JPH11199578A

JPH11199578A - 高純度ヒドロキノンビス（アンヒドロトリメリテート）の製造方法

Info

Publication number: JPH11199578A
Application number: JP10017727A
Authority: JP
Inventors: Tsuyoshi Ikeda; 強志池田; Hideki Goda; 英樹郷田; Shuji Yamada; 修司山田; Tomio Nobe; 富夫野辺
Original assignee: New Japan Chemical Co Ltd
Current assignee: New Japan Chemical Co Ltd
Priority date: 1998-01-14
Filing date: 1998-01-14
Publication date: 1999-07-27

Abstract

(57)【要約】【目的】工業的に有利な条件での純度９８重量％以上
の高純度ヒドロキノンビス（アンヒドロトリメリテー
ト）の製造方法を提供する。【構成】本発明に係る高純度ヒドロキノンビス（アン
ヒドロトリメリテート）の製造方法は、ヒドロキノンの
低級アルカン酸エステル（１モル）と無水トリメリット
酸（２．５〜５モル）をエステル交換反応し、得られた
ヒドロキノンビス（アンヒドロトリメリテート）反応粗
物を（Ａ）群及び（Ｂ）群からなる混合溶媒を用いて精
製することを特徴とする。Ａ)群:炭素数が６〜２０の芳香族又は脂肪族の炭化水素
の１種若しくは２種以上Ｂ)群：炭素数が１〜２０のアミド系溶媒、ニトリル系
溶媒、スルホキシド系溶媒、スルフィド系溶媒の群から
選ばれる１種若しくは２種以上

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高純度ヒドロキノ
ンビス（アンヒドロトリメリテート）の製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ヒドロキノンビス（アンヒドロトリメリ
テート）（以下「ＴＭＨＱ」という）は、ポリイミド原
料として有用である。ポリイミド原料としてＴＭＨＱを
供給する場合、高分子量のポリイミドを得るためには、
ＴＭＨＱの純度が９８重量％以上であることが求められ
ている。

【０００３】一方、ＴＭＨＱを製造する方法としては以
下の方法が知られている。（１）ベンゼンやトルエン等の溶媒中、無水トリメリッ
ト酸クロリドとフェノール類（或いはジオール類）との
反応による方法（特公昭４３−５９１１号）。（２）無水トリメリット酸とジオール類を２００℃以上
に加熱することによる方法（特公昭４５−２９９７４
号）。（３）無機化合物触媒の存在下、フェノール類の低級ア
ルカン酸エステルとトリメリット酸無水物とをエステル
交換する方法（特開平７−４１４７２号）。

【０００４】しかしながら、これらの製造法においては
純度９８重量％以上の高純度ＴＭＨＱは得られない。
又、（１）で示される方法では、高価で安全衛生面で問
題のある無水トリメリット酸クロリドを使用せねばなら
ず、工業的に問題が多い。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ポリイミド
原料として有用な高純度ＴＭＨＱを、工業的に有利な条
件にて製造する方法を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題を達成すべく鋭意検討を行った結果、特定の反応条件
によるＴＭＨＱ粗物の合成、次いで特定混合溶媒を用い
た精製という一連の工程により所期の目的が達成される
ことを見いだし、かかる知見に基づいて本発明を完成す
るに至った。

【０００７】即ち、本発明に係る高純度ＴＭＨＱの製造
方法は、一般式（１）

【化２】（式中、Ｒ¹、Ｒ²は同一又は異なって、炭素数１〜３の
アルキル基を表す）で表されるヒドロキノンの低級アル
カン酸エステルと無水トリメリット酸（以下「ＴＭＡ」
という）をエステル交換反応するに際し、ヒドロキノン
の低級アルカン酸エステル１モルに対し、無水トリメリ
ット酸を２．３〜５．０モル反応させて、ヒドロキノン
ビス（アンヒドロトリメリテート）反応粗物を得、しか
る後、この反応粗物を（Ａ）群及び（Ｂ）群からなる混
合溶媒を用いて精製することを特徴とする。（Ａ）群：炭素数が６〜２０の芳香族又は脂肪族の炭化
水素の１種若しくは２種以上（Ｂ）群：炭素数が１〜２０のアミド系溶媒、ニトリル
系溶媒、スルホキシド系溶媒及びスルフィド系溶媒より
なる群から選ばれる１種若しくは２種以上

【０００８】本発明に係る一般式（１）で表されるヒド
ロキノンの低級アルカン酸エステルとしては、ヒドロキ
ノンの酢酸エステル、プロピオン酸エステル及び酪酸エ
ステルが例示され、特に好ましくは酢酸エステルが挙げ
られる。

【０００９】ヒドロキノンの低級アルカン酸エステル
は、通常のエステル化技術を用いて製造することができ
る。具体的な方法としては、無触媒下で、過剰のアルカ
ン酸無水物を用いてアルカン酸エステルとする方法や、
硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸等従来公知のエステル化
触媒の存在下に、ヒドロキノンとアルカン酸或いはアル
カン酸無水物とを反応させる方法（有機化学Ｉ、ｐ１８
１〜１８９、梅沢純夫著、丸善株式会社、１９５９年出
版等を参照）等が例示される。

【００１０】本発明に係るヒドロキノンの低級アルカン
酸エステルとＴＭＡとのエステル交換反応に於いて、ヒ
ドロキノンの低級アルカン酸エステル１モルに対するＴ
ＭＡの仕込み量は２．３〜５．０モル、より好ましくは
２．６〜４．０モルが推奨される。ＴＭＡの仕込み量が
２．３モル未満であると反応中に反応粗物が反応系内で
固化する場合があり、攪拌不能及び反応系外への抜き出
しが困難になり、工業的製造では大きなリスクを伴う。
又、固化しない場合でも、副生成物として、ヒドロキノ
ンの低級アルカン酸エステルとＴＭＡからなる重縮合高
分子量体が多くなり、以下の精製工程で目的とする純度
に達しなかったり、達したとしても精製回数を増やす必
要があり、極端な収率低下を生じる等、工業的に問題が
ある。一方、５．０モルを越える場合は反応粗物の純度
が低くなり、以下の精製工程で目的とする純度が得られ
なかったり、得られても精製回数を増やす必要があり、
収率が極端に低くなり好ましくない。

【００１１】エステル交換反応は無触媒下でも、触媒存
在下でも行うことができ、適応される触媒としては、ゼ
オライト、ベントナイト、カオリン等のシリカ・アルミ
ナ系触媒、酢酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等のアル
カリ金属塩類が例示され、ＴＭＨＱの用途に応じて、適
宜、触媒の有無及びその種類を選択することができる。
例えば、ＴＭＨＱを電子部品用のポリイミドとして使用
する場合は、無触媒反応によることが好ましい。

【００１２】触媒の添加量としては、触媒の種類やエス
テル交換反応条件により適宜選択されるが、通常、０〜
１０重量％、より好ましくは０〜５重量％が推奨され
る。

【００１３】当該エステル交換反応は攪拌下で行われ、
反応温度としては、通常、１５０〜３００℃、特に２４
０〜２８０℃程度が奨励され、エステル交換反応中に生
成する低級アルカン酸を常圧または減圧下にて、逐次反
応系外に留去させることにより行う。

【００１４】当該エステル交換反応をより有利に進める
には、反応時にキシレン、トルエン、アニソール等のエ
ントレーナーの使用、窒素ガス、炭酸ガス等の反応に不
活性なガスを通気させる方法が有効である。

【００１５】反応圧力については、当該エステル交換反
応の後半に５００〜２０ｍｍＨｇまで徐々に減圧するこ
とで、より反応を有効に進めることができる。

【００１６】当該エステル交換反応に於いて留出させる
低級アルカン酸量は、理論量の９０重量％以上が好まし
く、反応時間は反応条件により異なるが、通常１〜２０
時間である。

【００１７】本発明に係る精製は、上記方法により得ら
れたエステル交換反応生成物（以下「ＴＭＨＱ反応粗
物」という）を目的の純度に上げるために、（Ａ）群及
び（Ｂ）群からなる混合溶媒を用いて行う。

【００１８】（Ａ）群に係る溶媒としては、炭素数６〜
２０の芳香族又は脂肪族の炭化水素が挙げられ、具体的
には、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン
等の芳香族炭化水素、ヘプタン、ヘキサン、オクタン、
シクロヘキサン等の脂肪族鎖状あるいは脂肪族環状炭化
水素が例示され、中でもキシレン、ヘキサンが推奨され
る。これら（Ａ）群に属する溶媒はそれぞれ単独で又は
２種以上を適宜混合して用いられる。

【００１９】一方、（Ｂ）群に係る溶媒としては、炭素
数が１〜２０のアミド系溶媒、ニトリル系溶媒、スルホ
キシド系溶媒及びスルフィド系溶媒が例示される。これ
ら（Ｂ）群に属する溶媒はそれぞれ単独で又は２種以上
を適宜混合して用いられる。

【００２０】アミド系溶媒としてはＮ，Ｎ’−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ジエチルホルムアミド、Ｎ，
Ｎ’−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアセ
トアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等が例示され
る。

【００２１】ニトリル系溶媒としてはアセトニトリル、
エチルニトリル、プロピオンニトリル等が例示される。

【００２２】スルホキシド系溶媒としてはジメチルスル
ホキシド、ジエチルスルホキシド等が例示される。

【００２３】スルフィド系溶媒としてはメチルスルフィ
ド、エチルスルフィド、ジメチルスルフィド、ジエチル
スルフィド等が例示される。

【００２４】これらＢ群の溶媒のうち、アミド系溶媒及
び／又はスルホキシド系が推奨され、特にＮ，Ｎ’−ジ
メチルアセトアミド及び／又はジメチルスルホキシドが
推奨される。

【００２５】（Ａ）群に属する溶媒と（Ｂ）群に属する
溶媒の好ましい組み合わせとしては、＊キシレン
（Ａ）：Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（Ｂ）、＊ヘキサン（Ａ）：Ｎ−ジメチルアセトアミド（Ｂ）
、＊キシレン（Ａ）：ジメチルスルホキシド（Ｂ）、＊ヘキサン（Ａ）：ジメチルスルホキシド（Ｂ）が例示できる

【００２６】（Ａ）群に属する溶媒と（Ｂ）群に属する
溶媒の混合重量比（Ａ群の溶媒／Ｂ群の溶媒）は、通常
１／９〜９／１、好ましくは３／７〜９／１の範囲内で
適宜選択される。Ａ群に属する溶媒の比率が高くなると
所定の高純度品が得られにくく、また当該比率が極端に
低い場合には精製物の収率が低下する。

【００２７】混合溶媒の使用量として、好ましくは、Ｔ
ＭＨＱ反応粗物１００重量部に対し、１５０〜１０００
重量部が挙げられ、特に、２００〜４００重量部の範囲
内が推奨される。溶媒使用量が１５０重量部未満であれ
ば所定の高純度ＴＭＨＱが得られにくく、１０００重量
部を越えると収率が低下し、工業的な方法としては好ま
しくない。

【００２８】

【発明の実施の形態】本発明に係る具体的な製造方法を
以下に例示する。即ち、所定量のヒドロキノンの低級ア
ルカン酸エステルとＴＭＡを、窒素ガス等の不活性ガス
雰囲気下、反応容器に仕込み、撹拌下、所定温度まで昇
温する。同温度で、常圧下、エステル交換反応を行い、
反応進行に伴い生成した低級アルカン酸を系外に留出さ
せる。低級アルカン酸の流出速度が低下した場合、５０
０〜２０ｍｍＨｇまで徐々に系内を減圧することにより
強制的に低級アルカン酸を留去する。低級アルカン酸の
理論流出量の９５％程度を反応終了の目安とする。次い
で、系内を常圧に戻し、反応液を所定温度まで冷却し、
ＴＭＨＱ反応粗物を反応容器から抜き出す。

【００２９】続いて、上記ＴＭＨＱ反応粗物をブロック
状、より好ましくは粉末状に粉砕し、所定量の混合溶媒
と混合し１００〜２００℃程度に加熱し、溶解または懸
濁させる。次に系を４０℃以下まで徐冷後、不溶成分を
濾別する。得られた濾別不溶分は前述の混合溶媒で洗浄
することが望ましい。次に濾別不溶分に残存する溶媒を
乾燥除去し、高純度ＴＭＨＱを得る。操作は窒素ガス等
の不活性ガス雰囲気下で行うことが安全上望ましい。

【００３０】ＴＭＨＱ反応粗物は１０ｃｍ以下の粒径に
粗砕することが好ましく、より好ましくは当該粗砕物を
ハンマーミル、カッターミル、ピンミル等の粉砕機で３
ｍｍ以下の粒径に粉砕した後、所定の混合溶媒で精製す
ることが好ましく、粒径を小さくするほど、混合溶媒で
の処理時間を短縮でき、高純度のＴＭＨＱを得ることが
できる。

【００３１】

【実施例】以下実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
る。尚、各例における生成物の純度は高速液体クロマト
グラフィーにより測定した。

【００３２】製造例１攪拌機、温度計、冷却管付きデカンター及び窒素ガス導
入口の付いた１Ｌの四ッ口フラスコにヒドロキノン１１
０．１ｇ（１．０モル）及び無水酢酸３０６．３ｇ
（３．０モル）を仕込み、窒素雰囲気下、１３０℃で２
時間反応させた。反応終了後、減圧下に過剰の無水酢酸
と生成した酢酸を留去しヒドロキノンジアセテート１９
２．２ｇ（収率９９％）を得た。

【００３３】実施例１製造例１と同様の装置に製造例１で得たヒドロキノンジ
アセテート９７．１ｇ（０．５モル）及びＴＭＡ２４
９．８ｇ（１．３モル）を仕込み、２５０〜２６０℃ま
で昇温した。同温度で０．５時間常圧下で反応し、更に
０．５時間減圧下で反応した。次いで２２０℃まで冷却
後、液状反応生成物を系外に抜き出した。室温まで冷却
後の反応粗物はガラス状の固体で、ＴＭＨＱ純度６６．
９％、ＴＭＡ含有率３３．０％、重縮合高分子量体含有
率０．１％であり、収率は９８．５％であった。

【００３４】次いでこの反応粗物を小型粉砕機で粉砕
し、８メッシュ（タイラー）の篩いを通して粉末状反応
粗物を得た。この粉末状反応粗物２００ｇとキシレン４
８０ｇ及びＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１２０ｇを
同様の装置に窒素ガス雰囲気下で仕込み、混合溶媒の還
流温度（１４０℃）で２時間攪拌した。次に４０℃まで
冷却した後濾過し、得られた濾別結晶をキシレン８０
ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド２０ｇの混合溶媒
で洗浄した。さらにこの濾別結晶を５ｍｍＨｇの減圧
下、１００℃の温度で１０時間乾燥し、純度９９．２％
、ＴＭＡ含有率０．８％、融点２７４℃（文献値２７
４℃）のＴＭＨＱを７４ｇ得た。精製収率（対反応粗
物）は３７％であった。

【００３５】実施例２実施例１と同様の操作でＴＭＨＱ純度６５．７％、ＴＭ
Ａ含有率３４．１％、重縮合高分子量体含有率０．２％
の反応粗物を得た。次いで同様の装置に粒径３〜５ｃｍ
のブロック状に粗砕したこの反応粗物２００ｇ、キシレ
ン４８０ｇ及びＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１２０
ｇを窒素ガス雰囲気下に仕込み、混合溶媒の還流温度
（１４０℃）で系内が完全にスラリー状態になるまで攪
拌を行った。完全にスラリー化するのに要する時間は約
６時間であった。以下実施例１と同条件で冷却、濾過、
洗浄、乾燥を実施し、純度９９．３％、ＴＭＡ含有率
０．７％のＴＭＨＱを７６ｇ、精製収率（対反応粗物）
３８％で得た。

【００３６】実施例３精製溶媒のうち、（Ａ）群の溶媒としてキシレンをヘキ
サンに変えた以外は実施例１と同様の操作を行い、純度
９９．３％、ＴＭＡ含有率０．７％のＴＭＨＱを７０
ｇ、精製収率（対反応粗物）３５％で得た。

【００３７】実施例４精製溶媒のうち、（Ｂ）群の溶媒としてＮ，Ｎ’−ジメ
チルアセトアミドをジメチルスルホキシドに変えた以外
は実施例１と同様の操作を行い、純度９９．０％、ＴＭ
Ａ含有率１．０％のＴＭＨＱを７４ｇ、精製収率（対反
応粗物）３７％で得た。

【００３８】実施例５精製溶媒のうち、キシレンの量を１８０ｇ、Ｎ，Ｎ’−
ジメチルアセトアミドの量を４２０ｇに変えた以外は実
施例１と同様の操作を行い、純度９９．８％、ＴＭＡ含
有量０．２％のＴＭＨＱを６０ｇ、精製収率（対反応粗
物）３０％で得た。

【００３９】実施例６精製溶媒のうち、キシレンの量を５４０ｇ、Ｎ，Ｎ’−
ジメチルアセトアミドの量を６０ｇに変えた以外は実施
例１と同様の操作を行い、純度９８．２％、ＴＭＡ含有
量１．８％のＴＭＨＱを８０ｇ、精製収率（対反応粗
物）４０％で得た。

【００４０】比較例１製造例１と同様の装置に製造例１で得たヒドロキノンジ
アセテート９７．１ｇ（０．５モル）及びＴＭＡ１９
２．１ｇ（１．０モル）を仕込み、２５０〜２６０℃ま
で昇温した。同温度で０．５時間常圧下で反応し、更に
２．０時間減圧下で反応した。反応終了後、反応粗物を
冷却して系外へ抜き出そうとしたところ、約２４０℃で
系内で固化し、抜き出し困難となった。

【００４１】次いで、反応粗物を強制的に抜き出すこと
により、ＴＭＨＱ純度８３．８％、ＴＭＡ含有率９．８
％、重縮合高分子量体含有率６．４％のＴＭＨＱ粗物を
収率９２％で得た。更に、実施例１と同様の粉砕、篩い
通し、精製を経てＴＭＨＱ純度９５．１％、ＴＭＡ含有
率０．７％、重縮合高分子量体含有率４．２％の精製物
を９４ｇ、精製収率（対反応粗物）４７％で得た。

【００４２】比較例２製造例１と同様の装置に製造例１で得たヒドロキノンジ
アセテート９７．１ｇ（０．５モル）及びＴＭＡ５７
６．３ｇ（３．０モル）を仕込み、２５０〜２６０℃ま
で昇温した。同温度で０．５時間常圧下で反応し、更に
１．０時間減圧下で反応した。次いで２００℃まで冷却
後、液状反応生成物を系外に抜き出した。室温まで冷却
後の反応粗物はガラス状の固体で、ＴＭＨＱ純度は３
３．２％、ＴＭＡ含有率６６．８％であり、収率は９
８．６％であった。

【００４３】次いで、実施例１と同様の粉砕、篩い通
し、精製を経てＴＭＨＱ純度９４．３％、ＴＭＡ含有率
５．７％の精製物を４１ｇ、精製収率（対反応粗物）２
０．５％で得た。

【００４４】比較例３実施例１と同様のエステル交換反応、粉砕、篩い通しで
ＴＭＨＱ純度６７．２％、ＴＭＡ含有率３２．６％、重
縮合高分子量体含有率０．２％の粉末状反応粗物を得
た。次いで同様の装置にこの粉末状反応粗物２００ｇ、
キシレン６００ｇを窒素ガス雰囲気下に仕込み、キシレ
ン還流温度で１時間攪拌した。次に３５℃まで冷却した
後濾過をし、得られた濾別結晶をキシレン１００ｇで洗
浄した。

【００４５】更に、この濾別結晶を５ｍｍＨｇの減圧
下、１００℃の温度で１０時間乾燥し、ＴＭＨＱ純度８
４．６重量％、ＴＭＡ含有率１５．２％、重縮合高分子
量体含有率０．２％の精製物を１５８ｇ、精製収率（対
反応粗物）７９％で得た。

【００４６】比較例４精製溶媒として、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミドを単
独で用いた以外は比較例３と同様の操作を行い、純度９
９．４％、ＴＭＡ含有率０．６％のＴＭＨＱを２９．６
ｇ、精製収率（対反応粗物）１４．８％で得た。

【００４７】比較例５精製溶媒として、ジメチルスルホキシドを単独で用いた
以外は比較例３と同様の操作を行い、ＴＭＨＱ純度９
９．１％、ＴＭＡ含有率０．９％で精製収率（対粗物）
１５．１％の精製物３０．２ｇを得た。

【００４８】実施例１〜６のごとく、（Ａ）群の炭化水
素系溶媒と、（Ｂ）群のアミド系溶媒、ニトリル系溶
媒、スルホキシド系溶媒又はスルフィド系溶媒とを併用
した混合溶媒を精製に用いることにより、純度９８％以
上のＴＭＨＱが精製収率（対粗物）３５％以上で得るこ
とができる。それに対し、溶媒を用いないで精製を行っ
た場合（比較例１及び２）ではＴＭＨＱの純度が最高９
５％程度であり、又、比較例３に見られるように（Ａ）
群の炭化水素系溶媒単独で精製を行なった場合、ＴＭＨ
Ｑの純度は８５％程度といずれの場合も高純度のＴＭＨ
Ｑは得られない。一方、比較例４、５の場合は精製溶媒
が（Ｂ）群のアミド系溶媒、スルホキシド系溶媒である
が、ＴＭＨＱの純度は９９％以上と高純度であるのに対
し、精製収率が最高１５％程度と非常に低い結果であ
る。従って、（Ａ）群の炭化水素系溶媒と、（Ｂ）群の
アミド系溶媒、ニトリル系溶媒、スルホキシド系溶媒又
はスルフィド系溶媒とを併用した混合溶媒を精製に用い
ることにより純度及び精製収率の両方を満足するＴＭＨ
Ｑを得ることが可能となった。

【００４９】

【発明の効果】本発明に係るエステル交換反応から精製
に於ける一連の工程により、工業的に有利な条件で純度
９８重量％以上の高純度ヒドロキノンビス（アンヒドロ
トリメリテート）を得ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者野辺富夫京都府京都市伏見区葭島矢倉町13番地新日本理化株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（１）【化１】（式中、Ｒ¹、Ｒ²は同一又は異なって、炭素数１〜３の
アルキル基を表す。）で表されるヒドロキノンの低級ア
ルカン酸エステルと無水トリメリット酸をエステル交換
反応するに際し、ヒドロキノンの低級アルカン酸エステ
ル１モルに対し、無水トリメリット酸を２．５〜５．０
モル反応させて、ヒドロキノンビス（アンヒドロトリメ
リテート）反応粗物を得、しかる後、このヒドロキノン
ビス（アンヒドロトリメリテート）反応粗物を（Ａ）群
及び（Ｂ）群からなる混合溶媒を用いて精製することを
特徴とする高純度ヒドロキノンビス（アンヒドロトリメ
リテート）の製造方法。（Ａ）群：炭素数が６〜２０の芳香族又は脂肪族の炭化
水素の１種若しくは２種以上（Ｂ）群：炭素数が１〜２０のアミド系溶媒、ニトリル
系溶媒、スルホキシド系溶媒及びスルフィド系溶媒より
なる群から選ばれる１種若しくは２種以上
【請求項２】（Ａ）群の溶媒がキシレン又はヘキサン
である請求項１記載の高純度ヒドロキノンビス（アンヒ
ドロトリメリテート）の製造方法。
【請求項３】（Ｂ）群の溶媒がＮ，Ｎ’−ジメチルア
セトアミド又はジメチルスルホキシドである請求項１又
は請求項２に記載の高純度ヒドロキノンビス（アンヒド
ロトリメリテート）の製造方法。
【請求項４】（Ａ）群及び（Ｂ）群の混合溶媒の重量
比率が１／９〜９／１（（Ａ）群／（Ｂ）群）である請
求項１〜３のいずれかの請求項に記載の高純度ヒドロキ
ノンビス（アンヒドロトリメリテート）の製造方法。