた
め、マスク材料としてドライフィルムレジストを用いた
場合は、露光現像工程におけるマージンが、液状レジス
トを用いた場合と比較して広くなる。

【０１１０】また、以上は、マスク材料としてドライフ
ィルムレジスト材料を用いた場合を示したが、マスク材
料としては、スクリーン印刷法により表面に塗布される
レジスト材料、例えば、太陽インキ製造（株）製、現像
型エッチングレジストインキ：ＰＥＲ−２０（商品名）
を用いるようにしてもよい。マスク材料としてこのスク
リーン印刷法により表面に塗布されるレジスト材料を用
いた場合は、空隙４４が存在していても、レジスト部分
が盛り上がることはなく、ドライフィルムレジストを用
いた場合とほぼ同様に、露光現像工程におけるマージン
が広くなる。

【０１１１】次に、半球レンズ５０の平面部分５０ａ上
に塗布されたマスク材料を露光現像することにより（露
光現像工程）、平面部分５０ａの中央部に、第２の対向
面３６を形成するためのマスク４３が形成される。この
マスク４３は、第１の対向面３５の形状に対応するよう
に、直径が４０μｍの円形形状に形成され、その中心が
半球レンズ５０の平面部分５０ａの中心と一致するよう
に形成される。

【０１１２】次に、図９に示すように、半球レンズ５０
の平面部分５０ａに、イオンミリング加工を行い、マス
ク４３が形成された箇所の外周側（加工面）を所定の厚
さで除去加工し、第２の対向面３６及び第１の段差部３
８を形成する。ここで、イオンミリング加工の条件は、
半球レンズ５０の平面部分５０ａにおける加工速度が２
０〜２５ｎｍ／ｍｉｎ程度の加工速度となるように設定
される。これにより、マスク４３に対して熱的損傷を与
えずに加工を行うことができる。また、この加工条件で
イオンミリング加工を行うことにより、得られた加工面
の表面粗さは、もとの平面部分５０ａの表面粗さからさ
ほど変化なく、Ｒａ＜５ｎｍ程度の光学表面が維持され
る。

【０１１３】次に、図１０に示すように、半球レンズ５
０の平面部分５０ａ及びレンズ固定治具４０の上面４０
ａ上に、第３の平面部３７を形成するためのマスクとな
るレジスト材料４５が塗布される。このレジスト材料４
５としては、例えばサンドブラスト用レジスト材料が用
いられる。サンドブラスト用レジスト材料としては、例
えば東京応化製のドライフィルムレジストＢＦ−４０５
（商品名）等が挙げられる。このサンドブラスト用レジ
スト材料は、その感光層の厚さが５０μｍである。

【０１１４】なお、このサンドブラスト用レジスト材料
としても、上述のマスク４３を形成するためのレジスト
材料と同様に、原材料の形態が液状でありスピンコート
法により形成される感光性材料を用いることも可能であ
るが、原材料がフィルム状態であるドライフィルム材料
およびスクリーン印刷法により形成される液状レジスト
を用いた場合のほうが、露光現像工程のマージンが広く
なる。

【０１１５】なお、この工程を行うにあたり、第２の対
向面３６及び第１の段差部３８を形成する際に用いたマ
スク４３は、剥離されていなくても問題はない。

【０１１６】次に、図１１に示すように、サンドブラス
ト用レジスト材料を露光現像することにより（露光現像
工程）、第２の対向面３６を形成するためのマスク４３
の外周側に、第３の対向面３７を形成するためのマスク
４６が形成される。このマスク４６は、第２の対向面３
６の形状に対応するように、直径が４００μｍの円形形
状に形成され、その中心が半球レンズ５０の平面部分５
０ａの中心及び第２の対向面３６を形成するためのマス
ク４３の中心と一致するように形成される。

【０１１７】次に、図１２に示すように、半球レンズ５
０の平面部分５０ａ及びレンズ固定治具４０の上面４０
ａに、パウダービームエッチング加工を行い、マスク４
６が形成された箇所の外周側（加工面）を所定の厚み分
だけ除去し、第３の対向面３７及び第２の段差部３９を
形成する。なお、加工面であるマスク４６の外周側が第
３の対向面３７とされる。

【０１１８】パウダービームエッチング加工の条件は、
＃６００程度のＳｉＣ粒子を用い、空気流量が３００リ
ットル／ｍｉｎ程度に対して、粉の量を６０ｇ／ｍｉｎ
の混合条件とされる。これにより、レジスト材料４５に
剥離などの損傷を与えずに、加工を行うことができる。
また、この加工条件でパウダービームエッチング加工を
行うことにより、得られた加工面は、表面粗度の大き
な、いわゆる砂かけ面とされる。なお、上述した加工法
によれば、加工面だけでなく、レンズ固定治具４０のレ
ンズ収容孔４１内壁と半球レンズ５０との間に形成され
る空隙４４に面する半球レンズ５０の球面部分５０ｂも
砂かけ面とすることが可能となる。

【０１１９】なお、以上は、第３の対向面３７及び第２
の段差部３９を形成する手段として、パウダービームエ
ッチング加工法を用いた例を示したが、第２の対向面３
６及び第２の段差部３９を形成する手段は、この例に限
定されるものではなく、粉体粒子を吹き付ける方法のエ
ッチング処理であれば良く、例えばサンドブラスト加工
等を用いるようにしてもよい。

【０１２０】次に、レンズ固定治具４０をアセトンある
いはレジスト剥離溶液などの溶剤中に浸し、超音波洗浄
を行うことにより、第１の対向面３５を形成するための
マスク４３及び第２の対向面３６を形成するためのマス
ク４６が剥離される。また、このとき、レンズ固定治具
４０内に充填された充填材４２も除去され、エッチング
加工が施された半球レンズ５０がレンズ固定示具４０か
ら取り外されて、図１３に示すような先玉レンズ３１が
完成する。

【０１２１】以上のように製造された先玉レンズ３１
は、エッチング加工が施された側の中央部に第１の対向
面３５を有し、第１の対向面３５の外周側に第２の対向
面を有し、第２の対向面の外周側に第３の対向面を有し
ている。そして、第２の対向面３６は第１の対向面３５
よりも低い位置、すなわち第１の対向面３５よりも球面
部分に近い位置に形成されており、第３の対向面３７は
第２の対向面３６よりも低い位置、すなわち第２の対向
面３６よりも球面部分に近い位置に形成されている。

【０１２２】また、以上のように製造された先玉レンズ
の第１の対向面３５及び第２の対向面３６は、ほぼ光学
面とされており、第３の対向面３７及びパウダービーム
エッチングが施された球面部分５０ｂは、光学面でない
砂かけ面とされている。さらに、半球レンズ５０をレン
ズ固定治具４０のレンズ収容孔４１内に固定する際に用
いた充填材４２に被覆されていた球面部分は、加工前の
半球レンズ５０の面がそのまま残存し、光学面とされて
いる。

【０１２３】次に、対物レンズユニット３０を組み立て
る工程について説明する。

【０１２４】まず、図１４に示すように、製造された先
玉レンズ３１を、砂かけ面とされた球面部分５０ｂを取
り付け面として、先玉レンズホルダ３３に取り付け、例
えばエポキシ樹脂等の接着剤４７を用いて固定する。

【０１２５】先玉レンズ３１は、このように砂かけ面で
ある球面部分５０ｂを取り付け面として先玉レンズホル
ダ３３に取り付けられることにより、光学面を取り付け
面とした場合と比較して、先玉レンズホルダ３３に対す
る接着強度が高められている。したがって、この先玉レ
ンズ３１が取り付けられた対物レンズユニット３０は、
この対物レンズユニット３０を搭載した記録再生装置に
過度の振動が加わった場合においても、先玉レンズ３１
にアライメントのずれ等が生じる可能性が低い。

【０１２６】次に、図１５に示すように、先玉レンズ３
１が取り付けられた先玉レンズホルダ３３と、例えば開
口数が約０．６とされた後玉レンズ３２を支持する後玉
レンズホルダ３４とを、先玉レンズ３１と後玉レンズ３
２の光軸が一致するように位置合わせを行いながら接着
して一体化する。なお、この場合、先玉レンズホルダ３
３の平面部分と、後玉レンズホルダ３４の平面部分とを
突き合わせるようにして両者を接着することにより、高
い接着強度を得ることができる。

【０１２７】先玉レンズホルダ３３と後玉レンズホルダ
３４とが一体化されてなる対物レンズユニット３０は、
先玉レンズ３１が光磁気ディスク２の信号記録面と対向
するように記録再生装置内に配設される。

【０１２８】ここで、対物レンズユニット３０に搭載さ
れた先玉レンズ３１の形状がもたらす効果について詳述
する。

【０１２９】先玉レンズ３１は、上述したように、光磁
気ディスク２と対向する側に、集束したレーザ光を透過
する第１の対向面３５と、この第１の対向面３５の外周
側に位置する第２の対向面３６と、第２の対向面３６の
外周側に位置する第３の対向面３７とがそれぞれ形成さ
れ、第２の対向面３６と光磁気ディスク２との離間距離
が、第１の対向面３５と光磁気ディスク２との離間距離
よりも大とされ、第３の対向面３７と光磁気ディスク２
との離間距離が、第２の対向面３６と光磁気ディスク２
との離間距離よりも大とされている。

【０１３０】これにより、先玉レンズ３１は、光磁気デ
ィスク２との角度マージンが拡大されている。そして、
この角度マージン拡大の効果は、第１の対向面３５及び
第２の対向面３６の大きさがそれぞれ小さく、更に第１
の段差部３８及び第２の段差部３９の高さがそれぞれ高
いほど、大きくなる。

【０１３１】しかしながら、先玉レンズ３１の製造方法
においては、マスク材料の形成時における位置合わせ精
度が存在すること、さらには、マスク材料の解像度に限
界を有していることにより、第１の対向面３５及び第２
の対向面３６の大きさを限りなく小さく、第１の段差部
３８及び第２の段差部３９の高さを限りなく高く形成す
ることは困難な状況である。

【０１３２】そこで、本発明においては、実現可能な角
度マージン量の数値として、０．１（ｄｅｇ）程度であ
れば組立時などにおいて比較的容易に達成できる数値で
あるとし、０．０５（ｄｅｇ）程度であれば組立時等に
おいて、綿密に調整などを行えば達成できる数値である
とした。すなわち、先玉レンズ３１の第１の対向面３５
と光磁気ディスク２との離間距離（空気層の厚さ）が５
０ｎｍであるとした場合において、第１の対向面３５の
直径が、２×０．０５／ｔａｎ（０．１）＝５７（μ
ｍ）以下であれば容易に調整できる効果を有し、さら
に、２×０．０５／ｔａｎ（０．０５）＝１１５（μ
ｍ）以下であれば綿密に調整を行えば達成できるという
効果を有していることとなる。

【０１３３】つまり、第１の対向面３５の直径が約１０
０μｍ以下であればある程度綿密に調整を行うことによ
り実現可能な範囲となり、さらには、約６０μｍ以下の
大きさであれば、容易に実現できる程度となる効果を有
している。

【０１３４】また、第１の段差部３８の高さを０．２μ
ｍ以上とした場合において、第２の対向面３６の直径
が、２×（０．２＋０．０５）／ｔａｎ（０．１）＝２
８６（μｍ）以下であれば容易に調整できる効果を有
し、さらには、２×（０．２＋０．０５）／ｔａｎ
（０．０５）＝５７２（μｍ）以下であれば綿密に調整
を行えば達成できるという効果を有していることとな
る。

【０１３５】またさらに、第１の段差部３８の高さを
０．５μｍ以上とした場合においては、第２の対向面３
６の直径が、２×（０．５＋０．０５）／ｔａｎ（０．
１）＝６３０（μｍ）以下であれば容易に調整できる効
果を有し、さらには、２×（０．５＋０．０５）／ｔａ
ｎ（０．０５）＝１２６０（μｍ）以下であれば綿密に
調整を行えば達成できるという効果を有していることと
なる。

【０１３６】つまり、第２の対向面３６の大きさと得ら
れる角度マージン拡大の効果の関係については、第１の
段差部３８の高さ：Ｈに大きく関連していることとな
る。したがって、第２の対向面３６の直径が、ほぼ２×
Ｈ／ｔａｎ（０．１）＝１１４６×Ｈ以下、すなわち、
第１の段差部３８の高さＨの約１０００倍以下であれ
ば、容易に調整できる効果を有し、さらに２×Ｈ／ｔａ
ｎ（０．０５）＝２２９１×Ｈ以下、すなわち、第１の
段差部３８の高さＨの約２０００倍以下であれば綿密に
調整を行えば達成できるという効果を有していることと
なる。

【０１３７】また、先玉レンズ３１の先玉レンズホルダ
３３に対する接着強度向上の効果に関しては、第２の対
向面３６及び第２の段差部３９を形成する工程におい
て、その外周付近が加工されていればその効果は得られ
ることとなる。したがって、第２の対向面３６及び第２
の段差部３９形成工程において、加工される領域が、レ
ンズの外周部より約５０μｍ以上内側、すなわち、第３
の対向面３７の直径が第２の対向面３６の直径よりも１
００μｍ以上大きくなるように加工されれば、先玉レン
ズ３１を先玉レンズホルダ３３に固定する場合におい
て、十分な接着面積を得ることができ、接着強度向上の
効果が容易に得られることとなる。

【０１３８】なお、以上は、先玉レンズ３１に第１の対
向面３５、第１の段差部３８、第２の対向面３６、第２
の段差部３９、第３の対向面３７がそれぞれ形成された
例について説明したが、本発明においては、先玉レンズ
３１に第１の対向面３５、第１の段差部３８、第２の対
向面３６のみが形成されるようにしてもよい。この場合
においても、角度マージンを増加させ、光磁気ディスク
２との衝突の危険性を減少させる効果を有する。

【０１３９】（第２の実施の形態）次に、本発明に係る
光学ヘッドの第２の実施の形態について図面を参照して
説明する。

【０１４０】第２の実施の形態の光学ヘッドは、基本構
成を上述した第１の実施の形態の光学ヘッドと同じく
し、対物レンズユニットのみが第１の実施の形態の光学
ヘッド異なるので、ここでは対物レンズユニットについ
てのみ説明する。なお、以下の説明において、第１の実
施の形態の光学ヘッドと同一の部材については、同一の
符号を付して説明する。

【０１４１】本実施の形態に係る光学ヘッドは、図１６
に示すように、レーザ光を光磁気ディスク２の所定の位
置に集束させる対物レンズユニット６０を備えている。

【０１４２】対物レンズユニット６０は、光磁気ディス
ク２に対向配置された先玉レンズ６１と、この先玉レン
ズ６１を支持する先玉レンズホルダ６３と、先玉レンズ
６１と光軸を一致して配された開口数が例えば約０．６
の後玉レンズ３２と、この後玉レンズ３２を支持する後
玉レンズホルダー３４とを備えている。

【０１４３】そして、この対物レンズユニット６０は、
図示しないアクチュエータに搭載され、光磁気ディスク
２に対して光学的な接触状態となるように、すなわち、
光磁気ディスク２との間のエアギャップ（空気層の厚
さ）が約２００ｎｍ以下となるように、光磁気ディスク
２に近接することが可能とされている。

【０１４４】この対物レンズユニット６０は、後玉レン
ズ３２により集束されたレーザ光を先玉レンズ６１で更
に絞り込む構成とすることにより、高ＮＡ化が実現され
ている。

【０１４５】また、この対物レンズユニット６０は、光
磁気ディスク２に対して光学的な接触状態となるよう
に、光磁気ディスク２に近接することにより、ＮＡを１
以上とすることが可能となる。

【０１４６】先玉レンズ６１は、例えば図１７及び図１
８に示すように、半球面レンズより構成される。そし
て、この半球面レンズには、光磁気ディスク２と対向す
る側にエッチング加工が施されることにより、平面部分
に、集束したレーザ光を透過する第１の対向面６５と、
この第１の対向面６５の外周側に位置する第２の対向面
６６と、第２の対向面６６の外周側に位置する第３の対
向面６７とがそれぞれ形成されている。そして、第２の
対向面６６と光磁気ディスク２との離間距離は、第１の
対向面６５と光磁気ディスク２との離間距離よりも大と
され、第３の対向面６７と光磁気ディスク２との離間距
離は、第２の対向面６６と光磁気ディスク２との離間距
離よりも大とされている。

【０１４７】第１の対向面６５は、先玉レンズ６１の平
面部分の略中央部に形成され、例えば直径が約４０μｍ
の円形を呈している。

【０１４８】第２の対向面６６は、第１の対向面６５の
外周側に位置して形成され、例えば直径が約４００μｍ
の円環状を呈している。そして、第１の対向面６５と第
２の対向面６６との間には、例えば高さが約２μｍの第
１の段差部６８が形成されており、この第１の段差部６
８により、第２の対向面６６と光磁気ディスク２との離
間距離は、第１の対向面６５と光磁気ディスク２との離
間距離よりも大とされている。

【０１４９】第３の対向面６７は、第２の対向面６６の
外周側に位置して形成され、例えば直径が約２．５ｍｍ
の円環状を呈している。そして、第２の対向面６６と第
３の対向面６７との間には、例えば高さが約１５０μｍ
の第２の段差部６９が形成されており、この第２の段差
部６９により、第３の対向面６７と光磁気ディスク２と
の離間距離は、第２の対向面６６と光磁気ディスク２と
の離間距離よりも大とされている。また、この第３の対
向面６７は、その外周が、先玉レンズ６１の光磁気ディ
スク２と対向する側の外周を構成している。

【０１５０】なお図１７は、先玉レンズ６１として、エ
ッチング加工を施す前のレンズの半径をｒ、レンズの厚
さをｔとした場合に、ｔ＝ｒとなるような半球面レンズ
を用いた例を示し、図１８は、エッチング加工を施す前
のレンズの半径をｒ、レンズの厚さをｔとした場合に、
ｔ＝（１＋１／ｎ）ｒとなるような半球面レンズを用い
た例を示している。なお、ここでｎはレンズ材質の屈折
率を示している。

【０１５１】また、図１７及び図１８中、破線は、先玉
レンズ６１の光磁気ディスク２と対向する側のエッチン
グ加工を施す前の形状を示している。

【０１５２】後玉レンズ３２は、非球面レンズより構成
され、先玉レンズ６１よりも半導体レーザ３側に、先玉
レンズ６１と光軸を一致して配設されている。そして、
半導体レーザ３より出射されたレーザ光は、後玉レンズ
３２を透過した後に先玉レンズ６１を透過して、光磁気
ディスク２の信号記録面２ａ上に照射されるようになさ
れている。

【０１５３】なお、後玉レンズ３２により集束されたレ
ーザ光は、先玉レンズ６１により更に集束され、先玉レ
ンズ６１の第１の対向面６５を透過して、光磁気ディス
ク２の信号記録面２ａ上に照射される。

【０１５４】先玉レンズ６１に用いる材質としては、例
えば屈折率が１．８であるガラス（ＯＨＡＲＡ製ガラ
ス：ＬＡＨ−６５等）が用いられる。このように、先玉
レンズ６１に屈折率の高いガラスを用いることによっ
て、対物レンズユニット６０は、ＮＡが１以上の光学的
特性が得られることとなる。より具体的には、図１７に
示した形状の先玉レンズ６１を用いた場合においては、
ＮＡ＝０．６× １．８＝１．０８となり、図１８に示
した形状の先玉レンズ６１を用いた場合においては、Ｎ
Ａを更に高めることが可能となる。

【０１５５】なお、先玉レンズ６１の形状は、図１７及
び図１８に示したものに限定されるものではなく、光磁
気ディスク２に情報信号を書き込み、または光磁気ディ
スク２に書き込まれた情報信号を読み取ることが可能な
レンズ形状であればよい。具体的には、図１７と図１８
に示した形状の中間の厚さを有しても良く、さらには、
半球レンズ以外の形状であってもよい。

【０１５６】本実施の形態に係る光学ヘッドにおいて
は、対物レンズユニット６０の先玉レンズ６１が上述し
たような形状とされているので、光磁気ディスク２が、
この光磁気ディスク２に集光されるレーザ光の光軸に直
交する方向に対して傾斜している場合、あるいは、光磁
気ディスク２の表面が平坦でなく、うねりを有している
場合などにおいても、先玉レンズ６１と光磁気ディスク
２との衝突を生じさせることなく、対物レンズユニット
６０を光磁気ディスク２に対して光学的な接触状態が得
られる程度に近づけることが可能となる。

【０１５７】すなわち、先玉レンズ６１は、レーザ光を
光磁気ディスク２に向けて透過する第１の対向面６５の
外周側に位置する第２の対向面６６が、第１の対向面６
５よりも光磁気ディスク２から離間しており、更に第２
の対向面６６の外周側に位置する第３の対向面６７が、
第２の対向面６６よりも光磁気ディスク２から離間して
いるので、光磁気ディスク２が、この光磁気ディスク２
に集光されるレーザ光の光軸に直交する方向に対して傾
斜している場合においても、先玉レンズ６１の外周部分
が光磁気ディスク２に接触する前に、先玉レンズ６１の
レーザ光が透過する第１の対向面６５を光磁気ディスク
２に光学的な接触状態が得られる距離に近づけることが
可能となる。

【０１５８】また、光磁気ディスク２の表面が平坦でな
く、うねり等を有している場合においても、先玉レンズ
６１の外周部分が光磁気ディスク２に接触する前に、先
玉レンズ６１のレーザ光が透過する第１の対向面６５を
光磁気ディスク２に光学的な接触状態が得られる距離に
近づけることが可能となる。

【０１５９】このように、光磁気ディスク２がレーザ光
の光軸に直交する方向に対して傾斜している場合や、光
磁気ディスク２の表面にうねり等が存在する場合であっ
ても、先玉レンズ６１の外周部分が光磁気ディスク２に
接触する前に、先玉レンズ６１のレーザ光が透過する第
１の対向面６５を光磁気ディスク２に光学的な接触状態
が得られる距離に近づけることが可能となることによ
り、光磁気ディスク２の組立て精度を緩和することがで
きるとともに、光磁気ディスク２に要求される表面の平
坦性を緩和することができる。

【０１６０】ところで、先玉レンズ６１の第２の対向面
６６及び第２の段差部６９は、上述した第１の実施の形
態と同様に、半球レンズの平面部分に、パウダービーム
エッチング加工やサンドブラスト加工等が施されること
により形成される。そして、このパウダービームエッチ
ング加工やサンドブラスト加工等により得られた加工面
は、表面粗度の大きな、いわゆる砂かけ面とされる。

【０１６１】先玉レンズ６１は、図１９に示すように、
砂かけ面とされた加工面（第３の対向面６７）の外周側
を取り付け面として、先玉レンズホルダ６３に取り付け
られ、例えばエポキシ樹脂等の接着剤４７により固定さ
れる。

【０１６２】先玉レンズ６１は、このように砂かけ面で
ある加工面の外周側を取り付け面として先玉レンズホル
ダ６３に取り付けられることにより、光学面を取り付け
面とした場合と比較して、先玉レンズホルダ６３に対す
る接着強度が高められている。したがって、この先玉レ
ンズ６１が取り付けられた対物レンズユニット６０は、
この対物レンズユニット６０を搭載した記録再生装置に
過度の振動が加わった場合においても、先玉レンズ６１
にアライメントのずれ等が生じる可能性が低い。

【０１６３】さらに、先玉レンズ６１と先玉レンズホル
ダー６３とは、面と面とを突き合わせて接着されること
になるので、球面部分を取り付け面とした場合に比べ
て、先玉レンズ３１の平行出しが容易となる。すなわ
ち、球面部分を取り付け面とした場合においては、先玉
レンズを先玉レンズホルダに取り付ける際に、先玉レン
ズの平行出しを慎重に行う必要があったが、本実施の形
態においては、先玉レンズ６１の第３の対向面６７の外
周側を先玉レンズホルダ６３の平面部分に突き当てて、
ある程度の荷重を与えるだけで先玉レンズ６１の平行出
しを容易に行うことができる。

【０１６４】（第３の実施の形態）次に、本発明に係る
光学ヘッドの第３の実施の形態について図面を参照して
説明する。

【０１６５】第３の実施の形態の光学ヘッドは、基本構
成を上述した第１の実施の形態の光学ヘッド及び第２の
実施の形態の光学ヘッドと同じくし、対物レンズユニッ
トのみが第１の実施の形態の光学ヘッド及び第２の実施
の形態の光学ヘッドと異なるので、ここでは対物レンズ
ユニットについてのみ説明する。なお、以下の説明にお
いて、第１の実施の形態の光学ヘッド及び第２の実施の
形態の光学ヘッドと同一の部材については、同一の符号
を付して説明する。

【０１６６】本実施の形態に係る光学ヘッドは、図２０
に示すように、レーザ光を光磁気ディスク８０の所定の
位置に集束させる対物レンズユニット７０を備えてい
る。

【０１６７】対物レンズユニット７０は、光磁気ディス
ク８０に対向配置された先玉レンズ７１と、この先玉レ
ンズ７１を支持する先玉レンズホルダ７３と、先玉レン
ズ７１と光軸を一致して配された開口数が例えば約０．
４の後玉レンズ７２と、この後玉レンズ７２を支持する
後玉レンズホルダー７４とを備えている。

【０１６８】そして、この対物レンズユニット７０は、
図示しないアクチュエータに搭載され、光磁気ディスク
８０との間の距離（ＷＤ：Working Distance）が約２０
μｍ以下となるように、光磁気ディスク２に近接するこ
とが可能とされている。

【０１６９】この対物レンズユニット７０は、後玉レン
ズ７２により集束されたレーザ光を先玉レンズ７１で更
に絞り込む構成とすることにより、高ＮＡ化が実現され
ている。

【０１７０】本実施の形態に係る光学ヘッドにより情報
信号の書き込み又は読み取りが行われる光磁気ディスク
８０としては、例えば、図２１に断面図で示すように、
基板材料８１上に、信号記録層８２が形成され、この信
号記録層８２上にカバー層８３が形成されてなるものが
用いられる。そして、光学ヘッドは、この光磁気ディス
ク８０のカバー層８３側に配設され、信号記録層８２に
信号を書き込む際、又は信号記録層８２に記録されてい
る信号を読み取る際は、レーザ光をカバー層８３を介し
て信号記録層８２上に集束し照射する構成となされてい
る。

【０１７１】なお、光磁気ディスク８０のカバー層８３
は、例えば、屈折率が１．５の材料が用いられ、厚さｈ
が約２０μｍとされている。

【０１７２】先玉レンズ７１は、例えば図２２及び図２
３に示すように、半球面レンズより構成される。そし
て、この半球面レンズには、光磁気ディスク８０と対向
する側にエッチング加工が施されることにより、平面部
分に、集束したレーザ光を透過する第１の対向面７５
と、この第１の対向面７５の外周側に位置する第２の対
向面７６とが形成されている。そして、第２の対向面７
６と光磁気ディスク８０との離間距離は、第１の対向面
７５と光磁気ディスク８０との離間距離よりも大とされ
ている。

【０１７３】第１の対向面７５は、先玉レンズ７１の平
面部分の略中央部に形成され、例えば直径が約２００μ
ｍの円形を呈している。

【０１７４】第２の対向面７６は、第１の対向面７５の
外周側に位置して形成され、例えば直径が約２．５ｍｍ
の円環状を呈している。この第２の対向面７６は、その
外周が、先玉レンズ７１の光磁気ディスク８０と対向す
る側の外周を構成している。

【０１７５】そして、第１の対向面７５と第２の対向面
７６との間には、例えば高さが約１００μｍの第１の段
差部７８が形成されており、この第１の段差部７８によ
り、第２の対向面７６と光磁気ディスク８０との離間距
離は、第１の対向面７５と光磁気ディスク８０との離間
距離よりも大とされている。

【０１７６】なお図２２は、先玉レンズ７１として、エ
ッチング加工を施す前のレンズの半径をｒ、レンズの厚
さをｔとした場合に、ｔ＝ｒ−ｈとなるような半球面レ
ンズを用いた例を示し、図２３は、エッチング加工を施
す前のレンズの半径をｒ、レンズの厚さをｔとした場合
に、ｔ＝（１＋１／ｎ）（ｒ−ｈ）となるような半球面
レンズを用いた例を示している。

【０１７７】また、図２２及び図２３中、波線は、先玉
レンズ７１の光磁気ディスク８０と対向する側のエッチ
ング加工を施す前の形状を示している。

【０１７８】後玉レンズ７２は、非球面レンズより構成
され、先玉レンズ７１よりも半導体レーザ３側に、先玉
レンズ７１と光軸を一致して配設されている。そして、
半導体レーザ３より出射されたレーザ光は、後玉レンズ
７２を透過した後に先玉レンズ７１を透過し、カバー層
８３を介して光磁気ディスク８０の信号記録層８２上に
照射されるようになされている。

【０１７９】なお、後玉レンズ７２により集束されたレ
ーザ光は、先玉レンズ７１により更に集束され、先玉レ
ンズ７１の第１の対向面７５を透過して、光磁気ディス
ク８０の信号記録層８２上に照射される。

【０１８０】先玉レンズ７１に用いる材質としては、例
えば屈折率が１．５１であるガラス（ＯＨＡＲＡ製ガラ
ス：ＢＫ−７等）が用いられる。

【０１８１】なお、先玉レンズ７１の形状は、図２２及
び図２３に示したものに限定されるものではなく、光磁
気ディスク８０に情報信号を書き込み、または光磁気デ
ィスク８０に書き込まれた情報信号を読み取ることが可
能なレンズ形状であればよい。具体的には、図２２と図
２３に示した形状の中間の厚さを有しても良く、さらに
は、半球レンズ以外の形状であってもよい。

【０１８２】また、本実施の形態において、先玉レンズ
７１の第１の対向面７５及び第１の段差部７８を形成す
る方法は、第１の実施の形態の先玉レンズ３１の第１の
対向面３５及び第１の段差部３８を形成する方法と同様
であるので、ここでは説明を省略する。なお、先玉レン
ズ７１に用いる材質として、ＯＨＡＲＡ製ガラス：ＢＫ
−７を用いた場合でも、ＯＨＡＲＡ製ガラス：ＬＡＨ−
６５を用いた場合と同様に、第１の対向面７５及び第１
の段差部７８を形成することができる。

【０１８３】本実施の形態に係る光学ヘッドにおいて
は、対物レンズユニット７０の先玉レンズ７１が上述し
たような形状とされているので、光磁気ディスク８０
が、この光磁気ディスク８０に集光されるレーザ光の光
軸に直交する方向に対して傾斜している場合等において
も、先玉レンズ７１と光磁気ディスク８０との衝突を生
じさせることなく、ＷＤが約２０μｍ以下となるよう
に、対物レンズユニット７０を光磁気ディスク８０に近
づけることが可能となるとともに、組立の精度が緩和さ
れる。

【０１８４】すなわち、先玉レンズ７１の平面部分が全
体にフラットな場合は、先玉レンズの平面部分の直径を
２．５ｍｍとすると、ＷＤを約２０μｍとした場合にお
いては、ａｒｃｔａｎ（２０／１２５０）＝０．９１７
（ｄｅｇ）以下となるように、すなわち１（ｄｅｇ）以
下の精度で平行度を保たなければならず、治具を用いた
単純な組み立てを行うと要求される精度を満足すること
ができず、また検査工程においても精密な検査が必要と
されることになる。

【０１８５】これに対して、図２２及び図２３に示した
先玉レンズ７１においては、第１の対向面７５が直径が
約２００μｍの円形とされ、第１の段差部７８の高さが
約１００μｍとされ、第２の対向面７６が直径が約２．
５ｍｍの円環状とされている。したがって、第１の対向
面７５を光磁気ディスク８０の表面に対して約２０μｍ
の離間距離となるように近づけた場合、すなわち、ＷＤ
を約２０μｍとした場合においては、第１の対向面７５
と光磁気ディスク８０との平行度を、絶えず傾きがａ
ｒｃｔａｎ（２０／１００）＝１１．３１０（ｄｅｇ）
以下となるように保てばよいこととなり、格段に精度を
緩和することができると同時に、光磁気ディスク８０へ
の衝突の危険性を大幅に減少させることができる。

【０１８６】また、以上は、ＷＤを約２０μｍとした場
合について説明したが、ＷＤを約４０μｍとした場合に
おいても、先玉レンズ７１の平面部分が全体にフラット
な場合は、先玉レンズの平面部分の直径を２．５ｍｍと
すると、ａｒｃｔａｎ（４０／１２５０）＝１．８３３
（ｄｅｇ）以下となるように、すなわち２（ｄｅｇ）以
下の精度で平行度を保たなければならず、治具を用いた
単純な組み立てを行うと要求される精度を満足すること
ができず、また検査工程においても精密な検査が必要と
されることになる。

【０１８７】これに対して、図２２及び図２３に示した
先玉レンズ７１においては、ＷＤを約４０μｍとした場
合、第１の対向面７５と光磁気ディスク８０との平行度
を、絶えず傾きがａｒｃｔａｎ（２０／１００）＝１
１．３１０（ｄｅｇ）以下となるように保てばよいこと
となり、格段に精度を緩和することができると同時に、
光磁気ディスク８０への衝突の危険性を大幅に減少させ
ることができる。

【０１８８】第３の実施の形態に係る光学ヘッドは、以
上のように構成されることにより、半球レンズの直径と
第１の対向面７５の直径との比率の逆数にほぼ応じた程
度の角度マージンが得られることとなる。すなわち、第
１の対向面７５の直径が半球レンズの直径の約１／２以
下であれば、角度マージンとして約２倍以上の組立精度
を得ることができる。さらには、第１の対向面７５の直
径が半球レンズの直径の約１／５以下であれば、角度マ
ージンとして約５倍以上の組立精度を得ることができ
る。さらには、第１の対向面７５の直径が半球レンズの
直径の約１／１０以下であれば、角度マージンとして約
１０倍以上の組立精度を得ることができる。

【０１８９】また、第３の実施の形態に係る光学ヘッド
においても、対物レンズユニット７０の先玉レンズ７１
が、パウダービームエッチング加工やサンドブラスト加
工等により得られた、砂かけ面である加工面を取り付け
面として、先玉レンズホルダ７３に取り付けることが可
能であるので、光学面を取り付け面とした場合と比較し
て、先玉レンズ７１と先玉レンズホルダ７３との接着強
度をめることが可能となる。したがって、この先玉レン
ズ７１が取り付けられた対物レンズユニット７０は、こ
の対物レンズユニット７０を搭載した記録再生装置に過
度の振動が加わった場合においても、先玉レンズ７１に
アライメントのずれ等が生じる可能性を低くすることが
できる。

【０１９０】なお、この第３の実施の形態においても、
上述した第２の実施の形態と同様に、先玉レンズ７１の
平面部分を取り付け面として、先玉レンズ７１と先玉レ
ンズホルダー７３とを、平面と平面とを突き合わせて接
着することも可能であり、このような接着工程を採用す
ることにより、第２の実施の形態にて説明した効果と同
様に、先玉レンズ７１の平行出しを容易に行うことが可
能となる。

【０１９１】また、以上は、先玉レンズ７１に、第１の
対向面７５、第１の段差部７８、第２の対向面７６のみ
が形成された例について説明したが、本実施の形態に係
る光学ヘッドは、この例に限定されるものではなく、図
２４に示すように、第１の実施の形態及び第２の実施の
形態と同様に、第２の対向面７６の外周側に第２の段差
部７９を介して第３の対向面７７を形成するようにして
もよい。このように、第２の対向面７６の外周側に第２
の段差部７９を介して第３の対向面７７を形成するよう
にすれば、ＷＤをより小さくした場合においても、光磁
気ディスク８０と先玉レンズ７１が接触する危険性を低
減することができる。

【０１９２】（第４の実施の形態）次に、本発明に係る
光学ヘッドの第４の実施の形態について図面を参照して
説明する。

【０１９３】第４の実施の形態の光学ヘッドは、基本構
成を上述した第１乃至第３の実施の形態の光学ヘッドと
同じくし、対物レンズユニットのみが第１乃至第３の実
施の形態の光学ヘッドと異なるので、ここでは対物レン
ズユニットについてのみ説明する。なお、以下の説明に
おいて、第１乃至第３の実施の形態の光学ヘッドと同一
の部材については、同一の符号を付して説明する。

【０１９４】本実施の形態に係る光学ヘッドは、図２５
に示すように、レーザ光を光磁気ディスク８０の所定の
位置に集束させる対物レンズユニット９０を備えてい
る。

【０１９５】対物レンズユニット９０は、光磁気ディス
ク８０に対向配置された例えば開口数が約０．８とされ
た対物レンズ９１と、この対物レンズ９１を支持する対
物レンズホルダ９２とを備えている。

【０１９６】そして、この対物レンズユニット９０は、
図示しないアクチュエータに搭載され、ＷＤが約２０μ
ｍ以下となるように、光磁気ディスク２に近接すること
が可能とされている。

【０１９７】対物レンズ９１は、図２６に示すように、
光磁気ディスク８０と対向する側にエッチング加工が施
されることにより、集束したレーザ光を透過する第１の
対向面９５と、この第１の対向面９５の外周側に位置す
る第２の対向面９６とが形成されている。そして、第２
の対向面９６と光磁気ディスク８０との離間距離は、第
１の対向面９５と光磁気ディスク８０との離間距離より
も大とされている。

【０１９８】第１の対向面９５は、対物レンズ９１の平
面部分の略中央部に形成され、例えば直径が約２００μ
ｍの円形を呈している。

【０１９９】第２の対向面９６は、第１の対向面９５の
外周側に位置して形成され、例えば直径が約２．５ｍｍ
の円環状を呈している。この第２の対向面９６は、その
外周が、対物レンズ９１の光磁気ディスク８０と対向す
る側の外周を構成している。

【０２００】そして、第１の対向面９５と第２の対向面
９６との間には、例えば高さが約１００μｍの第１の段
差部９８が形成されており、この第１の段差部９８によ
り、第２の対向面９６と光磁気ディスク８０との離間距
離は、第１の対向面９５と光磁気ディスク８０との離間
距離よりも大とされている。

【０２０１】そして、対物レンズ９１は、半導体レーザ
３から出射されたレーザ光を集束し、第１の対向面９５
を透過させて、光磁気ディスク８０の信号記録層８２上
に照射させる。

【０２０２】なお、この第４の実施の形態においても、
上述した第３の実施の形態と同様に、対物レンズ９１に
用いる材質として、例えば屈折率が１．５１であるガラ
ス（ＯＨＡＲＡ製ガラス：ＢＫ−７等）を用いている。

【０２０３】また、本実施の形態において、対物レンズ
９１の第１の対向面９５及び第１の段差部９８を形成す
る方法は、第１の実施の形態の先玉レンズ３１の第１の
対向面３５及び第１の段差部３８を形成する方法と同様
であるので、ここでは説明を省略する。

【０２０４】本実施の形態に係る光学ヘッドにおいて
は、対物レンズユニット９０の対物レンズ９１が上述し
たような形状とされているので、光磁気ディスク８０
が、この光磁気ディスク８０に集光されるレーザ光の光
軸に直交する方向に対して傾斜している場合等おいて
も、対物レンズ９１と光磁気ディスク８０との衝突を生
じさせることなく、ＷＤが約２０μｍ以下となるよう
に、対物レンズユニット９０を光磁気ディスク８０に近
づけることが可能となるとともに、組立の精度が緩和さ
れる。

【０２０５】すなわち、対物レンズ９１の平面部分が全
体にフラットな場合は、対物レンズの平面部分の直径を
２．５ｍｍとすると、ＷＤを約２０μｍとした場合にお
いては、ａｒｃｔａｎ（２０／１２５０）＝０．９１７
（ｄｅｇ）以下となるように、すなわち１（ｄｅｇ）以
下の精度で平行度を保たなければならず、治具を用いた
単純な組み立てを行うと要求される精度を満足すること
ができず、また検査工程においても精密な検査が必要と
されることになる。

【０２０６】これに対して、図２６に示した対物レンズ
９１においては、第１の対向面９５が直径が約２００μ
ｍの円形とされ、第１の段差部９８の高さが約１００μ
ｍとされ、第２の対向面９６が直径が約２．５ｍｍの円
環状とされている。したがって、第１の対向面９５を光
磁気ディスク８０の表面に対して約２０μｍの離間距離
となるように近づけた場合、すなわち、ＷＤを約２０μ
ｍとした場合においては、第１の対向面９５と光磁気デ
ィスク８０との平行度を、絶えず傾きがａｒｃｔａｎ
（２０／１００）＝１１．３１０（ｄｅｇ）以下となる
ように保てばよいこととなり、格段に精度を緩和するこ
とができると同時に、光磁気ディスク８０への衝突の危
険性を大幅に減少させることができる。

【０２０７】また、以上は、ＷＤを約２０μｍとした場
合について説明したが、ＷＤを約４０μｍとした場合に
おいても、対物レンズ９１の平面部分が全体にフラット
な場合は、対物レンズの平面部分の直径を２．５ｍｍと
すると、ａｒｃｔａｎ（４０／１２５０）＝１．８３３
（ｄｅｇ）以下となるように、すなわち２（ｄｅｇ）以
下の精度で平行度を保たなければならず、治具を用いた
単純な組み立てを行うと要求される精度を満足すること
ができず、また検査工程においても精密な検査が必要と
されることになる。

【０２０８】これに対して、図２６に示した対物レンズ
９１においては、ＷＤを約４０μｍとした場合、第１の
対向面９５と光磁気ディスク８０との平行度を、絶えず
傾きがａｒｃｔａｎ（２０／１００）＝１１．３１０
（ｄｅｇ）以下となるように保てばよいこととなり、格
段に精度を緩和することができると同時に、光磁気ディ
スク８０への衝突の危険性を大幅に減少させることがで
きる。

【０２０９】また、第３の実施の形態に係る光学ヘッド
においても、対物レンズユニット９０の対物レンズ９１
が、パウダービームエッチング加工やサンドブラスト加
工等により得られた、砂かけ面である加工面を取り付け
面として、対物レンズホルダ９３に取り付けられている
ので、光学面を取り付け面とした場合と比較して、対物
レンズ９１と対物レンズホルダ９３との接着強度が高め
られている。したがって、この先対物レンズ９１が取り
付けられた対物レンズユニット９０は、この対物レンズ
ユニット９０を搭載した記録再生装置に過度の振動が加
わった場合においても、対物レンズ９１にアライメント
のずれ等が生じる可能性が低い。

【０２１０】なお、この第４の実施の形態においても、
上述した第２の実施の形態と同様に、対物レンズ９１の
平面部分を取り付け面として、対物レンズ９１と対物レ
ンズホルダー９３とを、平面と平面とを突き合わせて接
着することも可能であり、このような接着工程を採用す
ることにより、第２の実施の形態にて説明した効果と同
様に、対物レンズ９１の平行出しを容易に行うことが可
能となる。

【０２１１】また、以上は、対物レンズ９１に、第１の
対向面９５、第１の段差部９８、第２の対向面９６のみ
が形成された例について説明したが、本実施の形態に係
る光学ヘッドは、この例に限定されるものではなく、第
１の実施の形態及び第２の実施の形態と同様に、第２の
対向面９６の外周側に第２の段差部を介して第３の対向
面を形成するようにしてもよい。このように、第２の対
向面９６の外周側に第２の段差部を介して第３の対向面
を形成するようにすれば、ＷＤをより小さくした場合に
おいても、光磁気ディスク８０と対物レンズ９１が接触
する危険性を低減することができる。

【０２１２】なお、以上は、光磁気ディスク２，８０に
対して情報信号を書き込み、または光磁気ディスク２，
８０に書き込まれた情報信号を読み取る光学ヘッド１に
ついて説明したが、本発明に係る光学ヘッドはこの例に
限定されるものではなく、相変化光ディスク、再生専用
光ディスク等の他の光学記録媒体に情報信号の書き込み
又は読み取りを行うように構成されていても良い。

【０２１３】また、以上は、先玉レンズの第１の対向面
及び第１の段差部を形成する方法として、イオンミリン
グ法を用いた例を挙げて説明したが、本発明において
は、レーザ光が透過する面である先玉レンズの第１の対
向面がが荒れない方法であれば、イオンミリング法以外
の他の方法を用いるようにしてもよい。

【０２１４】

【発明の効果】本発明に係る光学ヘッドにおいては、上
述したように、光学記録媒体が、この光学記録媒体に集
光されるレーザ光の光軸に対して傾斜を有している場
合、あるいは、光学記録媒体の表面が平坦でなく、うね
りを有している場合などにおいても、光学記録媒体に対
向配置されたレンズに、レーザ光を透過する第１の対向
面と、第１の対向面の外周側に位置して第１の対向面よ
りも光学記録媒体から離間した第２の対向面が形成され
ていることにより、レンズの外周部分が光学記録媒体に
接触する前に、レンズの第１の対向面を容易に光学記録
媒体に近接させることができる。

【０２１５】すなわち、光学記録媒体とレンズの組立て
状態が傾斜していても、レンズの第１の対向面を光学記
録媒体に近接させることができ、組立て精度を緩和され
る。

【０２１６】また、レンズの第１の対向面は、その直径
が約１００μｍ以下の大きさであれば、ある程度綿密に
調整を行うことにより形成可能な範囲となり、さらに
は、直径が約６０μｍ以下の大きさであれば、形成が容
易となる。

【０２１７】さらには、本発明の光学ヘッドは、光学記
録媒体にうねりが存在していても、レンズの第１の対向
面を光学記録媒体に近接させることができ、光学記録媒
体に要求されていた平坦性が緩和される。

【０２１８】さらに、先玉レンズの第２の対向面の外周
側に第３の対向面が形成されている場合は、第１の対向
面の形成工程での加工量：エッチング量をさほど大きく
しなくても、レンズの外周部分が光学記録媒体に接触す
る危険性を低減することができ、大きい径のレンズを用
いることが可能となる。

【０２１９】また、第２の対向面の外周側に第３の対向
面が形成されている場合は、第１の段差部の高さを低く
設定することが可能となり、加工効率を高めて、レンズ
の作製コストを低減することができる。

【０２２０】また第２の対向面の大きさと得られる角度
マージン拡大の効果の関係については、第１の段差部の
高さＨに大きく関連していることとなる。したがって、
第１の対向面は、ほぼ２×Ｈ／ｔａｎ（０．１）＝１１
４６×Ｈ以下、すなわち、第１の段差部の高さＨの約１
０００倍以下の径であれば、容易に調整でき、さらに２
×Ｈ／ｔａｎ（０．０５）＝２２９１×Ｈ以下、すなわ
ち、第１の段差部の高さＨの約２０００倍以下の径であ
れば、綿密に調整を行えば角度マージンの拡大が達成で
きる。

【０２２１】さらには、第２の対向面の大きさは、レン
ズの外形の１／２以下の大きさ、さらに好ましくは、１
／５以下の大きさ、よりさらに好ましくは１／１０以下
の大きさであることにより、レンズと光学記録媒体とが
接触する危険性を低めることができるとともに、組立工
程あるいは検査工程を容易とすることが可能となる。

【０２２２】また、レンズは、レンズ形成工程におい
て、粉体粒子を吹き付ける方法のエッチング処理を行う
際に新規に得られた加工面（砂かけ面）を接着面とし
て、支持手段に取り付けられることにより、光学面を接
着面とする場合と比較してレンズと支持手段との接着強
度を向上させることが可能となる。

【０２２３】そして、レンズと支持手段とお接着強度の
向上に関しては、レンズの外周付近に粉体粒子を吹き付
ける方法のエッチング処理が施されていればその効果は
得られることとなる。したがって、粉体粒子を吹き付け
る方法のエッチング処理が施される領域が、レンズの外
周部より約５０μｍ以上内側であれば、レンズを支持手
段に取り付ける場合において、十分な接着面積を得るこ
とができ、接着強度を向上させることが可能となる。

【０２２４】また、レンズの支持手段に対する取り付け
面を平面とした場合には、接着強度の向上を図ることが
できると共に、レンズの平行出しも容易に行うことがで
きる。

【０２２５】さらに本発明に係る光学ヘッドの製造方法
においては、上述したように、第１の対向面及び第２の
対向面を形成するためのマスク材料として、原材料の形
状が液体状態でないドライフィルムレジストを用いるこ
とにより、レジスト材料の厚さはほぼ前もって規定され
ていること、さらには、ドライフィルムの現像工程直前
までは、カバーフィルムが存在しているので空隙部分に
おいてはドライフィルム材料はさほど入り込まないため
に、露光現像工程がスピンコート法により形成される液
状レジストを用いた場合と比較してマージンが広くな
る。

【０２２６】さらに、本発明に係る光学ヘッドの製造方
法においては、第１の対向面及び第２の対向面を形成す
るためのマスク材料として、スクリーン印刷法により表
面に塗布されるレジスト材料を用いることによっても、
空隙が存在していても、レジスト部分が盛り上がること
はなく、ドライフィルムレジストを用いた場合とほぼ同
様に露光現像工程において、マージンが広い作製工程を
得ることも可能である。

【０２２７】さらに、本発明に係る光学ヘッドの製造方
法においては、第１の対向面又は第２の対向面の形成工
程において、エッチング処理を行う箇所以外の箇所を除
去可能な充填材により保護することにより、レーザ光が
透過する領域に傷などが形成される危険性を低減するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光学ヘッドの構成図である。

【図２】第１の実施の形態に係る光学ヘッドの用いられ
る対物レンズユニットの縦断面図である。

【図３】先玉レンズの側面図である。

【図４】他の先玉レンズの側面図である。

【図５】光磁気ディスクに傾きが生じた様子を説明する
側面図である。

【図６】光磁気ディスクにうねりが生じている様子を説
明する側面図である。

【図７】先玉レンズを製造する工程を説明する図であ
り、先玉レンズをレンズ固定治具に固定した状態を示す
縦断面図である。

【図８】先玉レンズを製造する工程を説明する図であ
り、第１の対向面を形成するためのマスクが形成された
状態を示す縦断面図である。

【図９】先玉レンズを製造する工程を説明する図であ
り、第１の対向面の外周側にエッチング加工が施された
状態を示す縦断面図である。

【図１０】先玉レンズを製造する工程を説明する図であ
り、先玉レンズの平面部分及びレンズ固定治具の上面に
レジスト材料が塗布された状態を示す縦断面図である。

【図１１】先玉レンズを製造する工程を説明する図であ
り、第２の対向面を形成するためのマスクが形成された
状態を示す縦断面図である。

【図１２】先玉レンズを製造する工程を説明する図であ
り、第２の対向面の外周側にエッチング加工が施された
状態を示す縦断面図である。

【図１３】先玉レンズの側面図である。

【図１４】先玉レンズを先玉レンズホルダに取り付けた
状態を示す縦断面図である。

【図１５】組み立てられた対物レンズユニットを示す縦
断面図である。

【図１６】第２の実施の形態に係る光学ヘッドに用いら
れる対物レンズユニットの縦断面図である。

【図１７】先玉レンズの側面図である。

【図１８】他の先玉レンズの側面図である。

【図１９】先玉レンズが先玉レンズホルダに取り付けら
れた状態を示す縦断面図である。

【図２０】第３の実施の形態に係る光学ヘッドに用いら
れる対物レンズユニットの縦断面図である。

【図２１】光磁気ディスクの縦断面図である。

【図２２】先玉レンズの側面図である。

【図２３】他の先玉レンズの側面図である。

【図２４】他の対物レンズユニットの縦断面図である。

【図２５】第４の実施の形態に係る光学ヘッドに用いら
れる対物レンズユニットの縦断面図である。

【図２６】対物レンズの側面図である。

【符号の説明】

１光学ヘッド、２，８０光磁気ディスク、３半導
体レーザ、３０，６０，７０，９０対物レンズユニッ
ト、３１，６１，７１先玉レンズ、３２，６２，７２
後玉レンズ、３３，６３，７３先玉レンズホルダ、
３４，６４，７４先玉レンズホルダ、３５，６５，７
５，９５第１の対向面、３６，６６，７６，９６第
２の対向面、３７，６７，７７第３の対向面、３８，
６８，７８，９８第１の段差部、３９，６９，７９
第２の段差部、

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光学記録媒体に向けて光を出射する光源
と、上記光学記録媒体に対向するように配置され、上記光源
から出射された光を集束して上記光学記録媒体の信号記
録面上に照射させるレンズと、上記レンズを支持する支持手段とを備え、上記レンズは、上記光学記録媒体と対向し集束した光を
透過する第１の対向面と、この第１の対向面の外周側に
位置して上記光学記録媒体と対向する第２の対向面とを
有し、上記第２の対向面と上記光学記録媒体との離間距離は、
上記第１の対向面と上記光学記録媒体との離間距離より
も大とされていることを特徴とする光学ヘッド。
【請求項２】上記支持手段は、上記レンズと光軸を一
致して配設された他のレンズを支持することを特徴とす
る請求項１記載の光学ヘッド。
【請求項３】上記レンズは、上記第２の対向面の外周
側に位置して上記光学記録媒体と対向する第３の対向面
を有し、上記第３の対向面と上記光学記録媒体との離間距離は、
上記第２の対向面と上記光学記録媒体との離間距離より
も大とされていることを特徴とする請求項１記載の光学
ヘッド。
【請求項４】上記第１の対向面と上記光学記録媒体と
の離間距離は、４０μｍ以下とされていることを特徴と
する請求項１記載の光学ヘッド。
【請求項５】上記第１の対向面と上記光学記録媒体と
の離間距離は、２０μｍ以下とされていることを特徴と
する請求項４記載の光学ヘッド。
【請求項６】上記第１の対向面と上記光学記録媒体と
の離間距離は、２００ｎｍ以下とされていることを特徴
とする請求項５記載の光学ヘッド。
【請求項７】上記第２の対向面は、上記レンズにエッ
チング処理を施すことにより形成されていることを特徴
とする請求項１記載の光学ヘッド。
【請求項８】上記第２の対向面と上記第３の対向面の
少なくとも一方の対向面は、上記レンズに粉体粒子を吹
き付ける方法のエッチング処理を施すことにより形成さ
れていることを特徴とする請求項３記載の光学ヘッド。
【請求項９】上記レンズは、粉体粒子を吹き付ける方
法のエッチング処理を施した箇所の少なくとも一部を取
り付け部として、上記支持手段に取り付けられているこ
とを特徴とする請求項８記載の光学ヘッド。
【請求項１０】上記レンズは、上記粉体粒子を吹き付
ける方法のエッチング処理を施すことにより形成された
上記第２の対向面又は上記第３の対向面の少なくとも一
部を取り付け部として、上記支持手段に取り付けられて
いることを特徴とする請求項９記載の光学ヘッド。
【請求項１１】上記第１の対向面は略円形を呈し、そ
の直径が１００μｍ以下であることを特徴とする請求項
１記載の光学ヘッド。
【請求項１２】上記第１の対向面の直径が６０μｍ以
下であることを特徴とする請求項１１記載の光学ヘッ
ド。
【請求項１３】上記第２の対向面は略円環状を呈し、
その直径が上記第２の対向面と上記光学記録媒体との離
間距離と上記第１の対向面と上記光学記録媒体との離間
距離との差の２０００倍以下であることを特徴とする請
求項１記載の光学ヘッド。
【請求項１４】上記第２の対向面の直径が、上記第２
の対向面と上記光学記録媒体との離間距離と上記第１の
対向面と上記光学記録媒体との離間距離との差の１００
０倍以下であることを特徴とする請求項１３記載の光学
ヘッド。
【請求項１５】上記第２の対向面及び上記第３の対向
面はそれぞれ略円環状を呈し、上記第３の対向面の直径
が上記第２の対向面の直径よりも１００μｍ以上大きい
ことを特徴とする請求項３記載の光学ヘッド。
【請求項１６】上記第２の対向面及び上記第３の対向
面はそれぞれ略円環状を呈し、上記第３の対向面の直径
が上記第２の対向面の直径の２倍以上とされていること
を特徴とする請求項３記載の光学ヘッド。
【請求項１７】上記第３の対向面の直径が、上記第２
の対向面の直径の５倍以上とされていることを特徴とす
る請求項１６記載の光学ヘッド。
【請求項１８】上記第３の対向面の直径は、上記第２
の対向面の直径の１０倍以上とされていることを特徴と
する請求項１７記載の光学ヘッド。
【請求項１９】光学記録媒体に対向するように配置さ
れ、光源から出射された光を集束して上記光学記録媒体
の信号記録面上に照射させるレンズと、このレンズを支
持する支持手段とを備えた光学ヘッドの製造方法におい
て、上記レンズの上記光学記録媒体と対向する側に、上記光
学記録媒体と対向し集束した光を透過する第１の対向面
と、この第１の対向面の外周側に位置して上記光学記録
媒体と対向する第２の対向面とを、上記第２の対向面と
上記光学記録媒体との離間距離が、上記第１の対向面と
上記光学記録媒体との離間距離よりも大となるように形
成する工程を有することを特徴とする光学ヘッドの製造
方法。
【請求項２０】上記レンズと光軸を一致させて他のレ
ンズを配設する工程を有することを特徴とする請求項１
９記載の光学ヘッドの製造方法。
【請求項２１】上記第２の対向面の外周側に位置して
上記光学記録媒体と対向する第３の対向面を、上記第３
の対向面と上記光学記録媒体との離間距離が、上記第２
の対向面と上記光学記録媒体との離間距離よりも大とな
るように形成する工程を有することを特徴とする請求項
１９記載の光学ヘッドの製造方法。
【請求項２２】上記レンズにエッチング処理を施すこ
とにより上記第１の対向面と第２の対向面とを形成する
ことを特徴とする請求項１９記載の光学ヘッドの製造方
法。
【請求項２３】上記レンズに粉体粒子を吹き付ける方
法のエッチング処理を施すことにより上記第２の対向面
と上記第３の対向面の少なくとも一方の対向面を形成す
ることを特徴とする請求項２１記載の光学ヘッドの製造
方法。
【請求項２４】粉体粒子を吹き付ける方法のエッチン
グ処理を施した箇所の少なくとも一部を取り付け部とし
て、上記レンズを上記支持手段に取り付ける工程を有す
ることを特徴とする請求項２３記載の光学ヘッドの製造
方法。
【請求項２５】粉体粒子を吹き付ける方法のエッチン
グ処理を施すことにより形成された上記第２の対向面又
は上記第３の対向面の少なくとも一部を取り付け部とし
て、上記レンズを上記支持手段に取り付けることを特徴
とする請求項２４記載の光学ヘッドの製造方法。
【請求項２６】上記第１の対向面となる箇所にフィル
ム状のレジスト材料を用いたマスクを形成して、上記レ
ンズにエッチング処理を施すことを特徴とする請求項２
２記載の光学ヘッドの製造方法。
【請求項２７】上記第１の対向面となる箇所にスクリ
ーン印刷法により形成されたレジスト材料を用いたマス
クを形成して、上記レンズにエッチング処理を施すこと
を特徴とする請求項２２記載の光学ヘッドの製造方法。
【請求項２８】上記第１の対向面となる箇所及び上記
第２の対向面となる箇所にフィルム状のレジスト材料を
用いたマスクを形成して、上記レンズに粉体粒子を吹き
付ける方法のエッチング処理を施すことを特徴とする請
求項２３記載の光学ヘッドの製造方法。
【請求項２９】上記第１の対向面となる箇所及び上記
第２の対向面となる箇所にスクリーン印刷法により形成
されたレジスト材料を用いたマスクを形成して、上記レ
ンズに粉体粒子を吹き付ける方法のエッチング処理を施
すことを特徴とする請求項２３記載の光学ヘッドの製造
方法。
【請求項３０】上記レンズの光が入射する側を保護材
で保護しながら上記レンズにエッチング処理を施すこと
を特徴とする請求項２２記載の光学ヘッドの製造方法。